印刷装置及び印刷方法
【課題】被印刷体がフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能な印刷装置及び印刷方法を提供する。
【解決手段】印刷装置１０Ａは、ブランケット１２ａが表面に設けられた円柱状のブランケット胴１２と、所定パターンの凸部１４ａが表面に設けられた円柱状の版胴１４と、被印刷体Ｐをブランケット１２ａに圧接する圧胴１６と、インキを塗布するコーティングダイ１８と、ブランケット１２ａの表面を清掃する清掃ユニット２２と、版胴１４の表面を洗浄する洗浄ユニット２４とを備える。ブランケット胴１２の周囲には、ブランケット胴１２の回転方向の順に、コーティングダイ１８、版胴１４、圧胴１６及び清掃ユニット２２が配置され、版胴１４の周囲には、版胴１４の回転方向の順に、ブランケット胴１２及び洗浄ユニット２４が配置されている。
【解決手段】印刷装置１０Ａは、ブランケット１２ａが表面に設けられた円柱状のブランケット胴１２と、所定パターンの凸部１４ａが表面に設けられた円柱状の版胴１４と、被印刷体Ｐをブランケット１２ａに圧接する圧胴１６と、インキを塗布するコーティングダイ１８と、ブランケット１２ａの表面を清掃する清掃ユニット２２と、版胴１４の表面を洗浄する洗浄ユニット２４とを備える。ブランケット胴１２の周囲には、ブランケット胴１２の回転方向の順に、コーティングダイ１８、版胴１４、圧胴１６及び清掃ユニット２２が配置され、版胴１４の周囲には、版胴１４の回転方向の順に、ブランケット胴１２及び洗浄ユニット２４が配置されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷装置及び印刷方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、フレキシブルディスプレイ（例えば、有機ＥＬや電子ペーパー）などの平面ディスプレイにおいては、ガラスや樹脂などの透明基板上に、数十μｍ〜数百μｍ幅の透明着色樹脂層のパターンを規則的に配置したカラーフィルタが用いられる。このようなカラーフィルタにおける透明着色樹脂層の形成方法としては、例えば、フォトレジスト等の感光性樹脂及びフォトマスクを用いるフォトリソグラフィーや、版上等に透明樹脂層形成用インキのパターンを形成しこのパターンを基板に転写し乾燥して透明着色樹脂層とする印刷法等が知られている。
【０００３】
フォトリソグラフィーは、フォトレジストの塗布、露光、現像、エッチング工程を含むものであり、パターンの精度が高いという特徴を有している。しかしながら、工程数が多く、塗布や現像工程で高価なフォトレジストを大部分廃棄してしまい、さらに、大型高精度の高価な露光装置や高価なフォトマスクを使用する必要があり、コスト高となってしまう。
【０００４】
一方、印刷法は、露光・現像設備が不要であるのみならず、高価なフォトマスクやフォトレジストを用いないことから、製造コストを大幅に低下できることが期待できる。したがって、カラーフィルタの製造において、平版オフセット印刷やグラビア印刷法等の印刷法に関して多くの検討が行なわれている。
【０００５】
印刷法として代表的なのは、親水性及び親油性の領域に区画された平版上にインキを塗布して親油性領域に対応したインキパターンを形成し、このインキパターンを、ブランケットを介して基板に転写し乾燥させるいわゆるオフセット印刷法である（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
しかしながら、この方法ではインキのミスチングやパイリングといった印刷欠陥の発生率が高い。また、平版上に形成できるインキ膜の厚みは比較的薄く、また、平版上に形成したインキパターンの流動を抑えるために高粘度のインキを使用するので、基板上に一つの樹脂層を形成するのに、数回の印刷操作を繰り返す必要がある。このため、樹脂層のパターンの精度、さらには樹脂層の厚みの均一性などが不十分となる場合がある。
【０００７】
例えば、透明着色樹脂層の厚みが均一でない場合には、カラーフィルタの色濃度均一性が悪化して色むら等が生じる場合がある。また、透明着色樹脂層のパターンの精度が悪くなって、透明着色樹脂層がブラックマトリックスの所定の場所から外れて配置された場合には、液晶パネルの表示に混色や白抜け欠陥が発生する場合がある。また、透明着色樹脂層が重なって突起が生じた場合には、透明着色樹脂層よりも上層に設けられる透明電極が対向基板の画素電極とショートし、液晶が駆動しない場合がある。
【０００８】
一方、近年、平版でなくブランケット胴上のブランケット周面にベタのインキ膜を形成したのち、ブランケット上に形成したインキ膜の不要部分を除去してインキパターンを形成し、これを基板に転写し乾燥する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。この方法では、平版を使う方法に比べて厚みの大きなインキ膜を形成でき、基板上に１つの樹脂層を形成するのに１回の印刷操作でよい。
【０００９】
しかしながら、上述の方法でも、透明着色樹脂層のパターンの精度と、透明着色樹脂層の厚みの均一性を両立させることが困難であった。具体的には、透明着色樹脂層のパターンの精度を高めるべく高粘度・高降伏値の流動性の低いインキを用いると、透明着色樹脂層の厚みの均一性が十分でない。一方、低粘度・低降伏値である高流動性インキを用いると、インキ膜のパターンが変形してしまい正確な透明着色樹脂層のパターンの転写が困難となる。
【００１０】
また、カラーフィルタにおいてはスペーサやブラックマトリクス等の樹脂層のパターンが形成される場合があるが、厳しいパターン精度が要求されるこれらの樹脂層のパターンを上述の印刷法により形成することも同様に困難である。
【００１１】
そこで、ダイコータ等によって均一なインキ膜をブランケット周面に形成し、架橋手段によってこのインキ膜に含まれる架橋性樹脂組成物を架橋させることで流動性を消失せしめ、ブランケットを版に接触させることによってブランケット周面上のインキ膜のうち不要部分を転写除去した後、このブランケットを透明基板等の被印刷体と接触せしめることでブランケット周面上のインキ膜のうち必要部分を被印刷体に転写して、所望の印刷パターンを被印刷体上に形成する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。この方法によれば、あらかじめ流動性の高いインキをブランケットに塗布し、その後インキ膜に含まれる架橋性樹脂組成物を架橋することにより流動性を低下させているので、インキ膜の厚みの均一性を維持することができることとなり、従来のオフセット印刷やグラビア印刷では達成できなかった、平滑かつ高精細のパターンを形成することが可能となる。
【特許文献１】特開平２−２９７５０２号公報
【特許文献２】特開平１１−１９８３３７号公報
【特許文献３】特開２００５−２１２２２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上記特許文献３に記載されたような印刷方法は、基本的には、基板を１枚ずつ処理する枚葉加工を前提としたものであり、フィルム等の可撓性を有する被印刷体にパターンを連続的に印刷するのに際し、必ずしも適したものであるとはいえなかった。
【００１３】
そこで、本発明は、被印刷体がフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能な印刷装置及び印刷方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係る印刷装置は、ブランケットが表面に設けられ、回転可能とされた円柱状のブランケット胴と、所定パターンの凸部が表面に設けられ、回転可能とされた円柱状の版胴と、被印刷体を前記ブランケットに加圧しつつ接触させる圧接手段と、インキを塗布するインキ塗布手段と、ブランケットの表面を清掃する清掃手段と、版胴の表面を洗浄する洗浄手段とを備え、ブランケット胴の周囲には、ブランケット胴の回転方向の順に、インキ塗布手段、版胴、圧接手段及び清掃手段が配置され、版胴の周囲には、版胴の回転方向の順に、ブランケット胴及び洗浄手段が配置されており、インキ塗布手段は、ブランケットの表面にインキを塗布することで、ブランケットの表面にインキ膜を形成し、版胴は、インキ膜に凸部を付着させることでブランケットの表面からインキ膜のうち所定の部分を除去して、ブランケットの表面に所定のインキパターンを形成し、圧接手段は、被印刷体をブランケットに加圧しつつ接触させることで、ブランケットの表面上のインキパターンを被印刷体に連続的に転写する。
【００１５】
本発明に係る印刷装置では、ブランケット胴及び版胴が共に円柱状で且つ回転可能とされている。また、本発明に係る印刷装置では、ブランケット胴の周囲に、ブランケット胴の回転方向の順に、インキ塗布手段、版胴、圧接手段及び清掃手段を配置しており、版胴の周囲に、版胴の回転方向の順に、ブランケット胴及び洗浄手段を配置している。そのため、ブランケット胴においては、ブランケットへのインキの塗布、インキ膜の所定部分の除去、インキパターン（インキ膜の残余部分）の被印刷体への転写及び清掃が順次行われ、版胴においては、インキ膜の版胴の凸部への移載及び洗浄が順次行われることとなる。その結果、被印刷体が基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となる。
【００１６】
好ましくは、ブランケットの厚み方向における変位量を計測する計測手段と、計測手段によって計測される変位量に基づいて、ブランケットの表面と版胴の表面との直線距離、及び、ブランケットの表面と被印刷体との直線距離のうち少なくとも一方を調整する調整手段とを更に備える。ところで、ブランケットに低粘度のインキを塗布すると、インキに含まれる溶剤がブランケットに浸透し、ブランケットを膨潤させる。このようにブランケットが膨潤すると、版胴の凸部以外の部分にもブランケットが接触してしまい、本来ブランケットに残さなければならないインキまでもが版胴に移載されてしまうことがある。しかしながら、本発明に係る印刷装置では、上記のように、計測手段によってブランケットの膨潤量を把握し、この変位量に基づいて、調整手段によって、ブランケットの表面と版胴の表面との直線距離、及び、ブランケットの表面と被印刷体との直線距離のうち少なくとも一方を調整しており、これらの直線距離に関しいわゆるフィードバック制御を行っている。そのため、被印刷体に形成される樹脂層のパターンを高精度に維持することができ、また、調整作業が簡略化されることにより印刷装置の稼働率を従来よりも高めることができる。
【００１７】
また、本発明に係る印刷装置は、ブランケットが表面に設けられ、回転可能とされた円柱状のブランケット胴と、所定パターンの凸部が表面に設けられ、回転可能とされた円柱状の版胴と、被印刷体を版胴に加圧しつつ接触させる圧接手段と、インキを塗布するインキ塗布手段と、ブランケットの表面を清掃する清掃手段と、版胴の表面を洗浄する洗浄手段とを備え、ブランケット胴の周囲には、ブランケット胴の回転方向の順に、インキ塗布手段、版胴及び清掃手段が配置され、版胴の周囲には、版胴の回転方向の順に、ブランケット胴、圧接手段及び洗浄手段が配置されており、インキ塗布手段は、ブランケットの表面にインキを塗布することで、ブランケットの表面にインキ膜を形成し、版胴は、インキ膜に凸部を付着させることで、ブランケットの表面からインキ膜のうち所定の部分を版胴の凸部の表面に移載し、圧接手段は、被印刷体を版胴に加圧しつつ接触させることで、版胴の凸部の表面に移載されたインキ膜を被印刷体に連続的に転写する。
【００１８】
本発明に係る印刷装置では、ブランケット胴及び版胴が共に円柱状で且つ回転可能とされている。また、本発明に係る印刷装置では、ブランケット胴の周囲に、ブランケット胴の回転方向の順に、インキ塗布手段、版胴及び清掃手段を配置しており、版胴の周囲に、版胴の回転方向の順に、ブランケット胴、圧接手段及び洗浄手段を配置している。そのため、ブランケット胴においては、ブランケットへのインキの塗布、インキ膜の所定部分の除去及び清掃が順次行われ、版胴においては、インキ膜の版胴の凸部への移載、凸部表面に移載されたインキ膜の被印刷体への転写及び洗浄が順次行われることとなる。その結果、被印刷体が基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となる。
【００１９】
好ましくは、ブランケットの厚み方向における変位量を計測する計測手段と、計測手段によって計測される変位量に基づいて、ブランケットの表面と版胴の表面との直線距離を調整する調整手段とを更に備える。ところで、ブランケットに低粘度のインキを塗布すると、インキに含まれる溶剤がブランケットに浸透し、ブランケットを膨潤させる。このようにブランケットが膨潤すると、版胴の凸部以外の部分にもブランケットが接触してしまい、本来ブランケットに残さなければならないインキまでもが版胴に移載されてしまうことがある。しかしながら、本発明に係る印刷装置では、上記のように、計測手段によってブランケットの膨潤量を把握し、この変位量に基づいて、調整手段によって、ブランケットの表面と版胴の表面との直線距離を調整しており、この直線距離に関しいわゆるフィードバック制御を行っている。そのため、被印刷体に形成される樹脂層のパターンを高精度に維持することができ、また、調整作業が簡略化されることにより印刷装置の稼働率を従来よりも高めることができる。
【００２０】
上記各印刷装置において好ましくは、ブランケットの表面に形成されたインキ膜を変性させて、インキ膜の流動性を低下させる変性手段を更に備え、変性手段は、ブランケット胴の周囲において、インキ塗布手段よりもブランケット胴の回転方向の下流側で且つ版胴よりもブランケット胴の回転方向の上流側に配置されている。このようにすると、ブランケットの表面におけるインキ膜の流動性が低下することで、インキ膜の厚みの均一性がより十分に維持されることとなる。そのため、ブランケットの表面に形成されたインキパターンを、その精度を維持したままブランケットの表面に保持することができ、又は、版胴の凸部の表面に移載されたインキ膜の精度を、その精度を維持したまま版胴の凸部の表面に保持することができる。その結果、被印刷体に形成される樹脂層における厚みの均一性及びパターンの精度がより優れたものとなる。なお、ここでいう変性には、インキに架橋性樹脂組成物が含まれている場合に、当該架橋性樹脂組成物を架橋させることによるインキ樹脂組成の変性や、インキに含まれる溶媒の蒸発によるインキ樹脂組成の変性が含まれるものとする。
【００２１】
上記の変性手段を更に備える印刷装置において好ましくは、インキ塗布手段によって塗布されるインキには、架橋性樹脂組成物が含まれており、変性手段は、ブランケットの表面に形成されたインキ膜の架橋性樹脂組成物を架橋させる。
【００２２】
上記各印刷装置において好ましくは、版胴の周囲に配置されている洗浄手段は、版胴の表面に洗浄液を噴射する液体噴射ノズルと、版胴の表面に気体を噴射して版胴の表面の水分を除去する気体噴射ノズルとを有する。
【００２３】
一方、本発明に係る印刷方法は、ブランケットが表面に設けられた円柱状のブランケット胴、及び、所定パターンの凸部が表面に設けられた円柱状の版胴の回転中に、ブランケットの表面にインキを塗布することで、ブランケットの表面にインキ膜を形成するインキ塗布工程と、インキ膜に版胴の凸部を付着させることでブランケットの表面からインキ膜のうち所定の部分を除去して、ブランケットの表面に所定のインキパターンを形成するインキパターン形成工程と、被印刷体をブランケットに加圧しつつ接触させることで、ブランケットの表面上のインキパターンを被印刷体に連続的に転写する転写工程と、ブランケットの表面のうち、転写工程においてブランケット上のインキパターンが被印刷体に転写された後の部分を清掃する清掃工程と、版胴の表面のうち、インキパターン形成工程において版胴の凸部にインキ膜が付着された部分を洗浄する洗浄工程とを行う。
【００２４】
本発明に係る印刷方法では、円柱状のブランケット胴の回転中に、インキ塗布工程、インキパターン形成工程、転写工程、清掃工程がこの順に行われる。また、本発明に係る印刷方法では、円柱状の版胴の回転中に、インキパターン形成工程及び洗浄工程がこの順に、つまり、インキパターン形成工程において版胴の凸部の表面にインキ膜が付着された後に洗浄工程が行われる。そのため、被印刷体が基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となる。
【００２５】
また、本発明に係る印刷方法は、ブランケットが表面に設けられた円柱状のブランケット胴、及び、所定パターンの凸部が表面に設けられた円柱状の版胴の回転中に、ブランケットの表面にインキを塗布することで、ブランケットの表面にインキ膜を形成するインキ塗布工程と、インキ膜に版胴の凸部を付着させることで、ブランケットの表面からインキ膜のうち所定の部分を版胴の凸部の表面に移載する移載工程と、被印刷体を版胴に加圧しつつ接触させることで、版胴の表面に移載されたインキ膜を被印刷体に連続的に転写する転写工程と、ブランケットの表面のうち、移載工程においてブランケット上のインキ膜が版胴の凸部に移載された後の部分を清掃する清掃工程と、版胴の表面のうち、転写工程において版胴の凸部からインキ膜が被印刷体に転写された後の部分を洗浄する洗浄工程とを行う。
【００２６】
本発明に係る印刷方法では、円柱状のブランケット胴の回転中に、インキ塗布工程、移載工程及び清掃工程がこの順に行われる。また、本発明に係る印刷方法では、円柱状の版胴の回転中に、移載工程、転写工程及び洗浄工程がこの順に、つまり、移載工程において版胴の凸部の表面に付着されたインキ膜を被印刷体に転写した後に洗浄工程が行われる。そのため、被印刷体が基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となる。
【００２７】
好ましくは、ブランケット胴、版胴及び圧接手段の温度を、２５℃以上８０℃以下で、且つ、予め設定された設定温度に対して±２℃以内となるように維持する。ブランケット胴、版胴及び圧接手段の温度が２５℃未満であると、インキの乾燥が遅くなるので、生産性が低下する傾向にあり、場合によっては版胴の表面に結露が生じ、転写不良が発生することもある。ブランケット胴、版胴及び圧接手段の温度が８０℃を超えると、インキの乾燥が速くなりすぎてしまい、転写性のコントロールが難しくなる傾向にあると共に、インキパターン形成工程又は移載工程において版胴の温度変化に伴う熱膨張の制御も難しくなり、被印刷体にインキパターンを転写するときの位置精度が低下してしまう傾向にある。また、温度調節手段により、ブランケット胴、版胴及び圧接手段の温度が、予め設定された設定温度に対して±２℃以内の変動幅を超えると、版の変形や寸法変化が大きくなるので、転写精度が低下する傾向にある。
【００２８】
好ましくは、被印刷体はフィルム状である。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、被印刷体がフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能な印刷装置及び印刷方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
本発明の好適な実施形態について、図面を参照して説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００３１】
［第１実施形態］
（１）印刷装置の構成
まず、図１を参照して、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａの構成について説明する。印刷装置１０Ａは、基板やフィルム状の被印刷体Ｐに透明着色樹脂層、ブラックマトリクス、スペーサ等を形成するための装置である。印刷装置１０Ａは、表面にブランケット１２ａが設けられたブランケット胴１２と、表面に所定パターンの凸部１４ａが設けられた版胴１４と、圧胴（圧接手段）１６と、コーティングダイ（インキ塗布手段）１８と、ビーム源（変性手段）２０と、清掃ユニット（清掃手段）２２と、洗浄ユニット（洗浄手段）２４とを備える。
【００３２】
ブランケット胴１２（ブランケット１２ａ）の周囲には、ブランケット胴１２の回転方向（図１の矢印Ａ方向）の順に、コーティングダイ１８、ビーム源２０、版胴１４、圧胴１６及び清掃ユニット２２が配置されている。版胴１４の周囲には、版胴１４の回転方向（図１の矢印Ｂ方向）の順に、ブランケット胴１２（ブランケット１２ａ）及び洗浄ユニット２４が配置されている。
【００３３】
（１．１）ブランケット胴及びブランケット
ブランケット胴１２は円柱形状を呈している。ブランケット胴１２は、中心軸１２ｂが図示しない支持体によって支持されており、それにより中心軸１２ｂ回りに回転可能となっている。
【００３４】
ブランケット１２ａは、円筒状を呈し、所定の弾性を有しており、ブランケット胴１２の周面上に形成されている。ブランケット１２ａの材料としては、特に制限されないが、シリコーン樹脂、フッ素樹脂など耐溶媒性及びインキ膜の離形性に優れた材料を用いることが好ましく、さらに、これらの樹脂の表面を撥水処理等したものを用いることが好ましい。
【００３５】
（１．２）コーティングダイ
コーティングダイ１８は、毛管通路を有する、いわゆるキャピラリコータである。コーティングダイ１８は、図示しないインキ槽からラインを介して供給されるインキを、毛管通路の一端であるインキ入口を介して受け入れ、毛管通路の他端である細長矩形形状のスリットからこのインキを横方向又は下方に向けて排出（装置の構成上の制約による）して、ブランケット１２ａの表面にインキ膜Ｆ（図２等参照）を形成する。
【００３６】
コーティングダイ１８は、スリットの長さ方向がブランケット胴１２の中心軸１２ｂの方向と平行となるように配置されている。スリットの幅は、特に限定されないが、０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍ程度が好ましい。なお、比較的均一な厚みのインキ膜Ｆをブランケット１２ａの表面に塗布できるコーターであれば、例えば、ワイヤバーコータ、スリットコータ、ダイコータ等の種々のインキ塗布手段を用いることが可能である。とりわけインキ膜Ｆの均一性の点から、ダイコータやキャピラリコータが好ましい。
【００３７】
コーティングダイ１８は、図示しないコーティングダイ移動部によって移動可能とされている。具体的には、図１に示されるように、コーティングダイ１８がブランケット胴１２の側方に配置されている場合、コーティングダイ１８はコーティングダイ移動部によって左右方向に移動される。また、コーティングダイ１８がブランケット胴１２の上方に配置されている場合、コーティングダイ１８はコーティングダイ移動部によって上下方向に昇降される。また、コーティングダイ１８がブランケット胴１２の下方に配置されている場合も、コーティングダイ１８はコーティングダイ移動部によって上下方向に昇降される。
【００３８】
インキ槽は、インキを貯留するタンクである。このインキ槽は、図示しないインキ槽昇降部によって昇降可能とされている。
【００３９】
ここで、インキ槽とコーティングダイ１８との上下方向の相対位置を調節することにより、スリットから排出されるインキの排出速度を調節できる。また、スリットからのインキの排出速度と、ブランケット胴１２の回転速度とを調節することにより、ブランケット１２ａ上に塗工されるインキ膜Ｆの厚みを制御できる。インキ膜Ｆの厚みは、例えば、１μｍ〜２μｍ程度とすることができる。
【００４０】
（１．３）インキ
本発明において用いられるインキは、架橋可能な架橋性樹脂組成物を含むものであり、架橋することにより透明着色樹脂層やブラックマトリクスやスペーサを形成できる。ブラックマトリクスやスペーサは、遮光性樹脂層であることが好ましい。
【００４１】
架橋性樹脂組成物としては、紫外線、可視光線等の光が照射されると架橋する光架橋性樹脂組成物や、加熱されると架橋する熱架橋性樹脂組成物、Ｘ線、γ線、電子線等の電離放射線の照射により架橋する電離放射線架橋性樹脂組成物が挙げられる。ただし、紫外線、可視光線等の光照射による架橋は、インク塗布後にインク膜Ｆの流動性を制御する手段としては必ずしも必須ではなく、形成されたインキパターン（詳しくは後述する）を固定するために樹脂を架橋するようにしてもよい。
【００４２】
このような架橋性樹脂組成物は、バインダーポリマー、架橋材、及び、架橋開始剤を含むことができる。架橋開始剤としては、光架橋開始剤、熱架橋開始剤、電離放射線架橋開始剤等が挙げられる。熱架橋開始剤は、基材の仕様温度以下の熱で使用可能であることが好ましい。
【００４３】
また、所望の着色や遮光性を得るために、インキは、着色剤を含むことができる。
【００４４】
さらに、必要に応じて、インキは、粘度を調整するための溶媒、着色剤の安定性を改善するための分散剤や界面活性剤を含むことができる。以下各成分について詳述する。
【００４５】
（１．３．１）着色剤
着色剤としては染料や顔料を用いることができるが、特に、耐環境性、耐熱性に優れる顔料を用いることが好適である。顔料としては有機および無機顔料を用いることができ、具体的には、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists出版）でピグメント（Pigment）に分類されている化合物が挙げられる。具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７３、C.I.ピグメントイエロー１９４、C.I.ピグメントイエロー２１４などの黄色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５９、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７３などのオレンジ色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１０５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメンレッド２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６５などの赤色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０などの青色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３２、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３８などの紫色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７などの緑色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５などの茶色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７などの黒色顔料などが挙げられる。好ましい顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６が挙げられる。これらの有機顔料および無機顔料は、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。これらの有機顔料および無機顔料のうち、有機顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸性基または塩基性基が導入された顔料誘導体などを用いた表面処理、高分子化合物などによる顔料表面へのグラフト処理、硫酸微粒化法などによる微粒化処理、あるいは不純物を除去するための有機溶剤や水などによる洗浄処理が施されていてもよい。
【００４６】
着色剤の含有量は、インキの全固形分に対して質量分率で通常１質量％以上６０質量％以下、好ましくは３質量％以上５０質量％以下の範囲で用いられる。
【００４７】
（１．３．２）架橋性樹脂組成物
架橋性樹脂組成物は、光、電離放射線の照射や加熱により架橋してネットワーク構造（三次元網目構造）を形成し得る透明な樹脂である。
【００４８】
架橋性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）架橋剤、及び（Ｃ）架橋開始剤を含むことができる。
【００４９】
（Ａ）バインダーポリマー
バインダーポリマーは、着色剤を分散することができ、かつ、架橋剤と重合してネットワーク構造を形成させることができる透明樹脂であれば特に限定されない。
【００５０】
バインダーポリマーとしては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物、メチル（メタ）アクリレートやエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル化合物、アミノエチルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル化合物、グリシジル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル化合物、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル化合物、（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンのような不飽和カルボン酸オキセタンエステル化合物等を単量体とするポリマーが挙げられる。
【００５１】
また、バインダーポリマーとしては、メラミンアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂を挙げることもできる。
【００５２】
バインダーポリマーとしては、上述の単量体をそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせた共重合体を使用することもできる。共重合体としては、例えばベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、スチレン／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体などが挙げられる。特に、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体が好ましい。共重合体におけるカルボキシル基を有する単量体単位の含有量は質量分率で５〜５０％、好ましくは１０〜４０％である。
【００５３】
バインダーポリマーは、ポリスチレンを標準としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で求められる重量平均分子量が５，０００〜４００，０００の範囲（さらには１０，０００〜３００，０００の範囲にあるのが好ましい。バインダーポリマーは、インキの全固形分に対して質量分率で通常５〜９０％の範囲、好ましくは２０〜７０％の範囲で用いられる。
【００５４】
（Ｂ）架橋剤
架橋剤は、光や電離放射線の照射、あるいは、加熱により架橋開始剤から発生した活性ラジカル、酸などによって重合開始し得る化合物であり、バインダーポリマーと重合反応を生じてネットワーク構造を形成させる重合性化合物である。架橋剤としては、例えば重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられる。架橋剤は、単官能の重合性化合物であってもよいし、２官能または３官能以上の多官能の重合性化合物であってもよい。単官能重合性化合物としては、例えばノニルフェニルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。２官能重合性化合物としては、例えば１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。３官能以上の重合性化合物としては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。好ましい架橋剤としては、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートである。
【００５５】
このような架橋剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。１種類の架橋剤を単独で用いる場合には２官能以上の重合性化合物が好ましく用いられ、２種以上の架橋剤を用いる場合には少なくとも１種は２官能以上の重合性化合物を用いることが好ましい。架橋剤の使用量は、バインダーポリマーおよび架橋剤の合計量１００質量部あたり通常は０．１質量部以上７０質量部以下、好ましくは１質量部以上６０質量部以下である。
【００５６】
加熱による活性ラジカル、酸発生剤としては、被印刷物の物性を考慮して加熱による収縮等が生じない範囲で使用することが可能な開始剤を選定することが好ましい。また、光、電離放射線の照射による活性ラジカル、酸発生剤を併用することもできる。
【００５７】
（Ｃ）架橋開始剤
架橋開始剤は、光や電離放射線の照射、あるいは、加熱によりラジカル等の活性種を生じ、バインダーポリマーと架橋剤との架橋反応を開始させる化合物である。
【００５８】
光架橋開始剤としては、光を照射されることによって活性ラジカルを発生する活性ラジカル発生剤が挙げられ、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、トリアジン系化合物、メタロセン化合物などが挙げられる。アセトフェノン系化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマーなどが挙げられる。ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オン メソクロライドなどが挙げられる。トリアジン系化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。光架橋発生剤としては、活性ラジカル発生剤を使用することができ、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などを用いることもできる。このような光架橋開始剤として、市販のものを用いることもできる。市販の光架橋開始剤としては、例えば、商品名「Irgacure-907」（アセトフェノン系光重合開始剤、CibaSpecialtyChemicals社製）などが挙げられる。メタロセン化合物としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムが挙げられる。
【００５９】
これらの光架橋開始剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。光架橋開始剤の使用量は、バインダーポリマーおよび架橋剤の合計量１００質量部に対して通常１質量部以上３０質量部以下、好ましくは３質量部以上２０質量部以下である。
【００６０】
また、熱架橋開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類、ターシャリーブチルパーオキサイド等のアルキルパーオキサイド類、パーオキシジカーボネート類、パーオキシケタール類、パーオキシエステル類、アルキルパーエステル類等の公知の開始剤を任意好適に用いることができる。これらの熱架橋開始剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６１】
また、電離放射線架橋開始剤としても、公知の開始剤を任意好適に用いることができる。これらの電離放射線架橋開始剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６２】
ここで、これらの架橋開始剤の量は、ビーム源２０によって半架橋状態（詳しくは後述）まで架橋させるのに必要な量よりも過剰に配合し、被印刷体Ｐに転写した後の最終的な加熱や光の照射等によって透明着色樹脂層やブラックマトリクスやスペーサ等を完全に硬化させることができるようにすることが好ましい。
【００６３】
（１．３．３）架橋開始助剤
インキは、架橋開始助剤を含有していてもよい。架橋開始助剤は、架橋開始剤と組み合わせて配合され、架橋開始剤によって開始した架橋剤による架橋を促進するために用いられる化合物である。光架橋開始剤と共に用いられる光架橋開始助剤としては、例えばアミン系化合物、アルコキシアントラセン系化合物などが挙げられる。アミン系化合物としては、例えばトリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられる。アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。光架橋開始助剤として市販のものを用いることもでき、市販の光架橋開始助剤としては、例えば商品名「EAB-F」（保土谷化学工業（株）製）などが挙げられる。該光架橋開始助剤を用いる場合、その使用量は、光架橋開始剤１モルあたり通常１０モル以下、好ましくは０．０１モル以上５モル以下である。光架橋開始剤および光架橋開始助剤を用いる場合の使用量は、その合計量がバインダーポリマーおよび架橋剤の合計量１００質量部に対して通常１質量部以上３０質量部以下、好ましくは３質量部以上２０質量部以下である。
【００６４】
また、熱架橋開始剤や電離放射線架橋開始剤用の架橋開始助剤も、公知のものを任意好適に用いることができる。
【００６５】
（１．３．４）溶媒
このインキはさらに溶剤を含んでもよい。溶剤としては、例えば、水や、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類、アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどの芳香族脂肪族エーテル類、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチルなどのエステル類、γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。こうした溶剤は、それぞれ単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができ、インキにおける溶剤の含有量が質量分率で通常２０質量％以上９０質量％以下、好ましくは５０質量％以上８５質量％以下となるように使用される。
【００６６】
（１．３．５）その他の添加剤
このインキは、さらに、その他の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、充填剤、バインダーポリマー以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、凝集防止剤、有機酸、硬化剤などが挙げられる。
【００６７】
界面活性剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤および両性界面活性剤などが挙げられる。
【００６８】
密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００６９】
凝集防止剤としては、例えば、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
【００７０】
また、このインキは、ビーム源２０によって架橋される前にブランケット１２ａの表面で迅速かつ十分にインキ膜Ｆを平坦化（レベリング）すべく、粘度が１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓ、降伏値が１０ｍＰａ以下であることが好ましい。インキ膜Ｆの平坦化は、主としてインキの表面張力によりブランケット１２ａ上でインキが流動することにより起こる。上述の粘度及び降伏値のインキを用いると、インキ膜Ｆが迅速かつ十分に平坦化してインキ膜Ｆの厚みをほぼ均一にできる。ここで、インキの粘度が１ｍＰａ・ｓ未満であると、ブランケット１２ａ上に塗布したインキの垂れや、コーティングダイ１８のスリットからのインキのボタ落ちが生じる傾向にある。インキの粘度が５０ｍＰａ・ｓを超えると、インキ膜の厚みの均一性を十分に確保し難くなり、また、インキ膜Ｆの平坦化に必要な時間が長くなるため生産性が低下しやすい傾向がある。さらに、一般的に入手可能なインキでは、着色材や樹脂を含有しているため、粘度は通常２ｍＰａ・ｓ以上である場合が多い。また、降伏値が１０ｍＰａを超えると、ブランケット１２ａ上でインキ膜Ｆを平坦化（レベリング）することが困難となる傾向があり、塗布むらが顕著になる傾向がある。
【００７１】
（１．４）ビーム源
ビーム源２０は、ブランケット１２ａの表面に塗布されたインキ膜Ｆを変性させる変性手段である。第１実施形態において、ビーム源２０は、ブランケット１２ａの表面に塗布されたインキ膜Ｆに対して、紫外線や赤外線、電離放射線等を照射し、インキ膜Ｆ中の架橋性樹脂組成物を架橋させ、架橋したインキ膜Ｆを形成する。
【００７２】
ビーム源２０としては、インキ中の架橋性樹脂組成物を架橋させることができるビームを照射するものであれば特に限定されない。例えば、架橋性樹脂組成物が紫外線や可視光線等の光の照射により架橋する光架橋性樹脂組成物であれば、ビーム源２０としてその光架橋性樹脂組成物を架橋可能な紫外線や可視光線等の光を放射する光源を用いることができる。このような光源は比較的低コストである。
【００７３】
また、架橋性樹脂組成物が加熱により架橋する熱架橋性樹脂組成物であれば赤外線ランプ等を利用できる。
【００７４】
また、架橋性樹脂組成物が電離放射線の照射により架橋する電離放射線架橋性樹脂組成物であれば、公知の、Ｘ線源、電子銃、γ線源等を利用できる。
【００７５】
特に、インキとして紫外線架橋性樹脂組成物を含むインキを用い、ビーム源２０としてこの紫外線架橋性樹脂組成物を硬化可能な紫外線を発生する紫外線ランプを用いると、低コストな設備でありながら架橋に要する時間を短縮でき、さらに、ブランケット胴１２があまり加熱されずブランケット胴１２等の熱膨張が起きにくいのでインキパターンの位置や形状の精度を極めて高くできて好ましい。
【００７６】
紫外線ランプとしては、高圧水銀ランプ、青色ＬＥＤ、紫外ＬＥＤ、ハロゲンランプ等を好適に用いることができる。
【００７７】
ビーム源２０は、ブランケット１２ａの表面に塗布されてから所定の時間経過した、すなわち、コーティングダイ１８から排出されてブランケット１２ａに貼り付けられた場所から、ブランケット胴１２の回転により所定の距離を移動した後のインキ膜Ｆに光を照射するように配置されている。これにより、このビーム源２０から光が照射される前に、ブランケット１２ａに塗布されたインキ膜Ｆが表面張力等によって十分均一な厚みとなるまで流動、すなわち平坦化することができるようなっている。具体的には、ビーム源２０は、例えば、ブランケット１２ａに塗布されてからブランケット胴１２が１／８〜１／４回転程度移動した後のインキ膜Ｆに光を照射するように配置されている。塗布してから照射するまでの距離（時間）は、インキの性質や塗工速度に応じて適宜好適に設計できる。
【００７８】
ここで、ビーム源２０からのビームの照射の強さを、インキ膜Ｆにおける架橋性樹脂組成物の架橋度が完全架橋状態となる程度の強さとしても良いが、インキ膜７１の架橋性樹脂組成物が半架橋状態すなわちゲル状となる程度の強さとすることが好ましい。こうすることにより、後工程でのインキ膜Ｆからのインキパターンの形成や、このインキパターンの被印刷体Ｐへの転写が好適に行える。
【００７９】
ここで、具体的には、半架橋状態とは、インキ膜Ｆの降伏値が２０ｍＰａ〜５００ｍＰａ程度となる状態である。架橋後のインキ膜Ｆの降伏値が２０ｍＰａ未満の場合には、インキが流動しやすいために、インキパターンが流動し変形したり、インキパターン内の膜厚分布が変動しやすくなり、厚みの均一性やインキパターンの精度が維持し難い傾向にある。一方、降伏値が５００ｍＰａを超える場合には、インキ膜Ｆが硬くなり、インキパターンの形成やインキパターンの被印刷体Ｐへの印刷性が悪くなる傾向がある。
【００８０】
（１．５）版胴
版胴１４は、円柱形状を呈しており、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキ膜Ｆから、被印刷体Ｐに転写しない不要部分を除去してインキパターンを形成するためのものである。版胴１４は、インキ膜Ｆの不要部分に対応する部分に凸部１４ａが所定のパターンで形成されており、インキ膜Ｆの残すべき部分に対応する部分（印字部分）が凹状とされている。凸部１４ａの高さは、例えば１０μｍ程度である。版胴１４は、例えば、金属や樹脂等によって形成することができる。
【００８１】
また、版胴１４は、中心軸１４ｂが図示しない支持体によって支持されており、それにより中心軸１４ｂ回りに回転可能となっている。なお、図示はしていないが、版胴１４には、版胴１４をブランケット胴１２に向けて移動させ、版胴１４の凸部１４ａをブランケット１２ａの表面に対し加圧しつつ接触させる圧接機構が設けられている。
【００８２】
（１．６）清掃ユニット
【００８３】
清掃ユニット２２は、ブランケット１２ａの表面を清掃するものである。清掃ユニット２２は、一対のローラ２２ａと、一対のローラ２２ａに掛け渡された粘着ベルト２２ｂを有する。
【００８４】
一対のローラ２２ａは、共に同方向に回転することで、粘着ベルト２２ｂを回転させる。粘着ベルト２２ｂは、ブランケット１２ａの表面に接触しており、被印刷体Ｐへのインキ膜Ｆの転写後（詳しくは後述する）におけるブランケット１２ａの表面に残存しているインキ膜Ｆを除去する。粘着ベルト２２ｂは、例えば、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系などの樹脂をベースポリマーとする粘着剤が、ゴムや金属製のベルトに形成されたものを用いることができる。また、清掃ユニット２２として、上記のような粘着剤がゴムや金属製のローラの表面に形成されたものを用いることもできる。市販の粘着ローラとして、商品名「クリーンルーム用剥離帯電防止クリーニングローラー」（タニムラ株式会社製）を例示することができる。
【００８５】
なお、清掃ユニット２２としては、後述する洗浄ユニット２４と同様のものを用いてもよいが、ブランケット１２ａは溶媒を容易に吸収して膨潤するため、インキパターンの転写性能の観点から、上記のような粘着ベルト２２ｂをブランケット１２ａの表面に直接接触させることでインキ膜Ｆを除去することがより好ましい。
【００８６】
（１．７）洗浄ユニット
洗浄ユニット２４は、版胴１４の表面を洗浄するものである。洗浄ユニット２４は、液体噴射ノズル２４ａと、気体噴射ノズル２４ｂと、筐体２４ｃとを有する。
【００８７】
液体噴射ノズル２４ａは、ブランケット１２ａの表面又は版胴１４の表面に洗浄液を噴射する。液体噴射ノズル２４ａから噴射される洗浄液の圧力は、５ＭＰａ〜５０ＭＰａ程度の高圧にすることが好ましい。ここで、洗浄液としては、水や樹脂の溶媒を用いることができる。
【００８８】
気体噴射ノズル２４ｂは、いわゆるエアナイフであり、ブランケット１２ａの表面又は版胴１４の表面に気体（空気）を噴射する。筐体２４ｃは、版胴１４に向けて開放されている。筐体２４ｃ内部は、隔壁によって３つの部屋に区画されており、各部屋は、版胴１４の回転方向（図１の矢印Ｂ方向）に沿って並んでいる。
【００８９】
各部屋のうち版胴１４の回転方向の最も上流側に位置する部屋の中には、液体噴射ノズル２４ａが配置されている。各部屋のうち版胴１４の回転方向の最も下流側に位置する部屋の中には、気体噴射ノズル２４ｂが配置されている。各部屋には、版胴１４とは離れた側の壁部に、排気及び排液のための管がそれぞれ設けられている。
【００９０】
（１．８）圧胴
圧胴１６は、円柱形状を呈しており、インキパターンが転写されるべき被印刷体Ｐを支持する。圧胴１６は、中心軸１６ｂが図示しない支持体によって支持されており、それにより中心軸１６ｂ回りに回転可能となっている。
【００９１】
なお、図示はしていないが、圧胴１６には、圧胴１６をブランケット胴１２に向けて移動させ、圧胴１６をブランケット１２ａの表面に対し加圧しつつ接触させる圧接機構が設けられている。
【００９２】
（２）印刷方法
続いて、図２〜図４を参照して、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａを用いた被印刷体Ｐへのインキパターンの印刷方法について説明する。
【００９３】
まず、図示しないコーティングダイ移動部によってコーティングダイ１８を移動させ、コーティングダイ１８のスリットとブランケット１２ａの表面との間隔を約３０μｍ〜３００μｍとする。次に、インキ槽移動部によってインキ槽に貯留されているインキの水面をコーティングダイ１８のスリットよりも上昇させることで、コーティングダイ１８のスリットからインキを少し排出させて、ビード（液の盛り上がり）を形成する。
【００９４】
続いて、コーティングダイ１８をさらにブランケット１２ａの表面に近づけて、ビードをブランケット１２ａの表面に接触（接液）させた後、コーティングダイ１８とブランケット１２ａの表面との間隔を５０μｍ〜２００μｍ程度に調整し、コーティングを開始する。このときのコーティングダイ１８とブランケット１２ａの表面と間隔は、インキの種類などに応じて適宜調整される。この状態で、ブランケット胴１２を時計回り（図２の矢印Ａ方向）に回転させることで、コーティングダイ１８のスリットからインキを引き出して、ブランケット１２ａの表面にインキ膜Ｆを形成する。
【００９５】
そして、ブランケット胴１２は、インキ膜Ｆがブランケット１２ａの表面に張り付いてから１／８〜１／４回転程度回転され、この間にインキ膜Ｆは、その表面張力等により表面が平滑化され膜厚が均一化される。
【００９６】
続いて、図２に示されるように、このように厚みが均一となったインキ膜Ｆに対して、ビーム源２０から紫外線等のビームを照射することにより、インキ膜Ｆ中の架橋性樹脂組成物が架橋する。架橋したインキ膜Ｆは、粘度や降伏値が架橋前のインキ膜Ｆよりも上昇した状態となり、インキの流動性が低くなっている。従って、ビーム源２０のビーム照射により、インキ膜Ｆの厚みの均一性が極めて高い状態がブランケット１２ａにおいて維持されることとなる。
【００９７】
さらにブランケット胴１２が回転すると、図３に示されるように、架橋したインキ膜Ｆが版胴１４の凸部１４ａに付着する。これにより、インキ膜Ｆのうち版胴１４の凸部１４ａに対応する部分Ｆ１が、ブランケット１２ａの表面から除去されて版胴１４の凸部１４ａの表面に移載し、ブランケット１２ａの表面にはインキパターンＦ２が形成される。つまり、インキパターンＦ２は、版胴１４の凸部１４ａでない部分（凹部）に対応する形状となっている。なお、このとき版胴１４の凸部１４ａは、図示しない圧接機構によりブランケット１２ａの表面に圧接されている。
【００９８】
さらにブランケット胴１２が回転すると、図４に示されるように、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキパターンＦ２がフィルム状の被印刷体Ｐに連続的に転写される。なお、このとき、圧胴１６は、ブランケット胴１２とは逆方向（図４の矢印Ｃ方向）に回転しており、図示しない圧接機構によりブランケット１２ａの表面に圧接されている。
【００９９】
その後、必要に応じてインキパターンＦ２を加熱したり、インキパターンＦ２に光を照射したりして、インキパターンＦ２を完全に硬化する。以上の工程を赤色、緑色、青色の各色のインキについて行うことにより、各色の透明着色樹脂層が被印刷体Ｐ上に形成されることとなる。
【０１００】
なお、被印刷体Ｐへのインキパターンの印刷を行う際には、図示しない温度調節手段によって、ブランケット胴１２、版胴１４及び圧胴１６の温度を、２５℃以上８０℃以下で、且つ、予め設定された設定温度に対して±２℃以内となるように維持すると好ましい。ブランケット胴１２、版胴１４及び圧胴１６の温度が２５℃未満であると、インキの乾燥が遅くなるので、生産性が低下する傾向にあり、場合によっては版胴１４の表面に結露が生じ、転写不良が発生することもある。ブランケット胴１２、版胴１４及び圧胴１６の温度が８０℃を超えると、インキの乾燥が速くなりすぎてしまい、転写性のコントロールが難しくなる傾向にあると共に、ブランケット１２ａの表面にインキパターンＦ２を形成する際に版胴１４の温度変化に伴う熱膨張の制御も難しくなり、被印刷体ＰにインキパターンＦ２を転写するときの位置精度が低下してしまう傾向にある。また、図示しない温度調節手段により、ブランケット胴１２、版胴１４及び圧胴１６の温度が、予め設定された設定温度に対して±２℃以内の変動幅を超えると、版の変形や寸法変化が大きくなるので、転写精度が低下する傾向にある。
【０１０１】
さらに、必要に応じて、これらの透明着色樹脂層上にオーバーコート層や、ＩＴＯ等から形成され液晶の共通電極として用いられる透明導電膜をそれぞれ公知の方法により形成することによって、液晶用のカラーフィルタが完成する。
【０１０２】
さらに、液晶表示素子を形成する場合には、例えば、引き続いて、公知の方法により、透明導電膜上に配向膜を形成し、配向膜上にスペーサを挟んでＴＦＴ基板を対向配置し、配向膜とＴＦＴ基板との間に液晶を封入する。ＴＦＴ基板は、ＴＦＴ機能素子の下面に画素電極及び配向膜を有しており、ＴＦＴ機能素子の上には偏光膜が形成されている。このスペーサを、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａで形成してもよい。
【０１０３】
以上のような第１実施形態に係る印刷装置１０Ａにおいては、ブランケット胴１２及び版胴１４が共に円柱状で且つ回転可能とされている。また、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａにおいては、ブランケット胴１２の周囲に、ブランケット胴１２の回転方向の順に、コーティングダイ１８、ビーム源２０、版胴１４、圧胴１６及び清掃ユニット２２を配置しており、版胴１４の周囲に、版胴１４の回転方向の順に、ブランケット胴１２及び洗浄ユニット２４を配置している。そのため、ブランケット胴１２においては、ブランケット１２ａへのインキの塗布、インキ膜Ｆの所定部分の除去、インキパターンＦ２の被印刷体Ｐへの転写及びブランケット１２ａの表面の清掃が順次行われ、版胴１４においては、インキ膜Ｆの版胴１４の凸部１４ａへの移載及び版胴１４の表面の洗浄が順次行われることとなる。その結果、被印刷体Ｐが基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となっている。
【０１０４】
また、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａにおいては、ビーム源２０によってインキ膜Ｆ中の架橋性樹脂組成物を架橋させ、架橋したインキ膜Ｆを形成している。このようにすると、ブランケット１２ａの表面におけるインキ膜Ｆの流動性が低下することで、インキ膜Ｆの厚みの均一性がより十分に維持されることとなる。そのため、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキパターンＦ２を、その精度を維持したままブランケット１２ａの表面に保持することができる。その結果、被印刷体Ｐに形成される樹脂層における厚みの均一性及びパターンの精度がより優れたものとなる。
【０１０５】
［第２実施形態］
（１）印刷装置の構成
続いて、図５を参照して、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂの構成について、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａとの相違点を中心に説明する。
【０１０６】
ブランケット胴１２（ブランケット１２ａ）の周囲には、ブランケット胴１２の回転方向（図５の矢印Ａ方向）の順に、コーティングダイ１８、ビーム源２０、版胴１４及び清掃ユニット２２が配置されている。版胴１４の周囲には、版胴１４の回転方向（図５の矢印Ｂ方向）の順に、ブランケット胴１２（ブランケット１２ａ）、圧胴１６及び洗浄ユニット２４が配置されている。
【０１０７】
（２）印刷方法
続いて、図６〜図８を参照して、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂを用いた被印刷体Ｐへの印刷方法について、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａを用いた被印刷体Ｐへの印刷方法との相違点を中心に説明する。
【０１０８】
図６に示されるように、厚みが均一となったインキ膜Ｆに対して、ビーム源２０から紫外線等のビームを照射することにより、インキ膜Ｆ中の架橋性樹脂組成物が架橋する。
【０１０９】
さらにブランケット胴１２が回転すると、図７に示されるように、架橋したインキ膜Ｆが版胴１４の凸部１４ａに付着する。これにより、インキ膜Ｆのうち版胴１４の凸部１４ａに対応する部分Ｆ１が、ブランケット１２ａの表面から除去されて版胴１４の凸部１４ａの表面に移載する。
【０１１０】
さらにブランケット胴１２が回転すると、図８に示されるように、版胴１４の凸部１４ａの表面に移載したインキ膜Ｆ１がフィルム状の被印刷体Ｐに連続的に転写される。つまり、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂでは、版胴１４の凸部１４ａのパターンがそのままインキパターンＦ２となる。
【０１１１】
その後、必要に応じてインキパターンＦ２を加熱したり、インキパターンＦ２に光を照射したりして、インキパターンＦ２を完全に硬化する。
【０１１２】
以上のような第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂおいては、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａと同様の作用効果を奏する。
【０１１３】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。例えば、上記第１及び第２実施形態ではフィルム状の被印刷体Ｐを例に説明したが、図９に示されるように、被印刷体Ｐとしてガラス基板等の基板を用いた印刷装置１０Ｃにも本発明を適用できる。このとき、基板である被印刷体Ｐをステージ２６に載置した状態で、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキパターンを被印刷体Ｐに転写する。インキパターンの被印刷体Ｐへの転写の際には、ステージ２６を移動させるようにしてもよく、ステージ２６以外を移動させるようにしてもよい。なお、このときステージ２６は、図示しない圧接機構によりブランケット１２ａの表面に圧接されている。さらに、図９では、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａと同様、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキパターンを基板である被印刷体Ｐに転写しているが、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂと同様、版胴１４の凸部１４ａの表面に移載されたインキ膜Ｆ１を基板である被印刷体Ｐに転写するようにしてもよい。
【０１１４】
また、図１０に示されるように、非接触センサ（計測手段）２８を用いてブランケット１２ａの厚み方向における変位量（ブランケット１２ａの膨潤）を計測するようにしてもよい。そして、この非接触センサ２８によって計測された当該変位量に基づいて、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａの場合には、ブランケット１２ａの表面と版胴１４の表面との直線距離、及び、ブランケット１２ａの表面と被印刷体Ｐとの直線距離のうち少なくとも一方を、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂの場合には、ブランケット１２ａの表面と版胴１４の表面との直線距離を、調整するようにしてもよい。
【０１１５】
調整は、図１１に示されるような調整機構３０Ａを用いることができる。調整機構３０Ａは、台座部３０ａと、ねじ部３０ｂとを有する。ねじ部３０ｂは、図１１のＺ軸方向に沿って延びており、その一端が台座部３０ａと接続され、その他端がブランケット胴１２の中心軸１２ｂを支持する軸受３２に取り付けられている。軸受３２の両側には、ガイドとして機能する一対の軸受ガイド３４が配置されている。そのため、このような構成を有する調整機構３０Ａでは、ねじ部３０ｂを図示しない駆動源によって回転させることで、一対の軸受ガイド３４に沿ってブランケット胴１２が昇降し、ブランケット胴１２の高さが調整されることとなる。
【０１１６】
また、調整は、図１２に示されるような調整機構３０Ｂを用いることもできる。調整機構３０Ｂは、台座部３０ａと、ねじ部３０ｂと、テーパ部材３０ｃとを有する。ねじ部３０ｂは、図１２のＹ軸方向に沿って延びており、その一端がテーパ部材３０ｃと螺合している。テーパ部材３０ｃは、その下面が台座部３０ａと当接しており、その上面が下面に対して傾斜した傾斜面となっている。そのため、このような構成を有する調整機構３０Ｂでは、ねじ部３０ｂを図示しない駆動源によって回転させてテーパ部材３０ｃを図１２のＹ軸方向に沿って移動させることで、一対の軸受ガイド３４に沿ってブランケット胴１２が昇降し、ブランケット胴１２の高さが調整されることとなる。
【０１１７】
ところで、ブランケット１２ａに低粘度のインキを塗布すると、インキに含まれる溶剤がブランケット１２ａに浸透し、ブランケット１２ａを膨潤させる。このようにブランケット１２ａが膨潤すると、版胴１４の凸部１４ａ以外の部分にもブランケット１２ａが接触してしまい、本来ブランケット１２ａに残さなければならないインキまでもが版胴１４の凸部１４ａに移載されてしまうことがある。しかしながら、上記のように、計測手段２８によってブランケット１２ａの膨潤量を把握し、この変位量（膨潤量）に基づいて、調整機構３０Ａ，３０Ｂによって、上記直線距離に関しフィードバック制御を行うことで、被印刷体Ｐに形成される樹脂層のパターンを高精度に維持することができ、また、調整作業が簡略化されることにより印刷装置の稼働率を従来よりも高めることができる。
【０１１８】
また、架橋性樹脂組成物以外にもブランケット１２ａの表面に形成したインキ樹脂の流動性を制御することは可能である。例えば、ブランケット１２ａへのインキの塗布時にインキに含まれる溶媒をブランケット１２ａに吸収させたり、ブランケット１２ａの表面に形成したインキ膜Ｆの表面からインキに含まれる溶媒を自然蒸発又は強制的に蒸発させたりすることで、インキ樹脂の流動性を制御することができる。ブランケット１２ａの表面に形成したインキ膜Ｆの表面からインキに含まれる溶媒を強制的に蒸発させる場合には、溶媒の蒸発を促進するための加温手段（ヒータ）を用いることができる。
【０１１９】
また、カラーフィルタの透明着色樹脂層やブラックマトリクスやスペーサに限らず、他の電子デバイスの形成等に用いる樹脂層、例えば、レジスト層等のパターン形成にも本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２０】
【図１】図１は、第１実施形態に係る印刷装置を示す概略図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係る印刷装置を用いた被印刷体への印刷方法を説明するための図である。
【図３】図３は、図２の後続の工程を示す図である。
【図４】図４は、図３の後続の工程を示す図である。
【図５】図５は、第２実施形態に係る印刷装置を示す概略図である。
【図６】図６は、第２実施形態に係る印刷装置を用いた被印刷体への印刷方法を説明するための図である。
【図７】図７は、図６の後続の工程を示す図である。
【図８】図８は、図７の後続の工程を示す図である。
【図９】図９は、第３実施形態に係る印刷装置を示す概略図である。
【図１０】図１０は、ブランケット胴と非接触センサとのカンケイを模式的に示す図である。
【図１１】図１１の（ａ）は、ブランケット胴の高さを調節する機構を示す要部断面図であり、図１１の（ｂ）は、ブランケット胴の高さを調節する機構を示す側面図である。
【図１２】図１２は、ブランケット胴の高さを調節する他の機構を示す要部断面図である。
【符号の説明】
【０１２１】
１０Ａ〜１０Ｃ…印刷装置、１２…ブランケット胴、１２ａ…ブランケット、１４…版胴、１４ａ…凸部、１６…圧胴（圧接手段）、１８…コーティングダイ（インキ塗布手段）、２０…ビーム源（変性手段）、２２…清掃ユニット（清掃手段）、２４…洗浄ユニット（洗浄手段）、２８…非接触センサ（計測手段）、Ｆ…インキ膜、Ｆ２…インキパターン、Ｐ…被印刷体。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷装置及び印刷方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、フレキシブルディスプレイ（例えば、有機ＥＬや電子ペーパー）などの平面ディスプレイにおいては、ガラスや樹脂などの透明基板上に、数十μｍ〜数百μｍ幅の透明着色樹脂層のパターンを規則的に配置したカラーフィルタが用いられる。このようなカラーフィルタにおける透明着色樹脂層の形成方法としては、例えば、フォトレジスト等の感光性樹脂及びフォトマスクを用いるフォトリソグラフィーや、版上等に透明樹脂層形成用インキのパターンを形成しこのパターンを基板に転写し乾燥して透明着色樹脂層とする印刷法等が知られている。
【０００３】
フォトリソグラフィーは、フォトレジストの塗布、露光、現像、エッチング工程を含むものであり、パターンの精度が高いという特徴を有している。しかしながら、工程数が多く、塗布や現像工程で高価なフォトレジストを大部分廃棄してしまい、さらに、大型高精度の高価な露光装置や高価なフォトマスクを使用する必要があり、コスト高となってしまう。
【０００４】
一方、印刷法は、露光・現像設備が不要であるのみならず、高価なフォトマスクやフォトレジストを用いないことから、製造コストを大幅に低下できることが期待できる。したがって、カラーフィルタの製造において、平版オフセット印刷やグラビア印刷法等の印刷法に関して多くの検討が行なわれている。
【０００５】
印刷法として代表的なのは、親水性及び親油性の領域に区画された平版上にインキを塗布して親油性領域に対応したインキパターンを形成し、このインキパターンを、ブランケットを介して基板に転写し乾燥させるいわゆるオフセット印刷法である（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
しかしながら、この方法ではインキのミスチングやパイリングといった印刷欠陥の発生率が高い。また、平版上に形成できるインキ膜の厚みは比較的薄く、また、平版上に形成したインキパターンの流動を抑えるために高粘度のインキを使用するので、基板上に一つの樹脂層を形成するのに、数回の印刷操作を繰り返す必要がある。このため、樹脂層のパターンの精度、さらには樹脂層の厚みの均一性などが不十分となる場合がある。
【０００７】
例えば、透明着色樹脂層の厚みが均一でない場合には、カラーフィルタの色濃度均一性が悪化して色むら等が生じる場合がある。また、透明着色樹脂層のパターンの精度が悪くなって、透明着色樹脂層がブラックマトリックスの所定の場所から外れて配置された場合には、液晶パネルの表示に混色や白抜け欠陥が発生する場合がある。また、透明着色樹脂層が重なって突起が生じた場合には、透明着色樹脂層よりも上層に設けられる透明電極が対向基板の画素電極とショートし、液晶が駆動しない場合がある。
【０００８】
一方、近年、平版でなくブランケット胴上のブランケット周面にベタのインキ膜を形成したのち、ブランケット上に形成したインキ膜の不要部分を除去してインキパターンを形成し、これを基板に転写し乾燥する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。この方法では、平版を使う方法に比べて厚みの大きなインキ膜を形成でき、基板上に１つの樹脂層を形成するのに１回の印刷操作でよい。
【０００９】
しかしながら、上述の方法でも、透明着色樹脂層のパターンの精度と、透明着色樹脂層の厚みの均一性を両立させることが困難であった。具体的には、透明着色樹脂層のパターンの精度を高めるべく高粘度・高降伏値の流動性の低いインキを用いると、透明着色樹脂層の厚みの均一性が十分でない。一方、低粘度・低降伏値である高流動性インキを用いると、インキ膜のパターンが変形してしまい正確な透明着色樹脂層のパターンの転写が困難となる。
【００１０】
また、カラーフィルタにおいてはスペーサやブラックマトリクス等の樹脂層のパターンが形成される場合があるが、厳しいパターン精度が要求されるこれらの樹脂層のパターンを上述の印刷法により形成することも同様に困難である。
【００１１】
そこで、ダイコータ等によって均一なインキ膜をブランケット周面に形成し、架橋手段によってこのインキ膜に含まれる架橋性樹脂組成物を架橋させることで流動性を消失せしめ、ブランケットを版に接触させることによってブランケット周面上のインキ膜のうち不要部分を転写除去した後、このブランケットを透明基板等の被印刷体と接触せしめることでブランケット周面上のインキ膜のうち必要部分を被印刷体に転写して、所望の印刷パターンを被印刷体上に形成する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。この方法によれば、あらかじめ流動性の高いインキをブランケットに塗布し、その後インキ膜に含まれる架橋性樹脂組成物を架橋することにより流動性を低下させているので、インキ膜の厚みの均一性を維持することができることとなり、従来のオフセット印刷やグラビア印刷では達成できなかった、平滑かつ高精細のパターンを形成することが可能となる。
【特許文献１】特開平２−２９７５０２号公報
【特許文献２】特開平１１−１９８３３７号公報
【特許文献３】特開２００５−２１２２２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上記特許文献３に記載されたような印刷方法は、基本的には、基板を１枚ずつ処理する枚葉加工を前提としたものであり、フィルム等の可撓性を有する被印刷体にパターンを連続的に印刷するのに際し、必ずしも適したものであるとはいえなかった。
【００１３】
そこで、本発明は、被印刷体がフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能な印刷装置及び印刷方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係る印刷装置は、ブランケットが表面に設けられ、回転可能とされた円柱状のブランケット胴と、所定パターンの凸部が表面に設けられ、回転可能とされた円柱状の版胴と、被印刷体を前記ブランケットに加圧しつつ接触させる圧接手段と、インキを塗布するインキ塗布手段と、ブランケットの表面を清掃する清掃手段と、版胴の表面を洗浄する洗浄手段とを備え、ブランケット胴の周囲には、ブランケット胴の回転方向の順に、インキ塗布手段、版胴、圧接手段及び清掃手段が配置され、版胴の周囲には、版胴の回転方向の順に、ブランケット胴及び洗浄手段が配置されており、インキ塗布手段は、ブランケットの表面にインキを塗布することで、ブランケットの表面にインキ膜を形成し、版胴は、インキ膜に凸部を付着させることでブランケットの表面からインキ膜のうち所定の部分を除去して、ブランケットの表面に所定のインキパターンを形成し、圧接手段は、被印刷体をブランケットに加圧しつつ接触させることで、ブランケットの表面上のインキパターンを被印刷体に連続的に転写する。
【００１５】
本発明に係る印刷装置では、ブランケット胴及び版胴が共に円柱状で且つ回転可能とされている。また、本発明に係る印刷装置では、ブランケット胴の周囲に、ブランケット胴の回転方向の順に、インキ塗布手段、版胴、圧接手段及び清掃手段を配置しており、版胴の周囲に、版胴の回転方向の順に、ブランケット胴及び洗浄手段を配置している。そのため、ブランケット胴においては、ブランケットへのインキの塗布、インキ膜の所定部分の除去、インキパターン（インキ膜の残余部分）の被印刷体への転写及び清掃が順次行われ、版胴においては、インキ膜の版胴の凸部への移載及び洗浄が順次行われることとなる。その結果、被印刷体が基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となる。
【００１６】
好ましくは、ブランケットの厚み方向における変位量を計測する計測手段と、計測手段によって計測される変位量に基づいて、ブランケットの表面と版胴の表面との直線距離、及び、ブランケットの表面と被印刷体との直線距離のうち少なくとも一方を調整する調整手段とを更に備える。ところで、ブランケットに低粘度のインキを塗布すると、インキに含まれる溶剤がブランケットに浸透し、ブランケットを膨潤させる。このようにブランケットが膨潤すると、版胴の凸部以外の部分にもブランケットが接触してしまい、本来ブランケットに残さなければならないインキまでもが版胴に移載されてしまうことがある。しかしながら、本発明に係る印刷装置では、上記のように、計測手段によってブランケットの膨潤量を把握し、この変位量に基づいて、調整手段によって、ブランケットの表面と版胴の表面との直線距離、及び、ブランケットの表面と被印刷体との直線距離のうち少なくとも一方を調整しており、これらの直線距離に関しいわゆるフィードバック制御を行っている。そのため、被印刷体に形成される樹脂層のパターンを高精度に維持することができ、また、調整作業が簡略化されることにより印刷装置の稼働率を従来よりも高めることができる。
【００１７】
また、本発明に係る印刷装置は、ブランケットが表面に設けられ、回転可能とされた円柱状のブランケット胴と、所定パターンの凸部が表面に設けられ、回転可能とされた円柱状の版胴と、被印刷体を版胴に加圧しつつ接触させる圧接手段と、インキを塗布するインキ塗布手段と、ブランケットの表面を清掃する清掃手段と、版胴の表面を洗浄する洗浄手段とを備え、ブランケット胴の周囲には、ブランケット胴の回転方向の順に、インキ塗布手段、版胴及び清掃手段が配置され、版胴の周囲には、版胴の回転方向の順に、ブランケット胴、圧接手段及び洗浄手段が配置されており、インキ塗布手段は、ブランケットの表面にインキを塗布することで、ブランケットの表面にインキ膜を形成し、版胴は、インキ膜に凸部を付着させることで、ブランケットの表面からインキ膜のうち所定の部分を版胴の凸部の表面に移載し、圧接手段は、被印刷体を版胴に加圧しつつ接触させることで、版胴の凸部の表面に移載されたインキ膜を被印刷体に連続的に転写する。
【００１８】
本発明に係る印刷装置では、ブランケット胴及び版胴が共に円柱状で且つ回転可能とされている。また、本発明に係る印刷装置では、ブランケット胴の周囲に、ブランケット胴の回転方向の順に、インキ塗布手段、版胴及び清掃手段を配置しており、版胴の周囲に、版胴の回転方向の順に、ブランケット胴、圧接手段及び洗浄手段を配置している。そのため、ブランケット胴においては、ブランケットへのインキの塗布、インキ膜の所定部分の除去及び清掃が順次行われ、版胴においては、インキ膜の版胴の凸部への移載、凸部表面に移載されたインキ膜の被印刷体への転写及び洗浄が順次行われることとなる。その結果、被印刷体が基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となる。
【００１９】
好ましくは、ブランケットの厚み方向における変位量を計測する計測手段と、計測手段によって計測される変位量に基づいて、ブランケットの表面と版胴の表面との直線距離を調整する調整手段とを更に備える。ところで、ブランケットに低粘度のインキを塗布すると、インキに含まれる溶剤がブランケットに浸透し、ブランケットを膨潤させる。このようにブランケットが膨潤すると、版胴の凸部以外の部分にもブランケットが接触してしまい、本来ブランケットに残さなければならないインキまでもが版胴に移載されてしまうことがある。しかしながら、本発明に係る印刷装置では、上記のように、計測手段によってブランケットの膨潤量を把握し、この変位量に基づいて、調整手段によって、ブランケットの表面と版胴の表面との直線距離を調整しており、この直線距離に関しいわゆるフィードバック制御を行っている。そのため、被印刷体に形成される樹脂層のパターンを高精度に維持することができ、また、調整作業が簡略化されることにより印刷装置の稼働率を従来よりも高めることができる。
【００２０】
上記各印刷装置において好ましくは、ブランケットの表面に形成されたインキ膜を変性させて、インキ膜の流動性を低下させる変性手段を更に備え、変性手段は、ブランケット胴の周囲において、インキ塗布手段よりもブランケット胴の回転方向の下流側で且つ版胴よりもブランケット胴の回転方向の上流側に配置されている。このようにすると、ブランケットの表面におけるインキ膜の流動性が低下することで、インキ膜の厚みの均一性がより十分に維持されることとなる。そのため、ブランケットの表面に形成されたインキパターンを、その精度を維持したままブランケットの表面に保持することができ、又は、版胴の凸部の表面に移載されたインキ膜の精度を、その精度を維持したまま版胴の凸部の表面に保持することができる。その結果、被印刷体に形成される樹脂層における厚みの均一性及びパターンの精度がより優れたものとなる。なお、ここでいう変性には、インキに架橋性樹脂組成物が含まれている場合に、当該架橋性樹脂組成物を架橋させることによるインキ樹脂組成の変性や、インキに含まれる溶媒の蒸発によるインキ樹脂組成の変性が含まれるものとする。
【００２１】
上記の変性手段を更に備える印刷装置において好ましくは、インキ塗布手段によって塗布されるインキには、架橋性樹脂組成物が含まれており、変性手段は、ブランケットの表面に形成されたインキ膜の架橋性樹脂組成物を架橋させる。
【００２２】
上記各印刷装置において好ましくは、版胴の周囲に配置されている洗浄手段は、版胴の表面に洗浄液を噴射する液体噴射ノズルと、版胴の表面に気体を噴射して版胴の表面の水分を除去する気体噴射ノズルとを有する。
【００２３】
一方、本発明に係る印刷方法は、ブランケットが表面に設けられた円柱状のブランケット胴、及び、所定パターンの凸部が表面に設けられた円柱状の版胴の回転中に、ブランケットの表面にインキを塗布することで、ブランケットの表面にインキ膜を形成するインキ塗布工程と、インキ膜に版胴の凸部を付着させることでブランケットの表面からインキ膜のうち所定の部分を除去して、ブランケットの表面に所定のインキパターンを形成するインキパターン形成工程と、被印刷体をブランケットに加圧しつつ接触させることで、ブランケットの表面上のインキパターンを被印刷体に連続的に転写する転写工程と、ブランケットの表面のうち、転写工程においてブランケット上のインキパターンが被印刷体に転写された後の部分を清掃する清掃工程と、版胴の表面のうち、インキパターン形成工程において版胴の凸部にインキ膜が付着された部分を洗浄する洗浄工程とを行う。
【００２４】
本発明に係る印刷方法では、円柱状のブランケット胴の回転中に、インキ塗布工程、インキパターン形成工程、転写工程、清掃工程がこの順に行われる。また、本発明に係る印刷方法では、円柱状の版胴の回転中に、インキパターン形成工程及び洗浄工程がこの順に、つまり、インキパターン形成工程において版胴の凸部の表面にインキ膜が付着された後に洗浄工程が行われる。そのため、被印刷体が基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となる。
【００２５】
また、本発明に係る印刷方法は、ブランケットが表面に設けられた円柱状のブランケット胴、及び、所定パターンの凸部が表面に設けられた円柱状の版胴の回転中に、ブランケットの表面にインキを塗布することで、ブランケットの表面にインキ膜を形成するインキ塗布工程と、インキ膜に版胴の凸部を付着させることで、ブランケットの表面からインキ膜のうち所定の部分を版胴の凸部の表面に移載する移載工程と、被印刷体を版胴に加圧しつつ接触させることで、版胴の表面に移載されたインキ膜を被印刷体に連続的に転写する転写工程と、ブランケットの表面のうち、移載工程においてブランケット上のインキ膜が版胴の凸部に移載された後の部分を清掃する清掃工程と、版胴の表面のうち、転写工程において版胴の凸部からインキ膜が被印刷体に転写された後の部分を洗浄する洗浄工程とを行う。
【００２６】
本発明に係る印刷方法では、円柱状のブランケット胴の回転中に、インキ塗布工程、移載工程及び清掃工程がこの順に行われる。また、本発明に係る印刷方法では、円柱状の版胴の回転中に、移載工程、転写工程及び洗浄工程がこの順に、つまり、移載工程において版胴の凸部の表面に付着されたインキ膜を被印刷体に転写した後に洗浄工程が行われる。そのため、被印刷体が基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となる。
【００２７】
好ましくは、ブランケット胴、版胴及び圧接手段の温度を、２５℃以上８０℃以下で、且つ、予め設定された設定温度に対して±２℃以内となるように維持する。ブランケット胴、版胴及び圧接手段の温度が２５℃未満であると、インキの乾燥が遅くなるので、生産性が低下する傾向にあり、場合によっては版胴の表面に結露が生じ、転写不良が発生することもある。ブランケット胴、版胴及び圧接手段の温度が８０℃を超えると、インキの乾燥が速くなりすぎてしまい、転写性のコントロールが難しくなる傾向にあると共に、インキパターン形成工程又は移載工程において版胴の温度変化に伴う熱膨張の制御も難しくなり、被印刷体にインキパターンを転写するときの位置精度が低下してしまう傾向にある。また、温度調節手段により、ブランケット胴、版胴及び圧接手段の温度が、予め設定された設定温度に対して±２℃以内の変動幅を超えると、版の変形や寸法変化が大きくなるので、転写精度が低下する傾向にある。
【００２８】
好ましくは、被印刷体はフィルム状である。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、被印刷体がフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能な印刷装置及び印刷方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
本発明の好適な実施形態について、図面を参照して説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００３１】
［第１実施形態］
（１）印刷装置の構成
まず、図１を参照して、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａの構成について説明する。印刷装置１０Ａは、基板やフィルム状の被印刷体Ｐに透明着色樹脂層、ブラックマトリクス、スペーサ等を形成するための装置である。印刷装置１０Ａは、表面にブランケット１２ａが設けられたブランケット胴１２と、表面に所定パターンの凸部１４ａが設けられた版胴１４と、圧胴（圧接手段）１６と、コーティングダイ（インキ塗布手段）１８と、ビーム源（変性手段）２０と、清掃ユニット（清掃手段）２２と、洗浄ユニット（洗浄手段）２４とを備える。
【００３２】
ブランケット胴１２（ブランケット１２ａ）の周囲には、ブランケット胴１２の回転方向（図１の矢印Ａ方向）の順に、コーティングダイ１８、ビーム源２０、版胴１４、圧胴１６及び清掃ユニット２２が配置されている。版胴１４の周囲には、版胴１４の回転方向（図１の矢印Ｂ方向）の順に、ブランケット胴１２（ブランケット１２ａ）及び洗浄ユニット２４が配置されている。
【００３３】
（１．１）ブランケット胴及びブランケット
ブランケット胴１２は円柱形状を呈している。ブランケット胴１２は、中心軸１２ｂが図示しない支持体によって支持されており、それにより中心軸１２ｂ回りに回転可能となっている。
【００３４】
ブランケット１２ａは、円筒状を呈し、所定の弾性を有しており、ブランケット胴１２の周面上に形成されている。ブランケット１２ａの材料としては、特に制限されないが、シリコーン樹脂、フッ素樹脂など耐溶媒性及びインキ膜の離形性に優れた材料を用いることが好ましく、さらに、これらの樹脂の表面を撥水処理等したものを用いることが好ましい。
【００３５】
（１．２）コーティングダイ
コーティングダイ１８は、毛管通路を有する、いわゆるキャピラリコータである。コーティングダイ１８は、図示しないインキ槽からラインを介して供給されるインキを、毛管通路の一端であるインキ入口を介して受け入れ、毛管通路の他端である細長矩形形状のスリットからこのインキを横方向又は下方に向けて排出（装置の構成上の制約による）して、ブランケット１２ａの表面にインキ膜Ｆ（図２等参照）を形成する。
【００３６】
コーティングダイ１８は、スリットの長さ方向がブランケット胴１２の中心軸１２ｂの方向と平行となるように配置されている。スリットの幅は、特に限定されないが、０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍ程度が好ましい。なお、比較的均一な厚みのインキ膜Ｆをブランケット１２ａの表面に塗布できるコーターであれば、例えば、ワイヤバーコータ、スリットコータ、ダイコータ等の種々のインキ塗布手段を用いることが可能である。とりわけインキ膜Ｆの均一性の点から、ダイコータやキャピラリコータが好ましい。
【００３７】
コーティングダイ１８は、図示しないコーティングダイ移動部によって移動可能とされている。具体的には、図１に示されるように、コーティングダイ１８がブランケット胴１２の側方に配置されている場合、コーティングダイ１８はコーティングダイ移動部によって左右方向に移動される。また、コーティングダイ１８がブランケット胴１２の上方に配置されている場合、コーティングダイ１８はコーティングダイ移動部によって上下方向に昇降される。また、コーティングダイ１８がブランケット胴１２の下方に配置されている場合も、コーティングダイ１８はコーティングダイ移動部によって上下方向に昇降される。
【００３８】
インキ槽は、インキを貯留するタンクである。このインキ槽は、図示しないインキ槽昇降部によって昇降可能とされている。
【００３９】
ここで、インキ槽とコーティングダイ１８との上下方向の相対位置を調節することにより、スリットから排出されるインキの排出速度を調節できる。また、スリットからのインキの排出速度と、ブランケット胴１２の回転速度とを調節することにより、ブランケット１２ａ上に塗工されるインキ膜Ｆの厚みを制御できる。インキ膜Ｆの厚みは、例えば、１μｍ〜２μｍ程度とすることができる。
【００４０】
（１．３）インキ
本発明において用いられるインキは、架橋可能な架橋性樹脂組成物を含むものであり、架橋することにより透明着色樹脂層やブラックマトリクスやスペーサを形成できる。ブラックマトリクスやスペーサは、遮光性樹脂層であることが好ましい。
【００４１】
架橋性樹脂組成物としては、紫外線、可視光線等の光が照射されると架橋する光架橋性樹脂組成物や、加熱されると架橋する熱架橋性樹脂組成物、Ｘ線、γ線、電子線等の電離放射線の照射により架橋する電離放射線架橋性樹脂組成物が挙げられる。ただし、紫外線、可視光線等の光照射による架橋は、インク塗布後にインク膜Ｆの流動性を制御する手段としては必ずしも必須ではなく、形成されたインキパターン（詳しくは後述する）を固定するために樹脂を架橋するようにしてもよい。
【００４２】
このような架橋性樹脂組成物は、バインダーポリマー、架橋材、及び、架橋開始剤を含むことができる。架橋開始剤としては、光架橋開始剤、熱架橋開始剤、電離放射線架橋開始剤等が挙げられる。熱架橋開始剤は、基材の仕様温度以下の熱で使用可能であることが好ましい。
【００４３】
また、所望の着色や遮光性を得るために、インキは、着色剤を含むことができる。
【００４４】
さらに、必要に応じて、インキは、粘度を調整するための溶媒、着色剤の安定性を改善するための分散剤や界面活性剤を含むことができる。以下各成分について詳述する。
【００４５】
（１．３．１）着色剤
着色剤としては染料や顔料を用いることができるが、特に、耐環境性、耐熱性に優れる顔料を用いることが好適である。顔料としては有機および無機顔料を用いることができ、具体的には、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists出版）でピグメント（Pigment）に分類されている化合物が挙げられる。具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７３、C.I.ピグメントイエロー１９４、C.I.ピグメントイエロー２１４などの黄色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５９、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７３などのオレンジ色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１０５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメンレッド２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６５などの赤色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０などの青色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３２、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３８などの紫色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７などの緑色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５などの茶色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７などの黒色顔料などが挙げられる。好ましい顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６が挙げられる。これらの有機顔料および無機顔料は、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。これらの有機顔料および無機顔料のうち、有機顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸性基または塩基性基が導入された顔料誘導体などを用いた表面処理、高分子化合物などによる顔料表面へのグラフト処理、硫酸微粒化法などによる微粒化処理、あるいは不純物を除去するための有機溶剤や水などによる洗浄処理が施されていてもよい。
【００４６】
着色剤の含有量は、インキの全固形分に対して質量分率で通常１質量％以上６０質量％以下、好ましくは３質量％以上５０質量％以下の範囲で用いられる。
【００４７】
（１．３．２）架橋性樹脂組成物
架橋性樹脂組成物は、光、電離放射線の照射や加熱により架橋してネットワーク構造（三次元網目構造）を形成し得る透明な樹脂である。
【００４８】
架橋性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）架橋剤、及び（Ｃ）架橋開始剤を含むことができる。
【００４９】
（Ａ）バインダーポリマー
バインダーポリマーは、着色剤を分散することができ、かつ、架橋剤と重合してネットワーク構造を形成させることができる透明樹脂であれば特に限定されない。
【００５０】
バインダーポリマーとしては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物、メチル（メタ）アクリレートやエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル化合物、アミノエチルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル化合物、グリシジル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル化合物、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル化合物、（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンのような不飽和カルボン酸オキセタンエステル化合物等を単量体とするポリマーが挙げられる。
【００５１】
また、バインダーポリマーとしては、メラミンアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂を挙げることもできる。
【００５２】
バインダーポリマーとしては、上述の単量体をそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせた共重合体を使用することもできる。共重合体としては、例えばベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、スチレン／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体などが挙げられる。特に、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体が好ましい。共重合体におけるカルボキシル基を有する単量体単位の含有量は質量分率で５〜５０％、好ましくは１０〜４０％である。
【００５３】
バインダーポリマーは、ポリスチレンを標準としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で求められる重量平均分子量が５，０００〜４００，０００の範囲（さらには１０，０００〜３００，０００の範囲にあるのが好ましい。バインダーポリマーは、インキの全固形分に対して質量分率で通常５〜９０％の範囲、好ましくは２０〜７０％の範囲で用いられる。
【００５４】
（Ｂ）架橋剤
架橋剤は、光や電離放射線の照射、あるいは、加熱により架橋開始剤から発生した活性ラジカル、酸などによって重合開始し得る化合物であり、バインダーポリマーと重合反応を生じてネットワーク構造を形成させる重合性化合物である。架橋剤としては、例えば重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられる。架橋剤は、単官能の重合性化合物であってもよいし、２官能または３官能以上の多官能の重合性化合物であってもよい。単官能重合性化合物としては、例えばノニルフェニルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。２官能重合性化合物としては、例えば１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。３官能以上の重合性化合物としては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。好ましい架橋剤としては、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートである。
【００５５】
このような架橋剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。１種類の架橋剤を単独で用いる場合には２官能以上の重合性化合物が好ましく用いられ、２種以上の架橋剤を用いる場合には少なくとも１種は２官能以上の重合性化合物を用いることが好ましい。架橋剤の使用量は、バインダーポリマーおよび架橋剤の合計量１００質量部あたり通常は０．１質量部以上７０質量部以下、好ましくは１質量部以上６０質量部以下である。
【００５６】
加熱による活性ラジカル、酸発生剤としては、被印刷物の物性を考慮して加熱による収縮等が生じない範囲で使用することが可能な開始剤を選定することが好ましい。また、光、電離放射線の照射による活性ラジカル、酸発生剤を併用することもできる。
【００５７】
（Ｃ）架橋開始剤
架橋開始剤は、光や電離放射線の照射、あるいは、加熱によりラジカル等の活性種を生じ、バインダーポリマーと架橋剤との架橋反応を開始させる化合物である。
【００５８】
光架橋開始剤としては、光を照射されることによって活性ラジカルを発生する活性ラジカル発生剤が挙げられ、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、トリアジン系化合物、メタロセン化合物などが挙げられる。アセトフェノン系化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマーなどが挙げられる。ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オン メソクロライドなどが挙げられる。トリアジン系化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。光架橋発生剤としては、活性ラジカル発生剤を使用することができ、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などを用いることもできる。このような光架橋開始剤として、市販のものを用いることもできる。市販の光架橋開始剤としては、例えば、商品名「Irgacure-907」（アセトフェノン系光重合開始剤、CibaSpecialtyChemicals社製）などが挙げられる。メタロセン化合物としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムが挙げられる。
【００５９】
これらの光架橋開始剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。光架橋開始剤の使用量は、バインダーポリマーおよび架橋剤の合計量１００質量部に対して通常１質量部以上３０質量部以下、好ましくは３質量部以上２０質量部以下である。
【００６０】
また、熱架橋開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類、ターシャリーブチルパーオキサイド等のアルキルパーオキサイド類、パーオキシジカーボネート類、パーオキシケタール類、パーオキシエステル類、アルキルパーエステル類等の公知の開始剤を任意好適に用いることができる。これらの熱架橋開始剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６１】
また、電離放射線架橋開始剤としても、公知の開始剤を任意好適に用いることができる。これらの電離放射線架橋開始剤はそれぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６２】
ここで、これらの架橋開始剤の量は、ビーム源２０によって半架橋状態（詳しくは後述）まで架橋させるのに必要な量よりも過剰に配合し、被印刷体Ｐに転写した後の最終的な加熱や光の照射等によって透明着色樹脂層やブラックマトリクスやスペーサ等を完全に硬化させることができるようにすることが好ましい。
【００６３】
（１．３．３）架橋開始助剤
インキは、架橋開始助剤を含有していてもよい。架橋開始助剤は、架橋開始剤と組み合わせて配合され、架橋開始剤によって開始した架橋剤による架橋を促進するために用いられる化合物である。光架橋開始剤と共に用いられる光架橋開始助剤としては、例えばアミン系化合物、アルコキシアントラセン系化合物などが挙げられる。アミン系化合物としては、例えばトリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられる。アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。光架橋開始助剤として市販のものを用いることもでき、市販の光架橋開始助剤としては、例えば商品名「EAB-F」（保土谷化学工業（株）製）などが挙げられる。該光架橋開始助剤を用いる場合、その使用量は、光架橋開始剤１モルあたり通常１０モル以下、好ましくは０．０１モル以上５モル以下である。光架橋開始剤および光架橋開始助剤を用いる場合の使用量は、その合計量がバインダーポリマーおよび架橋剤の合計量１００質量部に対して通常１質量部以上３０質量部以下、好ましくは３質量部以上２０質量部以下である。
【００６４】
また、熱架橋開始剤や電離放射線架橋開始剤用の架橋開始助剤も、公知のものを任意好適に用いることができる。
【００６５】
（１．３．４）溶媒
このインキはさらに溶剤を含んでもよい。溶剤としては、例えば、水や、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類、アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどの芳香族脂肪族エーテル類、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチルなどのエステル類、γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。こうした溶剤は、それぞれ単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができ、インキにおける溶剤の含有量が質量分率で通常２０質量％以上９０質量％以下、好ましくは５０質量％以上８５質量％以下となるように使用される。
【００６６】
（１．３．５）その他の添加剤
このインキは、さらに、その他の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、充填剤、バインダーポリマー以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、凝集防止剤、有機酸、硬化剤などが挙げられる。
【００６７】
界面活性剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤および両性界面活性剤などが挙げられる。
【００６８】
密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００６９】
凝集防止剤としては、例えば、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
【００７０】
また、このインキは、ビーム源２０によって架橋される前にブランケット１２ａの表面で迅速かつ十分にインキ膜Ｆを平坦化（レベリング）すべく、粘度が１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓ、降伏値が１０ｍＰａ以下であることが好ましい。インキ膜Ｆの平坦化は、主としてインキの表面張力によりブランケット１２ａ上でインキが流動することにより起こる。上述の粘度及び降伏値のインキを用いると、インキ膜Ｆが迅速かつ十分に平坦化してインキ膜Ｆの厚みをほぼ均一にできる。ここで、インキの粘度が１ｍＰａ・ｓ未満であると、ブランケット１２ａ上に塗布したインキの垂れや、コーティングダイ１８のスリットからのインキのボタ落ちが生じる傾向にある。インキの粘度が５０ｍＰａ・ｓを超えると、インキ膜の厚みの均一性を十分に確保し難くなり、また、インキ膜Ｆの平坦化に必要な時間が長くなるため生産性が低下しやすい傾向がある。さらに、一般的に入手可能なインキでは、着色材や樹脂を含有しているため、粘度は通常２ｍＰａ・ｓ以上である場合が多い。また、降伏値が１０ｍＰａを超えると、ブランケット１２ａ上でインキ膜Ｆを平坦化（レベリング）することが困難となる傾向があり、塗布むらが顕著になる傾向がある。
【００７１】
（１．４）ビーム源
ビーム源２０は、ブランケット１２ａの表面に塗布されたインキ膜Ｆを変性させる変性手段である。第１実施形態において、ビーム源２０は、ブランケット１２ａの表面に塗布されたインキ膜Ｆに対して、紫外線や赤外線、電離放射線等を照射し、インキ膜Ｆ中の架橋性樹脂組成物を架橋させ、架橋したインキ膜Ｆを形成する。
【００７２】
ビーム源２０としては、インキ中の架橋性樹脂組成物を架橋させることができるビームを照射するものであれば特に限定されない。例えば、架橋性樹脂組成物が紫外線や可視光線等の光の照射により架橋する光架橋性樹脂組成物であれば、ビーム源２０としてその光架橋性樹脂組成物を架橋可能な紫外線や可視光線等の光を放射する光源を用いることができる。このような光源は比較的低コストである。
【００７３】
また、架橋性樹脂組成物が加熱により架橋する熱架橋性樹脂組成物であれば赤外線ランプ等を利用できる。
【００７４】
また、架橋性樹脂組成物が電離放射線の照射により架橋する電離放射線架橋性樹脂組成物であれば、公知の、Ｘ線源、電子銃、γ線源等を利用できる。
【００７５】
特に、インキとして紫外線架橋性樹脂組成物を含むインキを用い、ビーム源２０としてこの紫外線架橋性樹脂組成物を硬化可能な紫外線を発生する紫外線ランプを用いると、低コストな設備でありながら架橋に要する時間を短縮でき、さらに、ブランケット胴１２があまり加熱されずブランケット胴１２等の熱膨張が起きにくいのでインキパターンの位置や形状の精度を極めて高くできて好ましい。
【００７６】
紫外線ランプとしては、高圧水銀ランプ、青色ＬＥＤ、紫外ＬＥＤ、ハロゲンランプ等を好適に用いることができる。
【００７７】
ビーム源２０は、ブランケット１２ａの表面に塗布されてから所定の時間経過した、すなわち、コーティングダイ１８から排出されてブランケット１２ａに貼り付けられた場所から、ブランケット胴１２の回転により所定の距離を移動した後のインキ膜Ｆに光を照射するように配置されている。これにより、このビーム源２０から光が照射される前に、ブランケット１２ａに塗布されたインキ膜Ｆが表面張力等によって十分均一な厚みとなるまで流動、すなわち平坦化することができるようなっている。具体的には、ビーム源２０は、例えば、ブランケット１２ａに塗布されてからブランケット胴１２が１／８〜１／４回転程度移動した後のインキ膜Ｆに光を照射するように配置されている。塗布してから照射するまでの距離（時間）は、インキの性質や塗工速度に応じて適宜好適に設計できる。
【００７８】
ここで、ビーム源２０からのビームの照射の強さを、インキ膜Ｆにおける架橋性樹脂組成物の架橋度が完全架橋状態となる程度の強さとしても良いが、インキ膜７１の架橋性樹脂組成物が半架橋状態すなわちゲル状となる程度の強さとすることが好ましい。こうすることにより、後工程でのインキ膜Ｆからのインキパターンの形成や、このインキパターンの被印刷体Ｐへの転写が好適に行える。
【００７９】
ここで、具体的には、半架橋状態とは、インキ膜Ｆの降伏値が２０ｍＰａ〜５００ｍＰａ程度となる状態である。架橋後のインキ膜Ｆの降伏値が２０ｍＰａ未満の場合には、インキが流動しやすいために、インキパターンが流動し変形したり、インキパターン内の膜厚分布が変動しやすくなり、厚みの均一性やインキパターンの精度が維持し難い傾向にある。一方、降伏値が５００ｍＰａを超える場合には、インキ膜Ｆが硬くなり、インキパターンの形成やインキパターンの被印刷体Ｐへの印刷性が悪くなる傾向がある。
【００８０】
（１．５）版胴
版胴１４は、円柱形状を呈しており、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキ膜Ｆから、被印刷体Ｐに転写しない不要部分を除去してインキパターンを形成するためのものである。版胴１４は、インキ膜Ｆの不要部分に対応する部分に凸部１４ａが所定のパターンで形成されており、インキ膜Ｆの残すべき部分に対応する部分（印字部分）が凹状とされている。凸部１４ａの高さは、例えば１０μｍ程度である。版胴１４は、例えば、金属や樹脂等によって形成することができる。
【００８１】
また、版胴１４は、中心軸１４ｂが図示しない支持体によって支持されており、それにより中心軸１４ｂ回りに回転可能となっている。なお、図示はしていないが、版胴１４には、版胴１４をブランケット胴１２に向けて移動させ、版胴１４の凸部１４ａをブランケット１２ａの表面に対し加圧しつつ接触させる圧接機構が設けられている。
【００８２】
（１．６）清掃ユニット
【００８３】
清掃ユニット２２は、ブランケット１２ａの表面を清掃するものである。清掃ユニット２２は、一対のローラ２２ａと、一対のローラ２２ａに掛け渡された粘着ベルト２２ｂを有する。
【００８４】
一対のローラ２２ａは、共に同方向に回転することで、粘着ベルト２２ｂを回転させる。粘着ベルト２２ｂは、ブランケット１２ａの表面に接触しており、被印刷体Ｐへのインキ膜Ｆの転写後（詳しくは後述する）におけるブランケット１２ａの表面に残存しているインキ膜Ｆを除去する。粘着ベルト２２ｂは、例えば、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系などの樹脂をベースポリマーとする粘着剤が、ゴムや金属製のベルトに形成されたものを用いることができる。また、清掃ユニット２２として、上記のような粘着剤がゴムや金属製のローラの表面に形成されたものを用いることもできる。市販の粘着ローラとして、商品名「クリーンルーム用剥離帯電防止クリーニングローラー」（タニムラ株式会社製）を例示することができる。
【００８５】
なお、清掃ユニット２２としては、後述する洗浄ユニット２４と同様のものを用いてもよいが、ブランケット１２ａは溶媒を容易に吸収して膨潤するため、インキパターンの転写性能の観点から、上記のような粘着ベルト２２ｂをブランケット１２ａの表面に直接接触させることでインキ膜Ｆを除去することがより好ましい。
【００８６】
（１．７）洗浄ユニット
洗浄ユニット２４は、版胴１４の表面を洗浄するものである。洗浄ユニット２４は、液体噴射ノズル２４ａと、気体噴射ノズル２４ｂと、筐体２４ｃとを有する。
【００８７】
液体噴射ノズル２４ａは、ブランケット１２ａの表面又は版胴１４の表面に洗浄液を噴射する。液体噴射ノズル２４ａから噴射される洗浄液の圧力は、５ＭＰａ〜５０ＭＰａ程度の高圧にすることが好ましい。ここで、洗浄液としては、水や樹脂の溶媒を用いることができる。
【００８８】
気体噴射ノズル２４ｂは、いわゆるエアナイフであり、ブランケット１２ａの表面又は版胴１４の表面に気体（空気）を噴射する。筐体２４ｃは、版胴１４に向けて開放されている。筐体２４ｃ内部は、隔壁によって３つの部屋に区画されており、各部屋は、版胴１４の回転方向（図１の矢印Ｂ方向）に沿って並んでいる。
【００８９】
各部屋のうち版胴１４の回転方向の最も上流側に位置する部屋の中には、液体噴射ノズル２４ａが配置されている。各部屋のうち版胴１４の回転方向の最も下流側に位置する部屋の中には、気体噴射ノズル２４ｂが配置されている。各部屋には、版胴１４とは離れた側の壁部に、排気及び排液のための管がそれぞれ設けられている。
【００９０】
（１．８）圧胴
圧胴１６は、円柱形状を呈しており、インキパターンが転写されるべき被印刷体Ｐを支持する。圧胴１６は、中心軸１６ｂが図示しない支持体によって支持されており、それにより中心軸１６ｂ回りに回転可能となっている。
【００９１】
なお、図示はしていないが、圧胴１６には、圧胴１６をブランケット胴１２に向けて移動させ、圧胴１６をブランケット１２ａの表面に対し加圧しつつ接触させる圧接機構が設けられている。
【００９２】
（２）印刷方法
続いて、図２〜図４を参照して、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａを用いた被印刷体Ｐへのインキパターンの印刷方法について説明する。
【００９３】
まず、図示しないコーティングダイ移動部によってコーティングダイ１８を移動させ、コーティングダイ１８のスリットとブランケット１２ａの表面との間隔を約３０μｍ〜３００μｍとする。次に、インキ槽移動部によってインキ槽に貯留されているインキの水面をコーティングダイ１８のスリットよりも上昇させることで、コーティングダイ１８のスリットからインキを少し排出させて、ビード（液の盛り上がり）を形成する。
【００９４】
続いて、コーティングダイ１８をさらにブランケット１２ａの表面に近づけて、ビードをブランケット１２ａの表面に接触（接液）させた後、コーティングダイ１８とブランケット１２ａの表面との間隔を５０μｍ〜２００μｍ程度に調整し、コーティングを開始する。このときのコーティングダイ１８とブランケット１２ａの表面と間隔は、インキの種類などに応じて適宜調整される。この状態で、ブランケット胴１２を時計回り（図２の矢印Ａ方向）に回転させることで、コーティングダイ１８のスリットからインキを引き出して、ブランケット１２ａの表面にインキ膜Ｆを形成する。
【００９５】
そして、ブランケット胴１２は、インキ膜Ｆがブランケット１２ａの表面に張り付いてから１／８〜１／４回転程度回転され、この間にインキ膜Ｆは、その表面張力等により表面が平滑化され膜厚が均一化される。
【００９６】
続いて、図２に示されるように、このように厚みが均一となったインキ膜Ｆに対して、ビーム源２０から紫外線等のビームを照射することにより、インキ膜Ｆ中の架橋性樹脂組成物が架橋する。架橋したインキ膜Ｆは、粘度や降伏値が架橋前のインキ膜Ｆよりも上昇した状態となり、インキの流動性が低くなっている。従って、ビーム源２０のビーム照射により、インキ膜Ｆの厚みの均一性が極めて高い状態がブランケット１２ａにおいて維持されることとなる。
【００９７】
さらにブランケット胴１２が回転すると、図３に示されるように、架橋したインキ膜Ｆが版胴１４の凸部１４ａに付着する。これにより、インキ膜Ｆのうち版胴１４の凸部１４ａに対応する部分Ｆ１が、ブランケット１２ａの表面から除去されて版胴１４の凸部１４ａの表面に移載し、ブランケット１２ａの表面にはインキパターンＦ２が形成される。つまり、インキパターンＦ２は、版胴１４の凸部１４ａでない部分（凹部）に対応する形状となっている。なお、このとき版胴１４の凸部１４ａは、図示しない圧接機構によりブランケット１２ａの表面に圧接されている。
【００９８】
さらにブランケット胴１２が回転すると、図４に示されるように、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキパターンＦ２がフィルム状の被印刷体Ｐに連続的に転写される。なお、このとき、圧胴１６は、ブランケット胴１２とは逆方向（図４の矢印Ｃ方向）に回転しており、図示しない圧接機構によりブランケット１２ａの表面に圧接されている。
【００９９】
その後、必要に応じてインキパターンＦ２を加熱したり、インキパターンＦ２に光を照射したりして、インキパターンＦ２を完全に硬化する。以上の工程を赤色、緑色、青色の各色のインキについて行うことにより、各色の透明着色樹脂層が被印刷体Ｐ上に形成されることとなる。
【０１００】
なお、被印刷体Ｐへのインキパターンの印刷を行う際には、図示しない温度調節手段によって、ブランケット胴１２、版胴１４及び圧胴１６の温度を、２５℃以上８０℃以下で、且つ、予め設定された設定温度に対して±２℃以内となるように維持すると好ましい。ブランケット胴１２、版胴１４及び圧胴１６の温度が２５℃未満であると、インキの乾燥が遅くなるので、生産性が低下する傾向にあり、場合によっては版胴１４の表面に結露が生じ、転写不良が発生することもある。ブランケット胴１２、版胴１４及び圧胴１６の温度が８０℃を超えると、インキの乾燥が速くなりすぎてしまい、転写性のコントロールが難しくなる傾向にあると共に、ブランケット１２ａの表面にインキパターンＦ２を形成する際に版胴１４の温度変化に伴う熱膨張の制御も難しくなり、被印刷体ＰにインキパターンＦ２を転写するときの位置精度が低下してしまう傾向にある。また、図示しない温度調節手段により、ブランケット胴１２、版胴１４及び圧胴１６の温度が、予め設定された設定温度に対して±２℃以内の変動幅を超えると、版の変形や寸法変化が大きくなるので、転写精度が低下する傾向にある。
【０１０１】
さらに、必要に応じて、これらの透明着色樹脂層上にオーバーコート層や、ＩＴＯ等から形成され液晶の共通電極として用いられる透明導電膜をそれぞれ公知の方法により形成することによって、液晶用のカラーフィルタが完成する。
【０１０２】
さらに、液晶表示素子を形成する場合には、例えば、引き続いて、公知の方法により、透明導電膜上に配向膜を形成し、配向膜上にスペーサを挟んでＴＦＴ基板を対向配置し、配向膜とＴＦＴ基板との間に液晶を封入する。ＴＦＴ基板は、ＴＦＴ機能素子の下面に画素電極及び配向膜を有しており、ＴＦＴ機能素子の上には偏光膜が形成されている。このスペーサを、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａで形成してもよい。
【０１０３】
以上のような第１実施形態に係る印刷装置１０Ａにおいては、ブランケット胴１２及び版胴１４が共に円柱状で且つ回転可能とされている。また、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａにおいては、ブランケット胴１２の周囲に、ブランケット胴１２の回転方向の順に、コーティングダイ１８、ビーム源２０、版胴１４、圧胴１６及び清掃ユニット２２を配置しており、版胴１４の周囲に、版胴１４の回転方向の順に、ブランケット胴１２及び洗浄ユニット２４を配置している。そのため、ブランケット胴１２においては、ブランケット１２ａへのインキの塗布、インキ膜Ｆの所定部分の除去、インキパターンＦ２の被印刷体Ｐへの転写及びブランケット１２ａの表面の清掃が順次行われ、版胴１４においては、インキ膜Ｆの版胴１４の凸部１４ａへの移載及び版胴１４の表面の洗浄が順次行われることとなる。その結果、被印刷体Ｐが基板である場合のみならずフィルム等の可撓性を有するものであっても、厚みの均一性及びパターンの精度に優れた樹脂層を連続的に印刷することが可能となっている。
【０１０４】
また、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａにおいては、ビーム源２０によってインキ膜Ｆ中の架橋性樹脂組成物を架橋させ、架橋したインキ膜Ｆを形成している。このようにすると、ブランケット１２ａの表面におけるインキ膜Ｆの流動性が低下することで、インキ膜Ｆの厚みの均一性がより十分に維持されることとなる。そのため、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキパターンＦ２を、その精度を維持したままブランケット１２ａの表面に保持することができる。その結果、被印刷体Ｐに形成される樹脂層における厚みの均一性及びパターンの精度がより優れたものとなる。
【０１０５】
［第２実施形態］
（１）印刷装置の構成
続いて、図５を参照して、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂの構成について、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａとの相違点を中心に説明する。
【０１０６】
ブランケット胴１２（ブランケット１２ａ）の周囲には、ブランケット胴１２の回転方向（図５の矢印Ａ方向）の順に、コーティングダイ１８、ビーム源２０、版胴１４及び清掃ユニット２２が配置されている。版胴１４の周囲には、版胴１４の回転方向（図５の矢印Ｂ方向）の順に、ブランケット胴１２（ブランケット１２ａ）、圧胴１６及び洗浄ユニット２４が配置されている。
【０１０７】
（２）印刷方法
続いて、図６〜図８を参照して、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂを用いた被印刷体Ｐへの印刷方法について、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａを用いた被印刷体Ｐへの印刷方法との相違点を中心に説明する。
【０１０８】
図６に示されるように、厚みが均一となったインキ膜Ｆに対して、ビーム源２０から紫外線等のビームを照射することにより、インキ膜Ｆ中の架橋性樹脂組成物が架橋する。
【０１０９】
さらにブランケット胴１２が回転すると、図７に示されるように、架橋したインキ膜Ｆが版胴１４の凸部１４ａに付着する。これにより、インキ膜Ｆのうち版胴１４の凸部１４ａに対応する部分Ｆ１が、ブランケット１２ａの表面から除去されて版胴１４の凸部１４ａの表面に移載する。
【０１１０】
さらにブランケット胴１２が回転すると、図８に示されるように、版胴１４の凸部１４ａの表面に移載したインキ膜Ｆ１がフィルム状の被印刷体Ｐに連続的に転写される。つまり、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂでは、版胴１４の凸部１４ａのパターンがそのままインキパターンＦ２となる。
【０１１１】
その後、必要に応じてインキパターンＦ２を加熱したり、インキパターンＦ２に光を照射したりして、インキパターンＦ２を完全に硬化する。
【０１１２】
以上のような第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂおいては、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａと同様の作用効果を奏する。
【０１１３】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。例えば、上記第１及び第２実施形態ではフィルム状の被印刷体Ｐを例に説明したが、図９に示されるように、被印刷体Ｐとしてガラス基板等の基板を用いた印刷装置１０Ｃにも本発明を適用できる。このとき、基板である被印刷体Ｐをステージ２６に載置した状態で、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキパターンを被印刷体Ｐに転写する。インキパターンの被印刷体Ｐへの転写の際には、ステージ２６を移動させるようにしてもよく、ステージ２６以外を移動させるようにしてもよい。なお、このときステージ２６は、図示しない圧接機構によりブランケット１２ａの表面に圧接されている。さらに、図９では、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａと同様、ブランケット１２ａの表面に形成されたインキパターンを基板である被印刷体Ｐに転写しているが、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂと同様、版胴１４の凸部１４ａの表面に移載されたインキ膜Ｆ１を基板である被印刷体Ｐに転写するようにしてもよい。
【０１１４】
また、図１０に示されるように、非接触センサ（計測手段）２８を用いてブランケット１２ａの厚み方向における変位量（ブランケット１２ａの膨潤）を計測するようにしてもよい。そして、この非接触センサ２８によって計測された当該変位量に基づいて、第１実施形態に係る印刷装置１０Ａの場合には、ブランケット１２ａの表面と版胴１４の表面との直線距離、及び、ブランケット１２ａの表面と被印刷体Ｐとの直線距離のうち少なくとも一方を、第２実施形態に係る印刷装置１０Ｂの場合には、ブランケット１２ａの表面と版胴１４の表面との直線距離を、調整するようにしてもよい。
【０１１５】
調整は、図１１に示されるような調整機構３０Ａを用いることができる。調整機構３０Ａは、台座部３０ａと、ねじ部３０ｂとを有する。ねじ部３０ｂは、図１１のＺ軸方向に沿って延びており、その一端が台座部３０ａと接続され、その他端がブランケット胴１２の中心軸１２ｂを支持する軸受３２に取り付けられている。軸受３２の両側には、ガイドとして機能する一対の軸受ガイド３４が配置されている。そのため、このような構成を有する調整機構３０Ａでは、ねじ部３０ｂを図示しない駆動源によって回転させることで、一対の軸受ガイド３４に沿ってブランケット胴１２が昇降し、ブランケット胴１２の高さが調整されることとなる。
【０１１６】
また、調整は、図１２に示されるような調整機構３０Ｂを用いることもできる。調整機構３０Ｂは、台座部３０ａと、ねじ部３０ｂと、テーパ部材３０ｃとを有する。ねじ部３０ｂは、図１２のＹ軸方向に沿って延びており、その一端がテーパ部材３０ｃと螺合している。テーパ部材３０ｃは、その下面が台座部３０ａと当接しており、その上面が下面に対して傾斜した傾斜面となっている。そのため、このような構成を有する調整機構３０Ｂでは、ねじ部３０ｂを図示しない駆動源によって回転させてテーパ部材３０ｃを図１２のＹ軸方向に沿って移動させることで、一対の軸受ガイド３４に沿ってブランケット胴１２が昇降し、ブランケット胴１２の高さが調整されることとなる。
【０１１７】
ところで、ブランケット１２ａに低粘度のインキを塗布すると、インキに含まれる溶剤がブランケット１２ａに浸透し、ブランケット１２ａを膨潤させる。このようにブランケット１２ａが膨潤すると、版胴１４の凸部１４ａ以外の部分にもブランケット１２ａが接触してしまい、本来ブランケット１２ａに残さなければならないインキまでもが版胴１４の凸部１４ａに移載されてしまうことがある。しかしながら、上記のように、計測手段２８によってブランケット１２ａの膨潤量を把握し、この変位量（膨潤量）に基づいて、調整機構３０Ａ，３０Ｂによって、上記直線距離に関しフィードバック制御を行うことで、被印刷体Ｐに形成される樹脂層のパターンを高精度に維持することができ、また、調整作業が簡略化されることにより印刷装置の稼働率を従来よりも高めることができる。
【０１１８】
また、架橋性樹脂組成物以外にもブランケット１２ａの表面に形成したインキ樹脂の流動性を制御することは可能である。例えば、ブランケット１２ａへのインキの塗布時にインキに含まれる溶媒をブランケット１２ａに吸収させたり、ブランケット１２ａの表面に形成したインキ膜Ｆの表面からインキに含まれる溶媒を自然蒸発又は強制的に蒸発させたりすることで、インキ樹脂の流動性を制御することができる。ブランケット１２ａの表面に形成したインキ膜Ｆの表面からインキに含まれる溶媒を強制的に蒸発させる場合には、溶媒の蒸発を促進するための加温手段（ヒータ）を用いることができる。
【０１１９】
また、カラーフィルタの透明着色樹脂層やブラックマトリクスやスペーサに限らず、他の電子デバイスの形成等に用いる樹脂層、例えば、レジスト層等のパターン形成にも本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２０】
【図１】図１は、第１実施形態に係る印刷装置を示す概略図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係る印刷装置を用いた被印刷体への印刷方法を説明するための図である。
【図３】図３は、図２の後続の工程を示す図である。
【図４】図４は、図３の後続の工程を示す図である。
【図５】図５は、第２実施形態に係る印刷装置を示す概略図である。
【図６】図６は、第２実施形態に係る印刷装置を用いた被印刷体への印刷方法を説明するための図である。
【図７】図７は、図６の後続の工程を示す図である。
【図８】図８は、図７の後続の工程を示す図である。
【図９】図９は、第３実施形態に係る印刷装置を示す概略図である。
【図１０】図１０は、ブランケット胴と非接触センサとのカンケイを模式的に示す図である。
【図１１】図１１の（ａ）は、ブランケット胴の高さを調節する機構を示す要部断面図であり、図１１の（ｂ）は、ブランケット胴の高さを調節する機構を示す側面図である。
【図１２】図１２は、ブランケット胴の高さを調節する他の機構を示す要部断面図である。
【符号の説明】
【０１２１】
１０Ａ〜１０Ｃ…印刷装置、１２…ブランケット胴、１２ａ…ブランケット、１４…版胴、１４ａ…凸部、１６…圧胴（圧接手段）、１８…コーティングダイ（インキ塗布手段）、２０…ビーム源（変性手段）、２２…清掃ユニット（清掃手段）、２４…洗浄ユニット（洗浄手段）、２８…非接触センサ（計測手段）、Ｆ…インキ膜、Ｆ２…インキパターン、Ｐ…被印刷体。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブランケットが表面に設けられ、回転可能とされた円柱状のブランケット胴と、
所定パターンの凸部が表面に設けられ、回転可能とされた円柱状の版胴と、
被印刷体を前記ブランケットに加圧しつつ接触させる圧接手段と、
インキを塗布するインキ塗布手段と、
前記ブランケットの表面を清掃する清掃手段と、
前記版胴の表面を洗浄する洗浄手段とを備え、
前記ブランケット胴の周囲には、前記ブランケット胴の回転方向の順に、前記インキ塗布手段、前記版胴、前記圧接手段及び前記清掃手段が配置され、
前記版胴の周囲には、前記版胴の回転方向の順に、前記ブランケット胴及び前記洗浄手段が配置されており、
前記インキ塗布手段は、前記ブランケットの表面にインキを塗布することで、前記ブランケットの表面にインキ膜を形成し、
前記版胴は、前記インキ膜に前記凸部を付着させることで前記ブランケットの表面から前記インキ膜のうち所定の部分を除去して、前記ブランケットの表面に所定のインキパターンを形成し、
前記圧接手段は、前記被印刷体を前記ブランケットに加圧しつつ接触させることで、前記ブランケットの表面上の前記インキパターンを前記被印刷体に連続的に転写する印刷装置。
【請求項２】
前記ブランケットの厚み方向における変位量を計測する計測手段と、
前記計測手段によって計測される変位量に基づいて、前記ブランケットの表面と前記版胴の表面との直線距離、及び、前記ブランケットの表面と前記被印刷体との直線距離のうち少なくとも一方を調整する調整手段とを更に備える請求項１に記載された印刷装置。
【請求項３】
ブランケットが表面に設けられ、回転可能とされた円柱状のブランケット胴と、
所定パターンの凸部が表面に設けられ、回転可能とされた円柱状の版胴と、
被印刷体を前記版胴に加圧しつつ接触させる圧接手段と、
インキを塗布するインキ塗布手段と、
前記ブランケットの表面を清掃する清掃手段と、
前記版胴の表面を洗浄する洗浄手段とを備え、
前記ブランケット胴の周囲には、前記ブランケット胴の回転方向の順に、前記インキ塗布手段、前記版胴及び前記清掃手段が配置され、
前記版胴の周囲には、前記版胴の回転方向の順に、前記ブランケット胴、前記圧接手段及び前記洗浄手段が配置されており、
前記インキ塗布手段は、前記ブランケットの表面にインキを塗布することで、前記ブランケットの表面にインキ膜を形成し、
前記版胴は、前記インキ膜に前記凸部を付着させることで、前記ブランケットの表面から前記インキ膜のうち所定の部分を前記版胴の前記凸部の表面に移載し、
前記圧接手段は、前記被印刷体を前記版胴に加圧しつつ接触させることで、前記版胴の前記凸部の表面に移載された前記インキ膜を前記被印刷体に連続的に転写する印刷装置。
【請求項４】
前記ブランケットの厚み方向における変位量を計測する計測手段と、
前記計測手段によって計測される変位量に基づいて、前記ブランケットの表面と前記版胴の表面との直線距離を調整する調整手段とを更に備える請求項３に記載された印刷装置。
【請求項５】
前記ブランケットの表面に形成された前記インキ膜を変性させて、前記インキ膜の流動性を低下させる変性手段を更に備え、
前記変性手段は、前記ブランケット胴の周囲において、前記インキ塗布手段よりも前記ブランケット胴の回転方向の下流側で且つ前記版胴よりも前記ブランケット胴の回転方向の上流側に配置されている請求項１〜４のいずれか一項に記載された印刷装置。
【請求項６】
前記インキ塗布手段によって塗布される前記インキには、架橋性樹脂組成物が含まれており、
前記変性手段は、前記ブランケットの表面に形成された前記インキ膜の前記架橋性樹脂組成物を架橋させる請求項５に記載された印刷装置。
【請求項７】
前記版胴の周囲に配置されている前記洗浄手段は、前記版胴の表面に洗浄液を噴射する液体噴射ノズルと、前記版胴の表面に気体を噴射して前記版胴の表面の水分を除去する気体噴射ノズルとを有する請求項１〜６のいずれか一項に記載された印刷装置。
【請求項８】
ブランケットが表面に設けられた円柱状のブランケット胴、及び、所定パターンの凸部が表面に設けられた円柱状の版胴の回転中に、
前記ブランケットの表面にインキを塗布することで、前記ブランケットの表面にインキ膜を形成するインキ塗布工程と、
前記インキ膜に前記版胴の前記凸部を付着させることで前記ブランケットの表面から前記インキ膜のうち所定の部分を除去して、前記ブランケットの表面に所定のインキパターンを形成するインキパターン形成工程と、
被印刷体を前記ブランケットに加圧しつつ接触させることで、前記ブランケットの表面上の前記インキパターンを前記被印刷体に連続的に転写する転写工程と、
前記ブランケットの表面のうち、前記転写工程において前記ブランケット上の前記インキパターンが前記被印刷体に転写された後の部分を清掃する清掃工程と、
前記版胴の表面のうち、前記インキパターン形成工程において前記版胴の前記凸部に前記インキ膜が付着された部分を洗浄する洗浄工程とを行う印刷方法。
【請求項９】
ブランケットが表面に設けられた円柱状のブランケット胴、及び、所定パターンの凸部が表面に設けられた円柱状の版胴の回転中に、
前記ブランケットの表面にインキを塗布することで、前記ブランケットの表面にインキ膜を形成するインキ塗布工程と、
前記インキ膜に前記版胴の前記凸部を付着させることで、前記ブランケットの表面から前記インキ膜のうち所定の部分を前記版胴の前記凸部の表面に移載する移載工程と、
被印刷体を前記版胴に加圧しつつ接触させることで、前記版胴の表面に移載された前記インキ膜を前記被印刷体に連続的に転写する転写工程と、
前記ブランケットの表面のうち、前記移載工程において前記ブランケット上の前記インキ膜が前記版胴の前記凸部に移載された後の部分を清掃する清掃工程と、
前記版胴の表面のうち、前記転写工程において前記版胴の前記凸部から前記インキ膜が前記被印刷体に転写された後の部分を洗浄する洗浄工程とを行う印刷方法。
【請求項１０】
前記ブランケット胴、前記版胴及び前記圧接手段の温度を、２５℃以上８０℃以下で、且つ、予め設定された設定温度に対して±２℃以内となるように維持する請求項８又は９に記載された印刷方法。
【請求項１１】
前記被印刷体はフィルム状である請求項８〜１０のいずれか一項に記載された印刷方法。
【請求項１】
ブランケットが表面に設けられ、回転可能とされた円柱状のブランケット胴と、
所定パターンの凸部が表面に設けられ、回転可能とされた円柱状の版胴と、
被印刷体を前記ブランケットに加圧しつつ接触させる圧接手段と、
インキを塗布するインキ塗布手段と、
前記ブランケットの表面を清掃する清掃手段と、
前記版胴の表面を洗浄する洗浄手段とを備え、
前記ブランケット胴の周囲には、前記ブランケット胴の回転方向の順に、前記インキ塗布手段、前記版胴、前記圧接手段及び前記清掃手段が配置され、
前記版胴の周囲には、前記版胴の回転方向の順に、前記ブランケット胴及び前記洗浄手段が配置されており、
前記インキ塗布手段は、前記ブランケットの表面にインキを塗布することで、前記ブランケットの表面にインキ膜を形成し、
前記版胴は、前記インキ膜に前記凸部を付着させることで前記ブランケットの表面から前記インキ膜のうち所定の部分を除去して、前記ブランケットの表面に所定のインキパターンを形成し、
前記圧接手段は、前記被印刷体を前記ブランケットに加圧しつつ接触させることで、前記ブランケットの表面上の前記インキパターンを前記被印刷体に連続的に転写する印刷装置。
【請求項２】
前記ブランケットの厚み方向における変位量を計測する計測手段と、
前記計測手段によって計測される変位量に基づいて、前記ブランケットの表面と前記版胴の表面との直線距離、及び、前記ブランケットの表面と前記被印刷体との直線距離のうち少なくとも一方を調整する調整手段とを更に備える請求項１に記載された印刷装置。
【請求項３】
ブランケットが表面に設けられ、回転可能とされた円柱状のブランケット胴と、
所定パターンの凸部が表面に設けられ、回転可能とされた円柱状の版胴と、
被印刷体を前記版胴に加圧しつつ接触させる圧接手段と、
インキを塗布するインキ塗布手段と、
前記ブランケットの表面を清掃する清掃手段と、
前記版胴の表面を洗浄する洗浄手段とを備え、
前記ブランケット胴の周囲には、前記ブランケット胴の回転方向の順に、前記インキ塗布手段、前記版胴及び前記清掃手段が配置され、
前記版胴の周囲には、前記版胴の回転方向の順に、前記ブランケット胴、前記圧接手段及び前記洗浄手段が配置されており、
前記インキ塗布手段は、前記ブランケットの表面にインキを塗布することで、前記ブランケットの表面にインキ膜を形成し、
前記版胴は、前記インキ膜に前記凸部を付着させることで、前記ブランケットの表面から前記インキ膜のうち所定の部分を前記版胴の前記凸部の表面に移載し、
前記圧接手段は、前記被印刷体を前記版胴に加圧しつつ接触させることで、前記版胴の前記凸部の表面に移載された前記インキ膜を前記被印刷体に連続的に転写する印刷装置。
【請求項４】
前記ブランケットの厚み方向における変位量を計測する計測手段と、
前記計測手段によって計測される変位量に基づいて、前記ブランケットの表面と前記版胴の表面との直線距離を調整する調整手段とを更に備える請求項３に記載された印刷装置。
【請求項５】
前記ブランケットの表面に形成された前記インキ膜を変性させて、前記インキ膜の流動性を低下させる変性手段を更に備え、
前記変性手段は、前記ブランケット胴の周囲において、前記インキ塗布手段よりも前記ブランケット胴の回転方向の下流側で且つ前記版胴よりも前記ブランケット胴の回転方向の上流側に配置されている請求項１〜４のいずれか一項に記載された印刷装置。
【請求項６】
前記インキ塗布手段によって塗布される前記インキには、架橋性樹脂組成物が含まれており、
前記変性手段は、前記ブランケットの表面に形成された前記インキ膜の前記架橋性樹脂組成物を架橋させる請求項５に記載された印刷装置。
【請求項７】
前記版胴の周囲に配置されている前記洗浄手段は、前記版胴の表面に洗浄液を噴射する液体噴射ノズルと、前記版胴の表面に気体を噴射して前記版胴の表面の水分を除去する気体噴射ノズルとを有する請求項１〜６のいずれか一項に記載された印刷装置。
【請求項８】
ブランケットが表面に設けられた円柱状のブランケット胴、及び、所定パターンの凸部が表面に設けられた円柱状の版胴の回転中に、
前記ブランケットの表面にインキを塗布することで、前記ブランケットの表面にインキ膜を形成するインキ塗布工程と、
前記インキ膜に前記版胴の前記凸部を付着させることで前記ブランケットの表面から前記インキ膜のうち所定の部分を除去して、前記ブランケットの表面に所定のインキパターンを形成するインキパターン形成工程と、
被印刷体を前記ブランケットに加圧しつつ接触させることで、前記ブランケットの表面上の前記インキパターンを前記被印刷体に連続的に転写する転写工程と、
前記ブランケットの表面のうち、前記転写工程において前記ブランケット上の前記インキパターンが前記被印刷体に転写された後の部分を清掃する清掃工程と、
前記版胴の表面のうち、前記インキパターン形成工程において前記版胴の前記凸部に前記インキ膜が付着された部分を洗浄する洗浄工程とを行う印刷方法。
【請求項９】
ブランケットが表面に設けられた円柱状のブランケット胴、及び、所定パターンの凸部が表面に設けられた円柱状の版胴の回転中に、
前記ブランケットの表面にインキを塗布することで、前記ブランケットの表面にインキ膜を形成するインキ塗布工程と、
前記インキ膜に前記版胴の前記凸部を付着させることで、前記ブランケットの表面から前記インキ膜のうち所定の部分を前記版胴の前記凸部の表面に移載する移載工程と、
被印刷体を前記版胴に加圧しつつ接触させることで、前記版胴の表面に移載された前記インキ膜を前記被印刷体に連続的に転写する転写工程と、
前記ブランケットの表面のうち、前記移載工程において前記ブランケット上の前記インキ膜が前記版胴の前記凸部に移載された後の部分を清掃する清掃工程と、
前記版胴の表面のうち、前記転写工程において前記版胴の前記凸部から前記インキ膜が前記被印刷体に転写された後の部分を洗浄する洗浄工程とを行う印刷方法。
【請求項１０】
前記ブランケット胴、前記版胴及び前記圧接手段の温度を、２５℃以上８０℃以下で、且つ、予め設定された設定温度に対して±２℃以内となるように維持する請求項８又は９に記載された印刷方法。
【請求項１１】
前記被印刷体はフィルム状である請求項８〜１０のいずれか一項に記載された印刷方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００９−１７２８３５（Ｐ２００９−１７２８３５Ａ）
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１２９８４（Ｐ２００８−１２９８４）
【出願日】平成２０年１月２３日（２００８．１．２３）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月２３日（２００８．１．２３）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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