半田メッキ線の製造方法及び製造装置
【課題】０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線を得ることができ、このようなメッキ線を安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる半田メッキ線の製造方法及び製造装置の提供を目的とする。
【解決手段】メッキ前処理手段と、銅線１ａの表面に半田メッキを施すメッキ手段６１と、表面にメッキを施した銅線１ａ，１ｂを巻取る巻取り手段７１とを、銅線１ａ，１ｂの走行方向の上流側からこの順に一連配置し、前記メッキ前処理手段に備えた軟化焼鈍手段５１により銅線１ａを低耐力化し、低耐力化した銅線１ａ，１ｂを、該銅線１ａ，１ｂの耐力よりも低い巻取り力で巻取り手段７１により巻取る構成とし、前記巻取り手段７１による銅線１ａ，１ｂの巻取りを補助する銅線送り補助手段９１，９２，６４を、前記巻取り手段７１よりも銅線走行方向の上流側に備えた。
【解決手段】メッキ前処理手段と、銅線１ａの表面に半田メッキを施すメッキ手段６１と、表面にメッキを施した銅線１ａ，１ｂを巻取る巻取り手段７１とを、銅線１ａ，１ｂの走行方向の上流側からこの順に一連配置し、前記メッキ前処理手段に備えた軟化焼鈍手段５１により銅線１ａを低耐力化し、低耐力化した銅線１ａ，１ｂを、該銅線１ａ，１ｂの耐力よりも低い巻取り力で巻取り手段７１により巻取る構成とし、前記巻取り手段７１による銅線１ａ，１ｂの巻取りを補助する銅線送り補助手段９１，９２，６４を、前記巻取り手段７１よりも銅線走行方向の上流側に備えた。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電気電子機器や通信機器に用いられる半田メッキ線の製造方法及び製造装置に関し、詳しくは、太陽電池のリード線として用いるのに好適な低耐力特性を有する半田メッキ線の製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品に用いられるメッキ線の中には、０．２％耐力値が低いという低耐力特性であることが要求されるものがある。例えば、太陽電池用リード線もその１つである。
【０００３】
太陽電池セルは、該太陽電池セルを構成するシリコン材料のコストダウンを図るためや材料供給不足の影響を緩和するため、薄型化が求められている。
しかし、太陽電池セルが薄型化すると強度が弱くなり、太陽電池セルにおける太陽電池用リード線を半田接続した接続部分は、互いの膨張率の違いにより太陽電池セルに反りや破損が発生し易くなるという問題があった。
【０００４】
よって、太陽電池用リード線は、太陽電池セルとの接続部分が太陽電池セルの変形に追従する必要があり、０．２％耐力値を低下させることが重要となる。このことから、太陽電池用リード線としては、低耐力特性を有する半田メッキ線が用いられる。
【０００５】
このような半田メッキ線は、低耐力特性を有しているか否かに関わらず特許文献１に開示するような半田メッキ工程を経て被メッキ線に対してメッキ層を形成して成る。
【０００６】
特許文献１に開示の半田メッキ工程は、被メッキ線としての金属素線を、金属素線導入口を通じて溶融半田メッキ液の入ったメッキ液部に導入し、半田メッキ線導出口から導出させ、大気冷却するなどして金属素線にメッキを施す工程である。
【０００７】
さらに、半田メッキ線の製造工程においては、上述した半田メッキ工程以外にも、金属素線の表面に対して洗浄や焼鈍などの半田メッキ前処理工程を施したり、半田メッキ工程の後工程では、メッキ線を巻取る巻取り工程が行われる。
【０００８】
そして、このような工程を低耐力化した被メッキ線に対して連続して行おうとした場合には、被メッキ線に負荷がかかり易くなるため、連続加工することが困難になり、連続加工することができたとしても所望の品質のメッキ線を安定して得ることが困難であった。
【０００９】
例えば、低耐力化した被メッキ線にかかる負荷を抑制することに重点を置くあまり、被メッキ線の表面を十分に洗浄することができず、表面に不純物や酸化層が残留することがあった。
【００１０】
そうすると、その後の半田メッキ工程で被メッキ線の表面にメッキ層を形成する際に、メッキ層が剥離し易くなるなど所望の品質のメッキ線を安定して得ることが困難であった。
【００１１】
その他にも、メッキ線の製造途中に、メッキ線（被メッキ線）の耐力が低いために、メッキ線の走行速度を上げることができず、製造時間が大幅にかかり、連続して行おうとすると、かえって製造効率が低下する場合も生じるという難点を有していた。
【００１２】
低耐力特性を有する半田メッキ線の製造方法としては、例えば、特許文献２において太陽電池用平角導体の製造方法が提案されている。
特許文献２における太陽電池用平角導体の製造方法は、導体を圧延などの工程により平角状に成形した後、熱処理工程により０．２％耐力を低減することや、導体の表面に半田メッキ膜を施す製造方法である。
【００１３】
しかし、引用文献２には、熱処理を行う上での温度設定や、軟化焼鈍炉の内部の雰囲気ガスの成分といった具体的な記載や、例えば、洗浄工程といった熱処理工程以外の工程についての具体的な言及がされていない。このため、仮に、洗浄工程を行うにしても、これら熱処理工程、洗浄工程、或いは、メッキ工程といった各工程を独立した生産ラインで行うか否かといった点や、仮に、これら複数の工程を連続して行うにしても、如何なる工程順で行うかについて定かではない。
【００１４】
すなわち、引用文献２は、上述したように、平角導体の０．２％耐力を低減したことに伴い太陽電池のリード線としての品質を確保することが困難となる一方で、０．２％耐力値を低減したメッキ線の品質を確保するために製造効率が低下するという２つの相反する製造上の課題について何ら着目されていないといわざるを得ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開２０００−８０４６０号公報
【特許文献２】特開２００６−５４３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
そこで本発明は、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線を得ることができ、このようなメッキ線を安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる半田メッキ線の製造方法及び製造装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
この発明は、銅線に対してメッキ前処理を行うメッキ前処理手段と、銅線の表面に半田メッキを施すメッキ手段と、表面にメッキを施した銅線を巻取る巻取り手段とで構成される半田メッキ線の製造装置であって、前記銅線を、純銅系材料で形成し、前記メッキ前処理手段に、銅線を軟化焼鈍して低耐力化する軟化焼鈍手段を備え、低耐力化した前記銅線を、該銅線の耐力よりも低い巻取り力で前記巻取り手段により巻取る構成とし、前記軟化焼鈍手段、前記メッキ手段、及び、前記巻取り手段を、銅線の走行方向の上流側からこの順に一連配置し、前記巻取り手段による銅線の巻取りを補助する銅線送り補助手段を、前記巻取り手段よりも銅線走行方向の上流側に備えたことを特徴とする。
【００１８】
ここで、上述した銅線の耐力よりも低い巻取り力で前記巻取り手段により巻取る構成とは、銅線を前記巻取り手段のみで巻取る構成に限定せず、例えば、該巻取り手段による巻取りを補助する送りキャプスタンを巻取り手段よりも上流側に配置し、前記巻取り手段と該送りキャプスタンとで銅線を巻取る構成も含むものとする。
【００１９】
また、前記一連配置したとは、走行方向の上流側から下流側に沿って連続的か断続的かに関わらず連なって、いわゆるタンデムで配置したことを示す。
【００２０】
前記純銅系材料とは、不純物が少なく、導電率が高い純銅系導体材料であれば特に限定せず、例えば、無酸素銅（ＯＦＣ）、タフピッチ銅、リン脱酸銅といった酸化物などの不純物を含まない純度が９９．９％以上であることが好ましい。
【００２１】
前記銅線は、形状、サイズは限定しないが、平角線であることが好ましい。前記銅線を、上述した純銅系導体材料により平角線で形成することにより、表面にメッキ処理を施すことで、シリコン結晶ウェハ（Ｓｉセル）の所定領域に接続する接続用リード線として、すなわち、太陽電池用はんだメッキ線として用いることができるためである。
【００２２】
前記銅線送り補助手段は、例えば、送りキャプスタンなど、モータなどの駆動手段による駆動力を、ローラー、ベルト、或いは、これら部材を組み合わせて構成した伝達手段により銅線へ伝達し、該銅線、すなわち、被メッキ線やメッキ線を送り補助することができる手段である。
【００２３】
この発明の態様として、前記銅線送り補助手段を、前記軟化焼鈍手段よりも銅線走行方向の上流側に配置することができる。
【００２４】
またこの発明の態様として前記銅線送り補助手段を、銅線走行方向における前記洗浄手段よりも銅線走行方向の下流側に配置することができる。
【００２５】
さらにまた、この発明の態様として前記メッキ手段を、溶融半田メッキ液が貯溜された溶融半田メッキ槽で構成し、銅線の走行方向を転換する方向転換ローラを、前記溶融半田メッキ槽の内部に備え、前記溶融半田メッキ槽を通過前と通過後とで銅線の走行方向を転換する槽中方向転換ローラで構成し、前記槽中方向転換ローラを前記銅線送り補助手段で構成することができる。
【００２６】
この発明は、銅線に対してメッキ前処理を行うメッキ前処理工程と、銅線の表面に半田メッキを施すメッキ工程と、表面にメッキを施した銅線を巻取る巻取り工程とを経て製造される半田メッキ線の製造方法であって、前記銅線には、純銅系材料で形成したものを用い、前記メッキ前処理工程では、銅線を軟化焼鈍して低耐力化する軟化焼鈍工程を行い、前記巻取り工程を、低耐力化した前記銅線の耐力よりも低い巻取り力で巻取る工程とし、前記巻取り工程の間、前記軟化焼鈍工程と前記メッキ工程とを連続して行い、前記巻取り工程を行う間、該巻取り工程で行う銅線の巻取りを補助する銅線送り補助工程を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２７】
この発明によれば、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線を得ることができ、このようなメッキ線を安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる半田メッキ線の製造方法及び製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本実施形態の半田メッキ線の製造装置の概略図。
【図２】本実施形態の軟化焼鈍炉の説明図。
【図３】本実施形態のボビントラバース方式巻取り機の説明図。
【図４】送りキャプスタン、及び槽中方向転換ローラの設置態様に応じたメッキ線の０．２％耐力値との関係を示すグラフ。
【図５】他の実施形態の半田メッキ線の製造装置の一部を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
この発明の一実施形態を、以下図面を用いて説明する。
本実施形態の半田メッキ線の製造装置１０は、図１に示すように、被メッキ線１ａに対してメッキ前処理を行うメッキ前処理手段２と、被メッキ線１ａの表面に半田メッキを施すメッキ手段６１と、表面にメッキを施したメッキ線１ｂを巻取る巻取り手段７１とで構成している。
【００３０】
被メッキ線１ａには、別途備えた平角線製造機（図示せず）により、無酸素銅（ＯＦＣ）を厚みが０．０５〜０．５ｍｍ、幅が０．８〜１０ｍｍに、より好ましくは、厚みが０．０８〜０．２４ｍｍ、幅が１〜２ｍｍ圧延した平角銅線を用いている。
【００３１】
前記メッキ前処理手段２は、主にサプライヤ１１、加熱処理炉２２、酸洗浄槽３１、超音波水洗浄槽４１、及び、軟化焼鈍炉５１で構成している。
【００３２】
サプライヤ１１は、ドラムに巻き回された状態の被メッキ線１ａをドラムが回転することで、順に解いていきながら製造ラインに供給している。サプライヤ１１は、必要に応じてダンサー機能付きの構成であってもよく、また、通常の横繰り出しで繰り出す構成であってもよい。
【００３３】
加熱処理炉２２は、後述する軟化焼鈍炉５１と略同様の構成であり、厚み方向に対して走行方向に長い直方体形状をした外観形状で構成している。加熱処理炉２２は、走行方向に沿って走行方向の下流側端部が上流側端部よりも低位置になるよう傾斜配置している。加熱処理炉２２の内部は、２００℃の設定温度の蒸気雰囲気としている。
【００３４】
また、加熱処理炉２２に対して走行方向の下流側には、加熱処理炉２２の内部を通過した被メッキ線１ａを冷却する冷却水槽２３を設置している。加熱処理炉２２の下流側端部と冷却水槽２３は、加熱処理炉２２から導出した被メッキ線１ａが空気に触れないよう冷却水槽２３まで案内する連結管２４で互いに連結されている。
【００３５】
酸洗浄槽３１は、被メッキ線１ａの表面を酸洗浄するリン酸系洗浄液３２を貯溜している。
【００３６】
超音波水洗浄槽４１では、被メッキ線１ａの表面に付着した水溶性潤滑剤やその他の不純物を、別途備えた超音波水洗浄機を用いて洗浄するための水４３を貯留している。超音波水洗浄槽４１の底面には、被メッキ線１ａの走行方向に沿って超音波水洗浄機４２の一部を構成する超音波振動板４２ａを配置している。なお、超音波水洗浄槽４１の上方には、被メッキ線１ａの走行する軌道上の側方から被メッキ線１ａに向けてエアを吹き付けるエアワイパ４５を設置している。
【００３７】
前記軟化焼鈍炉５１は、図２に示すように、走行方向の上流側端部よりも下流側端部が徐々に低位置になるよう傾斜配置している。前記軟化焼鈍炉５１は、加熱処理炉２２と同様に直方体形状で構成した軟化焼鈍炉本体５２と、該軟化焼鈍炉本体５２を貫通するように配置し、被メッキ線１ａの挿入を許容する内径を有するパイプ状の鞘管５３と、軟化焼鈍炉本体５２の内部を加熱するヒータ５４とで構成している。
【００３８】
鞘管５３は、軟化焼鈍炉本体５２の内部空間を走行方向に沿って配置され、軟化焼鈍炉本体５２の上端部、及び、下端部から軟化焼鈍炉本体５２に対して突出している。鞘管５３における軟化焼鈍炉本体５２の上端部から突出した鞘管上側突出部分５５の上端には、上端開口部５５ｕを形成している。
【００３９】
上端開口部５５ｕは、鞘管５３の内部へ被メッキ線１ａの導入を許容するとともに、後述するが、鞘管５３の内部に充填された還元ガスＧを排出する。鞘管５３における軟化焼鈍炉本体５２の下端部から突出した鞘管下側突出部分５６の下端には、下端開口部５５ｄを形成している。
【００４０】
下端開口部５５ｄは、被メッキ線の鞘管からの導出を許容する。鞘管下側突出部分５６は、連結管５５に直列に連結されている。さらに、鞘管下側突出部分５６の途中部分には、分岐部分を構成し、該分岐部分を鞘管５３の内部に還元ガスＧを供給する還元ガス供給部５７として構成している。
【００４１】
なお、還元ガス供給部５７には、図示しないが、圧力調節バルブ、圧力計などを備え、前記軟化焼鈍炉５１の内部の還元ガスＧの濃度に応じて、還元ガス供給部５７では、還元ガスＧの流入量を調節可能としている。
【００４２】
鞘管５３の内部は、還元ガス供給部５７から還元ガスＧを流入することで内部を還元ガス雰囲気としている。
【００４３】
ヒータ５４は、直線の棒状に構成したものを複数本備え、軟化焼鈍炉本体５２の内部空間において鞘管５３に対して上方側空間と下方側空間に配置している。ヒータ５４は、被メッキ線１ａの走行方向に対して直交方向、詳しくは、図２の紙面を正面視したとき図２の紙面に対して垂直な方向に相当する方向に設置し、複数本のヒータ５４は、上方側空間と下方側空間とのそれぞれにおいて、互いに走行方向に沿って所定間隔ごとに並列配置している。
【００４４】
軟化焼鈍炉５１内は、ヒータにより、８００℃またはそれ以上の温度設定に設定している。
【００４５】
鞘管下側突出部分を、連結管５５に直列に連結することによって、軟化焼鈍炉５１を通過した被メッキ線１ａが、溶融半田メッキ液６３中に浸入するまで空気に触れないようよう走行させることができる。
【００４６】
メッキ手段６１は、溶融半田メッキ液６３が貯溜された溶融半田メッキ槽６２で構成し、溶融半田メッキ液６３は、２６０℃の設定温度とし、溶融錫（Ｓｎ−３．０Ａｇ−０．５Ｃｕ）を用いている。
【００４７】
溶融半田メッキ槽６２の内部には、表面に溶融半田メッキ液６３が付着したメッキ線１ｂの走行方向を鉛直上方へ方向転換する槽中方向転換ローラ６４を配置している。
【００４８】
さらに、槽中方向転換ローラ６４の鉛直上方には、メッキ線１ｂを鉛直上方への走行方向から巻取り手段７１に向かう方向へ転換する槽上方向転換ローラ６５を備えている。
【００４９】
槽中方向転換ローラ６４、及び、槽上方向転換ローラ６５は、通常のφ２０ｍｍ程度のローラよりも大径である例えば、φ１００ｍｍ程度のローラで構成している。さらに、槽中方向転換ローラ６４、及び、槽上方向転換ローラ６５は、それぞれに備えた図示しない駆動モータによって、巻取り手段７１に備えた後述するダンサーローラ７４やボビン７６の回転速度と略同じ回転速度で自ら積極的に能動回転し、巻取り手段７１による巻取り速度と同調するように、メッキ線１ｂをの方向転換を行う。
【００５０】
続いて巻取り手段７１について説明する。
巻取り手段７１は、巻取り張力調節機７２、及び、ボビントラバース方式巻取り機７５で構成している。
【００５１】
巻取り張力調節機７２は、固定ローラ７３に掛け渡したメッキ線１ｂに加わる張力に応じて上下方向に可動させて張力の具合を調節するダンサーローラ７４を備えている。さらに図示しないが、掛け渡したメッキ線１ｂの張力を検出する張力検出センサと、該張力検出センサが検出した張力に応じて張力が安定するよう制御する制御部と、制御部の指令に基づいてダンサーローラ７４を可動させるローラ可動機とで構成している。
【００５２】
ボビントラバース方式巻取り機７５は、図３（ａ）に示すように、メッキ線１ｂの幅に対して幅広に構成したボビン７６と、該ボビン７６の軸方向に沿って該ボビン７６を揺動させるモータ７７、及び、モータ７７の駆動を伝達するボールネジなどの伝達手段７８で構成している。さらに、ボビントラバース方式巻取り機７５は、ボビン７６による巻取り力を検出する巻取り力検出センサ７９と、該巻取り張力検出センサ７９で検出した巻取り力に応じて該張力が安定するよう制御する制御部８１と、制御部８１の指令に基づいてボビン７６を回転させるモータ８２とで構成している。
【００５３】
このように構成した半田メッキ線の製造装置１０は、メッキ前処理手段２としてのサプライヤ１１、加熱処理炉２２、酸洗浄槽３１、超音波水洗浄槽４１、及び、軟化焼鈍炉５１と、メッキ手段６１としての溶融半田メッキ槽６２と、巻取り手段７１とのそれぞれを、被メッキ線１ａ、及び、メッキ線１ｂの走行方向の上流側からこの順にタンデムで一連配置している。
【００５４】
さらに、半田メッキ線の製造装置１０は、メッキを施す前に被メッキ線１ａの０．２％耐力値を低下させ、その後、この低耐力化した被メッキ線１ａにメッキを施し、これら工程を行う間、該メッキ線１ｂの耐力よりも低い巻取り力で前記巻取り手段７１により巻取る構成としている。
【００５５】
具体的には、巻取り手段７１として上述した巻取り張力調節機７２、及び、ボビントラバース方式巻取り機７５を採用するとともに、巻取り手段７１の巻取りを補助する第１送りキャプスタン９１と第２送りキャプスタン９２とを設置している。第１送りキャプスタン９１と第２送りキャプスタン９２とは、いずれも低耐力化する前の被メッキ線１ａの走行を送り補助するよう軟化焼鈍炉５１の上流側に設置している。
【００５６】
詳しくは、第１送りキャプスタン９１は、加熱処理炉２２と酸洗浄槽３１との間に備えるとともに、第２送りキャプスタン９２は、酸洗浄槽３１と軟化焼鈍炉５１との間に備えている。
【００５７】
なお、メッキ線１ｂの巻取り速度が遅すぎたり、速すぎたりするとメッキ線１ｂにかかる負荷が大きくなる。特に、巻取り速度が速すぎると、線ブレという問題も生じることになるため、第１送りキャプスタン９１、及び、第２送りキャプスタン９２では、巻取り手段７１での巻き取り速度よりも僅かに速い速度、例えば、巻き取り速度に対して＋１ｍ／ｍｉｎ程度速い送り速度で被メッキ線１ａ及びメッキ線１ｂを下流側に送り出している。
【００５８】
また、巻取り手段７１には、上述した巻取り張力調節機７２、及び、ボビントラバース方式巻取り機７５の近傍においてメッキ線１ｂを架け渡す複数の固定ローラ７３を適宜、備えている。
【００５９】
巻取り手段７１に配置した複数の固定ローラ７３のうち、最も走行方向上流側に設置した固定ローラ７３を巻取り手段上流側配置ローラ７３Ａに設定する。巻取り手段上流側配置ローラ７３Ａは、槽上方向転換ローラ６５により方向転換後に、巻取り手段７１の側へ走行してきたメッキ線１ｂを巻取り手段７１の側で最初に架け渡すローラである。
槽上方向転換ローラ６５は、巻取り手段上流側配置ローラ７３Ａよりも高い位置に配置している。
【００６０】
続いて半田メッキ線の製造方法について説明する。
半田メッキ線の製造方法は、被メッキ線１ａに対してメッキ前処理を行うメッキ前処理工程と、被メッキ線１ａの表面に半田メッキを施すメッキ工程と、表面にメッキを施したメッキ線１ｂを巻取る巻取り工程とを経て製造される。
【００６１】
メッキ前処理工程は、加熱処理工程、酸洗浄工程、水洗浄工程、及び、軟化焼鈍工程をこの順で行う工程である。
【００６２】
加熱処理工程では、蒸気雰囲気とした加熱処理炉２２の内部において被メッキ線１ａを走行させることで、被メッキ線１ａの表面を蒸気洗浄する工程である。この蒸気洗浄により、被メッキ線１ａの表面に付着した水溶性潤滑剤やその他の不純物を除去し易いよう表面から分離させることができる。
【００６３】
加熱処理工程では、加熱処理炉２２内での焼鈍温度を、一般の６５０℃程度の焼鈍温度よりも低い２００℃に設定し、この低い温度に設定した加熱処理炉２２内を蒸気雰囲気とし、被メッキ線１ａを走行させて、被メッキ線１ａに対して水蒸気洗浄を行う。
【００６４】
このように、本工程では、被メッキ線１ａに対して水蒸気洗浄を行うことに加えて、被メッキ線１ａを焼鈍することにより低耐力化させることも行っている。但し、本工程では、焼鈍温度を２００℃に設定することで、被メッキ線１ａを低耐力化する度合いを抑制している。また、加熱処理炉２２を通過後の被メッキ線１ａを冷却水槽２３により所定の温度まで冷却する。
【００６５】
酸洗浄工程では、酸洗浄槽３１に貯留したリン酸系の洗浄液３２中を走行させることでこの中を走行した被メッキ線１ａの表面の酸洗浄を行う。
【００６６】
水洗浄工程では、超音波水洗浄槽４１において被メッキ線１ａの表面を超音波水洗浄し、該被メッキ線１ａの表面に付着した水溶性潤滑剤やその他の不純物を除去する。
軟化焼鈍工程では、内部を還元ガス雰囲気とした軟化焼鈍炉５１の内部に被メッキ線１ａを走行させることで該被メッキ線１ａを軟化焼鈍して低耐力化するとともに、被メッキ線１ａの表面の酸化層を還元する工程である。
【００６７】
詳しくは、図２に示すように、軟化焼鈍工程では、走行方向の上流側よりも下流側が低位置になるよう傾斜配置した軟化焼鈍炉５１の鞘管５３の内部に、鞘管下側突出部分５６に設けた還元ガス供給部５７から還元ガスＧとして例えば、窒素ガスに水素ガスを混合した混合ガスを供給し、鞘管５３の内部を還元性ガス雰囲気としておく（図２中の矢印ｄ参照）。さらに、ヒータ５４によって、軟化焼鈍炉本体５２の内部空間を約８００℃にまで加熱している。
【００６８】
このような還元ガス雰囲気とした鞘管５３の内部において、上端開口部５５ｕから導入した被メッキ線１ａを、還元ガスＧが上昇してくる方向ｄと逆方向である下方向Ｄへ向けて走行させている。
【００６９】
続くメッキ工程では、被メッキ線１ａが、溶融半田メッキ槽６２に貯溜された溶融半田メッキ液６３中を走行することで、被メッキ線１ａの表面に溶融錫を付着させる。
【００７０】
軟化焼鈍炉５１の下端開口部５５ｄから導出された被メッキ線１ａは、連結管５５の内部を走行することで空気に接触することがなく溶融半田メッキ液６３中に浸入するまで案内される。
【００７１】
溶融半田メッキ液６３に浸入した被メッキ線１ａは、表面に溶融半田メッキ液６３が付着し、表面全体が溶融半田メッキ液６３で被覆されたメッキ線１ｂとなる。メッキ線１ｂは、溶融半田メッキ槽６２の内部を走行する過程で溶融半田メッキ槽６２中に備えた槽中方向転換ローラ６４により、溶融半田メッキ槽６２を走行する過程で鉛直上方に方向転換され、溶融半田メッキ槽６２から鉛直上方に向けて導出される。
【００７２】
メッキ線１ｂは、溶融半田メッキ槽６２から導出された後、槽上方向転換ローラ６５により方向転換され、巻取り手段７１側へ走行する。
【００７３】
巻取り工程では、被メッキ線１ａに対して上述したメッキ前工程及びメッキ工程を行っている間、これら工程を経たメッキ線１ｂを、巻取り張力調節機７２のダンサーローラ７４の制御によりメッキ線１ｂの張力の調節を行いながらボビントラバース方式巻取り機７５に備えたボビン７６に整列巻きしていく。
【００７４】
詳しくは、図３（ａ），（ｂ）に示すように、ボビントラバース方式巻取り機７５のボビン７６を回転させながら該ボビン７６の軸方向へ揺動させることでメッキ線１ｂを、ボビン７６の軸方向に沿って並列巻きすることができ、複数層に重なり合うようにして巻取ることができる。
【００７５】
この並列巻きは、図３（ｂ）中の一部拡大断面図に示すように、重なり合う層間でメッキ線１ｂの並列ピッチを例えば、半ピッチずらして並列されるようメッキ線１ｂを巻き取る巻き取り方式である。
【００７６】
上述した半田メッキ線の製造装置１０および製造方法は、以下のように様々な作用、効果を得ることができる。
半田メッキ線の製造装置１０は、メッキ前処理手段２としてのサプライヤ１１、加熱処理炉２２、酸洗浄槽３１、超音波水洗浄槽４１、及び、軟化焼鈍炉５１と、メッキ手段６１としての溶融半田メッキ槽６２と、巻取り手段７１を、それぞれメッキ線１ｂの走行方向の上流側から下流側へこの順に一連配置している。
【００７７】
このように各手段を一連配置することで、製造中に低耐力化したメッキ線１ｂを無駄な距離を走行させることを防ぐことができ、走行中にメッキ線１ｂにかかる負荷を低減させることができる。
【００７８】
従って、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線１ｂを得ることができ、このようなメッキ線１ｂを安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる。
【００７９】
さらにまた、半田メッキ線の製造方法では、メッキ前処理工程としての加熱処理工程、酸洗浄工程、水洗浄工程、及び、軟化焼鈍工程と、メッキ処理工程と、巻取り工程との各工程を連続して行う。
【００８０】
このように各工程を連続して行うことで例えば、所定の工程を経る度にメッキ線１ｂ（被メッキ線１ａ）の走行を中断し、次の工程を行うために別の走行ラインにメッキ線１ｂ（被メッキ線１ａ）を移行するといった手間を要しないため、メッキ線１ｂにかかる負荷を大幅に緩和でき、所望の品質のメッキ線１ｂを安定して得ることができる。
【００８１】
さらに、半田メッキ線の製造装置１０によれば、巻取り手段７１による被メッキ線１ａの巻取りを補助する第１送りキャプスタン９１、及び、第２送りキャプスタン９２（以下「送りキャプスタン９１，９２」という。）を、巻取り手段７１よりも被メッキ線１ａの走行方向の上流側に備えることを特徴とする。
【００８２】
また、半田メッキ線の製造方法によれば、巻取り工程を行う間、該巻取り工程で行う被メッキ線１ａ（メッキ線１ｂ）の巻取りを補助する被メッキ線送り補助工程を行うことを特徴とする。
【００８３】
上述した半田メッキ線の製造装置１０、及び、半田メッキ線の製造方法によれば、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線１ｂを得ることができ、このようなメッキ線１ｂを安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる。
【００８４】
さらに、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線１ｂを、効率よく製造できるため、太陽電池用のリード線として好適な低耐力化したメッキ線１ｂを大量生産することも実現することができる。
【００８５】
詳しくは、送りキャプスタン９１，９２によって、巻取り手段７１による巻き取りを、走行方向の上流側で送り補助することにより、巻取り手段７１によって被メッキ線１ａに加わる巻き取り力を、送りキャプスタン９１，９２に対して走行方向の上流側と下流側とで分散することができ、巻取り手段７１による巻き取りによって被メッキ線１ａに加わる負荷を軽減することができる。
【００８６】
これにより、メッキ線１ｂの０．２％耐力値を十分に低下させることができるとともに、伸び率を抑えることができ、所望の品質のメッキ線を得ることができる。
【００８７】
また、上述した半田メッキ線の製造装置１０によれば、送りキャプスタン９１，９２を、軟化焼鈍炉５１よりも走行方向の上流側に配置したことにより、
軟化焼鈍炉５１で低耐力化する前の被メッキ線１ａを送り補助することができる。
【００８８】
このため、例えば、能動的に回転する送りキャプシタンによって、被メッキ線１ａを送り補助する際に、低耐力化した被メッキ線１ａに対して引張り張力などの負荷が加わることがなく、低耐力化した被メッキ線１ａに負荷が加わることがなく、メッキ線１ｂの品質を確保した上で、確実に送り補助することができる。
【００８９】
特に、第２送りキャプスタン９２のように、洗浄手段３０よりも走行方向の下流側であって、軟化焼鈍炉５１よりも上流側に備えることにより、軟化焼鈍炉５１よりも上流側において低耐力化する直前の被メッキ線１ａを送り補助することで、被メッキ線１ａに負担をかけずに、しかも、軟化焼鈍炉５１を通過し、低耐力化された被メッキ線１ａ（メッキ線１ｂ）の走行を効率的に送り補助することができる。
【００９０】
また、メッキ線１ｂの走行方向を転換する方向転換ローラのうち、溶融半田メッキ槽６２の内部に備えた槽中方向転換ローラ６４を、送りキャプスタン９１，９２と同様に、モータ駆動によってローラが能動的に回転し、メッキ線１ｂの送り補助を行う送りキャプスタンとして構成してもよい。
【００９１】
槽中方向転換ローラ６４を送りキャプスタンとして構成することにより、溶融半田メッキ槽６２を通過前と通過後とでメッキ線１ｂの走行方向を転換する際に、槽中方向転換ローラ６４は、メッキ線１ｂの走行速度と略一致する回転速度で能動的に回転するため、メッキ線１ｂの走行方向を転換することに加えて、メッキ線１ｂの走行を補助することができる。
【００９２】
よって、メッキ線１ｂが槽中方向転換ローラ６４に接触することにより、回転方向の摩擦抵抗による負荷がメッキ線１ｂに加わることがなく、メッキ線１ｂをスムーズに送り出すことができる。
【００９３】
詳しくは、メッキ線１ｂは、その走行方向を転換する際に特に、負荷が加わるため、メッキ線１ｂの走行方向の転換は、該メッキ線１ｂの０．２％耐力値が増加してしまう要因となる。そして、メッキ線１ｂを溶融半田メッキ液６３に漬かった状態から取り出す際に、溶融半田メッキ槽６２中おいて、このような走行方向の転換を必然的に行う必要がある。
【００９４】
このため、メッキ線１ｂは、溶融半田メッキ液６３に漬かった状態で走行するとともに、方向転換すると、溶融半田メッキ液６３からの粘性抵抗を受けることになるため、走行方向の転換の際に加わる負荷がより一層増大し、０．２％耐力値の増加量が顕著になってしまう。
【００９５】
このため、上述したように、槽中方向転換ローラ６４を送りキャプスタンとして構成することにより、溶融半田メッキ液６３に漬かった状態でのメッキ線１ｂの方向転換であっても、メッキ線１ｂに加わる負荷を極力、抑制することができ、０．２％耐力値の低いメッキ線１ｂを製造することができる。
【００９６】
以下、効果確認実験としてメッキ線１ｂを巻き取る直前に加わる張力を検証する張力検証実験について説明する。
【００９７】
（張力検証実験）
張力検証実験では、メッキ線１ｂが巻取り張力調節機７２に達するまでにおいてメッキ線１ｂに対して加わる張力の加わり具合、すなわちメッキ線１ｂの弛状態に応じて０．２％耐力値の影響について検証を行った。
【００９８】
巻取り張力調節機７２に達するまでにおいてメッキ線１ｂに加わる張力の加わり具合を数値化することは困難であるため、張力の加わり具合は、該張力の加わり具合に影響を及ぼす送りキャプスタン９１，９２の設置数と溶融半田メッキ槽６２の内部のシャフト（槽中方向転換ローラ６４）を能動回転とするか受動回転とするかをパラメータとし、これらパラメータの設定に応じて０．２％耐力特性を検証した。
【００９９】
詳しくは、表１に示すとおり、巻取り張力調節機７２に達するまでにおけるメッキ線１ｂに対しての張力の加わり具合を、第１張力設定から第４張力設定までの４段階で設定した。
【０１００】
【表１】
第１張力設定では、送りキャプスタンの設置数が第１送りキャプスタン９１のみの１つであり、槽中方向転換ローラ６４を、従動回転ローラで構成した場合の設定である。なお、従動回転ローラとは、ローラを駆動するモータなどを備えず、能動的に回転しないフリー回転自在なローラである。第１張力設定は、張力が４段階のうち最も強く、メッキ線１ｂがぴんと張った状態となる。
【０１０１】
第２張力設定では、送りキャプスタンの設置数が第１送りキャプスタン９１のみの１つであり、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した場合の設定である。
なお、駆動回転ローラとは、モータなどの駆動によって能動的に回転するローラである。第２張力設定は、張力が第１張力設定に対してやや弱い状態となる。
【０１０２】
第３張力設定では、送りキャプスタンの設置数が第１送りキャプスタン９１と第２送りキャプスタン９２との２つであり、槽中方向転換ローラ６４を従動回転ローラで構成した場合の設定であり、張力が第２張力設定に対してやや弱い状態となる。
【０１０３】
第４張力設定では、送りキャプスタンの設置数が第１送りキャプスタン９１と第２送りキャプスタン９２との２つであり、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した場合の設定であり、張力が第３張力設定に対してやや弱く、４段階のうち最も弱く、メッキ線１ｂが最も弛んだ状態となる。
【０１０４】
メッキ線１ｂの０．２％耐力特性などを含めたメッキ線１ｂの荷重特性は、上述した第１張力設定から第４張力設定の各場合において、表２、及び、図４に示すような結果となった。
【０１０５】
【表２】
なお、被メッキ線１ａは、いずれもＯＦＣであり、０．１６ｍｍ×２．０ｍｍ、０．２ｍｍ×１．０ｍｍのサイズの２種類の平角線のそれぞれについて行った。
【０１０６】
表２、及び、図４の結果より、２種類のサイズの被メッキ線１ａのいずれの場合にも、送りキャプスタンの設置数が１つよりも２つである方が、０．２％耐力値をより低く設定できた。これにより、送りキャプスタンの設置数が１つの場合よりも２つである場合の有効性を確認できた。
【０１０７】
また、被メッキ線１ａが０．２ｍｍ×１．０ｍｍのサイズの平角線の場合であって、送りキャプスタンの設置数が２つである場合には、槽中方向転換ローラ６４が駆動回転ローラであるか従動回転ローラであるかに関わらず、０．２％耐力値が同じ値となった。一方、それ以外の全ての設定では、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した場合の方が、従動回転ローラで構成した場合と比較して、０．２％耐力値が低い値となった。
【０１０８】
このことから槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した場合の方が、従動回転ローラで構成した場合と比較して、０．２％耐力値が低くなる傾向を示すことが明らかとなり、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成する有効性を確認できた。
【０１０９】
特に、表２、及び、図４の結果より、第１張力設定から第４張力設定のうち、第４張力設定の場合、すなわち、巻取り張力調節機７２に達するまでにおいてメッキ線１ｂを最も線を弛ませた状態で巻き取る場合がメッキ線１ｂへの負荷を低減でき、０．２％耐力値を特に低下することを確認できた。
【０１１０】
さらに、送りキャプスタンを２つ設置した構成、及び、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した構成のうち、少なくともいずれかの構成とし、被メッキ線１ａ（メッキ線１ｂ）の巻き取りを送り補助することは、巻取り張力調節機７２に達するまでにおいてメッキ線１ｂを弛ませた状態とすることができ、０．２％耐力値が所定の値まで低下した優れた品質のメッキ線１ｂを得る上で有効であることが確認できた。
【０１１１】
上述した半田メッキ線の製造装置１０および半田メッキ線の製造方法は、上述した構成、及び、製造方法に限定せず、様々な構成、及び、製造方法で構成することができる。
例えば、第１送りキャプスタン９１、第２送りキャプスタン９２は、上述した配置位置に配置するに限らず、走行方向におけるいずれの位置に配置しもよい。また、送りキャプスタンは、第１送りキャプスタン９１、第２送りキャプスタン９２のうち、いずれか一方のみを備えた構成であってもよい。
具体的には、例えば、図５に示すように、第２送りキャプスタン９２を設置せずに構成してもよい。
【０１１２】
さらに、送りキャプスタンは、第１送りキャプスタン９１、第２送りキャプスタン９２以外に複数備え、適宜の箇所に設置してもよい。
【０１１３】
さらにまた、槽中方向転換ローラ６４を、上述したように、駆動回転ローラとして構成し、能動回転するよう構成するに限らず、槽上方向転換ローラ６５を、駆動回転ローラとして構成し、能動回転するよう構成してもよい。
【０１１４】
この発明の構成と、上述した実施形態との対応において、銅線は、被メッキ線１ａ、及び、メッキ線１ｂに対応し、以下、同様に、
銅線送り補助工程は、被メッキ線送り補助工程に対応し、
銅線送り補助手段は、第１送りキャプスタン９１、第２送りキャプスタン９２、及び、能動回転する槽中方向転換ローラ６４に対応するものとし、本発明は、上述した実施形態に限定せず、様々な実施形態で構成することができる。
【符号の説明】
【０１１５】
１ａ…被メッキ線
１ｂ…メッキ線
２…メッキ前処理手段
１０…メッキ線の製造装置
１２…サプライヤ
２２…加熱処理炉
３１…酸洗浄槽
４１…超音波水洗浄槽
５１…軟化焼鈍炉
５７…還元ガス供給部
６１…メッキ手段
６２…溶融半田メッキ槽
６３…溶融半田メッキ液
７１…巻取り手段
７２…巻取り張力調節機
７５…ボビントラバース方式巻取り機
９１…第１送りキャプスタン
９２…第２送りキャプスタン
Ｇ…還元ガス
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電気電子機器や通信機器に用いられる半田メッキ線の製造方法及び製造装置に関し、詳しくは、太陽電池のリード線として用いるのに好適な低耐力特性を有する半田メッキ線の製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品に用いられるメッキ線の中には、０．２％耐力値が低いという低耐力特性であることが要求されるものがある。例えば、太陽電池用リード線もその１つである。
【０００３】
太陽電池セルは、該太陽電池セルを構成するシリコン材料のコストダウンを図るためや材料供給不足の影響を緩和するため、薄型化が求められている。
しかし、太陽電池セルが薄型化すると強度が弱くなり、太陽電池セルにおける太陽電池用リード線を半田接続した接続部分は、互いの膨張率の違いにより太陽電池セルに反りや破損が発生し易くなるという問題があった。
【０００４】
よって、太陽電池用リード線は、太陽電池セルとの接続部分が太陽電池セルの変形に追従する必要があり、０．２％耐力値を低下させることが重要となる。このことから、太陽電池用リード線としては、低耐力特性を有する半田メッキ線が用いられる。
【０００５】
このような半田メッキ線は、低耐力特性を有しているか否かに関わらず特許文献１に開示するような半田メッキ工程を経て被メッキ線に対してメッキ層を形成して成る。
【０００６】
特許文献１に開示の半田メッキ工程は、被メッキ線としての金属素線を、金属素線導入口を通じて溶融半田メッキ液の入ったメッキ液部に導入し、半田メッキ線導出口から導出させ、大気冷却するなどして金属素線にメッキを施す工程である。
【０００７】
さらに、半田メッキ線の製造工程においては、上述した半田メッキ工程以外にも、金属素線の表面に対して洗浄や焼鈍などの半田メッキ前処理工程を施したり、半田メッキ工程の後工程では、メッキ線を巻取る巻取り工程が行われる。
【０００８】
そして、このような工程を低耐力化した被メッキ線に対して連続して行おうとした場合には、被メッキ線に負荷がかかり易くなるため、連続加工することが困難になり、連続加工することができたとしても所望の品質のメッキ線を安定して得ることが困難であった。
【０００９】
例えば、低耐力化した被メッキ線にかかる負荷を抑制することに重点を置くあまり、被メッキ線の表面を十分に洗浄することができず、表面に不純物や酸化層が残留することがあった。
【００１０】
そうすると、その後の半田メッキ工程で被メッキ線の表面にメッキ層を形成する際に、メッキ層が剥離し易くなるなど所望の品質のメッキ線を安定して得ることが困難であった。
【００１１】
その他にも、メッキ線の製造途中に、メッキ線（被メッキ線）の耐力が低いために、メッキ線の走行速度を上げることができず、製造時間が大幅にかかり、連続して行おうとすると、かえって製造効率が低下する場合も生じるという難点を有していた。
【００１２】
低耐力特性を有する半田メッキ線の製造方法としては、例えば、特許文献２において太陽電池用平角導体の製造方法が提案されている。
特許文献２における太陽電池用平角導体の製造方法は、導体を圧延などの工程により平角状に成形した後、熱処理工程により０．２％耐力を低減することや、導体の表面に半田メッキ膜を施す製造方法である。
【００１３】
しかし、引用文献２には、熱処理を行う上での温度設定や、軟化焼鈍炉の内部の雰囲気ガスの成分といった具体的な記載や、例えば、洗浄工程といった熱処理工程以外の工程についての具体的な言及がされていない。このため、仮に、洗浄工程を行うにしても、これら熱処理工程、洗浄工程、或いは、メッキ工程といった各工程を独立した生産ラインで行うか否かといった点や、仮に、これら複数の工程を連続して行うにしても、如何なる工程順で行うかについて定かではない。
【００１４】
すなわち、引用文献２は、上述したように、平角導体の０．２％耐力を低減したことに伴い太陽電池のリード線としての品質を確保することが困難となる一方で、０．２％耐力値を低減したメッキ線の品質を確保するために製造効率が低下するという２つの相反する製造上の課題について何ら着目されていないといわざるを得ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開２０００−８０４６０号公報
【特許文献２】特開２００６−５４３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
そこで本発明は、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線を得ることができ、このようなメッキ線を安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる半田メッキ線の製造方法及び製造装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
この発明は、銅線に対してメッキ前処理を行うメッキ前処理手段と、銅線の表面に半田メッキを施すメッキ手段と、表面にメッキを施した銅線を巻取る巻取り手段とで構成される半田メッキ線の製造装置であって、前記銅線を、純銅系材料で形成し、前記メッキ前処理手段に、銅線を軟化焼鈍して低耐力化する軟化焼鈍手段を備え、低耐力化した前記銅線を、該銅線の耐力よりも低い巻取り力で前記巻取り手段により巻取る構成とし、前記軟化焼鈍手段、前記メッキ手段、及び、前記巻取り手段を、銅線の走行方向の上流側からこの順に一連配置し、前記巻取り手段による銅線の巻取りを補助する銅線送り補助手段を、前記巻取り手段よりも銅線走行方向の上流側に備えたことを特徴とする。
【００１８】
ここで、上述した銅線の耐力よりも低い巻取り力で前記巻取り手段により巻取る構成とは、銅線を前記巻取り手段のみで巻取る構成に限定せず、例えば、該巻取り手段による巻取りを補助する送りキャプスタンを巻取り手段よりも上流側に配置し、前記巻取り手段と該送りキャプスタンとで銅線を巻取る構成も含むものとする。
【００１９】
また、前記一連配置したとは、走行方向の上流側から下流側に沿って連続的か断続的かに関わらず連なって、いわゆるタンデムで配置したことを示す。
【００２０】
前記純銅系材料とは、不純物が少なく、導電率が高い純銅系導体材料であれば特に限定せず、例えば、無酸素銅（ＯＦＣ）、タフピッチ銅、リン脱酸銅といった酸化物などの不純物を含まない純度が９９．９％以上であることが好ましい。
【００２１】
前記銅線は、形状、サイズは限定しないが、平角線であることが好ましい。前記銅線を、上述した純銅系導体材料により平角線で形成することにより、表面にメッキ処理を施すことで、シリコン結晶ウェハ（Ｓｉセル）の所定領域に接続する接続用リード線として、すなわち、太陽電池用はんだメッキ線として用いることができるためである。
【００２２】
前記銅線送り補助手段は、例えば、送りキャプスタンなど、モータなどの駆動手段による駆動力を、ローラー、ベルト、或いは、これら部材を組み合わせて構成した伝達手段により銅線へ伝達し、該銅線、すなわち、被メッキ線やメッキ線を送り補助することができる手段である。
【００２３】
この発明の態様として、前記銅線送り補助手段を、前記軟化焼鈍手段よりも銅線走行方向の上流側に配置することができる。
【００２４】
またこの発明の態様として前記銅線送り補助手段を、銅線走行方向における前記洗浄手段よりも銅線走行方向の下流側に配置することができる。
【００２５】
さらにまた、この発明の態様として前記メッキ手段を、溶融半田メッキ液が貯溜された溶融半田メッキ槽で構成し、銅線の走行方向を転換する方向転換ローラを、前記溶融半田メッキ槽の内部に備え、前記溶融半田メッキ槽を通過前と通過後とで銅線の走行方向を転換する槽中方向転換ローラで構成し、前記槽中方向転換ローラを前記銅線送り補助手段で構成することができる。
【００２６】
この発明は、銅線に対してメッキ前処理を行うメッキ前処理工程と、銅線の表面に半田メッキを施すメッキ工程と、表面にメッキを施した銅線を巻取る巻取り工程とを経て製造される半田メッキ線の製造方法であって、前記銅線には、純銅系材料で形成したものを用い、前記メッキ前処理工程では、銅線を軟化焼鈍して低耐力化する軟化焼鈍工程を行い、前記巻取り工程を、低耐力化した前記銅線の耐力よりも低い巻取り力で巻取る工程とし、前記巻取り工程の間、前記軟化焼鈍工程と前記メッキ工程とを連続して行い、前記巻取り工程を行う間、該巻取り工程で行う銅線の巻取りを補助する銅線送り補助工程を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２７】
この発明によれば、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線を得ることができ、このようなメッキ線を安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる半田メッキ線の製造方法及び製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本実施形態の半田メッキ線の製造装置の概略図。
【図２】本実施形態の軟化焼鈍炉の説明図。
【図３】本実施形態のボビントラバース方式巻取り機の説明図。
【図４】送りキャプスタン、及び槽中方向転換ローラの設置態様に応じたメッキ線の０．２％耐力値との関係を示すグラフ。
【図５】他の実施形態の半田メッキ線の製造装置の一部を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
この発明の一実施形態を、以下図面を用いて説明する。
本実施形態の半田メッキ線の製造装置１０は、図１に示すように、被メッキ線１ａに対してメッキ前処理を行うメッキ前処理手段２と、被メッキ線１ａの表面に半田メッキを施すメッキ手段６１と、表面にメッキを施したメッキ線１ｂを巻取る巻取り手段７１とで構成している。
【００３０】
被メッキ線１ａには、別途備えた平角線製造機（図示せず）により、無酸素銅（ＯＦＣ）を厚みが０．０５〜０．５ｍｍ、幅が０．８〜１０ｍｍに、より好ましくは、厚みが０．０８〜０．２４ｍｍ、幅が１〜２ｍｍ圧延した平角銅線を用いている。
【００３１】
前記メッキ前処理手段２は、主にサプライヤ１１、加熱処理炉２２、酸洗浄槽３１、超音波水洗浄槽４１、及び、軟化焼鈍炉５１で構成している。
【００３２】
サプライヤ１１は、ドラムに巻き回された状態の被メッキ線１ａをドラムが回転することで、順に解いていきながら製造ラインに供給している。サプライヤ１１は、必要に応じてダンサー機能付きの構成であってもよく、また、通常の横繰り出しで繰り出す構成であってもよい。
【００３３】
加熱処理炉２２は、後述する軟化焼鈍炉５１と略同様の構成であり、厚み方向に対して走行方向に長い直方体形状をした外観形状で構成している。加熱処理炉２２は、走行方向に沿って走行方向の下流側端部が上流側端部よりも低位置になるよう傾斜配置している。加熱処理炉２２の内部は、２００℃の設定温度の蒸気雰囲気としている。
【００３４】
また、加熱処理炉２２に対して走行方向の下流側には、加熱処理炉２２の内部を通過した被メッキ線１ａを冷却する冷却水槽２３を設置している。加熱処理炉２２の下流側端部と冷却水槽２３は、加熱処理炉２２から導出した被メッキ線１ａが空気に触れないよう冷却水槽２３まで案内する連結管２４で互いに連結されている。
【００３５】
酸洗浄槽３１は、被メッキ線１ａの表面を酸洗浄するリン酸系洗浄液３２を貯溜している。
【００３６】
超音波水洗浄槽４１では、被メッキ線１ａの表面に付着した水溶性潤滑剤やその他の不純物を、別途備えた超音波水洗浄機を用いて洗浄するための水４３を貯留している。超音波水洗浄槽４１の底面には、被メッキ線１ａの走行方向に沿って超音波水洗浄機４２の一部を構成する超音波振動板４２ａを配置している。なお、超音波水洗浄槽４１の上方には、被メッキ線１ａの走行する軌道上の側方から被メッキ線１ａに向けてエアを吹き付けるエアワイパ４５を設置している。
【００３７】
前記軟化焼鈍炉５１は、図２に示すように、走行方向の上流側端部よりも下流側端部が徐々に低位置になるよう傾斜配置している。前記軟化焼鈍炉５１は、加熱処理炉２２と同様に直方体形状で構成した軟化焼鈍炉本体５２と、該軟化焼鈍炉本体５２を貫通するように配置し、被メッキ線１ａの挿入を許容する内径を有するパイプ状の鞘管５３と、軟化焼鈍炉本体５２の内部を加熱するヒータ５４とで構成している。
【００３８】
鞘管５３は、軟化焼鈍炉本体５２の内部空間を走行方向に沿って配置され、軟化焼鈍炉本体５２の上端部、及び、下端部から軟化焼鈍炉本体５２に対して突出している。鞘管５３における軟化焼鈍炉本体５２の上端部から突出した鞘管上側突出部分５５の上端には、上端開口部５５ｕを形成している。
【００３９】
上端開口部５５ｕは、鞘管５３の内部へ被メッキ線１ａの導入を許容するとともに、後述するが、鞘管５３の内部に充填された還元ガスＧを排出する。鞘管５３における軟化焼鈍炉本体５２の下端部から突出した鞘管下側突出部分５６の下端には、下端開口部５５ｄを形成している。
【００４０】
下端開口部５５ｄは、被メッキ線の鞘管からの導出を許容する。鞘管下側突出部分５６は、連結管５５に直列に連結されている。さらに、鞘管下側突出部分５６の途中部分には、分岐部分を構成し、該分岐部分を鞘管５３の内部に還元ガスＧを供給する還元ガス供給部５７として構成している。
【００４１】
なお、還元ガス供給部５７には、図示しないが、圧力調節バルブ、圧力計などを備え、前記軟化焼鈍炉５１の内部の還元ガスＧの濃度に応じて、還元ガス供給部５７では、還元ガスＧの流入量を調節可能としている。
【００４２】
鞘管５３の内部は、還元ガス供給部５７から還元ガスＧを流入することで内部を還元ガス雰囲気としている。
【００４３】
ヒータ５４は、直線の棒状に構成したものを複数本備え、軟化焼鈍炉本体５２の内部空間において鞘管５３に対して上方側空間と下方側空間に配置している。ヒータ５４は、被メッキ線１ａの走行方向に対して直交方向、詳しくは、図２の紙面を正面視したとき図２の紙面に対して垂直な方向に相当する方向に設置し、複数本のヒータ５４は、上方側空間と下方側空間とのそれぞれにおいて、互いに走行方向に沿って所定間隔ごとに並列配置している。
【００４４】
軟化焼鈍炉５１内は、ヒータにより、８００℃またはそれ以上の温度設定に設定している。
【００４５】
鞘管下側突出部分を、連結管５５に直列に連結することによって、軟化焼鈍炉５１を通過した被メッキ線１ａが、溶融半田メッキ液６３中に浸入するまで空気に触れないようよう走行させることができる。
【００４６】
メッキ手段６１は、溶融半田メッキ液６３が貯溜された溶融半田メッキ槽６２で構成し、溶融半田メッキ液６３は、２６０℃の設定温度とし、溶融錫（Ｓｎ−３．０Ａｇ−０．５Ｃｕ）を用いている。
【００４７】
溶融半田メッキ槽６２の内部には、表面に溶融半田メッキ液６３が付着したメッキ線１ｂの走行方向を鉛直上方へ方向転換する槽中方向転換ローラ６４を配置している。
【００４８】
さらに、槽中方向転換ローラ６４の鉛直上方には、メッキ線１ｂを鉛直上方への走行方向から巻取り手段７１に向かう方向へ転換する槽上方向転換ローラ６５を備えている。
【００４９】
槽中方向転換ローラ６４、及び、槽上方向転換ローラ６５は、通常のφ２０ｍｍ程度のローラよりも大径である例えば、φ１００ｍｍ程度のローラで構成している。さらに、槽中方向転換ローラ６４、及び、槽上方向転換ローラ６５は、それぞれに備えた図示しない駆動モータによって、巻取り手段７１に備えた後述するダンサーローラ７４やボビン７６の回転速度と略同じ回転速度で自ら積極的に能動回転し、巻取り手段７１による巻取り速度と同調するように、メッキ線１ｂをの方向転換を行う。
【００５０】
続いて巻取り手段７１について説明する。
巻取り手段７１は、巻取り張力調節機７２、及び、ボビントラバース方式巻取り機７５で構成している。
【００５１】
巻取り張力調節機７２は、固定ローラ７３に掛け渡したメッキ線１ｂに加わる張力に応じて上下方向に可動させて張力の具合を調節するダンサーローラ７４を備えている。さらに図示しないが、掛け渡したメッキ線１ｂの張力を検出する張力検出センサと、該張力検出センサが検出した張力に応じて張力が安定するよう制御する制御部と、制御部の指令に基づいてダンサーローラ７４を可動させるローラ可動機とで構成している。
【００５２】
ボビントラバース方式巻取り機７５は、図３（ａ）に示すように、メッキ線１ｂの幅に対して幅広に構成したボビン７６と、該ボビン７６の軸方向に沿って該ボビン７６を揺動させるモータ７７、及び、モータ７７の駆動を伝達するボールネジなどの伝達手段７８で構成している。さらに、ボビントラバース方式巻取り機７５は、ボビン７６による巻取り力を検出する巻取り力検出センサ７９と、該巻取り張力検出センサ７９で検出した巻取り力に応じて該張力が安定するよう制御する制御部８１と、制御部８１の指令に基づいてボビン７６を回転させるモータ８２とで構成している。
【００５３】
このように構成した半田メッキ線の製造装置１０は、メッキ前処理手段２としてのサプライヤ１１、加熱処理炉２２、酸洗浄槽３１、超音波水洗浄槽４１、及び、軟化焼鈍炉５１と、メッキ手段６１としての溶融半田メッキ槽６２と、巻取り手段７１とのそれぞれを、被メッキ線１ａ、及び、メッキ線１ｂの走行方向の上流側からこの順にタンデムで一連配置している。
【００５４】
さらに、半田メッキ線の製造装置１０は、メッキを施す前に被メッキ線１ａの０．２％耐力値を低下させ、その後、この低耐力化した被メッキ線１ａにメッキを施し、これら工程を行う間、該メッキ線１ｂの耐力よりも低い巻取り力で前記巻取り手段７１により巻取る構成としている。
【００５５】
具体的には、巻取り手段７１として上述した巻取り張力調節機７２、及び、ボビントラバース方式巻取り機７５を採用するとともに、巻取り手段７１の巻取りを補助する第１送りキャプスタン９１と第２送りキャプスタン９２とを設置している。第１送りキャプスタン９１と第２送りキャプスタン９２とは、いずれも低耐力化する前の被メッキ線１ａの走行を送り補助するよう軟化焼鈍炉５１の上流側に設置している。
【００５６】
詳しくは、第１送りキャプスタン９１は、加熱処理炉２２と酸洗浄槽３１との間に備えるとともに、第２送りキャプスタン９２は、酸洗浄槽３１と軟化焼鈍炉５１との間に備えている。
【００５７】
なお、メッキ線１ｂの巻取り速度が遅すぎたり、速すぎたりするとメッキ線１ｂにかかる負荷が大きくなる。特に、巻取り速度が速すぎると、線ブレという問題も生じることになるため、第１送りキャプスタン９１、及び、第２送りキャプスタン９２では、巻取り手段７１での巻き取り速度よりも僅かに速い速度、例えば、巻き取り速度に対して＋１ｍ／ｍｉｎ程度速い送り速度で被メッキ線１ａ及びメッキ線１ｂを下流側に送り出している。
【００５８】
また、巻取り手段７１には、上述した巻取り張力調節機７２、及び、ボビントラバース方式巻取り機７５の近傍においてメッキ線１ｂを架け渡す複数の固定ローラ７３を適宜、備えている。
【００５９】
巻取り手段７１に配置した複数の固定ローラ７３のうち、最も走行方向上流側に設置した固定ローラ７３を巻取り手段上流側配置ローラ７３Ａに設定する。巻取り手段上流側配置ローラ７３Ａは、槽上方向転換ローラ６５により方向転換後に、巻取り手段７１の側へ走行してきたメッキ線１ｂを巻取り手段７１の側で最初に架け渡すローラである。
槽上方向転換ローラ６５は、巻取り手段上流側配置ローラ７３Ａよりも高い位置に配置している。
【００６０】
続いて半田メッキ線の製造方法について説明する。
半田メッキ線の製造方法は、被メッキ線１ａに対してメッキ前処理を行うメッキ前処理工程と、被メッキ線１ａの表面に半田メッキを施すメッキ工程と、表面にメッキを施したメッキ線１ｂを巻取る巻取り工程とを経て製造される。
【００６１】
メッキ前処理工程は、加熱処理工程、酸洗浄工程、水洗浄工程、及び、軟化焼鈍工程をこの順で行う工程である。
【００６２】
加熱処理工程では、蒸気雰囲気とした加熱処理炉２２の内部において被メッキ線１ａを走行させることで、被メッキ線１ａの表面を蒸気洗浄する工程である。この蒸気洗浄により、被メッキ線１ａの表面に付着した水溶性潤滑剤やその他の不純物を除去し易いよう表面から分離させることができる。
【００６３】
加熱処理工程では、加熱処理炉２２内での焼鈍温度を、一般の６５０℃程度の焼鈍温度よりも低い２００℃に設定し、この低い温度に設定した加熱処理炉２２内を蒸気雰囲気とし、被メッキ線１ａを走行させて、被メッキ線１ａに対して水蒸気洗浄を行う。
【００６４】
このように、本工程では、被メッキ線１ａに対して水蒸気洗浄を行うことに加えて、被メッキ線１ａを焼鈍することにより低耐力化させることも行っている。但し、本工程では、焼鈍温度を２００℃に設定することで、被メッキ線１ａを低耐力化する度合いを抑制している。また、加熱処理炉２２を通過後の被メッキ線１ａを冷却水槽２３により所定の温度まで冷却する。
【００６５】
酸洗浄工程では、酸洗浄槽３１に貯留したリン酸系の洗浄液３２中を走行させることでこの中を走行した被メッキ線１ａの表面の酸洗浄を行う。
【００６６】
水洗浄工程では、超音波水洗浄槽４１において被メッキ線１ａの表面を超音波水洗浄し、該被メッキ線１ａの表面に付着した水溶性潤滑剤やその他の不純物を除去する。
軟化焼鈍工程では、内部を還元ガス雰囲気とした軟化焼鈍炉５１の内部に被メッキ線１ａを走行させることで該被メッキ線１ａを軟化焼鈍して低耐力化するとともに、被メッキ線１ａの表面の酸化層を還元する工程である。
【００６７】
詳しくは、図２に示すように、軟化焼鈍工程では、走行方向の上流側よりも下流側が低位置になるよう傾斜配置した軟化焼鈍炉５１の鞘管５３の内部に、鞘管下側突出部分５６に設けた還元ガス供給部５７から還元ガスＧとして例えば、窒素ガスに水素ガスを混合した混合ガスを供給し、鞘管５３の内部を還元性ガス雰囲気としておく（図２中の矢印ｄ参照）。さらに、ヒータ５４によって、軟化焼鈍炉本体５２の内部空間を約８００℃にまで加熱している。
【００６８】
このような還元ガス雰囲気とした鞘管５３の内部において、上端開口部５５ｕから導入した被メッキ線１ａを、還元ガスＧが上昇してくる方向ｄと逆方向である下方向Ｄへ向けて走行させている。
【００６９】
続くメッキ工程では、被メッキ線１ａが、溶融半田メッキ槽６２に貯溜された溶融半田メッキ液６３中を走行することで、被メッキ線１ａの表面に溶融錫を付着させる。
【００７０】
軟化焼鈍炉５１の下端開口部５５ｄから導出された被メッキ線１ａは、連結管５５の内部を走行することで空気に接触することがなく溶融半田メッキ液６３中に浸入するまで案内される。
【００７１】
溶融半田メッキ液６３に浸入した被メッキ線１ａは、表面に溶融半田メッキ液６３が付着し、表面全体が溶融半田メッキ液６３で被覆されたメッキ線１ｂとなる。メッキ線１ｂは、溶融半田メッキ槽６２の内部を走行する過程で溶融半田メッキ槽６２中に備えた槽中方向転換ローラ６４により、溶融半田メッキ槽６２を走行する過程で鉛直上方に方向転換され、溶融半田メッキ槽６２から鉛直上方に向けて導出される。
【００７２】
メッキ線１ｂは、溶融半田メッキ槽６２から導出された後、槽上方向転換ローラ６５により方向転換され、巻取り手段７１側へ走行する。
【００７３】
巻取り工程では、被メッキ線１ａに対して上述したメッキ前工程及びメッキ工程を行っている間、これら工程を経たメッキ線１ｂを、巻取り張力調節機７２のダンサーローラ７４の制御によりメッキ線１ｂの張力の調節を行いながらボビントラバース方式巻取り機７５に備えたボビン７６に整列巻きしていく。
【００７４】
詳しくは、図３（ａ），（ｂ）に示すように、ボビントラバース方式巻取り機７５のボビン７６を回転させながら該ボビン７６の軸方向へ揺動させることでメッキ線１ｂを、ボビン７６の軸方向に沿って並列巻きすることができ、複数層に重なり合うようにして巻取ることができる。
【００７５】
この並列巻きは、図３（ｂ）中の一部拡大断面図に示すように、重なり合う層間でメッキ線１ｂの並列ピッチを例えば、半ピッチずらして並列されるようメッキ線１ｂを巻き取る巻き取り方式である。
【００７６】
上述した半田メッキ線の製造装置１０および製造方法は、以下のように様々な作用、効果を得ることができる。
半田メッキ線の製造装置１０は、メッキ前処理手段２としてのサプライヤ１１、加熱処理炉２２、酸洗浄槽３１、超音波水洗浄槽４１、及び、軟化焼鈍炉５１と、メッキ手段６１としての溶融半田メッキ槽６２と、巻取り手段７１を、それぞれメッキ線１ｂの走行方向の上流側から下流側へこの順に一連配置している。
【００７７】
このように各手段を一連配置することで、製造中に低耐力化したメッキ線１ｂを無駄な距離を走行させることを防ぐことができ、走行中にメッキ線１ｂにかかる負荷を低減させることができる。
【００７８】
従って、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線１ｂを得ることができ、このようなメッキ線１ｂを安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる。
【００７９】
さらにまた、半田メッキ線の製造方法では、メッキ前処理工程としての加熱処理工程、酸洗浄工程、水洗浄工程、及び、軟化焼鈍工程と、メッキ処理工程と、巻取り工程との各工程を連続して行う。
【００８０】
このように各工程を連続して行うことで例えば、所定の工程を経る度にメッキ線１ｂ（被メッキ線１ａ）の走行を中断し、次の工程を行うために別の走行ラインにメッキ線１ｂ（被メッキ線１ａ）を移行するといった手間を要しないため、メッキ線１ｂにかかる負荷を大幅に緩和でき、所望の品質のメッキ線１ｂを安定して得ることができる。
【００８１】
さらに、半田メッキ線の製造装置１０によれば、巻取り手段７１による被メッキ線１ａの巻取りを補助する第１送りキャプスタン９１、及び、第２送りキャプスタン９２（以下「送りキャプスタン９１，９２」という。）を、巻取り手段７１よりも被メッキ線１ａの走行方向の上流側に備えることを特徴とする。
【００８２】
また、半田メッキ線の製造方法によれば、巻取り工程を行う間、該巻取り工程で行う被メッキ線１ａ（メッキ線１ｂ）の巻取りを補助する被メッキ線送り補助工程を行うことを特徴とする。
【００８３】
上述した半田メッキ線の製造装置１０、及び、半田メッキ線の製造方法によれば、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線１ｂを得ることができ、このようなメッキ線１ｂを安定して得ることで、製品歩留まりを向上させることができ、また、製造効率を向上させることができる。
【００８４】
さらに、０．２％耐力値を十分に低下させた所望の品質のメッキ線１ｂを、効率よく製造できるため、太陽電池用のリード線として好適な低耐力化したメッキ線１ｂを大量生産することも実現することができる。
【００８５】
詳しくは、送りキャプスタン９１，９２によって、巻取り手段７１による巻き取りを、走行方向の上流側で送り補助することにより、巻取り手段７１によって被メッキ線１ａに加わる巻き取り力を、送りキャプスタン９１，９２に対して走行方向の上流側と下流側とで分散することができ、巻取り手段７１による巻き取りによって被メッキ線１ａに加わる負荷を軽減することができる。
【００８６】
これにより、メッキ線１ｂの０．２％耐力値を十分に低下させることができるとともに、伸び率を抑えることができ、所望の品質のメッキ線を得ることができる。
【００８７】
また、上述した半田メッキ線の製造装置１０によれば、送りキャプスタン９１，９２を、軟化焼鈍炉５１よりも走行方向の上流側に配置したことにより、
軟化焼鈍炉５１で低耐力化する前の被メッキ線１ａを送り補助することができる。
【００８８】
このため、例えば、能動的に回転する送りキャプシタンによって、被メッキ線１ａを送り補助する際に、低耐力化した被メッキ線１ａに対して引張り張力などの負荷が加わることがなく、低耐力化した被メッキ線１ａに負荷が加わることがなく、メッキ線１ｂの品質を確保した上で、確実に送り補助することができる。
【００８９】
特に、第２送りキャプスタン９２のように、洗浄手段３０よりも走行方向の下流側であって、軟化焼鈍炉５１よりも上流側に備えることにより、軟化焼鈍炉５１よりも上流側において低耐力化する直前の被メッキ線１ａを送り補助することで、被メッキ線１ａに負担をかけずに、しかも、軟化焼鈍炉５１を通過し、低耐力化された被メッキ線１ａ（メッキ線１ｂ）の走行を効率的に送り補助することができる。
【００９０】
また、メッキ線１ｂの走行方向を転換する方向転換ローラのうち、溶融半田メッキ槽６２の内部に備えた槽中方向転換ローラ６４を、送りキャプスタン９１，９２と同様に、モータ駆動によってローラが能動的に回転し、メッキ線１ｂの送り補助を行う送りキャプスタンとして構成してもよい。
【００９１】
槽中方向転換ローラ６４を送りキャプスタンとして構成することにより、溶融半田メッキ槽６２を通過前と通過後とでメッキ線１ｂの走行方向を転換する際に、槽中方向転換ローラ６４は、メッキ線１ｂの走行速度と略一致する回転速度で能動的に回転するため、メッキ線１ｂの走行方向を転換することに加えて、メッキ線１ｂの走行を補助することができる。
【００９２】
よって、メッキ線１ｂが槽中方向転換ローラ６４に接触することにより、回転方向の摩擦抵抗による負荷がメッキ線１ｂに加わることがなく、メッキ線１ｂをスムーズに送り出すことができる。
【００９３】
詳しくは、メッキ線１ｂは、その走行方向を転換する際に特に、負荷が加わるため、メッキ線１ｂの走行方向の転換は、該メッキ線１ｂの０．２％耐力値が増加してしまう要因となる。そして、メッキ線１ｂを溶融半田メッキ液６３に漬かった状態から取り出す際に、溶融半田メッキ槽６２中おいて、このような走行方向の転換を必然的に行う必要がある。
【００９４】
このため、メッキ線１ｂは、溶融半田メッキ液６３に漬かった状態で走行するとともに、方向転換すると、溶融半田メッキ液６３からの粘性抵抗を受けることになるため、走行方向の転換の際に加わる負荷がより一層増大し、０．２％耐力値の増加量が顕著になってしまう。
【００９５】
このため、上述したように、槽中方向転換ローラ６４を送りキャプスタンとして構成することにより、溶融半田メッキ液６３に漬かった状態でのメッキ線１ｂの方向転換であっても、メッキ線１ｂに加わる負荷を極力、抑制することができ、０．２％耐力値の低いメッキ線１ｂを製造することができる。
【００９６】
以下、効果確認実験としてメッキ線１ｂを巻き取る直前に加わる張力を検証する張力検証実験について説明する。
【００９７】
（張力検証実験）
張力検証実験では、メッキ線１ｂが巻取り張力調節機７２に達するまでにおいてメッキ線１ｂに対して加わる張力の加わり具合、すなわちメッキ線１ｂの弛状態に応じて０．２％耐力値の影響について検証を行った。
【００９８】
巻取り張力調節機７２に達するまでにおいてメッキ線１ｂに加わる張力の加わり具合を数値化することは困難であるため、張力の加わり具合は、該張力の加わり具合に影響を及ぼす送りキャプスタン９１，９２の設置数と溶融半田メッキ槽６２の内部のシャフト（槽中方向転換ローラ６４）を能動回転とするか受動回転とするかをパラメータとし、これらパラメータの設定に応じて０．２％耐力特性を検証した。
【００９９】
詳しくは、表１に示すとおり、巻取り張力調節機７２に達するまでにおけるメッキ線１ｂに対しての張力の加わり具合を、第１張力設定から第４張力設定までの４段階で設定した。
【０１００】
【表１】
第１張力設定では、送りキャプスタンの設置数が第１送りキャプスタン９１のみの１つであり、槽中方向転換ローラ６４を、従動回転ローラで構成した場合の設定である。なお、従動回転ローラとは、ローラを駆動するモータなどを備えず、能動的に回転しないフリー回転自在なローラである。第１張力設定は、張力が４段階のうち最も強く、メッキ線１ｂがぴんと張った状態となる。
【０１０１】
第２張力設定では、送りキャプスタンの設置数が第１送りキャプスタン９１のみの１つであり、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した場合の設定である。
なお、駆動回転ローラとは、モータなどの駆動によって能動的に回転するローラである。第２張力設定は、張力が第１張力設定に対してやや弱い状態となる。
【０１０２】
第３張力設定では、送りキャプスタンの設置数が第１送りキャプスタン９１と第２送りキャプスタン９２との２つであり、槽中方向転換ローラ６４を従動回転ローラで構成した場合の設定であり、張力が第２張力設定に対してやや弱い状態となる。
【０１０３】
第４張力設定では、送りキャプスタンの設置数が第１送りキャプスタン９１と第２送りキャプスタン９２との２つであり、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した場合の設定であり、張力が第３張力設定に対してやや弱く、４段階のうち最も弱く、メッキ線１ｂが最も弛んだ状態となる。
【０１０４】
メッキ線１ｂの０．２％耐力特性などを含めたメッキ線１ｂの荷重特性は、上述した第１張力設定から第４張力設定の各場合において、表２、及び、図４に示すような結果となった。
【０１０５】
【表２】
なお、被メッキ線１ａは、いずれもＯＦＣであり、０．１６ｍｍ×２．０ｍｍ、０．２ｍｍ×１．０ｍｍのサイズの２種類の平角線のそれぞれについて行った。
【０１０６】
表２、及び、図４の結果より、２種類のサイズの被メッキ線１ａのいずれの場合にも、送りキャプスタンの設置数が１つよりも２つである方が、０．２％耐力値をより低く設定できた。これにより、送りキャプスタンの設置数が１つの場合よりも２つである場合の有効性を確認できた。
【０１０７】
また、被メッキ線１ａが０．２ｍｍ×１．０ｍｍのサイズの平角線の場合であって、送りキャプスタンの設置数が２つである場合には、槽中方向転換ローラ６４が駆動回転ローラであるか従動回転ローラであるかに関わらず、０．２％耐力値が同じ値となった。一方、それ以外の全ての設定では、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した場合の方が、従動回転ローラで構成した場合と比較して、０．２％耐力値が低い値となった。
【０１０８】
このことから槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した場合の方が、従動回転ローラで構成した場合と比較して、０．２％耐力値が低くなる傾向を示すことが明らかとなり、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成する有効性を確認できた。
【０１０９】
特に、表２、及び、図４の結果より、第１張力設定から第４張力設定のうち、第４張力設定の場合、すなわち、巻取り張力調節機７２に達するまでにおいてメッキ線１ｂを最も線を弛ませた状態で巻き取る場合がメッキ線１ｂへの負荷を低減でき、０．２％耐力値を特に低下することを確認できた。
【０１１０】
さらに、送りキャプスタンを２つ設置した構成、及び、槽中方向転換ローラ６４を駆動回転ローラで構成した構成のうち、少なくともいずれかの構成とし、被メッキ線１ａ（メッキ線１ｂ）の巻き取りを送り補助することは、巻取り張力調節機７２に達するまでにおいてメッキ線１ｂを弛ませた状態とすることができ、０．２％耐力値が所定の値まで低下した優れた品質のメッキ線１ｂを得る上で有効であることが確認できた。
【０１１１】
上述した半田メッキ線の製造装置１０および半田メッキ線の製造方法は、上述した構成、及び、製造方法に限定せず、様々な構成、及び、製造方法で構成することができる。
例えば、第１送りキャプスタン９１、第２送りキャプスタン９２は、上述した配置位置に配置するに限らず、走行方向におけるいずれの位置に配置しもよい。また、送りキャプスタンは、第１送りキャプスタン９１、第２送りキャプスタン９２のうち、いずれか一方のみを備えた構成であってもよい。
具体的には、例えば、図５に示すように、第２送りキャプスタン９２を設置せずに構成してもよい。
【０１１２】
さらに、送りキャプスタンは、第１送りキャプスタン９１、第２送りキャプスタン９２以外に複数備え、適宜の箇所に設置してもよい。
【０１１３】
さらにまた、槽中方向転換ローラ６４を、上述したように、駆動回転ローラとして構成し、能動回転するよう構成するに限らず、槽上方向転換ローラ６５を、駆動回転ローラとして構成し、能動回転するよう構成してもよい。
【０１１４】
この発明の構成と、上述した実施形態との対応において、銅線は、被メッキ線１ａ、及び、メッキ線１ｂに対応し、以下、同様に、
銅線送り補助工程は、被メッキ線送り補助工程に対応し、
銅線送り補助手段は、第１送りキャプスタン９１、第２送りキャプスタン９２、及び、能動回転する槽中方向転換ローラ６４に対応するものとし、本発明は、上述した実施形態に限定せず、様々な実施形態で構成することができる。
【符号の説明】
【０１１５】
１ａ…被メッキ線
１ｂ…メッキ線
２…メッキ前処理手段
１０…メッキ線の製造装置
１２…サプライヤ
２２…加熱処理炉
３１…酸洗浄槽
４１…超音波水洗浄槽
５１…軟化焼鈍炉
５７…還元ガス供給部
６１…メッキ手段
６２…溶融半田メッキ槽
６３…溶融半田メッキ液
７１…巻取り手段
７２…巻取り張力調節機
７５…ボビントラバース方式巻取り機
９１…第１送りキャプスタン
９２…第２送りキャプスタン
Ｇ…還元ガス
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅線に対してメッキ前処理を行うメッキ前処理手段と、
銅線の表面に半田メッキを施すメッキ手段と、
表面にメッキを施した銅線を巻取る巻取り手段とで構成される半田メッキ線の製造装置であって、
前記銅線を、純銅系材料で形成し、
前記メッキ前処理手段に、銅線を軟化焼鈍して低耐力化する軟化焼鈍手段を備え、
低耐力化した前記銅線を、該銅線の耐力よりも低い巻取り力で前記巻取り手段により巻取る構成とし、
前記軟化焼鈍手段、前記メッキ手段、及び、前記巻取り手段を、銅線の走行方向の上流側からこの順に一連配置し、
前記巻取り手段による銅線の巻取りを補助する銅線送り補助手段を、
前記巻取り手段よりも銅線走行方向の上流側に備えた
半田メッキ線の製造装置。
【請求項２】
前記銅線送り補助手段を、
前記軟化焼鈍手段よりも銅線走行方向の上流側に配置した
請求項１に記載の半田メッキ線の製造装置。
【請求項３】
前記銅線送り補助手段を、
銅線走行方向における前記洗浄手段よりも銅線走行方向の下流側に配置した
請求項１、又は、２に記載の半田メッキ線の製造装置。
【請求項４】
前記メッキ手段を、溶融半田メッキ液が貯溜された溶融半田メッキ槽で構成し、
銅線の走行方向を転換する方向転換ローラを、前記溶融半田メッキ槽の内部に備え、前記溶融半田メッキ槽を通過前と通過後とで銅線の走行方向を転換する槽中方向転換ローラで構成し、
前記槽中方向転換ローラを前記銅線送り補助手段で構成した
請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載の半田メッキ線の製造装置。
【請求項５】
銅線に対してメッキ前処理を行うメッキ前処理工程と、
銅線の表面に半田メッキを施すメッキ工程と、
表面にメッキを施した銅線を巻取る巻取り工程とを経て製造される半田メッキ線の製造方法であって、
前記銅線には、純銅系材料で形成したものを用い、
前記メッキ前処理工程では、銅線を軟化焼鈍して低耐力化する軟化焼鈍工程を行い、
前記巻取り工程を、
低耐力化した前記銅線の耐力よりも低い巻取り力で巻取る工程とし、
前記巻取り工程の間、前記軟化焼鈍工程と前記メッキ工程とを連続して行い、
前記巻取り工程を行う間、該巻取り工程で行う銅線の巻取りを補助する銅線送り補助工程を行う
半田メッキ線の製造方法。
【請求項１】
銅線に対してメッキ前処理を行うメッキ前処理手段と、
銅線の表面に半田メッキを施すメッキ手段と、
表面にメッキを施した銅線を巻取る巻取り手段とで構成される半田メッキ線の製造装置であって、
前記銅線を、純銅系材料で形成し、
前記メッキ前処理手段に、銅線を軟化焼鈍して低耐力化する軟化焼鈍手段を備え、
低耐力化した前記銅線を、該銅線の耐力よりも低い巻取り力で前記巻取り手段により巻取る構成とし、
前記軟化焼鈍手段、前記メッキ手段、及び、前記巻取り手段を、銅線の走行方向の上流側からこの順に一連配置し、
前記巻取り手段による銅線の巻取りを補助する銅線送り補助手段を、
前記巻取り手段よりも銅線走行方向の上流側に備えた
半田メッキ線の製造装置。
【請求項２】
前記銅線送り補助手段を、
前記軟化焼鈍手段よりも銅線走行方向の上流側に配置した
請求項１に記載の半田メッキ線の製造装置。
【請求項３】
前記銅線送り補助手段を、
銅線走行方向における前記洗浄手段よりも銅線走行方向の下流側に配置した
請求項１、又は、２に記載の半田メッキ線の製造装置。
【請求項４】
前記メッキ手段を、溶融半田メッキ液が貯溜された溶融半田メッキ槽で構成し、
銅線の走行方向を転換する方向転換ローラを、前記溶融半田メッキ槽の内部に備え、前記溶融半田メッキ槽を通過前と通過後とで銅線の走行方向を転換する槽中方向転換ローラで構成し、
前記槽中方向転換ローラを前記銅線送り補助手段で構成した
請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載の半田メッキ線の製造装置。
【請求項５】
銅線に対してメッキ前処理を行うメッキ前処理工程と、
銅線の表面に半田メッキを施すメッキ工程と、
表面にメッキを施した銅線を巻取る巻取り工程とを経て製造される半田メッキ線の製造方法であって、
前記銅線には、純銅系材料で形成したものを用い、
前記メッキ前処理工程では、銅線を軟化焼鈍して低耐力化する軟化焼鈍工程を行い、
前記巻取り工程を、
低耐力化した前記銅線の耐力よりも低い巻取り力で巻取る工程とし、
前記巻取り工程の間、前記軟化焼鈍工程と前記メッキ工程とを連続して行い、
前記巻取り工程を行う間、該巻取り工程で行う銅線の巻取りを補助する銅線送り補助工程を行う
半田メッキ線の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１２−１７５１７（Ｐ２０１２−１７５１７Ａ）
【公開日】平成２４年１月２６日（２０１２．１．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７８９５１（Ｐ２０１１−７８９５１）
【出願日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【出願人】（０００００５２９０）古河電気工業株式会社 (4,457)
【出願人】（５９１０１９６５６）理研電線株式会社 (12)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月２６日（２０１２．１．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【出願人】（０００００５２９０）古河電気工業株式会社 (4,457)
【出願人】（５９１０１９６５６）理研電線株式会社 (12)
【Ｆターム（参考）】
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