本発明は、（固形分重量に対して）６から５０重量％、好ましくは６から４５重量％の皮膜形成剤；５から４０重量％の、可塑剤、界面活性剤および／または分散剤から選択される少なくとも１種の化合物；２０から７５重量％の導電性粒子；０から１０重量％のドーパント；０から１０重量％の増粘剤；および０から１５重量％の添加剤を含む導電性コーティング組成物によりコーティングされたガラスヤーンおよびガラスヤーン構造に関する。本発明は、前記ヤーンおよびヤーン構造をコーティングするために使用される導電性コーティング組成物、それを製造する方法、前記ヤーンまたはヤーン構造を含む複合材料にさらに関する。本発明は、抵抗発熱可能または電磁防護具として使用可能な構造および複合材料を製造するのに有用である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は導電性コーティングを含んでなるガラスストランドに関する。
【０００２】
本発明は、前記ストランドをコーティングするのに使用される導電性コーティング組成物、これらのストランドの製造方法、これらのストランドから形成される強化構造およびこれらのストランドを含む複合材料に関する。
【背景技術】
【０００３】
従来、強化ガラスストランドは、溶融ガラスに満たされているブッシュの多数のオリフィスから重力により流れ出る溶融ガラスの流れを機械的に延伸してフィラメントを形成し、それらをまとめてベースストランド（ｂａｓｅ ｓｔｒａｎｄ）とし、次いで集められることにより作製されている。
【０００４】
延伸の間、およびストランドにまとめられる前に、ガラスフィラメントは、サイジング部材上を通ることにより、サイジング組成物、一般的に水溶性サイジング組成物がコーティングされる。
【０００５】
サイズ剤の役割は２つの点で必須である。
【０００６】
ストランドの製造中、それは、プロセスの部材上の高速でのフィラメントの摩擦から生じる摩耗からフィラメントを保護し、潤滑剤として機能する。それは、この摩擦の間生じる帯電荷の除去も可能とする。最後に、フィラメント同士の結合を与えることにより、ストランドに結合力も与える。
【０００７】
複合材料を製造する目的に使用する間、サイズ剤はガラスの濡れおよび強化すべきマトリックスによるストランドの含浸を改善し、ガラスと前記マトリックスの間の接着を促進し、それにより向上した機械的性質を持つ複合材料が得られる。
【０００８】
種々の形態のガラスストランド（連続ストランド、チョップドストランドまたはミルドストランド、マット、グリッド、織布など）は、様々な性質のマトリックス、例えば、熱可塑性または熱硬化性材料およびセメントを効果的に強化するために通常使用される。
【０００９】
一般的にガラスストランドは、電流を通すことのできる粒子を主成分とするコーティングの塗布により導電性にされる。コーティングは、水性媒体中で分散または懸濁状態にある導電性粒子を、サイズ剤が塗布されているストランド上に堆積させ、適切な温度に加熱して水を除去することにより得られる。
【００１０】
上述のコーティングの調製に知られている組成物は、適当な場合、熱分解により炭素を与えることのできる炭素含有化合物を組成物中に（米国特許第３２６９８８３号）またはサイズ剤中に（米国特許第３２４７０２０号）導入することにより、導電性粒子として、グラファイト、カーボンブラックまたは熱の作用下で分解して金属を与えることのできる有機金属化合物を利用している。
【００１１】
米国特許第４０９０９８４号において、少なくとも１種のポリアクリレートエマルション、１種のカーボンブラック分散液および１種のチキソトロピックゲル化剤を含んでなる半導電性コーティング組成物が使用されている。カーボンブラック分散液は、組成物１００部あたり２０−４０部に相当する。実施例１では、カーボンブラック含量は、組成物中に存在する固形分の１１．９重量％に等しい。
【００１２】
米国特許第４２０９４２５号において、コーティング組成物は、特にグラファイトまたは炭素からできている導電性粒子、少なくとも１種の界面活性剤、１種のチキソトロピックゲル化剤および任意に１種の有機シランカップリング剤および／または１種の消泡剤を含んでなる。組成物中の導電性粒子の含量は、組成物の固形分の５から１５重量％である。
【００１３】
上記で言及してきた組成物では、最終的なコーティング中の導電性粒子の含量は低いままであり、そのため導電性は低レベルである。
【００１４】
近年、高い導電性を示し、そのためジュール効果により加熱可能なガラスストランドを取り込んだ新規材料が出現した。これらの材料には、特に、熱可塑性または熱硬化性ポリマータイプの有機マトリックスまたはセメントマトリックスを持つ複合材料があるが、そのような材料では上述のストランドが強化の役割を果たしている。
【００１５】
導電性の向上は、他の性質を犠牲にしてなされるべきではない。複合材料に関しては、 ストランドがとりわけマトリックスを強化するように意図され、したがってストランドはこのために全ての特質を示さなければならないことを、特に記憶しなければならない。
【００１６】
特に、導電性コーティングは：
− フィラメント同士の結合を与え、複合材料が関係する場合、許容可能なまたは向上した機械的性質を得るためにストランドも結合し、
− 強化構造が建設現場で使用される場合に起こる機械的攻撃からガラスストランドを保護し、
− 満足できる耐久性を与えるために、化学腐食および環境に関連する攻撃からガラスストランドを保護し、
− 強化すべきポリマーマトリックスに良好な結合を与え、すなわちストランドとマトリックスが互いに適合性であるようにしなければならない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明の主題は、ガラスストランドおよび高い導電性を示すうえに上述の強化に関する要件を満たすことのできるコーティングを備えたガラスストランドを取り込んでいる構造である。
【００１８】
本発明の他の主題は、上述のガラスストランドおよび構造のコーティングに使用される導電性水性コーティング組成物である。
【００１９】
本発明の他の主題は、電流を通すことのできるガラスストランドおよびガラスストランド構造の製造方法である。
【００２０】
本発明のさらなる主題は、電流を通すことのできる上述のストランドまたは構造により強化されているマトリックスを含んでなる複合材料である。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明によるガラスストランドおよびガラスストランド構造は、（固形分の重量％として）以下を含んでなる導電性コーティング組成物によりコーティングされている：
− ６から５０％、好ましくは６から４５％の皮膜形成剤、
− ５から４０％の、可塑剤、界面活性剤および／または分散剤から選択される少なくとも１種の化合物、
− ２０から７５％の導電性粒子、
− ０から１０％のドープ剤
− ０から１０％の増粘剤、
− ０から１５％の添加剤。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の文脈において、「ガラスストランド」という用語は、ブッシュの下で多数のフィラメントを加撚せずに集めることにより得られるベースストランドおよび特にロービングの形態にあるこれらのストランドの集合体ならびに加撚操作が施されたストランドおよびこれらのストランドの集合体の両方を意味すると理解される。本発明によるガラスストランドにおいて、フィラメントは、特に導電性コーティングの皮膜形成剤と相溶性のあるサイジング組成物によりコーティングされている。したがって、導電性コーティングはストランド上にすでに存在するサイズ剤上に重なることになり、このコーティングの塗布がコーティング操作に例えられることを意味する。
【００２３】
さらに同じ文脈において、「ストランド構造」という用語は、撚り合わせたストランドを集めることにより得られる構造、例えば織布または撚り合わせていないストランド、例えば連続ストランドのマットまたはベールおよびグリッドの形態の不織布を意味すると理解される。
【００２４】
本発明による皮膜形成剤はいくつかの役割を果たす。それは、導電性粒子をガラスストランドに接着させ、これらの粒子同士の結合および適当な場合強化すべき材料との結合を提供することにより、コーティングに機械的結合力を与える。それはフィラメント同士の結合に寄与し、最後に、機械的損傷ならびに化学的攻撃および環境からくる攻撃からストランドを保護する。
【００２５】
皮膜形成剤は、一般的に、ストランドに柔軟性を与えるよう、好ましくは弾性を有するポリマーである。柔軟性のあるストランドは、巻取りパッケージ（ｗｏｕｎｄ ｐａｃｋａｇｅ）の形態で集めることができ高度に「適合性のある（ｃｏｎｆｏｒｍａｂｌｅ）」、すなわち最も多様な形態に実質的に完全に適合することのできる構造の製造に特に有利であることが分かっている。
【００２６】
皮膜形成剤は、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリ（ビニルアルコール）、ポリアクリル（ホモポリマーまたはコポリマー）、スチレンポリマー、例えば、スチレン−ブタジエン（ＳＢＲ）タイプ、ポリ（塩化ビニル）（特にラテックスまたはプラスチゾルの形態）、ポリウレタンおよびこれらのポリマーのブレンドから選択してよい。一般的に、熱可塑性ポリオレフィンは、その絶縁性および高いクリープ能力の結果として避けられる。
【００２７】
ポリマーの選択は、強化すべきマトリックスの性質にも依存する。接合材に関しては、ポリアクリル、スチレンポリマーおよびポリ（塩化ビニル）が好ましい。
【００２８】
皮膜形成剤の含量が固形分の６重量％未満の場合、コーティングの粘着が不十分である。５０％、特に４５％を超える場合、導入すべき導電性粒子の量が低すぎて、満足できるレベルの導電性を達成できない。好ましくは、コーティング中の皮膜形成剤の量は、固形分の１０から３５重量％、さらにより良好には１５から３５％に相当する。
【００２９】
可塑剤は、皮膜形成剤のガラス転移温度を２０℃の程度の値まで下げることができるのでコーティングをより柔軟にでき、熱処理後の収縮の制限も可能である。ブタジエンとアクリルモノマーの共重合により得られるポリマーが好ましい。
【００３０】
コーティング中の可塑剤の量は、一般的には固形分の０から１５重量％、好ましくは０から１０％、さらに良好には３から１０％に相当する。
【００３１】
界面活性剤は、導電性粒子の懸濁および分散を改善し、他の成分と水の間の相溶性を向上させる。コーティング組成物の安定性および粒子の不均一分散の問題を避けるため、カチオンまたは非イオン界面活性剤を使用するのが好ましい。
【００３２】
コーティング中の界面活性剤の量は、一般的には固形分の１０重量％未満、好ましくは０．５から１０％に相当する。
【００３３】
分散剤は、導電性粒子の水中での分散を助け、沈殿時のその分離を低減する。
【００３４】
コーティング中の分散剤の量は、一般的には固形分の２から２０重量％、好ましくは３から１０％に相当する。
【００３５】
可塑剤、界面活性剤および分散剤は、上述の分野のそれぞれに固有な機能を１つ持つこともあるが、複数有することもある。これらの薬剤の選択および使用する量は、皮膜形成剤および導電性粒子に依存する。
【００３６】
これらの薬剤は特に以下のものから選択できる：
☆ 有機化合物、特に、
− 好ましくは１から３０のエチレンオキシド基および０から１５のプロピレンオキシド基を含む、エトキシ化／プロポキシ化アルキルフェノールなどの、任意にハロゲン化されている脂肪族または芳香族のポリアルコキシ化化合物、好ましくは１から４０のエチレンオキシド基および０から２０のプロピレンオキシド基を含むエトキシ化／プロポキシ化ビスフェノールまたはエトキシ化／プロポキシ化脂肪族アルコールであってアルキル鎖が好ましくは８から２０の炭素原子を含んでなり２から５０のエチレンオキシド基および２０までのプロピレンオキシド基を含むエトキシ化／プロポキシ化脂肪族アルコール。これらのポリアルコキシ化化合物はブロックコポリマーでもランダムコポリマーでもよい、
− ポリアルコキシ化脂肪酸エステル、例えばアルキル鎖が好ましくは８から２０の炭素原子を含んでなり２から５０のエチレンオキシド基および２０までのプロピレンオキシド基を含むポリエチレングリコール脂肪酸エステル、
− アミノ化合物、例えば任意にアルコキシ化されているアミン、アミンオキシドまたはアルキルアミド、コハク酸およびタウリン酸のナトリウム、カリウムまたはアンモニウム塩、糖誘導体、特にソルビタン誘導体、アルキル硫酸およびアルキルリン酸のナトリウム、カリウムまたはアンモニウム塩ならびにポリエーテルフォスフェート、
☆ 無機化合物、例えばシリカ誘導体、これらの化合物を単独で使用しても上述の有機化合物とのブレンドとして使用してもよい。
【００３７】
可塑剤、界面活性剤および分散剤の全量が５％未満である場合、導電性粒子の低い分散（凝集体の存在）および／または相分離が見られる。含量が４０％を超す場合、機械的性能の深刻な低下が起こる。
【００３８】
導電性粒子はガラスストランドに導電性を与えることができる。本発明によると、それらは炭素系粒子、特にグラファイトおよび／またはカーボンブラック粒子である。
【００３９】
グラファイトの源が天然であるか合成であるかは導電性に何も影響を与えない。したがって、グラファイトの種類、単体であるか混合物であるかを識別することなく使用できる。
【００４０】
粒子は、例えば、球形、薄片または針状など、どのような形状でもよい。それでも、異なる形状の粒子の混合物の導電性が、同じ量の同一の形状の粒子に対して向上していることが見いだされた。好ましくは、３０から６０％の導電性粒子が、好ましくは５から２０、特に１０程度の高いアスペクト比（最小寸法に対する最大寸法の比により定義）を有し、有利には少なくとも１５％の粒子が薄片または針状で提供される。
【００４１】
形状にならび、粒子の大きさも、導電性の点から重要なパラメータである。一般則として、最大寸法を考慮に入れて、粒子の大きさは２５０μｍを超えず、好ましくは１００μｍを超えない。
【００４２】
有利には、一般的にグラファイトからできている上述の粒子は、粒径が１μｍ未満、好ましくは平均径が５０から１００ｎｍである導電性カーボンブラックパウダーを組み合わされる。カーボンブラック粒子は、その小ささの結果として、グラファイト粒子間の接点を作ることが可能であり、導電性をさらに高めることができる。
【００４３】
好ましくは、導電性コーティング組成物は（固形分の重量％として）以下を含んでなる：
− １０から１００μｍの大きさの２．５から４５％、さらに良好には１５から４０％のグラファイト粒子であって、これらの粒子の少なくとも５重量％が、アスペクト比が５以上の薄片または針状で提供されるグラファイト粒子、
− １０μｍ未満の大きさで、好ましくは４μｍ程度の平均径を有する、０から４５％、好ましくは５から２５％のグラファイト粒子、
− １μｍ未満の大きさの、２．５から４５％、好ましくは１５から４０％のカーボンブラック粒子。
【００４４】
すでに示したとおり、導電性粒子の量は、コーティングの固形分の２０から７５重量％に相当する。含量が２０％未満であると、浸透閾値に達しないため導電性はない。含量が７５％を超えると、粒子の１部がガラスストランドに付着しなくなる。
【００４５】
ドープ剤は、自由電子を与えることにより、または電子の非局在化を促進することにより、導電性を向上させることができる。
【００４６】
ドープ剤は、クロトン酸アンモニウム、ドデシル硫酸リチウムおよびアセチルアセトネート銅などの有機塩あるいはポリリン酸アンモニウム、塩化チタンまたは塩化亜鉛などの無機塩から選択される。好ましくは、クロトン酸アンモニウムが使用される。
【００４７】
ドープ剤は、コーティングの固形分の５重量％未満に相当するのが有利である。それでも、導入される量に対して導電率の上昇が低くとどまる事実および耐老化性の問題が起こることがある事実のため、ドープ剤の含量を１％に制限することが好ましい。多くの場合、ドープ剤は加えられない。
【００４８】
増粘剤は、粒子の分散を安定化し放置時の粒子の沈殿を防ぐことにより、ストランドへの塗布の条件にコーティング組成物の粘度を調整することができ、したがって、ストランド上への所望量の堆積を可能にする。
【００４９】
増粘剤は、カルボキシメチルセルロース、ガム、例えばグアーガムまたはキサンタンガムなど、アルギナート、ポリアクリル、ポリアミドおよびこれらの化合物のブレンドなど、親水性の高い化合物から選択される。
【００５０】
増粘剤が使用される場合、その量は化合物の性質（カルボキシメチルセルロースの場合、そのグレード）により変わる。
【００５１】
好ましくは、増粘剤の含量は、コーティングの固形分の１０重量％未満である。
【００５２】
導電性コーティングは、ガラスストランド用の通常の添加剤、特に、ガラスと強化すべき材料の間の結合強化が可能なシランなどの接着促進剤、鉱物油、脂肪酸エステル、例えばパルミチン酸イソプロピルおよびステアリン酸ブチルまたは有機ポリマーなどの潤滑剤および／または消泡剤、あるいは、ＥＤＴＡの誘導体または没食子酸の誘導体などの錯化剤も含んでよい。
【００５３】
好ましくは、添加剤の全量は、コーティングの固形分の１０重量％未満である。
【００５４】
本発明によるガラスストランドをコーティングできる導電性コーティング組成物は、上述の成分および水を含んでなる。
【００５５】
コーティング組成物中の水の含量は、塗布の条件、特に粘度および堆積すべき導電性粒子の含量に依存する。一般則として、１９０ｍＰａ・ｓ以上であって、好ましくは４００００ｍＰａ・ｓ未満、有利には２００００ｍＰａ・ｓ未満、さらに良好には１００００ｍＰａ・ｓ、特には５４００ｍＰａ・ｓ以下の粘度を得るように水の量が決定される。
【００５６】
組成物は、種々の成分を、好ましくは個別に、導電性粒子を分散状態または懸濁状態に保つに十分な攪拌とともに水性媒体に導入することにより、従来調製されている。
【００５７】
増粘剤が使用される場合、増粘剤は水溶液の形態で最初に導入され、好ましくは良好な溶解のためおよそ８０℃に加熱される。
【００５８】
一般的に、コーティング組成物は、調製の実質的に直後に使用されるが、２０から２５℃の温度でおよそ６ヶ月の貯蔵期間の後でも使用可能である。適当な場合、激しく攪拌すると、組成物の品質に影響を与えることなく、沈殿により分離していた粒子を再分散することが可能である。
【００５９】
本発明によると、導電性コーティングによりコーティングされたガラスストランドおよびストランド構造を製造する方法は、以下の工程を含んでなる：
− ガラスストランドまたはガラスストランド構造を上述の導電性コーティング組成物によりコーティングする工程、および
− このようにコーティングされた前記ストランドまたは前記構造を、水を除去し導電性コーティングを強化するに十分な温度で加熱する工程。
【００６０】
組成物は、繊維に解した後プロセスの種々の段階のガラスストランドに、好ましくは巻取りパッケージから生じるストランド、例えばロービングに塗布され、あるいは種々の方法：ランダムの方法で（マットまたはベール）または秩序だった方法で（グリッド）堆積した連続ストランドの重ね合わせまたはストランドの撚り合わせとともに織ることによりストランドがまとめられた構造に塗布される。
【００６１】
好ましい実施形態によると、ストランドまたはストランド構造のコーティングは、導電性コーティング組成物の浴への浸漬により実施される。浴中で、ストランドまたは構造は、堆積すべきコーティング組成物の量の制御を可能にする装置を通る。
【００６２】
ストランドの場合、前記装置は浴中に位置するブッシュでよく、好ましくは、最大の開口部から入るストランドが、その表面全体に均一に組成物がコーティングされるように、円錐の角度が決められているコニカルブッシュ（ｃｏｎｉｃａｌ ｂｕｓｈｉｎｇ）である。
【００６３】
ストランド構造に関しては、前記装置は、浴の出口に位置する、織物産業で使用される種類のパディング機でよい。
【００６４】
任意に、ブッシュ中またはパディング機上を通る前に、ストランドまたは構造は、ストランドの「開放（ｏｐｅｎｉｎｇ）」を目標としフィラメントのより良好な含浸を可能にする装置上を通ってもよい。この装置は、ストランドの処理の場合、ターンロールを形成する１つまたは複数の一連のバーまたはストランド構造の処理には一連のローラーから構成されていてよい。
【００６５】
浴の出口で、ストランドまたは構造は熱処理され、水の除去およびコーティングの強化が実施される。一般則として、処理温度は、およそ１０５℃を超えおよそ２２０℃未満であり、好ましくは１６０℃未満である。水の迅速な除去によりもたらされるコーティングの膨れを防ぐため、ストランドまたは構造を、必要があれば処理の継続時間を長くしながら、示される最低温度に近い温度で加熱し、あるいは全温度範囲にわたり、段階的に、または温度勾配を付けて連続的に、処理を実施することが好ましい。好ましくは、最高温度は、およそ１５０℃未満のままであり、より良好には１３０℃未満である。
【００６６】
このためにはどのような適切な加熱装置を利用してもよく、例えば赤外炉または接触によりストランドまたは構造を加熱できる装置、例えば、１つまたは複数の回転加熱ドラムから構成される装置がある。
【００６７】
処理の温度および継続時間は、強化されたコーティングが得られるように、使用する装置の種類により選択される。表示としては、炉中の処理は、１０５℃程度の温度で、一般的に３時間を超えない時間、十分に実施できる。
【００６８】
熱処理の後、ガラスストランドは、例えば巻取りパッケージの形態で集められ、あるいは、並進運動する受容担体上に堆積してマットを形成する。
【００６９】
本発明によるガラスストランドおよびストランド構造は、強化機能を与えるのに特有な品質を有しながら導電性も有する点に特徴がある。ストランドおよび構造は、導電性コーティングの量が、その全重量の最大２００％、より一般的には２０から６０％程度に相当し、この比較的高い導電性粒子の含量が全体的に有利なレベルの性能を与えている点で注目に値する。このレベルの評価は、体積抵抗率（体積導電率の逆数に等しい）の値により与えられるが、導電性ストランドの分野で標準的な参考用語である。本発明によるストランドの体積抵抗率は１０００Ω・ｃｍ未満、好ましくは１００Ω・ｃｍ、有利には１０Ω・ｃｍ、さらに良好には１Ω・ｃｍ未満である。１０から１００Ω・ｃｍの間の体積抵抗率を示すストランドおよび構造が、ジュール効果加熱のために使用可能である。前記抵抗率が１Ω・ｃｍ未満であるものは、電磁遮蔽用に特に好適である。
【００７０】
導電性ストランドおよび本発明による構造の構成要素であるストランドは、どのような種類のガラスから製造してもよいが、例えば、Ｅ−、Ｃ−、Ｒ−およびＡＲ−ガラスがある。Ｅ−ガラスが好ましい。
【００７１】
ストランドを構成するガラスフィラメントの直径は、例えば５から３０μｍのように、大幅に変動してよい。同様に、ストランドの単位長さあたりの重量にも大きな変動が起こることがあり、目的とする用途により６８から２４００テックスの範囲になりうる。
【００７２】
本発明による導電性ガラスストランドおよび導電性構造は、種々の材料の強化に使用でき、特にジュール効果により加熱できる導電性複合材料を形成するために使用できる。上述のとおり、そのような複合材料は、建築物の加熱あるいは道路、橋または着陸滑走路の除氷に使用できる。
【００７３】
前記構造は、それ自体、表面に塗布されたまたは壁表面または地面に取り込まれた電磁遮蔽要素または発熱体として作用できる。
【００７４】
遮蔽要素として、構造の目的は、電子機器の満足できる操作に有害な電磁波を弱め、あるいは特定の公共の場または私的な場（病院、映画館、刑務所など）での携帯電話の使用を制限し、実際には防止することである。
【００７５】
グリッドの形態の構造は、例えば、橋などの構造に特に取り込まれ、腐食のおそれを増す金属成分の存在に関連するバッテリー効果を制限できる。
【実施例】
【００７６】
以下の実施例は、本発明を限定することなく説明することが可能である。
【００７７】
これらの実施例において、以下の方法を使用する：
☆ 強熱減量は以下のとおり測定する。所定量（およそ１グラム）のカットストランドを、磁製るつぼに導入する（重量、Ｗ１）。るつぼを、炉の中に入れ１０５℃で１時間加熱し、吸着水を蒸発させる。炉から出し冷却の後、るつぼを秤量し（重量、Ｗ２）、炉の中に入れ７００℃で５時間加熱する。無水状態で冷却後、炉から出すと同時にるつぼを秤量する（重量、Ｗ３）。
【００７８】
強熱減量は、Ｗ２−Ｗ３／Ｗ２−Ｗ１に等しい。
【００７９】
☆ ストランドの引張強度は、以下の条件で測定する。
【００８０】
長さ２４０ｍｍの２０００テックスのベースストランドのロービングの端を、７０ｍｍの距離で、バルコラン（登録商標）で裏打ちされている平らな締め付け具の間におく。ロービングを、１００ｍｍ／分の速度で切れるまで引く。強度をＭＰａで表す。
【００８１】
☆ 体積抵抗率は、以下の関係から計算により得られる。
ρ＝Ｒ×Ｓ／ｌ
上式においてρはΩ・ｃｍで表す抵抗率であり、
ＲはΩで表す抵抗であり、
Ｓはｃｍ²で表すストランドの断面であり、
ｌはｃｍで表す繊維の長さである。
【００８２】
抵抗Ｒは、２つの電極の距離を２０ｃｍにしてオーム計を利用して測定する。
【００８３】
☆ ｄＢで表す電磁遮蔽は、１００ＭＨｚと２．７ＧＨｚの間で、ＭＩＬ規格ＭＩＬ−ＳＴＤ−２８５（１９５６年６月２７日）の条件で測定する。
〔実施例１〕
【００８４】
ａ）コーティング組成物の調製
（固形分の重量％として）以下を含むコーティング組成物を調製する：
− 皮膜形成剤：ポリビニルピロリドン⁽¹⁾ ２０
− 増粘剤：カルボキシメチルセルロール⁽²⁾ ２
− 可塑剤：
● ビスフェノールＡビス（ポリエチレングリコール）
エーテル⁽³⁾ １６．５
● オクチルフェノキシポリ（エチレンオキシ）
エタノール⁽⁴⁾ ８．５
− カチオン分散剤⁽⁵⁾ ３
− 導電性粒子
● 天然グラファイトパウダー⁽⁶⁾ ３０
（粒子の平均径：３μｍ）
● 薄片の形態に膨張した合成グラファイト⁽⁷⁾ １０
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ）
● 天然グラファイトパウダー⁽⁸⁾ １０
（粒子の平均径：５μｍ）
激しく攪拌されている８０℃の水の入った容器に成分を加えて組成物を調製するが、増粘剤を最初に入れ、導電性粒子を最後に入れる。
【００８５】
組成物の粘度は２０℃で３８００ｍＰａ・ｓである。
【００８６】
ｂ）ガラスストランドの製造
ロービングから解かれた直径が１５．８μｍ（長さあたりの重量：２０００テックス）の４０００フィラメントで構成されるガラスストランドを、ａ）で得られた組成物の浴に浸漬する。ストランドは、２．５ｍ／分の速度でストランドガイドにより浴に入り、次いでコニカルブッシュ（小さい直径：２．２ｍｍ）中を通過し、浴の出口で、軸の周りに回転するフレームに巻かれる。このフレームを１０５℃に加熱した炉に３時間入れる。
【００８７】
前記ストランドは以下の特性を示す。
【００８８】
☆ 強熱減量：２１．０％
☆ 抵抗率：７．８Ω・ｃｍ（標準偏差：２．３）
☆ 引張強度：８６３ＭＰａ（標準偏差：２３）
〔実施例２〕
【００８９】
実施例１の条件で操作を実施するが、導電性コーティング組成物は（固形分の重量％として）以下を含んでなる：
− 皮膜形成剤：ポリビニルピロリドン⁽¹⁾ ２０
− 増粘剤：カルボキシメチルセルロール⁽²⁾ ２
− 可塑剤：
● ビスフェノールＡビス（ポリエチレングリコール）
エーテル⁽³⁾ １６
● オクチルフェノキシポリ（エチレンオキシ）
エタノール⁽⁴⁾ ７
− カチオン分散剤⁽⁵⁾ ５
− 導電性粒子
● 天然グラファイトパウダー⁽⁶⁾（粒子の平均径：３μｍ） ２５
● 薄片の形態に膨張した合成グラファイト⁽⁷⁾ １５
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ）
● 合成グラファイトパウダー⁽⁹⁾（粒子の平均径：１０μｍ） １０
組成物の粘度は、２０℃で５４００ｍＰａ・ｓである。
【００９０】
ストランドは、２０．０％の強熱減量を示す。
【００９１】
促進老化試験の前後でのストランドの抵抗率および引張強度測定値は以下のとおりである（標準偏差は括弧内に示す）：
時間（日） ｔ＝０ ｔ＝１ ｔ＝１４
抵抗率（Ω・ｃｍ） １．５５（０．４） １．７（０．２） １．８（０．２）
引張強度（ＭＰａ） １１３０（６２） １０４４（５０） ９５０（７８）
１４日間エージングした後、抵抗率は実質的に変化なく、引張強度は初期値の８４％に等しい。
〔実施例３および４〕
【００９２】
これらの実施例は、高アスペクト比の導電性粒子の量が抵抗率に及ぼす影響を表している。
【００９３】
以下の組成物（固形分の重量に対する％）を使用するという変更をして、実施例１の条件で操作を実施する：
− 皮膜形成剤：ポリビニルピロリドン⁽¹⁾ ２０．０
− 増粘剤：カルボキシメチルセルロール⁽²⁾ ２．００
− 可塑剤：
● ビスフェノールＡビス（ポリエチレングリコール）
エーテル⁽³⁾ １０．２５
● オクチルフェノキシポリ（エチレンオキシ）
エタノール⁽⁴⁾ １０．２５
− カチオン分散剤⁽⁵⁾ ７．５０
− 導電性粒子
● 薄片形態のグラファイトパウダー⁽¹⁰⁾ 実施例３ 実施例４
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ） ２．５ １５．０
● 合成グラファイトパウダー⁽⁹⁾ ４７．５ ３５．０
（粒子の平均径：１０μｍ）
組成物の粘度は、２０℃でそれぞれ４９００ｍＰａ・ｓおよび５４００ｍＰａ・ｓである。
【００９４】
得られたストランドは、以下の特性を示す（標準偏差は括弧内に示す）
実施例３ 実施例４
強熱減量（％） ２０．４ １９．８
抵抗率（Ω・ｃｍ） ２．９（０．８） ２．３（０．３）
引張強度（ＭＰａ） １３２０（１１５） １３４８（５８）
粒子の全量が同等な場合、薄片の形態にある粒子の相対比率の上昇が、抵抗率を低下させ導電性を上昇させることが見いだされる。
〔実施例５〕
【００９５】
ストランドが、直径１３．６μｍ（長さあたりの重量：３００テックス）である８００フィラメントから構成される点、ブッシュの小さな直径が１．２ｍｍに等しい点および導電性コーティング組成物が（固形分の重量％として）以下を含んでなる点を変更して、実施例１の条件で操作を実施する：
− 皮膜形成剤：ポリビニルピロリドン⁽¹⁾ ２０．０
− 増粘剤：カルボキシメチルセルロール⁽²⁾ ２．０
− 可塑剤：
● ビスフェノールＡビス（ポリエチレングリコール）
エーテル⁽³⁾ １７．０
● オクチルフェノキシポリ（エチレンオキシ）
エタノール⁽⁴⁾ ６．０
− 非イオン分散剤⁽¹¹⁾ ５．０
− 導電性粒子
● 薄片の形態に膨張した合成グラファイト⁽⁷⁾ ２５．０
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ）
● カーボンブラックパウダー⁽¹²⁾ ２５．０
（粒子の平均径：５０ｎｍ）
組成物の粘度は、２０℃で４８００ｍＰａ・ｓである。
【００９６】
ストランドは以下の特性を示す（標準偏差を括弧内に示す）：
☆ 強熱減量：１４．４％
☆ 抵抗率：０．３Ω・ｃｍ（０．０４）；２０℃で１５週間貯蔵後も同じ
☆ 引張強度：１３６１（９３）ＭＰａ
〔実施例６〕
【００９７】
実施例１の条件で操作を実施するが、導電性コーティング組成物は（固形分の重量％として）以下を含んでなる：
− 皮膜形成剤：
● アクリルポリマー⁽¹³⁾ ３３．８
● アクリルコポリマー⁽¹⁴⁾ １０．０
− 界面活性剤：
● ２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン
−４，７−ジオール⁽¹⁵⁾ ０．２
● １０ＥＯＣ₁₂−Ｃ₁₄アルコール⁽¹⁶⁾ １．０
− 非イオン分散剤⁽¹¹⁾ ５．０
− 導電性粒子
● 薄片の形態に膨張した合成グラファイト⁽⁷⁾ ２０．０
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ）
● 合成グラファイトパウダー⁽¹⁷⁾ １０．０
（粒子の大きさ：１−１０μｍ）
● カーボンブラックパウダー⁽¹²⁾ ２０．０
（粒子の平均径：５０ｎｍ）
組成物の粘度は、２０℃で５９０ＭＰａ・ｓである。
【００９８】
ストランドは、４２．１％の強熱減量を示す。
【００９９】
促進老化試験前後のストランドの抵抗率および引張強度を以下に示す（標準偏差を括弧内に示す）：
時間（日） ｔ＝０ ｔ＝１ ｔ＝３
抵抗率 ０．１８（０．０１） ０．１８（０．０３） ０．１８（０．０１）
（Ω・ｃｍ）
引張強度 １８７６（１１５） １６９５（７８） １５６５（４３）
（ＭＰａ）
時間（日） ｔ＝７ ｔ＝１４
抵抗率 ０．１７（０．０２） ０．１５（０．０１）
（Ω・ｃｍ）
引張強度 １５０３（１５８） １６９７（３８）
（ＭＰａ）
促進老化条件下のストランドの耐性は優れている。高度な性能、特に引張強度が、時間が経過しても維持されている。
〔実施例７〕
【０１００】
実施例１の条件で操作を実施するが、導電性コーティング組成物は（固形分の重量％として）以下を含んでなる：
− 皮膜形成剤：
● アクリルポリマー⁽¹³⁾ ３８．９
● アクリルコポリマー⁽¹⁴⁾ １１．５
− 界面活性剤：
● ２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン
−４，７−ジオール⁽¹⁵⁾ ０．２
● １０ＥＯＣ₁₂−Ｃ₁₄アルコール⁽¹⁶⁾ １．０
− 非イオン分散剤⁽¹¹⁾ ４．４
− 導電性粒子
● 薄片の形態に膨張した合成グラファイト⁽⁷⁾ ２２．０
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ）
● カーボンブラックパウダー⁽¹²⁾ ２２．０
（粒子の平均径：５０ｎｍ）
組成物の粘度は、２０℃で１８２０ｍＰａ・ｓである。
【０１０１】
ストランドは以下の特性を示す：
☆ 強熱減量：３９．８％
☆ 抵抗率
ｔ＝０日：０．１７Ω・ｃｍ（標準偏差：０．０１）
ｔ＝１４日：０．１６Ω・ｃｍ（標準偏差：０．０３）
☆ 引張強度
ｔ＝０日：１８６４ＭＰａ（標準偏差：５０）
ｔ＝１４日：１６４８ＭＰａ（標準偏差：７２）
〔実施例８〕
【０１０２】
実施例１の条件で操作を実施するが、導電性コーティング組成物は（固形分の重量％として）以下を含んでなる：
− 皮膜形成剤：
● アクリルポリマー⁽¹³⁾ ２３．８
● アクリルコポリマー⁽¹⁴⁾ ２０．０
− 可塑剤／界面活性剤：
● 非イオン界面活性剤⁽¹⁵⁾ ０．２
● エトキシ化脂肪族アルコール⁽¹⁶⁾ １．０
− カチオン分散剤⁽⁵⁾ ５．０
− 導電性粒子
● 薄片の形態に膨張した合成グラファイト⁽¹⁰⁾ ２０．０
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ）
● 合成グラファイトパウダー⁽¹⁷⁾ １０．０
（粒子の大きさ：１−１０μｍ）
● カーボンブラックパウダー⁽¹²⁾ ２０．０
（粒子の大きさ：５０ｎｍ）
組成物の粘度は、２０℃で１９０ｍＰａ・ｓである。
【０１０３】
ストランドは以下の特性を示す。
【０１０４】
☆ 強熱減量：３９．５１％
☆ 抵抗率：０．１７Ω・ｃｍ
☆ 引張強度：１６７３．３ＭＰａ
〔実施例９〕
【０１０５】
この実施例は、コーティングの量がストランドの導電性および機械的性質に与える影響を表す。
【０１０６】
ａ）コーティング組成物の調製
（固形分の重量％として）以下を含んでなる組成物を調製する：
− 皮膜形成剤
● スチレンブタジエンコポリマー⁽¹⁸⁾ ４６．５
− 非イオン分散剤⁽¹¹⁾ ６．０
− 消泡剤⁽¹⁹⁾ １．０
− 導電性粒子
● 薄片の形態に膨張した合成グラファイト⁽⁷⁾ １８．６
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ）
● 合成グラファイトパウダー⁽¹⁷⁾ ９．３
（粒子の大きさ：１−１０μｍ）
● カーボンブラックパウダー⁽¹²⁾ １８．６
（粒子の大きさ：５０ｎｍ）
激しく攪拌しながら、室温（およそ２５℃）の水の入った容器に成分を加えることにより調製するが、導電性粒子を最後に導入する。
【０１０７】
組成物は、２０℃で８００ｍＰａ・ｓの粘度を示す。
【０１０８】
ｂ）ガラスストランドの製造
ガラスストランドが、直径１３μｍ（単位長さあたりの重量：２７５テックス）の８００フィラメントから構成されている点を変更して、実施例１の条件で操作を実施する。
【０１０９】
導電性コーティング組成物の量を変えて、ガラスストランド上に堆積させる（試験１−３）。
【０１１０】
試験１ 試験２ 試験３
強熱減量（％） ２１．９ ３０．６ ４５．７
体積抵抗率（Ω・ｃｍ） ０．２３ ０．１６ ０．１４
引張強度（ＭＰａ） ２０３５ ２０４５ ２０５９
ストランド上に堆積するコーティング組成物の量の関数として体積抵抗率が低下し、導電性が上昇することが見いだされる。同時に、引張強度のレベルは実質的に変化しない（上昇が見られるが有意でない）。
〔実施例１０〕
【０１１１】
導電性粒子（Ｐ）と皮膜形成剤（Ｆ）の合計に対する導電性粒子（Ｐ）の重量の比を変えて、実施例９の条件で操作を実施する。強熱減量は２１から２３％である。
試験 Ｐ／Ｐ＋Ｆ（％） 体積抵抗率（Ω・ｃｍ）
１ ２５ ４．１１
２ ３０ １．１４
３ ３５ ０．７５
４ ４０ ０．４２
５ ５０ ０．２３
６ ６０ ０．２４
これらの値に関して、浸透閾値（ストランドが満足できる導電性を示し始めるＰ／Ｐ＋Ｆの比に相当）が３０と３５％の間であると推測される。
〔実施例１１〕
【０１１２】
ａ）コーティング組成物の調製
実施例９の条件で操作を実施するが、コーティング組成物は（固形分の重量％として）以下を含んでなる：
− 皮膜形成剤：
● スチレンブタジエンコポリマー⁽²⁰⁾ ４６．５
− 非イオン分散剤⁽¹¹⁾ ６．０
− 消泡剤⁽¹⁹⁾ １．０
− 導電性粒子
● 薄片の形態に膨張した合成グラファイト⁽⁷⁾ １８．６
（粒子の大きさ：１０−５０μｍ）
● 合成グラファイトパウダー⁽¹⁷⁾ ９．３
（粒子の大きさ：１−１０μｍ）
● カーボンブラックパウダー⁽¹²⁾ １８．６
（粒子の大きさ：５０ｎｍ）
組成物は、２０℃で２３０ｍＰａ・ｓの粘度を示す。
【０１１３】
ｂ）ガラス織布の製造
３５ｍｍの正方形メッシュおよび０．４ｍｍの厚さを示すガラス織布（単位面積あたりの重量：１６５ｇ／ｍ²）を、ａ）で得られた組成物を満たした幅３００ｍｍの大桶に浸す。大桶の出口で、２つのカレンダーロールの間（圧力：０．６バール；回転速度：０．５ｍ／分）に織布を通して絞り、次いでそれぞれ９０℃、１３０℃、１５０℃および９０℃に加熱されている４つの区画室を含んでなる空気炉に通す。各区画室での滞留時間は２分である。
【０１１４】
３０％（試験１）、６０％（試験２）および１１５％（試験３）のコーティングのレベル（コーティングの重量／未コーティングの織布の重量）で種々の試験を実施した。高いレベル（試験２および３）を得るために、含浸浴へ数回通過させた。
【０１１５】
周波数の関数としての電磁遮蔽の曲線を図１に示す。
【０１１６】
本発明による織布は、調べた全周波数範囲にわたり、コーティングのレベルによって、５ｄＢより高く２５ｄＢ未満の遮蔽値を示す。
【０１１７】
１０ｄＢの遮蔽値が電磁場強度の３分の１の減衰に相当し、２０ｄＢの値が１０分の１の減衰に相当し、３０ｄＢの値が３０分の１の減衰に相当することが明示される。
【０１１８】
試験１から３は、電磁遮蔽に好適である利用可能な織布として、同程度の大きさの値を示す。特に、試験２の性能のレベルは、銅ワイヤーおよびガラスストランドに基づき、それらを一つに合わせ導電性コーティングを施し、横糸と縦糸に配置した織布で得られるレベルと同等である。しかし、この織布は完全に満足できるものでなく、その理由は、一方で交差点での銅ワイヤーの接触が常に確実ではなく、他方で銅が酸化して絶縁表面層を形成する傾向があり導電性の低下を起こすからである。
〔実施例１２〕
【０１１９】
（固形分の重量％として）コーティングが以下を含んでなる点を変えて、実施例１１の条件で操作を実施する：
− 皮膜形成剤：
● スチレンブタジエンコポリマー⁽²⁰⁾ ３７．０
− 非イオン性分散剤⁽¹¹⁾ ７．０
− 消泡剤⁽¹⁹⁾ １．０
− 導電性粒子
● 膨張した合成グラファイト⁽⁷⁾ ２２．０
● 合成グラファイトパウダー⁽¹⁷⁾ １１．０
● カーボンブラックパウダー⁽¹²⁾ ２２．０
組成物は、２０℃で５４５ｍＰａ・ｓの粘度を示す。
【０１２０】
織布を、３２％（試験１）、６４％（試験２）および１６０％（試験３）のコーティングレベルで含浸した。
【０１２１】
周波数の関数としての電磁遮蔽の曲線を図２に示す。
【０１２２】
試験１から３が、実施例１１のものと比べ向上したレベルの性能を示すことが観察される。
（１）「Ｌｕｖｉｓｋｏｌ（登録商標）Ｋ ９０」の表示でＢＡＳＦが販売
（２）「Ｂｌａｎｏｓｅ（登録商標）７ ＭＣ」の表示でＡｑｕａｌｏｎが販売
（３）「Ｓｉｍｕｌｓｏｌ（登録商標）ＢＰＰＥ」の表示でＳＥＰＰＩＣが販売
（４）「Ａｎｔａｒｏｘ（登録商標）ＣＡ ６３０」の表示でＲｈｏｄｉａ ＨＰＣＩＩが販売
（５）「Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ（登録商標）２００００」の表示でＡｖｅｃｉａが販売
（６）「ＧＫ ＵＦ２ ９６／９７」の表示でＫｒｏｐｆｍｕｌｈが販売
（７）「Ｇｒａｆｐｏｗｅｒ（登録商標）ＴＧ ４０７」の表示でＵｃａｒが販売
（８）「ＧＫ ＵＦ４ ９６／９７」の表示でＫｒｏｐｆｍｕｌｈが販売
（９）「ＳＰＦ １６」の表示でＵｃａｒが販売
（１０）「Ｇｒａｆｐｏｗｅｒ（登録商標）ＴＧ ４０」の表示でＵｃａｒが販売
（１１）「Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ（登録商標）２７０００」の表示でＡｖｅｃｉａが販売
（１２）「Ｖｕｌｃａｎ（登録商標）ＸＣ ７２Ｒ」の表示でＣａｂｏｔ Ｓ．Ａ．が販売
（１３）「Ｌａｔｅｘ ６５１」の表示でＵｃａｒが販売
（１４）「Ｃａｒｂｏｓｅｔ（登録商標）５１４ Ｗ」の表示でＮｏｖｅｏｎが販売
（１５）「Ｓｕｒｆｙｎｏｌ（登録商標）１０４−ＰＡ」の表示でＡｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓが販売
（１６）「Ｓｉｍｕｌｓｏｌ（登録商標）Ｐ１０」の表示でＳＥＰＰＩＣが販売
（１７）「ＳＰＦ １７」の表示でＵｃａｒが販売
（１８）「Ｓｔｙｒｏｎａｌ（登録商標）ＮＤ４３０」の表示でＢＡＳＦが販売
（１９）「Ｔｅｇｏ Ｆｏａｍｅｘ（登録商標）８３０」の表示でＤｅｇｕｓｓａが販売
（２０）「Ｓｔｙｒｏｎａｌ（登録商標）Ｄ５１７」の表示でＢＡＳＦが販売
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】周波数の関数としての電磁遮蔽の曲線。
【図２】周波数の関数としての電磁遮蔽の曲線。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下を含んでなる（固形分の重量％として）導電性コーティング組成物をコーティングしてあるガラスストランドまたはガラスストランド構造：
６から５０％、好ましくは６から４５％の皮膜形成剤、
５から４０％の、可塑剤、界面活性剤および／または分散剤から選択される少なくとも１種の化合物、
２０から７５％の導電性粒子、
０から１０％のドープ剤
０から１０％の増粘剤、
０から１５％の添加剤。
【請求項２】
前記皮膜形成剤が、好ましくは弾性を有するポリマーであることを特徴とする、請求項１に記載のストランドまたは構造。
【請求項３】
前記皮膜形成剤が、ポリビニルピロリドン、ポリ（ビニルアルコール）、ポリアクリル、スチレンポリマー、ポリ（塩化ビニル）、ポリウレタンおよびこれらのポリマーのブレンドから選択されることを特徴とする、請求項２に記載のストランドまたは構造。
【請求項４】
前記可塑剤、界面活性剤および／または分散剤が、任意にハロゲン化された、脂肪族または芳香族のポリアルコキシ化化合物、ポリアルコキシ化脂肪酸エステル、アミノ化合物、シリカ誘導体およびこれらの化合物のブレンドから選択されることを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載のストランドまたは構造。
【請求項５】
前記導電性粒子が炭素を主成分とし、特にグラファイトおよび／またはカーボンブラック粒子であることを特徴とする、請求項１から４に記載のストランドまたは構造。
【請求項６】
前記粒子の大きさが２５０μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下であることを特徴とする、請求項５に記載のストランドまたは構造。
【請求項７】
前記粒子の３０から６０％が、５から２０の間のアスペクト比を有することを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載のストランドまたは構造。
【請求項８】
前記粒子の少なくとも１５％が、薄片または針状形状であることを特徴とする、請求項１から７のいずれかに記載のストランドまたは構造。
【請求項９】
以下を含んでなることを特徴とする、ガラスストランドまたはガラスストランド構造のための導電性水性コーティング組成物：
６から５０％、好ましくは６から４５％の皮膜形成剤、
５から４０％の、可塑剤、界面活性剤および／または分散剤から選択される少なくとも１種の化合物、
２０から７５％の導電性粒子、
０から１０％のドープ剤
０から１０％の増粘剤、
０から１５％の添加剤。
【請求項１０】
１９０ｍＰａ・ｓ以上、好ましくは４００００ｍＰａ・ｓ未満の粘度、有利には２００００ｍＰａ・ｓ未満、より良好には１００００ｍＰａ・ｓ未満、特には５４００ｍＰａ・ｓ以下の粘度を示すことを特徴とする、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
下記を含んでなることを特徴とする、請求項１０に記載の組成物：
１０から１００μｍの大きさの２．５から４５％、さらに良好には１５から４０％のグラファイト粒子であって、これらの粒子の少なくとも５重量％が、アスペクト比が５以上の薄片または針状で提供されるグラファイト粒子、
１０μｍ未満の大きさの、好ましくは４μｍ程度の平均径を有する、０から４５％、好ましくは５から２５％のグラファイト粒子、
１μｍ未満の大きさの、２．５から４５％、好ましくは１５から４０％のカーボンブラック粒子。
【請求項１２】
下記の工程を含んでなる、請求項１から８のいずれかに記載のガラスストランドまたはガラスストランド構造を調製する方法：
ガラスストランドまたはガラスストランド構造を、請求項１から１１のいずれかに記載の導電性コーティング組成物によりコーティングする工程および
前記のコーティングされたストランドまたは前記のコーティングされた構造を、水を除去し導電性コーティングを強化するに十分な温度で加熱する工程。
【請求項１３】
前記コーティングが、導電性コーティング組成物の浴中への浸漬により実施されることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記加熱が、およそ１０５℃を超えおよそ２２０℃未満の、好ましくはおよそ１６０℃未満の温度で実施されることを特徴とする、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
撚り合わされたストランドの集合体、例えば織布の形態あるいは撚り合わされていないストランド、例えば連続ストランドのマットまたはベールまたはグリッドなどの不織布の形態で提供されることを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載のガラスストランド構造。
【請求項１６】
１００ＭＨｚと２．７ＧＨｚの間で測定して、５から５０ｄＢ、好ましくは５から３５ｄＢの電磁遮蔽値を示すことを特徴とする、請求項１５に記載の構造。
【請求項１７】
請求項１から８、１５または１６のいずれかによるガラスストランドまたはガラスストランド構造により強化されたマトリックスを含んでなる複合材料。
【請求項１８】
前記マトリックスが熱可塑性または熱硬化性ポリマーあるいは接合材であることを特徴とする、請求項１７に記載の材料。

【図１】

【図２】

【公表番号】特表２００７−５２２０７３（Ｐ２００７−５２２０７３Ａ）
【公表日】平成１９年８月９日（２００７．８．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５５２６７３（Ｐ２００６−５５２６７３）
【出願日】平成１７年２月１１日（２００５．２．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００５／０５００８７
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０７７８５４
【国際公開日】平成１７年８月２５日（２００５．８．２５）
【出願人】（５０１３９９２９０）サン−ゴバン　ベトロテックス　フランス　ソシエテ　アノニム (33)
【Ｆターム（参考）】