光学素子、液晶装置、液晶装置用マザー基板、および電子機器
【課題】光学素子の微細な突起体の端部が剥離や欠損等の損傷を受けるリスクを低減し、優れた光学特性を有する光学素子を提供すること。
【解決手段】光学素子20は、偏光分離機能を備えた光学素子であって、導体からなる複数の互いにほぼ平行な直線状の突起体22と、複数の突起体22の端部に設けられた保護壁24と、を備えていることを特徴とする。
【解決手段】光学素子20は、偏光分離機能を備えた光学素子であって、導体からなる複数の互いにほぼ平行な直線状の突起体22と、複数の突起体22の端部に設けられた保護壁24と、を備えていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学素子、液晶装置、液晶装置用マザー基板、および電子機器に関する。
【背景技術】
【0002】
偏光分離機能を備えた光学素子の1つとして、ワイヤグリッド偏光素子が知られている。ワイヤグリッド偏光素子は、光の波長よりも短いピッチで並べられた多数の微細な導体からなる直線状の突起体を有する素子で構成されている(例えば特許文献1)。ワイヤグリッド偏光素子は、入射光のうち突起体に平行な偏光成分を反射し、突起体に対して直交する偏光成分を透過する機能を有しており、液晶装置等に用いられている。
【0003】
【特許文献1】特開平9−288211号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ワイヤグリッド偏光素子を備えた液晶装置では、ワイヤグリッド偏光素子上に別材料からなる層や電極等が形成される。しかしながら、このようなプロセスにおいて、薬液の塗布,現像,機械的接触等により、微細な突起体の端部の剥離や欠損等の損傷を受けることがある。突起体が損傷を受けた場合、ワイヤグリッド偏光素子の光学特性の低下を招くのみでなく、欠損した突起体の破片が前述のプロセス中で浮遊し液晶装置の他の部分に付着することにより、その部分が二次的損傷を受け、液晶装置の歩留りが低下するという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【0006】
[適用例1]本適用例に係る光学素子は、偏光分離機能を備えた光学素子であって、導体からなる複数の互いにほぼ平行な直線状の突起体と、前記突起体の端部に設けられた保護壁と、を備えていることを特徴とする。
【0007】
この構成によれば、突起体の端部に保護壁を備えているので、突起体の端部が保護壁により保護される。これにより、入射光を偏光状態の異なる反射光と透過光とに分離する機能を有する突起体が損傷を受けるリスクが低減されるので、優れた光学特性を有する光学素子を提供できる。
【0008】
[適用例2]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体の端部に亘って設けられていてもよい。
【0009】
この構成によれば、複数の突起体の端部に亘って保護壁が設けられているので、複数の突起体が損傷を受けるリスクを低減できる。
【0010】
[適用例3]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体の周囲を囲むように設けられていてもよい。
【0011】
この構成によれば、複数の突起体の周囲が保護壁で囲まれているので、複数の突起体の端部に加えて、互いにほぼ平行に配列された複数の突起体のうち最も外側に位置する突起体のそれぞれの外側部が保護される。これにより、複数の突起体が損傷を受けるリスクをより低減できる。
【0012】
[適用例4]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体の両端に接していてもよい。
【0013】
この構成によれば、保護壁が複数の突起体の両端に接しているので、複数の突起体の両端面が露出しない。また、複数の突起体の両端が保護壁に接して固定されるので、外力に対して安定する。これにより、複数の突起体の両端部をより確実に保護できる。
【0014】
[適用例5]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体と同じ材料で形成されていてもよい。
【0015】
この構成によれば、保護壁と複数の突起体とが同じ材料であるので、複数の突起体を形成する工程で保護壁をほぼ同時に形成できる。
【0016】
[適用例6]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体と一体で形成されていてもよい。
【0017】
この構成によれば、保護壁と複数の突起体とが一体であるので、複数の突起体の構造的強度が高められる。これにより、複数の突起体が損傷を受けるリスクをさらに低減できる。
【0018】
[適用例7]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体の材料とは異なる材料で形成されていてもよい。
【0019】
[適用例8]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、遮光性を有する材料で形成されていてもよい。
【0020】
この構成によれば、保護壁が遮光性を有する材料で形成されているので、遮光層と同等の遮光効果が得られる。
【0021】
[適用例9]本適用例に係る液晶装置は、表示領域内に複数の画素を有する液晶装置であって、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に位置する液晶層と、前記第1の基板の前記液晶層側に前記画素ごとに配置された、上記記載の光学素子と、を備えていることを特徴とする。
【0022】
この構成によれば、偏光分離機能を備えた光学素子が画素ごとに液晶セル内に配置されている。これらの光学素子の複数の突起体は保護壁により保護されており、液晶装置の製造工程において複数の突起体が損傷を受けるリスクが低減されるので、液晶装置の備える光学素子は優れた光学特性を有する。これにより、薄型で優れた表示品質を有する液晶装置を提供できる。
【0023】
[適用例10]上記適用例に係る液晶装置であって、前記複数の画素のそれぞれは、透過表示領域と反射表示領域とを有しており、前記光学素子は、前記反射表示領域に配置されていてもよい。
【0024】
この構成によれば、液晶装置の反射表示領域に、優れた光学特性を有する光学素子が配置されているので、薄型で優れた表示品質を有する半透過反射型の液晶装置を提供できる。
【0025】
[適用例11]上記適用例に係る液晶装置であって、前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、少なくとも前記反射表示領域の周囲に配置されていてもよい。
【0026】
この構成によれば、保護壁が反射表示領域の周囲に配置されているので、反射表示領域から透過表示領域に漏れる光を保護壁で遮光できる。これにより、透過表示領域のコントラストを向上できる。
【0027】
[適用例12]上記適用例に係る液晶装置であって、前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、前記複数の画素の間に配置されていてもよい。
【0028】
この構成によれば、保護壁が複数の画素の間に配置されているので、隣り合う画素同士の間から漏れる光を保護壁で遮光できる。これにより、隣り合う画素間の光の混入を防止できるので、表示のコントラストを向上できる。
【0029】
[適用例13]本適用例に係る液晶装置は、表示領域内に複数の画素を有する液晶装置であって、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に位置する液晶層と、前記第1の基板の前記液晶層側に配置された、上記記載の光学素子と、を備え、前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、前記表示領域の周囲に配置されていることを特徴とする。
【0030】
この構成によれば、光学素子の保護壁が液晶装置の表示領域の周囲、すなわち実質的に表示に寄与しない領域に配置されるので、保護壁の形状,材料等における制約が緩和される。これにより、保護壁を容易に形成できる。また、保護壁により表示領域の周囲を遮光層と同等に遮光する効果が得られる。
【0031】
[適用例14]本適用例に係る液晶装置用マザー基板は、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、を有する液晶装置の製造に用いる液晶装置用マザー基板であって、複数の前記第1の基板を包含する第3の基板と、前記第3の基板上のうち、前記第1の基板に対応する領域を除いた領域の少なくとも一部に形成された、上記記載の光学素子と、を備えていることを特徴とする。
【0032】
この構成によれば、液晶装置用マザー基板は、第3の基板上の第1の基板に対応する領域を除いた領域の少なくとも一部に形成された光学素子を備えている。これらの光学素子の複数の突起体は保護壁により保護されているので、光学素子が第3の基板上の第1の基板に対応する領域を除いた領域に孤立して設けられていても、液晶装置の製造工程において複数の突起体が損傷を受けるリスクが低減される。
【0033】
[適用例15]本適用例に係る電子機器は、上記記載の液晶装置を備えたことを特徴とする。
【0034】
この構成によれば、薄型で優れた表示品質を有する電子機器を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0035】
以下に、本実施形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の層厚や寸法の比率は適宜異ならせてある。また、参照する各図面において、素子、配線、接続部等を省略してある。
【0036】
(第1の実施形態)
<光学素子>
まず、第1の実施形態に係る光学素子の構成について図を参照して説明する。図1は、第1の実施形態に係る光学素子を模式的に示す斜視図である。
【0037】
図1に示すように、本実施形態に係る光学素子20は、複数の突起体22と、保護壁24と、を備えたワイヤグリッド偏光素子である。光学素子20は、下地21上に配置されている。下地21は、例えば基板であるが、基板を覆う表面層であってもよい。複数の突起体22のそれぞれは、直線状の形状を有しており、下地21上に互いにほぼ平行に配置されている。突起体22は、光反射性の高い導体からなり、例えばアルミニウムからなる。突起体22の材料は、APC(銀−パラジウム−銅の合金)であってもよい。
【0038】
複数の突起体22は所定のピッチで配置されている。複数の突起体22のピッチは、入射する光の波長よりも小さく設定されており、例えば140nmである。突起体22の高さは、例えば100nmである。突起体22の幅は、例えば70nmである。保護壁24は、複数の突起体22の周囲を囲むように設けられている。保護壁24と複数の突起体22とは一体で形成されている。保護壁24の高さは、例えば100nmである。保護壁24の幅は、例えば4〜10μmである。保護壁24は、突起体22と同じ材料で形成されている。
【0039】
光学素子20は、下地21上に突起体22および保護壁24の材料を、例えばスパッタリング法により配置した後、例えばフォトリソグラフィ法によりエッチングを行うことで形成できる。光学素子20は、入射光を偏光状態の異なる反射光と透過光とに分離する機能を備えている。光学素子20は、入射する光のうち、突起体22の延在方向に平行な偏光成分を反射し、突起体22の延在方向に対して直交する偏光成分を透過する。
【0040】
第1の実施形態の構成によれば、複数の突起体22の周囲が保護壁24で囲まれており、複数の突起体22の延在方向の両端面が露出しない。このため、複数の突起体22の両端部が保護されるとともに、複数の突起体22の最も外側に位置する突起体22のそれぞれの外側部が保護される。さらに、保護壁24と複数の突起体22とが一体であるので、複数の突起体22の構造的強度が高められる。これにより、複数の突起体22が損傷を受けるリスクが低減されるので、優れた光学特性を有する光学素子20を提供できる。また、保護壁24と複数の突起体22とが一体でありかつ同じ材料からなるので、保護壁24と複数の突起体22とを同じ工程において同じマスクを用いて形成することができる。
【0041】
<液晶装置>
次に、第1の実施形態に係る液晶装置の構成について図を参照して説明する。図2は、第1の実施形態に係る液晶装置の表示領域の一部を示す平面図である。図3は、第1の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図である。詳しくは、図2のA−A’線に沿った断面図である。本実施形態に係る液晶装置100は、FFS(Fringe-Field Switching)方式の半透過反射型の液晶装置である。
【0042】
図2に示すように、液晶装置100の表示領域には、赤、緑、青の表示に寄与する画素34R,34G,34B(以下では、対応する色について区別しない場合には単に画素34とも呼ぶ)が複数配置されている。画素34は、液晶装置100の表示の最小単位であり、隣り合う画素同士の間に間隔が空くように、X軸およびY軸に沿ってマトリクス状に配置されている。ここで、X軸は画素34の行方向を示し、Y軸は画素34の列方向を示している。
【0043】
それぞれの画素34は、反射表示に寄与する反射表示領域Rと、透過表示に寄与する透過表示領域Tと、を有している。X軸に沿った方向には反射表示領域R同士または透過表示領域T同士が対向するように隣接し、Y軸に沿った方向には反射表示領域Rと透過表示領域Tとが互いに対向するように隣接している。画素34R,34G,34Bから画素群35が構成されている。液晶装置100では、画素群35において画素34R,34G,34Bのそれぞれの表示の輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。
【0044】
図3に示すように、液晶装置100は、第1の基板11と光学素子20とを含む素子基板10と、第2の基板31を含む対向基板30と、液晶層40と、を備えている。
【0045】
素子基板10は、第1の基板11と、第1の絶縁層12と、光学素子20と、共通電極14と、第2の絶縁層15と、画素電極16と、を備えている。第1の基板11は、透明な材料からなり、例えばガラスからなる。第1の絶縁層12は、第1の基板11の液晶層40側を覆うように形成されている。この第1の絶縁層12が、液晶装置100における光学素子20の下地である。反射表示領域Rに位置する第1の絶縁層12には、図示しないが、外光を散乱させるための凹凸形状が形成されている。光学素子20は、第1の絶縁層12上のうち反射表示領域Rに形成されている。
【0046】
共通電極14は、反射表示領域Rと透過表示領域Tとに亘って形成されており、反射表示領域Rにおいては光学素子20上に形成され、透過表示領域Tにおいては第1の絶縁層12上に形成されている。共通電極14は、例えばITO(Indium Tin Oxide)からなる。共通電極14上には、その上面を覆うように第2の絶縁層15が形成されている。さらに、第2の絶縁層15上には、複数のスリット状の開口部16aを有する画素電極16が形成されている。画素電極16は、例えばITOからなる。
【0047】
図2に示すように、画素電極16は、それぞれの画素34の全体に亘って配置されており、より詳しくは反射表示領域Rと透過表示領域Tとにまたがって配置されている。複数の画素電極16は、マトリクス状に配置されている。なお、図2では、画素電極16の開口部16aを省略している。
【0048】
ここで、光学素子20は、それぞれの画素34に配置されている。より詳しくは、光学素子20の複数の突起体22は、それぞれの画素34の反射表示領域Rに配置されている。そして、保護壁24はそれぞれの画素34の反射表示領域Rの周囲、すなわち隣り合う画素34の反射表示領域Rの間と、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界と、に配置されている。
【0049】
保護壁24が隣り合う画素34の反射表示領域Rの間に配置されているので、反射表示領域Rにおいて隣り合う画素34同士の間から漏れる光を保護壁24で遮光できる。これにより、複数の画素34の間の光の混入を防止し、液晶装置100の反射表示領域Rのコントラストを向上できる。また、保護壁24が反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界に配置されているので、反射表示領域Rから透過表示領域Tに漏れる光を保護壁24で遮光できる。これにより、液晶装置100の透過表示領域Tのコントラストを向上できる。
【0050】
画素電極16は、後述するカラーフィルタ層32(図3参照)の赤、緑、青の3色のいずれかに対応している。これらの3色のそれぞれと対応する3つの画素電極16との組み合わせにより、3色の画素34R,34G,34Bがそれぞれ構成される。
【0051】
図3に示すように、素子基板10の液晶層40とは反対側には、第1の偏光板18が配置されている。なお、素子基板10には、図示しないが、液晶層40を駆動するための素子、配線パターン、接続部等が設けられている。
【0052】
対向基板30は、液晶装置100の観察側に位置している。対向基板30は、第2の基板31と、カラーフィルタ層32と、カラーフィルタ保護層36と、を備えている。第2の基板31は、透明な材料からなり、例えばガラスからなる。カラーフィルタ層32とカラーフィルタ保護層36とは、第2の基板31の液晶層40側に順に積層されている。カラーフィルタ層32は、赤、緑、青の3色の色要素を含んでいる。対向基板30の液晶層40とは反対側、すなわち観察側には、第2の偏光板38が配置されている。
【0053】
液晶層40は、素子基板10と対向基板30との間に位置している。素子基板10の液晶層40側には、第2の絶縁層15と画素電極16とを覆うように、第1の配向膜42が形成されている。また、対向基板30の液晶層40側には、カラーフィルタ保護層36を覆うように第2の配向膜44が形成されている。液晶層40は、第1の配向膜42と第2の配向膜44とに施された配向処理によって配向方向が規制されており、ホモジニアス配向している。また、液晶層40は、入射される可視光の波長に対して1/2波長分の位相差を付与する。
【0054】
<液晶装置の表示原理>
次に、液晶装置100の光学的軸配置を説明する。図4は、液晶装置100の光学的軸配置を説明する図である。図4(a)に、第2の偏光板38の透過軸38aを示す。図4(b)に、液晶層40の配向方向を示す。液晶層40の配向方向40aは透過軸38aに平行であり、電圧が印加された状態での液晶層40の配向方向40bは透過軸38aに対し例えば45°となる。
【0055】
ここで、本実施形態では、光学素子20の突起体22の延在方向は透過軸38aに対して直交している。したがって、光学素子20は、透過軸38aに平行な偏光成分を透過し、透過軸38aに対して直交する偏光成分を反射する。図4(c)に、光学素子20が透過する偏光成分の方向を透過軸20aとして示す。図4(d)に、第1の偏光板18の透過軸18aを示す。透過軸18aは透過軸38aに対して直交している。
【0056】
次に、液晶装置100の表示原理を説明する。本実施形態では、液晶装置100は、液晶層40に電圧が印加されない状態が暗表示となる「ノーマリーブラック」型である。したがって、暗表示を行う場合は、液晶層40に電圧が印加されない状態とする。
【0057】
反射表示領域Rにおいては、第2の偏光板38の上方から入射した光は、透過軸38aに平行な直線偏光となり液晶層40に入射する。ここで、液晶層40に入射した直線偏光は、その偏光軸が液晶層40の配向方向40aと平行であるので、位相差を与えられずそのままの状態で液晶層40を通過し、光学素子20に入射する。この透過軸38aに平行な直線偏光は、光学素子20を透過した後、第1の偏光板18に吸収されて第2の偏光板38側(観察側)へ戻らないため、暗表示となる。
【0058】
一方、透過表示領域Tにおいては、第1の偏光板18の下方から入射した光は、透過軸18aに平行な直線偏光となり、液晶層40に入射する。ここで、液晶層40に入射した直線偏光は、その偏光軸が液晶層40の配向方向40aに対して直交しているので、位相差を与えられずそのままの状態で液晶層40を通過し、第2の偏光板38に入射する。この透過軸18aに平行な直線偏光は、第2の偏光板38に吸収されて第2の偏光板38の上方(観察側)へ届かないため、暗表示となる。
【0059】
次に、明表示を行う場合は、液晶層40に電圧が印加された状態とする。電圧が印加された状態において、液晶層40の配向方向40bは第2の偏光板38の透過軸38aに対し例えば45°となる。
【0060】
反射表示領域Rにおいては、第2の偏光板38の上方から入射した光は、透過軸38aに平行な直線偏光となり液晶層40に入射する。液晶層40に入射した直線偏光は、液晶層40を通過する際に1/2波長分の位相差を付与されて、透過軸38aに対して直交する直線偏光となり、光学素子20に入射する。この直線偏光は透過軸20aに対しても直交するため、光学素子20によって反射され、再び液晶層40に入射する。再び液晶層40を通過した直線偏光は、液晶層40によって1/2波長分の位相差を付与されて、透過軸38aに平行な直線偏光になり、第2の偏光板38を透過して第2の偏光板38の上方(観察側)へ届くため、明表示となる。
【0061】
一方、透過表示領域Tにおいては、第1の偏光板18の下方から入射した光は、透過軸18aに平行な直線偏光となり、液晶層40に入射する。液晶層40に入射した直線偏光は、液晶層40を通過する際に1/2波長分の位相差を付与されて、透過軸18aに対して直交する直線偏光となり、第2の偏光板38に入射する。この直線偏光は透過軸38aに平行であるので、第2の偏光板38を透過して第2の偏光板38の上方(観察側)へ届くため、明表示となる。
【0062】
上記第1の実施形態の構成によれば、入射光を偏光状態の異なる反射光と透過光とに分離する機能を備え、優れた光学特性を有する光学素子20を液晶セル内の反射表示領域Rに備えているので、薄型で優れた表示品質を有する半透過反射型の液晶装置100を提供できる。また、液晶装置100の製造工程において、光学素子20の複数の突起体22が損傷を受けるリスクが低減されるので、欠損した突起体22の破片が製造工程のプロセス中で浮遊し、液晶装置100の他の部分に付着することにより発生する二次的損傷を防止できる。これにより、液晶装置100の歩留りを向上できる。
【0063】
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態に係る光学素子の構成について図を参照して説明する。図5は、第2の実施形態に係る光学素子を模式的に示す斜視図である。
【0064】
第2の実施形態に係る光学素子50は、第1の実施形態に係る光学素子20に対して、複数の突起体と保護壁とが別々に形成されている点と、保護壁が複数の突起体と異なる材料で形成されている点とが異なっているが、その他の点は同じである。
【0065】
図5に示すように、光学素子50は、複数の突起体22と保護壁54とを備えている。複数の突起体22と保護壁54とは別々に形成されている。保護壁54は、複数の突起体22の周囲を囲むように形成されている。保護壁54は、複数の突起体22の延在方向の両端部22a,22bに接していてもよい。保護壁54は、複数の突起体22の材料とは異なる材料で形成されている。保護壁54は、遮光性を有する材料、例えば黒色の樹脂材料で形成されている。
【0066】
第2の実施形態の構成によれば、複数の突起体22と保護壁54とが別々に形成されていても、複数の突起体22の周囲が保護壁54により保護される。さらに、保護壁54が複数の突起体22の延在方向の両端部22a,22bに接していると、複数の突起体22の延在方向の両端部22a,22bが保護壁54に接して固定されるので、外力に対して安定する。これにより、複数の突起体22が損傷を受けるリスクを低減できる。また、保護壁54が遮光性を有する材料で形成されているので、複数の突起体22の周囲に入射する不要な光を遮光層と同等に遮光できる。なお、保護壁54の材料は、Cr,Mo,W等の金属薄膜であってもよいし、透明な樹脂材料であってもよい。
【0067】
(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態に係る液晶装置の構成について図を参照して説明する。図6は、第3の実施形態に係る液晶装置の画素領域を示す平面図である。なお、第1の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【0068】
第3の実施形態に係る液晶装置200は、第1の実施形態に係る液晶装置100に対して、光学素子20の代わりに光学素子60を備えている点が異なっているが、その他の点は同じである。光学素子60は、第1の実施形態に係る光学素子20に対して、保護壁64の形状が異なっているが、その他の点は同じである。
【0069】
図6に示すように、光学素子60は、複数の突起体22と、保護壁64と、を備えている。保護壁64は、図のX軸に沿った方向およびY軸に沿った方向における隣り合う画素34同士の間と、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの間と、に配置されている。
【0070】
第3の実施形態の構成によれば、保護壁64が隣り合う画素34同士の間に配置されているので、隣り合う画素34同士の間の光の混入を防止できる。これにより、液晶装置200の反射表示領域Rと透過表示領域Tとのコントラストを向上できる。また、保護壁64が反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界に配置されているので、反射表示領域Rから透過表示領域Tに漏れる光を保護壁64で遮光できる。これにより、液晶装置200の透過表示領域Tのコントラストをより向上できる。
【0071】
なお、光学素子60に、第2の実施形態に係る光学素子50と同様に、保護壁が遮光性を有する材料で複数の突起体と別々に形成される構成を適用してもよい。これによれば、液晶装置200において、隣り合う画素34同士の間と、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの間と、を遮光層と同等に遮光できる。
【0072】
(第4の実施形態)
次に、第4の実施形態に係る光学素子の構成について図を参照して説明する。図7は、第4の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す平面図である。なお、第1の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【0073】
第4の実施形態に係る液晶装置300は、第1の実施形態に係る液晶装置100に対して、光学素子20の代わりに光学素子70を備えている点が異なっているが、その他の点は同じである。
【0074】
図7に示すように、光学素子70は、複数の突起体群72と、保護壁74と、を備えている。複数の突起体群72のそれぞれは、第1の実施形態の光学素子20における複数の突起体22と同様の構成を有する複数の互いにほぼ平行な直線状の突起体で構成される。
【0075】
液晶装置300は、表示領域300a内に複数の画素34(図2参照)を有している。表示領域300aは、液晶装置300において実質的に表示に寄与する領域である。複数の突起体群72は、表示領域300a内に配置されている。突起体群72のそれぞれは、複数の画素34の反射表示領域Rに重なるように配置されている。複数の画素34は、図7のX軸に沿った方向に反射表示領域R同士が並び、図7のY軸に沿った方向には反射表示領域Rと透過表示領域Tとが互いに対向するように配列されているので、複数の突起体群72は、図7のX軸に沿った方向すなわち反射表示領域R同士が隣接する方向を延在方向として、ストライプ状に配置されている。
【0076】
保護壁74は、表示領域300aの周囲に、複数の突起体群72を囲むように配置されている。なお、表示領域300aの周囲の保護壁74が配置される領域は、対向基板30の外周部に重なる部分である。保護壁74は、例えば複数の突起体群72と一体で形成されている。保護壁74は、複数の突起体群72と異なる材料で、それぞれ別々に形成されていてもよい。この構成によれば、保護壁74は液晶装置300の実質的に表示に寄与する領域の周囲に配置されるので、保護壁74の形状,材料等における制約が緩和される。これにより、保護壁74を容易に形成できる。また、保護壁74を遮光性を有する材料で形成すれば、保護壁74により表示領域300aの周囲を遮光層と同等に遮光する効果が得られる。
【0077】
なお、素子基板10は、対向基板30より大きく、一部が対向基板30よりも張り出した状態で配置されている。この張り出し部分10aには、液晶層40(図示しない)を駆動するためのドライバIC76が実装されている。
【0078】
(第5の実施形態)
次に、第5の実施形態に係る液晶装置用マザー基板の構成について図を参照して説明する。図8は、第5の実施形態に係る液晶装置用マザー基板の概略構成を示す平面図である。第5の実施形態に係る液晶装置用マザー基板は、液晶装置の製造に用いる基板であり、素子基板が複数枚取りできる大型の基板である。
【0079】
液晶装置用マザー基板8は、例えば、第1の実施形態の液晶装置100の製造に用いる基板である。より詳細には、液晶装置用マザー基板8は、第1の実施形態の素子基板10の製造に用いる基板である。図8に示すように、液晶装置用マザー基板8は、第1の実施形態の第1の基板11を包含する第3の基板10bと、第3の基板10b上に形成された工程検査用光学素子80と、を備えている。
【0080】
第3の基板10bは、複数の第1の基板11を包含している。素子基板10の製造工程においては、第3の基板10bが包含する複数の第1の基板11のそれぞれに素子基板10の備える各構成要素が形成されるまで、液晶装置用マザー基板8の状態で加工が行われる。そして、最終的に液晶装置用マザー基板8を切断して個片化することにより、複数の素子基板10が得られる。
【0081】
工程検査用光学素子80は、第3の基板10b上のうち、第1の基板11に対応する領域を除いた領域の少なくとも一部に形成されている。工程検査用光学素子80は、複数の突起体82と保護壁84とを有している。工程検査用光学素子80は、素子基板10の製造工程において、液晶装置100の備える光学素子20の代用として検査するためのものである。したがって、工程検査用光学素子80は、第1の実施形態の光学素子20と同様の構成を有している。より詳細には、複数の突起体82は第1の実施形態の複数の突起体22と同様であり、保護壁84は第1の実施形態の保護壁24と同様である。
【0082】
この構成によれば、工程検査用光学素子80は複数の突起体82と保護壁84とを有しているので、第3の基板10b上のうち第1の基板11に対応する領域を除いた領域に工程検査用光学素子80が孤立して設けられていても、複数の突起体82は保護壁84により保護される。これにより、工程検査用光学素子80の複数の突起体82が損傷を受けるリスクが低減されるので、液晶装置100の製造工程において、液晶装置100の備える光学素子20の代用検査をより支障なく行うことができる。
【0083】
なお、液晶装置用マザー基板8は、第3の実施形態の液晶装置200または第4の実施形態の液晶装置300に用いる素子基板が複数枚取りできる基板であってもよい。また、工程検査用光学素子80は、それぞれの素子基板の備える光学素子に対応して、第2の実施形態の光学素子50、第3の実施形態の光学素子60、または第4の実施形態の光学素子70と同様の構成を有していてもよい。
【0084】
(電子機器)
上述した液晶装置100,200,300は、例えば、図9(a)に示すように、電子機器としての携帯電話機500に搭載して用いることができる。電子機器は、図9(b)に示すように、電子ビューファインダ510であってもよい。携帯電話機500、電子ビューファインダ510は、それぞれの表示部502,512に液晶装置100,200,300を備えている。この構成により、表示部502を有する携帯電話機500および表示部512を有する電子ビューファインダ510は優れた表示品質を有している。
【0085】
また、電子機器は、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、オーディオ機器、液晶プロジェクタであってもよい。
【0086】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【0087】
(変形例1)
図10は、光学素子の変形例を説明する図である。突起体92の少なくとも一端部に保護壁を設ければ、突起体92が損傷を受けるリスクを低減できる。したがって、以上の実施形態の光学素子20,50,60,70および工程検査用光学素子80では、保護壁が複数の突起体を囲むように配置されていたが、この形態に限定されない。例えば、保護壁は個々の突起体92の一端部92aに配置されてもよいし、複数の突起体92の一端部92aに亘って配置されていてもよいし、両端部92a,92bに設けてもよい。
【0088】
図10に示すように、光学素子90は、複数の突起体92と保護壁94とを備えている。保護壁94は、複数の突起体92の両端部に、複数の突起体92に亘って形成されている。保護壁94は、複数の突起体92の端部92aおよび/または端部92bに接していてもよい。このような構成でも、複数の突起体92の両端部92a,92bが保護壁94により保護されるので、複数の突起体92が損傷を受けるリスクを低減できる。
【0089】
(変形例2)
以上の実施形態の液晶装置100,200,300は、半透過反射型の液晶装置であったが、この形態に限定されない。液晶装置は、反射型の液晶装置であってもよい。図11は、反射型の液晶装置の画素領域を示す平面図である。なお、第1の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【0090】
図11に示すように、液晶装置400は反射型の液晶装置である。複数の画素34のそれぞれは、全体が反射表示領域Rとなっている。したがって、光学素子20の複数の突起体22は画素34のそれぞれの領域全体に配置されており、保護壁24は図11のX軸に沿った方向およびY軸に沿った方向における隣り合う画素34同士の間に配置されている。この構成によれば、薄型で優れた表示品質を有する反射型液晶装置を提供できる。
【0091】
(変形例3)
以上の実施形態の液晶装置は、FFS方式の半透過反射型の液晶装置であったが、この形態に限定されない。液晶装置は、例えば、IPS(In-Plane Switching)方式の液晶装置、ECB(Electrically Controlled Birefringence)方式の液晶装置、VA(Vertical Alignment)方式の液晶装置であってもよい。また、液晶装置は、反射型の液晶装置であってもよい。
【0092】
なお、以上の実施形態において説明されていない構成要素の材料および加工方法は、公知の技術を適用すればよい。
【図面の簡単な説明】
【0093】
【図1】第1の実施形態に係る光学素子を模式的に示す斜視図。
【図2】第1の実施形態に係る液晶装置の表示領域の一部を示す平面図。
【図3】第1の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図。
【図4】液晶装置の光学的軸配置を説明する図。
【図5】第2の実施形態に係る光学素子を模式的に示す斜視図。
【図6】第3の実施形態に係る液晶装置の画素領域を示す平面図。
【図7】第4の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す平面図。
【図8】第5の実施形態に係る液晶装置用マザー基板の概略構成を示す平面図。
【図9】本実施の形態における電子機器を示す図。
【図10】光学素子の変形例を説明する図。
【図11】反射型の液晶装置の画素領域を示す平面図。
【符号の説明】
【0094】
8…液晶装置用マザー基板、10…素子基板、10a…張り出し部分、10b…第3の基板、11…第1の基板、12…第1の絶縁層、14…共通電極、15…第2の絶縁層、16…画素電極、16a…開口部、18…第1の偏光板、18a…透過軸、20…光学素子、20a…透過軸、21…下地、22…突起体、22a,22b…端部、24…保護壁、30…対向基板、31…第2の基板、32…カラーフィルタ層、34R,34G,34B…画素、35…画素群、36…カラーフィルタ保護層、38…第2の偏光板、38a…透過軸、40…液晶層、40a…配向方向、40b…配向方向、42…第1の配向膜、44…第2の配向膜、50…光学素子、54…保護壁、60…光学素子、64…保護壁、70…光学素子、72…突起体群、74…保護壁、76…ドライバIC、80…工程検査用光学素子、82…突起体、84…保護壁、90…光学素子、92…突起体、92a,92b…端部、94…保護壁、100…液晶装置、200…液晶装置、300…液晶装置、300a…表示領域、400…液晶装置、500…携帯電話機、502…表示部、510…電子ビューファインダ、512…表示部、R…反射表示領域、T…透過表示領域。
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学素子、液晶装置、液晶装置用マザー基板、および電子機器に関する。
【背景技術】
【0002】
偏光分離機能を備えた光学素子の1つとして、ワイヤグリッド偏光素子が知られている。ワイヤグリッド偏光素子は、光の波長よりも短いピッチで並べられた多数の微細な導体からなる直線状の突起体を有する素子で構成されている(例えば特許文献1)。ワイヤグリッド偏光素子は、入射光のうち突起体に平行な偏光成分を反射し、突起体に対して直交する偏光成分を透過する機能を有しており、液晶装置等に用いられている。
【0003】
【特許文献1】特開平9−288211号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ワイヤグリッド偏光素子を備えた液晶装置では、ワイヤグリッド偏光素子上に別材料からなる層や電極等が形成される。しかしながら、このようなプロセスにおいて、薬液の塗布,現像,機械的接触等により、微細な突起体の端部の剥離や欠損等の損傷を受けることがある。突起体が損傷を受けた場合、ワイヤグリッド偏光素子の光学特性の低下を招くのみでなく、欠損した突起体の破片が前述のプロセス中で浮遊し液晶装置の他の部分に付着することにより、その部分が二次的損傷を受け、液晶装置の歩留りが低下するという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【0006】
[適用例1]本適用例に係る光学素子は、偏光分離機能を備えた光学素子であって、導体からなる複数の互いにほぼ平行な直線状の突起体と、前記突起体の端部に設けられた保護壁と、を備えていることを特徴とする。
【0007】
この構成によれば、突起体の端部に保護壁を備えているので、突起体の端部が保護壁により保護される。これにより、入射光を偏光状態の異なる反射光と透過光とに分離する機能を有する突起体が損傷を受けるリスクが低減されるので、優れた光学特性を有する光学素子を提供できる。
【0008】
[適用例2]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体の端部に亘って設けられていてもよい。
【0009】
この構成によれば、複数の突起体の端部に亘って保護壁が設けられているので、複数の突起体が損傷を受けるリスクを低減できる。
【0010】
[適用例3]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体の周囲を囲むように設けられていてもよい。
【0011】
この構成によれば、複数の突起体の周囲が保護壁で囲まれているので、複数の突起体の端部に加えて、互いにほぼ平行に配列された複数の突起体のうち最も外側に位置する突起体のそれぞれの外側部が保護される。これにより、複数の突起体が損傷を受けるリスクをより低減できる。
【0012】
[適用例4]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体の両端に接していてもよい。
【0013】
この構成によれば、保護壁が複数の突起体の両端に接しているので、複数の突起体の両端面が露出しない。また、複数の突起体の両端が保護壁に接して固定されるので、外力に対して安定する。これにより、複数の突起体の両端部をより確実に保護できる。
【0014】
[適用例5]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体と同じ材料で形成されていてもよい。
【0015】
この構成によれば、保護壁と複数の突起体とが同じ材料であるので、複数の突起体を形成する工程で保護壁をほぼ同時に形成できる。
【0016】
[適用例6]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体と一体で形成されていてもよい。
【0017】
この構成によれば、保護壁と複数の突起体とが一体であるので、複数の突起体の構造的強度が高められる。これにより、複数の突起体が損傷を受けるリスクをさらに低減できる。
【0018】
[適用例7]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、前記複数の突起体の材料とは異なる材料で形成されていてもよい。
【0019】
[適用例8]上記適用例に係る光学素子であって、前記保護壁は、遮光性を有する材料で形成されていてもよい。
【0020】
この構成によれば、保護壁が遮光性を有する材料で形成されているので、遮光層と同等の遮光効果が得られる。
【0021】
[適用例9]本適用例に係る液晶装置は、表示領域内に複数の画素を有する液晶装置であって、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に位置する液晶層と、前記第1の基板の前記液晶層側に前記画素ごとに配置された、上記記載の光学素子と、を備えていることを特徴とする。
【0022】
この構成によれば、偏光分離機能を備えた光学素子が画素ごとに液晶セル内に配置されている。これらの光学素子の複数の突起体は保護壁により保護されており、液晶装置の製造工程において複数の突起体が損傷を受けるリスクが低減されるので、液晶装置の備える光学素子は優れた光学特性を有する。これにより、薄型で優れた表示品質を有する液晶装置を提供できる。
【0023】
[適用例10]上記適用例に係る液晶装置であって、前記複数の画素のそれぞれは、透過表示領域と反射表示領域とを有しており、前記光学素子は、前記反射表示領域に配置されていてもよい。
【0024】
この構成によれば、液晶装置の反射表示領域に、優れた光学特性を有する光学素子が配置されているので、薄型で優れた表示品質を有する半透過反射型の液晶装置を提供できる。
【0025】
[適用例11]上記適用例に係る液晶装置であって、前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、少なくとも前記反射表示領域の周囲に配置されていてもよい。
【0026】
この構成によれば、保護壁が反射表示領域の周囲に配置されているので、反射表示領域から透過表示領域に漏れる光を保護壁で遮光できる。これにより、透過表示領域のコントラストを向上できる。
【0027】
[適用例12]上記適用例に係る液晶装置であって、前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、前記複数の画素の間に配置されていてもよい。
【0028】
この構成によれば、保護壁が複数の画素の間に配置されているので、隣り合う画素同士の間から漏れる光を保護壁で遮光できる。これにより、隣り合う画素間の光の混入を防止できるので、表示のコントラストを向上できる。
【0029】
[適用例13]本適用例に係る液晶装置は、表示領域内に複数の画素を有する液晶装置であって、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に位置する液晶層と、前記第1の基板の前記液晶層側に配置された、上記記載の光学素子と、を備え、前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、前記表示領域の周囲に配置されていることを特徴とする。
【0030】
この構成によれば、光学素子の保護壁が液晶装置の表示領域の周囲、すなわち実質的に表示に寄与しない領域に配置されるので、保護壁の形状,材料等における制約が緩和される。これにより、保護壁を容易に形成できる。また、保護壁により表示領域の周囲を遮光層と同等に遮光する効果が得られる。
【0031】
[適用例14]本適用例に係る液晶装置用マザー基板は、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、を有する液晶装置の製造に用いる液晶装置用マザー基板であって、複数の前記第1の基板を包含する第3の基板と、前記第3の基板上のうち、前記第1の基板に対応する領域を除いた領域の少なくとも一部に形成された、上記記載の光学素子と、を備えていることを特徴とする。
【0032】
この構成によれば、液晶装置用マザー基板は、第3の基板上の第1の基板に対応する領域を除いた領域の少なくとも一部に形成された光学素子を備えている。これらの光学素子の複数の突起体は保護壁により保護されているので、光学素子が第3の基板上の第1の基板に対応する領域を除いた領域に孤立して設けられていても、液晶装置の製造工程において複数の突起体が損傷を受けるリスクが低減される。
【0033】
[適用例15]本適用例に係る電子機器は、上記記載の液晶装置を備えたことを特徴とする。
【0034】
この構成によれば、薄型で優れた表示品質を有する電子機器を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0035】
以下に、本実施形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の層厚や寸法の比率は適宜異ならせてある。また、参照する各図面において、素子、配線、接続部等を省略してある。
【0036】
(第1の実施形態)
<光学素子>
まず、第1の実施形態に係る光学素子の構成について図を参照して説明する。図1は、第1の実施形態に係る光学素子を模式的に示す斜視図である。
【0037】
図1に示すように、本実施形態に係る光学素子20は、複数の突起体22と、保護壁24と、を備えたワイヤグリッド偏光素子である。光学素子20は、下地21上に配置されている。下地21は、例えば基板であるが、基板を覆う表面層であってもよい。複数の突起体22のそれぞれは、直線状の形状を有しており、下地21上に互いにほぼ平行に配置されている。突起体22は、光反射性の高い導体からなり、例えばアルミニウムからなる。突起体22の材料は、APC(銀−パラジウム−銅の合金)であってもよい。
【0038】
複数の突起体22は所定のピッチで配置されている。複数の突起体22のピッチは、入射する光の波長よりも小さく設定されており、例えば140nmである。突起体22の高さは、例えば100nmである。突起体22の幅は、例えば70nmである。保護壁24は、複数の突起体22の周囲を囲むように設けられている。保護壁24と複数の突起体22とは一体で形成されている。保護壁24の高さは、例えば100nmである。保護壁24の幅は、例えば4〜10μmである。保護壁24は、突起体22と同じ材料で形成されている。
【0039】
光学素子20は、下地21上に突起体22および保護壁24の材料を、例えばスパッタリング法により配置した後、例えばフォトリソグラフィ法によりエッチングを行うことで形成できる。光学素子20は、入射光を偏光状態の異なる反射光と透過光とに分離する機能を備えている。光学素子20は、入射する光のうち、突起体22の延在方向に平行な偏光成分を反射し、突起体22の延在方向に対して直交する偏光成分を透過する。
【0040】
第1の実施形態の構成によれば、複数の突起体22の周囲が保護壁24で囲まれており、複数の突起体22の延在方向の両端面が露出しない。このため、複数の突起体22の両端部が保護されるとともに、複数の突起体22の最も外側に位置する突起体22のそれぞれの外側部が保護される。さらに、保護壁24と複数の突起体22とが一体であるので、複数の突起体22の構造的強度が高められる。これにより、複数の突起体22が損傷を受けるリスクが低減されるので、優れた光学特性を有する光学素子20を提供できる。また、保護壁24と複数の突起体22とが一体でありかつ同じ材料からなるので、保護壁24と複数の突起体22とを同じ工程において同じマスクを用いて形成することができる。
【0041】
<液晶装置>
次に、第1の実施形態に係る液晶装置の構成について図を参照して説明する。図2は、第1の実施形態に係る液晶装置の表示領域の一部を示す平面図である。図3は、第1の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図である。詳しくは、図2のA−A’線に沿った断面図である。本実施形態に係る液晶装置100は、FFS(Fringe-Field Switching)方式の半透過反射型の液晶装置である。
【0042】
図2に示すように、液晶装置100の表示領域には、赤、緑、青の表示に寄与する画素34R,34G,34B(以下では、対応する色について区別しない場合には単に画素34とも呼ぶ)が複数配置されている。画素34は、液晶装置100の表示の最小単位であり、隣り合う画素同士の間に間隔が空くように、X軸およびY軸に沿ってマトリクス状に配置されている。ここで、X軸は画素34の行方向を示し、Y軸は画素34の列方向を示している。
【0043】
それぞれの画素34は、反射表示に寄与する反射表示領域Rと、透過表示に寄与する透過表示領域Tと、を有している。X軸に沿った方向には反射表示領域R同士または透過表示領域T同士が対向するように隣接し、Y軸に沿った方向には反射表示領域Rと透過表示領域Tとが互いに対向するように隣接している。画素34R,34G,34Bから画素群35が構成されている。液晶装置100では、画素群35において画素34R,34G,34Bのそれぞれの表示の輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。
【0044】
図3に示すように、液晶装置100は、第1の基板11と光学素子20とを含む素子基板10と、第2の基板31を含む対向基板30と、液晶層40と、を備えている。
【0045】
素子基板10は、第1の基板11と、第1の絶縁層12と、光学素子20と、共通電極14と、第2の絶縁層15と、画素電極16と、を備えている。第1の基板11は、透明な材料からなり、例えばガラスからなる。第1の絶縁層12は、第1の基板11の液晶層40側を覆うように形成されている。この第1の絶縁層12が、液晶装置100における光学素子20の下地である。反射表示領域Rに位置する第1の絶縁層12には、図示しないが、外光を散乱させるための凹凸形状が形成されている。光学素子20は、第1の絶縁層12上のうち反射表示領域Rに形成されている。
【0046】
共通電極14は、反射表示領域Rと透過表示領域Tとに亘って形成されており、反射表示領域Rにおいては光学素子20上に形成され、透過表示領域Tにおいては第1の絶縁層12上に形成されている。共通電極14は、例えばITO(Indium Tin Oxide)からなる。共通電極14上には、その上面を覆うように第2の絶縁層15が形成されている。さらに、第2の絶縁層15上には、複数のスリット状の開口部16aを有する画素電極16が形成されている。画素電極16は、例えばITOからなる。
【0047】
図2に示すように、画素電極16は、それぞれの画素34の全体に亘って配置されており、より詳しくは反射表示領域Rと透過表示領域Tとにまたがって配置されている。複数の画素電極16は、マトリクス状に配置されている。なお、図2では、画素電極16の開口部16aを省略している。
【0048】
ここで、光学素子20は、それぞれの画素34に配置されている。より詳しくは、光学素子20の複数の突起体22は、それぞれの画素34の反射表示領域Rに配置されている。そして、保護壁24はそれぞれの画素34の反射表示領域Rの周囲、すなわち隣り合う画素34の反射表示領域Rの間と、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界と、に配置されている。
【0049】
保護壁24が隣り合う画素34の反射表示領域Rの間に配置されているので、反射表示領域Rにおいて隣り合う画素34同士の間から漏れる光を保護壁24で遮光できる。これにより、複数の画素34の間の光の混入を防止し、液晶装置100の反射表示領域Rのコントラストを向上できる。また、保護壁24が反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界に配置されているので、反射表示領域Rから透過表示領域Tに漏れる光を保護壁24で遮光できる。これにより、液晶装置100の透過表示領域Tのコントラストを向上できる。
【0050】
画素電極16は、後述するカラーフィルタ層32(図3参照)の赤、緑、青の3色のいずれかに対応している。これらの3色のそれぞれと対応する3つの画素電極16との組み合わせにより、3色の画素34R,34G,34Bがそれぞれ構成される。
【0051】
図3に示すように、素子基板10の液晶層40とは反対側には、第1の偏光板18が配置されている。なお、素子基板10には、図示しないが、液晶層40を駆動するための素子、配線パターン、接続部等が設けられている。
【0052】
対向基板30は、液晶装置100の観察側に位置している。対向基板30は、第2の基板31と、カラーフィルタ層32と、カラーフィルタ保護層36と、を備えている。第2の基板31は、透明な材料からなり、例えばガラスからなる。カラーフィルタ層32とカラーフィルタ保護層36とは、第2の基板31の液晶層40側に順に積層されている。カラーフィルタ層32は、赤、緑、青の3色の色要素を含んでいる。対向基板30の液晶層40とは反対側、すなわち観察側には、第2の偏光板38が配置されている。
【0053】
液晶層40は、素子基板10と対向基板30との間に位置している。素子基板10の液晶層40側には、第2の絶縁層15と画素電極16とを覆うように、第1の配向膜42が形成されている。また、対向基板30の液晶層40側には、カラーフィルタ保護層36を覆うように第2の配向膜44が形成されている。液晶層40は、第1の配向膜42と第2の配向膜44とに施された配向処理によって配向方向が規制されており、ホモジニアス配向している。また、液晶層40は、入射される可視光の波長に対して1/2波長分の位相差を付与する。
【0054】
<液晶装置の表示原理>
次に、液晶装置100の光学的軸配置を説明する。図4は、液晶装置100の光学的軸配置を説明する図である。図4(a)に、第2の偏光板38の透過軸38aを示す。図4(b)に、液晶層40の配向方向を示す。液晶層40の配向方向40aは透過軸38aに平行であり、電圧が印加された状態での液晶層40の配向方向40bは透過軸38aに対し例えば45°となる。
【0055】
ここで、本実施形態では、光学素子20の突起体22の延在方向は透過軸38aに対して直交している。したがって、光学素子20は、透過軸38aに平行な偏光成分を透過し、透過軸38aに対して直交する偏光成分を反射する。図4(c)に、光学素子20が透過する偏光成分の方向を透過軸20aとして示す。図4(d)に、第1の偏光板18の透過軸18aを示す。透過軸18aは透過軸38aに対して直交している。
【0056】
次に、液晶装置100の表示原理を説明する。本実施形態では、液晶装置100は、液晶層40に電圧が印加されない状態が暗表示となる「ノーマリーブラック」型である。したがって、暗表示を行う場合は、液晶層40に電圧が印加されない状態とする。
【0057】
反射表示領域Rにおいては、第2の偏光板38の上方から入射した光は、透過軸38aに平行な直線偏光となり液晶層40に入射する。ここで、液晶層40に入射した直線偏光は、その偏光軸が液晶層40の配向方向40aと平行であるので、位相差を与えられずそのままの状態で液晶層40を通過し、光学素子20に入射する。この透過軸38aに平行な直線偏光は、光学素子20を透過した後、第1の偏光板18に吸収されて第2の偏光板38側(観察側)へ戻らないため、暗表示となる。
【0058】
一方、透過表示領域Tにおいては、第1の偏光板18の下方から入射した光は、透過軸18aに平行な直線偏光となり、液晶層40に入射する。ここで、液晶層40に入射した直線偏光は、その偏光軸が液晶層40の配向方向40aに対して直交しているので、位相差を与えられずそのままの状態で液晶層40を通過し、第2の偏光板38に入射する。この透過軸18aに平行な直線偏光は、第2の偏光板38に吸収されて第2の偏光板38の上方(観察側)へ届かないため、暗表示となる。
【0059】
次に、明表示を行う場合は、液晶層40に電圧が印加された状態とする。電圧が印加された状態において、液晶層40の配向方向40bは第2の偏光板38の透過軸38aに対し例えば45°となる。
【0060】
反射表示領域Rにおいては、第2の偏光板38の上方から入射した光は、透過軸38aに平行な直線偏光となり液晶層40に入射する。液晶層40に入射した直線偏光は、液晶層40を通過する際に1/2波長分の位相差を付与されて、透過軸38aに対して直交する直線偏光となり、光学素子20に入射する。この直線偏光は透過軸20aに対しても直交するため、光学素子20によって反射され、再び液晶層40に入射する。再び液晶層40を通過した直線偏光は、液晶層40によって1/2波長分の位相差を付与されて、透過軸38aに平行な直線偏光になり、第2の偏光板38を透過して第2の偏光板38の上方(観察側)へ届くため、明表示となる。
【0061】
一方、透過表示領域Tにおいては、第1の偏光板18の下方から入射した光は、透過軸18aに平行な直線偏光となり、液晶層40に入射する。液晶層40に入射した直線偏光は、液晶層40を通過する際に1/2波長分の位相差を付与されて、透過軸18aに対して直交する直線偏光となり、第2の偏光板38に入射する。この直線偏光は透過軸38aに平行であるので、第2の偏光板38を透過して第2の偏光板38の上方(観察側)へ届くため、明表示となる。
【0062】
上記第1の実施形態の構成によれば、入射光を偏光状態の異なる反射光と透過光とに分離する機能を備え、優れた光学特性を有する光学素子20を液晶セル内の反射表示領域Rに備えているので、薄型で優れた表示品質を有する半透過反射型の液晶装置100を提供できる。また、液晶装置100の製造工程において、光学素子20の複数の突起体22が損傷を受けるリスクが低減されるので、欠損した突起体22の破片が製造工程のプロセス中で浮遊し、液晶装置100の他の部分に付着することにより発生する二次的損傷を防止できる。これにより、液晶装置100の歩留りを向上できる。
【0063】
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態に係る光学素子の構成について図を参照して説明する。図5は、第2の実施形態に係る光学素子を模式的に示す斜視図である。
【0064】
第2の実施形態に係る光学素子50は、第1の実施形態に係る光学素子20に対して、複数の突起体と保護壁とが別々に形成されている点と、保護壁が複数の突起体と異なる材料で形成されている点とが異なっているが、その他の点は同じである。
【0065】
図5に示すように、光学素子50は、複数の突起体22と保護壁54とを備えている。複数の突起体22と保護壁54とは別々に形成されている。保護壁54は、複数の突起体22の周囲を囲むように形成されている。保護壁54は、複数の突起体22の延在方向の両端部22a,22bに接していてもよい。保護壁54は、複数の突起体22の材料とは異なる材料で形成されている。保護壁54は、遮光性を有する材料、例えば黒色の樹脂材料で形成されている。
【0066】
第2の実施形態の構成によれば、複数の突起体22と保護壁54とが別々に形成されていても、複数の突起体22の周囲が保護壁54により保護される。さらに、保護壁54が複数の突起体22の延在方向の両端部22a,22bに接していると、複数の突起体22の延在方向の両端部22a,22bが保護壁54に接して固定されるので、外力に対して安定する。これにより、複数の突起体22が損傷を受けるリスクを低減できる。また、保護壁54が遮光性を有する材料で形成されているので、複数の突起体22の周囲に入射する不要な光を遮光層と同等に遮光できる。なお、保護壁54の材料は、Cr,Mo,W等の金属薄膜であってもよいし、透明な樹脂材料であってもよい。
【0067】
(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態に係る液晶装置の構成について図を参照して説明する。図6は、第3の実施形態に係る液晶装置の画素領域を示す平面図である。なお、第1の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【0068】
第3の実施形態に係る液晶装置200は、第1の実施形態に係る液晶装置100に対して、光学素子20の代わりに光学素子60を備えている点が異なっているが、その他の点は同じである。光学素子60は、第1の実施形態に係る光学素子20に対して、保護壁64の形状が異なっているが、その他の点は同じである。
【0069】
図6に示すように、光学素子60は、複数の突起体22と、保護壁64と、を備えている。保護壁64は、図のX軸に沿った方向およびY軸に沿った方向における隣り合う画素34同士の間と、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの間と、に配置されている。
【0070】
第3の実施形態の構成によれば、保護壁64が隣り合う画素34同士の間に配置されているので、隣り合う画素34同士の間の光の混入を防止できる。これにより、液晶装置200の反射表示領域Rと透過表示領域Tとのコントラストを向上できる。また、保護壁64が反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界に配置されているので、反射表示領域Rから透過表示領域Tに漏れる光を保護壁64で遮光できる。これにより、液晶装置200の透過表示領域Tのコントラストをより向上できる。
【0071】
なお、光学素子60に、第2の実施形態に係る光学素子50と同様に、保護壁が遮光性を有する材料で複数の突起体と別々に形成される構成を適用してもよい。これによれば、液晶装置200において、隣り合う画素34同士の間と、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの間と、を遮光層と同等に遮光できる。
【0072】
(第4の実施形態)
次に、第4の実施形態に係る光学素子の構成について図を参照して説明する。図7は、第4の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す平面図である。なお、第1の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【0073】
第4の実施形態に係る液晶装置300は、第1の実施形態に係る液晶装置100に対して、光学素子20の代わりに光学素子70を備えている点が異なっているが、その他の点は同じである。
【0074】
図7に示すように、光学素子70は、複数の突起体群72と、保護壁74と、を備えている。複数の突起体群72のそれぞれは、第1の実施形態の光学素子20における複数の突起体22と同様の構成を有する複数の互いにほぼ平行な直線状の突起体で構成される。
【0075】
液晶装置300は、表示領域300a内に複数の画素34(図2参照)を有している。表示領域300aは、液晶装置300において実質的に表示に寄与する領域である。複数の突起体群72は、表示領域300a内に配置されている。突起体群72のそれぞれは、複数の画素34の反射表示領域Rに重なるように配置されている。複数の画素34は、図7のX軸に沿った方向に反射表示領域R同士が並び、図7のY軸に沿った方向には反射表示領域Rと透過表示領域Tとが互いに対向するように配列されているので、複数の突起体群72は、図7のX軸に沿った方向すなわち反射表示領域R同士が隣接する方向を延在方向として、ストライプ状に配置されている。
【0076】
保護壁74は、表示領域300aの周囲に、複数の突起体群72を囲むように配置されている。なお、表示領域300aの周囲の保護壁74が配置される領域は、対向基板30の外周部に重なる部分である。保護壁74は、例えば複数の突起体群72と一体で形成されている。保護壁74は、複数の突起体群72と異なる材料で、それぞれ別々に形成されていてもよい。この構成によれば、保護壁74は液晶装置300の実質的に表示に寄与する領域の周囲に配置されるので、保護壁74の形状,材料等における制約が緩和される。これにより、保護壁74を容易に形成できる。また、保護壁74を遮光性を有する材料で形成すれば、保護壁74により表示領域300aの周囲を遮光層と同等に遮光する効果が得られる。
【0077】
なお、素子基板10は、対向基板30より大きく、一部が対向基板30よりも張り出した状態で配置されている。この張り出し部分10aには、液晶層40(図示しない)を駆動するためのドライバIC76が実装されている。
【0078】
(第5の実施形態)
次に、第5の実施形態に係る液晶装置用マザー基板の構成について図を参照して説明する。図8は、第5の実施形態に係る液晶装置用マザー基板の概略構成を示す平面図である。第5の実施形態に係る液晶装置用マザー基板は、液晶装置の製造に用いる基板であり、素子基板が複数枚取りできる大型の基板である。
【0079】
液晶装置用マザー基板8は、例えば、第1の実施形態の液晶装置100の製造に用いる基板である。より詳細には、液晶装置用マザー基板8は、第1の実施形態の素子基板10の製造に用いる基板である。図8に示すように、液晶装置用マザー基板8は、第1の実施形態の第1の基板11を包含する第3の基板10bと、第3の基板10b上に形成された工程検査用光学素子80と、を備えている。
【0080】
第3の基板10bは、複数の第1の基板11を包含している。素子基板10の製造工程においては、第3の基板10bが包含する複数の第1の基板11のそれぞれに素子基板10の備える各構成要素が形成されるまで、液晶装置用マザー基板8の状態で加工が行われる。そして、最終的に液晶装置用マザー基板8を切断して個片化することにより、複数の素子基板10が得られる。
【0081】
工程検査用光学素子80は、第3の基板10b上のうち、第1の基板11に対応する領域を除いた領域の少なくとも一部に形成されている。工程検査用光学素子80は、複数の突起体82と保護壁84とを有している。工程検査用光学素子80は、素子基板10の製造工程において、液晶装置100の備える光学素子20の代用として検査するためのものである。したがって、工程検査用光学素子80は、第1の実施形態の光学素子20と同様の構成を有している。より詳細には、複数の突起体82は第1の実施形態の複数の突起体22と同様であり、保護壁84は第1の実施形態の保護壁24と同様である。
【0082】
この構成によれば、工程検査用光学素子80は複数の突起体82と保護壁84とを有しているので、第3の基板10b上のうち第1の基板11に対応する領域を除いた領域に工程検査用光学素子80が孤立して設けられていても、複数の突起体82は保護壁84により保護される。これにより、工程検査用光学素子80の複数の突起体82が損傷を受けるリスクが低減されるので、液晶装置100の製造工程において、液晶装置100の備える光学素子20の代用検査をより支障なく行うことができる。
【0083】
なお、液晶装置用マザー基板8は、第3の実施形態の液晶装置200または第4の実施形態の液晶装置300に用いる素子基板が複数枚取りできる基板であってもよい。また、工程検査用光学素子80は、それぞれの素子基板の備える光学素子に対応して、第2の実施形態の光学素子50、第3の実施形態の光学素子60、または第4の実施形態の光学素子70と同様の構成を有していてもよい。
【0084】
(電子機器)
上述した液晶装置100,200,300は、例えば、図9(a)に示すように、電子機器としての携帯電話機500に搭載して用いることができる。電子機器は、図9(b)に示すように、電子ビューファインダ510であってもよい。携帯電話機500、電子ビューファインダ510は、それぞれの表示部502,512に液晶装置100,200,300を備えている。この構成により、表示部502を有する携帯電話機500および表示部512を有する電子ビューファインダ510は優れた表示品質を有している。
【0085】
また、電子機器は、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、オーディオ機器、液晶プロジェクタであってもよい。
【0086】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【0087】
(変形例1)
図10は、光学素子の変形例を説明する図である。突起体92の少なくとも一端部に保護壁を設ければ、突起体92が損傷を受けるリスクを低減できる。したがって、以上の実施形態の光学素子20,50,60,70および工程検査用光学素子80では、保護壁が複数の突起体を囲むように配置されていたが、この形態に限定されない。例えば、保護壁は個々の突起体92の一端部92aに配置されてもよいし、複数の突起体92の一端部92aに亘って配置されていてもよいし、両端部92a,92bに設けてもよい。
【0088】
図10に示すように、光学素子90は、複数の突起体92と保護壁94とを備えている。保護壁94は、複数の突起体92の両端部に、複数の突起体92に亘って形成されている。保護壁94は、複数の突起体92の端部92aおよび/または端部92bに接していてもよい。このような構成でも、複数の突起体92の両端部92a,92bが保護壁94により保護されるので、複数の突起体92が損傷を受けるリスクを低減できる。
【0089】
(変形例2)
以上の実施形態の液晶装置100,200,300は、半透過反射型の液晶装置であったが、この形態に限定されない。液晶装置は、反射型の液晶装置であってもよい。図11は、反射型の液晶装置の画素領域を示す平面図である。なお、第1の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
【0090】
図11に示すように、液晶装置400は反射型の液晶装置である。複数の画素34のそれぞれは、全体が反射表示領域Rとなっている。したがって、光学素子20の複数の突起体22は画素34のそれぞれの領域全体に配置されており、保護壁24は図11のX軸に沿った方向およびY軸に沿った方向における隣り合う画素34同士の間に配置されている。この構成によれば、薄型で優れた表示品質を有する反射型液晶装置を提供できる。
【0091】
(変形例3)
以上の実施形態の液晶装置は、FFS方式の半透過反射型の液晶装置であったが、この形態に限定されない。液晶装置は、例えば、IPS(In-Plane Switching)方式の液晶装置、ECB(Electrically Controlled Birefringence)方式の液晶装置、VA(Vertical Alignment)方式の液晶装置であってもよい。また、液晶装置は、反射型の液晶装置であってもよい。
【0092】
なお、以上の実施形態において説明されていない構成要素の材料および加工方法は、公知の技術を適用すればよい。
【図面の簡単な説明】
【0093】
【図1】第1の実施形態に係る光学素子を模式的に示す斜視図。
【図2】第1の実施形態に係る液晶装置の表示領域の一部を示す平面図。
【図3】第1の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図。
【図4】液晶装置の光学的軸配置を説明する図。
【図5】第2の実施形態に係る光学素子を模式的に示す斜視図。
【図6】第3の実施形態に係る液晶装置の画素領域を示す平面図。
【図7】第4の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す平面図。
【図8】第5の実施形態に係る液晶装置用マザー基板の概略構成を示す平面図。
【図9】本実施の形態における電子機器を示す図。
【図10】光学素子の変形例を説明する図。
【図11】反射型の液晶装置の画素領域を示す平面図。
【符号の説明】
【0094】
8…液晶装置用マザー基板、10…素子基板、10a…張り出し部分、10b…第3の基板、11…第1の基板、12…第1の絶縁層、14…共通電極、15…第2の絶縁層、16…画素電極、16a…開口部、18…第1の偏光板、18a…透過軸、20…光学素子、20a…透過軸、21…下地、22…突起体、22a,22b…端部、24…保護壁、30…対向基板、31…第2の基板、32…カラーフィルタ層、34R,34G,34B…画素、35…画素群、36…カラーフィルタ保護層、38…第2の偏光板、38a…透過軸、40…液晶層、40a…配向方向、40b…配向方向、42…第1の配向膜、44…第2の配向膜、50…光学素子、54…保護壁、60…光学素子、64…保護壁、70…光学素子、72…突起体群、74…保護壁、76…ドライバIC、80…工程検査用光学素子、82…突起体、84…保護壁、90…光学素子、92…突起体、92a,92b…端部、94…保護壁、100…液晶装置、200…液晶装置、300…液晶装置、300a…表示領域、400…液晶装置、500…携帯電話機、502…表示部、510…電子ビューファインダ、512…表示部、R…反射表示領域、T…透過表示領域。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
偏光分離機能を備えた光学素子であって、
導体からなる複数の互いにほぼ平行な直線状の突起体と、
前記突起体の端部に設けられた保護壁と、
を備えていることを特徴とする光学素子。
【請求項2】
請求項1に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体の端部に亘って設けられていることを特徴とする光学素子。
【請求項3】
請求項2に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体の周囲を囲むように設けられていることを特徴とする光学素子。
【請求項4】
請求項1から3のいずれか1項に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体の両端に接していることを特徴とする光学素子。
【請求項5】
請求項1から4のいずれか1項に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体と同じ材料で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項6】
請求項5に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体と一体で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項7】
請求項1から4のいずれか1項に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体の材料とは異なる材料で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項8】
請求項1から7のいずれか1項に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、遮光性を有する材料で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項9】
表示領域内に複数の画素を有する液晶装置であって、
第1の基板と、
前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に位置する液晶層と、
前記第1の基板の前記液晶層側に前記画素ごとに配置された、請求項1から8のいずれか1項に記載の光学素子と、
を備えていることを特徴とする液晶装置。
【請求項10】
請求項9に記載の液晶装置であって、
前記複数の画素のそれぞれは、透過表示領域と反射表示領域とを有しており、
前記光学素子は、前記反射表示領域に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項11】
請求項10に記載の液晶装置であって、
前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、少なくとも前記反射表示領域の周囲に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項12】
請求項9から11のいずれか1項に記載の液晶装置であって、
前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、前記複数の画素の間に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項13】
表示領域内に複数の画素を有する液晶装置であって、
第1の基板と、
前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に位置する液晶層と、
前記第1の基板の前記液晶層側に配置された、請求項1から8のいずれか1項に記載の光学素子と、を備え、
前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、前記表示領域の周囲に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項14】
第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、を有する液晶装置の製造に用いる液晶装置用マザー基板であって、
複数の前記第1の基板を包含する第3の基板と、
前記第3の基板上のうち、前記第1の基板に対応する領域を除いた領域の少なくとも一部に形成された、請求項1から8のいずれか1項に記載の光学素子と、
を備えていることを特徴とする液晶装置用マザー基板。
【請求項15】
請求項9から13のいずれか1項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項1】
偏光分離機能を備えた光学素子であって、
導体からなる複数の互いにほぼ平行な直線状の突起体と、
前記突起体の端部に設けられた保護壁と、
を備えていることを特徴とする光学素子。
【請求項2】
請求項1に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体の端部に亘って設けられていることを特徴とする光学素子。
【請求項3】
請求項2に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体の周囲を囲むように設けられていることを特徴とする光学素子。
【請求項4】
請求項1から3のいずれか1項に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体の両端に接していることを特徴とする光学素子。
【請求項5】
請求項1から4のいずれか1項に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体と同じ材料で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項6】
請求項5に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体と一体で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項7】
請求項1から4のいずれか1項に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、前記複数の突起体の材料とは異なる材料で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項8】
請求項1から7のいずれか1項に記載の光学素子であって、
前記保護壁は、遮光性を有する材料で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項9】
表示領域内に複数の画素を有する液晶装置であって、
第1の基板と、
前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に位置する液晶層と、
前記第1の基板の前記液晶層側に前記画素ごとに配置された、請求項1から8のいずれか1項に記載の光学素子と、
を備えていることを特徴とする液晶装置。
【請求項10】
請求項9に記載の液晶装置であって、
前記複数の画素のそれぞれは、透過表示領域と反射表示領域とを有しており、
前記光学素子は、前記反射表示領域に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項11】
請求項10に記載の液晶装置であって、
前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、少なくとも前記反射表示領域の周囲に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項12】
請求項9から11のいずれか1項に記載の液晶装置であって、
前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、前記複数の画素の間に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項13】
表示領域内に複数の画素を有する液晶装置であって、
第1の基板と、
前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に位置する液晶層と、
前記第1の基板の前記液晶層側に配置された、請求項1から8のいずれか1項に記載の光学素子と、を備え、
前記光学素子の複数の突起体と保護壁とのうち前記保護壁は、前記表示領域の周囲に配置されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項14】
第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、を有する液晶装置の製造に用いる液晶装置用マザー基板であって、
複数の前記第1の基板を包含する第3の基板と、
前記第3の基板上のうち、前記第1の基板に対応する領域を除いた領域の少なくとも一部に形成された、請求項1から8のいずれか1項に記載の光学素子と、
を備えていることを特徴とする液晶装置用マザー基板。
【請求項15】
請求項9から13のいずれか1項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【公開番号】特開2009−31538(P2009−31538A)
【公開日】平成21年2月12日(2009.2.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−195515(P2007−195515)
【出願日】平成19年7月27日(2007.7.27)
【出願人】(000002369)セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成21年2月12日(2009.2.12)
【国際特許分類】
【出願日】平成19年7月27日(2007.7.27)
【出願人】(000002369)セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Fターム(参考)】
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