接続端子およびその製造方法
【課題】摩擦係数が低い接続端子およびその接続端子を低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子において、雄端子および雌端子が、それぞれ銅または銅合金からなる導体基材の表面にＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層などのめっき層が形成されためっき材からなり、雄端子と雌端子が当接する部分に、動粘度が６０００ｃＳｔ以上、好ましくは８０００ｃＳｔ以上、さらに好ましくは１００００ｃＳｔ以上である流動パラフィンやシリコンオイルなどのベースオイルのみの組成の潤滑剤が塗布されている。
【解決手段】互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子において、雄端子および雌端子が、それぞれ銅または銅合金からなる導体基材の表面にＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層などのめっき層が形成されためっき材からなり、雄端子と雌端子が当接する部分に、動粘度が６０００ｃＳｔ以上、好ましくは８０００ｃＳｔ以上、さらに好ましくは１００００ｃＳｔ以上である流動パラフィンやシリコンオイルなどのベースオイルのみの組成の潤滑剤が塗布されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接続端子およびその製造方法に関し、特に、挿抜可能な接続端子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、挿抜可能な接続端子の材料として、銅や銅合金などの導体素材の最外層にＳｎめっきを施したＳｎめっき材が使用されている。特に、Ｓｎめっき材は、接触抵抗が小さく、接触信頼性、耐食性、はんだ付け性、経済性などの観点から、自動車、携帯電話、パソコンなどの情報通信機器、ロボットなどの産業機器の制御基板、コネクタ、リードフレーム、リレー、スイッチなどの端子やバスバーの材料として使用されている。
【０００３】
一般に、このようなＳｎめっきは、電気めっきによって行われており、Ｓｎめっき材の内部応力を除去してウイスカの発生を抑制するために、電気めっきの直後にリフロー処理（Ｓｎ溶融処理）が行われている。このようにＳｎめっき後にリフロー処理を行うと、Ｓｎの一部が素材や下地成分に拡散して化合物層を形成し、この化合物層の上に柔らかい溶融凝固組織になったＳｎ層（以下「純Ｓｎ層」という）が形成される。この純Ｓｎ層は、優れた接触信頼性、耐食性およびはんだ付け性を得るために極めて重要な役割を果たす。
【０００４】
しかし、純Ｓｎ層は軟質で変形し易いため、リフロー処理を施したＳｎめっき材を挿抜可能な接続端子などの材料として使用すると、接続端子の挿入時に表面が削れて摩擦係数が高くなって挿入力が高くなるという問題がある。また、自動車などの接続端子では、端子の多極化が進んでおり、端子の数に比例して組立て時の挿入力が上昇し、作業負荷が問題になっている。
【０００５】
このような問題を解消するため、リフロー処理を施したＳｎめっき材では、軟質層である純Ｓｎ層の膜厚を薄くして、リフロー処理により硬質なＣｕ−Ｓｎ化合物層などの化合物層を下地に形成することによって、摩擦係数の低減を図っている。しかし、純Ｓｎ層を薄くすると、素材や下地の成分が経時変化により最表面に速く拡散して耐熱性や接触信頼性が低下する。そのため、母材の表面にＮｉめっき層と、Ｃｕめっき層と、厚さ０．４〜１．１μｍの薄いＳｎめっき層とをこの順で積層する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、素材の表面に算術平均粗さＲａが０．１５μｍ以上の凹凸を形成して接触面積を少なくするとともに、凸部においてＣｕ−Ｓｎ化合物層を露出させることによって、挿入力を低くする方法も提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
また、基材の表面にフッ素系樹脂微粒子とフッ素系油を塗布することにより、摩擦係数を低くして挿入力を低くする方法も提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００８】
また、Ｓｎを含む鋼合金の基材を加熱して酸化処理し、水素イオン濃度を所定の範囲に調整したフッ素化合物溶液に浸した後に、下地用金属をめっきすることにより直径１０〜１００μｍの基材の複数の凹部を形成し、接触用金属をめっきし、潤滑物質を塗布して、充分な耐摩耗性および高潤滑性を有するコンタクトを得る方法も提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【０００９】
さらに、炭化水素系物質とこの炭化水素系物質を乳化するための界面活性剤とを含む水溶性金属表面潤滑剤をコネクタなどの電子部品の表面に塗布することにより、摩擦係数を低くして接触抵抗値を低くする方法も提案されている（例えば、特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−１４７５７９号公報（段落番号０００７）
【特許文献２】特開２００６−１８３０６８号公報（段落番号００１２−００１３）
【特許文献３】特開２００５−１９１０３号公報（段落番号００３４）
【特許文献４】特開２００６−２０２５６９号公報（段落番号００１２、００１８）
【特許文献５】特開２００２−２１２５８２号公報（段落番号０００７、００１４）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、特許文献１のように、Ｎｉ層を挿入する方法では、Ｎｉめっきの工程の分だけ工程数が多くなり、めっきラインの管理コストやイニシャルコストが増大し、また、摩擦係数の低減の効果が十分ではない。
【００１２】
また、特許文献２のように、素材の表面に算術平均粗さＲａが０．１５μｍ以上の凹凸を形成してＣｕ−Ｓｎ化合物層を露出させる方法では、Ｃｕ−Ｓｎ化合物層の露出により、はんだ付け性や耐食性が劣化し、また、凹凸の形成にコストがかかる。
【００１３】
また、特許文献３のように、基材の表面にフッ素系樹脂微粒子とフッ素系油を塗布する方法では、潤滑剤としてフッ素系油に加えてフッ素系樹脂微粒子が必要となるため、潤滑剤の原料コストや管理コストが高くなる。
【００１４】
また、特許文献４のように、Ｓｎを含む銅合金の基材の表面に凹凸を形成する方法では、基材の種類がＳｎを含む銅合金に限定され、また、素材の処理に多大なコストがかかり、素材の処理により生産性が低くなる。
【００１５】
さらに、特許文献５のように、水溶性金属表面潤滑剤をコネクタなどの電子部品の表面に塗布する方法では、水溶性金属表面潤滑剤を使用するため、非水系潤滑剤を使用する場合と比べて摩擦係数の低減の効果が小さくなる。
【００１６】
したがって、本発明は、このような従来の問題点に鑑み、摩擦係数が低い接続端子およびその接続端子を低コストで製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤を塗布することにより、摩擦係数が低い接続端子を低コストで製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１８】
すなわち、本発明による接続端子は、互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤が塗布されていることを特徴とする。この接続端子において、雄端子および雌端子が、それぞれ導体基材の表面にＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層などのめっき層が形成されためっき材からなるのが好ましく、導体基材が銅または銅合金からなるのが好ましい。また、潤滑剤が流動パラフィンまたはシリコンオイルであるのが好ましい。
【００１９】
また、本発明による接続端子の製造方法は、互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子の製造方法において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤を塗布することを特徴とする。この接続端子の製造方法において、雄端子および雌端子が、それぞれ導体基材の表面にＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層などのめっき層が形成されためっき材からなるのが好ましく、導体基材が銅または銅合金からなるのが好ましい。また、潤滑剤が流動パラフィンまたはシリコンオイルであるのが好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、摩擦係数が低い接続端子を低コストで製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施例１〜６および比較例１〜７で得られた試験片の摩擦係数と潤滑剤の動粘度との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明による接続端子の実施の形態は、互いに当接する雄端子と雌端子からなり、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤が塗布されている。
【００２３】
この接続端子では、雄端子および雌端子が、それぞれ導体基材の表面にＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層などのめっき層が形成されためっき材からなるのが好ましく、特にＳｎめっき層が形成されたＳｎめっき材からなるのが好ましい。また、導体基材の表面にＳｎめっき層を形成する場合、導体基材の表面とＳｎめっき層との間に、Ｎｉめっき層とＣｕめっき層をこの順で形成してもよく、Ｎｉめっき層とＣｕめっき層とＣｕＳｎめっき層をこの順で形成してもよく、ＣｕＳｎめっき層またはＮｉめっき層を形成してもよい。なお、めっき層の形成には、通常の電気めっきなどを行えばよく、表面への微細な凹凸加工などを行う必要はない。
【００２４】
潤滑剤は、動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤であり、動粘度８０００ｃＳｔ以上の潤滑剤であるのが好ましく、動粘度１００００ｃＳｔ以上の潤滑剤であるのがさらに好ましい。このように非常に高い動粘度の潤滑剤は、従来の潤滑剤として使用されている動粘度１〜１０００ｃＳｔの潤滑剤と比べて、摩擦係数を大きく低下させることができる。また、潤滑剤は、流動パラフィンまたはシリコンオイルであるのが好ましく、その組成は、流動パラフィンやシリコンオイルなどのベースオイルのみの組成でもよい。すなわち、ベースオイルに種々の添加剤を加えた組成の潤滑剤を使用しなくても、流動パラフィンやシリコンオイルなどのベースオイルのみの組成の潤滑剤でも、極端に高い動粘度の潤滑剤を使用すれば、従来の潤滑剤として使用されている動粘度１〜１００ｃＳｔの潤滑剤と比べて、大きく摩擦係数を低下させることができる。
【００２５】
なお、このような極端に高い動粘度の潤滑剤は、雄端子または雌端子の表面の雄端子と雌端子が当接する部分（雄端子と雌端子の接点部）に塗布されていればよく、雄端子と雌端子を嵌合などにより当接させる作業を行う前に雄端子の雌端子との接点部に付着させてもよいし、あるいは、雌端子を端子形状に形成した後に雌端子の雄端子との接点部（インデント先端部）に付着させてもよい。
【００２６】
また、このような高い動粘度の潤滑剤は、雄端子と雌端子の接点部に塗布すると、接点部から流出することなく保持され、少量でも接点部の摩擦係数を低減させることができるので、潤滑剤の塗布量は少量でもよい。なお、同じ組成の潤滑剤では粘度が高いほど揮発性が低くなるため、このような高い動粘度の潤滑剤は、揮発性が低く、高温環境下に長時間放置されても、摩擦係数の低減の効果を維持することができるので、高温環境における耐久性に優れている。また、このような高い動粘度の潤滑剤は、雄端子と雌端子の接点部に塗布しても、接触抵抗値が増加することなく、電気接点としての機能を損なうことはない。
【００２７】
導体基材は、銅または銅合金からなるのが好ましく、ＣＤＡ番号でＣ１９０２５合金（例えば、ＤＯＷＡメタルテック株式会社製のＮＢ−１０９合金）やＣ１９０２０合金（例えば、ＮＢ−１０５合金）などのＣｕ−Ｎｉ−Ｓｎ系合金、Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ系合金、りん青銅、黄銅などを使用することができる。特に、雌端子の導体基材はＢｅ銅やチタン銅などの高強度で高コストの銅合金でなく、Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｎ系合金やりん青銅からなるのが好ましく、雄端子の導体基材は黄銅からなるのが好ましい。なお、ステンレス（ＳＵＳ）などの鉄系材料や、アルミニウム合金などからなる導体基材を使用してもよい。
【実施例】
【００２８】
以下、本発明による接続端子およびその製造方法の実施例について詳細に説明する。
【００２９】
［実施例１］
まず、厚さ０．２５ｍｍのＣｕ−Ｎｉ−Ｓｎ合金からなる平板状の導体基材（ＤＯＷＡメタルテック株式会社製のＮＢ−１０９−ＥＨ材（０．１質量％のＮｉと０．９質量％のＳｎと０．９質量％のＰを含み、残部がＣｕである銅合金の基材））に厚さ１μｍのＳｎめっきを施した後にリフロー処理を施したＳｎめっき材を２枚用意した。
【００３０】
次に、一方のＳｎめっき材の７０ｍｍ×７０ｍｍの領域に、潤滑剤として、４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９８ｇ／ｃｍ３）１ｍＬを室温（２５℃）で滴下して広がらせて塗布することにより得られた試験片を評価試料（雄端子としての試験片）とした。また、他方のＳｎめっき材をインデント加工（Ｒ１ｍｍ）して得られた試験片を圧子（雌端子としての試験片）とした。なお、このインデント加工した試験片（圧子）には、潤滑剤が塗布されていないが、平板状の評価試料に接触させることにより、圧子にも潤滑剤が塗布された状態になる。
【００３１】
次に、評価試料を横型荷重測定器（株式会社山崎精機研究所製の電気接点シミュレータと、ステージコントローラと、ロードセルと、ロードセルアンプとを組み合わせた装置）の水平台上に固定し、その評価試料に圧子を接触させた後、それぞれ荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎで圧子を評価試料の表面に押し付けながら、評価試料を摺動速度８０ｍｍ／分で水平方向に摺動距離１０ｍｍ引っ張り、１ｍｍから４ｍｍまでの間（測定距離３ｍｍ）に水平方向にかかる力を測定してその平均値Ｆを算出し、試験片同士間の動摩擦係数（μ）をμ＝Ｆ／Ｎから算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．１７、０．１３、０．１３、０．１４、０．１３および０．１４であった。
【００３２】
［実施例２］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１０００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１０００００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９８ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．１９、０．１５、０．１３、０．１２、０．１２および０．１３であった。
【００３３】
［実施例３］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１００００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９８ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．１８、０．１４、０．１３、０．１２、０．１２および０．１０であった。
【００３４】
［実施例４］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１００００００ｃＳｔより高い真空グリス（引火点＞１０１℃、密度１．１ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２２、０．１７、０．１５、０．１９、０．１７および０．１６であった。
【００３５】
［比較例１］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１０００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９７ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２６、０．２１、０．１９、０．１７、０．１６および０．１６であった。
【００３６】
［比較例２］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が５０００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−５０００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９８ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２６、０．２２、０．２０、０．１７、０．１６および０．１６であった。
【００３７】
［比較例３］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）を塗布しなかった以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．４８、０．３４、０．３３、０．２８、０．２４および０．２１であった。
【００３８】
［比較例４］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が５ｃＳｔの流動パラフィン（Ｎｏ．４０−Ｓ、引火点１３４℃、流動点−８℃、密度０．８３ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．３８、０．３２、０．２４、０．２２、０．１９および０．１８であった。
【００３９】
［比較例５］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が２８ｃＳｔの流動パラフィン（Ｎｏ．１５０−Ｓ、引火点２２０℃、流動点−８℃、密度０．８６ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．３３、０．２４、０．２３、０．１９、０．１７および０．１６であった。
【００４０】
［比較例６］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が７８ｃＳｔの流動パラフィン（Ｎｏ．３５０−Ｓ、引火点２２４℃、流動点−８℃、密度０．８８ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２７、０．２２、０．２０、０．１５、０．１５および０．１５であった。
【００４１】
［比較例７］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１０ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１０ｃｓ、引火点１６０℃、流動点−１００℃、密度０．９４ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．３３、０．３０、０．２５、０．２３、０．１９および０．１４であった。
【００４２】
［比較例８］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９７ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２８、０．２２、０．２０、０．１９、０．１７および０．１６であった。
【００４３】
［比較例９］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が６ｃＳｔのプレス油（ユニプレスＰＡ５、引火点１４０℃、流動点−３８℃、密度０．８３ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．３１、０．２６、０．２３、０．２２、０．１８および０．１７であった。
【００４４】
これらの実施例および比較例で得られた試験片の潤滑剤の種類および特性を表１に示し、摩擦係数および潤滑剤がない場合に対する摩擦係数の割合を表２に示す。また、実施例および比較例で得られた試験片の摩擦係数と潤滑剤の動粘度との関係を図１に示す。
【００４５】
【表１】
【００４６】
【表２】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接続端子およびその製造方法に関し、特に、挿抜可能な接続端子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、挿抜可能な接続端子の材料として、銅や銅合金などの導体素材の最外層にＳｎめっきを施したＳｎめっき材が使用されている。特に、Ｓｎめっき材は、接触抵抗が小さく、接触信頼性、耐食性、はんだ付け性、経済性などの観点から、自動車、携帯電話、パソコンなどの情報通信機器、ロボットなどの産業機器の制御基板、コネクタ、リードフレーム、リレー、スイッチなどの端子やバスバーの材料として使用されている。
【０００３】
一般に、このようなＳｎめっきは、電気めっきによって行われており、Ｓｎめっき材の内部応力を除去してウイスカの発生を抑制するために、電気めっきの直後にリフロー処理（Ｓｎ溶融処理）が行われている。このようにＳｎめっき後にリフロー処理を行うと、Ｓｎの一部が素材や下地成分に拡散して化合物層を形成し、この化合物層の上に柔らかい溶融凝固組織になったＳｎ層（以下「純Ｓｎ層」という）が形成される。この純Ｓｎ層は、優れた接触信頼性、耐食性およびはんだ付け性を得るために極めて重要な役割を果たす。
【０００４】
しかし、純Ｓｎ層は軟質で変形し易いため、リフロー処理を施したＳｎめっき材を挿抜可能な接続端子などの材料として使用すると、接続端子の挿入時に表面が削れて摩擦係数が高くなって挿入力が高くなるという問題がある。また、自動車などの接続端子では、端子の多極化が進んでおり、端子の数に比例して組立て時の挿入力が上昇し、作業負荷が問題になっている。
【０００５】
このような問題を解消するため、リフロー処理を施したＳｎめっき材では、軟質層である純Ｓｎ層の膜厚を薄くして、リフロー処理により硬質なＣｕ−Ｓｎ化合物層などの化合物層を下地に形成することによって、摩擦係数の低減を図っている。しかし、純Ｓｎ層を薄くすると、素材や下地の成分が経時変化により最表面に速く拡散して耐熱性や接触信頼性が低下する。そのため、母材の表面にＮｉめっき層と、Ｃｕめっき層と、厚さ０．４〜１．１μｍの薄いＳｎめっき層とをこの順で積層する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、素材の表面に算術平均粗さＲａが０．１５μｍ以上の凹凸を形成して接触面積を少なくするとともに、凸部においてＣｕ−Ｓｎ化合物層を露出させることによって、挿入力を低くする方法も提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
また、基材の表面にフッ素系樹脂微粒子とフッ素系油を塗布することにより、摩擦係数を低くして挿入力を低くする方法も提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００８】
また、Ｓｎを含む鋼合金の基材を加熱して酸化処理し、水素イオン濃度を所定の範囲に調整したフッ素化合物溶液に浸した後に、下地用金属をめっきすることにより直径１０〜１００μｍの基材の複数の凹部を形成し、接触用金属をめっきし、潤滑物質を塗布して、充分な耐摩耗性および高潤滑性を有するコンタクトを得る方法も提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【０００９】
さらに、炭化水素系物質とこの炭化水素系物質を乳化するための界面活性剤とを含む水溶性金属表面潤滑剤をコネクタなどの電子部品の表面に塗布することにより、摩擦係数を低くして接触抵抗値を低くする方法も提案されている（例えば、特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−１４７５７９号公報（段落番号０００７）
【特許文献２】特開２００６−１８３０６８号公報（段落番号００１２−００１３）
【特許文献３】特開２００５−１９１０３号公報（段落番号００３４）
【特許文献４】特開２００６−２０２５６９号公報（段落番号００１２、００１８）
【特許文献５】特開２００２−２１２５８２号公報（段落番号０００７、００１４）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、特許文献１のように、Ｎｉ層を挿入する方法では、Ｎｉめっきの工程の分だけ工程数が多くなり、めっきラインの管理コストやイニシャルコストが増大し、また、摩擦係数の低減の効果が十分ではない。
【００１２】
また、特許文献２のように、素材の表面に算術平均粗さＲａが０．１５μｍ以上の凹凸を形成してＣｕ−Ｓｎ化合物層を露出させる方法では、Ｃｕ−Ｓｎ化合物層の露出により、はんだ付け性や耐食性が劣化し、また、凹凸の形成にコストがかかる。
【００１３】
また、特許文献３のように、基材の表面にフッ素系樹脂微粒子とフッ素系油を塗布する方法では、潤滑剤としてフッ素系油に加えてフッ素系樹脂微粒子が必要となるため、潤滑剤の原料コストや管理コストが高くなる。
【００１４】
また、特許文献４のように、Ｓｎを含む銅合金の基材の表面に凹凸を形成する方法では、基材の種類がＳｎを含む銅合金に限定され、また、素材の処理に多大なコストがかかり、素材の処理により生産性が低くなる。
【００１５】
さらに、特許文献５のように、水溶性金属表面潤滑剤をコネクタなどの電子部品の表面に塗布する方法では、水溶性金属表面潤滑剤を使用するため、非水系潤滑剤を使用する場合と比べて摩擦係数の低減の効果が小さくなる。
【００１６】
したがって、本発明は、このような従来の問題点に鑑み、摩擦係数が低い接続端子およびその接続端子を低コストで製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤を塗布することにより、摩擦係数が低い接続端子を低コストで製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１８】
すなわち、本発明による接続端子は、互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤が塗布されていることを特徴とする。この接続端子において、雄端子および雌端子が、それぞれ導体基材の表面にＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層などのめっき層が形成されためっき材からなるのが好ましく、導体基材が銅または銅合金からなるのが好ましい。また、潤滑剤が流動パラフィンまたはシリコンオイルであるのが好ましい。
【００１９】
また、本発明による接続端子の製造方法は、互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子の製造方法において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤を塗布することを特徴とする。この接続端子の製造方法において、雄端子および雌端子が、それぞれ導体基材の表面にＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層などのめっき層が形成されためっき材からなるのが好ましく、導体基材が銅または銅合金からなるのが好ましい。また、潤滑剤が流動パラフィンまたはシリコンオイルであるのが好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、摩擦係数が低い接続端子を低コストで製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施例１〜６および比較例１〜７で得られた試験片の摩擦係数と潤滑剤の動粘度との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明による接続端子の実施の形態は、互いに当接する雄端子と雌端子からなり、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤が塗布されている。
【００２３】
この接続端子では、雄端子および雌端子が、それぞれ導体基材の表面にＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層などのめっき層が形成されためっき材からなるのが好ましく、特にＳｎめっき層が形成されたＳｎめっき材からなるのが好ましい。また、導体基材の表面にＳｎめっき層を形成する場合、導体基材の表面とＳｎめっき層との間に、Ｎｉめっき層とＣｕめっき層をこの順で形成してもよく、Ｎｉめっき層とＣｕめっき層とＣｕＳｎめっき層をこの順で形成してもよく、ＣｕＳｎめっき層またはＮｉめっき層を形成してもよい。なお、めっき層の形成には、通常の電気めっきなどを行えばよく、表面への微細な凹凸加工などを行う必要はない。
【００２４】
潤滑剤は、動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤であり、動粘度８０００ｃＳｔ以上の潤滑剤であるのが好ましく、動粘度１００００ｃＳｔ以上の潤滑剤であるのがさらに好ましい。このように非常に高い動粘度の潤滑剤は、従来の潤滑剤として使用されている動粘度１〜１０００ｃＳｔの潤滑剤と比べて、摩擦係数を大きく低下させることができる。また、潤滑剤は、流動パラフィンまたはシリコンオイルであるのが好ましく、その組成は、流動パラフィンやシリコンオイルなどのベースオイルのみの組成でもよい。すなわち、ベースオイルに種々の添加剤を加えた組成の潤滑剤を使用しなくても、流動パラフィンやシリコンオイルなどのベースオイルのみの組成の潤滑剤でも、極端に高い動粘度の潤滑剤を使用すれば、従来の潤滑剤として使用されている動粘度１〜１００ｃＳｔの潤滑剤と比べて、大きく摩擦係数を低下させることができる。
【００２５】
なお、このような極端に高い動粘度の潤滑剤は、雄端子または雌端子の表面の雄端子と雌端子が当接する部分（雄端子と雌端子の接点部）に塗布されていればよく、雄端子と雌端子を嵌合などにより当接させる作業を行う前に雄端子の雌端子との接点部に付着させてもよいし、あるいは、雌端子を端子形状に形成した後に雌端子の雄端子との接点部（インデント先端部）に付着させてもよい。
【００２６】
また、このような高い動粘度の潤滑剤は、雄端子と雌端子の接点部に塗布すると、接点部から流出することなく保持され、少量でも接点部の摩擦係数を低減させることができるので、潤滑剤の塗布量は少量でもよい。なお、同じ組成の潤滑剤では粘度が高いほど揮発性が低くなるため、このような高い動粘度の潤滑剤は、揮発性が低く、高温環境下に長時間放置されても、摩擦係数の低減の効果を維持することができるので、高温環境における耐久性に優れている。また、このような高い動粘度の潤滑剤は、雄端子と雌端子の接点部に塗布しても、接触抵抗値が増加することなく、電気接点としての機能を損なうことはない。
【００２７】
導体基材は、銅または銅合金からなるのが好ましく、ＣＤＡ番号でＣ１９０２５合金（例えば、ＤＯＷＡメタルテック株式会社製のＮＢ−１０９合金）やＣ１９０２０合金（例えば、ＮＢ−１０５合金）などのＣｕ−Ｎｉ−Ｓｎ系合金、Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ系合金、りん青銅、黄銅などを使用することができる。特に、雌端子の導体基材はＢｅ銅やチタン銅などの高強度で高コストの銅合金でなく、Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｎ系合金やりん青銅からなるのが好ましく、雄端子の導体基材は黄銅からなるのが好ましい。なお、ステンレス（ＳＵＳ）などの鉄系材料や、アルミニウム合金などからなる導体基材を使用してもよい。
【実施例】
【００２８】
以下、本発明による接続端子およびその製造方法の実施例について詳細に説明する。
【００２９】
［実施例１］
まず、厚さ０．２５ｍｍのＣｕ−Ｎｉ−Ｓｎ合金からなる平板状の導体基材（ＤＯＷＡメタルテック株式会社製のＮＢ−１０９−ＥＨ材（０．１質量％のＮｉと０．９質量％のＳｎと０．９質量％のＰを含み、残部がＣｕである銅合金の基材））に厚さ１μｍのＳｎめっきを施した後にリフロー処理を施したＳｎめっき材を２枚用意した。
【００３０】
次に、一方のＳｎめっき材の７０ｍｍ×７０ｍｍの領域に、潤滑剤として、４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９８ｇ／ｃｍ３）１ｍＬを室温（２５℃）で滴下して広がらせて塗布することにより得られた試験片を評価試料（雄端子としての試験片）とした。また、他方のＳｎめっき材をインデント加工（Ｒ１ｍｍ）して得られた試験片を圧子（雌端子としての試験片）とした。なお、このインデント加工した試験片（圧子）には、潤滑剤が塗布されていないが、平板状の評価試料に接触させることにより、圧子にも潤滑剤が塗布された状態になる。
【００３１】
次に、評価試料を横型荷重測定器（株式会社山崎精機研究所製の電気接点シミュレータと、ステージコントローラと、ロードセルと、ロードセルアンプとを組み合わせた装置）の水平台上に固定し、その評価試料に圧子を接触させた後、それぞれ荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎで圧子を評価試料の表面に押し付けながら、評価試料を摺動速度８０ｍｍ／分で水平方向に摺動距離１０ｍｍ引っ張り、１ｍｍから４ｍｍまでの間（測定距離３ｍｍ）に水平方向にかかる力を測定してその平均値Ｆを算出し、試験片同士間の動摩擦係数（μ）をμ＝Ｆ／Ｎから算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．１７、０．１３、０．１３、０．１４、０．１３および０．１４であった。
【００３２】
［実施例２］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１０００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１０００００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９８ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．１９、０．１５、０．１３、０．１２、０．１２および０．１３であった。
【００３３】
［実施例３］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１００００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９８ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．１８、０．１４、０．１３、０．１２、０．１２および０．１０であった。
【００３４】
［実施例４］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１００００００ｃＳｔより高い真空グリス（引火点＞１０１℃、密度１．１ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２２、０．１７、０．１５、０．１９、０．１７および０．１６であった。
【００３５】
［比較例１］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１０００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９７ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２６、０．２１、０．１９、０．１７、０．１６および０．１６であった。
【００３６】
［比較例２］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が５０００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−５０００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９８ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２６、０．２２、０．２０、０．１７、０．１６および０．１６であった。
【００３７】
［比較例３］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）を塗布しなかった以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．４８、０．３４、０．３３、０．２８、０．２４および０．２１であった。
【００３８】
［比較例４］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が５ｃＳｔの流動パラフィン（Ｎｏ．４０−Ｓ、引火点１３４℃、流動点−８℃、密度０．８３ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．３８、０．３２、０．２４、０．２２、０．１９および０．１８であった。
【００３９】
［比較例５］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が２８ｃＳｔの流動パラフィン（Ｎｏ．１５０−Ｓ、引火点２２０℃、流動点−８℃、密度０．８６ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．３３、０．２４、０．２３、０．１９、０．１７および０．１６であった。
【００４０】
［比較例６］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が７８ｃＳｔの流動パラフィン（Ｎｏ．３５０−Ｓ、引火点２２４℃、流動点−８℃、密度０．８８ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２７、０．２２、０．２０、０．１５、０．１５および０．１５であった。
【００４１】
［比較例７］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１０ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１０ｃｓ、引火点１６０℃、流動点−１００℃、密度０．９４ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．３３、０．３０、０．２５、０．２３、０．１９および０．１４であった。
【００４２】
［比較例８］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が１００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００ｃｓ、引火点３１５℃、流動点−５０℃、密度０．９７ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．２８、０．２２、０．２０、０．１９、０．１７および０．１６であった。
【００４３】
［比較例９］
４０℃における動粘度が１００００ｃＳｔのシリコンオイル（ＫＦ−９６−１００００ｃｓ）の代わりに、４０℃における動粘度が６ｃＳｔのプレス油（ユニプレスＰＡ５、引火点１４０℃、流動点−３８℃、密度０．８３ｇ／ｃｍ３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法により、２つの試験片を得た後、試験片同士間の動摩擦係数（μ）を算出した。その結果、荷重１Ｎ、２Ｎ、３Ｎ、５Ｎ、１０Ｎおよび１３Ｎの場合の本実施例で得られた試験片の動摩擦係数（それぞれ２回ずつ測定した値の平均値）は、それぞれ０．３１、０．２６、０．２３、０．２２、０．１８および０．１７であった。
【００４４】
これらの実施例および比較例で得られた試験片の潤滑剤の種類および特性を表１に示し、摩擦係数および潤滑剤がない場合に対する摩擦係数の割合を表２に示す。また、実施例および比較例で得られた試験片の摩擦係数と潤滑剤の動粘度との関係を図１に示す。
【００４５】
【表１】
【００４６】
【表２】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤が塗布されていることを特徴とする、接続端子。
【請求項２】
前記雄端子および前記雌端子が、それぞれ導体基材の表面にめっき層が形成されためっき材からなることを特徴とする、請求項１に記載の接続端子。
【請求項３】
前記めっき層がＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層であることを特徴とする、請求項２に記載の接続端子。
【請求項４】
前記導体基材が銅または銅合金からなることを特徴とする、請求項２または３に記載の接続端子。
【請求項５】
前記潤滑剤が流動パラフィンまたはシリコンオイルであることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれかに記載の接続端子。
【請求項６】
互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子の製造方法において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤を塗布することを特徴とする、接続端子の製造方法。
【請求項７】
前記雄端子および前記雌端子が、それぞれ導体基材の表面にめっき層が形成されためっき材からなることを特徴とする、請求項６に記載の接続端子の製造方法。
【請求項８】
前記めっき層がＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層であることを特徴とする、請求項７に記載の接続端子の製造方法。
【請求項９】
前記導体基材が銅または銅合金からなることを特徴とする、請求項７または８に記載の接続端子の製造方法。
【請求項１０】
前記潤滑剤が流動パラフィンまたはシリコンオイルであることを特徴とする、請求項６乃至９のいずれかに記載の接続端子の製造方法。
【請求項１】
互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤が塗布されていることを特徴とする、接続端子。
【請求項２】
前記雄端子および前記雌端子が、それぞれ導体基材の表面にめっき層が形成されためっき材からなることを特徴とする、請求項１に記載の接続端子。
【請求項３】
前記めっき層がＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層であることを特徴とする、請求項２に記載の接続端子。
【請求項４】
前記導体基材が銅または銅合金からなることを特徴とする、請求項２または３に記載の接続端子。
【請求項５】
前記潤滑剤が流動パラフィンまたはシリコンオイルであることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれかに記載の接続端子。
【請求項６】
互いに当接する雄端子と雌端子からなる接続端子の製造方法において、雄端子と雌端子が当接する部分に動粘度６０００ｃＳｔ以上の潤滑剤を塗布することを特徴とする、接続端子の製造方法。
【請求項７】
前記雄端子および前記雌端子が、それぞれ導体基材の表面にめっき層が形成されためっき材からなることを特徴とする、請求項６に記載の接続端子の製造方法。
【請求項８】
前記めっき層がＳｎめっき層、Ａｇめっき層またはＡｕめっき層であることを特徴とする、請求項７に記載の接続端子の製造方法。
【請求項９】
前記導体基材が銅または銅合金からなることを特徴とする、請求項７または８に記載の接続端子の製造方法。
【請求項１０】
前記潤滑剤が流動パラフィンまたはシリコンオイルであることを特徴とする、請求項６乃至９のいずれかに記載の接続端子の製造方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１３−５８４１８（Ｐ２０１３−５８４１８Ａ）
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９６６４２（Ｐ２０１１−１９６６４２）
【出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（５０６３６５１３１）ＤＯＷＡメタルテック株式会社 (109)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（５０６３６５１３１）ＤＯＷＡメタルテック株式会社 (109)
【Ｆターム（参考）】
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