塗布装置
【課題】 被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを均一化する。
【解決手段】 内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減される。
【解決手段】 内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は塗布装置についての技術分野に関する。詳しくは、昇降液槽を昇降させたときの位置の変化に応じて浸漬槽と昇降液槽に貯留する塗布液のそれぞれの容量を増減させて被塗布物に塗布液を塗布して、塗膜の厚みを均一化する技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
円筒状の基材や平板状の基板等の被塗布物の表面に塗布液を塗布する塗布装置がある。塗布装置においては、例えば、基板上に微細パターンを形成するための感光性材料であるフォトレジスト、基板の表面を改質するシランカップリング剤、基板の表面の酸化を防ぐ防錆剤等が塗布液として用いられる。
【０００３】
このような塗布装置には、スピンコート方式、スプレーコート方式、ダイコート方式、浸漬方式等の各種の方式を用いて被塗布物に対して塗布液の塗布が行われるものがある。
【０００４】
例えば、シリコンウェハやガラスウェハ等の平面形状の被塗布物に塗布液を塗布する場合には、スピンコート方式、スプレーコート方式、ダイコート方式が用いられる場合が多い。このような方式を用いた塗布装置においては、被塗布物に対して塗膜の厚みを均一に形成することが困難な場合がある。
【０００５】
それに対して、浸漬方式を用いた塗布装置においては、浸漬槽に貯留された塗布液に被塗布物を浸漬し浸漬槽に対して相対的に被塗布物を引き上げることにより被塗布物の表面に塗膜を形成するため、塗布液の粘度や引上速度等を精密に調整することによって塗膜の厚みを均一に形成することが可能である。
【０００６】
このような浸漬方式を用いた塗布装置には、浸漬された被塗布物を浸漬槽から引上装置によって引き上げて塗膜を形成するものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
また、浸漬方式を用いた別の塗布装置には、被塗布物を保持機構によって保持し塗布液が貯留されている浸漬槽を被塗布物に対して下降させて塗膜を形成するものがある（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−３２６０４７号公報
【特許文献２】特開２００４−１４８１８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところが、特許文献１に記載された塗布装置にあっては、被塗布物を引き上げることによって被塗布物に塗布液を塗布するため、引上時に被塗布物が揺れてしまうと、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みにムラが生じるおそれがある。
【００１０】
また、特許文献２に記載された塗布装置にあっては、被塗布物が浸漬されている浸漬槽を下降させることによって被塗布物に塗布液を塗布するため、浸漬槽の下降時に浸漬槽が揺れてしまうと、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みにムラが生じるおそれがある。
【００１１】
そこで、本技術塗布装置は、上記した問題点を克服し、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを均一化することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
塗布装置は、上記した課題を解決するために、内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減されるものである。
【００１３】
従って、塗布装置にあっては、位置が固定された浸漬槽と昇降自在とされた昇降液槽に連通する液体用連通管を介して浸漬槽と昇降液槽の間で塗布液の授受が行われ、浸漬槽の内部に固定された状態の被塗布物に塗布液が塗布される。
【００１４】
上記した塗布装置においては、前記浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けることが望ましい。
【００１５】
浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けることにより、昇降液槽が昇降されるときに発生する振動の浸漬槽への伝達が抑制される。
【００１６】
上記した塗布装置においては、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通し前記浸漬槽及び前記昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けることが望ましい。
【００１７】
両端がそれぞれ浸漬槽と昇降液槽に連通し浸漬槽及び昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けることにより、浸漬槽は外気から遮断されるので、浸漬槽における塗布液が揮発されず、浸漬槽に塵埃が侵入しない。
【００１８】
上記した塗布装置においては、前記昇降液槽を昇降する昇降機構を設けることが望ましい。
【００１９】
昇降液槽を昇降する昇降機構を設けることにより、昇降液槽の昇降速度が制御される。
【００２０】
上記した塗布装置においては、前記昇降液槽が等速で下降可能とされることが望ましい。
【００２１】
昇降液槽が等速で下降可能とされることにより、浸漬槽における塗布液の底面部に対する液面の高さが昇降液槽の等速での下降に伴って等速で下降していく。
【００２２】
上記した塗布装置においては、前記昇降液槽の底面積が前記浸漬槽の底面積より大きくされることが望ましい。
【００２３】
昇降液槽の底面積が浸漬槽の底面積より大きくされることにより、昇降液槽の移動量が低減される。
【００２４】
上記した塗布装置においては、前記液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けることが望ましい。
【００２５】
液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けることにより、昇降液槽において発生する振動の浸漬槽への伝達が抑制される。
【００２６】
上記した塗布装置においては、前記液体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記液体用連通管が前記第１の防振部として設けられることが望ましい。
【００２７】
弾性変形可能な材料によって形成された液体用連通管が第１の防振部として設けられることにより、液体用連通管に生じる振動が抑制される。
【００２８】
上記した塗布装置においては、前記気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けることが望ましい。
【００２９】
気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けることにより、昇降液槽において発生する振動の浸漬槽への伝達が抑制される。
【００３０】
上記した塗布装置においては、前記気体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記気体用連通管が前記第２の防振部として設けられることが望ましい。
【００３１】
弾性変形可能な材料によって形成された気体用連通管が第２の防振部として設けられることにより、気体用連通管に生じる振動が抑制される。
【発明の効果】
【００３２】
本技術塗布装置は、内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減される。
【００３３】
従って、被塗布物に塗布液が塗布されるときに被塗布物や浸漬槽が移動されないので、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを均一化することができる。
【００３４】
請求項２に記載した技術にあっては、前記浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けている。
【００３５】
従って、浸漬槽の振動の発生を抑制することができ、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを確実に均一化することができる。
【００３６】
請求項３に記載した技術にあっては、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通し前記浸漬槽及び前記昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けている。
【００３７】
従って、浸漬槽における塗布液の揮発が防止されるので、揮発による塗布液の密度や粘度等の変化を防止することができ、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを確実に均一化することができる。
【００３８】
請求項４に記載した技術にあっては、前記昇降液槽を昇降する昇降機構を設けている。
【００３９】
従って、昇降液槽の下降速度を制御できるので、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを高い精度で均一化することができる。
【００４０】
請求項５に記載した技術にあっては、前記昇降液槽が等速で下降可能とされている。
【００４１】
従って、浸漬槽における塗布液の底面部に対する液面の高さが等速で下降されていくので、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを高い精度で均一化することができる。
【００４２】
請求項６に記載した技術にあっては、前記昇降液槽の底面積が前記浸漬槽の底面積より大きくされている。
【００４３】
従って、昇降液槽の下方への移動量が低減されるので、塗布装置を高さ方向において小型化することができる。
【００４４】
請求項７に記載した技術にあっては、前記液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けている。
【００４５】
従って、昇降液槽において発生する振動の浸漬槽への伝達を抑制することができ、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを確実に均一化することができる。
【００４６】
請求項８に記載した技術にあっては、前記液体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記液体用連通管が前記第１の防振部として設けられている。
【００４７】
従って、第１の防振部としての専用の部分が不要となり、塗布装置の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【００４８】
請求項９に記載した技術にあっては、前記気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けている。
【００４９】
従って、昇降液槽において発生する振動の浸漬槽への伝達を抑制することができ、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを確実に均一化することができる。
【００５０】
請求項１０に記載した技術にあっては、前記気体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記気体用連通管が前記第２の防振部として設けられている。
【００５１】
従って、第２の防振部としての専用の部分が不要となり、塗布装置の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
以下に、本技術塗布装置の実施の形態について添付図面を参照して説明する（図１乃至図６参照）。
【００５３】
［塗布装置の構成］
塗布装置１は、図１に示すように、位置が固定された浸漬槽２と、昇降自在にされた昇降液槽３と、浸漬槽２及び昇降液槽３に下方において連通する液体用連通管４と、浸漬槽２及び昇降液槽３に上方において連通する気体用連通管５と、昇降液槽３を昇降する昇降機構６とを備えている。
【００５４】
浸漬槽２は、例えば、底面部２ａと、底面部２ａの外周部から上方へ突出された周面部２ｂと、周面部２ｂを上方から閉塞する蓋面部２ｃとを有している。浸漬槽２は、例えば、蓋面部２ｃが周面部２ｂに対して開閉可能とされている。
【００５５】
浸漬槽２には塗布液１００が貯留される。塗布液１００としては、例えば、基材表面を改質するシランカップリング剤や離型剤、基材表面の酸化を防ぐ防錆剤、感光性材料等が用いられる。浸漬槽２には、例えば、基材表面に微細パターンを形成するために用いられる感光性材料であるフォトレジストが塗布液１００として貯留される。塗布液１００は揮発性及び一定の粘性を有している。
【００５６】
浸漬槽２の内部には被塗布物２００が固定された状態で収容される。被塗布物２００は蓋面部２ｃが周面部２ｂに対して開放されて浸漬槽２の内部へ収容され又は浸漬槽２の内部から取り出される。被塗布物２００としては、例えば、シリコンウェハやガラスウェハ等の平板形状の基板、電子写真方式用感光体ドラムを形成するための円筒形状の基材等がある。被塗布物２００は、後述するように、浸漬槽２の内部に貯留された塗布液１００に浸漬され、被塗布物２００の表面に塗布液１００が塗布される。
【００５７】
浸漬槽２はアクティブ型の防振台７に載置されている。防振台７は浸漬槽２に伝達される振動を抑制する機能を有する振動抑制部として用いられている。
【００５８】
防振台７は床等の設置面３００に設置された配置台８に配置され、例えば、浸漬槽２が載置される載置台７ａと載置台７ａに取り付けられた振動検出センサー７ｂと載置台７ａに取り付けられたアクチュエーター７ｃと図示しないコントロール部とを有する。
【００５９】
振動検出センサー７ｂは載置台７ａに伝達された振動を検出する機能を有する。アクチュエーター７ｃは載置台７ａに振動を抑制するための力を加える機能を有する。コントロール部は振動検出センサー７ｂから得られた載置台７ａに対する振動の情報に基づいてアクチュエーター７ｃの動作を制御する機能を有する。
【００６０】
防振台７においては、昇降機構６の後述する駆動時に昇降機構６や昇降液槽３において発生する振動が載置台７ａに伝達されたときに、振動検出センサー７ｂによって載置台７ａの振動が検出され、振動検出センサー７ｂにより得られた振動の情報に基づいてコントロール部によって載置台７ａに伝達された振動を打ち消すようにアクチュエーター７ｃの動作が制御され、載置台７ａの振動が抑制される。
【００６１】
なお、上記には、振動抑制部として防振台７を用いた例を示したが、振動抑制部は防振台７に限られることはない。振動抑制部は浸漬槽２に伝達される振動を抑制する機能を有していればよく、例えば、防振ゴム、コイルバネ、空気バネ、オイルダンパー等のように物性に基づいて伝達された振動を抑制するようなパッシブ型のものが用いられてもよい。
【００６２】
昇降液槽３は昇降自在とされ、例えば、下面部３ａと下面部３ａの外周部から上方へ突出された側面部３ｂと側面部３ｂを上方から閉塞する上面部３ｃとを有している。昇降液槽３の下面部３ａの面積は浸漬槽２の底面部２ａの面積より大きくされている。昇降液槽３には塗布液１００が貯留される。
【００６３】
液体用連通管４は一方の端部が底面部２ａに連結されて浸漬槽２に連通され、他方の端部が下面部３ａに連結されて昇降液槽３に連通されている。液体用連通管４は長手方向に垂直な面の断面積が浸漬槽２の底面部２ａの面積や昇降液槽３の下面部３ａの面積に対して十分小さくされ、浸漬槽２側に位置する部分が配置台８及び防振台７に固定されている。液体用連通管４は、例えば、ゴム等の柔軟性を有する弾性変形可能な材料によって形成されている。なお、液体用連通管４は金属等の剛性の高い材料によって形成されていてもよい。液体用連通管４が剛性の高い材料によって形成されている場合には、例えば、液体用連通管４の所定の部分が伸縮管継手やフレキシブルホース等の屈曲性を有する部材に接続され、昇降液槽３の昇降時に当該屈曲性を有する部材が屈曲されるように構成される。
【００６４】
上記したように、液体用連通管４は浸漬槽２と昇降液槽３に連通されており、液体用連通管４を介して浸漬槽２と昇降液槽３の間で塗布液１００の授受が行われる。従って、浸漬槽２と昇降液槽３と液体用連通管４に貯留された塗布液１００の合計された容量は一定にされている。塗布液１００の合計された容量は、浸漬槽２の内部に貯留された塗布液１００によって被塗布物２００の全体が浸漬可能な容量より多くされている。
【００６５】
なお、上記には、液体用連通管４の両端部がそれぞれ浸漬槽２の底面部２ａと昇降液槽３の下面部３ａとに連通されている例を示したが、液体用連通管４は両端部がそれぞれ底面部２ａと下面部３ａに連通された構成に限られることはない。液体用連通管４は、浸漬槽２と昇降液槽３の間での塗布液１００の授受が可能な状態であれば、各端部が浸漬槽２の周面部２ｂ又は昇降液槽３の側面部３ｂに連通されていてもよい。
【００６６】
塗布装置１には液体用連通管４に伝達される振動を抑制する第１の防振部９が設けられている。第１の防振部９としては、液体用連通管４を固定するためのネジやリベット、接着剤等の固定部材が用いられる。なお、液体用連通管４が柔軟性を有する弾性変形可能な材料によって形成されている場合には、液体用連通管４が第１の防振部９として機能する。従って、第１の防振部９としての専用の部分が不要となり、塗布装置１の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【００６７】
また、液体用連通管４は配置台８に固定されているため、配置台８を第１の防振部９として構成してもよい。配置台８を第１の防振部９として構成することにより、第１の防振部９としての専用の部分が不要となり、塗布装置１の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【００６８】
さらにまた、液体用連通管４は防振台７にも固定されているため、防振台７も第１の防振部９として機能する。従って、防振台７が第１の防振部９としても兼用されるので、塗布装置１の小型化を図ることができる。
【００６９】
気体用連通管５は一方の端部が蓋面部２ｃに連結されて浸漬槽２に連通され、他方の端部が上面部３ｃに連結されて昇降液槽３に連通されている。気体用連通管５は浸漬槽２及び昇降液槽３を外気から遮断する機能を有し、気体用連通管５の内部には空気等の気体１１０が封入されている。気体用連通管５は、例えば、ゴム等の柔軟性を有する弾性変形可能な材料によって形成されている。なお、気体用連通管５は金属等の剛性の高い材料によって形成されていてもよい。気体用連通管５が剛性の高い材料によって形成されている場合には、例えば、気体用連通管５の所定の部分が伸縮管継手やフレキシブルホース等の屈曲性を有する部材に接続され、昇降液槽３の昇降時に当該屈曲性を有する部材が屈曲されるように構成される。
【００７０】
上記したように、気体用連通管５は浸漬槽２と昇降液槽３に連通されている。従って、気体１１０は気体用連通管５を介して浸漬槽２と昇降液槽３との間で移動可能とされ、浸漬槽２の内圧と昇降液槽３の内圧は略同一にされる。
【００７１】
また、浸漬槽２の内圧と昇降液槽３の内圧は略同一にされているため、液体用連通管４を介して塗布液１００の授受が行われる浸漬槽２と昇降液槽３においては、浸漬槽２における塗布液１００の液面１００ａの位置と昇降液槽３における塗布液１００の液面１００ｂの位置とが昇降液槽３の移動位置に拘らず同じにされる。
【００７２】
なお、上記には、気体用連通管５の両端部がそれぞれ浸漬槽２の蓋面部２ｃと昇降液槽３の上面部３ｃとに連通されている例を示したが、気体用連通管５は両端部がそれぞれ蓋面部２ｃと上面部３ｃに連通された構成に限られることはない。気体用連通管５は、浸漬槽２及び昇降液槽３を外気から遮断し内部に気体１１０が封入された状態であれば、各端部が浸漬槽２の周面部２ｂ又は昇降液槽３の側面部３ｂに連通されていてもよい。
【００７３】
塗布装置１には気体用連通管５に伝達される振動を抑制する第２の防振部１０が設けられている。第２の防振部１０としては、図示しない壁面や天井等に気体用連通管５を固定するためのネジやリベット、接着剤等の固定部材が用いられる。なお、気体用連通管５が柔軟性を有する弾性変形可能な材料によって形成されている場合には、気体用連通管５が第２の防振部１０として機能する。従って、第２の防振部１０としての専用の部分が不要となり、塗布装置１の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【００７４】
昇降機構６は、例えば、設置面３００に設置された台座６ａと、台座６ａから上方へ延びる支柱６ｂと、支柱６ｂに上下方向へ移動自在に支持された設置ベース６ｃと、設置ベース６ｃを移動させるモーター等の駆動源６ｄと、駆動源を制御するコントローラー６ｅとを有している。昇降機構６はコントローラー６ｅによって設置ベース６ｃの移動方向（上下方向）や移動速度が制御され、設置ベース６ｃが等速かつ低速で下降可能とされている。昇降機構６の設置ベース６ｃには昇降液槽３が設置され、昇降機構６の動作に伴って昇降液槽３が昇降される。
【００７５】
［塗布方法］
以下に、上記した塗布装置１による塗布方法について説明する（図２乃至図６参照）。
【００７６】
先ず、被塗布物２００に塗布液１００が塗布される前の初期状態について説明する（図２参照）。
【００７７】
初期状態においては、昇降液槽３の上面部３ｃが浸漬槽２の底面部２ａと略同じ高さに位置され、昇降液槽３の略全体が浸漬槽２の下方に位置されている。
【００７８】
このとき、昇降液槽３には塗布液１００が十分に貯留され、昇降液槽３における塗布液１００の液面１００ｂは上面部３ｃに接近して位置されている。浸漬槽２には塗布液１００が貯留されていない。
【００７９】
また、上記したように、浸漬槽２の内圧と昇降液槽３の内圧は略同一にされているため、浸漬槽２と昇降液槽３では浸漬槽２における液面１００ａの位置と昇降液槽３における液面１００ｂの位置とが昇降液槽３の移動位置に拘らず同じにされる。
【００８０】
次に、浸漬槽２の蓋面部２ｃが開放されて被塗布物２００が浸漬槽２の内部に収容され、浸漬槽２の内部に被塗布物２００が固定した状態で配置される（図３参照）。
【００８１】
次いで、昇降機構６の設置ベース６ｃに設置された昇降液槽３が昇降機構６によって上方へ移動される（図４参照）。昇降液槽３は下面部３ａが浸漬槽２の蓋面部２ｃと略同じ高さになる位置まで上方へ移動される。
【００８２】
昇降液槽３が上方へ移動されると、昇降液槽３に貯留されていた塗布液１００が液体用連通管４を介して浸漬槽２に移動される。従って、浸漬槽２における底面部２ａに対する液面１００ａの高さが上昇され、昇降液槽３における下面部３ａに対する液面１００ｂの高さが下降される。
【００８３】
また、昇降液槽３が上方へ移動されたときには昇降液槽３の全体が浸漬槽２の上方に位置されるため、昇降液槽３に貯留されていた塗布液１００は全て液体用連通管４又は浸漬槽２に移動され、浸漬槽２には塗布液１００が充満される。従って、被塗布物２００の全体が塗布液１００に浸漬された状態とされる。
【００８４】
続いて、昇降液槽３が、昇降機構６のコントローラー６ｅによる駆動源６ｄの制御に基づいて等速かつ低速で下降される（図５参照）。
【００８５】
昇降液槽３が下降されていくと、浸漬槽２に貯留されていた塗布液１００が液体用連通管４を介して昇降液槽３に移動されていく。従って、浸漬槽２における底面部２ａに対する液面１００ａの高さが昇降液槽３の等速かつ低速での下降に伴って等速かつ低速で下降していき、昇降液槽３における下面部３ａに対する液面１００ｂの高さが等速かつ低速で上昇していく。従って、浸漬槽２における底面部２ａに対する液面１００ａの高さが等速かつ低速で下降するのに伴って、被塗布物２００の表面に上側から下側へ順に塗膜１０１が形成されていく。
【００８６】
塗布装置１においては、昇降液槽３の下降速度に応じて被塗布物２００の表面に形成される塗膜１０１の厚みが変化する。昇降液槽３が低速で下降されると、被塗布物２００の表面に形成される塗膜１０１は厚みが薄くされる。
【００８７】
塗布装置１においては、上記したように、昇降液槽３が等速で下降されていくため、浸漬槽２における塗布液１００の底面部２ａに対する液面１００ａの高さが等速で下降されていく。従って、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを高い精度で均一化することができる。
【００８８】
また、昇降液槽３が低速で下降されていくため、浸漬槽２における塗布液１００の底面部２ａに対する液面１００ａの高さが低速で下降されていく。従って、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを薄くすることができる。
【００８９】
さらに、上記したように、浸漬槽２が防振台７の載置台７ａに載置されている。従って、昇降機構６の下降時に昇降機構６や昇降液槽３において発生する振動等の浸漬槽２への伝達が抑制され、浸漬槽２の振動の発生を抑制することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを確実に均一化することができる。
【００９０】
さらにまた、昇降液槽３の下面部３ａの面積が浸漬槽２の底面部２ａの面積より大きくされているため、その分、昇降液槽３の下方への移動量を低減することができる。従って、塗布装置１を高さ方向において小型化することができる。
【００９１】
加えて、塗布装置１には液体用連通管４に伝達される振動を抑制する第１の防振部９が設けられている。従って、昇降機構６の下降時に昇降機構６や昇降液槽３において発生する振動の浸漬槽２への伝達を抑制することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを確実に均一化することができる。
【００９２】
さらに加えて、塗布装置１には気体用連通管５に伝達される振動を抑制する第２の防振部１０が設けられている。従って、昇降機構６の下降時に昇降機構６や昇降液槽３において発生する振動の浸漬槽２への伝達を抑制することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを確実に均一化することができる。
【００９３】
また、上記したように、液体用連通管４は長手方向に垂直な面の断面積が浸漬槽２の底面部２ａの面積や昇降液槽３の下面部３ａの面積に対して十分小さくされている。従って、昇降液槽３における塗布液１００の振動が液体用連通管４の内部の塗布液１００に伝達されるときに減衰され、浸漬槽２に貯留されている塗布液１００の振動の発生を抑制することができる。
【００９４】
引き続き、昇降液槽３は下降され、上面部３ｃが浸漬槽２の底面部２ａと略同じ高さになる位置において停止される（図６参照）。
【００９５】
下降された昇降液槽３が停止されたときには、昇降液槽３の略全体が浸漬槽２の下方に位置され、浸漬槽２に貯留されていた塗布液１００は全て液体用連通管４又は昇降液槽３に移動され、浸漬槽２には塗布液１００が貯留されていない状態になる。従って、被塗布物２００の表面の全体に塗膜１０１が形成される。
【００９６】
次いで、浸漬槽２の蓋面部２ｃを開放して被塗布物２００を取り出し、被塗布物２００に対して乾燥等の処理を行う。
【００９７】
［まとめ］
以上に記載した通り、塗布装置１にあっては、位置が固定された浸漬槽２と昇降自在とされた昇降液槽３に連通する液体用連通管４を介して浸漬槽２と昇降液槽３の間で塗布液１００の授受が行われ、昇降液槽３が昇降されたときの位置の変化に応じて昇降液槽３と浸漬槽２に貯留される塗布液１００のそれぞれの容量が増減され、固定された状態の被塗布物２００に塗布液１００が塗布される。
【００９８】
従って、浸漬槽２は位置が固定され被塗布物２００は浸漬槽２の内部に固定された状態とされ、被塗布物２００や浸漬槽２が移動されないので、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを均一化することができる。
【００９９】
また、上記した塗布装置１にあっては、両端がそれぞれ浸漬槽２と昇降液槽３に連通し浸漬槽２及び昇降液槽３を外気から遮断する気体用連通管５が設けられている。
【０１００】
従って、浸漬槽２における塗布液１００の揮発が防止され、揮発による塗布液１００の密度や粘度等の変化を防止することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを確実に均一化することができる。
【０１０１】
また、浸漬槽２が外気から遮断されているので、外気に存在するほこり等の異物が被塗布物２００に付着することを防止することができ、歩留まりの向上を図ることができる。
【０１０２】
また、上記した塗布装置１にあっては、昇降液槽３を昇降する昇降機構６を設けている。
【０１０３】
従って、昇降液槽３の下降速度を制御することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを高い精度で均一化することができる。
【０１０４】
なお、上記には、塗布装置１が気体用連通管５を備えた例を示したが、塗布装置は気体用連通管５を備えた構成に限られることはない。例えば、塗布装置は浸漬槽２と昇降液槽３が同一の気圧の状態におかれていれば、浸漬槽２と昇降液槽３が外気から遮断されていない状態とされていてもよい。
【０１０５】
［本技術］
なお、本技術は以下のような構成とすることができる。
【０１０６】
（１）内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減される塗布装置。
【０１０７】
（２）前記浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けた前記（１）に記載の塗布装置。
【０１０８】
（３）両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通し前記浸漬槽及び前記昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けた前記（１）又は前記（２）に記載の塗布装置。
【０１０９】
（４）前記昇降液槽を昇降する昇降機構を設けた前記（１）から前記（３）の何れかに記載の塗布装置。
【０１１０】
（５）前記昇降液槽が等速で下降可能とされた前記（４）に記載の塗布装置。
【０１１１】
（６）前記昇降液槽の底面積が前記浸漬槽の底面積より大きくされた前記（１）から前記（５）の何れかに記載の塗布装置。
【０１１２】
（７）前記液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けた前記（１）から前記（６）の何れかに記載の塗布装置。
【０１１３】
（８）前記液体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記液体用連通管が前記第１の防振部として設けられた前記（７）に記載の塗布装置。
【０１１４】
（９）前記気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けた前記（３）に記載の塗布装置。
【０１１５】
（１０）前記気体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記気体用連通管が前記第２の防振部として設けられた前記（９）に記載の塗布装置。
【０１１６】
上記した最良の形態において示した各部の具体的な形状及び構造は、何れも本技術を実施する際の具体化のほんの一例を示したものにすぎず、これらによって本技術の技術的範囲が限定的に解釈されることがあってはならないものである。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】図２乃至図６と共に本技術塗布装置の実施の形態を示すものであり、本図は、塗布装置の概略図である。
【図２】図３乃至図６と共に被塗布物に塗布液が塗布される工程を示すものであり、本図は、被塗布物に塗布液が塗布される前の初期状態を示す概略図である。
【図３】浸漬槽に被塗布物が固定された状態で収容された状態を示す概略図である。
【図４】昇降液槽の全体が浸漬槽に対して上側に位置し被塗布物の全体が塗布液に浸された状態を示す概略図である。
【図５】図４の状態から昇降液槽が下降され浸漬槽における塗布液の液面の高さが下降している状態を示す概略図である。
【図６】被塗布物に対する塗布液の塗布が完了された状態を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１１８】
１…塗布装置、２…浸漬槽、３…昇降液槽、４…液体用連通管、５…気体用連通管、６…昇降機構、７…防振台、９…第１の防振部、１０…第２の防振部、１００…塗布液、１１０…気体、２００…被塗布物
【技術分野】
【０００１】
本技術は塗布装置についての技術分野に関する。詳しくは、昇降液槽を昇降させたときの位置の変化に応じて浸漬槽と昇降液槽に貯留する塗布液のそれぞれの容量を増減させて被塗布物に塗布液を塗布して、塗膜の厚みを均一化する技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
円筒状の基材や平板状の基板等の被塗布物の表面に塗布液を塗布する塗布装置がある。塗布装置においては、例えば、基板上に微細パターンを形成するための感光性材料であるフォトレジスト、基板の表面を改質するシランカップリング剤、基板の表面の酸化を防ぐ防錆剤等が塗布液として用いられる。
【０００３】
このような塗布装置には、スピンコート方式、スプレーコート方式、ダイコート方式、浸漬方式等の各種の方式を用いて被塗布物に対して塗布液の塗布が行われるものがある。
【０００４】
例えば、シリコンウェハやガラスウェハ等の平面形状の被塗布物に塗布液を塗布する場合には、スピンコート方式、スプレーコート方式、ダイコート方式が用いられる場合が多い。このような方式を用いた塗布装置においては、被塗布物に対して塗膜の厚みを均一に形成することが困難な場合がある。
【０００５】
それに対して、浸漬方式を用いた塗布装置においては、浸漬槽に貯留された塗布液に被塗布物を浸漬し浸漬槽に対して相対的に被塗布物を引き上げることにより被塗布物の表面に塗膜を形成するため、塗布液の粘度や引上速度等を精密に調整することによって塗膜の厚みを均一に形成することが可能である。
【０００６】
このような浸漬方式を用いた塗布装置には、浸漬された被塗布物を浸漬槽から引上装置によって引き上げて塗膜を形成するものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
また、浸漬方式を用いた別の塗布装置には、被塗布物を保持機構によって保持し塗布液が貯留されている浸漬槽を被塗布物に対して下降させて塗膜を形成するものがある（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−３２６０４７号公報
【特許文献２】特開２００４−１４８１８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところが、特許文献１に記載された塗布装置にあっては、被塗布物を引き上げることによって被塗布物に塗布液を塗布するため、引上時に被塗布物が揺れてしまうと、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みにムラが生じるおそれがある。
【００１０】
また、特許文献２に記載された塗布装置にあっては、被塗布物が浸漬されている浸漬槽を下降させることによって被塗布物に塗布液を塗布するため、浸漬槽の下降時に浸漬槽が揺れてしまうと、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みにムラが生じるおそれがある。
【００１１】
そこで、本技術塗布装置は、上記した問題点を克服し、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを均一化することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
塗布装置は、上記した課題を解決するために、内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減されるものである。
【００１３】
従って、塗布装置にあっては、位置が固定された浸漬槽と昇降自在とされた昇降液槽に連通する液体用連通管を介して浸漬槽と昇降液槽の間で塗布液の授受が行われ、浸漬槽の内部に固定された状態の被塗布物に塗布液が塗布される。
【００１４】
上記した塗布装置においては、前記浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けることが望ましい。
【００１５】
浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けることにより、昇降液槽が昇降されるときに発生する振動の浸漬槽への伝達が抑制される。
【００１６】
上記した塗布装置においては、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通し前記浸漬槽及び前記昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けることが望ましい。
【００１７】
両端がそれぞれ浸漬槽と昇降液槽に連通し浸漬槽及び昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けることにより、浸漬槽は外気から遮断されるので、浸漬槽における塗布液が揮発されず、浸漬槽に塵埃が侵入しない。
【００１８】
上記した塗布装置においては、前記昇降液槽を昇降する昇降機構を設けることが望ましい。
【００１９】
昇降液槽を昇降する昇降機構を設けることにより、昇降液槽の昇降速度が制御される。
【００２０】
上記した塗布装置においては、前記昇降液槽が等速で下降可能とされることが望ましい。
【００２１】
昇降液槽が等速で下降可能とされることにより、浸漬槽における塗布液の底面部に対する液面の高さが昇降液槽の等速での下降に伴って等速で下降していく。
【００２２】
上記した塗布装置においては、前記昇降液槽の底面積が前記浸漬槽の底面積より大きくされることが望ましい。
【００２３】
昇降液槽の底面積が浸漬槽の底面積より大きくされることにより、昇降液槽の移動量が低減される。
【００２４】
上記した塗布装置においては、前記液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けることが望ましい。
【００２５】
液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けることにより、昇降液槽において発生する振動の浸漬槽への伝達が抑制される。
【００２６】
上記した塗布装置においては、前記液体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記液体用連通管が前記第１の防振部として設けられることが望ましい。
【００２７】
弾性変形可能な材料によって形成された液体用連通管が第１の防振部として設けられることにより、液体用連通管に生じる振動が抑制される。
【００２８】
上記した塗布装置においては、前記気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けることが望ましい。
【００２９】
気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けることにより、昇降液槽において発生する振動の浸漬槽への伝達が抑制される。
【００３０】
上記した塗布装置においては、前記気体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記気体用連通管が前記第２の防振部として設けられることが望ましい。
【００３１】
弾性変形可能な材料によって形成された気体用連通管が第２の防振部として設けられることにより、気体用連通管に生じる振動が抑制される。
【発明の効果】
【００３２】
本技術塗布装置は、内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減される。
【００３３】
従って、被塗布物に塗布液が塗布されるときに被塗布物や浸漬槽が移動されないので、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを均一化することができる。
【００３４】
請求項２に記載した技術にあっては、前記浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けている。
【００３５】
従って、浸漬槽の振動の発生を抑制することができ、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを確実に均一化することができる。
【００３６】
請求項３に記載した技術にあっては、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通し前記浸漬槽及び前記昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けている。
【００３７】
従って、浸漬槽における塗布液の揮発が防止されるので、揮発による塗布液の密度や粘度等の変化を防止することができ、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを確実に均一化することができる。
【００３８】
請求項４に記載した技術にあっては、前記昇降液槽を昇降する昇降機構を設けている。
【００３９】
従って、昇降液槽の下降速度を制御できるので、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを高い精度で均一化することができる。
【００４０】
請求項５に記載した技術にあっては、前記昇降液槽が等速で下降可能とされている。
【００４１】
従って、浸漬槽における塗布液の底面部に対する液面の高さが等速で下降されていくので、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを高い精度で均一化することができる。
【００４２】
請求項６に記載した技術にあっては、前記昇降液槽の底面積が前記浸漬槽の底面積より大きくされている。
【００４３】
従って、昇降液槽の下方への移動量が低減されるので、塗布装置を高さ方向において小型化することができる。
【００４４】
請求項７に記載した技術にあっては、前記液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けている。
【００４５】
従って、昇降液槽において発生する振動の浸漬槽への伝達を抑制することができ、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを確実に均一化することができる。
【００４６】
請求項８に記載した技術にあっては、前記液体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記液体用連通管が前記第１の防振部として設けられている。
【００４７】
従って、第１の防振部としての専用の部分が不要となり、塗布装置の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【００４８】
請求項９に記載した技術にあっては、前記気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けている。
【００４９】
従って、昇降液槽において発生する振動の浸漬槽への伝達を抑制することができ、被塗布物の表面に形成された塗膜の厚みを確実に均一化することができる。
【００５０】
請求項１０に記載した技術にあっては、前記気体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記気体用連通管が前記第２の防振部として設けられている。
【００５１】
従って、第２の防振部としての専用の部分が不要となり、塗布装置の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
以下に、本技術塗布装置の実施の形態について添付図面を参照して説明する（図１乃至図６参照）。
【００５３】
［塗布装置の構成］
塗布装置１は、図１に示すように、位置が固定された浸漬槽２と、昇降自在にされた昇降液槽３と、浸漬槽２及び昇降液槽３に下方において連通する液体用連通管４と、浸漬槽２及び昇降液槽３に上方において連通する気体用連通管５と、昇降液槽３を昇降する昇降機構６とを備えている。
【００５４】
浸漬槽２は、例えば、底面部２ａと、底面部２ａの外周部から上方へ突出された周面部２ｂと、周面部２ｂを上方から閉塞する蓋面部２ｃとを有している。浸漬槽２は、例えば、蓋面部２ｃが周面部２ｂに対して開閉可能とされている。
【００５５】
浸漬槽２には塗布液１００が貯留される。塗布液１００としては、例えば、基材表面を改質するシランカップリング剤や離型剤、基材表面の酸化を防ぐ防錆剤、感光性材料等が用いられる。浸漬槽２には、例えば、基材表面に微細パターンを形成するために用いられる感光性材料であるフォトレジストが塗布液１００として貯留される。塗布液１００は揮発性及び一定の粘性を有している。
【００５６】
浸漬槽２の内部には被塗布物２００が固定された状態で収容される。被塗布物２００は蓋面部２ｃが周面部２ｂに対して開放されて浸漬槽２の内部へ収容され又は浸漬槽２の内部から取り出される。被塗布物２００としては、例えば、シリコンウェハやガラスウェハ等の平板形状の基板、電子写真方式用感光体ドラムを形成するための円筒形状の基材等がある。被塗布物２００は、後述するように、浸漬槽２の内部に貯留された塗布液１００に浸漬され、被塗布物２００の表面に塗布液１００が塗布される。
【００５７】
浸漬槽２はアクティブ型の防振台７に載置されている。防振台７は浸漬槽２に伝達される振動を抑制する機能を有する振動抑制部として用いられている。
【００５８】
防振台７は床等の設置面３００に設置された配置台８に配置され、例えば、浸漬槽２が載置される載置台７ａと載置台７ａに取り付けられた振動検出センサー７ｂと載置台７ａに取り付けられたアクチュエーター７ｃと図示しないコントロール部とを有する。
【００５９】
振動検出センサー７ｂは載置台７ａに伝達された振動を検出する機能を有する。アクチュエーター７ｃは載置台７ａに振動を抑制するための力を加える機能を有する。コントロール部は振動検出センサー７ｂから得られた載置台７ａに対する振動の情報に基づいてアクチュエーター７ｃの動作を制御する機能を有する。
【００６０】
防振台７においては、昇降機構６の後述する駆動時に昇降機構６や昇降液槽３において発生する振動が載置台７ａに伝達されたときに、振動検出センサー７ｂによって載置台７ａの振動が検出され、振動検出センサー７ｂにより得られた振動の情報に基づいてコントロール部によって載置台７ａに伝達された振動を打ち消すようにアクチュエーター７ｃの動作が制御され、載置台７ａの振動が抑制される。
【００６１】
なお、上記には、振動抑制部として防振台７を用いた例を示したが、振動抑制部は防振台７に限られることはない。振動抑制部は浸漬槽２に伝達される振動を抑制する機能を有していればよく、例えば、防振ゴム、コイルバネ、空気バネ、オイルダンパー等のように物性に基づいて伝達された振動を抑制するようなパッシブ型のものが用いられてもよい。
【００６２】
昇降液槽３は昇降自在とされ、例えば、下面部３ａと下面部３ａの外周部から上方へ突出された側面部３ｂと側面部３ｂを上方から閉塞する上面部３ｃとを有している。昇降液槽３の下面部３ａの面積は浸漬槽２の底面部２ａの面積より大きくされている。昇降液槽３には塗布液１００が貯留される。
【００６３】
液体用連通管４は一方の端部が底面部２ａに連結されて浸漬槽２に連通され、他方の端部が下面部３ａに連結されて昇降液槽３に連通されている。液体用連通管４は長手方向に垂直な面の断面積が浸漬槽２の底面部２ａの面積や昇降液槽３の下面部３ａの面積に対して十分小さくされ、浸漬槽２側に位置する部分が配置台８及び防振台７に固定されている。液体用連通管４は、例えば、ゴム等の柔軟性を有する弾性変形可能な材料によって形成されている。なお、液体用連通管４は金属等の剛性の高い材料によって形成されていてもよい。液体用連通管４が剛性の高い材料によって形成されている場合には、例えば、液体用連通管４の所定の部分が伸縮管継手やフレキシブルホース等の屈曲性を有する部材に接続され、昇降液槽３の昇降時に当該屈曲性を有する部材が屈曲されるように構成される。
【００６４】
上記したように、液体用連通管４は浸漬槽２と昇降液槽３に連通されており、液体用連通管４を介して浸漬槽２と昇降液槽３の間で塗布液１００の授受が行われる。従って、浸漬槽２と昇降液槽３と液体用連通管４に貯留された塗布液１００の合計された容量は一定にされている。塗布液１００の合計された容量は、浸漬槽２の内部に貯留された塗布液１００によって被塗布物２００の全体が浸漬可能な容量より多くされている。
【００６５】
なお、上記には、液体用連通管４の両端部がそれぞれ浸漬槽２の底面部２ａと昇降液槽３の下面部３ａとに連通されている例を示したが、液体用連通管４は両端部がそれぞれ底面部２ａと下面部３ａに連通された構成に限られることはない。液体用連通管４は、浸漬槽２と昇降液槽３の間での塗布液１００の授受が可能な状態であれば、各端部が浸漬槽２の周面部２ｂ又は昇降液槽３の側面部３ｂに連通されていてもよい。
【００６６】
塗布装置１には液体用連通管４に伝達される振動を抑制する第１の防振部９が設けられている。第１の防振部９としては、液体用連通管４を固定するためのネジやリベット、接着剤等の固定部材が用いられる。なお、液体用連通管４が柔軟性を有する弾性変形可能な材料によって形成されている場合には、液体用連通管４が第１の防振部９として機能する。従って、第１の防振部９としての専用の部分が不要となり、塗布装置１の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【００６７】
また、液体用連通管４は配置台８に固定されているため、配置台８を第１の防振部９として構成してもよい。配置台８を第１の防振部９として構成することにより、第１の防振部９としての専用の部分が不要となり、塗布装置１の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【００６８】
さらにまた、液体用連通管４は防振台７にも固定されているため、防振台７も第１の防振部９として機能する。従って、防振台７が第１の防振部９としても兼用されるので、塗布装置１の小型化を図ることができる。
【００６９】
気体用連通管５は一方の端部が蓋面部２ｃに連結されて浸漬槽２に連通され、他方の端部が上面部３ｃに連結されて昇降液槽３に連通されている。気体用連通管５は浸漬槽２及び昇降液槽３を外気から遮断する機能を有し、気体用連通管５の内部には空気等の気体１１０が封入されている。気体用連通管５は、例えば、ゴム等の柔軟性を有する弾性変形可能な材料によって形成されている。なお、気体用連通管５は金属等の剛性の高い材料によって形成されていてもよい。気体用連通管５が剛性の高い材料によって形成されている場合には、例えば、気体用連通管５の所定の部分が伸縮管継手やフレキシブルホース等の屈曲性を有する部材に接続され、昇降液槽３の昇降時に当該屈曲性を有する部材が屈曲されるように構成される。
【００７０】
上記したように、気体用連通管５は浸漬槽２と昇降液槽３に連通されている。従って、気体１１０は気体用連通管５を介して浸漬槽２と昇降液槽３との間で移動可能とされ、浸漬槽２の内圧と昇降液槽３の内圧は略同一にされる。
【００７１】
また、浸漬槽２の内圧と昇降液槽３の内圧は略同一にされているため、液体用連通管４を介して塗布液１００の授受が行われる浸漬槽２と昇降液槽３においては、浸漬槽２における塗布液１００の液面１００ａの位置と昇降液槽３における塗布液１００の液面１００ｂの位置とが昇降液槽３の移動位置に拘らず同じにされる。
【００７２】
なお、上記には、気体用連通管５の両端部がそれぞれ浸漬槽２の蓋面部２ｃと昇降液槽３の上面部３ｃとに連通されている例を示したが、気体用連通管５は両端部がそれぞれ蓋面部２ｃと上面部３ｃに連通された構成に限られることはない。気体用連通管５は、浸漬槽２及び昇降液槽３を外気から遮断し内部に気体１１０が封入された状態であれば、各端部が浸漬槽２の周面部２ｂ又は昇降液槽３の側面部３ｂに連通されていてもよい。
【００７３】
塗布装置１には気体用連通管５に伝達される振動を抑制する第２の防振部１０が設けられている。第２の防振部１０としては、図示しない壁面や天井等に気体用連通管５を固定するためのネジやリベット、接着剤等の固定部材が用いられる。なお、気体用連通管５が柔軟性を有する弾性変形可能な材料によって形成されている場合には、気体用連通管５が第２の防振部１０として機能する。従って、第２の防振部１０としての専用の部分が不要となり、塗布装置１の部品点数の削減及び構成の簡素化を図ることができる。
【００７４】
昇降機構６は、例えば、設置面３００に設置された台座６ａと、台座６ａから上方へ延びる支柱６ｂと、支柱６ｂに上下方向へ移動自在に支持された設置ベース６ｃと、設置ベース６ｃを移動させるモーター等の駆動源６ｄと、駆動源を制御するコントローラー６ｅとを有している。昇降機構６はコントローラー６ｅによって設置ベース６ｃの移動方向（上下方向）や移動速度が制御され、設置ベース６ｃが等速かつ低速で下降可能とされている。昇降機構６の設置ベース６ｃには昇降液槽３が設置され、昇降機構６の動作に伴って昇降液槽３が昇降される。
【００７５】
［塗布方法］
以下に、上記した塗布装置１による塗布方法について説明する（図２乃至図６参照）。
【００７６】
先ず、被塗布物２００に塗布液１００が塗布される前の初期状態について説明する（図２参照）。
【００７７】
初期状態においては、昇降液槽３の上面部３ｃが浸漬槽２の底面部２ａと略同じ高さに位置され、昇降液槽３の略全体が浸漬槽２の下方に位置されている。
【００７８】
このとき、昇降液槽３には塗布液１００が十分に貯留され、昇降液槽３における塗布液１００の液面１００ｂは上面部３ｃに接近して位置されている。浸漬槽２には塗布液１００が貯留されていない。
【００７９】
また、上記したように、浸漬槽２の内圧と昇降液槽３の内圧は略同一にされているため、浸漬槽２と昇降液槽３では浸漬槽２における液面１００ａの位置と昇降液槽３における液面１００ｂの位置とが昇降液槽３の移動位置に拘らず同じにされる。
【００８０】
次に、浸漬槽２の蓋面部２ｃが開放されて被塗布物２００が浸漬槽２の内部に収容され、浸漬槽２の内部に被塗布物２００が固定した状態で配置される（図３参照）。
【００８１】
次いで、昇降機構６の設置ベース６ｃに設置された昇降液槽３が昇降機構６によって上方へ移動される（図４参照）。昇降液槽３は下面部３ａが浸漬槽２の蓋面部２ｃと略同じ高さになる位置まで上方へ移動される。
【００８２】
昇降液槽３が上方へ移動されると、昇降液槽３に貯留されていた塗布液１００が液体用連通管４を介して浸漬槽２に移動される。従って、浸漬槽２における底面部２ａに対する液面１００ａの高さが上昇され、昇降液槽３における下面部３ａに対する液面１００ｂの高さが下降される。
【００８３】
また、昇降液槽３が上方へ移動されたときには昇降液槽３の全体が浸漬槽２の上方に位置されるため、昇降液槽３に貯留されていた塗布液１００は全て液体用連通管４又は浸漬槽２に移動され、浸漬槽２には塗布液１００が充満される。従って、被塗布物２００の全体が塗布液１００に浸漬された状態とされる。
【００８４】
続いて、昇降液槽３が、昇降機構６のコントローラー６ｅによる駆動源６ｄの制御に基づいて等速かつ低速で下降される（図５参照）。
【００８５】
昇降液槽３が下降されていくと、浸漬槽２に貯留されていた塗布液１００が液体用連通管４を介して昇降液槽３に移動されていく。従って、浸漬槽２における底面部２ａに対する液面１００ａの高さが昇降液槽３の等速かつ低速での下降に伴って等速かつ低速で下降していき、昇降液槽３における下面部３ａに対する液面１００ｂの高さが等速かつ低速で上昇していく。従って、浸漬槽２における底面部２ａに対する液面１００ａの高さが等速かつ低速で下降するのに伴って、被塗布物２００の表面に上側から下側へ順に塗膜１０１が形成されていく。
【００８６】
塗布装置１においては、昇降液槽３の下降速度に応じて被塗布物２００の表面に形成される塗膜１０１の厚みが変化する。昇降液槽３が低速で下降されると、被塗布物２００の表面に形成される塗膜１０１は厚みが薄くされる。
【００８７】
塗布装置１においては、上記したように、昇降液槽３が等速で下降されていくため、浸漬槽２における塗布液１００の底面部２ａに対する液面１００ａの高さが等速で下降されていく。従って、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを高い精度で均一化することができる。
【００８８】
また、昇降液槽３が低速で下降されていくため、浸漬槽２における塗布液１００の底面部２ａに対する液面１００ａの高さが低速で下降されていく。従って、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを薄くすることができる。
【００８９】
さらに、上記したように、浸漬槽２が防振台７の載置台７ａに載置されている。従って、昇降機構６の下降時に昇降機構６や昇降液槽３において発生する振動等の浸漬槽２への伝達が抑制され、浸漬槽２の振動の発生を抑制することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを確実に均一化することができる。
【００９０】
さらにまた、昇降液槽３の下面部３ａの面積が浸漬槽２の底面部２ａの面積より大きくされているため、その分、昇降液槽３の下方への移動量を低減することができる。従って、塗布装置１を高さ方向において小型化することができる。
【００９１】
加えて、塗布装置１には液体用連通管４に伝達される振動を抑制する第１の防振部９が設けられている。従って、昇降機構６の下降時に昇降機構６や昇降液槽３において発生する振動の浸漬槽２への伝達を抑制することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを確実に均一化することができる。
【００９２】
さらに加えて、塗布装置１には気体用連通管５に伝達される振動を抑制する第２の防振部１０が設けられている。従って、昇降機構６の下降時に昇降機構６や昇降液槽３において発生する振動の浸漬槽２への伝達を抑制することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを確実に均一化することができる。
【００９３】
また、上記したように、液体用連通管４は長手方向に垂直な面の断面積が浸漬槽２の底面部２ａの面積や昇降液槽３の下面部３ａの面積に対して十分小さくされている。従って、昇降液槽３における塗布液１００の振動が液体用連通管４の内部の塗布液１００に伝達されるときに減衰され、浸漬槽２に貯留されている塗布液１００の振動の発生を抑制することができる。
【００９４】
引き続き、昇降液槽３は下降され、上面部３ｃが浸漬槽２の底面部２ａと略同じ高さになる位置において停止される（図６参照）。
【００９５】
下降された昇降液槽３が停止されたときには、昇降液槽３の略全体が浸漬槽２の下方に位置され、浸漬槽２に貯留されていた塗布液１００は全て液体用連通管４又は昇降液槽３に移動され、浸漬槽２には塗布液１００が貯留されていない状態になる。従って、被塗布物２００の表面の全体に塗膜１０１が形成される。
【００９６】
次いで、浸漬槽２の蓋面部２ｃを開放して被塗布物２００を取り出し、被塗布物２００に対して乾燥等の処理を行う。
【００９７】
［まとめ］
以上に記載した通り、塗布装置１にあっては、位置が固定された浸漬槽２と昇降自在とされた昇降液槽３に連通する液体用連通管４を介して浸漬槽２と昇降液槽３の間で塗布液１００の授受が行われ、昇降液槽３が昇降されたときの位置の変化に応じて昇降液槽３と浸漬槽２に貯留される塗布液１００のそれぞれの容量が増減され、固定された状態の被塗布物２００に塗布液１００が塗布される。
【００９８】
従って、浸漬槽２は位置が固定され被塗布物２００は浸漬槽２の内部に固定された状態とされ、被塗布物２００や浸漬槽２が移動されないので、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを均一化することができる。
【００９９】
また、上記した塗布装置１にあっては、両端がそれぞれ浸漬槽２と昇降液槽３に連通し浸漬槽２及び昇降液槽３を外気から遮断する気体用連通管５が設けられている。
【０１００】
従って、浸漬槽２における塗布液１００の揮発が防止され、揮発による塗布液１００の密度や粘度等の変化を防止することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを確実に均一化することができる。
【０１０１】
また、浸漬槽２が外気から遮断されているので、外気に存在するほこり等の異物が被塗布物２００に付着することを防止することができ、歩留まりの向上を図ることができる。
【０１０２】
また、上記した塗布装置１にあっては、昇降液槽３を昇降する昇降機構６を設けている。
【０１０３】
従って、昇降液槽３の下降速度を制御することができ、被塗布物２００の表面に形成された塗膜１０１の厚みを高い精度で均一化することができる。
【０１０４】
なお、上記には、塗布装置１が気体用連通管５を備えた例を示したが、塗布装置は気体用連通管５を備えた構成に限られることはない。例えば、塗布装置は浸漬槽２と昇降液槽３が同一の気圧の状態におかれていれば、浸漬槽２と昇降液槽３が外気から遮断されていない状態とされていてもよい。
【０１０５】
［本技術］
なお、本技術は以下のような構成とすることができる。
【０１０６】
（１）内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減される塗布装置。
【０１０７】
（２）前記浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けた前記（１）に記載の塗布装置。
【０１０８】
（３）両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通し前記浸漬槽及び前記昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けた前記（１）又は前記（２）に記載の塗布装置。
【０１０９】
（４）前記昇降液槽を昇降する昇降機構を設けた前記（１）から前記（３）の何れかに記載の塗布装置。
【０１１０】
（５）前記昇降液槽が等速で下降可能とされた前記（４）に記載の塗布装置。
【０１１１】
（６）前記昇降液槽の底面積が前記浸漬槽の底面積より大きくされた前記（１）から前記（５）の何れかに記載の塗布装置。
【０１１２】
（７）前記液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けた前記（１）から前記（６）の何れかに記載の塗布装置。
【０１１３】
（８）前記液体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記液体用連通管が前記第１の防振部として設けられた前記（７）に記載の塗布装置。
【０１１４】
（９）前記気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けた前記（３）に記載の塗布装置。
【０１１５】
（１０）前記気体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、前記気体用連通管が前記第２の防振部として設けられた前記（９）に記載の塗布装置。
【０１１６】
上記した最良の形態において示した各部の具体的な形状及び構造は、何れも本技術を実施する際の具体化のほんの一例を示したものにすぎず、これらによって本技術の技術的範囲が限定的に解釈されることがあってはならないものである。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】図２乃至図６と共に本技術塗布装置の実施の形態を示すものであり、本図は、塗布装置の概略図である。
【図２】図３乃至図６と共に被塗布物に塗布液が塗布される工程を示すものであり、本図は、被塗布物に塗布液が塗布される前の初期状態を示す概略図である。
【図３】浸漬槽に被塗布物が固定された状態で収容された状態を示す概略図である。
【図４】昇降液槽の全体が浸漬槽に対して上側に位置し被塗布物の全体が塗布液に浸された状態を示す概略図である。
【図５】図４の状態から昇降液槽が下降され浸漬槽における塗布液の液面の高さが下降している状態を示す概略図である。
【図６】被塗布物に対する塗布液の塗布が完了された状態を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１１８】
１…塗布装置、２…浸漬槽、３…昇降液槽、４…液体用連通管、５…気体用連通管、６…昇降機構、７…防振台、９…第１の防振部、１０…第２の防振部、１００…塗布液、１１０…気体、２００…被塗布物
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、
前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、
両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、
前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、
前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、
前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減される
塗布装置。
【請求項２】
前記浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通し前記浸漬槽及び前記昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記昇降液槽を昇降する昇降機構を設けた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記昇降液槽が等速で下降可能とされた
請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記昇降液槽の底面積が前記浸漬槽の底面積より大きくされた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記液体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、
前記液体用連通管が前記第１の防振部として設けられた
請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けた
請求項３に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記気体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、
前記気体用連通管が前記第２の防振部として設けられた
請求項９に記載の塗布装置。
【請求項１】
内部に固定された状態の被塗布物に塗布される塗布液を貯留し位置が固定された浸漬槽と、
前記塗布液を貯留し昇降自在とされた昇降液槽と、
両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通する液体用連通管とを備え、
前記液体用連通管を介して前記浸漬槽と前記昇降液槽の間で前記塗布液の授受が行われ、
前記昇降液槽と前記浸漬槽と前記液体用連通管に貯留された前記塗布液の合計された容量が一定の容量とされ、
前記昇降液槽が昇降されたときの位置の変化に応じて前記昇降液槽と前記浸漬槽に貯留される前記塗布液のそれぞれの容量が増減される
塗布装置。
【請求項２】
前記浸漬槽に伝達される振動を抑制する振動抑制部を設けた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
両端がそれぞれ前記浸漬槽と前記昇降液槽に連通し前記浸漬槽及び前記昇降液槽を外気から遮断し内部に気体が封入された気体用連通管を設けた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記昇降液槽を昇降する昇降機構を設けた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記昇降液槽が等速で下降可能とされた
請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記昇降液槽の底面積が前記浸漬槽の底面積より大きくされた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記液体用連通管に伝達される振動を抑制する第１の防振部を設けた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記液体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、
前記液体用連通管が前記第１の防振部として設けられた
請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記気体用連通管に伝達される振動を抑制する第２の防振部を設けた
請求項３に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記気体用連通管が弾性変形可能な材料によって形成され、
前記気体用連通管が前記第２の防振部として設けられた
請求項９に記載の塗布装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１２−１９６６４６（Ｐ２０１２−１９６６４６Ａ）
【公開日】平成２４年１０月１８日（２０１２．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−６３７６４（Ｐ２０１１−６３７６４）
【出願日】平成２３年３月２３日（２０１１．３．２３）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月１８日（２０１２．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２３日（２０１１．３．２３）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
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