廃液処理方法とそれに用いる廃液処理装置およびこれを用いた洗浄装置
【課題】 ドライクリーニング等の廃液中に含まれる塩素系有機物を分解、除去するための廃液処理方法および廃液処理装置であって、処理効率に優れ、塩素系ガス等の２次副産物の排出を抑制し得る廃液処理方法および廃液処理装置を提供する。
【解決手段】 塩素系有機物を含有する廃液を気化処理し、これによって生じた塩素系有機物を含む気化ガスを、光触媒顆粒体がガス流通管路に充填されてなる光触媒反応部に送入し、この光触媒反応部に紫外線光源から光を照射することによって、気化ガスを光酸化分解させ、該光酸化分解によって生成された分解生成ガスを、処理剤によって吸収、吸着、中和させる。
【解決手段】 塩素系有機物を含有する廃液を気化処理し、これによって生じた塩素系有機物を含む気化ガスを、光触媒顆粒体がガス流通管路に充填されてなる光触媒反応部に送入し、この光触媒反応部に紫外線光源から光を照射することによって、気化ガスを光酸化分解させ、該光酸化分解によって生成された分解生成ガスを、処理剤によって吸収、吸着、中和させる。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、廃液中に含まれる塩素系有機物を分解、除去する廃液処理方法、それに用いる廃液処理装置、およびこれを用いた洗浄装置であって、処理効率に優れ、塩素系ガス等の２次副産物の排出を抑制し得る廃液処理方法、およびそれに用いる廃液処理装置、およびこれを用いた洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、塩素系有機溶剤は、優れた洗浄性、安定性、不燃性を有することから、優秀な洗浄剤として広く用いられてきた。近年、大気汚染防止法において、塩素系有機物が有害大気汚染物質として、優先取組物質・自主管理物質・指定物質等に指定されて以来、ドライクリーニング等の洗浄装置等から廃出される廃液・排ガス中に含有される塩素系有機物の排出量を、排出基準値以下に抑えるための方法として、活性炭での吸着処理方法や、加熱蒸発処理方法等の手法が用いられてきた。
【０００３】上記活性炭を用いた吸着処理方法では、活性炭が吸着飽和に達した段階で、吸着機能を失うため、活性炭を取り替える必要がある。しかしながら、活性炭が吸着機能を失う時期を把握することは難しく、また、吸着飽和した活性炭は、指定廃棄物として専門処理業者へ処分を委託するか、水蒸気等で脱着再生してから再利用しなければならない等、処理効率が低く、余分なコストがかかるといった問題点があった。
【０００４】また、上記加熱蒸発処理方法では、塩素系有機物を気化させることにより、廃液中の塩素系有機物含有濃度を、上記排出基準内に下げることができる。しかしながら、上記方法では、廃液中の塩素系有機物濃度が低い場合には、処理効率に劣るといった問題点があった。また、気化された塩素系有機物が未分解のまま大気中へ放出されることになるため、排ガス中に含まれる塩素系有機物の排出量を、年々規制が強化される上記排出基準内に抑えることができなくなる可能性があるといった問題点があった。
【０００５】一方、最近では、自然光もしくは蛍光燈に含まれる紫外線レベルで活性化する光触媒を用いて、塩素系有機溶剤等を光分解し、無害化する廃液処理方法および装置が、例えば特開平８−３２３３４６号公報等において提案されている。しかしながら、塩素系有機物が分解された時に生じる塩素系ガスを、無害化するための配慮がなされていないといった問題点があった。また、上記塩素系有機物の排出規制が年々強化されているため、より優れた分解処理効率を発揮し得る廃液処理方法および廃液処理装置が求められている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、廃液中に含まれる塩素系有機物を分解、除去する廃液処理方法およびそれに用いる廃液処理装置およびこれを用いた洗浄装置であって、処理効率に優れ、塩素系ガス等の２次副産物の排出を抑制した廃液処理方法、廃液処理装置およびこれを用いた洗浄装置を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するために、請求項１は、廃液中の塩素系有機溶剤を気化する気化処理過程と、前記廃液中より気化された気化ガスを、光触媒顆粒体がガス流通管路に充填されてなる光触媒反応部に送入し、該光触媒反応部に紫外線光源から光を照射し、気化ガスを光酸化分解する光酸化分解処理過程と、前記光酸化分解によって生成された分解生成ガスを、吸収、吸着、中和する後処理過程からなる廃液処理方法を提供する。また、請求項２は、請求項１に記載の廃液処理方法において、気化処理過程が、曝気方式または加熱蒸発方式である廃液処理方法を提供する。
【０００８】また、請求項３は、請求項２に記載の廃液処理方法において、曝気方式が、廃液を曝気槽に注入後、大気圧に対して＋０．１ｋｇ／ｃｍ2〜＋５ｋｇ／ｃｍ2に曝気槽内を加圧し、曝気した気化ガスを、曝気槽内の圧力を利用して光触媒反応部に導入する方式である廃液処理方法を提供する。また、請求項４は、請求項１〜３のいずれかに記載の廃液処理方法において、後処理過程が、分解生成ガスを、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水等の中から選択される少なくとも１種を含んだ液状もしくは粉末状の処理剤中に注入し、これを吸収、吸着、中和する過程である廃液処理方法を提供する。
【０００９】また、請求項５は、請求項１〜４のいずれかに記載の廃液処理方法において、光触媒顆粒体を洗浄するための中性もしくはアルカリ性水溶液を光触媒反応部に流通させて、光触媒顆粒体に蓄積された分解生成物を除去する光触媒洗浄過程を具備する廃液処理方法を提供する。また、請求項６は、廃液中の塩素系有機溶剤を気化する気化処理部と、前記廃液中より気化された気化ガスを光酸化分解する光酸化分解処理部と、前記光酸化分解によって生成された分解生成ガスを吸収、吸着、中和する後処理部を具備する廃液処理装置を提供する。
【００１０】また、請求項７は、請求項６に記載の廃液処理装置において、光酸化分解処理部が、光によって活性化され、ガス中の有機物を光酸化分解させる光触媒顆粒体がガス流通管路内に充填されてなる光触媒反応部と、光触媒顆粒体に紫外線光を照射するための紫外線光源を有する人工光照射部を備えたものであり、前記光触媒顆粒体が、最小粒径が１ｍｍ以上および最大粒径が２０ｍｍ以下に成形されたものであり、前記ガス流通管路が、内径５〜３０ｍｍ、長さ２００〜８００ｍｍの直線管路複数本が、全体として一つの流路を形成するように相隣接する直線管路の端部同士が接続されたものである廃液処理装置を提供する。
【００１１】また、請求項８は、請求項７に記載の廃液処理装置において、光触媒顆粒体が、塩素系有機ガスおよび塩素系ガスを吸着する無機物粉体と、光触媒粒子の混合物であり、光触媒顆粒体中における光触媒粒子の含有量が１０〜９５重量％である廃液処理装置を提供する。また、請求項９は、請求項８に記載の廃液処理装置において、光触媒粒子が二酸化チタン微粒子であり、前記無機物粉体が、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、石灰、カオリンクレー、ワラストナイト、タルク、ネフェリンシナイト、ゼオライト、活性炭の中から選択される１種または２種以上である廃液処理装置を提供する。
【００１２】また、請求項１０は、請求項７〜９のいずれかに記載の廃液処理装置において、直線管路および紫外線光源が鉛直方向に設置されている廃液処理装置を提供する。また、請求項１１は、請求項６〜１０のいずれかに記載の廃液処理装置において、後処理部が、処理槽内部に、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水等の中から選択される少なくとも１種を含んだ液状もしくは粉末状の吸収、吸着、中和処理剤を備えたものである廃液処理装置を提供する。
【００１３】また、請求項１２は、請求項６〜１１のいずれかに記載の廃液処理装置において、光酸化分解処理部および後処理部における、前記気化ガスおよび／または分解生成ガスの流路の一部もしくは全部が、高分子物質を素材としたもので構成されている廃液処理装置を提供する。また、請求項１３は、請求項６〜１２のいずれかに記載の廃液処理装置において、気化処理部として、廃液中の塩素系有機溶剤を曝気させる曝気処理部、もしくは廃液中の塩素系有機溶剤を加熱蒸発させる加熱蒸発処理部を用いた廃液処理装置を提供する。
【００１４】また、請求項１４は、請求項１３に記載の廃液処理装置において、曝気処理部が、曝気槽に、廃液を注入するための廃液入口部と、曝気処理後の排液を排出するための排液出口部と、圧縮空気を送入するための圧縮空気入口部と、気化ガスを光酸化分解処理部に排出するための気化ガス出口部を具備したものであって、前記圧縮空気入口部には、開閉バルブと、レギュレータと、圧力計と、圧縮空気供給口が設けられ、曝気槽の内圧を、大気圧に対して＋０．１ｋｇ／ｃｍ2〜＋５ｋｇ／ｃｍ2に調整することができるように構成されており、曝気槽内の圧力を利用して、気化ガスを気化ガス出口部から光触媒反応部へ排出できるように構成されている廃液処理装置を提供する。
【００１５】また、請求項１５は、請求項１４に記載の廃液処理装置において、曝気槽内壁が、フッ素系樹脂またはポリエチレン系樹脂によりコーティングされている廃液処理装置を提供する。また、請求項１６は、請求項１４または１５に記載の廃液処理装置において、曝気槽内部に廃液攪拌装置を具備する廃液処理装置を提供する。また、請求項１７は、請求項１４〜１６のいずれかに記載の廃液処理装置において、圧縮空気を曝気槽内部に送入するための圧縮空気入口部に散気管を具備する廃液処理装置を提供する。
【００１６】また、請求項１８は、請求項１４〜１７のいずれかに記載の廃液処理装置において、光触媒反応部に接続している洗浄液供給管路が、分岐バルブを介して排液出口部に連結されており、光触媒反応部に、あらかじめ曝気槽に注入された洗浄用の中性もしくはアルカリ性水溶液を送入、流通させることができるように構成されている廃液処理装置を提供する。また、請求項１９は、請求項６〜１８のいずれかに記載の廃液処理装置を具備する洗浄装置を提供する。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明する。図１は本発明の廃液処理装置の実施の形態の一例を模式的に示す説明図である。図１において、符号１は、気化処理部を示す。上記気化処理部１は、気化ガス供給管路２を介して、光酸化分解処理部３に接続されており、光酸化分解処理部３は、分解生成ガス供給管路４を介して、後処理部５に接続されている。
【００１８】そして、上記気化処理部１において、塩素系有機溶剤を含む廃液が、曝気方式もしくは加熱蒸発方式によって気化され、気化された塩素系有機ガス等を含む気化ガスが、気化ガス供給管路２を通って光酸化分解処理部３に導入されて光酸化分解され、該光酸化分解反応によって生じた塩素系ガス等を含む分解生成ガスが、分解生成ガス供給管路４を通って後処理部５に導入され、後処理部５において吸収、吸着、中和され、無害な塩類へと変換される。
【００１９】図２は、本発明の廃液処理装置の一例を示す概略斜視図であり、図３は図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とした概略側面図であり、図４は図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とし、該透視図の一部を断面図とした概略背面図であり、図５は図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とした概略平面図である。
【００２０】図２〜図５において、上記気化処理部１として、曝気処理部が用いられている。図２に示すように、この曝気処理部は、曝気槽６に、廃液を注入するための廃液入口部７と、曝気処理後の排液を排出するための排液出口部８と、圧縮空気を送入するための圧縮空気入口部１３と、曝気後のガスを排出するための気化ガス出口部１８とが設けられたものである。ここで、廃液とは、無害化するために本発明の廃液処理装置に投入される被処理溶液を示し、排液とは、該廃液処理装置によって無害化処理が施され、装置外に排出される処理済溶液を示す。
【００２１】上記曝気槽６は、直径１０〜３０ｃｍ程度、高さ２０〜１００ｃｍ程度の略円柱状の圧力容器であり、耐食性、耐薬品性、撥水性に優れたフッ素系樹脂、ポリエチレン系樹脂等の高分子物質を素材としたもの、あるいはこれらを槽内壁にコーティングしたもの等が用いられる。また、上記曝気槽６の内部には、曝気効率を向上させるために、噴流式、プロペラ式等の攪拌装置が設置されている。
【００２２】上記排液出口部８には、第１の分岐バルブ９と、第１の開閉バルブ１０と、排液チューブ１１と、洗浄液供給管路１２とが設けられており、曝気処理後の排液を外部に排出する時には、第１の分岐バルブ９を排液チューブ１１に接続し、また、光触媒洗浄用溶液を下記光触媒反応部２２に供給する時には、第１の分岐バルブ９を洗浄液供給管路１２に接続し、第１の開閉バルブ１０を開放すれば良いように構成されている。
【００２３】また、上記圧縮空気入口部１３には、第２の開閉バルブ１４と、レギュレータ１５と、圧力計１６と、圧縮空気供給管路１７とが設けられており、これらを調節することにより、曝気槽６内の圧力を制御することができるようになっている。また、曝気時に用いられる圧縮空気の供給源としては、クリーニング業や洗浄業の工場等で一般的に配備されているものを用いることができ、圧縮空気供給管路１７は、上記供給源と簡単に着脱できるように構成されている。また、上記圧縮空気入口部１３には、曝気槽６内において、曝気効率を向上させるために、散気管が取り付けられている。
【００２４】また、上記気化ガス出口部１８には、第３の開閉バルブ１９が設けられており、これを開閉することにより、曝気処理後のガスを気化ガス供給管路２に排出できるようになっている。
【００２５】上記気化生成ガス供給管路２は、耐食性に優れたフッ素系樹脂やポリエチレン系、ナイロン系樹脂等の高分子物質で形成されており、光酸化分解処理部３に接続されている。図４に示すように、上記光酸化分解処理部３は、上記気化ガス供給管路２から供給された気化ガスが流通するガス流通管路２０内に、ガス中の有機物を光酸化分解させる光触媒顆粒体２１が充填された光触媒反応部２２と、光触媒顆粒体２１に紫外線光を照射する紫外線光源２３を有する人工光照射部２４とを備え、図５に示すように、上記光触媒反応部２２に対向するように人工光照射部２４が配置されたものである。
【００２６】図４に示すように、上記ガス流通管路２０は、入口部２０ｂと出口部２０ｃを有し、鉛直方向上下に走行する一つの経路を形成するように、２〜２０本程度の直管状の直線管路２０ａが、８〜３５ｍｍのピッチ間隔で同一鉛直面上に並列され、相隣接する直線管路２０ａの端部同士が接続部材２５によって接続され、流路２８ａを形成するように、光酸化分解処理部３全体の構造体を兼ねる接続部材本体部２８によって互いに固定されて構成されている。
【００２７】図２に示すように、上記入口部２０ｂには、第２の分岐バルブ２６が設けられており、気化ガスを光触媒反応部２２に注入する時には、第２の分岐バルブ２６を気化ガス供給管路２に接続し、光触媒洗浄用溶液を光触媒反応部２２に供給する時には、第２の分岐バルブ２６を洗浄液供給管路１２に接続すれば良いように構成されている。また、出口部２０ｃには、第４の開閉バルブ２７が設けられており、これを分解生成ガス供給管路４と接続することにより、光酸化分解処理後のガスを分解生成ガス供給管路４に排出できるようになっている。
【００２８】図４に示すように、上記直線管路２０ａの素材としては、紫外線光等の人工光や自然光が透過可能なものが用いられ、ホウケイ酸ガラス、合成樹脂等の透明材料が使用可能である。
【００２９】上記直線管路２０ａの内径は、５〜３０ｍｍ、より好ましくは８〜１６ｍｍ程度とされる。上記内径が、５ｍｍ未満であると、ガス流通管路２０内に充填される光触媒顆粒体２１の充填量が少なくなるため、光酸化分解処理効率が低下し、また、内径が小さいことによるガス流量の減少のために、処理量が低下する。また、３０ｍｍを超えると、紫外線光源２３から照射された光が直線管路２０ａの中心付近まで届き難くなり、光触媒顆粒体２１の受光効率が低下するため、光酸化分解処理効率が低下する。
【００３０】また、上記直線管路２０ａの長さは、２００ｍｍ〜８００ｍｍの範囲となるように構成され、紫外線光源２３の長さと等しくなるように設定されるのが好ましい。これにより、光触媒顆粒体２１に、紫外線光源２３からの紫外線光を、光触媒反応部２２の全長にわたって均一に照射することができ、光酸化分解処理効率を向上させることができる。
【００３１】また、上記直線管路２０ａの両端には、直線管路２０ａ内に、光触媒顆粒体２１を保持するための保持材３１が設けられている。この保持材３１としては、通気可能な形状を有し、耐食性に優れたフッ素系樹脂やエチレン系、ナイロン系樹脂などの高分子物質を素材とするものであって、直線管路２０ａの内径と略同一の径で、５〜３０ｍｍ程度の厚みのものが用いられる。
【００３２】上記光触媒顆粒体２１としては、塩素系有機ガスや塩素系ガス等を吸着する無機物粉体と、光触媒粒子とを、混合してなるものが用いられる。上記光触媒粒子としては、光、例えば、近紫外線の照射等により活性化され、これに接触する有機物の光酸化分解反応を促進することができるものが用いられ、具体的には、ＴｉＯ2、ＣｄＳ、ＳｒＴｉＯ3、Ｆｅ2Ｏ3等が挙げられる。これらの中でも、性能に優れ、安価なコストのＴｉＯ2が最も好適に用いられる。
【００３３】上記無機物粉体の具体例としては、例えば、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、石灰、カオリンクレー、ワラストナイト、タルク、ネフェリンシナイト、ゼオライト、活性炭等が挙げられ、これらの中から１種もしくは２種以上が混合して用いられる。
【００３４】上記光触媒顆粒体２１における光触媒粒子の含有量は、１０〜９５重量％、好ましくは３０〜７０重量％程度、さらに好ましくは４０〜６０重量％程度とされる。上記含有量が１０重量％未満であると、光酸化分解処理能力が低下し、塩素系有機ガスが未分解のまま排出される可能性があり、９５重量％を超えると、光触媒顆粒体２１の塩素系有機ガス吸着保持力が低下し、高濃度の塩素系有機ガスが短時間で投入された場合に、塩素系有機ガスが捕捉されずに、やはり未分解のまま排出される恐れがある。
【００３５】また、上記光触媒顆粒体２１は、粒状に圧縮成形したものが好適に用いられる。上記光触媒顆粒体２１の具体的な形状としては、球状、樽状、短棒状、楕円球状、タブレット状（略円柱状）等が挙げられる。また、光触媒顆粒体２１には、穴を形成しても良いし、表面突起を形成しても良い。
【００３６】上記光触媒顆粒体２１の粒径は、１〜２０ｍｍ、好ましくは２〜１０ｍｍ程度であり、その平均粒径は、４〜８ｍｍ程度、好ましくは５〜７ｍｍ程度であるのが望ましい。上記粒径が１ｍｍ未満であると、目詰まりを生じ易くなり、光触媒反応部２２におけるガス流通量が減少するため、光酸化分解処理効率が低下する傾向にあり、２０ｍｍを超えると光触媒顆粒体２１の比表面積（単位重量当たりの表面積）が小さくなり、また、紫外線光源２３から照射された光がガス流通管路２０の中心まで届き難くなり、光触媒顆粒体２１の受光効率が低下するため、光酸化分解処理効率が低下する傾向にある。
【００３７】上記接続部材２５は、直線管路２０ａの端部同士を連結する本体部２８と、本体部２８に取付可能な蓋部２９と、環状シール材であるＯリング３０とを備えている。上記本体部２８は、直線管路２０ａの端部が挿入される開口部が設けられた直方体状の部材であり、この開口部に挿入された直線管路２０ａ、２０ａの一方から他方に、本体部２８内に設けられた流路２８ａを介して通気できるように構成されている。ここで、上記流路２８ａの内壁面は、耐食性、耐薬品性に優れたフッ素系樹脂、ポリエチレン系樹脂等の高分子物質によってコーティングされている、あるいは、本体部２８そのものが、耐食性、耐薬品性に優れたハステロイ等の金属もしくはフッ素系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ＰＰＳ等の高分子物質によって形成されていることが望ましい。
【００３８】上記開口部の周縁には、開口端に向かって徐々に拡径するＯリング設置用テーパ部が形成されており、このテーパ部と直線管路２０ａとの間に、Ｏリング３０が設置されるようになっている。上記蓋部２９には、直線管路２０ａ、２０ａが挿通する挿通孔が設けられており、本体部２８の開口端に当接した状態で本体部２８に止め付けられている。上記Ｏリング３０は、テーパ部と直線管路２０ａの隙間において、本体部２８、蓋部２９、および直線管路２０ａ外面のいずれにも当接した状態で設置されている。Ｏリング３０は、本体部２８と蓋部２９とによって圧縮され、弾性変形した状態となっていることが好ましく、ゴムなどの弾性材料からなるものが用いられる。
【００３９】また、上記本体部２８は、直線管路２０ａが長手方向に移動可能となるように、上端側の開口部の開口径と挿通孔の開口径とが、直線管路２０ａの外径よりも大きくなるように構成されている。また、直線管路２０ａの交換を、蓋部２９を外すことなく容易に行うことができるように、直線管路２０ａを上端方向に移動させると、下端側が蓋部２９の上面から離れ、直線管路２０ａを傾斜できるように構成されており、直線管路２０ａの下端側が蓋部２９と本体部２８とに長さａだけ挿入され、かつ、直線管路２０ａの上端部と本体部２８内流路の最奥部とが距離ｂだけ離れているとすると、ｂ＞ａとなるように構成されている。また、直線管路２０ａが挿入される長さａが上端側と下端側とで均等となるように、下端側の本体部２８の直線管路２０ａの挿通孔には、直線管路２０ａが長さａ以上挿入されないように、直線管路２０ａの外径よりも小さい段部が設けられている。
【００４０】図３および図５に示すように、上記人工光照射部２４は、光触媒反応部２２の正面側および背面側に設けられており、光触媒反応部２２と対向するように面状に配列された複数本の直管状の紫外線光源２３と、紫外線光源を固定する矩形板状のホルダ２３ａとを備えたものである。上記紫外線光源２３は、光触媒反応部２２全体に均一に紫外線光を照射できるように鉛直方向に配置され、また、紫外線光源２３による発熱が光触媒反応部２２に影響を及ぼさないように、２〜４本の直線管路２０ａに対して、光触媒反応部２２の正面側と背面側にそれぞれ一本ずつ紫外線光源２３が配置されるように、水平方向に２〜１００ｃｍ程度のピッチ間隔で並列されている。このような紫外線光源２３としては、汎用のエキシマランプやブラックライトなどが用いられる。
【００４１】また、上記ホルダ２３ａには、放熱のための開口部３２が設けられている。上記開口部３２の形状は、円形や四角形など限定されないが、開口径が１０〜２０ｍｍ程度であり、ホルダ２３ａの全表面積に対して開口部３２の全表面積が占める割合（開口率）が１０〜４０％程度であるものが好ましい。
【００４２】上記光触媒反応部２２と人工光照射部２４とを取り囲むように、反射板３３が設けられている。この反射板３３は、紫外線光源２３が点灯した時に、紫外線光源２３から反射板３３に照射された光を高い効率で反射し、光触媒顆粒体２１に照射することができるように、かつ、光が外部に漏れないように構成されており、図５に示すように水平面での断面形状が６角形となるように設置されていることが好ましい。上記反射板３３としては、アルミニウム、ステンレス、銅などを素材とし、表面が滑らかで、かつ、放熱性に優れたものが用いられる。また、紫外線光源２３の点灯装置３４は、紫外線光源２３による発熱の影響を受けないように、光触媒反応部２２の左右両側部に、鉛直方向に整列して設けられている。
【００４３】図２に示すように、上記分解生成ガス供給管路４は、後処理部５に接続されている。上記後処理部５は、処理槽３５に、分解生成ガス入口部３６と、排ガス及び排水出口部３７とが設けられたものである。また、上記分解生成ガス供給管路４、処理槽３５、分解生成ガス入口部３６は、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ナイロン系樹脂などの耐食性、耐薬品性に優れた高分子物質によって形成されていることが望ましい。
【００４４】上記処理槽３５は、底面積が１００〜３００ｃｍ2程度、高さが１００〜５００ｃｍ程度、容量が１０〜３０ｌ程度である略四角柱状の容器であり、耐食性に優れたポリエチレン系樹脂、フッ素系樹脂等を素材とする、またはこれらを内壁面に被覆した容器等が用いられる。上記処理槽３５には、分解生成ガス入口部３６より供給される分解生成ガスを、吸収、吸着、中和するための処理剤が注入されている。上記処理剤としては、例えば、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水などの中から選択される１種、または２種以上を含むアルカリ性イオン水などが用いられる。これらの処理剤の形態は、液相に限らず、粉体状の流動床であっても良く、また、それらの複合形であっても構わない。また、上記後処理効率を高めるために、分解生成ガス入口部３６の処理槽３５内部側には、図示略の散気管が設けられていることが好ましい。
【００４５】上記廃液処理装置の構成要素である気化処理部１、光酸化分解処理部３、および後処理部５は、いずれか一つが不良状態に陥った場合に、不良状態に陥った構成要素のみを良好状態であるものに取り替えることができるように、着脱可能に構成されており、縦２０〜５０ｃｍ程度、横２０〜５０ｃｍ程度で、底部に４つのキャスターが設けられているベース部３９に集約して収納されている。
【００４６】このような構造の廃液処理装置にあっては、気化処理部１によって廃液中より気化された塩素系有機ガスを含む気化ガスを、光酸化分解処理部３によって光酸化分解し、これによって生じた塩素系ガスを含む分解生成ガスを後処理部５によって無害な塩類に変換することができるように構成されているため、処理後の排液、排ガス中に含まれる塩素系有機物、および２次副産物である塩素系ガスの排出量を、排出基準内に抑制することができ、環境汚染の抑制に貢献し得るものである。また、ドライクリーニング等からの廃液中に含まれる塩素系有機物を、気化処理部１において気化させてから、光酸化分解処理部３において光酸化分解させるように構成されているため、廃液をそのまま光酸化分解させる場合よりも、光酸化分解処理効率を向上させることができ、処理に要する時間やコストを削減できるものである。
【００４７】また、光酸化分解処理部３における直線管路２０ａとして、内径が５〜３０ｍｍ、長さが２００〜８００ｍｍのものを用いることによって、紫外線光源２３からの紫外線光を光触媒反応部２２の全長にわたって均一に中心付近まで照射させ、かつ、ガス流通管路２０内に光触媒顆粒体２１を十分に充填させることができるため、光酸化分解処理効率に優れたものである。また、光触媒顆粒体２１として、粒径が１〜２０ｍｍのものを用い、光触媒顆粒体２１の比表面積を大きくすることによって、光触媒顆粒体２１と気化ガスとの接触効率を高め、かつ、光触媒顆粒体２１の受光効率を高めることができるため、光酸化分解処理効率に優れたものである。また、光触媒顆粒体２１として、塩素系有機ガスや塩素系ガス等を吸着する無機物粉体と光触媒粒子との混合物を用いることによって、塩素系有機ガス等が光触媒顆粒体に吸着保持された状態で光酸化分解されることになるため、光酸化分解処理効率に優れ、未分解の塩素系有機物が光酸化分解処理部３の外部に排出されることがないものである。
【００４８】また、気化ガスおよび／または分解生成ガスが流通する経路の内壁面が、耐食性、耐薬品性に優れたフッ素系樹脂やポリエチレン系樹脂などの高分子物質でコーティングもしくは経路がこれらの物質で形成されているため、塩素系ガス等によって腐食され難いものである。また、曝気時における曝気槽６内の圧力を、＋０．１〜＋５．０ｋｇ／ｃｍ2に調整できるように構成されているため、廃液中に発生する曝気泡径を微小化することができ、廃液と空気との接触面積、時間を増加させることができ、曝気効率を向上させ、処理に要する時間を短縮することができるものである。また、曝気槽６内の圧力によって、気化ガスを気化ガス供給管路２へ排出することができ、エネルギーを有効に利用することができるものである。また、曝気時に用いられる圧縮空気の供給源としては、クリーニング業や洗浄業の工場等で一般的に配備されているものを用いることができるため、新技術導入に際してのコストを低減させることができるものである。
【００４９】また、曝気槽６の内壁がフッ素系樹脂やポリエチレン系樹脂などの高分子物質で被覆されているので、塩素系有機物が内壁に付着することを防ぐことができ、塩素系有機物と気泡との接触効率を向上させることができ、優れた曝気効率を発揮し得るものである。また、曝気槽６の内部に攪拌装置を具備しているので、塩素系有機物が底部や内壁面に滞留することを防ぐことができ、塩素系有機物と気泡との接触効率を高め、優れた曝気効率を発揮し得るものである。また、曝気槽６内部側の圧縮空気入口部１３には散気管が設けられているので、廃液中に生じる曝気泡径を微小化することができ、廃液と気泡との接触面積、時間を増加させることができ、優れた曝気効率を発揮し得るものである。
【００５０】また、曝気槽６として、鉛直方向に長い構造の容器を用いているため、廃液と空気との接触面積、時間を増加させることができ、曝気効率を向上させ、処理に要する時間を短縮することができるものである。また、直線管路２０ａおよび紫外線光源２３を鉛直方向に配置しているため、光酸化分解処理部３が鉛直方向に長い構造となっており、装置の設置面積を小さくすることができるものである。
【００５１】また、光触媒顆粒体２１を洗浄するための中性もしくはアルカリ性水溶液を、光触媒反応部２２に送入し、光触媒顆粒体２１に吸着、蓄積した塩素系ガスなどの分解生成物を容易に洗浄排除することができるように構成されているため、光触媒顆粒体２１の光酸化分解処理能率を良好に維持し続けることができ、未分解の塩素系有機物が光酸化分解処理部３の外部に排出される危険性を抑制することができるものである。
【００５２】次に、上記廃液処理装置を用いた廃液処理方法の一例について説明する。まず、廃液１０〜２０ｌ程度を、まず、第１、第２、第３の開閉バルブ１０、１４、１９を各々閉じた状態で、廃液入口部７より曝気槽６内に注入する。ここで、上記廃液の具体例としては、ドライクリーニングや金属部品洗浄等の洗浄装置等により排出される塩素系有機物を含有する産業廃水等が挙げられる。
【００５３】次いで、圧力計１６を確認しながらレギュレータ１５を使って、０．１〜５ｋｇ／ｃｍ2程度に調整された圧縮空気を、図示略の供給源から圧縮空気入口部１３に設けられらた圧縮空気供給管路１７へ供給し、第２の開閉バルブ１４と第３の開閉バルブ１９を開くことによって、曝気処理を開始し、５〜５０ｌ／分程度の曝気量で曝気処理を行う。この時、上記圧縮空気供給管路１７から供給される圧縮空気の圧力を調整することによって、曝気槽６の内部を、大気圧に対して＋０．１〜＋５．０ｋｇ／ｃｍ2、より好ましくは＋０．５〜＋３．０ｋｇ／ｃｍ2程度の加圧状態に維持することができる。これによって、廃液中に発生する曝気泡径を、微小化することができ、同じ空気容量で比較した時の気液の接触面積と接触時間を増加させることができ、曝気効率を高めることができる。
【００５４】また、上記曝気槽６の内圧により、曝気処理された塩素系有機ガス等の気化ガスは、気化ガス出口部１８から気化ガス供給管路２に排出され、第２の分岐バルブ２６を気化ガス供給管路２と開通させることにより、気化ガス供給管路２から入口部２０ｂへ送入され、光酸化分解処理部３の光触媒反応部２２へと導入される。
【００５５】上記光触媒反応部２２に供給された塩素系有機ガス等の気化ガスは、光触媒反応部２２中を流れる過程で、光触媒顆粒体２１と接触し、光触媒顆粒体２１に含有される無機物粉体に捕捉される。この時、光触媒顆粒体２１に、紫外線光源２３から紫外線光を照射することにより、光触媒顆粒体２１に含有される光触媒粒子が活性化され、その触媒作用により、上記無機物粉体に捕捉された塩素系有機物等を光酸化分解させることができる。
【００５６】このようにして塩素系有機物等が酸化分解されて生じる塩素系ガス等の分解生成ガスは、第４の開閉バルブ２７を分解生成ガス供給管路４と接続させることによって、出口部２０ｃから光酸化分解処理部３の外部へ排出され、分解生成ガス供給管路４を通って、後処理部５の分解生成ガス入口部３６から処理槽３５へと注入される。上記処理槽３５に供給された分解生成ガス中に含まれる塩素系ガス等は、処理槽３５内に予め注入されている処理剤中のアルカリイオンによって中和され、無害な塩類へ変換されるか、液中に吸収除去される。このようにして得られた無害化処理ガス、処理水は、排ガス及び排水出口部３７を介して外部に排出される。
【００５７】所要時間経過後、上記第２、第３の開閉バルブ１４、１９を閉じ、次いで、排液出口部８の第１の分岐バルブ９を、排液チューブ１１に接続し、さらに第１の開閉バルブ１０を開放し、曝気槽６内残圧を利用して、曝気後の排液を排液チューブ１１を介して、外部へ排出させる。
【００５８】また、上記廃液の代わりに、光触媒顆粒体２１を洗浄するための中性またはアルカリ性水溶液を、上記と同様の手順で曝気槽６内に注入し、圧縮空気を曝気槽６内に送入して、曝気槽６内を加圧後、排液出口部８における第１の分岐バルブ９を洗浄液供給管路１２と接続し、この洗浄液供給管路１２と第２の分岐バルブ２６とを接続し、第１の開閉バルブ１０を開放することにより、曝気槽６の内圧によって排出された洗浄用の中性またはアルカリ性水溶液を、光触媒反応部２２に供給することができ、光触媒顆粒体２１に蓄積された分解生成物を洗浄、排除することができる。
【００５９】このような廃液処理方法にあっては、気化処理部１において廃液中より気化された塩素系有機ガスを含む気化ガスを、光酸化分解処理部３において光酸化分解し、これによって生じた塩素系ガスを含む分解生成ガスを、後処理部５において無害な塩類に変換するものであるため、処理後の排液、排ガス中に含まれる塩素系有機物、および２次副産物である塩素系ガスの排出量を、排出基準内に抑制することができ、環境汚染の抑制に貢献し得る廃液処理方法である。また、廃液中に含まれている塩素系有機物を、気化処理部１において気化させてから、光酸化分解処理部３において光酸化分解させるので、廃液をそのまま光酸化分解させる場合よりも、光酸化分解処理効率を向上させることができ、処理に要する時間やコストを削減することができる。
【００６０】また、曝気槽６内の圧力を、＋０．１〜＋５．０ｋｇ／ｃｍ2に調整した状態で曝気を行うため、廃液中に発生する曝気泡径を微小化することができ、気液の接触面積、時間を増加させることができ、曝気効率を向上させ、処理に要する時間を短縮することができる。また、曝気槽６内の圧力によって、気化ガスを気化ガス供給管路２へ排出することができ、エネルギーを有効に利用することができ、処理に要する時間やコストを削減できる。
【００６１】また、中性もしくはアルカリ性水溶液を、光触媒反応部２２に送入し、光触媒顆粒体２１に吸着、蓄積した分解生成物を、洗浄排除する工程を設けているため、光触媒顆粒体２１の光酸化分解処理能率を良好に維持し続けることができ、処理に要する時間やコストを削減することができる。
【００６２】本発明の洗浄装置は、現在汎用されているドライクリーニング装置等の洗浄機能を有する洗浄装置と本発明の廃液処理装置とを組み合わせたものである。
【００６３】
【実施例】以下、実験例を示して本発明を、より具体的に説明する。かかる具体例は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲で任意に変更が可能である。
（実験例）本実験例では、図２〜図５に示す廃液処理装置を用いた。この廃液処理装置では、直線管路２０ａとして、内径１０ｍｍ、外径１２ｍｍ、長さ６９０ｍｍのものを１２本用い、これらを水平方向に２０ｍｍの間隔で面状に並列し、相隣接する直線管路２０ａの端部同士を接続して、鉛直方向上下に走行するガス流通管路２０を構成した。
【００６４】直線管路２０ａに充填させる光触媒顆粒体２１中に含まれる光触媒粒子としてはＴｉＯ2を用い、無機物粉体としてはタルクを用い、光触媒顆粒体２１中におけるＴｉＯ2の含有量が６６重量％となるようにこれらを配合し、直径５ｍｍ、最大高さ３ｍｍのタブレット状に圧縮成形したものを、光触媒顆粒体２１として用いた。紫外線光源２３としては、外径３２ｍｍ、長さ６９０ｍｍの３０Ｗブラックライトを８本用い、光触媒反応部２２の正面側と背面側とに４本づつ配置し、これらを均一な間隔で面状に並列させ、正面側と背面側の両面から紫外線光を、光触媒反応部２２全長にわたって均一に照射した。処理槽３５に注入する処理剤としては、３％カ性ソーダ溶液を用いた。ベース部３９としては、横幅４５０ｍｍ、縦幅４００ｍｍの大きさで、底部に４つのキャスターが取り付けられているものを用いた。
【００６５】曝気槽６内に、塩素系有機物濃度が１５０ｍｇ／ｌである廃液を１５ｌ注入し、曝気量１０ｌ／分、曝気槽６内圧２ｋｇ／ｃｍ2となるように調整しながら、９０分間曝気処理を行い、曝気槽６内圧を利用して気化ガスを光触媒反応部２２に導入し、光酸化分解処理によって生じた分解生成ガスを処理槽３５に導入した。上記処理中における、気化ガス出口部１８から排出される気化ガス中に含まれる塩素系有機ガス濃度、出口部２０ｃから排出される分解生成ガス中に含まれる塩素系有機ガス濃度および塩素系ガス濃度、並びに排ガス出口部３７から排出されるガス中に含まれる塩素系ガス濃度について、公知のガス検知管吸引方式に従って測定を行った。また、９０分間の曝気処理を施行した後の廃液中に含まれる塩素系有機物濃度についても、同様に測定を行った。
【００６６】結果、気化ガス出口部１８から排出された気化ガス中に含まれていた塩素系有機ガスの最大濃度は、６０００ｐｐｍと高いものであった。これに対して、出口部２０ｃから排出された分解生成ガス中に含まれていた塩素系有機ガス濃度は、検出限界以下であった。また、出口部２０ｃから排出された分解生成ガス中に含まれていた塩素系ガスの最大濃度は、４０ｐｐｍと高いものであった。これに対して、排ガス出口部３７から排出されたガス中に含まれていた塩素系ガス濃度は、検出限界以下であった。また、９０分間曝気処理後の廃液中に含まれていた塩素系有機物濃度は、０．０５ｍｇ／ｌであり、排出基準値（０．１ｍｇ／ｌ）以下であった。
【００６７】（参考例）上記実験例で用いた光触媒顆粒体２１が有する塩素系有機物に対する吸着性と、市販品のネット上に担持されたＴｉＯ2が有する塩素系有機物に対する吸着性との比較検討を行った。５０ｇの光触媒顆粒体２１または市販品のネット上に担持されたＴｉＯ2が設置されたデシケーター内に、５０μｌのトリクロロエチレンを注入後、これを密閉遮光した状態で１０分、２０分、３０分経過させた時のデシケーター内のトリクロロエチレン濃度を、ガス検知管吸引方式によって測定した。結果を表１に示す。表１に示す結果より、上記実験例で用いた光触媒顆粒体２１は、塩素系有機物に対する優れた吸着性を有するものであることが示された。
【００６８】
【表１】
【００６９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の廃液処理装置にあっては、光酸化処理効率や曝気処理効率に優れたものであるので、廃液処理に要する時間やコストを削減することができ、かつ、排液、排ガス中に含まれる塩素系有機物、および２次副産物である塩素系ガスの排出量を、排出基準値内に抑制することができ、環境汚染の抑制に貢献し得るものである。また、気化処理部として、従来技術で用いられている装置を活用することができるため、新技術を導入するに際して負荷されるコストを低減することができるものである。
【００７０】また、強力な金属腐食性を有する塩素系ガスと接触する部位が、耐食性に優れた素材となるように構成されたものであり、また、光触媒顆粒体２１を洗浄することができるように構成されたものであるため、長期にわたって使用することができ、メンテナンスに要するコストを削減することができるものである。また、鉛直方向に細長い構造となっているので、水平面での空面積が小さい場所にも設置可能なものであり、また底部にキャスターが設けられているので、持ち運びが容易なものである。また、塩素系有機物を含む廃液を排出する各種洗浄装置と、容易に接続することができるものである。
【００７１】また、本発明の廃液処理方法にあっては、処理に要するコストや時間を削減することができ、排液、排ガス中に含まれる塩素系有機物、および２次副産物である塩素系ガスの排出量を、容易に排出基準値内に抑制することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の廃液処理装置の一例を模式的に示す説明図である。
【図２】 本発明の廃液処理装置の一例を示す概略斜視図である。
【図３】 図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とした概略側面図である。
【図４】 図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とし、該透視図の一部を断面図とした概略背面図である。
【図５】 図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とした概略平面図である。
【符号の説明】
１…気化処理部、２…気化ガス供給管路、３…光酸化分解処理部、４…分解生成ガス供給管路、５…後処理部、６…曝気槽、７…廃液入口部、８…排液出口部、９…第１の分岐バルブ、１２…洗浄液供給管路、１３…圧縮空気入口部、１４…第２の開閉バルブ、１５…レギュレータ、１６…圧力計、１７…圧縮空気供給管路、１８…気化ガス出口部、２０…ガス流通管路、２０ａ…直線管路、２１…光触媒顆粒体、２２…光触媒反応部、２３…紫外線光源、２４…人工光照射部、３５…処理槽
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、廃液中に含まれる塩素系有機物を分解、除去する廃液処理方法、それに用いる廃液処理装置、およびこれを用いた洗浄装置であって、処理効率に優れ、塩素系ガス等の２次副産物の排出を抑制し得る廃液処理方法、およびそれに用いる廃液処理装置、およびこれを用いた洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、塩素系有機溶剤は、優れた洗浄性、安定性、不燃性を有することから、優秀な洗浄剤として広く用いられてきた。近年、大気汚染防止法において、塩素系有機物が有害大気汚染物質として、優先取組物質・自主管理物質・指定物質等に指定されて以来、ドライクリーニング等の洗浄装置等から廃出される廃液・排ガス中に含有される塩素系有機物の排出量を、排出基準値以下に抑えるための方法として、活性炭での吸着処理方法や、加熱蒸発処理方法等の手法が用いられてきた。
【０００３】上記活性炭を用いた吸着処理方法では、活性炭が吸着飽和に達した段階で、吸着機能を失うため、活性炭を取り替える必要がある。しかしながら、活性炭が吸着機能を失う時期を把握することは難しく、また、吸着飽和した活性炭は、指定廃棄物として専門処理業者へ処分を委託するか、水蒸気等で脱着再生してから再利用しなければならない等、処理効率が低く、余分なコストがかかるといった問題点があった。
【０００４】また、上記加熱蒸発処理方法では、塩素系有機物を気化させることにより、廃液中の塩素系有機物含有濃度を、上記排出基準内に下げることができる。しかしながら、上記方法では、廃液中の塩素系有機物濃度が低い場合には、処理効率に劣るといった問題点があった。また、気化された塩素系有機物が未分解のまま大気中へ放出されることになるため、排ガス中に含まれる塩素系有機物の排出量を、年々規制が強化される上記排出基準内に抑えることができなくなる可能性があるといった問題点があった。
【０００５】一方、最近では、自然光もしくは蛍光燈に含まれる紫外線レベルで活性化する光触媒を用いて、塩素系有機溶剤等を光分解し、無害化する廃液処理方法および装置が、例えば特開平８−３２３３４６号公報等において提案されている。しかしながら、塩素系有機物が分解された時に生じる塩素系ガスを、無害化するための配慮がなされていないといった問題点があった。また、上記塩素系有機物の排出規制が年々強化されているため、より優れた分解処理効率を発揮し得る廃液処理方法および廃液処理装置が求められている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、廃液中に含まれる塩素系有機物を分解、除去する廃液処理方法およびそれに用いる廃液処理装置およびこれを用いた洗浄装置であって、処理効率に優れ、塩素系ガス等の２次副産物の排出を抑制した廃液処理方法、廃液処理装置およびこれを用いた洗浄装置を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するために、請求項１は、廃液中の塩素系有機溶剤を気化する気化処理過程と、前記廃液中より気化された気化ガスを、光触媒顆粒体がガス流通管路に充填されてなる光触媒反応部に送入し、該光触媒反応部に紫外線光源から光を照射し、気化ガスを光酸化分解する光酸化分解処理過程と、前記光酸化分解によって生成された分解生成ガスを、吸収、吸着、中和する後処理過程からなる廃液処理方法を提供する。また、請求項２は、請求項１に記載の廃液処理方法において、気化処理過程が、曝気方式または加熱蒸発方式である廃液処理方法を提供する。
【０００８】また、請求項３は、請求項２に記載の廃液処理方法において、曝気方式が、廃液を曝気槽に注入後、大気圧に対して＋０．１ｋｇ／ｃｍ2〜＋５ｋｇ／ｃｍ2に曝気槽内を加圧し、曝気した気化ガスを、曝気槽内の圧力を利用して光触媒反応部に導入する方式である廃液処理方法を提供する。また、請求項４は、請求項１〜３のいずれかに記載の廃液処理方法において、後処理過程が、分解生成ガスを、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水等の中から選択される少なくとも１種を含んだ液状もしくは粉末状の処理剤中に注入し、これを吸収、吸着、中和する過程である廃液処理方法を提供する。
【０００９】また、請求項５は、請求項１〜４のいずれかに記載の廃液処理方法において、光触媒顆粒体を洗浄するための中性もしくはアルカリ性水溶液を光触媒反応部に流通させて、光触媒顆粒体に蓄積された分解生成物を除去する光触媒洗浄過程を具備する廃液処理方法を提供する。また、請求項６は、廃液中の塩素系有機溶剤を気化する気化処理部と、前記廃液中より気化された気化ガスを光酸化分解する光酸化分解処理部と、前記光酸化分解によって生成された分解生成ガスを吸収、吸着、中和する後処理部を具備する廃液処理装置を提供する。
【００１０】また、請求項７は、請求項６に記載の廃液処理装置において、光酸化分解処理部が、光によって活性化され、ガス中の有機物を光酸化分解させる光触媒顆粒体がガス流通管路内に充填されてなる光触媒反応部と、光触媒顆粒体に紫外線光を照射するための紫外線光源を有する人工光照射部を備えたものであり、前記光触媒顆粒体が、最小粒径が１ｍｍ以上および最大粒径が２０ｍｍ以下に成形されたものであり、前記ガス流通管路が、内径５〜３０ｍｍ、長さ２００〜８００ｍｍの直線管路複数本が、全体として一つの流路を形成するように相隣接する直線管路の端部同士が接続されたものである廃液処理装置を提供する。
【００１１】また、請求項８は、請求項７に記載の廃液処理装置において、光触媒顆粒体が、塩素系有機ガスおよび塩素系ガスを吸着する無機物粉体と、光触媒粒子の混合物であり、光触媒顆粒体中における光触媒粒子の含有量が１０〜９５重量％である廃液処理装置を提供する。また、請求項９は、請求項８に記載の廃液処理装置において、光触媒粒子が二酸化チタン微粒子であり、前記無機物粉体が、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、石灰、カオリンクレー、ワラストナイト、タルク、ネフェリンシナイト、ゼオライト、活性炭の中から選択される１種または２種以上である廃液処理装置を提供する。
【００１２】また、請求項１０は、請求項７〜９のいずれかに記載の廃液処理装置において、直線管路および紫外線光源が鉛直方向に設置されている廃液処理装置を提供する。また、請求項１１は、請求項６〜１０のいずれかに記載の廃液処理装置において、後処理部が、処理槽内部に、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水等の中から選択される少なくとも１種を含んだ液状もしくは粉末状の吸収、吸着、中和処理剤を備えたものである廃液処理装置を提供する。
【００１３】また、請求項１２は、請求項６〜１１のいずれかに記載の廃液処理装置において、光酸化分解処理部および後処理部における、前記気化ガスおよび／または分解生成ガスの流路の一部もしくは全部が、高分子物質を素材としたもので構成されている廃液処理装置を提供する。また、請求項１３は、請求項６〜１２のいずれかに記載の廃液処理装置において、気化処理部として、廃液中の塩素系有機溶剤を曝気させる曝気処理部、もしくは廃液中の塩素系有機溶剤を加熱蒸発させる加熱蒸発処理部を用いた廃液処理装置を提供する。
【００１４】また、請求項１４は、請求項１３に記載の廃液処理装置において、曝気処理部が、曝気槽に、廃液を注入するための廃液入口部と、曝気処理後の排液を排出するための排液出口部と、圧縮空気を送入するための圧縮空気入口部と、気化ガスを光酸化分解処理部に排出するための気化ガス出口部を具備したものであって、前記圧縮空気入口部には、開閉バルブと、レギュレータと、圧力計と、圧縮空気供給口が設けられ、曝気槽の内圧を、大気圧に対して＋０．１ｋｇ／ｃｍ2〜＋５ｋｇ／ｃｍ2に調整することができるように構成されており、曝気槽内の圧力を利用して、気化ガスを気化ガス出口部から光触媒反応部へ排出できるように構成されている廃液処理装置を提供する。
【００１５】また、請求項１５は、請求項１４に記載の廃液処理装置において、曝気槽内壁が、フッ素系樹脂またはポリエチレン系樹脂によりコーティングされている廃液処理装置を提供する。また、請求項１６は、請求項１４または１５に記載の廃液処理装置において、曝気槽内部に廃液攪拌装置を具備する廃液処理装置を提供する。また、請求項１７は、請求項１４〜１６のいずれかに記載の廃液処理装置において、圧縮空気を曝気槽内部に送入するための圧縮空気入口部に散気管を具備する廃液処理装置を提供する。
【００１６】また、請求項１８は、請求項１４〜１７のいずれかに記載の廃液処理装置において、光触媒反応部に接続している洗浄液供給管路が、分岐バルブを介して排液出口部に連結されており、光触媒反応部に、あらかじめ曝気槽に注入された洗浄用の中性もしくはアルカリ性水溶液を送入、流通させることができるように構成されている廃液処理装置を提供する。また、請求項１９は、請求項６〜１８のいずれかに記載の廃液処理装置を具備する洗浄装置を提供する。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明する。図１は本発明の廃液処理装置の実施の形態の一例を模式的に示す説明図である。図１において、符号１は、気化処理部を示す。上記気化処理部１は、気化ガス供給管路２を介して、光酸化分解処理部３に接続されており、光酸化分解処理部３は、分解生成ガス供給管路４を介して、後処理部５に接続されている。
【００１８】そして、上記気化処理部１において、塩素系有機溶剤を含む廃液が、曝気方式もしくは加熱蒸発方式によって気化され、気化された塩素系有機ガス等を含む気化ガスが、気化ガス供給管路２を通って光酸化分解処理部３に導入されて光酸化分解され、該光酸化分解反応によって生じた塩素系ガス等を含む分解生成ガスが、分解生成ガス供給管路４を通って後処理部５に導入され、後処理部５において吸収、吸着、中和され、無害な塩類へと変換される。
【００１９】図２は、本発明の廃液処理装置の一例を示す概略斜視図であり、図３は図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とした概略側面図であり、図４は図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とし、該透視図の一部を断面図とした概略背面図であり、図５は図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とした概略平面図である。
【００２０】図２〜図５において、上記気化処理部１として、曝気処理部が用いられている。図２に示すように、この曝気処理部は、曝気槽６に、廃液を注入するための廃液入口部７と、曝気処理後の排液を排出するための排液出口部８と、圧縮空気を送入するための圧縮空気入口部１３と、曝気後のガスを排出するための気化ガス出口部１８とが設けられたものである。ここで、廃液とは、無害化するために本発明の廃液処理装置に投入される被処理溶液を示し、排液とは、該廃液処理装置によって無害化処理が施され、装置外に排出される処理済溶液を示す。
【００２１】上記曝気槽６は、直径１０〜３０ｃｍ程度、高さ２０〜１００ｃｍ程度の略円柱状の圧力容器であり、耐食性、耐薬品性、撥水性に優れたフッ素系樹脂、ポリエチレン系樹脂等の高分子物質を素材としたもの、あるいはこれらを槽内壁にコーティングしたもの等が用いられる。また、上記曝気槽６の内部には、曝気効率を向上させるために、噴流式、プロペラ式等の攪拌装置が設置されている。
【００２２】上記排液出口部８には、第１の分岐バルブ９と、第１の開閉バルブ１０と、排液チューブ１１と、洗浄液供給管路１２とが設けられており、曝気処理後の排液を外部に排出する時には、第１の分岐バルブ９を排液チューブ１１に接続し、また、光触媒洗浄用溶液を下記光触媒反応部２２に供給する時には、第１の分岐バルブ９を洗浄液供給管路１２に接続し、第１の開閉バルブ１０を開放すれば良いように構成されている。
【００２３】また、上記圧縮空気入口部１３には、第２の開閉バルブ１４と、レギュレータ１５と、圧力計１６と、圧縮空気供給管路１７とが設けられており、これらを調節することにより、曝気槽６内の圧力を制御することができるようになっている。また、曝気時に用いられる圧縮空気の供給源としては、クリーニング業や洗浄業の工場等で一般的に配備されているものを用いることができ、圧縮空気供給管路１７は、上記供給源と簡単に着脱できるように構成されている。また、上記圧縮空気入口部１３には、曝気槽６内において、曝気効率を向上させるために、散気管が取り付けられている。
【００２４】また、上記気化ガス出口部１８には、第３の開閉バルブ１９が設けられており、これを開閉することにより、曝気処理後のガスを気化ガス供給管路２に排出できるようになっている。
【００２５】上記気化生成ガス供給管路２は、耐食性に優れたフッ素系樹脂やポリエチレン系、ナイロン系樹脂等の高分子物質で形成されており、光酸化分解処理部３に接続されている。図４に示すように、上記光酸化分解処理部３は、上記気化ガス供給管路２から供給された気化ガスが流通するガス流通管路２０内に、ガス中の有機物を光酸化分解させる光触媒顆粒体２１が充填された光触媒反応部２２と、光触媒顆粒体２１に紫外線光を照射する紫外線光源２３を有する人工光照射部２４とを備え、図５に示すように、上記光触媒反応部２２に対向するように人工光照射部２４が配置されたものである。
【００２６】図４に示すように、上記ガス流通管路２０は、入口部２０ｂと出口部２０ｃを有し、鉛直方向上下に走行する一つの経路を形成するように、２〜２０本程度の直管状の直線管路２０ａが、８〜３５ｍｍのピッチ間隔で同一鉛直面上に並列され、相隣接する直線管路２０ａの端部同士が接続部材２５によって接続され、流路２８ａを形成するように、光酸化分解処理部３全体の構造体を兼ねる接続部材本体部２８によって互いに固定されて構成されている。
【００２７】図２に示すように、上記入口部２０ｂには、第２の分岐バルブ２６が設けられており、気化ガスを光触媒反応部２２に注入する時には、第２の分岐バルブ２６を気化ガス供給管路２に接続し、光触媒洗浄用溶液を光触媒反応部２２に供給する時には、第２の分岐バルブ２６を洗浄液供給管路１２に接続すれば良いように構成されている。また、出口部２０ｃには、第４の開閉バルブ２７が設けられており、これを分解生成ガス供給管路４と接続することにより、光酸化分解処理後のガスを分解生成ガス供給管路４に排出できるようになっている。
【００２８】図４に示すように、上記直線管路２０ａの素材としては、紫外線光等の人工光や自然光が透過可能なものが用いられ、ホウケイ酸ガラス、合成樹脂等の透明材料が使用可能である。
【００２９】上記直線管路２０ａの内径は、５〜３０ｍｍ、より好ましくは８〜１６ｍｍ程度とされる。上記内径が、５ｍｍ未満であると、ガス流通管路２０内に充填される光触媒顆粒体２１の充填量が少なくなるため、光酸化分解処理効率が低下し、また、内径が小さいことによるガス流量の減少のために、処理量が低下する。また、３０ｍｍを超えると、紫外線光源２３から照射された光が直線管路２０ａの中心付近まで届き難くなり、光触媒顆粒体２１の受光効率が低下するため、光酸化分解処理効率が低下する。
【００３０】また、上記直線管路２０ａの長さは、２００ｍｍ〜８００ｍｍの範囲となるように構成され、紫外線光源２３の長さと等しくなるように設定されるのが好ましい。これにより、光触媒顆粒体２１に、紫外線光源２３からの紫外線光を、光触媒反応部２２の全長にわたって均一に照射することができ、光酸化分解処理効率を向上させることができる。
【００３１】また、上記直線管路２０ａの両端には、直線管路２０ａ内に、光触媒顆粒体２１を保持するための保持材３１が設けられている。この保持材３１としては、通気可能な形状を有し、耐食性に優れたフッ素系樹脂やエチレン系、ナイロン系樹脂などの高分子物質を素材とするものであって、直線管路２０ａの内径と略同一の径で、５〜３０ｍｍ程度の厚みのものが用いられる。
【００３２】上記光触媒顆粒体２１としては、塩素系有機ガスや塩素系ガス等を吸着する無機物粉体と、光触媒粒子とを、混合してなるものが用いられる。上記光触媒粒子としては、光、例えば、近紫外線の照射等により活性化され、これに接触する有機物の光酸化分解反応を促進することができるものが用いられ、具体的には、ＴｉＯ2、ＣｄＳ、ＳｒＴｉＯ3、Ｆｅ2Ｏ3等が挙げられる。これらの中でも、性能に優れ、安価なコストのＴｉＯ2が最も好適に用いられる。
【００３３】上記無機物粉体の具体例としては、例えば、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、石灰、カオリンクレー、ワラストナイト、タルク、ネフェリンシナイト、ゼオライト、活性炭等が挙げられ、これらの中から１種もしくは２種以上が混合して用いられる。
【００３４】上記光触媒顆粒体２１における光触媒粒子の含有量は、１０〜９５重量％、好ましくは３０〜７０重量％程度、さらに好ましくは４０〜６０重量％程度とされる。上記含有量が１０重量％未満であると、光酸化分解処理能力が低下し、塩素系有機ガスが未分解のまま排出される可能性があり、９５重量％を超えると、光触媒顆粒体２１の塩素系有機ガス吸着保持力が低下し、高濃度の塩素系有機ガスが短時間で投入された場合に、塩素系有機ガスが捕捉されずに、やはり未分解のまま排出される恐れがある。
【００３５】また、上記光触媒顆粒体２１は、粒状に圧縮成形したものが好適に用いられる。上記光触媒顆粒体２１の具体的な形状としては、球状、樽状、短棒状、楕円球状、タブレット状（略円柱状）等が挙げられる。また、光触媒顆粒体２１には、穴を形成しても良いし、表面突起を形成しても良い。
【００３６】上記光触媒顆粒体２１の粒径は、１〜２０ｍｍ、好ましくは２〜１０ｍｍ程度であり、その平均粒径は、４〜８ｍｍ程度、好ましくは５〜７ｍｍ程度であるのが望ましい。上記粒径が１ｍｍ未満であると、目詰まりを生じ易くなり、光触媒反応部２２におけるガス流通量が減少するため、光酸化分解処理効率が低下する傾向にあり、２０ｍｍを超えると光触媒顆粒体２１の比表面積（単位重量当たりの表面積）が小さくなり、また、紫外線光源２３から照射された光がガス流通管路２０の中心まで届き難くなり、光触媒顆粒体２１の受光効率が低下するため、光酸化分解処理効率が低下する傾向にある。
【００３７】上記接続部材２５は、直線管路２０ａの端部同士を連結する本体部２８と、本体部２８に取付可能な蓋部２９と、環状シール材であるＯリング３０とを備えている。上記本体部２８は、直線管路２０ａの端部が挿入される開口部が設けられた直方体状の部材であり、この開口部に挿入された直線管路２０ａ、２０ａの一方から他方に、本体部２８内に設けられた流路２８ａを介して通気できるように構成されている。ここで、上記流路２８ａの内壁面は、耐食性、耐薬品性に優れたフッ素系樹脂、ポリエチレン系樹脂等の高分子物質によってコーティングされている、あるいは、本体部２８そのものが、耐食性、耐薬品性に優れたハステロイ等の金属もしくはフッ素系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ＰＰＳ等の高分子物質によって形成されていることが望ましい。
【００３８】上記開口部の周縁には、開口端に向かって徐々に拡径するＯリング設置用テーパ部が形成されており、このテーパ部と直線管路２０ａとの間に、Ｏリング３０が設置されるようになっている。上記蓋部２９には、直線管路２０ａ、２０ａが挿通する挿通孔が設けられており、本体部２８の開口端に当接した状態で本体部２８に止め付けられている。上記Ｏリング３０は、テーパ部と直線管路２０ａの隙間において、本体部２８、蓋部２９、および直線管路２０ａ外面のいずれにも当接した状態で設置されている。Ｏリング３０は、本体部２８と蓋部２９とによって圧縮され、弾性変形した状態となっていることが好ましく、ゴムなどの弾性材料からなるものが用いられる。
【００３９】また、上記本体部２８は、直線管路２０ａが長手方向に移動可能となるように、上端側の開口部の開口径と挿通孔の開口径とが、直線管路２０ａの外径よりも大きくなるように構成されている。また、直線管路２０ａの交換を、蓋部２９を外すことなく容易に行うことができるように、直線管路２０ａを上端方向に移動させると、下端側が蓋部２９の上面から離れ、直線管路２０ａを傾斜できるように構成されており、直線管路２０ａの下端側が蓋部２９と本体部２８とに長さａだけ挿入され、かつ、直線管路２０ａの上端部と本体部２８内流路の最奥部とが距離ｂだけ離れているとすると、ｂ＞ａとなるように構成されている。また、直線管路２０ａが挿入される長さａが上端側と下端側とで均等となるように、下端側の本体部２８の直線管路２０ａの挿通孔には、直線管路２０ａが長さａ以上挿入されないように、直線管路２０ａの外径よりも小さい段部が設けられている。
【００４０】図３および図５に示すように、上記人工光照射部２４は、光触媒反応部２２の正面側および背面側に設けられており、光触媒反応部２２と対向するように面状に配列された複数本の直管状の紫外線光源２３と、紫外線光源を固定する矩形板状のホルダ２３ａとを備えたものである。上記紫外線光源２３は、光触媒反応部２２全体に均一に紫外線光を照射できるように鉛直方向に配置され、また、紫外線光源２３による発熱が光触媒反応部２２に影響を及ぼさないように、２〜４本の直線管路２０ａに対して、光触媒反応部２２の正面側と背面側にそれぞれ一本ずつ紫外線光源２３が配置されるように、水平方向に２〜１００ｃｍ程度のピッチ間隔で並列されている。このような紫外線光源２３としては、汎用のエキシマランプやブラックライトなどが用いられる。
【００４１】また、上記ホルダ２３ａには、放熱のための開口部３２が設けられている。上記開口部３２の形状は、円形や四角形など限定されないが、開口径が１０〜２０ｍｍ程度であり、ホルダ２３ａの全表面積に対して開口部３２の全表面積が占める割合（開口率）が１０〜４０％程度であるものが好ましい。
【００４２】上記光触媒反応部２２と人工光照射部２４とを取り囲むように、反射板３３が設けられている。この反射板３３は、紫外線光源２３が点灯した時に、紫外線光源２３から反射板３３に照射された光を高い効率で反射し、光触媒顆粒体２１に照射することができるように、かつ、光が外部に漏れないように構成されており、図５に示すように水平面での断面形状が６角形となるように設置されていることが好ましい。上記反射板３３としては、アルミニウム、ステンレス、銅などを素材とし、表面が滑らかで、かつ、放熱性に優れたものが用いられる。また、紫外線光源２３の点灯装置３４は、紫外線光源２３による発熱の影響を受けないように、光触媒反応部２２の左右両側部に、鉛直方向に整列して設けられている。
【００４３】図２に示すように、上記分解生成ガス供給管路４は、後処理部５に接続されている。上記後処理部５は、処理槽３５に、分解生成ガス入口部３６と、排ガス及び排水出口部３７とが設けられたものである。また、上記分解生成ガス供給管路４、処理槽３５、分解生成ガス入口部３６は、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ナイロン系樹脂などの耐食性、耐薬品性に優れた高分子物質によって形成されていることが望ましい。
【００４４】上記処理槽３５は、底面積が１００〜３００ｃｍ2程度、高さが１００〜５００ｃｍ程度、容量が１０〜３０ｌ程度である略四角柱状の容器であり、耐食性に優れたポリエチレン系樹脂、フッ素系樹脂等を素材とする、またはこれらを内壁面に被覆した容器等が用いられる。上記処理槽３５には、分解生成ガス入口部３６より供給される分解生成ガスを、吸収、吸着、中和するための処理剤が注入されている。上記処理剤としては、例えば、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水などの中から選択される１種、または２種以上を含むアルカリ性イオン水などが用いられる。これらの処理剤の形態は、液相に限らず、粉体状の流動床であっても良く、また、それらの複合形であっても構わない。また、上記後処理効率を高めるために、分解生成ガス入口部３６の処理槽３５内部側には、図示略の散気管が設けられていることが好ましい。
【００４５】上記廃液処理装置の構成要素である気化処理部１、光酸化分解処理部３、および後処理部５は、いずれか一つが不良状態に陥った場合に、不良状態に陥った構成要素のみを良好状態であるものに取り替えることができるように、着脱可能に構成されており、縦２０〜５０ｃｍ程度、横２０〜５０ｃｍ程度で、底部に４つのキャスターが設けられているベース部３９に集約して収納されている。
【００４６】このような構造の廃液処理装置にあっては、気化処理部１によって廃液中より気化された塩素系有機ガスを含む気化ガスを、光酸化分解処理部３によって光酸化分解し、これによって生じた塩素系ガスを含む分解生成ガスを後処理部５によって無害な塩類に変換することができるように構成されているため、処理後の排液、排ガス中に含まれる塩素系有機物、および２次副産物である塩素系ガスの排出量を、排出基準内に抑制することができ、環境汚染の抑制に貢献し得るものである。また、ドライクリーニング等からの廃液中に含まれる塩素系有機物を、気化処理部１において気化させてから、光酸化分解処理部３において光酸化分解させるように構成されているため、廃液をそのまま光酸化分解させる場合よりも、光酸化分解処理効率を向上させることができ、処理に要する時間やコストを削減できるものである。
【００４７】また、光酸化分解処理部３における直線管路２０ａとして、内径が５〜３０ｍｍ、長さが２００〜８００ｍｍのものを用いることによって、紫外線光源２３からの紫外線光を光触媒反応部２２の全長にわたって均一に中心付近まで照射させ、かつ、ガス流通管路２０内に光触媒顆粒体２１を十分に充填させることができるため、光酸化分解処理効率に優れたものである。また、光触媒顆粒体２１として、粒径が１〜２０ｍｍのものを用い、光触媒顆粒体２１の比表面積を大きくすることによって、光触媒顆粒体２１と気化ガスとの接触効率を高め、かつ、光触媒顆粒体２１の受光効率を高めることができるため、光酸化分解処理効率に優れたものである。また、光触媒顆粒体２１として、塩素系有機ガスや塩素系ガス等を吸着する無機物粉体と光触媒粒子との混合物を用いることによって、塩素系有機ガス等が光触媒顆粒体に吸着保持された状態で光酸化分解されることになるため、光酸化分解処理効率に優れ、未分解の塩素系有機物が光酸化分解処理部３の外部に排出されることがないものである。
【００４８】また、気化ガスおよび／または分解生成ガスが流通する経路の内壁面が、耐食性、耐薬品性に優れたフッ素系樹脂やポリエチレン系樹脂などの高分子物質でコーティングもしくは経路がこれらの物質で形成されているため、塩素系ガス等によって腐食され難いものである。また、曝気時における曝気槽６内の圧力を、＋０．１〜＋５．０ｋｇ／ｃｍ2に調整できるように構成されているため、廃液中に発生する曝気泡径を微小化することができ、廃液と空気との接触面積、時間を増加させることができ、曝気効率を向上させ、処理に要する時間を短縮することができるものである。また、曝気槽６内の圧力によって、気化ガスを気化ガス供給管路２へ排出することができ、エネルギーを有効に利用することができるものである。また、曝気時に用いられる圧縮空気の供給源としては、クリーニング業や洗浄業の工場等で一般的に配備されているものを用いることができるため、新技術導入に際してのコストを低減させることができるものである。
【００４９】また、曝気槽６の内壁がフッ素系樹脂やポリエチレン系樹脂などの高分子物質で被覆されているので、塩素系有機物が内壁に付着することを防ぐことができ、塩素系有機物と気泡との接触効率を向上させることができ、優れた曝気効率を発揮し得るものである。また、曝気槽６の内部に攪拌装置を具備しているので、塩素系有機物が底部や内壁面に滞留することを防ぐことができ、塩素系有機物と気泡との接触効率を高め、優れた曝気効率を発揮し得るものである。また、曝気槽６内部側の圧縮空気入口部１３には散気管が設けられているので、廃液中に生じる曝気泡径を微小化することができ、廃液と気泡との接触面積、時間を増加させることができ、優れた曝気効率を発揮し得るものである。
【００５０】また、曝気槽６として、鉛直方向に長い構造の容器を用いているため、廃液と空気との接触面積、時間を増加させることができ、曝気効率を向上させ、処理に要する時間を短縮することができるものである。また、直線管路２０ａおよび紫外線光源２３を鉛直方向に配置しているため、光酸化分解処理部３が鉛直方向に長い構造となっており、装置の設置面積を小さくすることができるものである。
【００５１】また、光触媒顆粒体２１を洗浄するための中性もしくはアルカリ性水溶液を、光触媒反応部２２に送入し、光触媒顆粒体２１に吸着、蓄積した塩素系ガスなどの分解生成物を容易に洗浄排除することができるように構成されているため、光触媒顆粒体２１の光酸化分解処理能率を良好に維持し続けることができ、未分解の塩素系有機物が光酸化分解処理部３の外部に排出される危険性を抑制することができるものである。
【００５２】次に、上記廃液処理装置を用いた廃液処理方法の一例について説明する。まず、廃液１０〜２０ｌ程度を、まず、第１、第２、第３の開閉バルブ１０、１４、１９を各々閉じた状態で、廃液入口部７より曝気槽６内に注入する。ここで、上記廃液の具体例としては、ドライクリーニングや金属部品洗浄等の洗浄装置等により排出される塩素系有機物を含有する産業廃水等が挙げられる。
【００５３】次いで、圧力計１６を確認しながらレギュレータ１５を使って、０．１〜５ｋｇ／ｃｍ2程度に調整された圧縮空気を、図示略の供給源から圧縮空気入口部１３に設けられらた圧縮空気供給管路１７へ供給し、第２の開閉バルブ１４と第３の開閉バルブ１９を開くことによって、曝気処理を開始し、５〜５０ｌ／分程度の曝気量で曝気処理を行う。この時、上記圧縮空気供給管路１７から供給される圧縮空気の圧力を調整することによって、曝気槽６の内部を、大気圧に対して＋０．１〜＋５．０ｋｇ／ｃｍ2、より好ましくは＋０．５〜＋３．０ｋｇ／ｃｍ2程度の加圧状態に維持することができる。これによって、廃液中に発生する曝気泡径を、微小化することができ、同じ空気容量で比較した時の気液の接触面積と接触時間を増加させることができ、曝気効率を高めることができる。
【００５４】また、上記曝気槽６の内圧により、曝気処理された塩素系有機ガス等の気化ガスは、気化ガス出口部１８から気化ガス供給管路２に排出され、第２の分岐バルブ２６を気化ガス供給管路２と開通させることにより、気化ガス供給管路２から入口部２０ｂへ送入され、光酸化分解処理部３の光触媒反応部２２へと導入される。
【００５５】上記光触媒反応部２２に供給された塩素系有機ガス等の気化ガスは、光触媒反応部２２中を流れる過程で、光触媒顆粒体２１と接触し、光触媒顆粒体２１に含有される無機物粉体に捕捉される。この時、光触媒顆粒体２１に、紫外線光源２３から紫外線光を照射することにより、光触媒顆粒体２１に含有される光触媒粒子が活性化され、その触媒作用により、上記無機物粉体に捕捉された塩素系有機物等を光酸化分解させることができる。
【００５６】このようにして塩素系有機物等が酸化分解されて生じる塩素系ガス等の分解生成ガスは、第４の開閉バルブ２７を分解生成ガス供給管路４と接続させることによって、出口部２０ｃから光酸化分解処理部３の外部へ排出され、分解生成ガス供給管路４を通って、後処理部５の分解生成ガス入口部３６から処理槽３５へと注入される。上記処理槽３５に供給された分解生成ガス中に含まれる塩素系ガス等は、処理槽３５内に予め注入されている処理剤中のアルカリイオンによって中和され、無害な塩類へ変換されるか、液中に吸収除去される。このようにして得られた無害化処理ガス、処理水は、排ガス及び排水出口部３７を介して外部に排出される。
【００５７】所要時間経過後、上記第２、第３の開閉バルブ１４、１９を閉じ、次いで、排液出口部８の第１の分岐バルブ９を、排液チューブ１１に接続し、さらに第１の開閉バルブ１０を開放し、曝気槽６内残圧を利用して、曝気後の排液を排液チューブ１１を介して、外部へ排出させる。
【００５８】また、上記廃液の代わりに、光触媒顆粒体２１を洗浄するための中性またはアルカリ性水溶液を、上記と同様の手順で曝気槽６内に注入し、圧縮空気を曝気槽６内に送入して、曝気槽６内を加圧後、排液出口部８における第１の分岐バルブ９を洗浄液供給管路１２と接続し、この洗浄液供給管路１２と第２の分岐バルブ２６とを接続し、第１の開閉バルブ１０を開放することにより、曝気槽６の内圧によって排出された洗浄用の中性またはアルカリ性水溶液を、光触媒反応部２２に供給することができ、光触媒顆粒体２１に蓄積された分解生成物を洗浄、排除することができる。
【００５９】このような廃液処理方法にあっては、気化処理部１において廃液中より気化された塩素系有機ガスを含む気化ガスを、光酸化分解処理部３において光酸化分解し、これによって生じた塩素系ガスを含む分解生成ガスを、後処理部５において無害な塩類に変換するものであるため、処理後の排液、排ガス中に含まれる塩素系有機物、および２次副産物である塩素系ガスの排出量を、排出基準内に抑制することができ、環境汚染の抑制に貢献し得る廃液処理方法である。また、廃液中に含まれている塩素系有機物を、気化処理部１において気化させてから、光酸化分解処理部３において光酸化分解させるので、廃液をそのまま光酸化分解させる場合よりも、光酸化分解処理効率を向上させることができ、処理に要する時間やコストを削減することができる。
【００６０】また、曝気槽６内の圧力を、＋０．１〜＋５．０ｋｇ／ｃｍ2に調整した状態で曝気を行うため、廃液中に発生する曝気泡径を微小化することができ、気液の接触面積、時間を増加させることができ、曝気効率を向上させ、処理に要する時間を短縮することができる。また、曝気槽６内の圧力によって、気化ガスを気化ガス供給管路２へ排出することができ、エネルギーを有効に利用することができ、処理に要する時間やコストを削減できる。
【００６１】また、中性もしくはアルカリ性水溶液を、光触媒反応部２２に送入し、光触媒顆粒体２１に吸着、蓄積した分解生成物を、洗浄排除する工程を設けているため、光触媒顆粒体２１の光酸化分解処理能率を良好に維持し続けることができ、処理に要する時間やコストを削減することができる。
【００６２】本発明の洗浄装置は、現在汎用されているドライクリーニング装置等の洗浄機能を有する洗浄装置と本発明の廃液処理装置とを組み合わせたものである。
【００６３】
【実施例】以下、実験例を示して本発明を、より具体的に説明する。かかる具体例は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲で任意に変更が可能である。
（実験例）本実験例では、図２〜図５に示す廃液処理装置を用いた。この廃液処理装置では、直線管路２０ａとして、内径１０ｍｍ、外径１２ｍｍ、長さ６９０ｍｍのものを１２本用い、これらを水平方向に２０ｍｍの間隔で面状に並列し、相隣接する直線管路２０ａの端部同士を接続して、鉛直方向上下に走行するガス流通管路２０を構成した。
【００６４】直線管路２０ａに充填させる光触媒顆粒体２１中に含まれる光触媒粒子としてはＴｉＯ2を用い、無機物粉体としてはタルクを用い、光触媒顆粒体２１中におけるＴｉＯ2の含有量が６６重量％となるようにこれらを配合し、直径５ｍｍ、最大高さ３ｍｍのタブレット状に圧縮成形したものを、光触媒顆粒体２１として用いた。紫外線光源２３としては、外径３２ｍｍ、長さ６９０ｍｍの３０Ｗブラックライトを８本用い、光触媒反応部２２の正面側と背面側とに４本づつ配置し、これらを均一な間隔で面状に並列させ、正面側と背面側の両面から紫外線光を、光触媒反応部２２全長にわたって均一に照射した。処理槽３５に注入する処理剤としては、３％カ性ソーダ溶液を用いた。ベース部３９としては、横幅４５０ｍｍ、縦幅４００ｍｍの大きさで、底部に４つのキャスターが取り付けられているものを用いた。
【００６５】曝気槽６内に、塩素系有機物濃度が１５０ｍｇ／ｌである廃液を１５ｌ注入し、曝気量１０ｌ／分、曝気槽６内圧２ｋｇ／ｃｍ2となるように調整しながら、９０分間曝気処理を行い、曝気槽６内圧を利用して気化ガスを光触媒反応部２２に導入し、光酸化分解処理によって生じた分解生成ガスを処理槽３５に導入した。上記処理中における、気化ガス出口部１８から排出される気化ガス中に含まれる塩素系有機ガス濃度、出口部２０ｃから排出される分解生成ガス中に含まれる塩素系有機ガス濃度および塩素系ガス濃度、並びに排ガス出口部３７から排出されるガス中に含まれる塩素系ガス濃度について、公知のガス検知管吸引方式に従って測定を行った。また、９０分間の曝気処理を施行した後の廃液中に含まれる塩素系有機物濃度についても、同様に測定を行った。
【００６６】結果、気化ガス出口部１８から排出された気化ガス中に含まれていた塩素系有機ガスの最大濃度は、６０００ｐｐｍと高いものであった。これに対して、出口部２０ｃから排出された分解生成ガス中に含まれていた塩素系有機ガス濃度は、検出限界以下であった。また、出口部２０ｃから排出された分解生成ガス中に含まれていた塩素系ガスの最大濃度は、４０ｐｐｍと高いものであった。これに対して、排ガス出口部３７から排出されたガス中に含まれていた塩素系ガス濃度は、検出限界以下であった。また、９０分間曝気処理後の廃液中に含まれていた塩素系有機物濃度は、０．０５ｍｇ／ｌであり、排出基準値（０．１ｍｇ／ｌ）以下であった。
【００６７】（参考例）上記実験例で用いた光触媒顆粒体２１が有する塩素系有機物に対する吸着性と、市販品のネット上に担持されたＴｉＯ2が有する塩素系有機物に対する吸着性との比較検討を行った。５０ｇの光触媒顆粒体２１または市販品のネット上に担持されたＴｉＯ2が設置されたデシケーター内に、５０μｌのトリクロロエチレンを注入後、これを密閉遮光した状態で１０分、２０分、３０分経過させた時のデシケーター内のトリクロロエチレン濃度を、ガス検知管吸引方式によって測定した。結果を表１に示す。表１に示す結果より、上記実験例で用いた光触媒顆粒体２１は、塩素系有機物に対する優れた吸着性を有するものであることが示された。
【００６８】
【表１】
【００６９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の廃液処理装置にあっては、光酸化処理効率や曝気処理効率に優れたものであるので、廃液処理に要する時間やコストを削減することができ、かつ、排液、排ガス中に含まれる塩素系有機物、および２次副産物である塩素系ガスの排出量を、排出基準値内に抑制することができ、環境汚染の抑制に貢献し得るものである。また、気化処理部として、従来技術で用いられている装置を活用することができるため、新技術を導入するに際して負荷されるコストを低減することができるものである。
【００７０】また、強力な金属腐食性を有する塩素系ガスと接触する部位が、耐食性に優れた素材となるように構成されたものであり、また、光触媒顆粒体２１を洗浄することができるように構成されたものであるため、長期にわたって使用することができ、メンテナンスに要するコストを削減することができるものである。また、鉛直方向に細長い構造となっているので、水平面での空面積が小さい場所にも設置可能なものであり、また底部にキャスターが設けられているので、持ち運びが容易なものである。また、塩素系有機物を含む廃液を排出する各種洗浄装置と、容易に接続することができるものである。
【００７１】また、本発明の廃液処理方法にあっては、処理に要するコストや時間を削減することができ、排液、排ガス中に含まれる塩素系有機物、および２次副産物である塩素系ガスの排出量を、容易に排出基準値内に抑制することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の廃液処理装置の一例を模式的に示す説明図である。
【図２】 本発明の廃液処理装置の一例を示す概略斜視図である。
【図３】 図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とした概略側面図である。
【図４】 図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とし、該透視図の一部を断面図とした概略背面図である。
【図５】 図２に示す廃液処理装置の一部を透視図とした概略平面図である。
【符号の説明】
１…気化処理部、２…気化ガス供給管路、３…光酸化分解処理部、４…分解生成ガス供給管路、５…後処理部、６…曝気槽、７…廃液入口部、８…排液出口部、９…第１の分岐バルブ、１２…洗浄液供給管路、１３…圧縮空気入口部、１４…第２の開閉バルブ、１５…レギュレータ、１６…圧力計、１７…圧縮空気供給管路、１８…気化ガス出口部、２０…ガス流通管路、２０ａ…直線管路、２１…光触媒顆粒体、２２…光触媒反応部、２３…紫外線光源、２４…人工光照射部、３５…処理槽
【特許請求の範囲】
【請求項１】 廃液中の塩素系有機溶剤を気化する気化処理過程と、前記廃液中より気化された気化ガスを、光触媒顆粒体がガス流通管路に充填されてなる光触媒反応部に送入し、該光触媒反応部に紫外線光源から光を照射し、気化ガスを光酸化分解する光酸化分解処理過程と、前記光酸化分解によって生成された分解生成ガスを、吸収、吸着、中和する後処理過程からなることを特徴とする廃液処理方法。
【請求項２】 前記気化処理過程が、曝気方式または加熱蒸発方式であることを特徴とする請求項１に記載の廃液処理方法。
【請求項３】 前記曝気方式は、曝気槽に廃液を注入後、大気圧に対して＋０．１ｋｇ／ｃｍ2〜＋５ｋｇ／ｃｍ2に曝気槽内を加圧し、曝気した気化ガスを、曝気槽内の圧力を利用して光触媒反応部に送入する方式であることを特徴とする請求項２に記載の廃液処理方法。
【請求項４】 前記後処理過程は、分解生成ガスを、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水等の中から選択される少なくとも１種を含んだ液状もしくは粉末状の処理剤中に注入し、これを吸収、吸着、中和する過程であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の廃液処理方法。
【請求項５】 光触媒顆粒体を洗浄するための中性もしくはアルカリ性水溶液を前記光触媒反応部に流通させて、光触媒顆粒体に蓄積された分解生成物を除去する光触媒洗浄過程を具備することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の廃液処理方法。
【請求項６】 廃液中の塩素系有機溶剤を気化する気化処理部と、前記気化処理部によって気化された気化ガスを光酸化分解する光酸化分解処理部と、前記光酸化分解処理部によって生成された分解生成ガスを吸収、吸着、中和する後処理部を具備することを特徴とする廃液処理装置。
【請求項７】 前記光酸化分解処理部は、気化ガスが流通するガス流通管路内に、光によって活性化され、ガス中の有機物を酸化分解させる光触媒顆粒体が充填されてなる光触媒反応部と、光触媒顆粒体に紫外線光を照射するための紫外線光源を有する人工光照射部を備えたものであって、前記光触媒顆粒体が、最小粒径が１ｍｍ以上および最大粒径が２０ｍｍ以下に成形されたものであり、前記ガス流通管路が、内径５〜３０ｍｍ、長さ２００〜８００ｍｍの直線管路複数本が、全体として一つの流路を形成するように相隣接する直線管路の端部同士が接続されたものであることを特徴とする請求項６に記載の廃液処理装置。
【請求項８】 前記光触媒顆粒体は、塩素系有機ガスおよび塩素系ガスを吸着する無機物粉体と光触媒粒子の混合物であり、光触媒顆粒体中における光触媒粒子の含有量が１０〜９５重量％であることを特徴とする請求項７に記載の廃液処理装置。
【請求項９】 前記光触媒粒子は二酸化チタン微粒子であり、前記無機物粉体は、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、石灰、カオリンクレー、ワラストナイト、タルク、ネフェリンシナイト、ゼオライト、活性炭の中から選択される１種または２種以上であることを特徴とする請求項８に記載の廃液処理装置。
【請求項１０】 前記直線管路および紫外線光源が鉛直方向に設置されていることを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１１】 前記後処理部は、処理槽内部に、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水等の中から選択される少なくとも１種を含んだ液状もしくは粉末状の吸収、吸着、中和処理剤を備えたものであることを特徴とする請求項６〜１０のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１２】 前記光酸化分解処理部および後処理部において、前記気化ガスおよび／または分解生成ガスの流路となる部位の一部もしくは全部の内壁面が、高分子物質を素材としたもので構成されていることを特徴とする請求項６〜１１のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１３】 前記気化処理部として、廃液中の塩素系有機溶剤を曝気させる曝気処理部、もしくは廃液中の塩素系有機溶剤を加熱蒸発させる加熱蒸発処理部を用いたものであることを特徴とする請求項６〜１２のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１４】 前記曝気処理部は、曝気槽に、廃液を注入するための廃液入口部と、曝気処理後の排液を排出するための排液出口部と、圧縮空気を送入するための圧縮空気入口部と、気化ガスを光酸化分解処理部に排出するための気化ガス出口部を具備するものであって、前記圧縮空気入口部には、開閉バルブと、レギュレータと、圧力計と、圧縮空気供給口が設けられ、曝気槽の内圧を、大気圧に対して＋０．１ｋｇ／ｃｍ2〜＋５ｋｇ／ｃｍ2に調整することができるように構成されており、曝気槽内の圧力を利用して、気化ガスを気化ガス出口部から前記光触媒反応部へ排出できるように構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の廃液処理装置。
【請求項１５】 前記曝気槽は、槽内壁をフッ素系樹脂またはポリエチレン系樹脂によりコーティングされているものであることを特徴とする請求項１４に記載の廃液処理装置。
【請求項１６】 前記曝気槽は、内部に廃液攪拌装置を具備していることを特徴とする請求項１４または１５に記載の廃液処理装置。
【請求項１７】 前記曝気槽は、圧縮空気を曝気槽内部に送入するための圧縮空気入口部に散気管を具備していることを特徴とする請求項１４〜１６のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１８】 前記排液出口部には、光酸化分解処理部に接続している洗浄液供給管路が、分岐バルブを介して連結されており、光酸化分解処理部に、あらかじめ曝気槽に注入された洗浄用の中性もしくはアルカリ性水溶液を送入、流通させることができるように構成されていることを特徴とする請求項１４〜１７のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１９】 請求項６〜１８のいずれかに記載の廃液処理装置を具備することを特徴とする洗浄装置。
【請求項１】 廃液中の塩素系有機溶剤を気化する気化処理過程と、前記廃液中より気化された気化ガスを、光触媒顆粒体がガス流通管路に充填されてなる光触媒反応部に送入し、該光触媒反応部に紫外線光源から光を照射し、気化ガスを光酸化分解する光酸化分解処理過程と、前記光酸化分解によって生成された分解生成ガスを、吸収、吸着、中和する後処理過程からなることを特徴とする廃液処理方法。
【請求項２】 前記気化処理過程が、曝気方式または加熱蒸発方式であることを特徴とする請求項１に記載の廃液処理方法。
【請求項３】 前記曝気方式は、曝気槽に廃液を注入後、大気圧に対して＋０．１ｋｇ／ｃｍ2〜＋５ｋｇ／ｃｍ2に曝気槽内を加圧し、曝気した気化ガスを、曝気槽内の圧力を利用して光触媒反応部に送入する方式であることを特徴とする請求項２に記載の廃液処理方法。
【請求項４】 前記後処理過程は、分解生成ガスを、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水等の中から選択される少なくとも１種を含んだ液状もしくは粉末状の処理剤中に注入し、これを吸収、吸着、中和する過程であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の廃液処理方法。
【請求項５】 光触媒顆粒体を洗浄するための中性もしくはアルカリ性水溶液を前記光触媒反応部に流通させて、光触媒顆粒体に蓄積された分解生成物を除去する光触媒洗浄過程を具備することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の廃液処理方法。
【請求項６】 廃液中の塩素系有機溶剤を気化する気化処理部と、前記気化処理部によって気化された気化ガスを光酸化分解する光酸化分解処理部と、前記光酸化分解処理部によって生成された分解生成ガスを吸収、吸着、中和する後処理部を具備することを特徴とする廃液処理装置。
【請求項７】 前記光酸化分解処理部は、気化ガスが流通するガス流通管路内に、光によって活性化され、ガス中の有機物を酸化分解させる光触媒顆粒体が充填されてなる光触媒反応部と、光触媒顆粒体に紫外線光を照射するための紫外線光源を有する人工光照射部を備えたものであって、前記光触媒顆粒体が、最小粒径が１ｍｍ以上および最大粒径が２０ｍｍ以下に成形されたものであり、前記ガス流通管路が、内径５〜３０ｍｍ、長さ２００〜８００ｍｍの直線管路複数本が、全体として一つの流路を形成するように相隣接する直線管路の端部同士が接続されたものであることを特徴とする請求項６に記載の廃液処理装置。
【請求項８】 前記光触媒顆粒体は、塩素系有機ガスおよび塩素系ガスを吸着する無機物粉体と光触媒粒子の混合物であり、光触媒顆粒体中における光触媒粒子の含有量が１０〜９５重量％であることを特徴とする請求項７に記載の廃液処理装置。
【請求項９】 前記光触媒粒子は二酸化チタン微粒子であり、前記無機物粉体は、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、石灰、カオリンクレー、ワラストナイト、タルク、ネフェリンシナイト、ゼオライト、活性炭の中から選択される１種または２種以上であることを特徴とする請求項８に記載の廃液処理装置。
【請求項１０】 前記直線管路および紫外線光源が鉛直方向に設置されていることを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１１】 前記後処理部は、処理槽内部に、亜硫酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、炭酸カルシウム、石灰、アンモニア、苛性ソーダ、アルカリイオン水、水等の中から選択される少なくとも１種を含んだ液状もしくは粉末状の吸収、吸着、中和処理剤を備えたものであることを特徴とする請求項６〜１０のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１２】 前記光酸化分解処理部および後処理部において、前記気化ガスおよび／または分解生成ガスの流路となる部位の一部もしくは全部の内壁面が、高分子物質を素材としたもので構成されていることを特徴とする請求項６〜１１のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１３】 前記気化処理部として、廃液中の塩素系有機溶剤を曝気させる曝気処理部、もしくは廃液中の塩素系有機溶剤を加熱蒸発させる加熱蒸発処理部を用いたものであることを特徴とする請求項６〜１２のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１４】 前記曝気処理部は、曝気槽に、廃液を注入するための廃液入口部と、曝気処理後の排液を排出するための排液出口部と、圧縮空気を送入するための圧縮空気入口部と、気化ガスを光酸化分解処理部に排出するための気化ガス出口部を具備するものであって、前記圧縮空気入口部には、開閉バルブと、レギュレータと、圧力計と、圧縮空気供給口が設けられ、曝気槽の内圧を、大気圧に対して＋０．１ｋｇ／ｃｍ2〜＋５ｋｇ／ｃｍ2に調整することができるように構成されており、曝気槽内の圧力を利用して、気化ガスを気化ガス出口部から前記光触媒反応部へ排出できるように構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の廃液処理装置。
【請求項１５】 前記曝気槽は、槽内壁をフッ素系樹脂またはポリエチレン系樹脂によりコーティングされているものであることを特徴とする請求項１４に記載の廃液処理装置。
【請求項１６】 前記曝気槽は、内部に廃液攪拌装置を具備していることを特徴とする請求項１４または１５に記載の廃液処理装置。
【請求項１７】 前記曝気槽は、圧縮空気を曝気槽内部に送入するための圧縮空気入口部に散気管を具備していることを特徴とする請求項１４〜１６のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１８】 前記排液出口部には、光酸化分解処理部に接続している洗浄液供給管路が、分岐バルブを介して連結されており、光酸化分解処理部に、あらかじめ曝気槽に注入された洗浄用の中性もしくはアルカリ性水溶液を送入、流通させることができるように構成されていることを特徴とする請求項１４〜１７のいずれかに記載の廃液処理装置。
【請求項１９】 請求項６〜１８のいずれかに記載の廃液処理装置を具備することを特徴とする洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図５】
【図４】
【図２】
【図３】
【図５】
【図４】
【公開番号】特開２００１−３４７２５８（Ｐ２００１−３４７２５８Ａ）
【公開日】平成１３年１２月１８日（２００１．１２．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０００−３０５３１６（Ｐ２０００−３０５３１６）
【出願日】平成１２年１０月４日（２０００．１０．４）
【出願人】（０００００４０７５）ヤマハ株式会社 (5,930)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１３年１２月１８日（２００１．１２．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１２年１０月４日（２０００．１０．４）
【出願人】（０００００４０７５）ヤマハ株式会社 (5,930)
【Ｆターム（参考）】
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