液供給装置及び塗布装置並びに計測装置洗浄方法
【課題】液流路の計測装置を効率よく洗浄することができ、長期間にわたり好ましい計測装置の動作が実現される液供給装置及び塗布装置並びに計測装置洗浄方法を提供する。
【解決手段】塗布部（12）へ供給される塗布液が貯留されるサブタンク(32)と、塗布部とサブタンクとを連通させる液供給路(34)と、液供給路内の塗布液の濃度を計測する濃度計(38)と、液供給路内の液を加圧する供給ポンプ(40)と、濃度計の接液部の洗浄に用いられる希釈液（洗浄液）が貯留される希釈液タンク(50)と、希釈液タンク及び液供給路と連通され、希釈液タンクから濃度計の接液部に対してサブタンクを介さずに洗浄液を直接供給するバイパス流路(60)と、濃度計の接液部に洗浄液が供給されるときは、サブタンクから塗布部へ塗布液が供給されるときよりも液供給路内の液の流速を上げるように供給ポンプの動作を制御するポンプ制御部(102)と、を備えた液供給装置。
【解決手段】塗布部（12）へ供給される塗布液が貯留されるサブタンク(32)と、塗布部とサブタンクとを連通させる液供給路(34)と、液供給路内の塗布液の濃度を計測する濃度計(38)と、液供給路内の液を加圧する供給ポンプ(40)と、濃度計の接液部の洗浄に用いられる希釈液（洗浄液）が貯留される希釈液タンク(50)と、希釈液タンク及び液供給路と連通され、希釈液タンクから濃度計の接液部に対してサブタンクを介さずに洗浄液を直接供給するバイパス流路(60)と、濃度計の接液部に洗浄液が供給されるときは、サブタンクから塗布部へ塗布液が供給されるときよりも液供給路内の液の流速を上げるように供給ポンプの動作を制御するポンプ制御部(102)と、を備えた液供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液供給装置及び塗布装置並びに計測装置洗浄方法に係り、特に液体流路に設けられる計測装置のメンテナンス技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
汎用紙を用いた印刷システムにおいて、塗布ローラを用いたコーティング装置によって、印刷前の用紙にインクを凝集反応させるための処理液をコーティングするプロセスを含む形態がある。
【０００３】
図１１に示すコーティング（塗布）装置３００は、補充タンク３０２から塗布ローラ３０４（塗布皿３０６）へ供給経路３０８及びポンプ３１０を介して処理液が直接供給され、塗布ローラ３０４によって消費される処理液の量と、塗布ローラ３０４へ供給される処理液の量が同量になるように処理液の供給量が制御されている。
【０００４】
図１１に示すコーティング装置３００は、塗布ローラ３０４へ処理液を供給する最もシンプルな構成を有しており、常に新鮮な処理液を供給できるメリットがある反面、供給量の管理が難しく、供給過多や供給不足が生じやすいという問題がある。なお、図１１に符号３１２を付した構成は、塗布皿３０６から排出された廃液が収容される廃液タンク３１２である。
【０００５】
そこで、図１２に示すように、補充タンク３０２とは別に、処理液を一時的に蓄えるバッファタンク３２０を備え、塗布ローラ３０４で消費されなかった処理液を塗布皿３０６からバッファタンク３２０へ循環させる循環経路３２２を備えるとともに循環経路３２２にポンプ３２４を設けて、バッファタンク３２０と塗布ローラ３０４（塗布皿３０６）との間で処理液を循環させつつ、バッファタンク３２０の液量の減少に応じて、補充タンク３０２から供給経路３２６及びポンプ３２８を介して新鮮な処理液をバッファタンク３２０へ補充するという方法が用いられる。
【０００６】
しかし、図１２に示すコーティング装置３００’では、装置のスタンバイ状態などコーティングが行われない状態が長時間継続されると、処理液の循環に伴って処理液の水分が蒸発し、処理液の濃度が徐々に高くなっていくという問題がある。さらに、処理液は塗布の安定化のためヒータ（不図示）により所定の温度範囲に温度調整制御がされるために水分の蒸発が助長されてしまう。
【０００７】
図１３に示すコーティング装置３００”は、供給経路３０８の途中に濃度計３４０を備えて供給経路３０８内の処理液の濃度を監視し、ある閾値よりも高くなった場合には別途設けられた希釈水タンク３４２から希釈水供給経路３４４及びポンプ３４６を介して、バッファタンク３２０へ希釈水が供給され、供給経路３０８内の処理液の濃度を一定に保つように制御が行われ、処理液の濃度上昇を解決している。循環経路３２２に備えられる濃度計３４０として、循環経路３２２内の処理液にレーザ光などを照射して、反射光又は透過光の受光率に基づいて濃度を計測するものが適用可能である。
【０００８】
一方、塗布ローラ３０４は用紙と直接接触するために、用紙から排出された紙粉や、スタック時のブロッキング（貼り付き）を防止するために用紙に散布されるパウダー等の異物が付着する。塗布ローラ３０４に付着した異物は、塗布皿３０６内の処理液とともに循環経路３２２や供給経路３０８に混入してしまい、この状態で装置を長期間稼動することにより、供給経路３０８へ混入した異物が濃度計３４０の接液面（計測部）に徐々に堆積され、次第に検出感度が低下して正確に処理液の濃度を計測できなくなるという問題が発生する。
【０００９】
したがって、濃度計３４０の計測部を定期的に清掃する必要があり、現状ではユーザやサービスエンジニアが手動で濃度計３４０の計測部の清掃を行っており、手間となっている。
【００１０】
特許文献１に記載されたインクジェット記録装置では、インクジェットヘッドとインクサブタンクとの間に設けられた濃度検出部に洗浄液を供給して、該濃度検出部を洗浄するように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００６−１５６３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献１に記載されたインクジェット記録装置のように、単に洗浄液を供給するだけでは、濃度検出部の汚れを完全に除去することは難しい。十分な洗浄効果を得るためには長時間洗浄液を供給し続ける必要があり、洗浄液を大量に消費してしまうという問題が発生する。また、長時間にわたる洗浄液の供給中は装置の稼動を停止させる必要があり、稼働率の低下も懸念される。
【００１３】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、液流路の液の物性を計測する計測装置を効率よく洗浄することができ、長期間にわたり好ましい計測装置の動作が実現される液供給装置及び塗布装置並びに計測装置洗浄方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明に係る液供給装置は、供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部と、前記供給先と前記供給液貯留部とを連通させる液供給路と、前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置と、前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、液流路内の液の物性を計測する計測装置の接液部へ洗浄液が直接供給されるとともに、液貯留部から液の供給先へ液が供給されるときよりも液流路内の液の流速が上げられるので、計測装置の洗浄が容易となり、洗浄効果を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液供給装置を備えた塗布装置の概略構成を示す構成図
【図２】図１に示す液供給装置における濃度計の洗浄状態を模式的に示す説明図
【図３】図１に示す液供給装置に適用される濃度計の取付状態を示す断面図、及び濃度計の検出原理の一例の説明図
【図４】図１に示す液供給装置の制御系の概略構成を示すブロック図
【図５】図１に示す液供給装置における循環モードの制御の流れを示すフローチャート
【図６】図１に示す液供給装置における濃度計の洗浄モードの制御の流れを示すフローチャート
【図７】本発明の第２実施形態に係る液供給装置における洗浄状態を模式的に示す説明図
【図８】図７に示す液供給装置における洗浄状態の他の態様を模式的に示す説明図
【図９】本発明の第３実施形態に係る液供給装置における洗浄状態を模式的に示す説明図
【図１０】本発明に係る液供給装置が適用される装置構成例を示す概略構成図
【図１１】従来技術に係る塗布装置の課題を説明する図
【図１２】従来技術に係る塗布装置の他の課題を説明する図
【図１３】従来技術に係る塗布装置のさらに他の課題を説明する図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。
【００１８】
〔第１実施形態〕
（全体構成）
図１は、本発明の第１実施形態に係る液供給装置１０の概略構成及び、液供給装置１０を備えた塗布装置３０の概略構成を示す構成図である。同図に示す塗布装置３０は、液供給装置１０と塗布部１２を備え。液供給装置１０から塗布部１２へ所定の塗布液が供給されるように構成されている。
【００１９】
塗布部１２は、液供給装置１０から供給された塗布液が一次貯留される塗布皿１４と、塗布皿１４から所定量の塗布液をくみ上げる計量手段として機能するアニロックスローラ１６と、アニロックスローラ１６によって計量された塗布液が供給され、被塗布媒体に塗布液を塗布する塗布ローラ１８と、被塗布媒体２０を外周面に固定保持する圧胴２２と、を備えている。
【００２０】
表面に塗布液（太線により図示）が供給された塗布ローラ１８を所定の回転速度で回転させながら、圧胴２２の回転速度に応じて搬送される被塗布媒体（例えば、紙）２０に接触させることで、被塗布媒体２０の被塗布面に所定量の塗布液が塗布される。塗布ローラ１８を被塗布媒体２０に対して一定圧力で付勢させることで、塗布液の塗布むらが防止され、均一な塗布液の塗布がされている。
【００２１】
塗布液が一次貯留される塗布皿１４は、液供給装置１０から送液された塗布液が溜められる液溜部１４Ａと、液溜部１４Ａから溢れた塗布液が収容される収容部１４Ｂと、を有し、液溜部１４Ａと収容部１４Ｂは隔壁１４Ｃによって区画されている。液溜部１４Ａの液面が隔壁１４Ｃを超えると余剰な塗布液が収容部１４Ｂへ流れ出す構造を有しており、隔壁１４Ｃの高さによって液溜部１４Ａの最大液量が決められている。
【００２２】
収容部１４Ｂに流れ出した塗布液は、底面に設けられた排出口（不図示）を介して外部へ排出される。また、液溜部１４Ａの底面にも不図示の排出口が設けられており、この排出口から外部へ塗布液を直接排出させることも可能である。
【００２３】
液溜部１４Ａは、液供給装置１０から一定量の塗布液が常時供給され、余剰となった塗布液を循環させている（詳細後述）。このようにして、塗布皿１４（液溜部１４Ａ）内の液量を一定範囲内に維持することで、安定した塗布液の計量が実現されている。
【００２４】
液供給装置１０は、塗布部１２へ供給される塗布液が一次貯留されるバッファタンク３２と、一方の端部がバッファタンク３２と連通し、他方の端部が塗布部１２（塗布皿１４）と連通する塗布液供給路３４と、塗布液供給路３４の開閉を切り換えるバッファタンク供給バルブ３６と、塗布液供給路３４内の液の濃度を検知する濃度計３８（計測装置）と、塗布液供給路３４内の液体を加圧する供給ポンプ４０と、塗布液供給路３４内の液の温度を調整するヒータ４２が含まれる。かかる各部によって、液供給系が構成されている。
【００２５】
バッファタンク供給バルブ３６を開き、供給ポンプ４０を所定の回転速度で動作させると、バッファタンク３２から塗布液が吸い上げられ、フィルタ４１及び塗布液供給路３４介して塗布部１２へ供給される。なお、供給ポンプ４０は、濃度計３８のバッファタンク側（上流側、符号３９を付して破線により図示した位置）に設けられていてもよい。
【００２６】
バッファタンク３２内の塗布液が消費されると、補充タンク４４から塗布液が補充される。バッファタンク３２と補充タンク４４とは補充流路４６によって連通されており、バッファタンク３２内の塗布液の液面が下限位置に達すると、補充流路４６に設けられた補充ポンプ４８を動作させて、補充タンク４４からフィルタ４９及び補充タンク４４を介してバッファタンク３２へ塗布液が送られる。
【００２７】
塗布部１２へ供給される塗布液の濃度が上昇して所定値を超えると、バッファタンク３２へ所定量の希釈液が供給され、塗布液の濃度が一定範囲内に維持される。すなわち、バッファタンク３２と希釈液が貯留される希釈液タンク５０とは、希釈液供給路５２によって連通されている。
【００２８】
塗布液供給路３４内の塗布液の濃度が所定値を超えると、希釈液供給路５２に設けられた希釈液補充ポンプ５４が動作して、希釈液タンク５０からフィルタ５６及び希釈液供給路５２を介してバッファタンク３２へ希釈液が供給される。希釈液には、塗布液の溶媒や純水などが適用される。
【００２９】
本例に示す液供給装置１０は、希釈液供給路５２が希釈液補充ポンプ５４よりも希釈液タンク５０側で分岐され塗布液供給路３４の濃度計３８よりもバッファタンク３２側で接続されている。
【００３０】
すなわち、希釈液供給路５２と塗布液供給路３４との間にバイパス流路６０が設けられるとともに、バイパス流路６０には希釈液供給路５２と塗布液供給路３４との連通、非連通を切り換える希釈液供給バルブ６２が設けられている。
【００３１】
塗布液供給路３４とバイパス流路６０との接合部は、濃度計３８などの塗布液供給路３４に配設される計測装置よりもバッファタンク３２側（上流側）となっており、塗布液供給路３４に配設される計測装置に対してバッファタンク３２を介さずに直接希釈液を供給可能な構造となっている。
【００３２】
なお、図１の符号３９を付して図示した位置に供給ポンプが配置される態様では、希釈液補充ポンプ５４は、符号５３を付して破線により図示される位置に配置される。
【００３３】
図１に示す液供給装置１０は、塗布液の供給先である塗布部１２（塗布皿１４）とバッファタンク３２との間で塗布液を循環させる循環流路７０が設けられている。すなわち、塗布皿１４の液溜部１４Ａの底面の排出口及び収容部１４Ｂの底面の排出口とバッファタンクとは、循環流路７０を介して連通されている。
【００３４】
循環流路７０には、液溜部回収バルブ７２、収容部回収バルブ７４、フィルタ７６、回収ポンプ７８、バッファタンク回収バルブ８０が設けられている。収容部回収バルブ７４、バッファタンク回収バルブ８０を開いた状態で回収ポンプ７８を動作させると、塗布皿１４の収容部１４Ｂから循環流路７０を介してバッファタンク３２へ塗布液が循環される。
【００３５】
図１の太矢印線は、バッファタンク３２から塗布部１２への塗布液の供給と、塗布部１２からバッファタンク３２への塗布液の循環を表している。このように、塗布液を循環させながら供給することで、塗布液の状態（粘度、濃度、温度、異物の混入状態など）が一定に保たれる。
【００３６】
循環流路７０は、回収ポンプ７８の下流側で分岐されて廃液流路８２と連通されている。廃液流路８２の反対側の端は廃液タンク８４と連通されており、液溜部回収バルブ７２及び収容部回収バルブ７４を開き、バッファタンク回収バルブ８０を閉じ、廃液流路８２の開閉を切り換える廃液バルブ８６を開いた状態で回収ポンプ７８を動作させると、塗布皿１４内の塗布液は廃液タンク８４へ排出される。
【００３７】
塗布部１２において、被塗布媒体２０へ塗布液が塗布される通常運転時には、図１に図示したように塗布液の循環が行われる。塗布液を循環させるときは、（供給ポンプ４０の吐出量）＜（回収ポンプ７８の吐出量）となるように、供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８の吐出量が制御される（詳細後述）。なお、回転機構を有するポンプでは、「吐出量」に対応するパラメータとして「回転数」を適用可能である。
【００３８】
図２は、液供給装置１０における塗布液供給路３４及び塗布液供給路３４に配接される計測装置を洗浄する洗浄状態（洗浄モード）を模式的に図示した説明図である。なお、これ以降の説明において、先に説明した部分と同一又は類似する部分には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００３９】
図２に示す洗浄状態では、塗布液供給路３４、濃度計３８、供給ポンプ４０、ヒータ４２の塗布液と接触する部分が洗浄液によって洗浄される。すなわち、塗布液供給路３４に洗浄液が直接供給され、塗布液供給路３４、濃度計３８、供給ポンプ４０の塗布液と接触する部分に洗浄液を流すことで、これらに付着した汚れが洗浄液とともに排出される。
【００４０】
汚れを流した洗浄液は、塗布皿１４、循環流路７０、及び廃液流路８２を介して廃液タンク８４へ送られる。洗浄液には塗布液を希釈させる希釈液が適用される。図の太矢印線は、洗浄液（希釈液）の流れを表している。
【００４１】
すなわち、希釈液供給バルブ６２、収容部回収バルブ７４，廃液バルブ８６が開かれ、バッファタンク供給バルブ３６、バッファタンク回収バルブ８０が閉じられた状態で、供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８を動作させると、希釈液タンク５０から希釈液供給路５２、バイパス流路６０を介して塗布液供給路３４へ希釈液がバッファタンク３２を介さずに直接供給される。
【００４２】
このときに、供給ポンプ４０の吐出量は、通常動作時（図１に図示した状態）よりも高くされる。また、（供給ポンプ４０の吐出量）＜（回収ポンプ７８の吐出量）の関係が維持されるように、回収ポンプ７８の吐出量も通常動作の循環時よりも高くされる。
【００４３】
このようにして、通常動作時よりも塗布液供給路３４内の液の圧力を塗布液の供給時（通常動作時）よりも上げることで、洗浄状態における洗浄液の流速がより速くなり、濃度計３８の接液部分や供給ポンプ４０の接液部分、塗布液供給路３４の内壁に付着した汚れが除去されやすくなる。
【００４４】
その結果、洗浄に要する時間がより短縮化されるとともに、洗浄液（希釈液）の消費量がより低減化される。なお、洗浄状態の詳細は後述する。
【００４５】
（計測装置の説明）
図３（ａ），（ｂ）は、塗布液供給路３４に配設される計測装置である濃度計３８の取付状態を示す断面図であり、図３（ｃ）は、濃度計３８の検出原理の一例の説明図である。図３（ａ）に示すように、濃度計３８の検出部３８Ａは、塗布液供給路３４の内部に挿入され、塗布液と接触する。塗布液供給路３４の濃度計３８を固定するための固定部３４Ａは、パッキンなどの封止部材３８Ｂによって封止（シール）される。
【００４６】
図３（ａ）に示す塗布液供給路３４は、濃度計３８の検出部３８Ａへ液が流入する入路３４Ｂと、濃度計３８の検出部３８Ａから液が排出される出路３４Ｃと、を備え、検出部３８Ａに対しする液の流れ方向が略直角方向になるように入路３４Ｂ及び出路３４Ｃが配設されている。
【００４７】
図３(ａ)に示す態様では、塗布液供給路３４から分岐させた流路に濃度計３８が取り付けられ、塗布液供給路３４の分岐部分から濃度計３８へ向かう方向に沿って、当該分岐流路（濃度計取付部）の同方向における略中央部にパーティションが設けられ、当該分岐流路（濃度計取付部）が区画されて入路３４Ｂと出路３４Ｃが形成されている。
【００４８】
また、図３（ｂ）に示す塗布液供給路３４は、検出部３８Ａに対する液の流れ方向が略４５°になるように入路３４Ｂ及び出路３４Ｃが配設されている。図３（ｂ）に示す形態では、塗布液供給路３４から分岐された分岐流路（濃度計３８の取付部）は、濃度計３８を中心として略９０度に開かれた構造を有しており、この分岐流路の略中央部にパーティションが設けられている。
【００４９】
かかる態様によれば、流入する液が検出部３８Ａに対して角度をもって当たるため、より検出部３８Ａの洗浄効果を向上させることができる。また、排出側も同様の角度とすることで、後述する第２実施形態において、液体を逆流させた場合にも、同様の効果を得ることができる。
【００５０】
経路に角度を持たせることで流路抵抗が大きくなるために、液の粘度や流速によっては、濃度計内部の流れが阻害される懸念がある。そのため、流入角度及び排出角度は使用される液の粘度や流速によって適度に設定される。
【００５１】
検出部３８Ａに対する液の流れ方向を３０度以上９０度以下とする態様が好ましく、検出部３８Ａに対する液の流れ方向を４５度以上９０度以下とする態様がより好ましい。なお、検出部３８Ａに対する入路３４Ｂの角度と、検出部３８Ａに対する出路３４Ｃの角度と、を同一にしてもよいし、異ならせてもよい。
【００５２】
図３（ｃ）に示すように、塗布液供給路３４に挿入された検出部３８Ａは、塗布液供給路３４内の液（検出液）と接触する接液面（液との界面）３８Ｃを有する光学系３８Ｄと、接液面３８Ｃに光を照射する光源３８Ｅと、接液面３８Ｃによる反射光を受光する受光素子３８Ｆと、と含んで構成されている。
【００５３】
光源３８Ｅから出射された光の一部は、接液面３８Ｃによって反射して受光素子３８Ｆに入射される。検出液（本例では、塗布液）の濃度に応じて反射角が変わるため、受光素子３８Ｆへの入光位置を検知することで、検出液の濃度を把握することができる。
【００５４】
図３（ｃ）には、光学系３８Ｄの構成例として、プリズム３８Ｇと、光源３８Ｅとプリズム３８Ｇとの間に設けられるレンズ（コンデンサレンズ）３８Ｈと、プリズム３８Ｇと受光素子３８Ｆとの間に設けられたレンズ（対物レンズ）３８Ｉを含む構成が図示されている。
【００５５】
また、光源３８ＥにはＬＥＤを適用することができ、受光素子３８ＦにはＣＣＤなどのイメージセンサを適用することができる。
【００５６】
図３（ｃ）に示す接液面３８Ｃに、塗布液の溶質成分や被塗布媒体の材質などの汚れが付着し、長期にわたる使用により汚れが堆積すると、濃度の誤検出や検出ばらつきの原因となり、正確に塗布液の濃度を把握することが難しくなる。
【００５７】
そこで、上述した洗浄により接液面３８Ｃの汚れが除去された好ましい状態に維持されることで、塗布液の状態（物性）が正確に把握され、塗布液の状態に応じた塗布液の管理最適化が可能となる。
【００５８】
（制御系の説明）
図４は、図１に示す液供給装置１０（塗布装置３０）の制御系の概略構成を示すブロック図である。同図に示すように、液供給装置１０はシステム制御部１００により統括制御される。システム制御部１００はマイクロコンピュータやＣＰＵなどを適用することができ、単独のデバイスによって構成されてもよいし、複数のデバイスを組み合わせて構成されてもよい。
【００５９】
図４に示す制御系は、システム制御部１００から送出される指令信号に応じて、ポンプ１０１の動作を制御するポンプ制御部１０２と、バルブ１０３の動作を制御するバルブ制御部１０４と、ヒータ４２を制御するヒータ制御部１０６と、を有している。
【００６０】
なお、図４に符号１０１を付して図示したポンプは、図１の供給ポンプ４０、補充ポンプ４８、希釈液補充ポンプ５４、及び回収ポンプ７８など、装置内に設けられるポンプがまとめて図示されたものである。
【００６１】
同様に、図４に符号１０３を付して図示したバルブは、図１，２のバッファタンク供給バルブ３６、希釈液供給バルブ６２、液溜部回収バルブ７２、収容部回収バルブ７４、バッファタンク回収バルブ８０、及び廃液バルブ８６など、装置内に設けられるバルブがまとめて図示されたものである。
【００６２】
図４の温度センサ１０５は、装置各部の温度を検出する手段であり、装置各部の温度情報を検出信号としてシステム制御部１００へ送出する。システム制御部１００は、温度センサ１０５から送られた装置各部の温度情報に基づいて温度調整が実行されるように、装置各部の温度調整部へ指令信号を送出する。
【００６３】
液量センサ１０７は、図１，２のバッファタンク３２、補充タンク４４、希釈液タンク５０、及び廃液タンク８４の液量を検出する手段である。例えば、バッファタンク３２に設けられる液量センサから、バッファタンク３２内の塗布液量が下限値を下回る旨の情報がシステム制御部１００へ送出されると、システム制御部１００は補充タンク４４からバッファタンク３２へ塗布液が補充されるように補充ポンプ４８を動作させる指令信号をポンプ制御部１０２へ送出する。
【００６４】
図４の入力部１１０は、オペレータにより操作されるキーボード、タッチパネル、マウス、スイッチなどの操作部や、外部入力端子（外部入力インターフェイス）などが含まれる。オペレータは、入力部１１０（操作部）を用いて動作モードの切り換えや各種情報の入力を行うことができる。
【００６５】
また、外部入力インターフェイスを介して、ホストコンピュータや外部記憶装置（ストレージ）などの外部機器とのデータのやり取りを行うことができる。外部入力部は、有線形式、無線形式のいずれも適用可能である。
【００６６】
表示部１１２は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどのディスプレイ装置と、ディスプレイ装置の表示制御を行うディスプレイドライバーと、を含んで構成される。表示部１１２は、システム制御部１００が送出される各種情報を文字情報や画像情報としてディスプレイ装置に表示させる。なお、タッチパネル方式のディスプレイ装置を用いて、入力部１１０（操作部）と表示部１１２とを一体構成としてもよい。
【００６７】
システム制御部１００は、パラメータ記憶部１１４やプログラム格納部１１６といった記憶装置（記憶素子）に対するデータの書き込み及びデータの読み出しを制御する手段としても機能する。
【００６８】
パラメータ記憶部１１４は、装置の各種パラメータが記憶されるブロックである。また、プログラム格納部１１６は、装置の制御に用いられる各種プログラムが格納されている。パラメータ記憶部１１４やプログラム格納部１１６は、ＲＡＭなどの半導体記憶素子やハードディスクなどの磁気記憶媒体が適用される。
【００６９】
カウンター（タイマー）１１８は、装置の稼働時間や、ポンプ１０１、バルブ１０３などの動作開始（動作変更）からの経過時間が計測され、計測結果が記憶される手段である。システム制御部１００は、カウンター１１８に記憶されている計測値を参照して、装置各部の制御を開始する指令信号、終了する指令信号、変更する指令信号を送出する。
【００７０】
（循環モード、洗浄モードの詳細な説明）
次に、図１，２に図示した液供給装置１０の循環モード（塗布装置３０の塗布実行モード）、及び洗浄モードについて詳述する。
【００７１】
図５は、循環モードの制御の流れを示すフローチャートである。同図に示すように、循環モードが開始されると（ステップＳ１０）、図１のバッファタンク供給バルブ３６、収容部回収バルブ７４、バッファタンク回収バルブ８０が開かれ（図５のステップＳ１２）、他のバルブ（図１の希釈液供給バルブ６２、液溜部回収バルブ７２、廃液バルブ８６）が閉じられる（図５のステップＳ１４）。
【００７２】
図１の供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８が駆動され（図５のステップＳ１６）、（供給ポンプ４０の吐出量）＜（回収ポンプ７８の吐出量）の関係が維持されるように、図１の供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８の動作が制御される（図５のステップＳ１８）。
【００７３】
ステップＳ２０では、モード切換の有無が監視され、モード切換が行われた場合は（Ｙｅｓ判定）、循環モードの終了処理が実行され（ステップＳ２２）、循環モードが終了される（ステップＳ２４）。一方、モード切換が行われない場合は（ステップＳ２０のＮｏ判定）、図１のバッファタンク３２の液量が監視されるとともに（図５のステップＳ２６〜ステップＳ３２）、塗布液の濃度が監視される（ステップＳ３４〜ステップＳ４０）。
【００７４】
ステップＳ２６において、図１のバッファタンク３２の液量が下限を下回っていると判断されると（図５のステップＳ２６のＹｅｓ判定）、図１の補充ポンプ４８を動作させて、補充タンク４４からバッファタンク３２へ塗布液が補充される（図５のステップＳ２８）。
【００７５】
一方、図１のバッファタンク３２の液量が上限を超えていると判断されると（図５のステップＳ３０のＹｅｓ判定）、図１の補充ポンプ４８が停止され（図５のステップＳ３２）、図１の補充タンク４４からバッファタンク３２への塗布液の補充が終了される。
【００７６】
なお、ステップＳ２６において、図１のバッファタンク３２の液量が下限を下回っていないと判断される場合（Ｎｏ判定）、及び図５のステップＳ３０において、図１のバッファタンク３２の液量が上限を超えていないと判断されると（Ｎｏ判定）、ステップＳ３０に戻り、図１のバッファタンク３２の液量の監視が継続される。
【００７７】
また、塗布液の濃度の監視では、図５のステップＳ３４において、塗布液の濃度が所定値を超えていないと判断されると（Ｎｏ判定）、ステップＳ２０に戻り、塗布液の濃度が所定値を超えたと判断されると（ステップＳ３４のＹｅｓ判定）、図１の希釈液補充ポンプ５４を動作させて（図５のステップＳ３６）、図１の希釈液タンク５０からバッファタンク３２へ希釈液が供給され、バッファタンク３２内の塗布液が希釈される。
【００７８】
また、図５のステップＳ３８において、塗布液の濃度が所定値以下になったと判断されると（Ｙｅｓ判定）、図１の希釈液補充ポンプ５４を停止させ（図５のステップＳ４０）、ステップＳ２０に戻り、塗布液の濃度が所定値以下になっていないと判断されると（ステップＳ３８のＮｏ判定）、塗布液の濃度監視が継続される（ステップＳ３８）。
【００７９】
図６は、図２に示す塗布液供給路３４に配設される計測装置（濃度計３８）の洗浄モードの制御の流れを示すフローチャートである。洗浄モードが開始されると（図６のステップＳ１００）、図２の希釈液供給バルブ６２、液溜部回収バルブ７２、収容部回収バルブ７４、廃液バルブ８６が開かれ（図６のステップＳ１０２）、他のバルブ（図２のバッファタンク供給バルブ３６、バッファタンク回収バルブ８０）が閉じられる（図６のステップＳ１０４）、図２の供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８が駆動される（図６のステップＳ１０６）。
【００８０】
図２に示す供給ポンプ４０の吐出量は循環モード（通常動作時）より高く、かつ、洗浄モードにおいても（供給ポンプ４０の吐出量）＜（回収ポンプ７８の吐出量）の関係が維持されるように、供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８の動作が制御される（ステップＳ１０８）。
【００８１】
そうすると、図２の希釈液タンク５０から希釈液供給路５２、バイパス流路６０、希釈液供給バルブ６２を介して塗布液供給路３４へ希釈液直接供給される。希釈液は、塗布液供給路３４、濃度計３８、供給ポンプ４０を洗浄しながら塗布皿１４へ流れ込み、塗布皿１４から循環流路７０及び廃液流路８２を経由して廃液タンク８４へ送られる。希釈液が通過した部分は付着していた汚れが除去される。
【００８２】
ステップＳ１１０では、モード切換の有無が監視される。モード切換が行われた場合は（Ｙｅｓ判定）、洗浄モードの終了処理が実行され（ステップＳ１１２）、洗浄モードが終了される（ステップＳ１１４）。一方、モード切換が行われない場合は（ステップＳ１１０のＮｏ判定）、洗浄モード開始からの経過時間が監視される（ステップＳ１１６）。
【００８３】
すなわち、洗浄モードは開始からの経過時間によって処理時間が管理される。ステップＳ１１６で洗浄モードの開始から所定時間が経過したと判断されると（Ｙｓｅ判定）、洗浄モードの終了処理が実行され（ステップＳ１１２）、洗浄モードが終了される（ステップＳ１１４）。
【００８４】
なお、オペレータから強制終了指令が入力された場合や、非常停止指令が入力された場合には、直ちに洗浄モードの終了処理が実行され（ステップＳ１１２）、洗浄モードが終了される（ステップＳ１１４）。
【００８５】
洗浄モード（洗浄状態）における供給ポンプ４０の吐出量は、循環モード（通常動作時）の供給ポンプ４０の吐出量の１．２倍以上３倍以下が好ましく、１．２倍以上２倍以下がより好ましい。例えば、洗浄モードの供給ポンプ４０の吐出量を循環モードの２倍としたときには、通常動作時と同じ吐出量で供給ポンプ４０（回収ポンプ７８）を動作させたときと比較して、洗浄時間は約６５％短縮化され、洗浄液の消費量は約３５％削減される。
【００８６】
上述した洗浄モードは、装置の立ち上げ時や、所定の稼働時間経過時、装置のインターバル時に自動的に実行させてもよいし、オペレータが手動で実行させてもよい。
【００８７】
また、自動実行時における供給ポンプ４０の吐出量と、手動実行時における供給ポンプ４０の吐出量を変えてもよい。例えば、自動実行時の供給ポンプ４０の吐出量に対して、手動実行の供給ポンプ４０の吐出量を上げて、手動実行時には自動実行時よりもより高い洗浄効果が得られるように構成してもよい。さらに、供給ポンプ４０の吐出量を段階的に可変させるように構成してもよい。
【００８８】
上記の如く構成された液供給装置及び計測装置洗浄方法によれば、洗浄モードでは、塗布液供給路３４へ洗浄液としての希釈液が直接供給されるとともに、バッファタンク３２から塗布部１２へ塗布液が供給される通常動作時（循環モード）ときよりも供給ポンプ４０の吐出量が上げられるので、塗布液供給路３４内の希釈液の圧力がより高くされることで流速がより高くなり、塗布液供給路３４に配設される計測装置や塗布液供給路３４内部の洗浄が容易となり、洗浄効果を向上させることができる。
【００８９】
また、塗布液供給路３４を通過する希釈液の流速をより早くすることで、所定の洗浄効果を得るための処理時間が短縮化されるとともに、希釈液の消費量を低減させることが可能となる。
【００９０】
本例では、塗布液供給路３４に配設される計測装置として、接液面３８Ｃを有する光学式の濃度計３８を例示したが、本発明は接液部分を有する測定装置に広く適用可能である。接液部分を有する計測器の例としては、ｐｈ（ペーハー）計、微粒子計、導電率計、流速計、圧力計、温度計、測色計などが挙げられる。また、供給ポンプ４０についても、内部に堆積した汚れが除去され、好ましい動作状態が維持されるので、故障の発生が防止される。
【００９１】
〔第２実施形態〕
次に、本発明の第２実施形態に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法について説明する。図７は、本発明の第２実施形態に係る液供給装置の概略構成を示す構成図である。同図に示す液供給装置１０’は、図１に図示した液供給装置１０に対して、塗布液供給路３４とバイパス流路６０との接続部から廃液タンク８４への希釈液排出流路９０が追加されるとともに、希釈液排出流路９０に希釈液排出バルブ９２が追加されている。
【００９２】
また、塗布液供給路３４に設けられる供給ポンプ４０’は回転方向の切り換え（生逆転動作）が可能となっており、供給ポンプ４０’から塗布部１２へ向かう方向にも、供給ポンプ４０’から濃度計３８へ向かう方向にも、選択的に液を流すことが可能となっている。
【００９３】
第１実施形態と同様に、供給ポンプ４０’の吐出量は、塗布液を塗布部１２へ供給する通常動作時よりも高くなっており、供給ポンプ４０’を逆転動作させるときも通常動作時よりも高い吐出量となっている。
【００９４】
図７に図示した希釈液排出バルブ９２は逆止弁であり、供給ポンプ４０’を正転動作（バッファタンク３２から塗布部１２へ液を流すときの動作を）させたときに廃液タンク８４から塗布液供給路３４へ向かう方向に液を流すことがなく、供給ポンプ４０’を逆転動作（塗布部１２からバッファタンク３２へ液を流すときの動作を）させたときに塗布液供給路３４（バイパス流路６０）から廃液タンク８４へ向かう方向にのみ液を流すものである。
【００９５】
図８に示すように、希釈液を希釈液タンク５０から塗布液供給路３４へ供給した後に、希釈液供給バルブ６２を閉じて供給ポンプ４０’を逆転動作させると、希釈液が逆流して供給ポンプ４０’から濃度計３８を介して希釈液排出流路９０に流れ込み、希釈液排出バルブ９２を介して廃液タンク８４へ送られる。
【００９６】
このように、塗布液供給路３４に供給された希釈液を逆流させて濃度計３８の検出部３８Ａを往復させ、さらに、この動作を繰り返すことでより高い洗浄効果を得ることができる。
【００９７】
本発明の第２実施形態に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法によれば、塗布液供給路３４に希釈液が供給された後に、供給ポンプ４０’を逆転させて希釈液が濃度計３８の検出部３８Ａを往復するように構成されるので、希釈液を一方向に流す場合と比べて汚れを除去しやすくなる。
【００９８】
（応用例）
希釈液排出バルブ９２にリリーフバルブを適用することで、供給ポンプ４０’を逆転させたときに、塗布液供給路３４内の液の圧力がリリーフバルブの開放圧力に達するまで加圧され、さらに、リリーフバルブが開放された瞬間に希釈液の流速がより速くなり、より高い洗浄効果を得ることができる。
【００９９】
また、洗浄モードでは、塗布部１２へ塗布液を供給する通常動作時よりもヒータ４２の設定温度を上げて、より高い洗浄効果を得ることも可能である。この温度調整は、先に説明した第１実施形態にも適用可能である。
【０１００】
〔第３実施形態〕
次に、本発明の第３実施形態に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法について説明する。図９は、本発明の第３実施形態に係る液供給装置の概略構成を示す構成図である。同図に示す液供給装置１０”は、図７，８に図示した液供給装置１０’に対して、塗布液供給路３４へ洗浄液を供給する洗浄液供給流路９３と、洗浄液供給流路９３に設けられる洗浄液供給バルブ９４と、塗布液供給路３４へ供給される洗浄液が貯留される洗浄液タンク９５と、洗浄液供給流路９３の洗浄液タンク９５側の端部に設けられたフィルタ９６と、供給ポンプ４０’と塗布部１２の間に設けられる逆止弁９７が追加されている。
【０１０１】
洗浄液供給バルブ９４が開かれ、バッファタンク供給バルブ３６及び希釈液供給バルブ６２が閉じられた状態で供給ポンプ４０’を逆転動作させると、洗浄液タンク９５から塗布液供給路３４へ洗浄液が供給され、供給ポンプ４０’、濃度計３８を介して希釈液排出流路９０へ洗浄液が流れ込み、洗浄液は、希釈液排出バルブ９２を介して廃液タンク８４へ送られる。
【０１０２】
一方、逆止弁９７によって塗布部１２から塗布液供給路へ向かう方向の液の流れは阻止されるので、塗布液が洗浄液タンク９５へ流れ込むことはない。また、逆止弁９７は、開放圧力が希釈液排出バルブ９２よりも大きいもの用いることで、洗浄液が塗布部１２へ流入することが防止される。なお、第１実施形態と同様に、供給ポンプ４０’の吐出量は、塗布液を塗布部１２へ供給する通常動作時よりも高くなっている。
【０１０３】
本例に示す洗浄液は、第１、第２実施形態で用いられた希釈液よりも、より積極的に汚れを除去する薬剤が適用される。なお、薬剤による洗浄の後に希釈液を通過させて、塗布液供給路３４や濃度計３８、供給ポンプ４０’に付着した薬剤を除去するように構成してもよい。
【０１０４】
本例に適用される薬剤の一例を挙げると、イオン交換水に対して、界面活性剤を重量比で1〜10％の範囲で含有する水性組成液がある。かかる水性組成液の界面活性剤には、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、ベタイン界面活性剤等を用いることができる。上記した水性組成液は、水性の処理液を用いる場合の洗浄液の例であり、イオン交換水の替わりに処理液の溶媒成分を用いてもよい。
【０１０５】
本発明の第３実施形態に係る液供給装置及び計測装置に洗浄方法によれば、より洗浄効果の高い薬剤を塗布液供給路３４へ供給することで、より高い洗浄効果を得ることができる。
【０１０６】
〔他の装置構成への応用例〕
次に、本発明に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法の他の装置構成への応用例を説明する。図１０は、本発明に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法が適用されるインクジェット記録装置２００の全体構成図である。インクジェット記録装置２００における処理液塗布部２３０へ対して、上述した塗布装置３０（液供給装置１０（１０’、１０”））が適用される。
【０１０７】
図１０に示すインクジェット記録装置２００は、色材を含有するインクと該インクを凝集させる機能を有する凝集処理液を用いて、所定の画像データに基づいて記録媒体２１４の画像形成面に画像を形成する二液凝集方式の記録装置である。
【０１０８】
インクジェット記録装置２００は、主として、給紙部２２０、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０、及び排出部２７０を備えて構成される。処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０の前段に搬送される記録媒体２１４の受け渡しを行う手段として渡し胴２３２，２４２，２５２，２６２が設けられるとともに、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０のそれぞれに記録媒体２１４を保持しながら搬送する手段として、ドラム（円筒）形状を有する圧胴２３４，２４４，２５４，２６４が設けられている。
【０１０９】
渡し胴２３２，２４２，２５２，２６２及び圧胴２３４，２４４，２５４，２６４は、外周面の所定位置に記録媒体２１４の先端部を挟んで保持するグリッパー２８０Ａ，２８０Ｂが設けられている。グリッパー２８０Ａ及びグリッパー２８０Ｂにおける記録媒体２１４の先端部を挟んで保持する構造、及び他の圧胴又は渡し胴に備えられるグリッパーとの間で記録媒体２１４の受け渡しを行う構造は同一であり、かつ、グリッパー２８０Ａとグリッパー２８０Ｂは、圧胴２３４の外周面の圧胴２３４の回転方向について１８０°移動させた対称位置に配置されている。
【０１１０】
グリッパー２８０Ａ，２８０Ｂにより記録媒体２１４の先端部を狭持した状態で渡し胴２３２〜６２及び圧胴２３４，２４４，２５４，２６４を所定の方向に回転させると、渡し胴２３２〜６２及び圧胴２３４，２４４，２５４，２６４の外周面に沿って記録媒体２１４が回転搬送される。なお、図１０中、圧胴２３４に備えられるグリッパー２８０Ａ，２８０Ｂのみ符号を付し、他の圧胴及び渡し胴のグリッパーの符号は省略する。
【０１１１】
給紙トレイ２２２を介して給紙部２２０に収容されている記録媒体（枚葉紙）２１４が処理液塗布部２３０に給紙されると、圧胴（処理液胴）２３４の外周面に保持された記録媒体２１４の画像形成面に、処理液塗布装置２３６から凝集処理液（以下、単に「処理液」と記載することがある。）が付与される。この処理液は、上述した「塗布液」に相当する。
【０１１２】
なお、「記録媒体２１４の画像形成面」とは、圧胴２３４，２４４，２５４，２６４の保持された状態における外側面であり、圧胴２３４，２４４，２５４，２６４に保持される面と反対面である。凝集処理液を塗布する構成例として、図１等に示す塗布部１２と同様の構成が適用される。
【０１１３】
その後、凝集処理液が付与された記録媒体２１４は溶媒の乾燥処理が施されるととともに描画部２４０に送出され、描画部２４０において画像形成面の凝集処理液が付与された領域（画像形成領域）に、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙから色インクが付与され、所望の画像が形成される。
【０１１４】
すなわち、渡し胴２４２から圧胴（描画胴）２４４に凝集処理液が塗布された記録媒体２１４が受け渡されると、画像データに基づいてインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８ＹからＭ（マゼンダ）、Ｋ（黒）、Ｃ（シアン）、Ｙ（イエロー）各色のインクが打滴される。記録媒体２１４にインクが着弾すると、凝集処理液による凝集作用が発現してインク凝集体（ドット）が形成される。
【０１１５】
なお、図１０に示すインクジェット記録装置２００では、ＭＫＣＹの標準色（４色）の構成を例示したが、インク色や色数の組み合わせについては本実施形態に限定されず、必要に応じて淡インク、濃インク、特別色インクを追加してもよい。例えば、ライトシアン、ライトマゼンタなどのライト系インクを吐出するインクジェットヘッドを追加する構成も可能であり、各色ヘッドの配置順序も特に限定はない。
【０１１６】
さらに、該色インクによる画像が形成された記録媒体２１４は乾燥処理部２５０に送られ、乾燥処理装置２５６による乾燥処理が施され、インクの溶媒が除去される。乾燥処理後の記録媒体２１４は定着処理部２６０に送られ、ヒータ２６６及び定着ローラ２６８を用いた定着処理が施される。定着処理が施されることで、記録媒体２１４上に形成された画像が堅牢化される。このようにして、記録媒体２１４の画像形成面に所望の画像が形成され、該画像を記録媒体２１４の画像形成面に定着させた後に、インラインセンサ２８２による画像の読み取りが行われる。
【０１１７】
図１０に示すインクジェット記録装置２００は、インラインセンサ２８２の読取結果に基づいてインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの吐出異常の有無が判断される。インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの吐出異常が検出されると、吐出異常に起因する画像異常の発生を防ぐために、打滴補正や画像補正が行われる。
【０１１８】
その後、記録媒体２１４は排出部２７０から装置外部に搬送される。図１０に示す排出部２７０は、張架ローラ２７２Ａ，２７２Ｂに巻きかけられた無端状の搬送チェーン２７４と、画像記録後の記録媒体２１４が収容される排出トレイ２７６と、を備えて構成されている。定着処理部２６０から送出された定着処理後の記録媒体２１４は、搬送チェーン２７４によって搬送され、排出トレイ２７６に排出される。
【０１１９】
なお、本例に示す液塗布装置及び計測装置洗浄方法は、コーティング液や上塗り液などの機能性液体を塗布する塗布装置に広く適用可能である。
【０１２０】
〔付記〕
上記に詳述した発明の実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書は少なくとも以下に示す発明を含む多様な技術思想の開示を含んでいる。
【０１２１】
（発明１）：供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部と、前記供給先と前記供給液貯留部とを連通させる液供給路と、前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置と、前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、を備えたことを特徴とする液供給装置。
【０１２２】
本発明によれば、液流路内の液の物性を計測する計測装置の接液部へ洗浄液が直接供給されるとともに、液貯留部から液の供給先へ液が供給されるときよりも液流路内の液の流速が上げられるので、計測装置の洗浄が容易となり、洗浄効果を向上させることができる。
【０１２３】
液供給路加圧手段及び洗浄液供給路加圧手段の一例として、吐出量（回転数）を可変させることができるポンプが挙げられる。また、液供給路加圧手段と洗浄液供給路加圧手段とを兼用させる態様も可能である。
【０１２４】
洗浄液として供給液の溶媒や純水を用いることが可能である。一方、供給液の溶媒等よりもより強力な洗浄効果を発揮する専用の洗浄液（薬液等）を用いることも可能である。
【０１２５】
液貯留部の形態として、メインタンクとサブタンクを含む形態が可能である。すなわち、液供給路と連通するサブタンクと、サブタンクと連通するメインタンクと、を備え、サブタンク内の液量が所定値以下になると、メインタンクからサブタンクへ供給液が補充される形態が可能である。
【０１２６】
（発明２）：発明１に記載の液供給装置において、前記液供給路加圧手段は、前記液供給路における液の流れ方向を切り換え可能に構成され、前記加圧制御手段は、前記計測装置の接液部へ洗浄液が供給されると、前記液供給路における液の流れ方向が所定時間間隔で切り換えられるように前記液供給路加圧手段の動作を制御することを特徴とする。
【０１２７】
かかる態様によれば、計測装置の接液部に対して洗浄液を往復させることで、単一方向に洗浄液を流す場合に比べて汚れが除去されやすくなる。
【０１２８】
かかる態様において、加圧手段を正逆転動作させるときには、洗浄液供給路に設けられる洗浄液供給路を開閉する洗浄液供給路開閉手段が閉じられように構成すると、洗浄液貯留部への洗浄液の逆流が防止される。
【０１２９】
（発明３）：発明１又は２に記載の液供給装置において、前記計測装置の接液部へ供給される洗浄液の温度が前記供給先へ供給される供給液の温度よりも高くなるように、前記洗浄液の温度を調整する温度調整手段を備えたことを特徴とする。
【０１３０】
かかる態様によれば、洗浄液の温度を上げることで、汚れが洗浄液に溶解されやすくなり、汚れの除去が容易になる。
【０１３１】
（発明４）：発明２又は３に記載の液供給装置において、前記液供給路と連通し、前記計測装置の接液部へ供給された洗浄液を廃液貯留部へ排出させる洗浄液排出路と、前記洗浄液排出路に設けられ、前記液供給路から前記廃液貯留部へ向かう方向に洗浄液を流す構造を有する逆止弁と、を備えたことを特徴とする。
【０１３２】
かかる態様によれば、計測装置の接液部に対して洗浄液を往復させるときに、汚れが混ざった洗浄液が他の流路へ送られることなく廃液貯留部へ送られる。
【０１３３】
（発明５）：発明４に記載の液供給装置において、前記逆止弁は、前記洗浄液排出路内の圧力が所定の圧力を超えると、前記液供給路から前記廃液貯留部へ向かう方向に洗浄液を流す構造を有するリリーフ弁であることを特徴とする。
【０１３４】
かかる態様によれば、液供給路と連通する洗浄液排出路内の圧力が一定圧力を超えたときに洗浄液排出路を開放させるので、計測装置の接液部に流れる洗浄液の流速を一時的に上げることができ、洗浄効果をより向上させることが可能となる。
【０１３５】
（発明６）：発明１から５のいずれか１項に記載の液供給装置において、前記液供給路加圧手段は、前記液供給路と前記洗浄液供給路が連通される位置よりも前記計測装置側に配設されるとともに、前記洗浄液供給路加圧手段と兼用されることを特徴とする。
【０１３６】
かかる態様によれば、当該液供給装置の構成が簡略化される。
【０１３７】
（発明７）：発明１から６のいずれかに記載の液供給装置において、前記洗浄液供給路に設けられ、前記洗浄液供給路の開閉を切り換える洗浄液供給路開閉手段と、前記液供給路の前記供給液貯留部と前記液供給路加圧手段との間に設けられ、前記液供給路の開閉を切り換える液供給路開閉手段と、前記計測装置の接液部へ洗浄液が供給されるときは、前記洗浄液供給路開閉手段が開かれるとともに前記液供給路開閉手段が閉じられるように、前記液供給路開閉手段及び前記洗浄液供給路開閉手段の動作を制御する開閉制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【０１３８】
かかる態様によれば、洗浄液が液供給路と連通する他の流路に送られることなく、確実に計測装置の接液部へ送られる。
【０１３９】
（発明８）：発明１から７のいずれかに記載の液供給装置において、前記洗浄液は、前記供給液を希釈させる希釈液と兼用されることを特徴する。
【０１４０】
かかる態様によれば、洗浄液と希釈液が兼用されることで、装置構成を簡略することが可能となる。
【０１４１】
かかる態様における洗浄液（希釈液）の一例として、供給液の溶媒、純水などが挙げられる。
【０１４２】
（発明９）：発明８に記載の液供給装置において、前記供給液を希釈させる希釈液が貯留される希釈液貯留部と、前記希釈液貯留部及び前記液供給路と連通する希釈液供給路と、前記希釈液供給路に設けられ、前記希釈液供給路を開閉させる希釈液供給路開閉手段と、を備え、前記開閉制御手段は、前記洗浄液供給路開閉手段が開かれて前記計測装置の接液部へ前記供給液貯留部を介さずに洗浄液が供給された後に、前記洗浄液供給路が閉じられるとともに前記希釈液供給路開閉手段が開かれて、前記計測装置の接液部へ希釈液が供給されるように、前記洗浄液供給路開閉手段及び前記希釈液供給路開閉手段の動作を制御することを特徴とする。
【０１４３】
かかる態様によれば、供給液を希釈させる希釈液を計測装置の接液部の洗浄液として確実に供給しうる。
【０１４４】
（発明１０）：発明１から９のいずれかに記載の液供給装置において、前記供給先から前記供給液貯留部へ供給液を循環させる循環路と、前記循環路に設けられ、前記循環路内の液を加圧する循環路加圧手段と、を備え、前記加圧制御手段は、前記循環路内の液の流速が前記液供給路内の液の流速を超えるように前記液供給路加圧手段及び前記循環路加圧手段の動作を制御することを特徴とする。
【０１４５】
かかる態様の一例として、吐出量（回転数）を可変させることができるポンプが挙げられる。
【０１４６】
（発明１１）：発明１から１０のいずれかに記載の液供給装置において、前記計測装置は、前記液供給路内の供給液の濃度を検知する濃度計であることを特徴とする。
【０１４７】
かかる態様における濃度計として、接液部に光線を照射する光源と、光源から照射されて接液部により反射された光を受光する受光素子と、を備える形態が挙げられる。また、光源と受光素子との間に集光レンズやプリズムなどが含まれる光学系が具備される態様が好ましい。
【０１４８】
（発明１２）：請求項１から１１のいずれかに記載の液供給装置において、前記液供給路は、前記計測装置の接液面に液を送る入路と、前記計測装置の接液面から液が送られる出路と、を備え、前記計測装置の接液面と前記入路とは３０度以上９０度以下の角度をなし、前記計測装置の接液面と前記出路とは３０度以上９０度以下の角度をなす構造を有することを特徴とする。
【０１４９】
かかる態様によれば、計測装置の接液面に対して３０度以上９０度以下の角度で供給液が当たるので、より高い洗浄効果を得ることが可能となる。
【０１５０】
かかる態様における接液面と供給液の流れの角度は、４５度以上９０度以下とすると、より高い洗浄効果が期待できる。
【０１５１】
（発明１３）：媒体へ塗布液を塗布する塗布部と、前記塗布部へ供給される塗布液が貯留される塗布液貯留部と、前記塗布部及び前記塗布液貯留部と連通される液供給路と、前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の塗布液の物性を計測する計測装置と、前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、を備えたことを特徴とする塗布装置。
【０１５２】
本発明に係る塗布装置は、インクジェット記録装置における、記録媒体に所定の処理液（コーティング液）を塗布する処理液塗布処理部に適用可能である。
【０１５３】
所定の処理液の一例として、インクと反応して、インクに含有される色材を凝集（又は不溶化）させる酸性液が挙げられる。
【０１５４】
（発明１４）：供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部から、前記供給先及び前記供給液貯留部と連通する液供給路を介して前記供給先へ供給液を供給する液供給装置において、前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部へ洗浄液が前記供給液貯留部を介さずに直接供給され、前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げることを特徴とする計測装置洗浄方法。
【０１５５】
液供給路へ洗浄液が供給されるときは、液貯留部と液供給路が閉じられるように構成すると、洗浄液が液貯留部へ送られることが防止される。
【０１５６】
液供給路へ洗浄液が供給されると、液供給路の液の流れが所定間隔で切り換えられるように構成すると、より高い洗浄効果が得られる。
【０１５７】
液供給路へ洗浄液が供給されると、液供給路の液の流れを逆転させるとともに、液供給路内の圧力を一時的に高めた後に当該圧力を開放させることで、より高い洗浄効果を得ることができる。
【符号の説明】
【０１５８】
１０，１０’，１０”…液供給装置、１２…塗布部、３０…塗布装置、３２…バッファタンク、３４…塗布液供給路、３６…バッファタンク供給バルブ、３８…濃度計、４０，４０’…供給ポンプ、４２…ヒータ、５０…希釈液タンク、５２…希釈液供給路、６０…バイパス流路、６２…希釈液供給バルブ、７０…循環流路、７４…収容部回収バルブ、７８…回収ポンプ、８２…廃液流路、８４…廃液タンク、８６…廃液バルブ、９０…希釈液排出流路、９３…洗浄液供給流路、９４…洗浄液供給バルブ、９５…洗浄液タンク、１００…システム制御部、１０２…ポンプ制御部、１０４…バルブ制御部、１０６…ヒータ制御部
【技術分野】
【０００１】
本発明は液供給装置及び塗布装置並びに計測装置洗浄方法に係り、特に液体流路に設けられる計測装置のメンテナンス技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
汎用紙を用いた印刷システムにおいて、塗布ローラを用いたコーティング装置によって、印刷前の用紙にインクを凝集反応させるための処理液をコーティングするプロセスを含む形態がある。
【０００３】
図１１に示すコーティング（塗布）装置３００は、補充タンク３０２から塗布ローラ３０４（塗布皿３０６）へ供給経路３０８及びポンプ３１０を介して処理液が直接供給され、塗布ローラ３０４によって消費される処理液の量と、塗布ローラ３０４へ供給される処理液の量が同量になるように処理液の供給量が制御されている。
【０００４】
図１１に示すコーティング装置３００は、塗布ローラ３０４へ処理液を供給する最もシンプルな構成を有しており、常に新鮮な処理液を供給できるメリットがある反面、供給量の管理が難しく、供給過多や供給不足が生じやすいという問題がある。なお、図１１に符号３１２を付した構成は、塗布皿３０６から排出された廃液が収容される廃液タンク３１２である。
【０００５】
そこで、図１２に示すように、補充タンク３０２とは別に、処理液を一時的に蓄えるバッファタンク３２０を備え、塗布ローラ３０４で消費されなかった処理液を塗布皿３０６からバッファタンク３２０へ循環させる循環経路３２２を備えるとともに循環経路３２２にポンプ３２４を設けて、バッファタンク３２０と塗布ローラ３０４（塗布皿３０６）との間で処理液を循環させつつ、バッファタンク３２０の液量の減少に応じて、補充タンク３０２から供給経路３２６及びポンプ３２８を介して新鮮な処理液をバッファタンク３２０へ補充するという方法が用いられる。
【０００６】
しかし、図１２に示すコーティング装置３００’では、装置のスタンバイ状態などコーティングが行われない状態が長時間継続されると、処理液の循環に伴って処理液の水分が蒸発し、処理液の濃度が徐々に高くなっていくという問題がある。さらに、処理液は塗布の安定化のためヒータ（不図示）により所定の温度範囲に温度調整制御がされるために水分の蒸発が助長されてしまう。
【０００７】
図１３に示すコーティング装置３００”は、供給経路３０８の途中に濃度計３４０を備えて供給経路３０８内の処理液の濃度を監視し、ある閾値よりも高くなった場合には別途設けられた希釈水タンク３４２から希釈水供給経路３４４及びポンプ３４６を介して、バッファタンク３２０へ希釈水が供給され、供給経路３０８内の処理液の濃度を一定に保つように制御が行われ、処理液の濃度上昇を解決している。循環経路３２２に備えられる濃度計３４０として、循環経路３２２内の処理液にレーザ光などを照射して、反射光又は透過光の受光率に基づいて濃度を計測するものが適用可能である。
【０００８】
一方、塗布ローラ３０４は用紙と直接接触するために、用紙から排出された紙粉や、スタック時のブロッキング（貼り付き）を防止するために用紙に散布されるパウダー等の異物が付着する。塗布ローラ３０４に付着した異物は、塗布皿３０６内の処理液とともに循環経路３２２や供給経路３０８に混入してしまい、この状態で装置を長期間稼動することにより、供給経路３０８へ混入した異物が濃度計３４０の接液面（計測部）に徐々に堆積され、次第に検出感度が低下して正確に処理液の濃度を計測できなくなるという問題が発生する。
【０００９】
したがって、濃度計３４０の計測部を定期的に清掃する必要があり、現状ではユーザやサービスエンジニアが手動で濃度計３４０の計測部の清掃を行っており、手間となっている。
【００１０】
特許文献１に記載されたインクジェット記録装置では、インクジェットヘッドとインクサブタンクとの間に設けられた濃度検出部に洗浄液を供給して、該濃度検出部を洗浄するように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００６−１５６３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献１に記載されたインクジェット記録装置のように、単に洗浄液を供給するだけでは、濃度検出部の汚れを完全に除去することは難しい。十分な洗浄効果を得るためには長時間洗浄液を供給し続ける必要があり、洗浄液を大量に消費してしまうという問題が発生する。また、長時間にわたる洗浄液の供給中は装置の稼動を停止させる必要があり、稼働率の低下も懸念される。
【００１３】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、液流路の液の物性を計測する計測装置を効率よく洗浄することができ、長期間にわたり好ましい計測装置の動作が実現される液供給装置及び塗布装置並びに計測装置洗浄方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明に係る液供給装置は、供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部と、前記供給先と前記供給液貯留部とを連通させる液供給路と、前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置と、前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、液流路内の液の物性を計測する計測装置の接液部へ洗浄液が直接供給されるとともに、液貯留部から液の供給先へ液が供給されるときよりも液流路内の液の流速が上げられるので、計測装置の洗浄が容易となり、洗浄効果を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液供給装置を備えた塗布装置の概略構成を示す構成図
【図２】図１に示す液供給装置における濃度計の洗浄状態を模式的に示す説明図
【図３】図１に示す液供給装置に適用される濃度計の取付状態を示す断面図、及び濃度計の検出原理の一例の説明図
【図４】図１に示す液供給装置の制御系の概略構成を示すブロック図
【図５】図１に示す液供給装置における循環モードの制御の流れを示すフローチャート
【図６】図１に示す液供給装置における濃度計の洗浄モードの制御の流れを示すフローチャート
【図７】本発明の第２実施形態に係る液供給装置における洗浄状態を模式的に示す説明図
【図８】図７に示す液供給装置における洗浄状態の他の態様を模式的に示す説明図
【図９】本発明の第３実施形態に係る液供給装置における洗浄状態を模式的に示す説明図
【図１０】本発明に係る液供給装置が適用される装置構成例を示す概略構成図
【図１１】従来技術に係る塗布装置の課題を説明する図
【図１２】従来技術に係る塗布装置の他の課題を説明する図
【図１３】従来技術に係る塗布装置のさらに他の課題を説明する図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。
【００１８】
〔第１実施形態〕
（全体構成）
図１は、本発明の第１実施形態に係る液供給装置１０の概略構成及び、液供給装置１０を備えた塗布装置３０の概略構成を示す構成図である。同図に示す塗布装置３０は、液供給装置１０と塗布部１２を備え。液供給装置１０から塗布部１２へ所定の塗布液が供給されるように構成されている。
【００１９】
塗布部１２は、液供給装置１０から供給された塗布液が一次貯留される塗布皿１４と、塗布皿１４から所定量の塗布液をくみ上げる計量手段として機能するアニロックスローラ１６と、アニロックスローラ１６によって計量された塗布液が供給され、被塗布媒体に塗布液を塗布する塗布ローラ１８と、被塗布媒体２０を外周面に固定保持する圧胴２２と、を備えている。
【００２０】
表面に塗布液（太線により図示）が供給された塗布ローラ１８を所定の回転速度で回転させながら、圧胴２２の回転速度に応じて搬送される被塗布媒体（例えば、紙）２０に接触させることで、被塗布媒体２０の被塗布面に所定量の塗布液が塗布される。塗布ローラ１８を被塗布媒体２０に対して一定圧力で付勢させることで、塗布液の塗布むらが防止され、均一な塗布液の塗布がされている。
【００２１】
塗布液が一次貯留される塗布皿１４は、液供給装置１０から送液された塗布液が溜められる液溜部１４Ａと、液溜部１４Ａから溢れた塗布液が収容される収容部１４Ｂと、を有し、液溜部１４Ａと収容部１４Ｂは隔壁１４Ｃによって区画されている。液溜部１４Ａの液面が隔壁１４Ｃを超えると余剰な塗布液が収容部１４Ｂへ流れ出す構造を有しており、隔壁１４Ｃの高さによって液溜部１４Ａの最大液量が決められている。
【００２２】
収容部１４Ｂに流れ出した塗布液は、底面に設けられた排出口（不図示）を介して外部へ排出される。また、液溜部１４Ａの底面にも不図示の排出口が設けられており、この排出口から外部へ塗布液を直接排出させることも可能である。
【００２３】
液溜部１４Ａは、液供給装置１０から一定量の塗布液が常時供給され、余剰となった塗布液を循環させている（詳細後述）。このようにして、塗布皿１４（液溜部１４Ａ）内の液量を一定範囲内に維持することで、安定した塗布液の計量が実現されている。
【００２４】
液供給装置１０は、塗布部１２へ供給される塗布液が一次貯留されるバッファタンク３２と、一方の端部がバッファタンク３２と連通し、他方の端部が塗布部１２（塗布皿１４）と連通する塗布液供給路３４と、塗布液供給路３４の開閉を切り換えるバッファタンク供給バルブ３６と、塗布液供給路３４内の液の濃度を検知する濃度計３８（計測装置）と、塗布液供給路３４内の液体を加圧する供給ポンプ４０と、塗布液供給路３４内の液の温度を調整するヒータ４２が含まれる。かかる各部によって、液供給系が構成されている。
【００２５】
バッファタンク供給バルブ３６を開き、供給ポンプ４０を所定の回転速度で動作させると、バッファタンク３２から塗布液が吸い上げられ、フィルタ４１及び塗布液供給路３４介して塗布部１２へ供給される。なお、供給ポンプ４０は、濃度計３８のバッファタンク側（上流側、符号３９を付して破線により図示した位置）に設けられていてもよい。
【００２６】
バッファタンク３２内の塗布液が消費されると、補充タンク４４から塗布液が補充される。バッファタンク３２と補充タンク４４とは補充流路４６によって連通されており、バッファタンク３２内の塗布液の液面が下限位置に達すると、補充流路４６に設けられた補充ポンプ４８を動作させて、補充タンク４４からフィルタ４９及び補充タンク４４を介してバッファタンク３２へ塗布液が送られる。
【００２７】
塗布部１２へ供給される塗布液の濃度が上昇して所定値を超えると、バッファタンク３２へ所定量の希釈液が供給され、塗布液の濃度が一定範囲内に維持される。すなわち、バッファタンク３２と希釈液が貯留される希釈液タンク５０とは、希釈液供給路５２によって連通されている。
【００２８】
塗布液供給路３４内の塗布液の濃度が所定値を超えると、希釈液供給路５２に設けられた希釈液補充ポンプ５４が動作して、希釈液タンク５０からフィルタ５６及び希釈液供給路５２を介してバッファタンク３２へ希釈液が供給される。希釈液には、塗布液の溶媒や純水などが適用される。
【００２９】
本例に示す液供給装置１０は、希釈液供給路５２が希釈液補充ポンプ５４よりも希釈液タンク５０側で分岐され塗布液供給路３４の濃度計３８よりもバッファタンク３２側で接続されている。
【００３０】
すなわち、希釈液供給路５２と塗布液供給路３４との間にバイパス流路６０が設けられるとともに、バイパス流路６０には希釈液供給路５２と塗布液供給路３４との連通、非連通を切り換える希釈液供給バルブ６２が設けられている。
【００３１】
塗布液供給路３４とバイパス流路６０との接合部は、濃度計３８などの塗布液供給路３４に配設される計測装置よりもバッファタンク３２側（上流側）となっており、塗布液供給路３４に配設される計測装置に対してバッファタンク３２を介さずに直接希釈液を供給可能な構造となっている。
【００３２】
なお、図１の符号３９を付して図示した位置に供給ポンプが配置される態様では、希釈液補充ポンプ５４は、符号５３を付して破線により図示される位置に配置される。
【００３３】
図１に示す液供給装置１０は、塗布液の供給先である塗布部１２（塗布皿１４）とバッファタンク３２との間で塗布液を循環させる循環流路７０が設けられている。すなわち、塗布皿１４の液溜部１４Ａの底面の排出口及び収容部１４Ｂの底面の排出口とバッファタンクとは、循環流路７０を介して連通されている。
【００３４】
循環流路７０には、液溜部回収バルブ７２、収容部回収バルブ７４、フィルタ７６、回収ポンプ７８、バッファタンク回収バルブ８０が設けられている。収容部回収バルブ７４、バッファタンク回収バルブ８０を開いた状態で回収ポンプ７８を動作させると、塗布皿１４の収容部１４Ｂから循環流路７０を介してバッファタンク３２へ塗布液が循環される。
【００３５】
図１の太矢印線は、バッファタンク３２から塗布部１２への塗布液の供給と、塗布部１２からバッファタンク３２への塗布液の循環を表している。このように、塗布液を循環させながら供給することで、塗布液の状態（粘度、濃度、温度、異物の混入状態など）が一定に保たれる。
【００３６】
循環流路７０は、回収ポンプ７８の下流側で分岐されて廃液流路８２と連通されている。廃液流路８２の反対側の端は廃液タンク８４と連通されており、液溜部回収バルブ７２及び収容部回収バルブ７４を開き、バッファタンク回収バルブ８０を閉じ、廃液流路８２の開閉を切り換える廃液バルブ８６を開いた状態で回収ポンプ７８を動作させると、塗布皿１４内の塗布液は廃液タンク８４へ排出される。
【００３７】
塗布部１２において、被塗布媒体２０へ塗布液が塗布される通常運転時には、図１に図示したように塗布液の循環が行われる。塗布液を循環させるときは、（供給ポンプ４０の吐出量）＜（回収ポンプ７８の吐出量）となるように、供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８の吐出量が制御される（詳細後述）。なお、回転機構を有するポンプでは、「吐出量」に対応するパラメータとして「回転数」を適用可能である。
【００３８】
図２は、液供給装置１０における塗布液供給路３４及び塗布液供給路３４に配接される計測装置を洗浄する洗浄状態（洗浄モード）を模式的に図示した説明図である。なお、これ以降の説明において、先に説明した部分と同一又は類似する部分には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００３９】
図２に示す洗浄状態では、塗布液供給路３４、濃度計３８、供給ポンプ４０、ヒータ４２の塗布液と接触する部分が洗浄液によって洗浄される。すなわち、塗布液供給路３４に洗浄液が直接供給され、塗布液供給路３４、濃度計３８、供給ポンプ４０の塗布液と接触する部分に洗浄液を流すことで、これらに付着した汚れが洗浄液とともに排出される。
【００４０】
汚れを流した洗浄液は、塗布皿１４、循環流路７０、及び廃液流路８２を介して廃液タンク８４へ送られる。洗浄液には塗布液を希釈させる希釈液が適用される。図の太矢印線は、洗浄液（希釈液）の流れを表している。
【００４１】
すなわち、希釈液供給バルブ６２、収容部回収バルブ７４，廃液バルブ８６が開かれ、バッファタンク供給バルブ３６、バッファタンク回収バルブ８０が閉じられた状態で、供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８を動作させると、希釈液タンク５０から希釈液供給路５２、バイパス流路６０を介して塗布液供給路３４へ希釈液がバッファタンク３２を介さずに直接供給される。
【００４２】
このときに、供給ポンプ４０の吐出量は、通常動作時（図１に図示した状態）よりも高くされる。また、（供給ポンプ４０の吐出量）＜（回収ポンプ７８の吐出量）の関係が維持されるように、回収ポンプ７８の吐出量も通常動作の循環時よりも高くされる。
【００４３】
このようにして、通常動作時よりも塗布液供給路３４内の液の圧力を塗布液の供給時（通常動作時）よりも上げることで、洗浄状態における洗浄液の流速がより速くなり、濃度計３８の接液部分や供給ポンプ４０の接液部分、塗布液供給路３４の内壁に付着した汚れが除去されやすくなる。
【００４４】
その結果、洗浄に要する時間がより短縮化されるとともに、洗浄液（希釈液）の消費量がより低減化される。なお、洗浄状態の詳細は後述する。
【００４５】
（計測装置の説明）
図３（ａ），（ｂ）は、塗布液供給路３４に配設される計測装置である濃度計３８の取付状態を示す断面図であり、図３（ｃ）は、濃度計３８の検出原理の一例の説明図である。図３（ａ）に示すように、濃度計３８の検出部３８Ａは、塗布液供給路３４の内部に挿入され、塗布液と接触する。塗布液供給路３４の濃度計３８を固定するための固定部３４Ａは、パッキンなどの封止部材３８Ｂによって封止（シール）される。
【００４６】
図３（ａ）に示す塗布液供給路３４は、濃度計３８の検出部３８Ａへ液が流入する入路３４Ｂと、濃度計３８の検出部３８Ａから液が排出される出路３４Ｃと、を備え、検出部３８Ａに対しする液の流れ方向が略直角方向になるように入路３４Ｂ及び出路３４Ｃが配設されている。
【００４７】
図３(ａ)に示す態様では、塗布液供給路３４から分岐させた流路に濃度計３８が取り付けられ、塗布液供給路３４の分岐部分から濃度計３８へ向かう方向に沿って、当該分岐流路（濃度計取付部）の同方向における略中央部にパーティションが設けられ、当該分岐流路（濃度計取付部）が区画されて入路３４Ｂと出路３４Ｃが形成されている。
【００４８】
また、図３（ｂ）に示す塗布液供給路３４は、検出部３８Ａに対する液の流れ方向が略４５°になるように入路３４Ｂ及び出路３４Ｃが配設されている。図３（ｂ）に示す形態では、塗布液供給路３４から分岐された分岐流路（濃度計３８の取付部）は、濃度計３８を中心として略９０度に開かれた構造を有しており、この分岐流路の略中央部にパーティションが設けられている。
【００４９】
かかる態様によれば、流入する液が検出部３８Ａに対して角度をもって当たるため、より検出部３８Ａの洗浄効果を向上させることができる。また、排出側も同様の角度とすることで、後述する第２実施形態において、液体を逆流させた場合にも、同様の効果を得ることができる。
【００５０】
経路に角度を持たせることで流路抵抗が大きくなるために、液の粘度や流速によっては、濃度計内部の流れが阻害される懸念がある。そのため、流入角度及び排出角度は使用される液の粘度や流速によって適度に設定される。
【００５１】
検出部３８Ａに対する液の流れ方向を３０度以上９０度以下とする態様が好ましく、検出部３８Ａに対する液の流れ方向を４５度以上９０度以下とする態様がより好ましい。なお、検出部３８Ａに対する入路３４Ｂの角度と、検出部３８Ａに対する出路３４Ｃの角度と、を同一にしてもよいし、異ならせてもよい。
【００５２】
図３（ｃ）に示すように、塗布液供給路３４に挿入された検出部３８Ａは、塗布液供給路３４内の液（検出液）と接触する接液面（液との界面）３８Ｃを有する光学系３８Ｄと、接液面３８Ｃに光を照射する光源３８Ｅと、接液面３８Ｃによる反射光を受光する受光素子３８Ｆと、と含んで構成されている。
【００５３】
光源３８Ｅから出射された光の一部は、接液面３８Ｃによって反射して受光素子３８Ｆに入射される。検出液（本例では、塗布液）の濃度に応じて反射角が変わるため、受光素子３８Ｆへの入光位置を検知することで、検出液の濃度を把握することができる。
【００５４】
図３（ｃ）には、光学系３８Ｄの構成例として、プリズム３８Ｇと、光源３８Ｅとプリズム３８Ｇとの間に設けられるレンズ（コンデンサレンズ）３８Ｈと、プリズム３８Ｇと受光素子３８Ｆとの間に設けられたレンズ（対物レンズ）３８Ｉを含む構成が図示されている。
【００５５】
また、光源３８ＥにはＬＥＤを適用することができ、受光素子３８ＦにはＣＣＤなどのイメージセンサを適用することができる。
【００５６】
図３（ｃ）に示す接液面３８Ｃに、塗布液の溶質成分や被塗布媒体の材質などの汚れが付着し、長期にわたる使用により汚れが堆積すると、濃度の誤検出や検出ばらつきの原因となり、正確に塗布液の濃度を把握することが難しくなる。
【００５７】
そこで、上述した洗浄により接液面３８Ｃの汚れが除去された好ましい状態に維持されることで、塗布液の状態（物性）が正確に把握され、塗布液の状態に応じた塗布液の管理最適化が可能となる。
【００５８】
（制御系の説明）
図４は、図１に示す液供給装置１０（塗布装置３０）の制御系の概略構成を示すブロック図である。同図に示すように、液供給装置１０はシステム制御部１００により統括制御される。システム制御部１００はマイクロコンピュータやＣＰＵなどを適用することができ、単独のデバイスによって構成されてもよいし、複数のデバイスを組み合わせて構成されてもよい。
【００５９】
図４に示す制御系は、システム制御部１００から送出される指令信号に応じて、ポンプ１０１の動作を制御するポンプ制御部１０２と、バルブ１０３の動作を制御するバルブ制御部１０４と、ヒータ４２を制御するヒータ制御部１０６と、を有している。
【００６０】
なお、図４に符号１０１を付して図示したポンプは、図１の供給ポンプ４０、補充ポンプ４８、希釈液補充ポンプ５４、及び回収ポンプ７８など、装置内に設けられるポンプがまとめて図示されたものである。
【００６１】
同様に、図４に符号１０３を付して図示したバルブは、図１，２のバッファタンク供給バルブ３６、希釈液供給バルブ６２、液溜部回収バルブ７２、収容部回収バルブ７４、バッファタンク回収バルブ８０、及び廃液バルブ８６など、装置内に設けられるバルブがまとめて図示されたものである。
【００６２】
図４の温度センサ１０５は、装置各部の温度を検出する手段であり、装置各部の温度情報を検出信号としてシステム制御部１００へ送出する。システム制御部１００は、温度センサ１０５から送られた装置各部の温度情報に基づいて温度調整が実行されるように、装置各部の温度調整部へ指令信号を送出する。
【００６３】
液量センサ１０７は、図１，２のバッファタンク３２、補充タンク４４、希釈液タンク５０、及び廃液タンク８４の液量を検出する手段である。例えば、バッファタンク３２に設けられる液量センサから、バッファタンク３２内の塗布液量が下限値を下回る旨の情報がシステム制御部１００へ送出されると、システム制御部１００は補充タンク４４からバッファタンク３２へ塗布液が補充されるように補充ポンプ４８を動作させる指令信号をポンプ制御部１０２へ送出する。
【００６４】
図４の入力部１１０は、オペレータにより操作されるキーボード、タッチパネル、マウス、スイッチなどの操作部や、外部入力端子（外部入力インターフェイス）などが含まれる。オペレータは、入力部１１０（操作部）を用いて動作モードの切り換えや各種情報の入力を行うことができる。
【００６５】
また、外部入力インターフェイスを介して、ホストコンピュータや外部記憶装置（ストレージ）などの外部機器とのデータのやり取りを行うことができる。外部入力部は、有線形式、無線形式のいずれも適用可能である。
【００６６】
表示部１１２は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどのディスプレイ装置と、ディスプレイ装置の表示制御を行うディスプレイドライバーと、を含んで構成される。表示部１１２は、システム制御部１００が送出される各種情報を文字情報や画像情報としてディスプレイ装置に表示させる。なお、タッチパネル方式のディスプレイ装置を用いて、入力部１１０（操作部）と表示部１１２とを一体構成としてもよい。
【００６７】
システム制御部１００は、パラメータ記憶部１１４やプログラム格納部１１６といった記憶装置（記憶素子）に対するデータの書き込み及びデータの読み出しを制御する手段としても機能する。
【００６８】
パラメータ記憶部１１４は、装置の各種パラメータが記憶されるブロックである。また、プログラム格納部１１６は、装置の制御に用いられる各種プログラムが格納されている。パラメータ記憶部１１４やプログラム格納部１１６は、ＲＡＭなどの半導体記憶素子やハードディスクなどの磁気記憶媒体が適用される。
【００６９】
カウンター（タイマー）１１８は、装置の稼働時間や、ポンプ１０１、バルブ１０３などの動作開始（動作変更）からの経過時間が計測され、計測結果が記憶される手段である。システム制御部１００は、カウンター１１８に記憶されている計測値を参照して、装置各部の制御を開始する指令信号、終了する指令信号、変更する指令信号を送出する。
【００７０】
（循環モード、洗浄モードの詳細な説明）
次に、図１，２に図示した液供給装置１０の循環モード（塗布装置３０の塗布実行モード）、及び洗浄モードについて詳述する。
【００７１】
図５は、循環モードの制御の流れを示すフローチャートである。同図に示すように、循環モードが開始されると（ステップＳ１０）、図１のバッファタンク供給バルブ３６、収容部回収バルブ７４、バッファタンク回収バルブ８０が開かれ（図５のステップＳ１２）、他のバルブ（図１の希釈液供給バルブ６２、液溜部回収バルブ７２、廃液バルブ８６）が閉じられる（図５のステップＳ１４）。
【００７２】
図１の供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８が駆動され（図５のステップＳ１６）、（供給ポンプ４０の吐出量）＜（回収ポンプ７８の吐出量）の関係が維持されるように、図１の供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８の動作が制御される（図５のステップＳ１８）。
【００７３】
ステップＳ２０では、モード切換の有無が監視され、モード切換が行われた場合は（Ｙｅｓ判定）、循環モードの終了処理が実行され（ステップＳ２２）、循環モードが終了される（ステップＳ２４）。一方、モード切換が行われない場合は（ステップＳ２０のＮｏ判定）、図１のバッファタンク３２の液量が監視されるとともに（図５のステップＳ２６〜ステップＳ３２）、塗布液の濃度が監視される（ステップＳ３４〜ステップＳ４０）。
【００７４】
ステップＳ２６において、図１のバッファタンク３２の液量が下限を下回っていると判断されると（図５のステップＳ２６のＹｅｓ判定）、図１の補充ポンプ４８を動作させて、補充タンク４４からバッファタンク３２へ塗布液が補充される（図５のステップＳ２８）。
【００７５】
一方、図１のバッファタンク３２の液量が上限を超えていると判断されると（図５のステップＳ３０のＹｅｓ判定）、図１の補充ポンプ４８が停止され（図５のステップＳ３２）、図１の補充タンク４４からバッファタンク３２への塗布液の補充が終了される。
【００７６】
なお、ステップＳ２６において、図１のバッファタンク３２の液量が下限を下回っていないと判断される場合（Ｎｏ判定）、及び図５のステップＳ３０において、図１のバッファタンク３２の液量が上限を超えていないと判断されると（Ｎｏ判定）、ステップＳ３０に戻り、図１のバッファタンク３２の液量の監視が継続される。
【００７７】
また、塗布液の濃度の監視では、図５のステップＳ３４において、塗布液の濃度が所定値を超えていないと判断されると（Ｎｏ判定）、ステップＳ２０に戻り、塗布液の濃度が所定値を超えたと判断されると（ステップＳ３４のＹｅｓ判定）、図１の希釈液補充ポンプ５４を動作させて（図５のステップＳ３６）、図１の希釈液タンク５０からバッファタンク３２へ希釈液が供給され、バッファタンク３２内の塗布液が希釈される。
【００７８】
また、図５のステップＳ３８において、塗布液の濃度が所定値以下になったと判断されると（Ｙｅｓ判定）、図１の希釈液補充ポンプ５４を停止させ（図５のステップＳ４０）、ステップＳ２０に戻り、塗布液の濃度が所定値以下になっていないと判断されると（ステップＳ３８のＮｏ判定）、塗布液の濃度監視が継続される（ステップＳ３８）。
【００７９】
図６は、図２に示す塗布液供給路３４に配設される計測装置（濃度計３８）の洗浄モードの制御の流れを示すフローチャートである。洗浄モードが開始されると（図６のステップＳ１００）、図２の希釈液供給バルブ６２、液溜部回収バルブ７２、収容部回収バルブ７４、廃液バルブ８６が開かれ（図６のステップＳ１０２）、他のバルブ（図２のバッファタンク供給バルブ３６、バッファタンク回収バルブ８０）が閉じられる（図６のステップＳ１０４）、図２の供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８が駆動される（図６のステップＳ１０６）。
【００８０】
図２に示す供給ポンプ４０の吐出量は循環モード（通常動作時）より高く、かつ、洗浄モードにおいても（供給ポンプ４０の吐出量）＜（回収ポンプ７８の吐出量）の関係が維持されるように、供給ポンプ４０及び回収ポンプ７８の動作が制御される（ステップＳ１０８）。
【００８１】
そうすると、図２の希釈液タンク５０から希釈液供給路５２、バイパス流路６０、希釈液供給バルブ６２を介して塗布液供給路３４へ希釈液直接供給される。希釈液は、塗布液供給路３４、濃度計３８、供給ポンプ４０を洗浄しながら塗布皿１４へ流れ込み、塗布皿１４から循環流路７０及び廃液流路８２を経由して廃液タンク８４へ送られる。希釈液が通過した部分は付着していた汚れが除去される。
【００８２】
ステップＳ１１０では、モード切換の有無が監視される。モード切換が行われた場合は（Ｙｅｓ判定）、洗浄モードの終了処理が実行され（ステップＳ１１２）、洗浄モードが終了される（ステップＳ１１４）。一方、モード切換が行われない場合は（ステップＳ１１０のＮｏ判定）、洗浄モード開始からの経過時間が監視される（ステップＳ１１６）。
【００８３】
すなわち、洗浄モードは開始からの経過時間によって処理時間が管理される。ステップＳ１１６で洗浄モードの開始から所定時間が経過したと判断されると（Ｙｓｅ判定）、洗浄モードの終了処理が実行され（ステップＳ１１２）、洗浄モードが終了される（ステップＳ１１４）。
【００８４】
なお、オペレータから強制終了指令が入力された場合や、非常停止指令が入力された場合には、直ちに洗浄モードの終了処理が実行され（ステップＳ１１２）、洗浄モードが終了される（ステップＳ１１４）。
【００８５】
洗浄モード（洗浄状態）における供給ポンプ４０の吐出量は、循環モード（通常動作時）の供給ポンプ４０の吐出量の１．２倍以上３倍以下が好ましく、１．２倍以上２倍以下がより好ましい。例えば、洗浄モードの供給ポンプ４０の吐出量を循環モードの２倍としたときには、通常動作時と同じ吐出量で供給ポンプ４０（回収ポンプ７８）を動作させたときと比較して、洗浄時間は約６５％短縮化され、洗浄液の消費量は約３５％削減される。
【００８６】
上述した洗浄モードは、装置の立ち上げ時や、所定の稼働時間経過時、装置のインターバル時に自動的に実行させてもよいし、オペレータが手動で実行させてもよい。
【００８７】
また、自動実行時における供給ポンプ４０の吐出量と、手動実行時における供給ポンプ４０の吐出量を変えてもよい。例えば、自動実行時の供給ポンプ４０の吐出量に対して、手動実行の供給ポンプ４０の吐出量を上げて、手動実行時には自動実行時よりもより高い洗浄効果が得られるように構成してもよい。さらに、供給ポンプ４０の吐出量を段階的に可変させるように構成してもよい。
【００８８】
上記の如く構成された液供給装置及び計測装置洗浄方法によれば、洗浄モードでは、塗布液供給路３４へ洗浄液としての希釈液が直接供給されるとともに、バッファタンク３２から塗布部１２へ塗布液が供給される通常動作時（循環モード）ときよりも供給ポンプ４０の吐出量が上げられるので、塗布液供給路３４内の希釈液の圧力がより高くされることで流速がより高くなり、塗布液供給路３４に配設される計測装置や塗布液供給路３４内部の洗浄が容易となり、洗浄効果を向上させることができる。
【００８９】
また、塗布液供給路３４を通過する希釈液の流速をより早くすることで、所定の洗浄効果を得るための処理時間が短縮化されるとともに、希釈液の消費量を低減させることが可能となる。
【００９０】
本例では、塗布液供給路３４に配設される計測装置として、接液面３８Ｃを有する光学式の濃度計３８を例示したが、本発明は接液部分を有する測定装置に広く適用可能である。接液部分を有する計測器の例としては、ｐｈ（ペーハー）計、微粒子計、導電率計、流速計、圧力計、温度計、測色計などが挙げられる。また、供給ポンプ４０についても、内部に堆積した汚れが除去され、好ましい動作状態が維持されるので、故障の発生が防止される。
【００９１】
〔第２実施形態〕
次に、本発明の第２実施形態に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法について説明する。図７は、本発明の第２実施形態に係る液供給装置の概略構成を示す構成図である。同図に示す液供給装置１０’は、図１に図示した液供給装置１０に対して、塗布液供給路３４とバイパス流路６０との接続部から廃液タンク８４への希釈液排出流路９０が追加されるとともに、希釈液排出流路９０に希釈液排出バルブ９２が追加されている。
【００９２】
また、塗布液供給路３４に設けられる供給ポンプ４０’は回転方向の切り換え（生逆転動作）が可能となっており、供給ポンプ４０’から塗布部１２へ向かう方向にも、供給ポンプ４０’から濃度計３８へ向かう方向にも、選択的に液を流すことが可能となっている。
【００９３】
第１実施形態と同様に、供給ポンプ４０’の吐出量は、塗布液を塗布部１２へ供給する通常動作時よりも高くなっており、供給ポンプ４０’を逆転動作させるときも通常動作時よりも高い吐出量となっている。
【００９４】
図７に図示した希釈液排出バルブ９２は逆止弁であり、供給ポンプ４０’を正転動作（バッファタンク３２から塗布部１２へ液を流すときの動作を）させたときに廃液タンク８４から塗布液供給路３４へ向かう方向に液を流すことがなく、供給ポンプ４０’を逆転動作（塗布部１２からバッファタンク３２へ液を流すときの動作を）させたときに塗布液供給路３４（バイパス流路６０）から廃液タンク８４へ向かう方向にのみ液を流すものである。
【００９５】
図８に示すように、希釈液を希釈液タンク５０から塗布液供給路３４へ供給した後に、希釈液供給バルブ６２を閉じて供給ポンプ４０’を逆転動作させると、希釈液が逆流して供給ポンプ４０’から濃度計３８を介して希釈液排出流路９０に流れ込み、希釈液排出バルブ９２を介して廃液タンク８４へ送られる。
【００９６】
このように、塗布液供給路３４に供給された希釈液を逆流させて濃度計３８の検出部３８Ａを往復させ、さらに、この動作を繰り返すことでより高い洗浄効果を得ることができる。
【００９７】
本発明の第２実施形態に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法によれば、塗布液供給路３４に希釈液が供給された後に、供給ポンプ４０’を逆転させて希釈液が濃度計３８の検出部３８Ａを往復するように構成されるので、希釈液を一方向に流す場合と比べて汚れを除去しやすくなる。
【００９８】
（応用例）
希釈液排出バルブ９２にリリーフバルブを適用することで、供給ポンプ４０’を逆転させたときに、塗布液供給路３４内の液の圧力がリリーフバルブの開放圧力に達するまで加圧され、さらに、リリーフバルブが開放された瞬間に希釈液の流速がより速くなり、より高い洗浄効果を得ることができる。
【００９９】
また、洗浄モードでは、塗布部１２へ塗布液を供給する通常動作時よりもヒータ４２の設定温度を上げて、より高い洗浄効果を得ることも可能である。この温度調整は、先に説明した第１実施形態にも適用可能である。
【０１００】
〔第３実施形態〕
次に、本発明の第３実施形態に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法について説明する。図９は、本発明の第３実施形態に係る液供給装置の概略構成を示す構成図である。同図に示す液供給装置１０”は、図７，８に図示した液供給装置１０’に対して、塗布液供給路３４へ洗浄液を供給する洗浄液供給流路９３と、洗浄液供給流路９３に設けられる洗浄液供給バルブ９４と、塗布液供給路３４へ供給される洗浄液が貯留される洗浄液タンク９５と、洗浄液供給流路９３の洗浄液タンク９５側の端部に設けられたフィルタ９６と、供給ポンプ４０’と塗布部１２の間に設けられる逆止弁９７が追加されている。
【０１０１】
洗浄液供給バルブ９４が開かれ、バッファタンク供給バルブ３６及び希釈液供給バルブ６２が閉じられた状態で供給ポンプ４０’を逆転動作させると、洗浄液タンク９５から塗布液供給路３４へ洗浄液が供給され、供給ポンプ４０’、濃度計３８を介して希釈液排出流路９０へ洗浄液が流れ込み、洗浄液は、希釈液排出バルブ９２を介して廃液タンク８４へ送られる。
【０１０２】
一方、逆止弁９７によって塗布部１２から塗布液供給路へ向かう方向の液の流れは阻止されるので、塗布液が洗浄液タンク９５へ流れ込むことはない。また、逆止弁９７は、開放圧力が希釈液排出バルブ９２よりも大きいもの用いることで、洗浄液が塗布部１２へ流入することが防止される。なお、第１実施形態と同様に、供給ポンプ４０’の吐出量は、塗布液を塗布部１２へ供給する通常動作時よりも高くなっている。
【０１０３】
本例に示す洗浄液は、第１、第２実施形態で用いられた希釈液よりも、より積極的に汚れを除去する薬剤が適用される。なお、薬剤による洗浄の後に希釈液を通過させて、塗布液供給路３４や濃度計３８、供給ポンプ４０’に付着した薬剤を除去するように構成してもよい。
【０１０４】
本例に適用される薬剤の一例を挙げると、イオン交換水に対して、界面活性剤を重量比で1〜10％の範囲で含有する水性組成液がある。かかる水性組成液の界面活性剤には、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、ベタイン界面活性剤等を用いることができる。上記した水性組成液は、水性の処理液を用いる場合の洗浄液の例であり、イオン交換水の替わりに処理液の溶媒成分を用いてもよい。
【０１０５】
本発明の第３実施形態に係る液供給装置及び計測装置に洗浄方法によれば、より洗浄効果の高い薬剤を塗布液供給路３４へ供給することで、より高い洗浄効果を得ることができる。
【０１０６】
〔他の装置構成への応用例〕
次に、本発明に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法の他の装置構成への応用例を説明する。図１０は、本発明に係る液供給装置及び計測装置洗浄方法が適用されるインクジェット記録装置２００の全体構成図である。インクジェット記録装置２００における処理液塗布部２３０へ対して、上述した塗布装置３０（液供給装置１０（１０’、１０”））が適用される。
【０１０７】
図１０に示すインクジェット記録装置２００は、色材を含有するインクと該インクを凝集させる機能を有する凝集処理液を用いて、所定の画像データに基づいて記録媒体２１４の画像形成面に画像を形成する二液凝集方式の記録装置である。
【０１０８】
インクジェット記録装置２００は、主として、給紙部２２０、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０、及び排出部２７０を備えて構成される。処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０の前段に搬送される記録媒体２１４の受け渡しを行う手段として渡し胴２３２，２４２，２５２，２６２が設けられるとともに、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０のそれぞれに記録媒体２１４を保持しながら搬送する手段として、ドラム（円筒）形状を有する圧胴２３４，２４４，２５４，２６４が設けられている。
【０１０９】
渡し胴２３２，２４２，２５２，２６２及び圧胴２３４，２４４，２５４，２６４は、外周面の所定位置に記録媒体２１４の先端部を挟んで保持するグリッパー２８０Ａ，２８０Ｂが設けられている。グリッパー２８０Ａ及びグリッパー２８０Ｂにおける記録媒体２１４の先端部を挟んで保持する構造、及び他の圧胴又は渡し胴に備えられるグリッパーとの間で記録媒体２１４の受け渡しを行う構造は同一であり、かつ、グリッパー２８０Ａとグリッパー２８０Ｂは、圧胴２３４の外周面の圧胴２３４の回転方向について１８０°移動させた対称位置に配置されている。
【０１１０】
グリッパー２８０Ａ，２８０Ｂにより記録媒体２１４の先端部を狭持した状態で渡し胴２３２〜６２及び圧胴２３４，２４４，２５４，２６４を所定の方向に回転させると、渡し胴２３２〜６２及び圧胴２３４，２４４，２５４，２６４の外周面に沿って記録媒体２１４が回転搬送される。なお、図１０中、圧胴２３４に備えられるグリッパー２８０Ａ，２８０Ｂのみ符号を付し、他の圧胴及び渡し胴のグリッパーの符号は省略する。
【０１１１】
給紙トレイ２２２を介して給紙部２２０に収容されている記録媒体（枚葉紙）２１４が処理液塗布部２３０に給紙されると、圧胴（処理液胴）２３４の外周面に保持された記録媒体２１４の画像形成面に、処理液塗布装置２３６から凝集処理液（以下、単に「処理液」と記載することがある。）が付与される。この処理液は、上述した「塗布液」に相当する。
【０１１２】
なお、「記録媒体２１４の画像形成面」とは、圧胴２３４，２４４，２５４，２６４の保持された状態における外側面であり、圧胴２３４，２４４，２５４，２６４に保持される面と反対面である。凝集処理液を塗布する構成例として、図１等に示す塗布部１２と同様の構成が適用される。
【０１１３】
その後、凝集処理液が付与された記録媒体２１４は溶媒の乾燥処理が施されるととともに描画部２４０に送出され、描画部２４０において画像形成面の凝集処理液が付与された領域（画像形成領域）に、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙから色インクが付与され、所望の画像が形成される。
【０１１４】
すなわち、渡し胴２４２から圧胴（描画胴）２４４に凝集処理液が塗布された記録媒体２１４が受け渡されると、画像データに基づいてインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８ＹからＭ（マゼンダ）、Ｋ（黒）、Ｃ（シアン）、Ｙ（イエロー）各色のインクが打滴される。記録媒体２１４にインクが着弾すると、凝集処理液による凝集作用が発現してインク凝集体（ドット）が形成される。
【０１１５】
なお、図１０に示すインクジェット記録装置２００では、ＭＫＣＹの標準色（４色）の構成を例示したが、インク色や色数の組み合わせについては本実施形態に限定されず、必要に応じて淡インク、濃インク、特別色インクを追加してもよい。例えば、ライトシアン、ライトマゼンタなどのライト系インクを吐出するインクジェットヘッドを追加する構成も可能であり、各色ヘッドの配置順序も特に限定はない。
【０１１６】
さらに、該色インクによる画像が形成された記録媒体２１４は乾燥処理部２５０に送られ、乾燥処理装置２５６による乾燥処理が施され、インクの溶媒が除去される。乾燥処理後の記録媒体２１４は定着処理部２６０に送られ、ヒータ２６６及び定着ローラ２６８を用いた定着処理が施される。定着処理が施されることで、記録媒体２１４上に形成された画像が堅牢化される。このようにして、記録媒体２１４の画像形成面に所望の画像が形成され、該画像を記録媒体２１４の画像形成面に定着させた後に、インラインセンサ２８２による画像の読み取りが行われる。
【０１１７】
図１０に示すインクジェット記録装置２００は、インラインセンサ２８２の読取結果に基づいてインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの吐出異常の有無が判断される。インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの吐出異常が検出されると、吐出異常に起因する画像異常の発生を防ぐために、打滴補正や画像補正が行われる。
【０１１８】
その後、記録媒体２１４は排出部２７０から装置外部に搬送される。図１０に示す排出部２７０は、張架ローラ２７２Ａ，２７２Ｂに巻きかけられた無端状の搬送チェーン２７４と、画像記録後の記録媒体２１４が収容される排出トレイ２７６と、を備えて構成されている。定着処理部２６０から送出された定着処理後の記録媒体２１４は、搬送チェーン２７４によって搬送され、排出トレイ２７６に排出される。
【０１１９】
なお、本例に示す液塗布装置及び計測装置洗浄方法は、コーティング液や上塗り液などの機能性液体を塗布する塗布装置に広く適用可能である。
【０１２０】
〔付記〕
上記に詳述した発明の実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書は少なくとも以下に示す発明を含む多様な技術思想の開示を含んでいる。
【０１２１】
（発明１）：供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部と、前記供給先と前記供給液貯留部とを連通させる液供給路と、前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置と、前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、を備えたことを特徴とする液供給装置。
【０１２２】
本発明によれば、液流路内の液の物性を計測する計測装置の接液部へ洗浄液が直接供給されるとともに、液貯留部から液の供給先へ液が供給されるときよりも液流路内の液の流速が上げられるので、計測装置の洗浄が容易となり、洗浄効果を向上させることができる。
【０１２３】
液供給路加圧手段及び洗浄液供給路加圧手段の一例として、吐出量（回転数）を可変させることができるポンプが挙げられる。また、液供給路加圧手段と洗浄液供給路加圧手段とを兼用させる態様も可能である。
【０１２４】
洗浄液として供給液の溶媒や純水を用いることが可能である。一方、供給液の溶媒等よりもより強力な洗浄効果を発揮する専用の洗浄液（薬液等）を用いることも可能である。
【０１２５】
液貯留部の形態として、メインタンクとサブタンクを含む形態が可能である。すなわち、液供給路と連通するサブタンクと、サブタンクと連通するメインタンクと、を備え、サブタンク内の液量が所定値以下になると、メインタンクからサブタンクへ供給液が補充される形態が可能である。
【０１２６】
（発明２）：発明１に記載の液供給装置において、前記液供給路加圧手段は、前記液供給路における液の流れ方向を切り換え可能に構成され、前記加圧制御手段は、前記計測装置の接液部へ洗浄液が供給されると、前記液供給路における液の流れ方向が所定時間間隔で切り換えられるように前記液供給路加圧手段の動作を制御することを特徴とする。
【０１２７】
かかる態様によれば、計測装置の接液部に対して洗浄液を往復させることで、単一方向に洗浄液を流す場合に比べて汚れが除去されやすくなる。
【０１２８】
かかる態様において、加圧手段を正逆転動作させるときには、洗浄液供給路に設けられる洗浄液供給路を開閉する洗浄液供給路開閉手段が閉じられように構成すると、洗浄液貯留部への洗浄液の逆流が防止される。
【０１２９】
（発明３）：発明１又は２に記載の液供給装置において、前記計測装置の接液部へ供給される洗浄液の温度が前記供給先へ供給される供給液の温度よりも高くなるように、前記洗浄液の温度を調整する温度調整手段を備えたことを特徴とする。
【０１３０】
かかる態様によれば、洗浄液の温度を上げることで、汚れが洗浄液に溶解されやすくなり、汚れの除去が容易になる。
【０１３１】
（発明４）：発明２又は３に記載の液供給装置において、前記液供給路と連通し、前記計測装置の接液部へ供給された洗浄液を廃液貯留部へ排出させる洗浄液排出路と、前記洗浄液排出路に設けられ、前記液供給路から前記廃液貯留部へ向かう方向に洗浄液を流す構造を有する逆止弁と、を備えたことを特徴とする。
【０１３２】
かかる態様によれば、計測装置の接液部に対して洗浄液を往復させるときに、汚れが混ざった洗浄液が他の流路へ送られることなく廃液貯留部へ送られる。
【０１３３】
（発明５）：発明４に記載の液供給装置において、前記逆止弁は、前記洗浄液排出路内の圧力が所定の圧力を超えると、前記液供給路から前記廃液貯留部へ向かう方向に洗浄液を流す構造を有するリリーフ弁であることを特徴とする。
【０１３４】
かかる態様によれば、液供給路と連通する洗浄液排出路内の圧力が一定圧力を超えたときに洗浄液排出路を開放させるので、計測装置の接液部に流れる洗浄液の流速を一時的に上げることができ、洗浄効果をより向上させることが可能となる。
【０１３５】
（発明６）：発明１から５のいずれか１項に記載の液供給装置において、前記液供給路加圧手段は、前記液供給路と前記洗浄液供給路が連通される位置よりも前記計測装置側に配設されるとともに、前記洗浄液供給路加圧手段と兼用されることを特徴とする。
【０１３６】
かかる態様によれば、当該液供給装置の構成が簡略化される。
【０１３７】
（発明７）：発明１から６のいずれかに記載の液供給装置において、前記洗浄液供給路に設けられ、前記洗浄液供給路の開閉を切り換える洗浄液供給路開閉手段と、前記液供給路の前記供給液貯留部と前記液供給路加圧手段との間に設けられ、前記液供給路の開閉を切り換える液供給路開閉手段と、前記計測装置の接液部へ洗浄液が供給されるときは、前記洗浄液供給路開閉手段が開かれるとともに前記液供給路開閉手段が閉じられるように、前記液供給路開閉手段及び前記洗浄液供給路開閉手段の動作を制御する開閉制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【０１３８】
かかる態様によれば、洗浄液が液供給路と連通する他の流路に送られることなく、確実に計測装置の接液部へ送られる。
【０１３９】
（発明８）：発明１から７のいずれかに記載の液供給装置において、前記洗浄液は、前記供給液を希釈させる希釈液と兼用されることを特徴する。
【０１４０】
かかる態様によれば、洗浄液と希釈液が兼用されることで、装置構成を簡略することが可能となる。
【０１４１】
かかる態様における洗浄液（希釈液）の一例として、供給液の溶媒、純水などが挙げられる。
【０１４２】
（発明９）：発明８に記載の液供給装置において、前記供給液を希釈させる希釈液が貯留される希釈液貯留部と、前記希釈液貯留部及び前記液供給路と連通する希釈液供給路と、前記希釈液供給路に設けられ、前記希釈液供給路を開閉させる希釈液供給路開閉手段と、を備え、前記開閉制御手段は、前記洗浄液供給路開閉手段が開かれて前記計測装置の接液部へ前記供給液貯留部を介さずに洗浄液が供給された後に、前記洗浄液供給路が閉じられるとともに前記希釈液供給路開閉手段が開かれて、前記計測装置の接液部へ希釈液が供給されるように、前記洗浄液供給路開閉手段及び前記希釈液供給路開閉手段の動作を制御することを特徴とする。
【０１４３】
かかる態様によれば、供給液を希釈させる希釈液を計測装置の接液部の洗浄液として確実に供給しうる。
【０１４４】
（発明１０）：発明１から９のいずれかに記載の液供給装置において、前記供給先から前記供給液貯留部へ供給液を循環させる循環路と、前記循環路に設けられ、前記循環路内の液を加圧する循環路加圧手段と、を備え、前記加圧制御手段は、前記循環路内の液の流速が前記液供給路内の液の流速を超えるように前記液供給路加圧手段及び前記循環路加圧手段の動作を制御することを特徴とする。
【０１４５】
かかる態様の一例として、吐出量（回転数）を可変させることができるポンプが挙げられる。
【０１４６】
（発明１１）：発明１から１０のいずれかに記載の液供給装置において、前記計測装置は、前記液供給路内の供給液の濃度を検知する濃度計であることを特徴とする。
【０１４７】
かかる態様における濃度計として、接液部に光線を照射する光源と、光源から照射されて接液部により反射された光を受光する受光素子と、を備える形態が挙げられる。また、光源と受光素子との間に集光レンズやプリズムなどが含まれる光学系が具備される態様が好ましい。
【０１４８】
（発明１２）：請求項１から１１のいずれかに記載の液供給装置において、前記液供給路は、前記計測装置の接液面に液を送る入路と、前記計測装置の接液面から液が送られる出路と、を備え、前記計測装置の接液面と前記入路とは３０度以上９０度以下の角度をなし、前記計測装置の接液面と前記出路とは３０度以上９０度以下の角度をなす構造を有することを特徴とする。
【０１４９】
かかる態様によれば、計測装置の接液面に対して３０度以上９０度以下の角度で供給液が当たるので、より高い洗浄効果を得ることが可能となる。
【０１５０】
かかる態様における接液面と供給液の流れの角度は、４５度以上９０度以下とすると、より高い洗浄効果が期待できる。
【０１５１】
（発明１３）：媒体へ塗布液を塗布する塗布部と、前記塗布部へ供給される塗布液が貯留される塗布液貯留部と、前記塗布部及び前記塗布液貯留部と連通される液供給路と、前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の塗布液の物性を計測する計測装置と、前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、を備えたことを特徴とする塗布装置。
【０１５２】
本発明に係る塗布装置は、インクジェット記録装置における、記録媒体に所定の処理液（コーティング液）を塗布する処理液塗布処理部に適用可能である。
【０１５３】
所定の処理液の一例として、インクと反応して、インクに含有される色材を凝集（又は不溶化）させる酸性液が挙げられる。
【０１５４】
（発明１４）：供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部から、前記供給先及び前記供給液貯留部と連通する液供給路を介して前記供給先へ供給液を供給する液供給装置において、前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部へ洗浄液が前記供給液貯留部を介さずに直接供給され、前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げることを特徴とする計測装置洗浄方法。
【０１５５】
液供給路へ洗浄液が供給されるときは、液貯留部と液供給路が閉じられるように構成すると、洗浄液が液貯留部へ送られることが防止される。
【０１５６】
液供給路へ洗浄液が供給されると、液供給路の液の流れが所定間隔で切り換えられるように構成すると、より高い洗浄効果が得られる。
【０１５７】
液供給路へ洗浄液が供給されると、液供給路の液の流れを逆転させるとともに、液供給路内の圧力を一時的に高めた後に当該圧力を開放させることで、より高い洗浄効果を得ることができる。
【符号の説明】
【０１５８】
１０，１０’，１０”…液供給装置、１２…塗布部、３０…塗布装置、３２…バッファタンク、３４…塗布液供給路、３６…バッファタンク供給バルブ、３８…濃度計、４０，４０’…供給ポンプ、４２…ヒータ、５０…希釈液タンク、５２…希釈液供給路、６０…バイパス流路、６２…希釈液供給バルブ、７０…循環流路、７４…収容部回収バルブ、７８…回収ポンプ、８２…廃液流路、８４…廃液タンク、８６…廃液バルブ、９０…希釈液排出流路、９３…洗浄液供給流路、９４…洗浄液供給バルブ、９５…洗浄液タンク、１００…システム制御部、１０２…ポンプ制御部、１０４…バルブ制御部、１０６…ヒータ制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部と、
前記供給先と前記供給液貯留部とを連通させる液供給路と、
前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置と、
前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、
前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、
前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、
前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、
前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項２】
前記液供給路加圧手段は、前記液供給路における液の流れ方向を切り換え可能に構成され、
前記加圧制御手段は、前記計測装置の接液部へ洗浄液が供給されると、前記液供給路における液の流れ方向が所定時間間隔で切り換えられるように前記液供給路加圧手段の動作を制御することを特徴とする請求項１に記載の液供給装置。
【請求項３】
前記計測装置の接液部へ供給される洗浄液の温度が前記供給先へ供給される供給液の温度よりも高くなるように、前記洗浄液の温度を調整する温度調整手段を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の液供給装置。
【請求項４】
前記液供給路と連通し、前記計測装置の接液部へ供給された洗浄液を廃液貯留部へ排出させる洗浄液排出路と、
前記洗浄液排出路に設けられ、前記液供給路から前記廃液貯留部へ向かう方向に洗浄液を流す構造を有する逆止弁と、
を備えたことを特徴とする請求項２又は３に記載の液供給装置。
【請求項５】
前記逆止弁は、前記洗浄液排出路内の圧力が所定の圧力を超えると、前記液供給路から前記廃液貯留部へ向かう方向に洗浄液を流す構造を有するリリーフ弁であることを特徴とする請求項４に記載の液供給装置。
【請求項６】
前記液供給路加圧手段は、前記液供給路と前記洗浄液供給路が連通される位置よりも前記計測装置側に配設されるとともに、前記洗浄液供給路加圧手段と兼用されることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項７】
前記洗浄液供給路に設けられ、前記洗浄液供給路の開閉を切り換える洗浄液供給路開閉手段と、
前記液供給路の前記供給液貯留部と前記液供給路加圧手段との間に設けられ、前記液供給路の開閉を切り換える液供給路開閉手段と、
前記計測装置の接液部へ洗浄液が供給されるときは、前記洗浄液供給路開閉手段が開かれるとともに前記液供給路開閉手段が閉じられるように、前記液供給路開閉手段及び前記洗浄液供給路開閉手段の動作を制御する開閉制御手段と、
を備えたことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項８】
前記洗浄液は、前記供給液を希釈させる希釈液と兼用されることを特徴する請求項１から７のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項９】
前記供給液を希釈させる希釈液が貯留される希釈液貯留部と、
前記希釈液貯留部及び前記液供給路と連通する希釈液供給路と、
前記希釈液供給路に設けられ、前記希釈液供給路を開閉させる希釈液供給路開閉手段と、
を備え、
前記開閉制御手段は、前記洗浄液供給路開閉手段が開かれて前記計測装置の接液部へ前記供給液貯留部を介さずに洗浄液が供給された後に、前記洗浄液供給路が閉じられるとともに前記希釈液供給路開閉手段が開かれて、前記計測装置の接液部へ希釈液が供給されるように、前記洗浄液供給路開閉手段及び前記希釈液供給路開閉手段の動作を制御することを特徴とする請求項８に記載の液供給装置。
【請求項１０】
前記供給先から前記供給液貯留部へ供給液を循環させる循環路と、
前記循環路に設けられ、前記循環路内の液を加圧する循環路加圧手段と、
を備え、
前記加圧制御手段は、前記循環路内の液の流速が前記液供給路内の液の流速を超えるように前記液供給路加圧手段及び前記循環路加圧手段の動作を制御することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項１１】
前記計測装置は、前記液供給路内の供給液の濃度を検知する濃度計であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項１２】
前記液供給路は、前記計測装置の接液面に液を送る入路と、
前記計測装置の接液面から液が送られる出路と、
を備え、
前記計測装置の接液面と前記入路とは３０度以上９０度以下の角度をなし、前記計測装置の接液面と前記出路とは３０度以上９０度以下の角度をなす構造を有することを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項１３】
媒体へ塗布液を塗布する塗布部と、
前記塗布部へ供給される塗布液が貯留される塗布液貯留部と、
前記塗布部及び前記塗布液貯留部と連通される液供給路と、
前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の塗布液の物性を計測する計測装置と、
前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、
前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、
前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、
前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、
前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項１４】
供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部から、前記供給先及び前記供給液貯留部と連通する液供給路を介して前記供給先へ供給液を供給する液供給装置において、
前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部へ洗浄液が前記供給液貯留部を介さずに直接供給され、
前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げることを特徴とする計測装置洗浄方法。
【請求項１】
供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部と、
前記供給先と前記供給液貯留部とを連通させる液供給路と、
前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置と、
前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、
前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、
前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、
前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、
前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。
【請求項２】
前記液供給路加圧手段は、前記液供給路における液の流れ方向を切り換え可能に構成され、
前記加圧制御手段は、前記計測装置の接液部へ洗浄液が供給されると、前記液供給路における液の流れ方向が所定時間間隔で切り換えられるように前記液供給路加圧手段の動作を制御することを特徴とする請求項１に記載の液供給装置。
【請求項３】
前記計測装置の接液部へ供給される洗浄液の温度が前記供給先へ供給される供給液の温度よりも高くなるように、前記洗浄液の温度を調整する温度調整手段を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の液供給装置。
【請求項４】
前記液供給路と連通し、前記計測装置の接液部へ供給された洗浄液を廃液貯留部へ排出させる洗浄液排出路と、
前記洗浄液排出路に設けられ、前記液供給路から前記廃液貯留部へ向かう方向に洗浄液を流す構造を有する逆止弁と、
を備えたことを特徴とする請求項２又は３に記載の液供給装置。
【請求項５】
前記逆止弁は、前記洗浄液排出路内の圧力が所定の圧力を超えると、前記液供給路から前記廃液貯留部へ向かう方向に洗浄液を流す構造を有するリリーフ弁であることを特徴とする請求項４に記載の液供給装置。
【請求項６】
前記液供給路加圧手段は、前記液供給路と前記洗浄液供給路が連通される位置よりも前記計測装置側に配設されるとともに、前記洗浄液供給路加圧手段と兼用されることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項７】
前記洗浄液供給路に設けられ、前記洗浄液供給路の開閉を切り換える洗浄液供給路開閉手段と、
前記液供給路の前記供給液貯留部と前記液供給路加圧手段との間に設けられ、前記液供給路の開閉を切り換える液供給路開閉手段と、
前記計測装置の接液部へ洗浄液が供給されるときは、前記洗浄液供給路開閉手段が開かれるとともに前記液供給路開閉手段が閉じられるように、前記液供給路開閉手段及び前記洗浄液供給路開閉手段の動作を制御する開閉制御手段と、
を備えたことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項８】
前記洗浄液は、前記供給液を希釈させる希釈液と兼用されることを特徴する請求項１から７のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項９】
前記供給液を希釈させる希釈液が貯留される希釈液貯留部と、
前記希釈液貯留部及び前記液供給路と連通する希釈液供給路と、
前記希釈液供給路に設けられ、前記希釈液供給路を開閉させる希釈液供給路開閉手段と、
を備え、
前記開閉制御手段は、前記洗浄液供給路開閉手段が開かれて前記計測装置の接液部へ前記供給液貯留部を介さずに洗浄液が供給された後に、前記洗浄液供給路が閉じられるとともに前記希釈液供給路開閉手段が開かれて、前記計測装置の接液部へ希釈液が供給されるように、前記洗浄液供給路開閉手段及び前記希釈液供給路開閉手段の動作を制御することを特徴とする請求項８に記載の液供給装置。
【請求項１０】
前記供給先から前記供給液貯留部へ供給液を循環させる循環路と、
前記循環路に設けられ、前記循環路内の液を加圧する循環路加圧手段と、
を備え、
前記加圧制御手段は、前記循環路内の液の流速が前記液供給路内の液の流速を超えるように前記液供給路加圧手段及び前記循環路加圧手段の動作を制御することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項１１】
前記計測装置は、前記液供給路内の供給液の濃度を検知する濃度計であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項１２】
前記液供給路は、前記計測装置の接液面に液を送る入路と、
前記計測装置の接液面から液が送られる出路と、
を備え、
前記計測装置の接液面と前記入路とは３０度以上９０度以下の角度をなし、前記計測装置の接液面と前記出路とは３０度以上９０度以下の角度をなす構造を有することを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の液供給装置。
【請求項１３】
媒体へ塗布液を塗布する塗布部と、
前記塗布部へ供給される塗布液が貯留される塗布液貯留部と、
前記塗布部及び前記塗布液貯留部と連通される液供給路と、
前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の塗布液の物性を計測する計測装置と、
前記液供給路内の液を加圧する液供給路加圧手段と、
前記計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部の洗浄に用いられる洗浄液が貯留される洗浄液貯留部と、
前記洗浄液貯留部及び前記液供給路と連通され、前記洗浄液貯留部から前記計測装置の接液部に対して前記供給液貯留部を介さずに洗浄液を直接供給する洗浄液供給路と、
前記洗浄液供給路内の洗浄液を加圧する洗浄液供給路加圧手段と、
前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げるように、前記液供給路加圧手段及び前記洗浄液供給路加圧手段のうち少なくともいずれか一方の動作を制御する加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項１４】
供給先へ供給される供給液が貯留される供給液貯留部から、前記供給先及び前記供給液貯留部と連通する液供給路を介して前記供給先へ供給液を供給する液供給装置において、
前記液供給路に設けられ、前記液供給路内の供給液の物性を計測する計測装置の前記液供給路内の液と接触する接液部へ洗浄液が前記供給液貯留部を介さずに直接供給され、
前記計測装置の接液部に洗浄液が供給されるときは、前記供給液貯留部から前記供給先へ供給液が供給されるときよりも前記液供給路内の液の流速を上げることを特徴とする計測装置洗浄方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２０１２−１２５７２４（Ｐ２０１２−１２５７２４Ａ）
【公開日】平成２４年７月５日（２０１２．７．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２８０７４５（Ｐ２０１０−２８０７４５）
【出願日】平成２２年１２月１６日（２０１０．１２．１６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年７月５日（２０１２．７．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月１６日（２０１０．１２．１６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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