光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイ
【課題】 透明で、適度な粘着力、耐湿信頼性に優れ、プラズマディスプレイ等のディスプレイの保護に寄与する衝撃吸収性を有する樹脂材料提供する。
【解決手段】 炭素数が４〜１８であるアルキルアクリレートとヒドロキシアルキルアクリレートのコポリマー１５〜６０重量部及びコポリマーと類似組成のモノマー混合物３９〜８４重量部、アクリロイル基を２個以上有するモノマー０．５〜１０重量部及び光重合開始剤０．３〜３重量部を含有する光学用樹脂組成物。この樹脂組成物からなる光学用樹脂シート。
【解決手段】 炭素数が４〜１８であるアルキルアクリレートとヒドロキシアルキルアクリレートのコポリマー１５〜６０重量部及びコポリマーと類似組成のモノマー混合物３９〜８４重量部、アクリロイル基を２個以上有するモノマー０．５〜１０重量部及び光重合開始剤０．３〜３重量部を含有する光学用樹脂組成物。この樹脂組成物からなる光学用樹脂シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のディスプレイ装置の割れ防止、応力及び衝撃の緩和に有用な光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス製ブラウン管（ＣＲＴ）はテレビ用、ディスプレイ用としてＵＬ規格や電波取締法等で鋼球落下による耐衝撃試験により飛散防止性や貫通しないことが決められている。
そのため、この規格を満たすためＣＲＴのガラスを厚く設計する必要がありＣＲＴの重量を重くしていた。そこで、ガラスを厚くすること無く飛散防止性を持たせる手段として自己修復性を有する合成樹脂保護フィルムをガラスに積層する方法が提案されている（特許文献１、特許文献２参照）。しかし、この提案は、飛散防止性を特徴としているが、ガラスの割れ防止機能は兼ね備えていない。
一方、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の一つであるＰＤＰ）は、ＰＤＰの割れを防止するため、ＰＤＰから１〜５ｍｍ程度の空間を設け、厚さ３ｍｍ程度のガラス等の前面板を前面（視認面側）に設けている。そのため、ＰＤＰの大型化に伴い、前面板の面積も大きくなるため、ＰＤＰの重量が重くなってしまう。
【０００３】
そこで、ディスプレイの割れ防止のために、特定の樹脂をディスプレイ表面に積層すること、又は特定の樹脂を積層した光学フィルタをディスプレイ表面に積層することが提案されている（特許文献３，４，５参照）
【０００４】
【特許文献１】特開平０６−３３３５１５号公報
【特許文献２】特開平０６−３３３５１７号公報
【特許文献３】特開２００４−５８３７６号公報
【特許文献４】特開２００５−１０７１９９号公報
【特許文献５】特開２００４−２６３０８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記特許文献３，４では、使用する樹脂材料の組成に関する考察が特になく、接着性や透明性を発現させる手段が不明瞭である。特に、特許文献３では、樹脂の耐湿信頼性に関する考察がなく、実施例に具体的に示される組成の樹脂材料ではディスプレイに適用後、短時間の耐湿試験において白濁してしまう。また、特許文献４でも、実施例で具体的に示される樹脂の一部にアクリル酸を使用しており、長時間の耐湿試験において、樹脂が白濁してしまい、耐湿試験時に接触している金属を腐食させてしまうという問題が発生する。さらに、特許文献３，４では、より優れた衝撃吸収性を得るという観点からは、検討が不十分であると考えられる。特許文献４では、樹脂を用いた耐衝撃層の厚みが０．２〜１ｍｍとされるが、厚さを大きくしてより衝撃吸収性を向上させるという観点での開示はない。特許文献５では耐湿熱性に関する考察がなされているが、本特許文献に記載の樹脂原料組成では、耐衝撃性の大幅な向上は望めない。また、実施例おける樹脂層の厚みは１ｍｍであり、より優れた衝撃吸収性を得るという観点からは、検討が不十分であると考えられる。また、特許文献５の実施例に記載されるような、どちらかというと硬化後に柔らかい樹脂は、厚く使用した場合、前面フィルタの表面硬度が低下し、耐擦傷性に問題が出てくることが考えられる。
そこで、本発明は、透明で、適度な粘着力、耐湿信頼性に優れ、ディスプレイの保護に寄与する衝撃吸収性を有する光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプ−レイ用光学フィルタを提供することを目的とする。また、本発明は、さらに、特に優れた耐衝撃性を有する光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、次のものに関する。
１． コポリマー １５〜６０重量部
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜８４重量部
アクリロイル基を２個以上有するモノマー ０．５〜１０重量部
及び
光重合開始剤 ０．３〜３重量部
を含有し、
上記のコポリマーが、アルキル基の炭素数が４〜１８であるアルキルアクリレート（以下、ＡＡモノマーという。）５０〜８７重量％と下記一般式（Ｉ）
【０００７】
【化１】
（ただし、式中、ｍは２、３又は４、ｎは１〜１０の整数をしめす。）
で表されるヒドロキシル基含有アクリレート（以下、ＨＡモノマーという。）１３〜５０重量％を重合させて得られるものであり、
上記のアクリロイル基を１個有するモノマーとして、ＡＡモノマーを５０〜８７重量％及びＨＡモノマーを１３〜５０重量％の割合になるように使用し、
上記コポリマー中のＨＡモノマーの割合（Ｐ重量％）と、アクリロイル基を１個有するモノマーにおけるＨＡモノマーの割合（Ｍ重量％）との間に、
【０００８】
【数１】
の関係があるように配合されてなる光学用樹脂組成物。
２． 重合開始剤がα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物あるいはアシルフォスフィンオキサイド系化合物あるいはオリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）である項１記載の光学用樹脂組成物。
３． ＡＡモノマーが２−エチルヘキシルアクリレートまたはイソオクチルアクリレートまたはｎ−オクチルアクリレートであり、ＨＡモノマーが２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは１−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは３−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは１−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは４−ヒドロキシブチルアクリレートまたは３−ヒドロキシブチルアクリレートまたは２−ヒドロキシブチルアクリレートまたは１−ヒドロキシブチルアクリレートである項１又は２記載の 樹脂組成物。
４． コポリマーの重量平均分子量が２００，０００〜３５０，０００である項１〜３のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
５． コポリマ ４０〜６０重量部、
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜５９ 重量部、
アクリロイル基を２個以上有するモノマー １〜５重量部、
及び
光重合開始剤 ０．５〜２．０重量部
を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
６． 項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物からなる光学用樹脂シート。
７． 項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項６記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル用衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ。
８． 項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項６記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイ。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る光学用樹脂組成物は、衝撃吸収性を有し、耐湿信頼性に優れ、特に多湿条件下でも白濁しない。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物及び光学用樹脂シートはポリマーとモノマーの組成がほぼ同じであるためポリマーの溶解性が高く、高分子量のポリマーを使用しても透明な樹脂組成物や硬化物を作製できる。さらにモノマーで希釈されているため無溶剤で成形が可能であり、気泡の無い厚いフィルムを作製できる。
また、高分子量のポリマを比較的高濃度で含有しているため薄い膜厚でも衝撃吸収性に優れる。また、そのために硬さがあり、耐擦傷性の低下を抑制できる。この硬さのため塑性変形しにくく、厚い膜厚でより優れた衝撃吸収性を発揮することができる。さらに、凝集力が高く伸縮性もあるためフィルムがたわんだときやロールに巻きつけたときに亀裂が入ったり、筋が入ったりすることが少ない。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物は、一般にディスプレイに使用される材料を侵すことが無い。
本発明に係る光学用樹脂組成物は、光学用樹脂シートの作製が可能であり、この樹脂シートも、上記した光学用樹脂組成物と同様の作用効果を示す。
以上の光学用樹脂組成物又は光学用樹脂シートを使用して得られる衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイは上記した光学用樹脂組成物と同様の作用効果を継承する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明におけるＡＡモノマーとしてはｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、ステアリルアクリレート等が挙げられるが、ｎ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレートが好ましく、２−エチルヘキシルアクリレートが特に好ましい。またこれらのアクリレートは２種類以上を組み合わせて使用しても良い。
【００１１】
本発明におけるＨＡモノマーとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、１−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、１−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、１−ヒドロキシブチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート、ジエチレングリコールやトリエチレングリコール等のポリエチレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールやトリプロピレングリコール等のポリプロピレングリコールモノアクリレート、ジブチレングリコールやトリブチレングリコール等のポリブチレングリコールモノアクリレートなどが挙げられるが、２−ヒドロキシエチルアクリレート、１−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、１−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、１−ヒドロキシブチルアクリレートが好ましく、２−ヒドロキシエチルアクリレートが特に好ましい。また、これらのアクリレートは２種類以上を組み合わせて使用しても良い。
【００１２】
本発明おけるＡＡモノマーとＨＡモノマー重合させて得られるコポリマーはその重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様）が、１００，０００〜６００，０００であるものが好ましく、１５０，０００〜４００，０００がより好ましく、２００，０００〜３５０，０００がより好ましい。
コポリマーの合成方法としては、溶液重合、懸濁重合、乳化重合及び塊状重合等の既知の重合方法を用いることができるが、溶液重合あるいは塊状重合が好ましい。重合開始剤としては、熱によりラジカルを発生する化合物を用いることができ、具体的には、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド、ジドデシルパーオキシドの様な有機過酸化物や、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニル）。２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］のようなアゾ系化合物が挙げられる。
【００１３】
本発明おいて、アクリロイル基を２個以上有するモノマーとしては、ビスフェノールＡジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリブチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のアクリレートモノマ、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリルアクリレート等のアクリルオリゴマが挙げられるが、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート等のジアクリレートが好ましい。
【００１４】
本発明において光重合開始剤としては、紫外線等の光線に感度を有するものが使用される。例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、２，２−ジメトキシ―１，２−ジフェニルエタン―１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等が挙げられるが、樹脂組成物を着色させないものとしては１―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）及びこれらを組み合わせたものが好ましい。また特に厚いシートを作製するためにはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物を含む光重合開始剤が好ましい。また、シートの臭気を減らすためにはオリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）が好ましい。これらの光重合開始剤は複数を組み合わせて使用しても良い。
【００１５】
本発明の光学用樹脂組成物は、
コポリマー １５〜６０重量部、好ましくは、３０〜６０重竜部、より好ましくは４０〜６０重量部
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜８４重量部、好ましくは、３９〜６９重量部、より好ましくは３９〜５９重量部、
アクリロイル基を２個以上有するモノマー ０．５〜１０重量部、好ましくは、１〜１０重量部、
及び
光重合開始剤 ０．３〜３重量部、好ましくは、０．５〜２重量部
を含有するものである。
コポリマーが少なすぎると機械的特性に問題が生じ、ＰＤＰ用衝撃吸収層に使用した場合に衝撃吸収性が低下する。また硬化収縮が大きくなり膜の平坦性に問題が生じやすくなる。逆に多すぎると組成物の粘度が高くなりすぎシート作製が困難になる。
アクリロイル基を１個有するモノマーが、少なすぎると組成物の粘度が高くなりすぎシート作製が困難になり、多すぎると機械的特性に問題が生じる。
アクリロイル基を２個以上有するモノマーが少なすぎると、樹脂組成物の硬化物が形状を保つことが困難であり、逆に多すぎると樹脂組成物の硬化物が脆くなり機械的特性に問題が生じる。
光重合開始剤が少なすぎると反応が十分に進行せず、逆に多すぎると光重合開始剤が大量に残存し、光学的な特性や機械的特性に問題が生じる。なお、上記の光学用樹脂組成物を電子線の照射で硬化させる場合には、光重合開始剤を使用しなくてもよい。
【００１６】
前記コポリマーは、ＡＡモノマー５０〜８７重量％、好ましくは６０〜７０重量％とＨＡモノマー１３〜５０重量％、好ましくは３０〜４０重量％を重合させて得られたものである。
また、前記したアクリロイル基を１個有するモノマーとしては、ＡＡモノマー５０〜８７重量％、好ましくは６０〜７０重量％とＨＡモノマー１３〜５０重量％、好ましくは３０〜４０重量％を使用するものである。
これらにおいて、ＡＡモノマーが多すぎると、従って、ＨＡモノマーが少なすぎると吸湿時に本発明に係る樹脂組成物の硬化物が白濁しやすくなり、逆に、ＨＡモノマーが多すぎると、従って、ＡＡモノマーが少なすぎると吸湿時に本発明に係る樹脂組成物の硬化物が変形しやすくなる。
【００１７】
また、本発明おいて、上記コポリマー中のＨＡモノマーの割合（Ｐ重量％）と、アクリロイル基を１個有するモノマーにおけるＨＡモノマーの割合（Ｍ重量％）との間に、
【００１８】
【数１】
の関係があるようにそれぞれの配合が調整される。（Ｐ−Ｍ）が上記の式を満足しない場合、硬化時に本発明に係る樹脂組成物が白濁しやすくなる。前記コポリマー及びアクリロイル基を１個有するモノマーにおいて、ＡＡモノマー（及びＨＡモノマー）が、前記した好ましい割合にあるときは、常にこの条件を満足する。
【００１９】
本発明における光学用樹脂組成物は、ディスプレイ表面に膜厚が０．１ｍｍ〜３ｍｍになるように製膜又は積層することが好ましい。衝撃吸収性を考慮すると０．２ｍｍ以上の厚さがより好ましい。特に、衝撃吸収性を大きくしたいときは、厚さを１．３ｍｍ以上にすることが好ましい。ディスプレイ表面、又は光学フィルタの基材等に塗布して製膜した後、紫外線等の光線、電子線などの放射線を照射して硬化させる。光学フィルタを作製する場合、光学フィルタの基材又は機能層の上に本発明における光学用樹脂組成物を製膜した後、さらに、光学フィルタの基材、機能層又は保護層を積層してから、放射線を照射して硬化させてもよい。
本発明における光学用樹脂シートは、膜厚が０．１ｍｍ〜３ｍｍのものであることが好ましい。衝撃吸収性を考慮すると０．２ｍｍ以上の厚さがより好ましい。特に、衝撃吸収性を大きくしたいときは、厚さを１．３ｍｍ以上にすることが好ましい。これは、前記したモノマー原料と重合開始剤の混合物を注形成形することにより製造することができる。また、汎用の塗工機を用い所望の厚みを塗工し、紫外線等の光線、電子線などの放射線を照射して硬化させることにより製造することができる。
本発明における光学用樹脂組成物に紫外線等で酸素が存在すると重合が阻害される場合には、樹脂表面を酸素を遮断するための透明フィルム又は透明ガラスで覆うことが好ましい。紫外線照射装置としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が使用できる。
本発明の光学用樹脂組成物は厚く製膜しても、また、本発明の光学用樹脂シートは厚いものであっても、高分子量のコポリマーを含むので、その硬化樹脂は、硬さがあり、衝撃に対して、塑性変形しにくく、従って、厚くして衝撃吸収性を向上させやすい。
【００２０】
本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートは、反射防止層、電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽層などの機能性を有する層、ポリエチレンフィルム等の基材フィルムなどに製膜又は積層され、多層物として、また、このような多層物からなる光学用フィルタとして使用することができる。
電磁波遮蔽層としては可視光透過率６０％以上で電磁波遮蔽性を有していれば既知の電磁波遮蔽層を用いることができる。透明導電膜、導電性繊維メッシュ、導電性インキにより作製されたメッシュ等を使用することができるが、高透明、高電磁波遮蔽性の観点から、金属メッシュが最も好ましい。金属メッシュの作製は、ポリエステルフィルム等の透明基材と銅箔、アルミ箔等の導電性金属箔のどちらか一方又は両方に接着剤を塗布し両者を貼り合わせ、次いで金属箔をケミカルエッチングプロセスによりエッチング加工して得られる。この時、導電性金属箔としては、密着性の確保から表面が粗面であるものを使用することが好ましい。導電性金属箔の粗面が上記の接着剤層に面するように積層される。上記のエッチングにより金属製メッシュが作製されたなら、その上に、樹脂を塗布し、特に好ましくは紫外線、電子線等の放射線の照射で硬化可能な樹脂を塗布し、紫外線、電子線等の放射線を照射し硬化することによって、粗面が転写された接着剤層を透明化することが好ましい。透明化に用いる樹脂としてあるいは透明化と衝撃吸収層を兼ねた樹脂として本発明の樹脂組成物を用いることが可能である。
また、反射防止層は、可視光反射率が５％以下となる反射防止性を有している層であればよく、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に既知の反射防止方法で処理された層を用いることができる。
さらに、近赤外線遮蔽層は、イモニウム塩等の近赤外線吸収材や近赤外線遮蔽材を分散させた樹脂層からなり、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に積層させておくことができる。本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートにイモニウム塩等の近赤外線吸収材や近赤外線遮蔽材を分散させて近赤外線遮蔽能を付与することができる。
【００２１】
本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シート、電磁波遮蔽層、反射防止層、近赤外線遮蔽層等の機能性を有する層は、適宜必要なものを積層して使用することができる。この場合、機能性を有する層は、透明基材の一方に積層されていてもよく、透明基材の両側に機能の異なる層が別々に、その両側に機能の同じ層が積層されていても良い。機能性を有する層の積層順序は任意である。
このような多層物とする場合、本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートが最外層となるようにすることが好ましい。
これらの層は、各層の間に粘着層を介しロールラミネートや枚葉貼合機で積層することができる。さらに、ロールラミネートや枚葉貼合機で積層した多層材は、ロールラミネータ又は枚葉貼合機を用いてディスプレイ前面又はディスプレイ用前面板に貼合することができる。この場合、本発明の保護部材からなる層が、ディスプレイ前面又はディスプレイ用前面板（多くの場合、光学フィルタとして機能する）に面して貼り合わされることが好ましい。ディスプレイとしては、ＰＤＰ、液晶表示（ＬＣＤ）パネル、陰極線管（ＣＲＴ）等がある。
【実施例１】
【００２２】
冷却管、温度計、撹拌装置、滴下漏斗及び窒素注入管の付いた反応容器に初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート８４．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート３６．０ｇ並びにメチルイソブチルケトン１５０．０ｇをとり１００ｍｌ／ｍｉｎの風量で窒素置換しながら、１５分間で常温から７０℃まで加熱した。その後、この温度に保ちながら、追加モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート２１．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート９．０ｇを使用し、これらに並びにラウリルパーオキシド０．６ｇを溶解した溶液を準備し、この溶液を６０分間かけて滴下し滴下終了後さらに２時間反応させた。続いて、メチルイソブチルケトンを溜去することにより２−エチルヘキシルアクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー（重量平均分子量２５０，０００）を得た。
次に、このコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ３８．２５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １６．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を加え、攪拌混合した後、幅１００ｍｍ、奥行き１００ｍｍ、深さ０．５ｍｍの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を２，０００ｍＪ照射したところ透明なシートを得た。このシートは吸湿試験後も透明であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例２】
【００２３】
実施例１で得られたコポリマー １９．７５ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ５５．５０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ２３．７５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例３】
【００２４】
実施例１で得られたコポリマー ５４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ３１．２５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １３．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例４】
【００２５】
初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート１０２．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート１８．０ｇ、追加モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート２５．５ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート４．５ｇを使用したこと以外は、実施例１と同様にして２−エチルヘキシルアクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー（重量平均分子量２００，０００）を得た。
次に、このコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ４６．２５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ８．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．３Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．４Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例５】
【００２６】
初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート６０．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート６０．０ｇ、追加モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート１５．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート１５．０ｇを使用したこと以外は、実施例１と同様にして２−エチルヘキシルアクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー（重量平均分子量３５０，０００）を得た。
次に、このコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ２７．２５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ２７．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を加えること以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。
また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例６】
【００２７】
光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの代わりにビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドを使用し、幅１００ｍｍ、奥行き１００ｍｍ、深さ３．０ｍｍの枠を使用し、紫外線の露光量を４，５００ｍＪとしたこと以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、２．０Ｊの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例７】
【００２８】
光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの代わりにオリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）を２．００ｇ使用し、紫外線の露光量を２，５００ｍＪとしたこと以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。またこのシートは特に低臭気であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例８】
【００２９】
幅１００ｍｍ、奥行き１００ｍｍ、深さ１．５ｍｍの枠を使用し、紫外線の露光量を３，５００ｍＪとしたこと以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、２．０Ｊの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例９】
【００３０】
幅１００ｍｍ、奥行き１００ｍｍ、深さ２．０ｍｍの枠を使用し、紫外線の露光量を４，０００ｍＪとしたこと以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、２．０Ｊの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例１０】
【００３１】
実施例１で得られたコポリマー ４０．２０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ４４．１０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １４．７０ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【００３２】
比較例１
実施例１で得られたコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ５４．５０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １３．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは白濁していた。
【００３３】
比較例２
実施例１で得られたコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ５４．５０ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは白濁していた。
【００３４】
比較例３
初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート１０８．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート１２．０ｇ、追加モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート２７．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート３．０ｇを使用したこと以外は実施例１と同様にしてコポリマー（重量平均分子量２２０，０００）を得た。
上記で得られたコポリマー ４９．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ４４．５０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ５．００ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であったが、吸湿試験後は白濁した。
【００３５】
比較例４
初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート１２．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート１０８．０ｇ、追加モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート３．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート２７．０ｇを使用したこと以外は実施例１と同様にしてコポリマーを得た。
上記で得られたコポリマー ４９．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ５．００ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ４４．５０ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であったが、吸湿試験後は外形寸法が５％以上拡大し、外周部にうねりが発生した。
【００３６】
比較例５
光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を使用する以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。作製したシートは黄色に着色していた。
【００３７】
比較例６
２−エチルヘキシルアクリレート ８４．１５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １４．８５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、０．５Ｊの衝撃で樹脂シートが破損した。
【００３８】
比較例７
電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａをその電磁波遮蔽層が接するように直接ガラスに貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、０．５Ｊの衝撃でガラスが破損した。
比較例８
実施例１で得られたコポリマー １０．００ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ６２．３０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ２６．７０ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、０．７Ｊの衝撃でガラスが破損せず、０．８Ｊの衝撃でガラスが破損した。
【００３９】
実施例及ぶ比較例での試験方法を次に示す。また、これらの試験結果を表１又は表２に示す。
（吸湿試験）
吸湿試験は、樹脂シートを６０℃、９０％ＲＨの高温高湿試験槽に５０時間入れることで行い、評価方法は目視観察を行った。また試験後の全光線透過率を測定した。
（分子量測定）
分子量の測定はＴＨＦを溶媒としたゲルパーミエーションクロマトグラフィーを使用して行い、ポリスチレンを標準物質として使用して分子量を決定した。
（耐衝撃性試験）
耐衝撃性試験は、電磁波シールドフィルムに前記の樹脂シートを貼合したものをさらに厚さ２．８ｍｍのソーダガラスに貼合し、鋼球を落下させて評価した。０．１Ｊ単位で衝撃を大きくし、ガラスあるいは樹脂シートが破損した１つ手前の値を耐衝撃性とした。
（全光線透過率）
全光線透過率の測定は色差・濁度測定器ＣＯＨ−３００Ａ（日本電色工業（株）製）を使用して行った。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のディスプレイ装置の割れ防止、応力及び衝撃の緩和に有用な光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス製ブラウン管（ＣＲＴ）はテレビ用、ディスプレイ用としてＵＬ規格や電波取締法等で鋼球落下による耐衝撃試験により飛散防止性や貫通しないことが決められている。
そのため、この規格を満たすためＣＲＴのガラスを厚く設計する必要がありＣＲＴの重量を重くしていた。そこで、ガラスを厚くすること無く飛散防止性を持たせる手段として自己修復性を有する合成樹脂保護フィルムをガラスに積層する方法が提案されている（特許文献１、特許文献２参照）。しかし、この提案は、飛散防止性を特徴としているが、ガラスの割れ防止機能は兼ね備えていない。
一方、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の一つであるＰＤＰ）は、ＰＤＰの割れを防止するため、ＰＤＰから１〜５ｍｍ程度の空間を設け、厚さ３ｍｍ程度のガラス等の前面板を前面（視認面側）に設けている。そのため、ＰＤＰの大型化に伴い、前面板の面積も大きくなるため、ＰＤＰの重量が重くなってしまう。
【０００３】
そこで、ディスプレイの割れ防止のために、特定の樹脂をディスプレイ表面に積層すること、又は特定の樹脂を積層した光学フィルタをディスプレイ表面に積層することが提案されている（特許文献３，４，５参照）
【０００４】
【特許文献１】特開平０６−３３３５１５号公報
【特許文献２】特開平０６−３３３５１７号公報
【特許文献３】特開２００４−５８３７６号公報
【特許文献４】特開２００５−１０７１９９号公報
【特許文献５】特開２００４−２６３０８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記特許文献３，４では、使用する樹脂材料の組成に関する考察が特になく、接着性や透明性を発現させる手段が不明瞭である。特に、特許文献３では、樹脂の耐湿信頼性に関する考察がなく、実施例に具体的に示される組成の樹脂材料ではディスプレイに適用後、短時間の耐湿試験において白濁してしまう。また、特許文献４でも、実施例で具体的に示される樹脂の一部にアクリル酸を使用しており、長時間の耐湿試験において、樹脂が白濁してしまい、耐湿試験時に接触している金属を腐食させてしまうという問題が発生する。さらに、特許文献３，４では、より優れた衝撃吸収性を得るという観点からは、検討が不十分であると考えられる。特許文献４では、樹脂を用いた耐衝撃層の厚みが０．２〜１ｍｍとされるが、厚さを大きくしてより衝撃吸収性を向上させるという観点での開示はない。特許文献５では耐湿熱性に関する考察がなされているが、本特許文献に記載の樹脂原料組成では、耐衝撃性の大幅な向上は望めない。また、実施例おける樹脂層の厚みは１ｍｍであり、より優れた衝撃吸収性を得るという観点からは、検討が不十分であると考えられる。また、特許文献５の実施例に記載されるような、どちらかというと硬化後に柔らかい樹脂は、厚く使用した場合、前面フィルタの表面硬度が低下し、耐擦傷性に問題が出てくることが考えられる。
そこで、本発明は、透明で、適度な粘着力、耐湿信頼性に優れ、ディスプレイの保護に寄与する衝撃吸収性を有する光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプ−レイ用光学フィルタを提供することを目的とする。また、本発明は、さらに、特に優れた耐衝撃性を有する光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、次のものに関する。
１． コポリマー １５〜６０重量部
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜８４重量部
アクリロイル基を２個以上有するモノマー ０．５〜１０重量部
及び
光重合開始剤 ０．３〜３重量部
を含有し、
上記のコポリマーが、アルキル基の炭素数が４〜１８であるアルキルアクリレート（以下、ＡＡモノマーという。）５０〜８７重量％と下記一般式（Ｉ）
【０００７】
【化１】
（ただし、式中、ｍは２、３又は４、ｎは１〜１０の整数をしめす。）
で表されるヒドロキシル基含有アクリレート（以下、ＨＡモノマーという。）１３〜５０重量％を重合させて得られるものであり、
上記のアクリロイル基を１個有するモノマーとして、ＡＡモノマーを５０〜８７重量％及びＨＡモノマーを１３〜５０重量％の割合になるように使用し、
上記コポリマー中のＨＡモノマーの割合（Ｐ重量％）と、アクリロイル基を１個有するモノマーにおけるＨＡモノマーの割合（Ｍ重量％）との間に、
【０００８】
【数１】
の関係があるように配合されてなる光学用樹脂組成物。
２． 重合開始剤がα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物あるいはアシルフォスフィンオキサイド系化合物あるいはオリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）である項１記載の光学用樹脂組成物。
３． ＡＡモノマーが２−エチルヘキシルアクリレートまたはイソオクチルアクリレートまたはｎ−オクチルアクリレートであり、ＨＡモノマーが２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは１−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは３−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは１−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは４−ヒドロキシブチルアクリレートまたは３−ヒドロキシブチルアクリレートまたは２−ヒドロキシブチルアクリレートまたは１−ヒドロキシブチルアクリレートである項１又は２記載の 樹脂組成物。
４． コポリマーの重量平均分子量が２００，０００〜３５０，０００である項１〜３のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
５． コポリマ ４０〜６０重量部、
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜５９ 重量部、
アクリロイル基を２個以上有するモノマー １〜５重量部、
及び
光重合開始剤 ０．５〜２．０重量部
を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
６． 項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物からなる光学用樹脂シート。
７． 項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項６記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル用衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ。
８． 項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項６記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイ。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る光学用樹脂組成物は、衝撃吸収性を有し、耐湿信頼性に優れ、特に多湿条件下でも白濁しない。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物及び光学用樹脂シートはポリマーとモノマーの組成がほぼ同じであるためポリマーの溶解性が高く、高分子量のポリマーを使用しても透明な樹脂組成物や硬化物を作製できる。さらにモノマーで希釈されているため無溶剤で成形が可能であり、気泡の無い厚いフィルムを作製できる。
また、高分子量のポリマを比較的高濃度で含有しているため薄い膜厚でも衝撃吸収性に優れる。また、そのために硬さがあり、耐擦傷性の低下を抑制できる。この硬さのため塑性変形しにくく、厚い膜厚でより優れた衝撃吸収性を発揮することができる。さらに、凝集力が高く伸縮性もあるためフィルムがたわんだときやロールに巻きつけたときに亀裂が入ったり、筋が入ったりすることが少ない。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物は、一般にディスプレイに使用される材料を侵すことが無い。
本発明に係る光学用樹脂組成物は、光学用樹脂シートの作製が可能であり、この樹脂シートも、上記した光学用樹脂組成物と同様の作用効果を示す。
以上の光学用樹脂組成物又は光学用樹脂シートを使用して得られる衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイは上記した光学用樹脂組成物と同様の作用効果を継承する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明におけるＡＡモノマーとしてはｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、ステアリルアクリレート等が挙げられるが、ｎ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレートが好ましく、２−エチルヘキシルアクリレートが特に好ましい。またこれらのアクリレートは２種類以上を組み合わせて使用しても良い。
【００１１】
本発明におけるＨＡモノマーとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、１−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、１−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、１−ヒドロキシブチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート、ジエチレングリコールやトリエチレングリコール等のポリエチレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールやトリプロピレングリコール等のポリプロピレングリコールモノアクリレート、ジブチレングリコールやトリブチレングリコール等のポリブチレングリコールモノアクリレートなどが挙げられるが、２−ヒドロキシエチルアクリレート、１−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、１−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、１−ヒドロキシブチルアクリレートが好ましく、２−ヒドロキシエチルアクリレートが特に好ましい。また、これらのアクリレートは２種類以上を組み合わせて使用しても良い。
【００１２】
本発明おけるＡＡモノマーとＨＡモノマー重合させて得られるコポリマーはその重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様）が、１００，０００〜６００，０００であるものが好ましく、１５０，０００〜４００，０００がより好ましく、２００，０００〜３５０，０００がより好ましい。
コポリマーの合成方法としては、溶液重合、懸濁重合、乳化重合及び塊状重合等の既知の重合方法を用いることができるが、溶液重合あるいは塊状重合が好ましい。重合開始剤としては、熱によりラジカルを発生する化合物を用いることができ、具体的には、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド、ジドデシルパーオキシドの様な有機過酸化物や、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニル）。２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］のようなアゾ系化合物が挙げられる。
【００１３】
本発明おいて、アクリロイル基を２個以上有するモノマーとしては、ビスフェノールＡジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリブチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のアクリレートモノマ、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリルアクリレート等のアクリルオリゴマが挙げられるが、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート等のジアクリレートが好ましい。
【００１４】
本発明において光重合開始剤としては、紫外線等の光線に感度を有するものが使用される。例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、２，２−ジメトキシ―１，２−ジフェニルエタン―１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等が挙げられるが、樹脂組成物を着色させないものとしては１―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）及びこれらを組み合わせたものが好ましい。また特に厚いシートを作製するためにはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物を含む光重合開始剤が好ましい。また、シートの臭気を減らすためにはオリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）が好ましい。これらの光重合開始剤は複数を組み合わせて使用しても良い。
【００１５】
本発明の光学用樹脂組成物は、
コポリマー １５〜６０重量部、好ましくは、３０〜６０重竜部、より好ましくは４０〜６０重量部
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜８４重量部、好ましくは、３９〜６９重量部、より好ましくは３９〜５９重量部、
アクリロイル基を２個以上有するモノマー ０．５〜１０重量部、好ましくは、１〜１０重量部、
及び
光重合開始剤 ０．３〜３重量部、好ましくは、０．５〜２重量部
を含有するものである。
コポリマーが少なすぎると機械的特性に問題が生じ、ＰＤＰ用衝撃吸収層に使用した場合に衝撃吸収性が低下する。また硬化収縮が大きくなり膜の平坦性に問題が生じやすくなる。逆に多すぎると組成物の粘度が高くなりすぎシート作製が困難になる。
アクリロイル基を１個有するモノマーが、少なすぎると組成物の粘度が高くなりすぎシート作製が困難になり、多すぎると機械的特性に問題が生じる。
アクリロイル基を２個以上有するモノマーが少なすぎると、樹脂組成物の硬化物が形状を保つことが困難であり、逆に多すぎると樹脂組成物の硬化物が脆くなり機械的特性に問題が生じる。
光重合開始剤が少なすぎると反応が十分に進行せず、逆に多すぎると光重合開始剤が大量に残存し、光学的な特性や機械的特性に問題が生じる。なお、上記の光学用樹脂組成物を電子線の照射で硬化させる場合には、光重合開始剤を使用しなくてもよい。
【００１６】
前記コポリマーは、ＡＡモノマー５０〜８７重量％、好ましくは６０〜７０重量％とＨＡモノマー１３〜５０重量％、好ましくは３０〜４０重量％を重合させて得られたものである。
また、前記したアクリロイル基を１個有するモノマーとしては、ＡＡモノマー５０〜８７重量％、好ましくは６０〜７０重量％とＨＡモノマー１３〜５０重量％、好ましくは３０〜４０重量％を使用するものである。
これらにおいて、ＡＡモノマーが多すぎると、従って、ＨＡモノマーが少なすぎると吸湿時に本発明に係る樹脂組成物の硬化物が白濁しやすくなり、逆に、ＨＡモノマーが多すぎると、従って、ＡＡモノマーが少なすぎると吸湿時に本発明に係る樹脂組成物の硬化物が変形しやすくなる。
【００１７】
また、本発明おいて、上記コポリマー中のＨＡモノマーの割合（Ｐ重量％）と、アクリロイル基を１個有するモノマーにおけるＨＡモノマーの割合（Ｍ重量％）との間に、
【００１８】
【数１】
の関係があるようにそれぞれの配合が調整される。（Ｐ−Ｍ）が上記の式を満足しない場合、硬化時に本発明に係る樹脂組成物が白濁しやすくなる。前記コポリマー及びアクリロイル基を１個有するモノマーにおいて、ＡＡモノマー（及びＨＡモノマー）が、前記した好ましい割合にあるときは、常にこの条件を満足する。
【００１９】
本発明における光学用樹脂組成物は、ディスプレイ表面に膜厚が０．１ｍｍ〜３ｍｍになるように製膜又は積層することが好ましい。衝撃吸収性を考慮すると０．２ｍｍ以上の厚さがより好ましい。特に、衝撃吸収性を大きくしたいときは、厚さを１．３ｍｍ以上にすることが好ましい。ディスプレイ表面、又は光学フィルタの基材等に塗布して製膜した後、紫外線等の光線、電子線などの放射線を照射して硬化させる。光学フィルタを作製する場合、光学フィルタの基材又は機能層の上に本発明における光学用樹脂組成物を製膜した後、さらに、光学フィルタの基材、機能層又は保護層を積層してから、放射線を照射して硬化させてもよい。
本発明における光学用樹脂シートは、膜厚が０．１ｍｍ〜３ｍｍのものであることが好ましい。衝撃吸収性を考慮すると０．２ｍｍ以上の厚さがより好ましい。特に、衝撃吸収性を大きくしたいときは、厚さを１．３ｍｍ以上にすることが好ましい。これは、前記したモノマー原料と重合開始剤の混合物を注形成形することにより製造することができる。また、汎用の塗工機を用い所望の厚みを塗工し、紫外線等の光線、電子線などの放射線を照射して硬化させることにより製造することができる。
本発明における光学用樹脂組成物に紫外線等で酸素が存在すると重合が阻害される場合には、樹脂表面を酸素を遮断するための透明フィルム又は透明ガラスで覆うことが好ましい。紫外線照射装置としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が使用できる。
本発明の光学用樹脂組成物は厚く製膜しても、また、本発明の光学用樹脂シートは厚いものであっても、高分子量のコポリマーを含むので、その硬化樹脂は、硬さがあり、衝撃に対して、塑性変形しにくく、従って、厚くして衝撃吸収性を向上させやすい。
【００２０】
本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートは、反射防止層、電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽層などの機能性を有する層、ポリエチレンフィルム等の基材フィルムなどに製膜又は積層され、多層物として、また、このような多層物からなる光学用フィルタとして使用することができる。
電磁波遮蔽層としては可視光透過率６０％以上で電磁波遮蔽性を有していれば既知の電磁波遮蔽層を用いることができる。透明導電膜、導電性繊維メッシュ、導電性インキにより作製されたメッシュ等を使用することができるが、高透明、高電磁波遮蔽性の観点から、金属メッシュが最も好ましい。金属メッシュの作製は、ポリエステルフィルム等の透明基材と銅箔、アルミ箔等の導電性金属箔のどちらか一方又は両方に接着剤を塗布し両者を貼り合わせ、次いで金属箔をケミカルエッチングプロセスによりエッチング加工して得られる。この時、導電性金属箔としては、密着性の確保から表面が粗面であるものを使用することが好ましい。導電性金属箔の粗面が上記の接着剤層に面するように積層される。上記のエッチングにより金属製メッシュが作製されたなら、その上に、樹脂を塗布し、特に好ましくは紫外線、電子線等の放射線の照射で硬化可能な樹脂を塗布し、紫外線、電子線等の放射線を照射し硬化することによって、粗面が転写された接着剤層を透明化することが好ましい。透明化に用いる樹脂としてあるいは透明化と衝撃吸収層を兼ねた樹脂として本発明の樹脂組成物を用いることが可能である。
また、反射防止層は、可視光反射率が５％以下となる反射防止性を有している層であればよく、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に既知の反射防止方法で処理された層を用いることができる。
さらに、近赤外線遮蔽層は、イモニウム塩等の近赤外線吸収材や近赤外線遮蔽材を分散させた樹脂層からなり、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に積層させておくことができる。本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートにイモニウム塩等の近赤外線吸収材や近赤外線遮蔽材を分散させて近赤外線遮蔽能を付与することができる。
【００２１】
本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シート、電磁波遮蔽層、反射防止層、近赤外線遮蔽層等の機能性を有する層は、適宜必要なものを積層して使用することができる。この場合、機能性を有する層は、透明基材の一方に積層されていてもよく、透明基材の両側に機能の異なる層が別々に、その両側に機能の同じ層が積層されていても良い。機能性を有する層の積層順序は任意である。
このような多層物とする場合、本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートが最外層となるようにすることが好ましい。
これらの層は、各層の間に粘着層を介しロールラミネートや枚葉貼合機で積層することができる。さらに、ロールラミネートや枚葉貼合機で積層した多層材は、ロールラミネータ又は枚葉貼合機を用いてディスプレイ前面又はディスプレイ用前面板に貼合することができる。この場合、本発明の保護部材からなる層が、ディスプレイ前面又はディスプレイ用前面板（多くの場合、光学フィルタとして機能する）に面して貼り合わされることが好ましい。ディスプレイとしては、ＰＤＰ、液晶表示（ＬＣＤ）パネル、陰極線管（ＣＲＴ）等がある。
【実施例１】
【００２２】
冷却管、温度計、撹拌装置、滴下漏斗及び窒素注入管の付いた反応容器に初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート８４．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート３６．０ｇ並びにメチルイソブチルケトン１５０．０ｇをとり１００ｍｌ／ｍｉｎの風量で窒素置換しながら、１５分間で常温から７０℃まで加熱した。その後、この温度に保ちながら、追加モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート２１．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート９．０ｇを使用し、これらに並びにラウリルパーオキシド０．６ｇを溶解した溶液を準備し、この溶液を６０分間かけて滴下し滴下終了後さらに２時間反応させた。続いて、メチルイソブチルケトンを溜去することにより２−エチルヘキシルアクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー（重量平均分子量２５０，０００）を得た。
次に、このコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ３８．２５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １６．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を加え、攪拌混合した後、幅１００ｍｍ、奥行き１００ｍｍ、深さ０．５ｍｍの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を２，０００ｍＪ照射したところ透明なシートを得た。このシートは吸湿試験後も透明であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例２】
【００２３】
実施例１で得られたコポリマー １９．７５ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ５５．５０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ２３．７５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例３】
【００２４】
実施例１で得られたコポリマー ５４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ３１．２５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １３．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例４】
【００２５】
初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート１０２．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート１８．０ｇ、追加モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート２５．５ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート４．５ｇを使用したこと以外は、実施例１と同様にして２−エチルヘキシルアクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー（重量平均分子量２００，０００）を得た。
次に、このコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ４６．２５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ８．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．３Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．４Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例５】
【００２６】
初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート６０．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート６０．０ｇ、追加モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート１５．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート１５．０ｇを使用したこと以外は、実施例１と同様にして２−エチルヘキシルアクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー（重量平均分子量３５０，０００）を得た。
次に、このコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ２７．２５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ２７．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を加えること以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。
また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例６】
【００２７】
光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの代わりにビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドを使用し、幅１００ｍｍ、奥行き１００ｍｍ、深さ３．０ｍｍの枠を使用し、紫外線の露光量を４，５００ｍＪとしたこと以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、２．０Ｊの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例７】
【００２８】
光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの代わりにオリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）を２．００ｇ使用し、紫外線の露光量を２，５００ｍＪとしたこと以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。またこのシートは特に低臭気であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例８】
【００２９】
幅１００ｍｍ、奥行き１００ｍｍ、深さ１．５ｍｍの枠を使用し、紫外線の露光量を３，５００ｍＪとしたこと以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、２．０Ｊの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例９】
【００３０】
幅１００ｍｍ、奥行き１００ｍｍ、深さ２．０ｍｍの枠を使用し、紫外線の露光量を４，０００ｍＪとしたこと以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、２．０Ｊの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【実施例１０】
【００３１】
実施例１で得られたコポリマー ４０．２０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ４４．１０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １４．７０ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、１．１Ｊの衝撃でガラスが破損せず、１．２Ｊの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
【００３２】
比較例１
実施例１で得られたコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ５４．５０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １３．２５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは白濁していた。
【００３３】
比較例２
実施例１で得られたコポリマー ４４．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ５４．５０ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは白濁していた。
【００３４】
比較例３
初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート１０８．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート１２．０ｇ、追加モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート２７．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート３．０ｇを使用したこと以外は実施例１と同様にしてコポリマー（重量平均分子量２２０，０００）を得た。
上記で得られたコポリマー ４９．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ４４．５０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ５．００ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であったが、吸湿試験後は白濁した。
【００３５】
比較例４
初期モノマーとして、２−エチルヘキシルアクリレート１２．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート１０８．０ｇ、追加モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート３．０ｇと２−ヒドロキシエチルアクリレート２７．０ｇを使用したこと以外は実施例１と同様にしてコポリマーを得た。
上記で得られたコポリマー ４９．５０ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ５．００ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ４４．５０ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であったが、吸湿試験後は外形寸法が５％以上拡大し、外周部にうねりが発生した。
【００３６】
比較例５
光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を使用する以外は実施例１と同様にしてシートを作製した。作製したシートは黄色に着色していた。
【００３７】
比較例６
２−エチルヘキシルアクリレート ８４．１５ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート １４．８５ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、０．５Ｊの衝撃で樹脂シートが破損した。
【００３８】
比較例７
電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａをその電磁波遮蔽層が接するように直接ガラスに貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、０．５Ｊの衝撃でガラスが破損した。
比較例８
実施例１で得られたコポリマー １０．００ｇ、
２−エチルヘキシルアクリレート ６２．３０ｇ、
２−ヒドロキシエチルアクリレート ２６．７０ｇ、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート １．００ｇ、
及び
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン ０．５０ｇ
を用いて、実施例１と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムＵ（ＴＴ４２−０１）Ａの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、０．７Ｊの衝撃でガラスが破損せず、０．８Ｊの衝撃でガラスが破損した。
【００３９】
実施例及ぶ比較例での試験方法を次に示す。また、これらの試験結果を表１又は表２に示す。
（吸湿試験）
吸湿試験は、樹脂シートを６０℃、９０％ＲＨの高温高湿試験槽に５０時間入れることで行い、評価方法は目視観察を行った。また試験後の全光線透過率を測定した。
（分子量測定）
分子量の測定はＴＨＦを溶媒としたゲルパーミエーションクロマトグラフィーを使用して行い、ポリスチレンを標準物質として使用して分子量を決定した。
（耐衝撃性試験）
耐衝撃性試験は、電磁波シールドフィルムに前記の樹脂シートを貼合したものをさらに厚さ２．８ｍｍのソーダガラスに貼合し、鋼球を落下させて評価した。０．１Ｊ単位で衝撃を大きくし、ガラスあるいは樹脂シートが破損した１つ手前の値を耐衝撃性とした。
（全光線透過率）
全光線透過率の測定は色差・濁度測定器ＣＯＨ−３００Ａ（日本電色工業（株）製）を使用して行った。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コポリマー １５〜６０重量部
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜８４重量部
アクリロイル基を２個以上有するモノマー ０．５〜１０重量部
及び
光重合開始剤 ０．３〜３重量部
を含有し、
上記のコポリマーが、アルキル基の炭素数が４〜１８であるアルキルアクリレート（以下、ＡＡモノマーという。）５０〜８７重量％と下記一般式（Ｉ）
【化１】
（ただし、式中、ｍは２、３又は４、ｎは１〜１０の整数をしめす。）
で表されるヒドロキシル基含有アクリレート（以下、ＨＡモノマーという。）１３〜５０重量％を重合させて得られるものであり、
上記のアクリロイル基を１個有するモノマーとして、ＡＡモノマーを５０〜８７重量％及びＨＡモノマーを１３〜５０重量％の割合になるように使用し、
上記コポリマー中のＨＡモノマーの割合（Ｐ重量％）と、アクリロイル基を１個有するモノマーにおけるＨＡモノマーの割合（Ｍ重量％）との間に、
【数１】
の関係があるように配合されてなる光学用樹脂組成物。
【請求項２】
重合開始剤がα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物あるいはアシルフォスフィンオキサイド系化合物あるいはオリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）である請求項１記載の光学用樹脂組成物。
【請求項３】
ＡＡモノマーが２−エチルヘキシルアクリレートまたはイソオクチルアクリレートまたはｎ−オクチルアクリレートであり、ＨＡモノマーが２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは１−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは３−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは１−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは４−ヒドロキシブチルアクリレートまたは３−ヒドロキシブチルアクリレートまたは２−ヒドロキシブチルアクリレートまたは１−ヒドロキシブチルアクリレートである請求項１又は２記載の光学用樹脂組成物。
【請求項４】
コポリマーの重量平均分子量が２００，０００〜３５０，０００である請求項１〜３のいずれかに記載の光学用用樹脂組成物。
【請求項５】
コポリマ ４０〜６０重量部、
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜５９重量部、
アクリロイル基を２個以上有するモノマー １〜５重量部、
及び
光重合開始剤を０．５〜２．０重量部
含有する請求項１〜４のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物からなる光学用樹脂シート。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項６記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル用衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項６記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル。
【請求項１】
コポリマー １５〜６０重量部
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜８４重量部
アクリロイル基を２個以上有するモノマー ０．５〜１０重量部
及び
光重合開始剤 ０．３〜３重量部
を含有し、
上記のコポリマーが、アルキル基の炭素数が４〜１８であるアルキルアクリレート（以下、ＡＡモノマーという。）５０〜８７重量％と下記一般式（Ｉ）
【化１】
（ただし、式中、ｍは２、３又は４、ｎは１〜１０の整数をしめす。）
で表されるヒドロキシル基含有アクリレート（以下、ＨＡモノマーという。）１３〜５０重量％を重合させて得られるものであり、
上記のアクリロイル基を１個有するモノマーとして、ＡＡモノマーを５０〜８７重量％及びＨＡモノマーを１３〜５０重量％の割合になるように使用し、
上記コポリマー中のＨＡモノマーの割合（Ｐ重量％）と、アクリロイル基を１個有するモノマーにおけるＨＡモノマーの割合（Ｍ重量％）との間に、
【数１】
の関係があるように配合されてなる光学用樹脂組成物。
【請求項２】
重合開始剤がα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物あるいはアシルフォスフィンオキサイド系化合物あるいはオリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）である請求項１記載の光学用樹脂組成物。
【請求項３】
ＡＡモノマーが２−エチルヘキシルアクリレートまたはイソオクチルアクリレートまたはｎ−オクチルアクリレートであり、ＨＡモノマーが２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは１−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは３−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは１−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは４−ヒドロキシブチルアクリレートまたは３−ヒドロキシブチルアクリレートまたは２−ヒドロキシブチルアクリレートまたは１−ヒドロキシブチルアクリレートである請求項１又は２記載の光学用樹脂組成物。
【請求項４】
コポリマーの重量平均分子量が２００，０００〜３５０，０００である請求項１〜３のいずれかに記載の光学用用樹脂組成物。
【請求項５】
コポリマ ４０〜６０重量部、
アクリロイル基を１個有するモノマー ３９〜５９重量部、
アクリロイル基を２個以上有するモノマー １〜５重量部、
及び
光重合開始剤を０．５〜２．０重量部
含有する請求項１〜４のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物からなる光学用樹脂シート。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項６記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル用衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項６記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル。
【公開番号】特開２００７−９１１６（Ｐ２００７−９１１６Ａ）
【公開日】平成１９年１月１８日（２００７．１．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１９４０２０（Ｐ２００５−１９４０２０）
【出願日】平成１７年７月１日（２００５．７．１）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年１月１８日（２００７．１．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年７月１日（２００５．７．１）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
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