基板検査装置
【課題】基板サイズに伴う基板検査装置の大型化を抑制すると共に、検査効率を向上させる。
【解決手段】基板検査装置１は、基板Ｗを取り扱う検査エリアＥＡを有し、検査者Ｐは前面２Ａ側の検査エリアＥＡから目視検査を行う。検査エリアＥＡの前面側には、床ＦＬより低い領域に基板受け入れ部３５が形成されており、基板受け入れ部３５に基板Ｗ及び基板ホルダ１５を進入させることで基板Ｗの上部が低い位置になるようにしてある。基板受け入れ部３５にはカバー３６が装着されており、カバー３６に形成された孔３７から空気を排気できるようになっている。
【解決手段】基板検査装置１は、基板Ｗを取り扱う検査エリアＥＡを有し、検査者Ｐは前面２Ａ側の検査エリアＥＡから目視検査を行う。検査エリアＥＡの前面側には、床ＦＬより低い領域に基板受け入れ部３５が形成されており、基板受け入れ部３５に基板Ｗ及び基板ホルダ１５を進入させることで基板Ｗの上部が低い位置になるようにしてある。基板受け入れ部３５にはカバー３６が装着されており、カバー３６に形成された孔３７から空気を排気できるようになっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイに用いられる大型の基板を検査する際に使用される基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイの製造工程では、基板検査装置を用いてガラス製の基板の表面を目視で検査することが知られている。ここで、近年ではフラットパネルディスプレイなどに用いられる基板が大型化していることから、基板位置を固定したままで基板全体に照明光を一様に照射しながら観察者が検査をすることは困難であった。このため、検査者の視野範囲のみを照明し、基板を保持するホルダを検査者に対して移動させることで、基板全面に対して検査を行っていた。例えば、特許文献１に開示されている基板検査装置は、床面に設置された装置本体の前面側に支持アームを回動自在に支持させ、支持アームの先端部に基板を保持するホルダをスライド自在に取り付けた構成を有する。基板の下側を検査するときはホルダ枠を支持アームに沿って上昇させる。基板の上側を検査するときはホルダを支持アームに沿って下降させる。なお、基板を交換するときは、支持アームを倒すと共にホルダを水平にしてから受け渡しロボットで基板を搬入出する。
【特許文献１】特開２００４−２８６６２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、大型の基板を動かしたときに床面や天井と干渉しないようにするためには、基板サイズに合わせて基板検査装置を高くしなければならなかった。これに伴って、基板検査装置を設置する工場の天井も高くする必要があった。このため、既存の工場では、基板検査装置を設置できなくなることがあった。又は、基板サイズに合わせて工場の天井を高くしなければならなかった。さらに、このように基板サイズ及び装置サイズが大きくなると、検査者は基板の上部を目視できるように踏み台などを使用しなければならなかった。
また、基板の大型化に伴ってホルダの設置位置が高くなるので、これに合わせて基板を搬入出するパスラインが高くなっていた。このため、基板の搬入出に使用するローダーなどのレイアウトに制約が生じていた。また、基板を照明するための光学系が高所に配置されるので、ランプ交換時などの作業工数を増加させる原因になっていた。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり。基板サイズに伴う基板検査装置の大型化を抑制すると共に、検査効率を向上させることを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の課題を解決する本発明の請求項１に係る発明は、検査試料である基板を目視で検査する基板検査装置であって、検査者が検査を行う検査エリアと基板を取り扱う試料エリアが装置本体によって区画されており、前記試料エリアは前記検査エリアの底面より低い位置まで基板を進入可能な基板受け入れ部を有することを特徴とする基板検査装置とした。
この基板検査装置では、基板の上部を検査するときに、検査エリアの底面より低い領域に基板を進入させる。これによって、基板上部の位置が従来よりも低くなる。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、基板の上部を検査するときに、検査エリアの底面より低い領域に基板を進入させることで基板位置を低くできるので、工場の天井を高くしなくてもサイズの大きい基板を検査できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の各実施の形態において同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
【０００７】
（第１の実施の形態）
図１に示すように、基板検査装置１は、工場の床ＦＬに設置された装置本体２を有し、装置本体２の前面２Ａ側に検査者Ｐが立って基板Ｗの外観検査を目視で行うマクロ検査装置である。装置本体２内は、試料である基板Ｗを取り扱う試料エリアＳＡ１になっている。これに対して、検査者Ｐがいる領域は、検査者Ｐが検査のための作業を行う検査エリアＥＡになっている。
【０００８】
図１及び図２に示すように、装置本体２内の試料エリアＳＡ１には、床ＦＬに対して固定される水平スライド装置１１が設けられている。水平スライド装置１１は、離間して配置される一対のスライドベース１１Ａを有し、各スライドベース１１Ａには装置本体２の背面２Ｂ側に向かって斜めに延びるガイド部材１２が一本ずつ支持されている。水平スライド装置１１は、これら一対のガイド部材１２を図１に実線で示す検査位置から仮想線で示す受け渡し位置ＣＰ１までの間で、前後方向に水平移動させる機構を有する。なお、前後方向とは、図１に示すＸ方向である。
ガイド部材１２は、その前面側にレール１２Ａが長手方向に沿って敷設されている。これらレール１２Ａのそれぞれには、回動駆動部１３が１つずつ移動自在に取り付けられている。
各回動駆動部１３は、回転軸１４を回転自在に支持している。回転軸１４は、前後方向に直交する幅方向に平行に延びており、基板Ｗを保持する基板ホルダ１５が固定されている。なお、幅方向とは、図１に示すＹ方向である。
【０００９】
基板ホルダ１５は、矩形の枠本体２１を有し、枠本体２１の開口部２２を上側から覆うように基板Ｗが載置される。枠本体２１には、複数のピン２３が基板Ｗを囲むように配置されている。これらピン２３は、基板Ｗの側面に突き当てられることで基板Ｗの位置決めすると共に、基板Ｗの移動を防止する役割を有する。例えば、下部や一方の側部に配置されているピン２３が枠本体２１に固定されており、上部や他方の側部に配置されているピン２３が枠本体２１に移動自在に取り付けられている。このようすると、移動自在なピン２３で基板Ｗを押圧し、固定されたピン２３に押し付けることで位置決め及び保持が行える。また、枠本体２１には、基板Ｗを吸着保持する吸着装置２４が基板Ｗの外周に沿って配設されている。
さらに、基板ホルダ１５には、開口部２２を縦断するように複数の桟２５が取り付けられている。これら桟２５は、大型の基板Ｗが撓まないように裏面側から基板Ｗを支持する。桟２５には、基板Ｗの裏面に当接するピンや、基板Ｗを吸着保持する、図示しない吸着装置が設けられている。なお、桟２５は、この実施の形態に必須の構成要素ではない。
【００１０】
図１に示すように、装置本体２の前面２Ａ側の上部には、基板ホルダ１５に保持された基板Ｗを落射照明で照明するマクロ照明装置３１が設けられている。マクロ照明装置３１は、ランプ３２と、ランプ３２の光を下方に折り返すミラー３３と、ミラー３３からの光が入射されるレンズ３４を有し、装置本体２の前面２Ａ側に移動させた基板Ｗを照明できるようになっている。レンズ３４は、例えば、フレネルレンズである。なお、この基板検査装置１では、試料エリアＳＡ１の一部として、マクロ照明装置３１が収容される領域ＳＡ１１が、検査エリアＥＡの上方に突出している。
【００１１】
ここで、装置本体２の前面２Ａ側には、床ＦＬの一部を凹設した基板受け入れ部３５が形成されている。基板受け入れ部３５は、基板Ｗを前面２Ａ側に傾斜配置したときに基板Ｗ及び基板ホルダ１５の下部が進入可能な大きさを有する。例えば、ガラス基板では、一辺が２５００ｍｍなので、基板Ｗを４５°の傾斜配置したときに、標準的な体型の検査者Ｐが基板Ｗの上部を目視で観察できるように４０〜６０ｃｍの深さを有する。
さらに、基板受け入れ部３５には、カバー３６が装着されている。カバー３６は、基板受け入れ部３５の凹形状に略倣った外形を有するので、基板Ｗ及び基板ホルダ１５が進入する空間は確保されている。カバー３６の底部には、孔３７が少なくとも１つ穿設されており、天井ＣＬからダウンフローされた空気が抜け出せるようになっている。孔３７にホースなどを接続し、排気用のファンで強制排気させても良い。この実施の形態では、検査エリアＥＡの底面ＥＧは、床ＦＬと一致しており、検査者Ｐは底面ＥＧに立って検査を行う。これに対して、基板受け入れ部３５は、床ＦＬ及び底面ＥＧより低い位置にある。つまり、試料エリアＳＡ１は、床ＦＬ及び底面ＥＧ以下に延びる領域（基板受け入れ部３５）を１つ有している。
【００１２】
なお、試料エリアＳＡ１と検査エリアＥＡを区画する装置本体２の前面２Ａには、検査者Ｐが基板Ｗを目視で観察できるように窓３８が形成されている。また、窓３８の付近には、検査者Ｐが操作する操作装置３９が設けられている。操作装置３９は、不図示の制御装置に接続されており、基板Ｗの姿勢や、照明光の切り替えなどの各種の操作が行えるようになっている。また、基板Ｗの装置本体２の背面２Ｂ側には、バックライト照明装置４０が設けられている。バックライト照明装置４０は、基板Ｗを裏面側から照明し、基板Ｗを透過した透過光で欠陥などの検査を行う際に使用される。
【００１３】
次に、この実施の形態の作用について説明する。
最初に基板Ｗを搬入するときは、図３に示すように、ガイド部材１２を背面２Ｂ側に移動させ、予め決められた基板受け渡し位置ＣＰ１で基板ホルダ１５を水平にして待機させる。不図示のローダーで基板Ｗを搬入したら、ピン２３を駆動させて基板Ｗを位置決め保持する。さらに、吸着装置２４で真空引きして基板Ｗを吸着保持する。なお、基板Ｗを受け渡しする際の高さは、基板ホルダ１５を回転軸１４回りに回転させたときに、軌跡Ｃ１に示すように、基板ホルダ１５が床ＦＬに干渉しない高さになっている。図１では、床ＦＬの高さは、装置本体２の底面の高さと略同一である。装置本体２の底面の高さは、必ずしも床ＦＬの高さと略同一である必要はなく、また、符号ＥＧで示す検査エリアの底面の高さも必ずしも床ＦＬの高さと略同一である必要はない。
検査を開始するときは、回動駆動部１３で基板Ｗ表面が観察者に向かうように基板ホルダ１５を傾斜させる。さらに、水平スライド装置１１を駆動させて、基板Ｗを検査者Ｐの近くまで前進させる。このとき、図１に示すように、基板ホルダ１５の中心位置の高さは、基板受け渡し位置ＣＰ１と略同じ高さである。好ましくは、基板ホルダ１５の回転軸１４の高さは、検査者Ｐが基板Ｗの中央部分を目視で観察することができるように配置する。
【００１４】
マクロ照明装置３１が照明するエリアは基板Ｗの一部なので、この状態では検査者Ｐが全ての領域を観察することはできない。そこで、操作装置３９の操作によって基板ホルダ１５をガイド部材１２に沿って移動させる。図４に破線で示す上点位置Ｈ１まで、基板ホルダ１５を天井ＣＬ側で最も高い位置に上昇させたときには、基板Ｗの下部がマクロ照明装置３１で照明され、検査者Ｐはこの領域を観察することができる。
また、基板ホルダ１５をガイド部材１２に沿って下げて、下点位置Ｈ２で示すように、基板受け入れ部３５内に進入させて床ＦＬ側で最も低い位置まで降下させたときには、基板Ｗの上部が照明され、検査者Ｐはこの領域を観察することができる。なお、基板Ｗを揺動させた方が見やすい欠陥も存在する。このような場合には、基板ホルダ１５を回転軸１４回りに揺動させる。基板受け入れ部３５は、下点位置Ｈ２で基板ホルダ１５を揺動させた場合でも干渉しない大きさに形成されている。さらに、基板Ｗの裏面を検査者Ｐに向けた状態で検査を行う場合には、基板受け渡し位置ＣＰ１で基板ホルダ１５を回転させてから前方に移動させる。
【００１５】
この実施の形態によれば、装置本体２の前面２Ａ側に基板受け入れ部３５を設けて基板Ｗの下端を床ＦＬや検査エリアＥＡの底面ＥＧより低い領域まで進入可能にしたので、従来に比べて低い位置での観察が可能になる。このため、従来では天井ＣＬを高くしなければならない基板サイズであっても天井位置を変えることなく検査が行える。一般に、天井ＣＬにはダウンフローを形成する装置や、電気配線などが通されているので、天井面を高くする作業は困難であるが、この実施の形態では天井面は変更を加える必要がないので、設備の有効活用が図れて設置コストを低減できる。また、天井面を高くすると、クリーンルームの体積が大幅に増えるので、クリーン度を確保するために空調装置の能力を増強するなど、ランニングコストが高くなるが、この実施の形態ではそのような虞れはない。
さらに、マクロ照明装置３１の位置を従来に比べて低く保てるので、組立やメンテナンスが容易になる。
【００１６】
また、この実施の形態によれば、基板受け入れ部３５で示す凹部を設けたので、装置全体の高さが抑えられることから、従来の装置構成に比べてローダーに基板Ｗを受け渡す高さを低くすることができる。基板搬送のパスラインを低く設定することができるので、ローダーなどのレイアウトの自由度が高まると共に、他の装置の高さに合わせるために基板を大きく昇降させる機構をローダーに設ける必要がなくなる。基板Ｗの上げ下げを少なくできるので、検査のタクトタイムを減少できる。また、検査者Ｐにとっても踏み台などを用意する必要がなくなるというメリットがある。
基板受け入れ部３５内ではカバー３６に開けた孔３７から排気を行うので、基板受け入れ部３５内に塵埃が溜まることはない。
【００１７】
ここで、図５に示すように、基板受け入れ部４５は、装置本体２の前面２Ａを越えて検査エリアＥＡの下に延びても良い。基板受け入れ部４５によって試料エリアＳＡ１が突出することで、傾斜配置した基板Ｗ及び基板ホルダ１５をさらに下げることが可能になる。基板Ｗが大型の場合では、傾斜して保持した基板Ｗの移動下限位置を低くしない限り、検査者Ｐと基板Ｗの観察位置との距離が遠くなる傾向になる。本実施の形態では、検査者Ｐと基板Ｗとの距離の調整幅を大きくすることができる。その結果、検査者Ｐは、検査目的に応じて様々な距離から選択して適切な距離で観察できる。また、検査者Ｐにさらに近い位置で基板Ｗ及び基板ホルダ１５を傾斜したままで下げたときにも床ＦＬに干渉しなくなる。なお、検査エリアＥＡからみた場合には、検査エリアＥＡが上下方向で試料エリアＳＡ１に挟まれるように、つまり試料エリアＳＡ１に検査エリアＥＡが突出した形状になっている。ここでも、基板受け入れ部４５の形状に略倣うカバー４６が設けられている。カバー４６は、基板Ｗ及び基板ホルダ１５を受け入れ可能な形状を有し、底部には空気を排気するための孔３７が設けられている。
【００１８】
（第２の実施の形態）
図６に示すように、基板検査装置５１は、基板受け入れ部３５よりも背面２Ｂ側に第二の基板受け入れ部５２が設けられている。この基板受け入れ部５２は、ガイド部材１２が背面側の基板受け渡し位置ＣＰ１にあるときの回転軸１４の下方の領域を中心に形成されている。これによって、試料エリアＳＡ２は、２ヶ所で床ＦＬ及び底面ＥＧ以下に延びる領域、つまり基板受け入れ部３５，５２を有する。
基板受け入れ部５２の大きさは、基板受け渡し位置ＣＰ１で基板ホルダ１５を回転させたときに基板ホルダ１５の一部が進入し、かつ基板ホルダ１５と床ＦＬとが干渉しない大きさである。基板受け渡し位置ＣＰ１に対応して基板受け入れ部５２を設けることで、回転軸１４の位置が第１の実施の形態に比べてさらに低くなっている。基板受け入れ部５２には、カバー５３が装着されている。カバー５３は、基板受け入れ部５２に略倣った形状で、基板Ｗ及び基板ホルダ１５を受け入れ可能な形状を有し、底部に形成された孔５４から空気を排気できる。
【００１９】
なお、この実施の形態では、基板受け渡し位置ＣＰ１が低くなることで、前面側で基板Ｗをより低い位置まで下げられるように基板受け入れ部３５が深くなっているが、基板受け入れ部３５の深さは、基板受け入れ部５２と略同じであっても良い。
【００２０】
この基板検査装置５１では、第１の実施の形態より低い位置であるが、第１の実施の形態と同様に基板Ｗの受け渡しが行われる。基板Ｗを位置決め保持したら、検査者Ｐ側の前面２Ａで基板Ｗを傾斜配置させ外観検査を行う。必要に応じて基板受け入れ部３５内に基板ホルダ１５及び基板Ｗの一部を進入させながら上点位置Ｈ１と下点位置Ｈ２の間で全面の観察を行う。また、基板Ｗの全面を離れた位置から観察する場合や、バックライト照明で観察する場合には、ガイド部材１２を受け渡し位置ＣＰ１まで後退させてから基板ホルダ１５を傾斜させる。基板ホルダ１５及び基板Ｗの一部が基板受け入れ部５２内に進入することで床ＦＬとの干渉が回避される。基板受け入れ部５２の深さが基板受け入れ部３５と略等しい場合には、基板受け入れ部５２の位置でも下点位置Ｈ２まで基板Ｗを下げることが可能になる。
【００２１】
この実施の形態によれば、基板受け入れ部５２で示す凹部を設けたので基板受け渡し位置ＣＰ１をさらに低くすることができる。このため、基板Ｗのパスラインをさらに低く設定することができるので、装置レイアウトの自由度が高くなると共に、検査のタクトタイムを減少できる。基板受け入れ部５２のカバー５３に形成されている孔５４から空気を排出する構成にしたので、塵埃などが基板受け入れ部５２に溜まることはない。前面２Ａ側の基板受け入れ部３５を設けたことによる効果は、第１の実施の形態と同様である。
【００２２】
（第３の実施の形態）
図７に示すように、基板検査装置６１は、床ＦＬより下方に下がる基板受け入れ部６２を有する。この基板受け入れ部６２の前面２Ａ側のＸ方向の位置は、検査エリアＥＡの前面のＸ方向の位置に略等しく、基板受け入れ部６２の背面２Ｂ側はガイド部材１２が基板受け渡し位置ＣＰ１において基板ホルダ１５を回転させたときに干渉しない位置まで下方に延びている。基板受け入れ部６２は、装置本体２の前面２Ａを越えて検査エリアＥＡの下に延びても良い。基板受け入れ部６２によって試料エリアＳＡ３が突出することで、傾斜配置した基板Ｗ及び基板ホルダ１５をさらに下げることが可能になる。これによって、試料エリアＳＡ３は、床ＦＬ及び底面ＥＧより低い領域に延びる基板受け入れ部６２を１つ有する形状になっている。
基板受け入れ部６２の深さは、基板Ｗを前面２Ａ側で下点位置Ｈ２まで下げたときに床ＦＬと干渉しない大きさである。例えば、Ｘ方向の一辺が２５００ｍｍのガラス基板を床面に対して４５°〜７５°で傾斜配置したときでは、４０〜６０ｃｍの深さを有する。基板受け入れ部６２の深さは前面２Ａ側から背面２Ｂ側まで略一定であっても良い。さらに、基板受け入れ部６２にはカバー６３が挿入されている。カバー６３の底部に穿設された孔６４から空気が抜け出せるようになっている。なお、基板受け入れ部６２は、背面２Ｂまで連続して形成されても良い。
【００２３】
この基板検査装置６１では、基板Ｗを位置決め保持したら、検査者Ｐ側の前面２Ａで基板Ｗを傾斜配置させ外観検査を行う。必要に応じて基板受け入れ部６２内に基板ホルダ１５及び基板Ｗの一部を進入させながら全面の観察を行う。また、基板Ｗの全面を離れた位置から観察する場合や、バックライト照明で観察する場合には、ガイド部材１２を後退させる。基板受け入れ部６２が連続しているので、基板Ｗを傾斜させたまま観察に適した位置まで後退させることができる。また、基板ホルダ１５を水平に戻してからガイド部材１２を後退させ、観察に適した位置で基板ホルダ１５を再び傾斜させても良い。基板ホルダ１５を傾斜したままで前進又は後退させると、検査に適した位置がわかり易くなる。いずれの場合も、基板受け入れ部６２の存在によって基板ホルダ１５及び基板Ｗと床ＦＬとの干渉が防止される。基板受け入れ部６２の深さが一定の場合には、基板Ｗを下点位置Ｈ２まで下げた状態で基板Ｗを検査者Ｐに近接・離隔させることができる。
【００２４】
この実施の形態によれば、基板受け入れ部６２で示す凹部を有することで第１、第２の実施の形態と同様の効果が得られる。さらに、前面側の位置と基板受け渡し位置ＣＰ１の間の任意の位置で基板を回転させたり、傾斜配置したりすることができる。
【００２５】
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、基板受け入れ部３５，５２，６２は、前面側に対して背面側を浅くするなど位置によって変化させても良い。背面側で基板Ｗを下点位置まで下ろす必要がない場合には、基板受け渡し位置ＣＰ１の高さで基板ホルダ１５を回転させたときに干渉しない深さにすれば良い。
床ＦＬは工場の床として説明したが、工場の床の上に設置されたベースであっても良い。床ＦＬと底面ＥＧが一致しない場合には、基板受け入れ部３５，５２，６２の底が床ＦＬと同じ高さになることがある。基板受け入れ部３５，５２，６２の底が床ＦＬより高くなっても良いが、この場合には装置１，５１，６１が高くなってしまうので、天井ＣＬを高くしないで済むように基板受け入れ部３５，５２，６２の底は床ＦＬ以下であることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。照明装置の断面図は省略している。
【図３】基板の受け渡し位置に基板を配置した図である。
【図４】前面側で基板の検査を行う動作を説明する図であって、上点位置と下点位置の間で移動するようする示す図である。
【図５】試料エリアが検査エリアの下方に延びている場合を説明する側面図である。
【図６】基板受け渡し位置を低くできるように凹部を２つ設けた場合の側面図である。
【図７】前面から基板受け渡し位置まで凹部を設けた場合の側面図である。
【符号の説明】
【００２７】
１，５１，６１ 基板検査装置
２ 装置本体
３１ マクロ照明装置
３５，４５，５２，６２ 基板受け入れ部であって、検査エリアの底面より低い領域
３６，５３，６３ カバー
３７，５４，６４ 孔
ＥＡ 検査エリア
ＥＧ 底面
ＦＬ 床
ＳＡ１，ＳＡ２，ＳＡ３ 試料エリア
ＳＡ１１ 領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイに用いられる大型の基板を検査する際に使用される基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイの製造工程では、基板検査装置を用いてガラス製の基板の表面を目視で検査することが知られている。ここで、近年ではフラットパネルディスプレイなどに用いられる基板が大型化していることから、基板位置を固定したままで基板全体に照明光を一様に照射しながら観察者が検査をすることは困難であった。このため、検査者の視野範囲のみを照明し、基板を保持するホルダを検査者に対して移動させることで、基板全面に対して検査を行っていた。例えば、特許文献１に開示されている基板検査装置は、床面に設置された装置本体の前面側に支持アームを回動自在に支持させ、支持アームの先端部に基板を保持するホルダをスライド自在に取り付けた構成を有する。基板の下側を検査するときはホルダ枠を支持アームに沿って上昇させる。基板の上側を検査するときはホルダを支持アームに沿って下降させる。なお、基板を交換するときは、支持アームを倒すと共にホルダを水平にしてから受け渡しロボットで基板を搬入出する。
【特許文献１】特開２００４−２８６６２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、大型の基板を動かしたときに床面や天井と干渉しないようにするためには、基板サイズに合わせて基板検査装置を高くしなければならなかった。これに伴って、基板検査装置を設置する工場の天井も高くする必要があった。このため、既存の工場では、基板検査装置を設置できなくなることがあった。又は、基板サイズに合わせて工場の天井を高くしなければならなかった。さらに、このように基板サイズ及び装置サイズが大きくなると、検査者は基板の上部を目視できるように踏み台などを使用しなければならなかった。
また、基板の大型化に伴ってホルダの設置位置が高くなるので、これに合わせて基板を搬入出するパスラインが高くなっていた。このため、基板の搬入出に使用するローダーなどのレイアウトに制約が生じていた。また、基板を照明するための光学系が高所に配置されるので、ランプ交換時などの作業工数を増加させる原因になっていた。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり。基板サイズに伴う基板検査装置の大型化を抑制すると共に、検査効率を向上させることを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の課題を解決する本発明の請求項１に係る発明は、検査試料である基板を目視で検査する基板検査装置であって、検査者が検査を行う検査エリアと基板を取り扱う試料エリアが装置本体によって区画されており、前記試料エリアは前記検査エリアの底面より低い位置まで基板を進入可能な基板受け入れ部を有することを特徴とする基板検査装置とした。
この基板検査装置では、基板の上部を検査するときに、検査エリアの底面より低い領域に基板を進入させる。これによって、基板上部の位置が従来よりも低くなる。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、基板の上部を検査するときに、検査エリアの底面より低い領域に基板を進入させることで基板位置を低くできるので、工場の天井を高くしなくてもサイズの大きい基板を検査できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の各実施の形態において同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
【０００７】
（第１の実施の形態）
図１に示すように、基板検査装置１は、工場の床ＦＬに設置された装置本体２を有し、装置本体２の前面２Ａ側に検査者Ｐが立って基板Ｗの外観検査を目視で行うマクロ検査装置である。装置本体２内は、試料である基板Ｗを取り扱う試料エリアＳＡ１になっている。これに対して、検査者Ｐがいる領域は、検査者Ｐが検査のための作業を行う検査エリアＥＡになっている。
【０００８】
図１及び図２に示すように、装置本体２内の試料エリアＳＡ１には、床ＦＬに対して固定される水平スライド装置１１が設けられている。水平スライド装置１１は、離間して配置される一対のスライドベース１１Ａを有し、各スライドベース１１Ａには装置本体２の背面２Ｂ側に向かって斜めに延びるガイド部材１２が一本ずつ支持されている。水平スライド装置１１は、これら一対のガイド部材１２を図１に実線で示す検査位置から仮想線で示す受け渡し位置ＣＰ１までの間で、前後方向に水平移動させる機構を有する。なお、前後方向とは、図１に示すＸ方向である。
ガイド部材１２は、その前面側にレール１２Ａが長手方向に沿って敷設されている。これらレール１２Ａのそれぞれには、回動駆動部１３が１つずつ移動自在に取り付けられている。
各回動駆動部１３は、回転軸１４を回転自在に支持している。回転軸１４は、前後方向に直交する幅方向に平行に延びており、基板Ｗを保持する基板ホルダ１５が固定されている。なお、幅方向とは、図１に示すＹ方向である。
【０００９】
基板ホルダ１５は、矩形の枠本体２１を有し、枠本体２１の開口部２２を上側から覆うように基板Ｗが載置される。枠本体２１には、複数のピン２３が基板Ｗを囲むように配置されている。これらピン２３は、基板Ｗの側面に突き当てられることで基板Ｗの位置決めすると共に、基板Ｗの移動を防止する役割を有する。例えば、下部や一方の側部に配置されているピン２３が枠本体２１に固定されており、上部や他方の側部に配置されているピン２３が枠本体２１に移動自在に取り付けられている。このようすると、移動自在なピン２３で基板Ｗを押圧し、固定されたピン２３に押し付けることで位置決め及び保持が行える。また、枠本体２１には、基板Ｗを吸着保持する吸着装置２４が基板Ｗの外周に沿って配設されている。
さらに、基板ホルダ１５には、開口部２２を縦断するように複数の桟２５が取り付けられている。これら桟２５は、大型の基板Ｗが撓まないように裏面側から基板Ｗを支持する。桟２５には、基板Ｗの裏面に当接するピンや、基板Ｗを吸着保持する、図示しない吸着装置が設けられている。なお、桟２５は、この実施の形態に必須の構成要素ではない。
【００１０】
図１に示すように、装置本体２の前面２Ａ側の上部には、基板ホルダ１５に保持された基板Ｗを落射照明で照明するマクロ照明装置３１が設けられている。マクロ照明装置３１は、ランプ３２と、ランプ３２の光を下方に折り返すミラー３３と、ミラー３３からの光が入射されるレンズ３４を有し、装置本体２の前面２Ａ側に移動させた基板Ｗを照明できるようになっている。レンズ３４は、例えば、フレネルレンズである。なお、この基板検査装置１では、試料エリアＳＡ１の一部として、マクロ照明装置３１が収容される領域ＳＡ１１が、検査エリアＥＡの上方に突出している。
【００１１】
ここで、装置本体２の前面２Ａ側には、床ＦＬの一部を凹設した基板受け入れ部３５が形成されている。基板受け入れ部３５は、基板Ｗを前面２Ａ側に傾斜配置したときに基板Ｗ及び基板ホルダ１５の下部が進入可能な大きさを有する。例えば、ガラス基板では、一辺が２５００ｍｍなので、基板Ｗを４５°の傾斜配置したときに、標準的な体型の検査者Ｐが基板Ｗの上部を目視で観察できるように４０〜６０ｃｍの深さを有する。
さらに、基板受け入れ部３５には、カバー３６が装着されている。カバー３６は、基板受け入れ部３５の凹形状に略倣った外形を有するので、基板Ｗ及び基板ホルダ１５が進入する空間は確保されている。カバー３６の底部には、孔３７が少なくとも１つ穿設されており、天井ＣＬからダウンフローされた空気が抜け出せるようになっている。孔３７にホースなどを接続し、排気用のファンで強制排気させても良い。この実施の形態では、検査エリアＥＡの底面ＥＧは、床ＦＬと一致しており、検査者Ｐは底面ＥＧに立って検査を行う。これに対して、基板受け入れ部３５は、床ＦＬ及び底面ＥＧより低い位置にある。つまり、試料エリアＳＡ１は、床ＦＬ及び底面ＥＧ以下に延びる領域（基板受け入れ部３５）を１つ有している。
【００１２】
なお、試料エリアＳＡ１と検査エリアＥＡを区画する装置本体２の前面２Ａには、検査者Ｐが基板Ｗを目視で観察できるように窓３８が形成されている。また、窓３８の付近には、検査者Ｐが操作する操作装置３９が設けられている。操作装置３９は、不図示の制御装置に接続されており、基板Ｗの姿勢や、照明光の切り替えなどの各種の操作が行えるようになっている。また、基板Ｗの装置本体２の背面２Ｂ側には、バックライト照明装置４０が設けられている。バックライト照明装置４０は、基板Ｗを裏面側から照明し、基板Ｗを透過した透過光で欠陥などの検査を行う際に使用される。
【００１３】
次に、この実施の形態の作用について説明する。
最初に基板Ｗを搬入するときは、図３に示すように、ガイド部材１２を背面２Ｂ側に移動させ、予め決められた基板受け渡し位置ＣＰ１で基板ホルダ１５を水平にして待機させる。不図示のローダーで基板Ｗを搬入したら、ピン２３を駆動させて基板Ｗを位置決め保持する。さらに、吸着装置２４で真空引きして基板Ｗを吸着保持する。なお、基板Ｗを受け渡しする際の高さは、基板ホルダ１５を回転軸１４回りに回転させたときに、軌跡Ｃ１に示すように、基板ホルダ１５が床ＦＬに干渉しない高さになっている。図１では、床ＦＬの高さは、装置本体２の底面の高さと略同一である。装置本体２の底面の高さは、必ずしも床ＦＬの高さと略同一である必要はなく、また、符号ＥＧで示す検査エリアの底面の高さも必ずしも床ＦＬの高さと略同一である必要はない。
検査を開始するときは、回動駆動部１３で基板Ｗ表面が観察者に向かうように基板ホルダ１５を傾斜させる。さらに、水平スライド装置１１を駆動させて、基板Ｗを検査者Ｐの近くまで前進させる。このとき、図１に示すように、基板ホルダ１５の中心位置の高さは、基板受け渡し位置ＣＰ１と略同じ高さである。好ましくは、基板ホルダ１５の回転軸１４の高さは、検査者Ｐが基板Ｗの中央部分を目視で観察することができるように配置する。
【００１４】
マクロ照明装置３１が照明するエリアは基板Ｗの一部なので、この状態では検査者Ｐが全ての領域を観察することはできない。そこで、操作装置３９の操作によって基板ホルダ１５をガイド部材１２に沿って移動させる。図４に破線で示す上点位置Ｈ１まで、基板ホルダ１５を天井ＣＬ側で最も高い位置に上昇させたときには、基板Ｗの下部がマクロ照明装置３１で照明され、検査者Ｐはこの領域を観察することができる。
また、基板ホルダ１５をガイド部材１２に沿って下げて、下点位置Ｈ２で示すように、基板受け入れ部３５内に進入させて床ＦＬ側で最も低い位置まで降下させたときには、基板Ｗの上部が照明され、検査者Ｐはこの領域を観察することができる。なお、基板Ｗを揺動させた方が見やすい欠陥も存在する。このような場合には、基板ホルダ１５を回転軸１４回りに揺動させる。基板受け入れ部３５は、下点位置Ｈ２で基板ホルダ１５を揺動させた場合でも干渉しない大きさに形成されている。さらに、基板Ｗの裏面を検査者Ｐに向けた状態で検査を行う場合には、基板受け渡し位置ＣＰ１で基板ホルダ１５を回転させてから前方に移動させる。
【００１５】
この実施の形態によれば、装置本体２の前面２Ａ側に基板受け入れ部３５を設けて基板Ｗの下端を床ＦＬや検査エリアＥＡの底面ＥＧより低い領域まで進入可能にしたので、従来に比べて低い位置での観察が可能になる。このため、従来では天井ＣＬを高くしなければならない基板サイズであっても天井位置を変えることなく検査が行える。一般に、天井ＣＬにはダウンフローを形成する装置や、電気配線などが通されているので、天井面を高くする作業は困難であるが、この実施の形態では天井面は変更を加える必要がないので、設備の有効活用が図れて設置コストを低減できる。また、天井面を高くすると、クリーンルームの体積が大幅に増えるので、クリーン度を確保するために空調装置の能力を増強するなど、ランニングコストが高くなるが、この実施の形態ではそのような虞れはない。
さらに、マクロ照明装置３１の位置を従来に比べて低く保てるので、組立やメンテナンスが容易になる。
【００１６】
また、この実施の形態によれば、基板受け入れ部３５で示す凹部を設けたので、装置全体の高さが抑えられることから、従来の装置構成に比べてローダーに基板Ｗを受け渡す高さを低くすることができる。基板搬送のパスラインを低く設定することができるので、ローダーなどのレイアウトの自由度が高まると共に、他の装置の高さに合わせるために基板を大きく昇降させる機構をローダーに設ける必要がなくなる。基板Ｗの上げ下げを少なくできるので、検査のタクトタイムを減少できる。また、検査者Ｐにとっても踏み台などを用意する必要がなくなるというメリットがある。
基板受け入れ部３５内ではカバー３６に開けた孔３７から排気を行うので、基板受け入れ部３５内に塵埃が溜まることはない。
【００１７】
ここで、図５に示すように、基板受け入れ部４５は、装置本体２の前面２Ａを越えて検査エリアＥＡの下に延びても良い。基板受け入れ部４５によって試料エリアＳＡ１が突出することで、傾斜配置した基板Ｗ及び基板ホルダ１５をさらに下げることが可能になる。基板Ｗが大型の場合では、傾斜して保持した基板Ｗの移動下限位置を低くしない限り、検査者Ｐと基板Ｗの観察位置との距離が遠くなる傾向になる。本実施の形態では、検査者Ｐと基板Ｗとの距離の調整幅を大きくすることができる。その結果、検査者Ｐは、検査目的に応じて様々な距離から選択して適切な距離で観察できる。また、検査者Ｐにさらに近い位置で基板Ｗ及び基板ホルダ１５を傾斜したままで下げたときにも床ＦＬに干渉しなくなる。なお、検査エリアＥＡからみた場合には、検査エリアＥＡが上下方向で試料エリアＳＡ１に挟まれるように、つまり試料エリアＳＡ１に検査エリアＥＡが突出した形状になっている。ここでも、基板受け入れ部４５の形状に略倣うカバー４６が設けられている。カバー４６は、基板Ｗ及び基板ホルダ１５を受け入れ可能な形状を有し、底部には空気を排気するための孔３７が設けられている。
【００１８】
（第２の実施の形態）
図６に示すように、基板検査装置５１は、基板受け入れ部３５よりも背面２Ｂ側に第二の基板受け入れ部５２が設けられている。この基板受け入れ部５２は、ガイド部材１２が背面側の基板受け渡し位置ＣＰ１にあるときの回転軸１４の下方の領域を中心に形成されている。これによって、試料エリアＳＡ２は、２ヶ所で床ＦＬ及び底面ＥＧ以下に延びる領域、つまり基板受け入れ部３５，５２を有する。
基板受け入れ部５２の大きさは、基板受け渡し位置ＣＰ１で基板ホルダ１５を回転させたときに基板ホルダ１５の一部が進入し、かつ基板ホルダ１５と床ＦＬとが干渉しない大きさである。基板受け渡し位置ＣＰ１に対応して基板受け入れ部５２を設けることで、回転軸１４の位置が第１の実施の形態に比べてさらに低くなっている。基板受け入れ部５２には、カバー５３が装着されている。カバー５３は、基板受け入れ部５２に略倣った形状で、基板Ｗ及び基板ホルダ１５を受け入れ可能な形状を有し、底部に形成された孔５４から空気を排気できる。
【００１９】
なお、この実施の形態では、基板受け渡し位置ＣＰ１が低くなることで、前面側で基板Ｗをより低い位置まで下げられるように基板受け入れ部３５が深くなっているが、基板受け入れ部３５の深さは、基板受け入れ部５２と略同じであっても良い。
【００２０】
この基板検査装置５１では、第１の実施の形態より低い位置であるが、第１の実施の形態と同様に基板Ｗの受け渡しが行われる。基板Ｗを位置決め保持したら、検査者Ｐ側の前面２Ａで基板Ｗを傾斜配置させ外観検査を行う。必要に応じて基板受け入れ部３５内に基板ホルダ１５及び基板Ｗの一部を進入させながら上点位置Ｈ１と下点位置Ｈ２の間で全面の観察を行う。また、基板Ｗの全面を離れた位置から観察する場合や、バックライト照明で観察する場合には、ガイド部材１２を受け渡し位置ＣＰ１まで後退させてから基板ホルダ１５を傾斜させる。基板ホルダ１５及び基板Ｗの一部が基板受け入れ部５２内に進入することで床ＦＬとの干渉が回避される。基板受け入れ部５２の深さが基板受け入れ部３５と略等しい場合には、基板受け入れ部５２の位置でも下点位置Ｈ２まで基板Ｗを下げることが可能になる。
【００２１】
この実施の形態によれば、基板受け入れ部５２で示す凹部を設けたので基板受け渡し位置ＣＰ１をさらに低くすることができる。このため、基板Ｗのパスラインをさらに低く設定することができるので、装置レイアウトの自由度が高くなると共に、検査のタクトタイムを減少できる。基板受け入れ部５２のカバー５３に形成されている孔５４から空気を排出する構成にしたので、塵埃などが基板受け入れ部５２に溜まることはない。前面２Ａ側の基板受け入れ部３５を設けたことによる効果は、第１の実施の形態と同様である。
【００２２】
（第３の実施の形態）
図７に示すように、基板検査装置６１は、床ＦＬより下方に下がる基板受け入れ部６２を有する。この基板受け入れ部６２の前面２Ａ側のＸ方向の位置は、検査エリアＥＡの前面のＸ方向の位置に略等しく、基板受け入れ部６２の背面２Ｂ側はガイド部材１２が基板受け渡し位置ＣＰ１において基板ホルダ１５を回転させたときに干渉しない位置まで下方に延びている。基板受け入れ部６２は、装置本体２の前面２Ａを越えて検査エリアＥＡの下に延びても良い。基板受け入れ部６２によって試料エリアＳＡ３が突出することで、傾斜配置した基板Ｗ及び基板ホルダ１５をさらに下げることが可能になる。これによって、試料エリアＳＡ３は、床ＦＬ及び底面ＥＧより低い領域に延びる基板受け入れ部６２を１つ有する形状になっている。
基板受け入れ部６２の深さは、基板Ｗを前面２Ａ側で下点位置Ｈ２まで下げたときに床ＦＬと干渉しない大きさである。例えば、Ｘ方向の一辺が２５００ｍｍのガラス基板を床面に対して４５°〜７５°で傾斜配置したときでは、４０〜６０ｃｍの深さを有する。基板受け入れ部６２の深さは前面２Ａ側から背面２Ｂ側まで略一定であっても良い。さらに、基板受け入れ部６２にはカバー６３が挿入されている。カバー６３の底部に穿設された孔６４から空気が抜け出せるようになっている。なお、基板受け入れ部６２は、背面２Ｂまで連続して形成されても良い。
【００２３】
この基板検査装置６１では、基板Ｗを位置決め保持したら、検査者Ｐ側の前面２Ａで基板Ｗを傾斜配置させ外観検査を行う。必要に応じて基板受け入れ部６２内に基板ホルダ１５及び基板Ｗの一部を進入させながら全面の観察を行う。また、基板Ｗの全面を離れた位置から観察する場合や、バックライト照明で観察する場合には、ガイド部材１２を後退させる。基板受け入れ部６２が連続しているので、基板Ｗを傾斜させたまま観察に適した位置まで後退させることができる。また、基板ホルダ１５を水平に戻してからガイド部材１２を後退させ、観察に適した位置で基板ホルダ１５を再び傾斜させても良い。基板ホルダ１５を傾斜したままで前進又は後退させると、検査に適した位置がわかり易くなる。いずれの場合も、基板受け入れ部６２の存在によって基板ホルダ１５及び基板Ｗと床ＦＬとの干渉が防止される。基板受け入れ部６２の深さが一定の場合には、基板Ｗを下点位置Ｈ２まで下げた状態で基板Ｗを検査者Ｐに近接・離隔させることができる。
【００２４】
この実施の形態によれば、基板受け入れ部６２で示す凹部を有することで第１、第２の実施の形態と同様の効果が得られる。さらに、前面側の位置と基板受け渡し位置ＣＰ１の間の任意の位置で基板を回転させたり、傾斜配置したりすることができる。
【００２５】
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、基板受け入れ部３５，５２，６２は、前面側に対して背面側を浅くするなど位置によって変化させても良い。背面側で基板Ｗを下点位置まで下ろす必要がない場合には、基板受け渡し位置ＣＰ１の高さで基板ホルダ１５を回転させたときに干渉しない深さにすれば良い。
床ＦＬは工場の床として説明したが、工場の床の上に設置されたベースであっても良い。床ＦＬと底面ＥＧが一致しない場合には、基板受け入れ部３５，５２，６２の底が床ＦＬと同じ高さになることがある。基板受け入れ部３５，５２，６２の底が床ＦＬより高くなっても良いが、この場合には装置１，５１，６１が高くなってしまうので、天井ＣＬを高くしないで済むように基板受け入れ部３５，５２，６２の底は床ＦＬ以下であることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。照明装置の断面図は省略している。
【図３】基板の受け渡し位置に基板を配置した図である。
【図４】前面側で基板の検査を行う動作を説明する図であって、上点位置と下点位置の間で移動するようする示す図である。
【図５】試料エリアが検査エリアの下方に延びている場合を説明する側面図である。
【図６】基板受け渡し位置を低くできるように凹部を２つ設けた場合の側面図である。
【図７】前面から基板受け渡し位置まで凹部を設けた場合の側面図である。
【符号の説明】
【００２７】
１，５１，６１ 基板検査装置
２ 装置本体
３１ マクロ照明装置
３５，４５，５２，６２ 基板受け入れ部であって、検査エリアの底面より低い領域
３６，５３，６３ カバー
３７，５４，６４ 孔
ＥＡ 検査エリア
ＥＧ 底面
ＦＬ 床
ＳＡ１，ＳＡ２，ＳＡ３ 試料エリア
ＳＡ１１ 領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査試料である基板を目視で検査する基板検査装置であって、
検査者が検査を行う検査エリアと基板を取り扱う試料エリアが装置本体によって区画されており、前記試料エリアは前記検査エリアの底面より低い位置まで基板を進入可能な基板受け入れ部を有することを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記試料エリアの前記基板受け入れ部は、前記装置本体が設置されている床面より低い領域まで延びていることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記基板受け入れ部は、前記検査エリアに面する前面側のみに設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記基板受け入れ部は、前記検査エリアの下方まで延びていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項５】
基板を照明する照明装置を収容する領域が前記試料エリアとして前記検査エリアの上方に突出して設けられていることを特徴とする請求項４に記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記基板受け入れ部は、基板の受け渡しを行う位置の下方に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項７】
前記基板受け入れ部は、検査エリアに面する前面側から基板の受け渡しを行う位置の下方の領域まで連続して設けられていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項８】
前記検査エリアの底面に基準にしたときの前記基板受け入れ部の深さは、基板を保持するホルダを回転可能とする深さであることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項９】
前記基板受け入れ部には、前記検査エリアの底面より低い領域の形状に略倣って形成されたカバーが設けられており、前記カバーには前記試料エリア外に空気を排出できる孔が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項１】
検査試料である基板を目視で検査する基板検査装置であって、
検査者が検査を行う検査エリアと基板を取り扱う試料エリアが装置本体によって区画されており、前記試料エリアは前記検査エリアの底面より低い位置まで基板を進入可能な基板受け入れ部を有することを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記試料エリアの前記基板受け入れ部は、前記装置本体が設置されている床面より低い領域まで延びていることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記基板受け入れ部は、前記検査エリアに面する前面側のみに設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記基板受け入れ部は、前記検査エリアの下方まで延びていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項５】
基板を照明する照明装置を収容する領域が前記試料エリアとして前記検査エリアの上方に突出して設けられていることを特徴とする請求項４に記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記基板受け入れ部は、基板の受け渡しを行う位置の下方に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項７】
前記基板受け入れ部は、検査エリアに面する前面側から基板の受け渡しを行う位置の下方の領域まで連続して設けられていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項８】
前記検査エリアの底面に基準にしたときの前記基板受け入れ部の深さは、基板を保持するホルダを回転可能とする深さであることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項９】
前記基板受け入れ部には、前記検査エリアの底面より低い領域の形状に略倣って形成されたカバーが設けられており、前記カバーには前記試料エリア外に空気を排出できる孔が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００８−７６０８０（Ｐ２００８−７６０８０Ａ）
【公開日】平成２０年４月３日（２００８．４．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２５２５９８（Ｐ２００６−２５２５９８）
【出願日】平成１８年９月１９日（２００６．９．１９）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年４月３日（２００８．４．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年９月１９日（２００６．９．１９）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
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