【課題】成膜レートに変動を生じさせることなく、均一性の高い成膜処理を行なう。
【解決手段】成膜装置１００は、被処理基板６０に対向するように配置される二流体スプレーノズル１０と、二流体スプレーノズル１０に原料溶液２４を供給する溶液供給手段２０と、二流体スプレーノズル１０に噴霧エア３４を供給するエア供給手段３０と、エア供給手段３０と二流体スプレーノズル１０との間に配置される噴霧エア流量調整手段４０とを備え、原料溶液２４および噴霧エア３４が二流体スプレーノズル１０の内部で混合された状態で二流体スプレーノズル１０から被処理基板６０に向かって微粒子化されて吹き付けられることにより被処理基板６０に対して成膜処理が行なわれ、エア供給手段３０からの噴霧エア３４は、噴霧エア流量調整手段４０によって所定の流量に調整された状態で二流体スプレーノズル１０に供給される。 （もっと読む）

【課題】良好な導電性を有する透明導電体を容易に製造することができるカルバゾール誘導体含有組成物、及び該組成物からなる透明導電体を提供する。
【解決手段】ポリカルバゾール誘導体を溶解させた溶媒に、金属塩を添加した組成物から形成する。前記金属塩がハロゲン化金属であり、前記ハロゲン化金属が塩化スズ（ＩＩ）、塩化ナトリウム、塩化鉄（Ｉ）、塩化鉄（ＩＩ）、塩化亜鉛、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム、塩化リチウム、及び塩化バリウムからなる群から選択される少なくとも１種を含む。 （もっと読む）

【課題】効率よく基板上に安定して均一に成膜する。
【解決手段】筐体と、成膜材料の溶液と圧縮ガスとを混合して成膜材料を微粒子化したミストを筐体の内部に噴霧する複数のスプレーノズル１２とを備える。また、圧縮ガスを圧力の異なる複数の調圧ガスに調整し、複数のスプレーノズル１２の各々に複数の調圧ガスのいずれかを導入し、かつ、複数の調圧ガスのすべてを複数のスプレーノズル１２に対して導入するガス圧調整機構を備える。 （もっと読む）

【課題】耐久性と電極との接合性とを両立することのできる高性能な高分子電解質膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】紫外線照射処理が施された炭化水素系固体高分子電解質膜であって、紫外線を照射する前後で、ＡＴＲ法によるＩＲ分析をした結果、吸収強度比Ｉ_{１６８５ｃｍ−１}／Ｉ_{３５００ｃｍ−１}が紫外線照射前に対して１０％以上変化した事を特徴とする炭化水素系固体高分子電解質膜。 （もっと読む）

【課題】ネックインの発生を抑制しつつ、補強部材が包含された電解質膜を製造する。
【解決手段】本発明の電解質膜の製造方法は、補助シート上に電解質膜用部材が貼り合わされた補助シート付電解質膜用部材から、前記補助シートと前記電解質膜用部材とが接着されている接着部分を切除することにより、前記補助シートと前記電解質膜用部材とが接着されていない非接着部分の前記補助シートと前記電解質膜用部材とを分離する工程を含む。 （もっと読む）