流体処理要素、流体処理要素を掃除する方法、および流体を処理する方法
【課題】終端モードまたはクロスフロー・モードで動作できる、フィルタ要素のような、流体処理要素を提供する。
【解決手段】或る実施形態では、流体処理要素は、軸方向に延長するひだ状に形成された多層複合体を備えている。或る他の実施形態では、隣接するひだが被覆状態を成し、その高さの実質的部分にわたり互いに押し合っている。流体処理要素をコンパクトでしかも流体処理に利用できる大きい表面積を有するようにすることができる。また開示するのは、物質を一つの流体流から別の流体流に拡散して移すための、たとえば、オゾンを水中に移すための、流体処理要素および方法、特にすべての弗素ポリマ流体処理要素および方法である。更に開示するのは、流体処理要素をクロスフロー清掃するための装置および方法。
【解決手段】或る実施形態では、流体処理要素は、軸方向に延長するひだ状に形成された多層複合体を備えている。或る他の実施形態では、隣接するひだが被覆状態を成し、その高さの実質的部分にわたり互いに押し合っている。流体処理要素をコンパクトでしかも流体処理に利用できる大きい表面積を有するようにすることができる。また開示するのは、物質を一つの流体流から別の流体流に拡散して移すための、たとえば、オゾンを水中に移すための、流体処理要素および方法、特にすべての弗素ポリマ流体処理要素および方法である。更に開示するのは、流体処理要素をクロスフロー清掃するための装置および方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
流体処理要素において、
軸方向に延びるプリーツを有し、流体処理媒体を含む中空の流体処理パックと、
前記流体処理パックに囲まれたコアであって、かつ流体が、前記コアの内部と前記流体処理パックの長さの少なくとも50%にわたって連続して延びる前記流体処理パックとの間で流れることができない不感領域を有する前記コアと、
を備える、前記流体処理要素。
【請求項2】
前記コアが、前記不感領域の縦の端部に隣接する領域を含み、その領域内で流体が前記コアの内部と前記流体処理パックとの間を流れることが可能である、請求項11に記載の流体処理要素。
【請求項3】
前記不感領域が、前記流体処理パックの内周に接触し、かつ前記流体処理パックの外部表面と前記内周との間の流体の流れを防止する外部表面を有する、請求項1又は2に記載の流体処理要素。
【請求項4】
前記外部表面が弾性材料を含む、請求項3に記載の流体処理要素。
【請求項5】
流体処理要素において、
軸方向に延びるプリーツを有し、プリーツ付き複合物を含む流体処理パックであって、前記プリーツ付き複合物は、流体処理層と、前記流体処理層の第1の側面上の第1の排水層と、前記流体処理層の第2の側面上の第2の排水層とを含む、前記流体処理パックと、
前記流体処理パックの第1の長さ方向の端部を封止する第1の開放端キャップ、および前記流体処理パックの第2の長さ方向の端部を封止する第2の開放端キャップと、
前記流体処理パックによって囲まれたコアであって、前記第1および第2の開放端と、前記コアの前記第1の開放端に隣接しブラインド内部端を有する第1の孔あき領域と、前記コアの前記第2の開放端に隣接しブラインド内部端を有する第2の孔あき領域とを有し、流体が前記コアの外側でのみ前記孔あき領域間を流れることができるようになっている、前記コアと、
を備える、流体処理要素。
【請求項6】
前記排水層の各々がメッシュを含む、請求項5に記載の流体処理要素。
【請求項7】
前記流体処理パックは、各々が、半径方向の内部端と半径方向の外部端とを有する複数のプリーツを有し、前記外部端は、前記流体処理パックの円周方向において、前記半径方向の内部端に対して変位されている、請求項5又は6に記載の流体処理要素。
【請求項8】
流体処理方法において、
前記流体処理要素の第1の長さ方向の端部で、プリーツ付きの流体処理要素のくぼみの中心にプロセス流体を導入するステップと、
前記くぼみの中心から外側に、前記くぼみの中心を囲む流体処理パックに前記プロセス流体を流し込むステップと、
前記流体処理要素の流体処理層の第1の表面に沿って、前記流体処理パック内の前記プロセス流体を前記流体処理要素の長さ方向に流すステップと、
前記流体処理層を通して前記プロセス流体の一部を流すステップと、
前記流体処理要素の第2の長さ方向の端部から、前記流体処理層を通過しないプロセス流体を排出するステップと、
を含む、流体処理方法。
【請求項9】
前記流体処理要素の前記第2の長さ方向の端部の前記くぼみの中心に、前記流体処理層を通過しない前記プロセス流体を導入するステップと、
前記くぼみの中心を通って前記流体処理要素から、前記流体処理層を通過しない前記プロセス流体を排出するステップと、
を含む、請求項8に記載の方法。
【請求項1】
流体処理要素において、
軸方向に延びるプリーツを有し、流体処理媒体を含む中空の流体処理パックと、
前記流体処理パックに囲まれたコアであって、かつ流体が、前記コアの内部と前記流体処理パックの長さの少なくとも50%にわたって連続して延びる前記流体処理パックとの間で流れることができない不感領域を有する前記コアと、
を備える、前記流体処理要素。
【請求項2】
前記コアが、前記不感領域の縦の端部に隣接する領域を含み、その領域内で流体が前記コアの内部と前記流体処理パックとの間を流れることが可能である、請求項11に記載の流体処理要素。
【請求項3】
前記不感領域が、前記流体処理パックの内周に接触し、かつ前記流体処理パックの外部表面と前記内周との間の流体の流れを防止する外部表面を有する、請求項1又は2に記載の流体処理要素。
【請求項4】
前記外部表面が弾性材料を含む、請求項3に記載の流体処理要素。
【請求項5】
流体処理要素において、
軸方向に延びるプリーツを有し、プリーツ付き複合物を含む流体処理パックであって、前記プリーツ付き複合物は、流体処理層と、前記流体処理層の第1の側面上の第1の排水層と、前記流体処理層の第2の側面上の第2の排水層とを含む、前記流体処理パックと、
前記流体処理パックの第1の長さ方向の端部を封止する第1の開放端キャップ、および前記流体処理パックの第2の長さ方向の端部を封止する第2の開放端キャップと、
前記流体処理パックによって囲まれたコアであって、前記第1および第2の開放端と、前記コアの前記第1の開放端に隣接しブラインド内部端を有する第1の孔あき領域と、前記コアの前記第2の開放端に隣接しブラインド内部端を有する第2の孔あき領域とを有し、流体が前記コアの外側でのみ前記孔あき領域間を流れることができるようになっている、前記コアと、
を備える、流体処理要素。
【請求項6】
前記排水層の各々がメッシュを含む、請求項5に記載の流体処理要素。
【請求項7】
前記流体処理パックは、各々が、半径方向の内部端と半径方向の外部端とを有する複数のプリーツを有し、前記外部端は、前記流体処理パックの円周方向において、前記半径方向の内部端に対して変位されている、請求項5又は6に記載の流体処理要素。
【請求項8】
流体処理方法において、
前記流体処理要素の第1の長さ方向の端部で、プリーツ付きの流体処理要素のくぼみの中心にプロセス流体を導入するステップと、
前記くぼみの中心から外側に、前記くぼみの中心を囲む流体処理パックに前記プロセス流体を流し込むステップと、
前記流体処理要素の流体処理層の第1の表面に沿って、前記流体処理パック内の前記プロセス流体を前記流体処理要素の長さ方向に流すステップと、
前記流体処理層を通して前記プロセス流体の一部を流すステップと、
前記流体処理要素の第2の長さ方向の端部から、前記流体処理層を通過しないプロセス流体を排出するステップと、
を含む、流体処理方法。
【請求項9】
前記流体処理要素の前記第2の長さ方向の端部の前記くぼみの中心に、前記流体処理層を通過しない前記プロセス流体を導入するステップと、
前記くぼみの中心を通って前記流体処理要素から、前記流体処理層を通過しない前記プロセス流体を排出するステップと、
を含む、請求項8に記載の方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【公開番号】特開2010−194537(P2010−194537A)
【公開日】平成22年9月9日(2010.9.9)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−87099(P2010−87099)
【出願日】平成22年4月5日(2010.4.5)
【分割の表示】特願2000−568568(P2000−568568)の分割
【原出願日】平成11年9月9日(1999.9.9)
【出願人】(596064112)ポール・コーポレーション (70)
【氏名又は名称原語表記】Pall Corporation
【Fターム(参考)】
【公開日】平成22年9月9日(2010.9.9)
【国際特許分類】
【出願日】平成22年4月5日(2010.4.5)
【分割の表示】特願2000−568568(P2000−568568)の分割
【原出願日】平成11年9月9日(1999.9.9)
【出願人】(596064112)ポール・コーポレーション (70)
【氏名又は名称原語表記】Pall Corporation
【Fターム(参考)】
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