成形金型、成形金型の再生方法、及び樹脂製品の製造方法
【課題】樹脂成形用の成形金型において、成形金型を再生して繰り返し成形できるようにすること。
【解決手段】離型膜２５と共有結合する中間膜２４と、金型母材を構成する転写面加工層２２や本体部分２１との間に、エッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜２３を設けるので、離型膜２５を中間膜２４とともにエッチング液によって除去する際に、転写面加工層２２等をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜２５の付着性を下地の中間膜２４によって高めたタイプの成形金型４０においても、中間膜２４と離型膜２５とを一旦除去して再度形成する成形金型の再生が可能になる。ここで、保護膜２３が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下と、比較的薄いので、転写面加工層２２等における母材転写面２２ａの形状が保たれ転写精度を高めることができる。
【解決手段】離型膜２５と共有結合する中間膜２４と、金型母材を構成する転写面加工層２２や本体部分２１との間に、エッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜２３を設けるので、離型膜２５を中間膜２４とともにエッチング液によって除去する際に、転写面加工層２２等をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜２５の付着性を下地の中間膜２４によって高めたタイプの成形金型４０においても、中間膜２４と離型膜２５とを一旦除去して再度形成する成形金型の再生が可能になる。ここで、保護膜２３が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下と、比較的薄いので、転写面加工層２２等における母材転写面２２ａの形状が保たれ転写精度を高めることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂成形用の成形金型、その再生方法、及びこれを用いた樹脂製品の製造方法に関し、特に、樹脂製の光学素子を射出成形等するための成形金型等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の樹脂成形用の金型として、金型母材と離型膜の両方と強く結合する膜を金型母材と離型膜の間に挿入することで、離型膜を金型に強固に結合させ、離型膜の剥離を防いでいるものがある（特許文献１参照）。具体的には、金型母材の上に剥離防止用の二酸化ケイ素膜を被覆し、その上にフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤からなる離型膜を被覆している。
【０００３】
なお、ガラス成形用の金型に関するものであるが、金型母材と離型膜との間に耐エッチング層を挿入することで、離型膜が剥離した金型を低コストに再生する方法がある（特許文献２参照）。具体的には、金型母材の上に耐エッチング層である窒化クロム膜等を形成し、その上にエッチング液に溶ける窒化チタン層を形成し、その上にチタン、アルミニウム等の複窒化物からなる離型膜を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１８４１１７号公報
【特許文献２】特開２００６−１１１４９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の金型では、二酸化ケイ素膜を離型膜の下地にすることで樹脂成形を多量に行うことができ離型膜の塗布回数を減らすことができる。しかしながら、さらに多量に樹脂成形を繰り返すと、下地の二酸化ケイ素膜が部分的に剥離することがある。特に、樹脂の接着力が強く二酸化ケイ素膜に強い応力がかかる場合等において、二酸化ケイ素膜の耐久性が低くなる傾向がある。
【０００６】
なお、特許文献２の金型は、離型膜が剥離しても再生できるが、例えば複窒化物膜は樹脂との相性が悪く十分な離型性が得られないので、樹脂成形用の成形金型として用いることができない。
【０００７】
そこで、本発明は、樹脂成形用の成形金型において、成形金型を再生して繰り返し成形できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明に係る成形金型は、樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、金型母材の母材転写面上に当該母材転写面を被覆するように形成されエッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜と、保護膜上に形成される中間膜と、中間膜上に形成され中間膜と共有結合する離型膜とを有する。
【０００９】
上記成形金型では、離型膜と共有結合する中間膜と、転写面の土台となる金型母材との間に、エッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜を設けるので、離型膜を中間膜とともにエッチング液によって除去する際に、金型母材をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜の付着性を下地の中間膜によって高めたタイプの成形金型においても、中間膜と離型膜とを一旦除去して再度形成する成形金型の再生が可能になる。ここで、保護膜が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下と、比較的薄いので、金型母材における母材転写面の形状が保たれ転写精度を高めることができる。なお、保護膜の膜厚は、金型母材を確実に保護する観点からは、中間膜の膜厚よりも大きくすることが望ましい。
【００１０】
また、本発明の具体的な態様又は側面では、上記成形金型において、母材転写面は、微細形状を有する光学面に対応する微細形状を有する。この場合、離型時の応力によって中間膜の剥離が生じやすくなるといえるが、成形金型の再生によって同一金型母材を利用した成形回数を飛躍的に増やすことができる。
【００１１】
本発明の別の側面では、母材転写面に形成される微細形状が、ナノメータオーダーのサイズを有する。
【００１２】
本発明のさらに別の側面では、金型母材の表面が、無電解ニッケルメッキによって形成されたメッキ層で形成されている。この場合、金型母材の表面に所望の形状を有する高精度の母材転写面を形成することができる。
【００１３】
本発明のさらに別の側面では、離型膜が、フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤で形成されている。この場合、樹脂成形品が転写面に残ることを効果的に防止して、樹脂成形品の歩留まりを高め、成形金型の耐久性を高めることができる。
【００１４】
本発明のさらに別の側面では、中間膜が、二酸化珪素、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、及び酸化亜鉛のうち少なくとも１つで形成されている。この場合、シランカップリング剤等である離型膜との結合性を高め、シランカップリング剤等である離型膜の付着力を高めることができる。
【００１５】
本発明のさらに別の側面では、中間膜が、気相法によって成膜される。この場合、一般に膜厚を精度よく制御することができるので、中間膜のエッチングを適正なものとでき、保護膜までダメージを与える過剰なエッチングの可能性を低減できる。
【００１６】
本発明のさらに別の側面では、中間膜が、液相法によって成膜される。この場合、一般に膜のつきまわりを良くして保護膜上の全面に均一な膜を被覆することできるので、微細形状を有する転写面の成形に適する成形金型を提供することができる。
【００１７】
本発明のさらに別の側面では、保護膜が、アルミナ、炭化珪素、クロム、及び酸化クロムのうち少なくとも１つで形成される。この場合、二酸化珪素、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化亜鉛等である中間膜に比較して保護膜に対するエッチング選択性を持たせることができ、エッチングに際して保護膜を確実に残すことができる。
【００１８】
本発明に係る成形金型の再生方法は、樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、金型母材の母材転写面上に当該母材転写面を被覆するように形成される保護膜と、保護膜上に形成される中間膜と、中間膜上に形成され中間膜と共有結合する離型膜とを有する成形金型の再生方法であって、エッチング液に浸漬し、中間膜と離型膜を除去することによって、エッチング液に対する耐性を有する保護膜を露出させる工程と、保護膜の上に、新しい中間膜を成膜する工程と、新しい中間膜上に、新しい離型膜を成膜する工程とを備える。
【００１９】
上記再生方法では、離型膜を中間膜とともにエッチング液によって除去する際に、保護膜によって金型母材をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜の付着性を下地の中間膜によって高めたタイプの成形金型においても、中間膜と離型膜とを一旦除去して再度形成する成形金型の再生が可能になり、同一金型母材を利用した成形回数を増やすことができる。
【００２０】
本発明に係る樹脂製品の製造方法は、樹脂成形用の成形金型を用いた樹脂製品の製造方法であって、成形金型が、樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、離型膜と共有結合する中間膜との間に、エッチング液に対する耐性を有し、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜を有し、樹脂製品が、保護膜の表面形状に略一致する被転写面を有する。
【００２１】
上記製造方法では、離型膜の付着性を下地の中間膜によって高めるとともに、中間膜と離型膜とを一旦除去して再度形成するタイプの成形金型によって樹脂製品を製造することができ、高精度で安価な樹脂製品を安定して提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】（Ａ）は、第１実施形態に係る光学素子用の成形金型の構造を説明する部分側断面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の金型によって射出成形されるレンズの拡大側面図である。
【図２】コア部の先端構造の一例を概念的に説明する拡大断面図である。
【図３】コア部の先端構造の変形例を概念的に説明する拡大断面図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｄ）は、成形金型すなわちコア部５１，６１の再生方法について説明する図である。
【図５】（Ａ）は、第１実施形態に係る成形金型すなわちマスター成形型の側方断面図であり、（Ｂ）は、製品としてのウエハレンズを示す側方断面図であり、（Ｃ）は、サブマスター成形型の側方断面図である。
【図６】（Ａ）〜（Ｄ）は、マスター成形型等を用いたウエハレンズの製造工程を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態に係る成形金型、その再生方法、及び樹脂製品の製造方法について、図面を参照しつつ説明する。
【００２４】
図１（Ａ）に示すように、本実施形態の成形金型４０は、固定金型４１と可動金型４２とで構成され、両金型４１，４２は、パーティングラインＰＬを境として開閉可能になっている。固定金型４１と可動金型４２とに挟まれた型空間であるキャビティＣＶは、樹脂製品すなわち樹脂成形品である光学素子としてのレンズＯＬ（図１（Ｂ）参照）の形状に対応するものとなっている。レンズＯＬは、光学的機能を有する光学的機能部としての中心部ＯＬａと、中心部ＯＬａから外径方向に延在する環状のフランジ部ＯＬｂとを備える。このレンズＯＬは、光ピックアップ装置用の対物レンズ、携帯電話の撮像レンズ等である。
【００２５】
固定金型４１は、コア部５１と、型板５３と、取付板５４とを備える。ここで、コア部５１は、キャビティＣＶを形成するため、可動金型４２のコア部６１に対向して配置される。型板５３は、コア部５１を周囲から保持する型部材であり、取付板５４は、型板５３やコア部５１を背後から一体的に支持する型部材である。
【００２６】
コア部５１の先端部５１ａには、キャビティＣＶを画成するため、光学面形成面５６ａとフランジ形成面５６ｂとが設けられている。光学面形成面５６ａは、比較的浅い凹面であり、レンズＯＬを構成する中心部ＯＬａの一方の光学面Ｓａを成形する転写面である。フランジ形成面５６ｂは、環状の平面であり、レンズＯＬを構成するフランジ部ＯＬｂの一方のフランジ面Ｆ１を成形する転写面である。
【００２７】
その他、型板５３には、コア部５１を挿入させることで内部に支持する円柱状の貫通孔５７ａが形成されている。また、型板５３は、パーティングラインＰＬを形成する端面５３ａを有する。
【００２８】
可動金型４２は、コア部６１と、型板６３と、取付板６４とを備える。可動金型４２は、軸ＡＸに沿って移動可能になっており、固定金型４１に対して開閉動作する。可動金型４２において、コア部６１は、キャビティＣＶを形成するため、固定金型４１のコア部５１に対向して配置される。型板６３は、コア部６１を周囲から保持する型部材であり、取付板６４は、型板６３やコア部６１を背後から一体的に支持する型部材である。
【００２９】
コア部６１の先端部６１ａには、キャビティＣＶを画成するため、光学面形成面６６ａとフランジ形成面６６ｂとが設けられている。光学面形成面６６ａは、比較的深い凹面であり、レンズＯＬを構成する中心部ＯＬａの他方の光学面Ｓｂを成形する転写面である。フランジ形成面６６ｂは、環状の平面であり、レンズＯＬを構成するフランジ部ＯＬｂの他方のフランジ面Ｆ２を成形する転写面である。
【００３０】
その他、型板６３には、コア部６１を挿入させることで内部に支持する円柱状の貫通孔６７ａが形成されている。また、型板６３は、パーティングラインＰＬを形成する端面６３ａを有する。
【００３１】
図２は、コア部５１の先端部５１ａに形成される構造の一例を概念的に説明する拡大断面図である。先端部５１ａは、本体部分２１上に、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを順次積層した構造を有する。
【００３２】
本体部分２１は、例えばステンレス鋼、低炭素鋼等の材料で形成され、その端面は、光学面形成面５６ａ等に対応する形状となっている。なお、本体部分２１は、セラミックや超硬金属で形成することもできる。
【００３３】
転写面加工層２２は、例えば無電解ニッケルめっき法を用いて形成されるニッケルリンめっき層であり、数１０μｍ〜数ｍｍ程度の厚みを有する。転写面加工層２２は、本体部分２１とともに金型母材を構成し、転写面である光学面形成面５６ａ及びフランジ形成面５６ｂの土台として機能する。転写面加工層２２は、被削加工性を良くするため、本体部分２１を被覆するように設けられており、その表面である母材転写面２２ａは、高精度の光学転写面に加工されている。なお、転写面加工層２２は省略することができ、この場合、本体部分２１の端面を精密に加工して、母材転写面２２ａとする。
【００３４】
保護膜２３は、例えばクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化珪素（ＳｉＣ）等の材料で形成され、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する。保護膜２３は、転写面加工層２２を後述する剥離用のエッチング液から保護するため、本体部分２１を被覆するように設けられている。このため、保護膜２３の材料は、化学的な耐久性が強く保護膜２３の膜厚を薄くしても転写面加工層２２等を守ることができるものという基準で選択される。保護膜２３の厚みについては、一定の下限以上とすることにより、エッチング液に対する耐性を確保することができ、一定の上限以下とすることにより、転写面加工層２２に形成された母材転写面２２ａが保護膜２３によって変形したり歪むことを防止でき、光学面形成面５６ａにおける光学転写面の再現性を確保できるようにしている。保護膜２３は、下地の転写面加工層２２と強く結合することが求められるので、例えばスパッタリング、真空蒸着等の物理蒸着法又は物理気相成長法（気相法の一種）によって成膜される。特にスパッタリングは、成膜時間がかかる方法であるが、密着性や膜のつきまわりがよく、保護膜２３の被覆に適した成膜方法である。なお、図示の母材転写面２２ａや光学面形成面５６ａのように平滑で凹凸が少ない場合は、保護膜２３を真空蒸着で被覆してもよい。真空蒸着は、膜の密着性等の観点でＣＶＤに劣るが、成膜時間すなわち被覆時間を短くできる。
【００３５】
中間膜２４は、例えば二酸化珪素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）、酸化マンガン（ＭｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ２）等の材料で形成され、通常は保護膜２３よりも薄く、例えば１００ｎｍ以下の膜厚を有する。中間膜２４は、後述する離型膜２５を保護膜２３上に安定して強固に支持するためのものであり、離型膜２５を中間膜２４等に強固に結合させ、離型膜２５の剥離を防止する役割を有する。このため、中間膜２４の材料は、離型膜２５の組成に対応して表面に水酸基を有する金属酸化物膜とすることが望ましい。離型膜２５の厚みについては、一定の上限以下とすることにより、転写面加工層２２に形成された母材転写面２２ａが保護膜２３によって変形したり歪むことを防止でき、光学面形成面５６ａにおける光学転写面の再現性を確保できるようにしている。また、中間膜２４は、エッチング液によって除去されるべきものであり、その膜厚を一定の上限以下とすることにより、エッチングに必要な時間を短くして、金型再生を迅速なものとできるようにしている。中間膜２４は、膜厚を精度よく制御することにより過剰なエッチングによって保護膜２３にダメージを与えられる可能性を低減するという観点から、例えばＣＶＤ等の気相法（化学気相成長法の一種）によって成膜される。ＣＶＤ等の気相法によって形成された中間膜２４は、エッチング液に浸漬された場合、通常は形状や場所によらず一様にエッチングされるので、中間膜２４の成膜方法は、膜のつきまわり性の良さが求められる。特にＣＶＤは、スパッタリングと比べて、密着力は弱いが、膜のつきまわりが優れているので、中間膜２４の被覆に適した成膜方法である。なお、図示の母材転写面２２ａや光学面形成面５６ａのように平滑で凹凸が少ない場合は、中間膜２４を真空蒸着で被覆してもよい。真空蒸着は、膜のつきまわりの観点でＣＶＤに劣るが、成膜時間すなわち被覆時間を短くできる。また、中間膜２４は、特開２００９−１８４１１７号公報に開示された液相析出法によって形成することもできる。液相析出法は、一般に膜厚の制御が容易でないので、図示の母材転写面２２ａのように平滑で凹凸が少ない場合は、中間膜２４をエッチングによって適確に除去する観点でＣＶＤに劣ると考えられる。
【００３６】
離型膜２５は、中間膜２４と共有結合するシランカップリング剤等の材料で形成され、通常は中間膜２４上に５ｎｍ程度の単層膜を形成する。離型膜２５を形成するシランカップリング剤としては、フルオロアルキル基を有するものが一般的に使用される。フッ素の持つ小さな表面自由エネルギーがコア部５１の端面と樹脂製品すなわち樹脂成形品との密着力を低減する機能を発現するためである。フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤としては例えば下記のようなものが一般的である。
ＣＦ３（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
ＣＦ３（ＣＨ２）５ＳｉＣｌ３
ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ３
ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＨＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
これらの物質は、フッ素系の有機溶剤で希釈して使用される。シランカップリング剤を有機溶剤で希釈することによって得た溶液を準備し、この溶液にコア部５１を浸漬させゆっくり引き上げたり（ディップコートしたり）、この溶液の液滴をコア部５１の端面に滴下して高速回転させて塗り広げる（スピンコートする）ことによって、コア部５１の端面すなわち中間膜２４の表面にシランカップリング剤の薄膜を形成する。その後一定の湿度下で加温することによって加水分解させる。このとき、シランカップリング剤のクロロ基（−Ｃｌ）やメトキシ基（−ＯＣＨ３）はシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）となる。このシラノールが即座に中間膜２４表面のヒドロキシ基（−ＯＨ）と脱水縮合反応することで、中間膜２４の表面層とシランカップリング剤とが共有結合によって結合する。以上のようにして、中間膜２４を薄く被覆するようにして、この中間膜２４と共有結合したシランカップリング剤の離型膜２５を形成することができる。
【００３７】
図３は、コア部５１の先端部５１ａに形成される構造の変形例を概念的に説明する拡大断面図である。この場合も、先端部５１ａは、本体部分２１上に、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを順次積層した構造を有する。ただし、転写面加工層２２の表面は、ナノメータオーダーのサイズを有する微細形状を設けた母材転写面１２２ａに加工されている。母材転写面１２２ａの微細形状は、保護膜２３の表面に再現又は転写され、中間膜２４や離型膜２５の表面にも再現又は転写されている。結果的に、コア部６１の端面である光学面形成面５６ａには、ナノメータオーダーの微細形状ＦＳが形成されている。なお、微細形状ＦＳは、図面に誇張して示す鋸歯状のブレーズタイプに限らず、矩形状の段差タイプ等、様々なものとできる。
【００３８】
図３に示すようなコア部５１の場合、転写面加工層２２を設けることで、ナノメートルオーダーの構造を設けることが容易になる。また、保護膜２３は、密着性や膜のつきまわりが良いスパッタリングで形成することが望ましい。中間膜２４は、微細形状の影の部分にも回り込ませやすい液相析出法によって形成することで、全面に均一な膜を被覆することができる。また、中間膜２４は、膜のつきまわりが比較的良好なＣＶＤによって形成することもできる。
【００３９】
なお、可動金型４２のコア部６１も、図２、３に示すようなコア部５１と同様の構造を有するものとできる。つまり、詳細な説明を省略するが、コア部６１の先端部６１ａは、本体部分２１上に、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを順次積層した構造を有する。
【００４０】
以下、図１の成形金型４０を用いた樹脂製品の製造方法について説明する。なお、図示を省略しているが、成形金型４０は、射出成形機に組み込まれて使用されるものであり、固定金型４１は、射出成形機の固定盤に固定され、可動金型４２は、射出成形機の可動盤に固定される。
【００４１】
まず、金型温度調節機（不図示）により、両金型４１，４２を成形に適する温度まで加熱する。次に、可動金型４２を支持する可動盤を固定金型４１を支持する固定盤に近接させて、固定金型４１と可動金型４２とが接触する型当たり位置まで移動させて型閉じを行うとともに、固定金型４１と可動金型４２とを必要な圧力で締め付ける型締めを行う。次に、射出装置（不図示）を動作させて、型締めされた固定金型４１と可動金型４２との間のキャビティＣＶ中に、必要な圧力で溶融樹脂を注入する射出を行わせる。この際、上記金型温度調節機により、固定金型４１と可動金型４２とが適度に加熱されており、上記射出装置から供給される溶融樹脂が緩やかに冷却される。溶融樹脂が冷却されて十分硬化した段階で、可動金型４２を後退させる型開きを行うことにより、固定金型４１と可動金型４２とが離間する。この結果、両型４１，４２間から樹脂成形品としてのレンズＯＬを取り出すことができる。
【００４２】
なお、上記のような射出成形を多数回繰り返すと、両金型４１，４２のコア部５１，６１の端面の離型膜２５が部分的に除去される。よって、定期的にコア部５１，６１の端面に対して、シランカップリング剤の再付着処理を行う。これにより、中間膜２４を十分に被覆する保護膜２３を再生することができる。
【００４３】
以下、図４（Ａ）〜４（Ｄ）を参照して成形金型４０の再生方法について説明する。なお、成形金型４０を用いた射出成形をさらに多数回繰り返すと、両金型４１，４２のコア部５１，６１の端面の中間膜２４が離型膜２５とともに部分的に除去される。この場合、シランカップリング剤の再付着処理では、成形金型４０を再生することができないので、中間膜２４と離型膜２５とを再形成することで、コア部５１，６１を略初期状態に再生することができる。
【００４４】
図４（Ａ）に示すように、射出成形を多数回繰り返すと、コア部５１，６１の端面において、中間膜２４等が剥離した欠損部ＤＦが形成される。このまま、コア部５１，６１の使用を継続すると、樹脂成形品が焼きつくので、コア部５１，６１に対して再生処理を行う。
【００４５】
具体的には、まず、図４（Ｂ）に示すように、中間膜２４と離型膜２５とをエッチングによって除去する。エッチング液の成分は、中間膜２４や保護膜２３の組成に応じて選択するが、例えばフッ酸、塩酸、硝酸、過酸化水素水等を含むものを使用することで、中間膜２４のみを選択的に迅速に除去することができ、保護膜２３に与えるダメージを少なくすることができる。
【００４６】
次に、図４（Ｃ）に示すように、コア部５１，６１の端面に露出した保護膜２３上にこの保護膜２３を被覆する中間膜２４を成膜する。再被覆用の中間膜２４は、元の中間膜２４と同様のものであり、二酸化珪素、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化亜鉛等の材料で形成され、例えば１００ｎｍ以下の膜厚を有するものとする。再被覆用の中間膜２４は、元の中間膜２４と同様に形成される。つまり、中間膜２４は、ＣＶＤ等の気相法（化学気相成長法の一種）によって成膜される。中間膜２４は、真空蒸着によって成膜することもできる。さらに、中間膜２４は、液相析出法によって形成することもできる。
【００４７】
その後、図４（Ｄ）に示すように、コア部５１，６１の端面を被覆する中間膜２４にこの中間膜２４を被覆する離型膜２５を成膜する。再被覆用の離型膜２５は、元の離型膜２５と同様のものであり、シランカップリング剤等の材料で形成される。再被覆用の離型膜２５は、元の離型膜２５と同様に形成される。具体的には、シランカップリング剤の溶液をコア部５１の端面に薄く塗布し、加熱等の処理を施すことによってシランカップリング剤を加水分解させ、中間膜２４の表面にシランカップリング剤を共有結合させることで、中間膜２４上に離型膜２５を形成することができる。
【００４８】
以下、具体的な実施例について説明する。
【００４９】
〔実施例１〕
まず、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によってニッケルリンめっき層としての転写面加工層２２を成膜し、切削加工により所望の形状を有する母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面にクロム膜を約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。このクロム膜の上に、ＣＶＤにより二酸化ケイ素を約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この二酸化ケイ素膜の上にシランカップリング剤を塗布して加熱等の処理を施すことによって離型膜２５を形成した。この場合、シランカップリング剤として、オプツールＤＳＸ（商標名）を使用する。このときオプツールＤＳＸは単分子層を形成するので、離型膜２５の膜厚は約５ｎｍである。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて樹脂との離型性が良いオプツール膜を被覆させることができる。このオプツール膜製の離型膜２５は、その下地のＳｉＯ２膜製の中間膜２４と共有結合するため、離型膜２５は、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５０】
オプツール膜製の離型膜２５や、その下のＳｉＯ２膜製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液の主成分は、１水素２フッ化アンモニウムと過酸化水素水とである。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、酸化クロムのみが検出される。これは、エッチング液によってオプツール膜の離型膜２５とＳｉＯ２膜の中間膜２４とが除去され、剥き出しになったクロム膜の酸化皮膜を検出していることを意味している。したがって、上記のようなエッチング処理は、クロム膜で止まっており、クロム製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになったクロム製の保護膜２３の上に、新しく二酸化ケイ素膜、オプツール膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５１】
〔実施例２〕
実施例１と同様に、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によって転写面加工層２２を成膜し、この表面に母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面に炭化珪素膜を約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。この保護膜２３上に、ＣＶＤにより二酸化ケイ素を約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この中間膜２４上にシランカップリング剤（具体的にはオプツールＤＳＸ（商標名））を塗布して加熱等の処理を施すことによって約５ｎｍの膜厚を有する離型膜２５を形成した。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて、樹脂との離型性が良いシランカップリング剤による被覆が可能になる。この離型膜２５は、その下地のＳｉＯ２製の中間膜２４と共有結合し、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５２】
シランカップリング剤製の離型膜２５や、その下のＳｉＯ２製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、炭化珪素のみが検出される。つまり、上記のようなエッチング処理は、炭化珪素膜で止まっており、炭化珪素製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになった炭化珪素製の保護膜２３の上に、新しく二酸化ケイ素膜、シランカップリング剤製の膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５３】
〔実施例３〕
実施例１と同様に、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によって転写面加工層２２を成膜し、この表面に母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面にアルミナを約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。この保護膜２３上に、ＣＶＤにより二酸化ケイ素を約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この中間膜２４上にシランカップリング剤（具体的にはオプツールＤＳＸ（商標名））を塗布して加熱等の処理を施すことによって約５ｎｍの膜厚を有する離型膜２５を形成した。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて、樹脂との離型性が良いシランカップリング剤による被覆が可能になる。この離型膜２５は、その下地のＳｉＯ２製の中間膜２４と共有結合し、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５４】
シランカップリング剤製の離型膜２５や、その下のＳｉＯ２製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、アルミナのみが検出される。つまり、上記のようなエッチング処理は、アルミナ膜で止まっており、アルミナ製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになったアルミナ製の保護膜２３の上に、新しく二酸化ケイ素膜、シランカップリング剤製の膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５５】
〔実施例４〕
実施例１と同様に、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によって転写面加工層２２を成膜し、この表面に母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面に酸化クロムを約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。この保護膜２３上に、ＣＶＤにより二酸化ケイ素を約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この中間膜２４上にシランカップリング剤（具体的にはオプツールＤＳＸ（商標名））を塗布して加熱等の処理を施すことによって約５ｎｍの膜厚を有する離型膜２５を形成した。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて、樹脂との離型性が良いシランカップリング剤による被覆が可能になる。この離型膜２５は、その下地のＳｉＯ２製の中間膜２４と共有結合し、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５６】
シランカップリング剤製の離型膜２５や、その下のＳｉＯ２製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、酸化クロムのみが検出される。つまり、上記のようなエッチング処理は、酸化クロム膜で止まっており、酸化クロム製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになった酸化クロム製の保護膜２３の上に、新しく二酸化ケイ素膜、シランカップリング剤製の膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５７】
〔実施例５〕
実施例１と同様に、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によって転写面加工層２２を成膜し、この表面に母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面にクロムを約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。この保護膜２３上に、ＣＶＤにより酸化チタンを約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この中間膜２４上にシランカップリング剤（具体的にはオプツールＤＳＸ（商標名））を塗布して加熱等の処理を施すことによって約５ｎｍの膜厚を有する離型膜２５を形成した。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて、樹脂との離型性が良いシランカップリング剤による被覆が可能になる。この離型膜２５は、その下地の酸化チタン製の中間膜２４と共有結合し、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５８】
シランカップリング剤製の離型膜２５や、その下の酸化チタン製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、酸化クロムのみが検出される。つまり、上記のようなエッチング処理は、酸化クロム膜で止まっており、クロム製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになったクロム製の保護膜２３の上に、新しく酸化チタン膜、シランカップリング剤製の膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５９】
以上のように、本実施形態に係る成形金型やその再生方法によれば、離型膜２５と共有結合する中間膜２４と、金型母材を構成する転写面加工層２２や本体部分２１との間に、エッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜２３を設けるので、離型膜２５を中間膜２４とともにエッチング液によって除去する際に、転写面加工層２２等をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜２５の付着性を下地の中間膜２４によって高めたタイプの成形金型４０においても、中間膜２４と離型膜２５とを一旦除去して再度形成する成形金型４０の再生が可能になる。ここで、保護膜２３が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下と、比較的薄いので、転写面加工層２２等における母材転写面２２ａの形状が保たれ転写精度を高めることができる。
【００６０】
〔第２実施形態〕
図５（Ａ）に示す第２実施形態の成形金型４４１は、マスター成形型であり、図５（Ｂ）に示す樹脂製品としてのウエハレンズＷＬを成形又は製造するために用いられる。なお、ウエハレンズＷＬの製造にあたっては、成形用の型として、図５（Ａ）の成形金型４４１のほかに、図５（Ｃ）に示すサブマスター成形型４４２も使用される。なお、サブマスター成形型４４２は、光学面形成面４５７ａと、その他の面４５７ｂとを有する成型用の本体成形部４４６の裏面側に裏打ち材４４７を貼り付けて強度を増している。
【００６１】
成形金型４４１の表面部４４１ａには、光学面形成面４５６ａと非光学面形成面４５６ｂとが形成されている。成形金型４４１の表面部４４１ａの構造は、図２に示すものと同様となっており、本体部分２１上に、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを順次積層した構造を有する。
【００６２】
以下、図５（Ａ）の成形金型４４１等を用いたウエハレンズＷＬの製造方法一例について説明する。まず、成形金型４４１を準備する（図６（Ａ）参照）。成形金型４４１の製造方法は、図２に示すコア部５１の製造方法と同様である。すなわち、成形金型４４１の母材をニッケルリンめっき層で被覆して転写面加工層２２を形成し、クロム（Ｃｒ）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）等を気相法で成膜して保護膜２３とする。その上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）を気相法で成膜して保護膜２３よりも薄い中間膜２４とする。この保護膜２３は、シランカップリング剤等の材料で形成された離型膜２５で被覆される。
【００６３】
次に、成形金型４４１からサブマスター成形型４４２を作製する（図６（Ｂ）参照）。サブマスター成形型４４２は、樹脂製であり、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれを用いてもよい。ここで、成形金型４４１の光学面形成面４５６ａと非光学面形成面４５６ｂとは、離型膜２５で覆われており、サブマスター成形型４４２の離型を容易にすることができる。
【００６４】
次に、ガラス基板ＧＰを準備し、ガラス板ＧＰと、サブマスター成形型４４２の表面部４４２ａとの間に樹脂を充填して硬化させる（図６（Ｃ）参照）。より詳細には、サブマスター成形型４４２の凹部を形成する光学面形成面４５７ａに樹脂ＲＥを充填し、その上方からガラス基板ＧＰを押圧し、充填された樹脂ＲＥを硬化させる。なお、サブマスター成形型４４２に樹脂ＲＥを充填するのに代えて、ガラス基板ＧＰに樹脂ＲＥを塗布し、樹脂ＲＥが塗布されたガラス基板ＧＰをサブマスター成形型４４２に押圧することもできる。樹脂ＲＥの塗布には、スプレーコート，スピンコート等の手法を用いることができる。樹脂ＲＥの硬化には、例えばガラス板ＧＰやサブマスター成形型４４２のいずれか又は双方の背後に配置した光源によって樹脂ＲＥに対する光照射を行う。樹脂ＲＥの硬化により、ガラス基板ＧＰ上には、レンズ部ＬＰが形成される。
【００６５】
その後、ガラス板ＧＰと、サブマスター成形型４４２の光学面形成面４５７ａ等との間に充填された樹脂ＲＥが硬化した段階で、レンズ部ＬＰを設けたガラス板ＧＰをサブマスター成形型４４２から離型する（図６（Ｄ）参照）。これにより、ガラス基板ＧＰ上に硬化した樹脂ＲＥすなわちレンズ部ＬＰを設けたウエハレンズＷＬが得られる。
【００６６】
以上のようなウエハレンズＷＬの作製において、成形金型４４１の使用を多数回繰り返すと、成形金型４４１の表面の離型膜２５が部分的に除去される。よって、定期的に成形金型４４１の表面に対して、シランカップリング剤の再付着処理を行う。これにより、中間膜２４を十分に被覆する保護膜２３を再生することができる。
【００６７】
また、成形金型４４１を用いたウエハレンズＷＬの作製をさらに多数回繰り返すと、成形金型４４１の端面の中間膜２４が離型膜２５とともに部分的に除去される。この場合、シランカップリング剤の再付着処理では、成形金型４０を再生することができないので、中間膜２４と離型膜２５とを再形成することで、コア部５１，６１を略初期状態に再生することができる。具体的な工程は、第１実施形態で説明した成形金型４０のコア部５１，６１の再生と同様である（図４（Ａ）〜４（Ｄ）参照）。
【００６８】
以上の第２実施形態において、ガラス板ＧＰの一面にのみレンズ部ＬＰを設けることによってウエハレンズＷＬを完成しているが、成形金型４４１と同様の成形金型を用いてガラス板ＧＰの両面にレンズ部ＬＰを設けることもできる。また、レンズ部ＬＰの個数や配列も用途等に応じて適宜変更することができる。
【００６９】
以上の第２実施形態によっても、離型膜２５を中間膜２４とともにエッチング液によって除去する際に、転写面加工層２２等をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜２５の付着性を下地の中間膜２４によって高めたタイプの成形金型４４１においても、中間膜２４と離型膜２５とを一旦除去して再度形成する成形金型４４１の再生が可能になる。
【００７０】
なお、第２実施形態の成形金型４４１についても、詳細な説明は省略するが、上記第１実施形態の実施例１〜５と同様の結果を得た。
【００７１】
以上実施形態に即して本発明を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、上記第１実施形態では、コア部５１，６１の先端部５１ａ，６１ａにおいて、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを設けているが、固定金型４１や可動金型４２がコア部５１，６１を有しない一体型の金型である場合、固定金型４１や可動金型４２の端部において、図２等に示す転写面加工層２２、保護膜２３、中間膜２４、離型膜２５等を設けることができる。
【００７２】
また、コア部５１，６１や成形金型４４１において、本体部分２１と転写面加工層２２との間に、追加的な膜や層を形成することもできる。
【００７３】
また、固定金型４１及び可動金型４２で構成される射出成形金型に設けるキャビティＣＶの形状は、図示のものに限らず、様々な形状とすることができる。すなわち、コア部５１，６１等によって形成されるキャビティＣＶの形状は、単なる例示であり、レンズＯＬの用途等に応じて適宜変更することができる。また、成形金型４４１の表面部４４１ａに形成する光学面形成面４５６ａの形状も、図示のものに限らず、様々な形状とすることができる。
【符号の説明】
【００７４】
２１…本体部分、 ２…転写面加工層、 ２ａ…母材転写面、 ３…保護膜、 ４…中間膜、 ２５…離型膜、 ４０…成形金型、 ４１…固定金型、 ４２…可動金型、 ５１…コア部、 ５１ａ…先端部、 ５１ａ，６１ａ…先端部、 ５３…型板、 ５４…取付板、 ５６ａ…光学面形成面、 ５６ｂ…フランジ形成面、 ５７ａ…貫通孔、 ６１…コア部、 ６１ａ…先端部、 ６３…型板、 ６４…取付板、 ６６ａ…光学面形成面、 ６６ｂ…フランジ形成面、 ＡＸ…軸、 ＣＶ…キャビティ、 ＦＳ…微細形状、 ＯＬ…レンズ、 ＯＬａ…中心部、 ＰＬ…パーティングライン、 Ｓａ，Ｓｂ…光学面
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂成形用の成形金型、その再生方法、及びこれを用いた樹脂製品の製造方法に関し、特に、樹脂製の光学素子を射出成形等するための成形金型等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の樹脂成形用の金型として、金型母材と離型膜の両方と強く結合する膜を金型母材と離型膜の間に挿入することで、離型膜を金型に強固に結合させ、離型膜の剥離を防いでいるものがある（特許文献１参照）。具体的には、金型母材の上に剥離防止用の二酸化ケイ素膜を被覆し、その上にフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤からなる離型膜を被覆している。
【０００３】
なお、ガラス成形用の金型に関するものであるが、金型母材と離型膜との間に耐エッチング層を挿入することで、離型膜が剥離した金型を低コストに再生する方法がある（特許文献２参照）。具体的には、金型母材の上に耐エッチング層である窒化クロム膜等を形成し、その上にエッチング液に溶ける窒化チタン層を形成し、その上にチタン、アルミニウム等の複窒化物からなる離型膜を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１８４１１７号公報
【特許文献２】特開２００６−１１１４９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の金型では、二酸化ケイ素膜を離型膜の下地にすることで樹脂成形を多量に行うことができ離型膜の塗布回数を減らすことができる。しかしながら、さらに多量に樹脂成形を繰り返すと、下地の二酸化ケイ素膜が部分的に剥離することがある。特に、樹脂の接着力が強く二酸化ケイ素膜に強い応力がかかる場合等において、二酸化ケイ素膜の耐久性が低くなる傾向がある。
【０００６】
なお、特許文献２の金型は、離型膜が剥離しても再生できるが、例えば複窒化物膜は樹脂との相性が悪く十分な離型性が得られないので、樹脂成形用の成形金型として用いることができない。
【０００７】
そこで、本発明は、樹脂成形用の成形金型において、成形金型を再生して繰り返し成形できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明に係る成形金型は、樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、金型母材の母材転写面上に当該母材転写面を被覆するように形成されエッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜と、保護膜上に形成される中間膜と、中間膜上に形成され中間膜と共有結合する離型膜とを有する。
【０００９】
上記成形金型では、離型膜と共有結合する中間膜と、転写面の土台となる金型母材との間に、エッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜を設けるので、離型膜を中間膜とともにエッチング液によって除去する際に、金型母材をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜の付着性を下地の中間膜によって高めたタイプの成形金型においても、中間膜と離型膜とを一旦除去して再度形成する成形金型の再生が可能になる。ここで、保護膜が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下と、比較的薄いので、金型母材における母材転写面の形状が保たれ転写精度を高めることができる。なお、保護膜の膜厚は、金型母材を確実に保護する観点からは、中間膜の膜厚よりも大きくすることが望ましい。
【００１０】
また、本発明の具体的な態様又は側面では、上記成形金型において、母材転写面は、微細形状を有する光学面に対応する微細形状を有する。この場合、離型時の応力によって中間膜の剥離が生じやすくなるといえるが、成形金型の再生によって同一金型母材を利用した成形回数を飛躍的に増やすことができる。
【００１１】
本発明の別の側面では、母材転写面に形成される微細形状が、ナノメータオーダーのサイズを有する。
【００１２】
本発明のさらに別の側面では、金型母材の表面が、無電解ニッケルメッキによって形成されたメッキ層で形成されている。この場合、金型母材の表面に所望の形状を有する高精度の母材転写面を形成することができる。
【００１３】
本発明のさらに別の側面では、離型膜が、フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤で形成されている。この場合、樹脂成形品が転写面に残ることを効果的に防止して、樹脂成形品の歩留まりを高め、成形金型の耐久性を高めることができる。
【００１４】
本発明のさらに別の側面では、中間膜が、二酸化珪素、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、及び酸化亜鉛のうち少なくとも１つで形成されている。この場合、シランカップリング剤等である離型膜との結合性を高め、シランカップリング剤等である離型膜の付着力を高めることができる。
【００１５】
本発明のさらに別の側面では、中間膜が、気相法によって成膜される。この場合、一般に膜厚を精度よく制御することができるので、中間膜のエッチングを適正なものとでき、保護膜までダメージを与える過剰なエッチングの可能性を低減できる。
【００１６】
本発明のさらに別の側面では、中間膜が、液相法によって成膜される。この場合、一般に膜のつきまわりを良くして保護膜上の全面に均一な膜を被覆することできるので、微細形状を有する転写面の成形に適する成形金型を提供することができる。
【００１７】
本発明のさらに別の側面では、保護膜が、アルミナ、炭化珪素、クロム、及び酸化クロムのうち少なくとも１つで形成される。この場合、二酸化珪素、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化亜鉛等である中間膜に比較して保護膜に対するエッチング選択性を持たせることができ、エッチングに際して保護膜を確実に残すことができる。
【００１８】
本発明に係る成形金型の再生方法は、樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、金型母材の母材転写面上に当該母材転写面を被覆するように形成される保護膜と、保護膜上に形成される中間膜と、中間膜上に形成され中間膜と共有結合する離型膜とを有する成形金型の再生方法であって、エッチング液に浸漬し、中間膜と離型膜を除去することによって、エッチング液に対する耐性を有する保護膜を露出させる工程と、保護膜の上に、新しい中間膜を成膜する工程と、新しい中間膜上に、新しい離型膜を成膜する工程とを備える。
【００１９】
上記再生方法では、離型膜を中間膜とともにエッチング液によって除去する際に、保護膜によって金型母材をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜の付着性を下地の中間膜によって高めたタイプの成形金型においても、中間膜と離型膜とを一旦除去して再度形成する成形金型の再生が可能になり、同一金型母材を利用した成形回数を増やすことができる。
【００２０】
本発明に係る樹脂製品の製造方法は、樹脂成形用の成形金型を用いた樹脂製品の製造方法であって、成形金型が、樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、離型膜と共有結合する中間膜との間に、エッチング液に対する耐性を有し、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜を有し、樹脂製品が、保護膜の表面形状に略一致する被転写面を有する。
【００２１】
上記製造方法では、離型膜の付着性を下地の中間膜によって高めるとともに、中間膜と離型膜とを一旦除去して再度形成するタイプの成形金型によって樹脂製品を製造することができ、高精度で安価な樹脂製品を安定して提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】（Ａ）は、第１実施形態に係る光学素子用の成形金型の構造を説明する部分側断面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の金型によって射出成形されるレンズの拡大側面図である。
【図２】コア部の先端構造の一例を概念的に説明する拡大断面図である。
【図３】コア部の先端構造の変形例を概念的に説明する拡大断面図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｄ）は、成形金型すなわちコア部５１，６１の再生方法について説明する図である。
【図５】（Ａ）は、第１実施形態に係る成形金型すなわちマスター成形型の側方断面図であり、（Ｂ）は、製品としてのウエハレンズを示す側方断面図であり、（Ｃ）は、サブマスター成形型の側方断面図である。
【図６】（Ａ）〜（Ｄ）は、マスター成形型等を用いたウエハレンズの製造工程を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態に係る成形金型、その再生方法、及び樹脂製品の製造方法について、図面を参照しつつ説明する。
【００２４】
図１（Ａ）に示すように、本実施形態の成形金型４０は、固定金型４１と可動金型４２とで構成され、両金型４１，４２は、パーティングラインＰＬを境として開閉可能になっている。固定金型４１と可動金型４２とに挟まれた型空間であるキャビティＣＶは、樹脂製品すなわち樹脂成形品である光学素子としてのレンズＯＬ（図１（Ｂ）参照）の形状に対応するものとなっている。レンズＯＬは、光学的機能を有する光学的機能部としての中心部ＯＬａと、中心部ＯＬａから外径方向に延在する環状のフランジ部ＯＬｂとを備える。このレンズＯＬは、光ピックアップ装置用の対物レンズ、携帯電話の撮像レンズ等である。
【００２５】
固定金型４１は、コア部５１と、型板５３と、取付板５４とを備える。ここで、コア部５１は、キャビティＣＶを形成するため、可動金型４２のコア部６１に対向して配置される。型板５３は、コア部５１を周囲から保持する型部材であり、取付板５４は、型板５３やコア部５１を背後から一体的に支持する型部材である。
【００２６】
コア部５１の先端部５１ａには、キャビティＣＶを画成するため、光学面形成面５６ａとフランジ形成面５６ｂとが設けられている。光学面形成面５６ａは、比較的浅い凹面であり、レンズＯＬを構成する中心部ＯＬａの一方の光学面Ｓａを成形する転写面である。フランジ形成面５６ｂは、環状の平面であり、レンズＯＬを構成するフランジ部ＯＬｂの一方のフランジ面Ｆ１を成形する転写面である。
【００２７】
その他、型板５３には、コア部５１を挿入させることで内部に支持する円柱状の貫通孔５７ａが形成されている。また、型板５３は、パーティングラインＰＬを形成する端面５３ａを有する。
【００２８】
可動金型４２は、コア部６１と、型板６３と、取付板６４とを備える。可動金型４２は、軸ＡＸに沿って移動可能になっており、固定金型４１に対して開閉動作する。可動金型４２において、コア部６１は、キャビティＣＶを形成するため、固定金型４１のコア部５１に対向して配置される。型板６３は、コア部６１を周囲から保持する型部材であり、取付板６４は、型板６３やコア部６１を背後から一体的に支持する型部材である。
【００２９】
コア部６１の先端部６１ａには、キャビティＣＶを画成するため、光学面形成面６６ａとフランジ形成面６６ｂとが設けられている。光学面形成面６６ａは、比較的深い凹面であり、レンズＯＬを構成する中心部ＯＬａの他方の光学面Ｓｂを成形する転写面である。フランジ形成面６６ｂは、環状の平面であり、レンズＯＬを構成するフランジ部ＯＬｂの他方のフランジ面Ｆ２を成形する転写面である。
【００３０】
その他、型板６３には、コア部６１を挿入させることで内部に支持する円柱状の貫通孔６７ａが形成されている。また、型板６３は、パーティングラインＰＬを形成する端面６３ａを有する。
【００３１】
図２は、コア部５１の先端部５１ａに形成される構造の一例を概念的に説明する拡大断面図である。先端部５１ａは、本体部分２１上に、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを順次積層した構造を有する。
【００３２】
本体部分２１は、例えばステンレス鋼、低炭素鋼等の材料で形成され、その端面は、光学面形成面５６ａ等に対応する形状となっている。なお、本体部分２１は、セラミックや超硬金属で形成することもできる。
【００３３】
転写面加工層２２は、例えば無電解ニッケルめっき法を用いて形成されるニッケルリンめっき層であり、数１０μｍ〜数ｍｍ程度の厚みを有する。転写面加工層２２は、本体部分２１とともに金型母材を構成し、転写面である光学面形成面５６ａ及びフランジ形成面５６ｂの土台として機能する。転写面加工層２２は、被削加工性を良くするため、本体部分２１を被覆するように設けられており、その表面である母材転写面２２ａは、高精度の光学転写面に加工されている。なお、転写面加工層２２は省略することができ、この場合、本体部分２１の端面を精密に加工して、母材転写面２２ａとする。
【００３４】
保護膜２３は、例えばクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化珪素（ＳｉＣ）等の材料で形成され、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する。保護膜２３は、転写面加工層２２を後述する剥離用のエッチング液から保護するため、本体部分２１を被覆するように設けられている。このため、保護膜２３の材料は、化学的な耐久性が強く保護膜２３の膜厚を薄くしても転写面加工層２２等を守ることができるものという基準で選択される。保護膜２３の厚みについては、一定の下限以上とすることにより、エッチング液に対する耐性を確保することができ、一定の上限以下とすることにより、転写面加工層２２に形成された母材転写面２２ａが保護膜２３によって変形したり歪むことを防止でき、光学面形成面５６ａにおける光学転写面の再現性を確保できるようにしている。保護膜２３は、下地の転写面加工層２２と強く結合することが求められるので、例えばスパッタリング、真空蒸着等の物理蒸着法又は物理気相成長法（気相法の一種）によって成膜される。特にスパッタリングは、成膜時間がかかる方法であるが、密着性や膜のつきまわりがよく、保護膜２３の被覆に適した成膜方法である。なお、図示の母材転写面２２ａや光学面形成面５６ａのように平滑で凹凸が少ない場合は、保護膜２３を真空蒸着で被覆してもよい。真空蒸着は、膜の密着性等の観点でＣＶＤに劣るが、成膜時間すなわち被覆時間を短くできる。
【００３５】
中間膜２４は、例えば二酸化珪素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）、酸化マンガン（ＭｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ２）等の材料で形成され、通常は保護膜２３よりも薄く、例えば１００ｎｍ以下の膜厚を有する。中間膜２４は、後述する離型膜２５を保護膜２３上に安定して強固に支持するためのものであり、離型膜２５を中間膜２４等に強固に結合させ、離型膜２５の剥離を防止する役割を有する。このため、中間膜２４の材料は、離型膜２５の組成に対応して表面に水酸基を有する金属酸化物膜とすることが望ましい。離型膜２５の厚みについては、一定の上限以下とすることにより、転写面加工層２２に形成された母材転写面２２ａが保護膜２３によって変形したり歪むことを防止でき、光学面形成面５６ａにおける光学転写面の再現性を確保できるようにしている。また、中間膜２４は、エッチング液によって除去されるべきものであり、その膜厚を一定の上限以下とすることにより、エッチングに必要な時間を短くして、金型再生を迅速なものとできるようにしている。中間膜２４は、膜厚を精度よく制御することにより過剰なエッチングによって保護膜２３にダメージを与えられる可能性を低減するという観点から、例えばＣＶＤ等の気相法（化学気相成長法の一種）によって成膜される。ＣＶＤ等の気相法によって形成された中間膜２４は、エッチング液に浸漬された場合、通常は形状や場所によらず一様にエッチングされるので、中間膜２４の成膜方法は、膜のつきまわり性の良さが求められる。特にＣＶＤは、スパッタリングと比べて、密着力は弱いが、膜のつきまわりが優れているので、中間膜２４の被覆に適した成膜方法である。なお、図示の母材転写面２２ａや光学面形成面５６ａのように平滑で凹凸が少ない場合は、中間膜２４を真空蒸着で被覆してもよい。真空蒸着は、膜のつきまわりの観点でＣＶＤに劣るが、成膜時間すなわち被覆時間を短くできる。また、中間膜２４は、特開２００９−１８４１１７号公報に開示された液相析出法によって形成することもできる。液相析出法は、一般に膜厚の制御が容易でないので、図示の母材転写面２２ａのように平滑で凹凸が少ない場合は、中間膜２４をエッチングによって適確に除去する観点でＣＶＤに劣ると考えられる。
【００３６】
離型膜２５は、中間膜２４と共有結合するシランカップリング剤等の材料で形成され、通常は中間膜２４上に５ｎｍ程度の単層膜を形成する。離型膜２５を形成するシランカップリング剤としては、フルオロアルキル基を有するものが一般的に使用される。フッ素の持つ小さな表面自由エネルギーがコア部５１の端面と樹脂製品すなわち樹脂成形品との密着力を低減する機能を発現するためである。フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤としては例えば下記のようなものが一般的である。
ＣＦ３（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
ＣＦ３（ＣＨ２）５ＳｉＣｌ３
ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ３
ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＨＣＨ３）２
ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
これらの物質は、フッ素系の有機溶剤で希釈して使用される。シランカップリング剤を有機溶剤で希釈することによって得た溶液を準備し、この溶液にコア部５１を浸漬させゆっくり引き上げたり（ディップコートしたり）、この溶液の液滴をコア部５１の端面に滴下して高速回転させて塗り広げる（スピンコートする）ことによって、コア部５１の端面すなわち中間膜２４の表面にシランカップリング剤の薄膜を形成する。その後一定の湿度下で加温することによって加水分解させる。このとき、シランカップリング剤のクロロ基（−Ｃｌ）やメトキシ基（−ＯＣＨ３）はシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）となる。このシラノールが即座に中間膜２４表面のヒドロキシ基（−ＯＨ）と脱水縮合反応することで、中間膜２４の表面層とシランカップリング剤とが共有結合によって結合する。以上のようにして、中間膜２４を薄く被覆するようにして、この中間膜２４と共有結合したシランカップリング剤の離型膜２５を形成することができる。
【００３７】
図３は、コア部５１の先端部５１ａに形成される構造の変形例を概念的に説明する拡大断面図である。この場合も、先端部５１ａは、本体部分２１上に、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを順次積層した構造を有する。ただし、転写面加工層２２の表面は、ナノメータオーダーのサイズを有する微細形状を設けた母材転写面１２２ａに加工されている。母材転写面１２２ａの微細形状は、保護膜２３の表面に再現又は転写され、中間膜２４や離型膜２５の表面にも再現又は転写されている。結果的に、コア部６１の端面である光学面形成面５６ａには、ナノメータオーダーの微細形状ＦＳが形成されている。なお、微細形状ＦＳは、図面に誇張して示す鋸歯状のブレーズタイプに限らず、矩形状の段差タイプ等、様々なものとできる。
【００３８】
図３に示すようなコア部５１の場合、転写面加工層２２を設けることで、ナノメートルオーダーの構造を設けることが容易になる。また、保護膜２３は、密着性や膜のつきまわりが良いスパッタリングで形成することが望ましい。中間膜２４は、微細形状の影の部分にも回り込ませやすい液相析出法によって形成することで、全面に均一な膜を被覆することができる。また、中間膜２４は、膜のつきまわりが比較的良好なＣＶＤによって形成することもできる。
【００３９】
なお、可動金型４２のコア部６１も、図２、３に示すようなコア部５１と同様の構造を有するものとできる。つまり、詳細な説明を省略するが、コア部６１の先端部６１ａは、本体部分２１上に、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを順次積層した構造を有する。
【００４０】
以下、図１の成形金型４０を用いた樹脂製品の製造方法について説明する。なお、図示を省略しているが、成形金型４０は、射出成形機に組み込まれて使用されるものであり、固定金型４１は、射出成形機の固定盤に固定され、可動金型４２は、射出成形機の可動盤に固定される。
【００４１】
まず、金型温度調節機（不図示）により、両金型４１，４２を成形に適する温度まで加熱する。次に、可動金型４２を支持する可動盤を固定金型４１を支持する固定盤に近接させて、固定金型４１と可動金型４２とが接触する型当たり位置まで移動させて型閉じを行うとともに、固定金型４１と可動金型４２とを必要な圧力で締め付ける型締めを行う。次に、射出装置（不図示）を動作させて、型締めされた固定金型４１と可動金型４２との間のキャビティＣＶ中に、必要な圧力で溶融樹脂を注入する射出を行わせる。この際、上記金型温度調節機により、固定金型４１と可動金型４２とが適度に加熱されており、上記射出装置から供給される溶融樹脂が緩やかに冷却される。溶融樹脂が冷却されて十分硬化した段階で、可動金型４２を後退させる型開きを行うことにより、固定金型４１と可動金型４２とが離間する。この結果、両型４１，４２間から樹脂成形品としてのレンズＯＬを取り出すことができる。
【００４２】
なお、上記のような射出成形を多数回繰り返すと、両金型４１，４２のコア部５１，６１の端面の離型膜２５が部分的に除去される。よって、定期的にコア部５１，６１の端面に対して、シランカップリング剤の再付着処理を行う。これにより、中間膜２４を十分に被覆する保護膜２３を再生することができる。
【００４３】
以下、図４（Ａ）〜４（Ｄ）を参照して成形金型４０の再生方法について説明する。なお、成形金型４０を用いた射出成形をさらに多数回繰り返すと、両金型４１，４２のコア部５１，６１の端面の中間膜２４が離型膜２５とともに部分的に除去される。この場合、シランカップリング剤の再付着処理では、成形金型４０を再生することができないので、中間膜２４と離型膜２５とを再形成することで、コア部５１，６１を略初期状態に再生することができる。
【００４４】
図４（Ａ）に示すように、射出成形を多数回繰り返すと、コア部５１，６１の端面において、中間膜２４等が剥離した欠損部ＤＦが形成される。このまま、コア部５１，６１の使用を継続すると、樹脂成形品が焼きつくので、コア部５１，６１に対して再生処理を行う。
【００４５】
具体的には、まず、図４（Ｂ）に示すように、中間膜２４と離型膜２５とをエッチングによって除去する。エッチング液の成分は、中間膜２４や保護膜２３の組成に応じて選択するが、例えばフッ酸、塩酸、硝酸、過酸化水素水等を含むものを使用することで、中間膜２４のみを選択的に迅速に除去することができ、保護膜２３に与えるダメージを少なくすることができる。
【００４６】
次に、図４（Ｃ）に示すように、コア部５１，６１の端面に露出した保護膜２３上にこの保護膜２３を被覆する中間膜２４を成膜する。再被覆用の中間膜２４は、元の中間膜２４と同様のものであり、二酸化珪素、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化亜鉛等の材料で形成され、例えば１００ｎｍ以下の膜厚を有するものとする。再被覆用の中間膜２４は、元の中間膜２４と同様に形成される。つまり、中間膜２４は、ＣＶＤ等の気相法（化学気相成長法の一種）によって成膜される。中間膜２４は、真空蒸着によって成膜することもできる。さらに、中間膜２４は、液相析出法によって形成することもできる。
【００４７】
その後、図４（Ｄ）に示すように、コア部５１，６１の端面を被覆する中間膜２４にこの中間膜２４を被覆する離型膜２５を成膜する。再被覆用の離型膜２５は、元の離型膜２５と同様のものであり、シランカップリング剤等の材料で形成される。再被覆用の離型膜２５は、元の離型膜２５と同様に形成される。具体的には、シランカップリング剤の溶液をコア部５１の端面に薄く塗布し、加熱等の処理を施すことによってシランカップリング剤を加水分解させ、中間膜２４の表面にシランカップリング剤を共有結合させることで、中間膜２４上に離型膜２５を形成することができる。
【００４８】
以下、具体的な実施例について説明する。
【００４９】
〔実施例１〕
まず、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によってニッケルリンめっき層としての転写面加工層２２を成膜し、切削加工により所望の形状を有する母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面にクロム膜を約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。このクロム膜の上に、ＣＶＤにより二酸化ケイ素を約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この二酸化ケイ素膜の上にシランカップリング剤を塗布して加熱等の処理を施すことによって離型膜２５を形成した。この場合、シランカップリング剤として、オプツールＤＳＸ（商標名）を使用する。このときオプツールＤＳＸは単分子層を形成するので、離型膜２５の膜厚は約５ｎｍである。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて樹脂との離型性が良いオプツール膜を被覆させることができる。このオプツール膜製の離型膜２５は、その下地のＳｉＯ２膜製の中間膜２４と共有結合するため、離型膜２５は、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５０】
オプツール膜製の離型膜２５や、その下のＳｉＯ２膜製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液の主成分は、１水素２フッ化アンモニウムと過酸化水素水とである。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、酸化クロムのみが検出される。これは、エッチング液によってオプツール膜の離型膜２５とＳｉＯ２膜の中間膜２４とが除去され、剥き出しになったクロム膜の酸化皮膜を検出していることを意味している。したがって、上記のようなエッチング処理は、クロム膜で止まっており、クロム製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになったクロム製の保護膜２３の上に、新しく二酸化ケイ素膜、オプツール膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５１】
〔実施例２〕
実施例１と同様に、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によって転写面加工層２２を成膜し、この表面に母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面に炭化珪素膜を約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。この保護膜２３上に、ＣＶＤにより二酸化ケイ素を約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この中間膜２４上にシランカップリング剤（具体的にはオプツールＤＳＸ（商標名））を塗布して加熱等の処理を施すことによって約５ｎｍの膜厚を有する離型膜２５を形成した。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて、樹脂との離型性が良いシランカップリング剤による被覆が可能になる。この離型膜２５は、その下地のＳｉＯ２製の中間膜２４と共有結合し、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５２】
シランカップリング剤製の離型膜２５や、その下のＳｉＯ２製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、炭化珪素のみが検出される。つまり、上記のようなエッチング処理は、炭化珪素膜で止まっており、炭化珪素製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになった炭化珪素製の保護膜２３の上に、新しく二酸化ケイ素膜、シランカップリング剤製の膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５３】
〔実施例３〕
実施例１と同様に、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によって転写面加工層２２を成膜し、この表面に母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面にアルミナを約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。この保護膜２３上に、ＣＶＤにより二酸化ケイ素を約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この中間膜２４上にシランカップリング剤（具体的にはオプツールＤＳＸ（商標名））を塗布して加熱等の処理を施すことによって約５ｎｍの膜厚を有する離型膜２５を形成した。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて、樹脂との離型性が良いシランカップリング剤による被覆が可能になる。この離型膜２５は、その下地のＳｉＯ２製の中間膜２４と共有結合し、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５４】
シランカップリング剤製の離型膜２５や、その下のＳｉＯ２製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、アルミナのみが検出される。つまり、上記のようなエッチング処理は、アルミナ膜で止まっており、アルミナ製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになったアルミナ製の保護膜２３の上に、新しく二酸化ケイ素膜、シランカップリング剤製の膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５５】
〔実施例４〕
実施例１と同様に、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によって転写面加工層２２を成膜し、この表面に母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面に酸化クロムを約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。この保護膜２３上に、ＣＶＤにより二酸化ケイ素を約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この中間膜２４上にシランカップリング剤（具体的にはオプツールＤＳＸ（商標名））を塗布して加熱等の処理を施すことによって約５ｎｍの膜厚を有する離型膜２５を形成した。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて、樹脂との離型性が良いシランカップリング剤による被覆が可能になる。この離型膜２５は、その下地のＳｉＯ２製の中間膜２４と共有結合し、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５６】
シランカップリング剤製の離型膜２５や、その下のＳｉＯ２製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、酸化クロムのみが検出される。つまり、上記のようなエッチング処理は、酸化クロム膜で止まっており、酸化クロム製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになった酸化クロム製の保護膜２３の上に、新しく二酸化ケイ素膜、シランカップリング剤製の膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５７】
〔実施例５〕
実施例１と同様に、本体部分２１を準備し、無電解ニッケルめっき法によって転写面加工層２２を成膜し、この表面に母材転写面２２ａを形成した。次に、コア部５１，６１の表面を洗浄後、スッパッタリングにより、コア部５１，６１の端面にクロムを約４０ｎｍの膜厚で被覆させて保護膜２３を形成した。この保護膜２３上に、ＣＶＤにより酸化チタンを約２０ｎｍの膜厚で被覆させて中間膜２４を形成した。この中間膜２４上にシランカップリング剤（具体的にはオプツールＤＳＸ（商標名））を塗布して加熱等の処理を施すことによって約５ｎｍの膜厚を有する離型膜２５を形成した。以上のように処理することで、コア部５１，６１の表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａにおいて、樹脂との離型性が良いシランカップリング剤による被覆が可能になる。この離型膜２５は、その下地の酸化チタン製の中間膜２４と共有結合し、コア部５１，６１の下地と強固に結合している。さらに、母材転写面２２ａ上に被覆された保護膜２３、中間膜２４、及び離型膜２５の合計膜厚は、約６５ｎｍと薄いので、コア部５１，６１の最表面すなわち光学面形成面５６ａ，６６ａの形状は、母材転写面２２ａの形状を精度良く再現したものとなっている。
【００５８】
シランカップリング剤製の離型膜２５や、その下の酸化チタン製の中間膜２４は、成形を繰り返すと劣化し、離型性が悪くなった。そこで、このように劣化したコア部５１，６１を以下のような処理によって再生した。具体的には、中間膜２４等の除去に使用するエッチング液として、ガラスコートの除去液を用いた。このエッチング液にコア部５１，６１の適所を１０分間浸漬する。浸漬後のコア部５１，６１の表面を組成分析した結果、酸化クロムのみが検出される。つまり、上記のようなエッチング処理は、酸化クロム膜で止まっており、クロム製の保護膜２３が保護膜としての役割を果たしていることが分かった。この剥き出しになったクロム製の保護膜２３の上に、新しく酸化チタン膜、シランカップリング剤製の膜の順に被覆することで、中間膜２４と離型膜２５とを順次形成した。以上の再生処理により、コア部５１，６１は再び離型性を有するようになり、元のように精密な形状を有する樹脂成形品を製造できた。つまり、加工や研磨を行うことなく金型としてのコア部５１，６１を再生することができた。
【００５９】
以上のように、本実施形態に係る成形金型やその再生方法によれば、離型膜２５と共有結合する中間膜２４と、金型母材を構成する転写面加工層２２や本体部分２１との間に、エッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜２３を設けるので、離型膜２５を中間膜２４とともにエッチング液によって除去する際に、転写面加工層２２等をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜２５の付着性を下地の中間膜２４によって高めたタイプの成形金型４０においても、中間膜２４と離型膜２５とを一旦除去して再度形成する成形金型４０の再生が可能になる。ここで、保護膜２３が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下と、比較的薄いので、転写面加工層２２等における母材転写面２２ａの形状が保たれ転写精度を高めることができる。
【００６０】
〔第２実施形態〕
図５（Ａ）に示す第２実施形態の成形金型４４１は、マスター成形型であり、図５（Ｂ）に示す樹脂製品としてのウエハレンズＷＬを成形又は製造するために用いられる。なお、ウエハレンズＷＬの製造にあたっては、成形用の型として、図５（Ａ）の成形金型４４１のほかに、図５（Ｃ）に示すサブマスター成形型４４２も使用される。なお、サブマスター成形型４４２は、光学面形成面４５７ａと、その他の面４５７ｂとを有する成型用の本体成形部４４６の裏面側に裏打ち材４４７を貼り付けて強度を増している。
【００６１】
成形金型４４１の表面部４４１ａには、光学面形成面４５６ａと非光学面形成面４５６ｂとが形成されている。成形金型４４１の表面部４４１ａの構造は、図２に示すものと同様となっており、本体部分２１上に、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを順次積層した構造を有する。
【００６２】
以下、図５（Ａ）の成形金型４４１等を用いたウエハレンズＷＬの製造方法一例について説明する。まず、成形金型４４１を準備する（図６（Ａ）参照）。成形金型４４１の製造方法は、図２に示すコア部５１の製造方法と同様である。すなわち、成形金型４４１の母材をニッケルリンめっき層で被覆して転写面加工層２２を形成し、クロム（Ｃｒ）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）等を気相法で成膜して保護膜２３とする。その上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）を気相法で成膜して保護膜２３よりも薄い中間膜２４とする。この保護膜２３は、シランカップリング剤等の材料で形成された離型膜２５で被覆される。
【００６３】
次に、成形金型４４１からサブマスター成形型４４２を作製する（図６（Ｂ）参照）。サブマスター成形型４４２は、樹脂製であり、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれを用いてもよい。ここで、成形金型４４１の光学面形成面４５６ａと非光学面形成面４５６ｂとは、離型膜２５で覆われており、サブマスター成形型４４２の離型を容易にすることができる。
【００６４】
次に、ガラス基板ＧＰを準備し、ガラス板ＧＰと、サブマスター成形型４４２の表面部４４２ａとの間に樹脂を充填して硬化させる（図６（Ｃ）参照）。より詳細には、サブマスター成形型４４２の凹部を形成する光学面形成面４５７ａに樹脂ＲＥを充填し、その上方からガラス基板ＧＰを押圧し、充填された樹脂ＲＥを硬化させる。なお、サブマスター成形型４４２に樹脂ＲＥを充填するのに代えて、ガラス基板ＧＰに樹脂ＲＥを塗布し、樹脂ＲＥが塗布されたガラス基板ＧＰをサブマスター成形型４４２に押圧することもできる。樹脂ＲＥの塗布には、スプレーコート，スピンコート等の手法を用いることができる。樹脂ＲＥの硬化には、例えばガラス板ＧＰやサブマスター成形型４４２のいずれか又は双方の背後に配置した光源によって樹脂ＲＥに対する光照射を行う。樹脂ＲＥの硬化により、ガラス基板ＧＰ上には、レンズ部ＬＰが形成される。
【００６５】
その後、ガラス板ＧＰと、サブマスター成形型４４２の光学面形成面４５７ａ等との間に充填された樹脂ＲＥが硬化した段階で、レンズ部ＬＰを設けたガラス板ＧＰをサブマスター成形型４４２から離型する（図６（Ｄ）参照）。これにより、ガラス基板ＧＰ上に硬化した樹脂ＲＥすなわちレンズ部ＬＰを設けたウエハレンズＷＬが得られる。
【００６６】
以上のようなウエハレンズＷＬの作製において、成形金型４４１の使用を多数回繰り返すと、成形金型４４１の表面の離型膜２５が部分的に除去される。よって、定期的に成形金型４４１の表面に対して、シランカップリング剤の再付着処理を行う。これにより、中間膜２４を十分に被覆する保護膜２３を再生することができる。
【００６７】
また、成形金型４４１を用いたウエハレンズＷＬの作製をさらに多数回繰り返すと、成形金型４４１の端面の中間膜２４が離型膜２５とともに部分的に除去される。この場合、シランカップリング剤の再付着処理では、成形金型４０を再生することができないので、中間膜２４と離型膜２５とを再形成することで、コア部５１，６１を略初期状態に再生することができる。具体的な工程は、第１実施形態で説明した成形金型４０のコア部５１，６１の再生と同様である（図４（Ａ）〜４（Ｄ）参照）。
【００６８】
以上の第２実施形態において、ガラス板ＧＰの一面にのみレンズ部ＬＰを設けることによってウエハレンズＷＬを完成しているが、成形金型４４１と同様の成形金型を用いてガラス板ＧＰの両面にレンズ部ＬＰを設けることもできる。また、レンズ部ＬＰの個数や配列も用途等に応じて適宜変更することができる。
【００６９】
以上の第２実施形態によっても、離型膜２５を中間膜２４とともにエッチング液によって除去する際に、転写面加工層２２等をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜２５の付着性を下地の中間膜２４によって高めたタイプの成形金型４４１においても、中間膜２４と離型膜２５とを一旦除去して再度形成する成形金型４４１の再生が可能になる。
【００７０】
なお、第２実施形態の成形金型４４１についても、詳細な説明は省略するが、上記第１実施形態の実施例１〜５と同様の結果を得た。
【００７１】
以上実施形態に即して本発明を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、上記第１実施形態では、コア部５１，６１の先端部５１ａ，６１ａにおいて、転写面加工層２２と、保護膜２３と、中間膜２４と、離型膜２５とを設けているが、固定金型４１や可動金型４２がコア部５１，６１を有しない一体型の金型である場合、固定金型４１や可動金型４２の端部において、図２等に示す転写面加工層２２、保護膜２３、中間膜２４、離型膜２５等を設けることができる。
【００７２】
また、コア部５１，６１や成形金型４４１において、本体部分２１と転写面加工層２２との間に、追加的な膜や層を形成することもできる。
【００７３】
また、固定金型４１及び可動金型４２で構成される射出成形金型に設けるキャビティＣＶの形状は、図示のものに限らず、様々な形状とすることができる。すなわち、コア部５１，６１等によって形成されるキャビティＣＶの形状は、単なる例示であり、レンズＯＬの用途等に応じて適宜変更することができる。また、成形金型４４１の表面部４４１ａに形成する光学面形成面４５６ａの形状も、図示のものに限らず、様々な形状とすることができる。
【符号の説明】
【００７４】
２１…本体部分、 ２…転写面加工層、 ２ａ…母材転写面、 ３…保護膜、 ４…中間膜、 ２５…離型膜、 ４０…成形金型、 ４１…固定金型、 ４２…可動金型、 ５１…コア部、 ５１ａ…先端部、 ５１ａ，６１ａ…先端部、 ５３…型板、 ５４…取付板、 ５６ａ…光学面形成面、 ５６ｂ…フランジ形成面、 ５７ａ…貫通孔、 ６１…コア部、 ６１ａ…先端部、 ６３…型板、 ６４…取付板、 ６６ａ…光学面形成面、 ６６ｂ…フランジ形成面、 ＡＸ…軸、 ＣＶ…キャビティ、 ＦＳ…微細形状、 ＯＬ…レンズ、 ＯＬａ…中心部、 ＰＬ…パーティングライン、 Ｓａ，Ｓｂ…光学面
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、
前記金型母材の母材転写面上に当該母材転写面を被覆するように形成され、エッチング液に対する耐性を有し、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜と、
前記保護膜上に形成される中間膜と、
中間膜上に形成され、前記中間膜と共有結合する離型膜とを有する成形金型。
【請求項２】
前記母材転写面は、微細形状を有する光学面に対応する微細形状を有することを特徴とする請求項１に記載の成形金型。
【請求項３】
前記母材転写面に形成される微細形状は、ナノメータオーダーのサイズを有することを特徴とする請求項２に記載の成形金型。
【請求項４】
前記金型母材の表面は、無電解ニッケルメッキによって形成されたメッキ層で形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の成形金型。
【請求項５】
前記離型膜は、フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤で形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の成形金型。
【請求項６】
前記中間膜は、二酸化珪素、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、及び酸化亜鉛のうち少なくとも１つで形成されていることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の成形金型。
【請求項７】
前記中間膜は、気相法によって成膜されることを特徴とする請求項６に記載の成形金型。
【請求項８】
前記中間膜は、液相法によって成膜されることを特徴とする請求項６に記載の成形金型。
【請求項９】
前記保護膜は、アルミナ、炭化珪素、クロム、及び酸化クロムのうち少なくとも１つで形成されることを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の成形金型。
【請求項１０】
樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、前記金型母材の母材転写面上に当該母材転写面を被覆するように形成される保護膜と、前記保護膜上に形成される中間膜と、中間膜上に形成され前記中間膜と共有結合する離型膜とを有する成形金型の再生方法であって、
エッチング液に浸漬し、中間膜と離型膜を除去することによって、エッチング液に対する耐性を有する前記保護膜を露出させる工程と、
前記保護膜の上に、新しい中間膜を成膜する工程と、
前記新しい中間膜上に、新しい離型膜を成膜する工程とを備えることを特徴とする成形金型の再生方法。
【請求項１１】
樹脂成形用の成形金型を用いた樹脂製品の製造方法であって、
前記成形金型は、樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、離型膜と共有結合する中間膜との間に、エッチング液に対する耐性を有し、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜を有し、
前記樹脂製品は、前記保護膜の表面形状に略一致する被転写面を有することを特徴とする樹脂製品の製造方法。
【請求項１】
樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、
前記金型母材の母材転写面上に当該母材転写面を被覆するように形成され、エッチング液に対する耐性を有し、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜と、
前記保護膜上に形成される中間膜と、
中間膜上に形成され、前記中間膜と共有結合する離型膜とを有する成形金型。
【請求項２】
前記母材転写面は、微細形状を有する光学面に対応する微細形状を有することを特徴とする請求項１に記載の成形金型。
【請求項３】
前記母材転写面に形成される微細形状は、ナノメータオーダーのサイズを有することを特徴とする請求項２に記載の成形金型。
【請求項４】
前記金型母材の表面は、無電解ニッケルメッキによって形成されたメッキ層で形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の成形金型。
【請求項５】
前記離型膜は、フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤で形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の成形金型。
【請求項６】
前記中間膜は、二酸化珪素、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、及び酸化亜鉛のうち少なくとも１つで形成されていることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の成形金型。
【請求項７】
前記中間膜は、気相法によって成膜されることを特徴とする請求項６に記載の成形金型。
【請求項８】
前記中間膜は、液相法によって成膜されることを特徴とする請求項６に記載の成形金型。
【請求項９】
前記保護膜は、アルミナ、炭化珪素、クロム、及び酸化クロムのうち少なくとも１つで形成されることを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の成形金型。
【請求項１０】
樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、前記金型母材の母材転写面上に当該母材転写面を被覆するように形成される保護膜と、前記保護膜上に形成される中間膜と、中間膜上に形成され前記中間膜と共有結合する離型膜とを有する成形金型の再生方法であって、
エッチング液に浸漬し、中間膜と離型膜を除去することによって、エッチング液に対する耐性を有する前記保護膜を露出させる工程と、
前記保護膜の上に、新しい中間膜を成膜する工程と、
前記新しい中間膜上に、新しい離型膜を成膜する工程とを備えることを特徴とする成形金型の再生方法。
【請求項１１】
樹脂成形用の成形金型を用いた樹脂製品の製造方法であって、
前記成形金型は、樹脂成形用の転写面の土台となる金型母材と、離型膜と共有結合する中間膜との間に、エッチング液に対する耐性を有し、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜を有し、
前記樹脂製品は、前記保護膜の表面形状に略一致する被転写面を有することを特徴とする樹脂製品の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１１−２１３００５（Ｐ２０１１−２１３００５Ａ）
【公開日】平成２３年１０月２７日（２０１１．１０．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８４３８５（Ｐ２０１０−８４３８５）
【出願日】平成２２年３月３１日（２０１０．３．３１）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月２７日（２０１１．１０．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月３１日（２０１０．３．３１）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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