液晶表示装置及びその製造方法
【課題】 透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを個別に決定することができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 相互に対向する第１基板１１及び第２基板１２の間に液晶１３を挟持して成る液晶表示装置であって、第２基板１２には、開口部１４ａを有する反射膜１４が形成され、この第２基板１２のうち、反射膜１４によって覆われる領域は粗面であり、開口部１４ａに対応する領域は平坦面である。
【解決手段】 相互に対向する第１基板１１及び第２基板１２の間に液晶１３を挟持して成る液晶表示装置であって、第２基板１２には、開口部１４ａを有する反射膜１４が形成され、この第２基板１２のうち、反射膜１４によって覆われる領域は粗面であり、開口部１４ａに対応する領域は平坦面である。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、自然光や室内照明光等の外光を観察側から入射させ、この光を反射させて表示を行う反射型表示と、光源からの光を観察側とは反対側から入射させて表示を行う透過型表示とを必要に応じて切換えることができる、いわゆる半透過反射型液晶表示装置が知られている。図１４は、二端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置の構成を模式的に表す断面図である。
【０００３】同図に示すように、この液晶表示装置は、シール材５４を挟んで対向する第１基板５１及び第２基板５２の間に液晶５３を挟持してなる液晶パネル５と、当該液晶パネル５の第２基板５２側に配設されるバックライトユニット６とを含んで構成される。第１基板５１には、ＴＦＤを介して走査線に接続され（いずれも図示略）、マトリクス状に配列された画素電極６１と、配向膜６２とが形成されている。一方、第２基板５２には、第２基板５２の大部分を覆う反射膜６３と、当該反射膜６３が形成された第２基板５２の表面を覆う平坦化膜６４と、上記走査線と交差する方向に延在する複数の帯状の対向電極６６と配向膜６７とが形成されている。
【０００４】このような構成の下、第１基板５１側から入射した光は、第２基板５２上の反射膜６３の表面において反射して第１基板５１側から出射し、これにより反射型表示がなされるようになっている。さらに、反射膜６３には、各画素電極６１に対応して開口部６３ａが形成されており、バックライトユニット６から出射して第２基板５２側から入射した光は、この開口部６３ａを通過して第１基板５１側に出射する。そして、これにより透過型表示がなされるようになっている。
【０００５】ここで、上記第２基板５２の内側表面は、多数の微細な凹凸が形成された粗面となっている。そして、上述した反射膜６３はかかる粗面上に形成されるので、その表面には当該粗面の凹凸を反映した凹凸が形成される。この結果、第１基板５１側から入射して反射膜６３によって反射された光は、適度に散乱して第１基板５１側から出射することとなるから、観察者が視認する画像に背景や室内照明等が映り込むといった事態を回避することができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記第２基板５２はその全面が粗面化され、この粗面を覆うように、開口部６３ａを有する反射膜６３が形成される構成が一般的である。この場合、図１４に示すように、第２基板５２のうちの開口部６３ａに対応する領域も、反射膜６３によって覆われる領域と同様の粗面となる。従って、透過型表示においてバックライトユニット６から第２基板５２側に入射した光は、上記粗面を通過する際に散乱する。
【０００７】ここで、この透過型表示における散乱特性は、粗面の粗さ等に応じたものとなる。しかしながら、この粗面は、反射膜６３が良好な散乱特性を発揮できるように、その粗さが決定されるものであった。このため、透過型表示における散乱特性は、反射型表示における散乱特性に応じて決定されることとなる。つまり、従来の技術の下では、透過型表示における表示特性が反射型表示における表示特性に左右され、従って、両者の表示特性を任意に設定することができないという問題があった。
【０００８】本発明は、以上説明した事情に鑑みてなされたものであり、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを個別に決定することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】（１）上記の目的を達成するため、本発明に係る液晶表示装置は、相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なることを特徴とする。
【００１０】かかる構成とすることにより、一の基板のうち、透過型表示における光の散乱特性と、反射型表示における光の散乱特性とを個別に設定することができる。つまり、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを任意に選定することができる。
【００１１】（２）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（１）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面は粗面であり、前記開口部に対応する領域の表面は平坦面であることを特徴とする。
【００１２】この構成によれば、例えば、反射型表示の場合に反射膜表面において光を散乱させるために、一の基板のうちの反射膜によって覆われる領域の表面を粗面化しているにも関わらず、透過型表示の場合にバックライトユニットから入射して一の基板を透過する光が、当該基板表面において散乱するのを抑えることができる。
【００１３】（３）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（１）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面は第１の粗面であり、前記開口部に対応する領域の表面は、前記第１の粗面とは粗さが異なる第２の粗面であることを特徴とする。
【００１４】この構成によれば、反射型表示の場合の反射光の散乱特性とは無関係に、透過型表示の場合の第２の粗面における透過光の散乱特性を設定することができるという利点がある。
【００１５】（４）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（３）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記第２の粗面の粗さは、前記第１の粗面の粗さよりも細かいことを特徴とする。この構成によれば、バックライトユニットから入射して一の基板を通過する光を、当該基板表面において広範囲に散乱させることができる。
【００１６】（５）次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなり、前記一対の基板のうちの一の基板に、開口部を有する反射膜が形成された液晶表示装置の製造方法であって、前記一の基板のうち、前記反射膜に覆われる第１領域の表面形状と、前記開口部に対応する第２領域の表面形状とを異ならせる第１工程と、当該一の基板に前記反射膜を形成する第２工程とを有することを特徴とする。
【００１７】この製造方法によって得られた液晶表示装置によれば、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを任意に選定することができるという利点がある。
【００１８】（６）次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記（５）項に記載した構成の液晶表示装置の製造方法において、前記第１工程においては、前記第１領域の表面を粗面とし、前記第２領域の表面を平坦面とすることを特徴とする。こうすれば、透過型表示の場合にバックライトユニットから入射した一の基板を透過する光が、当該基板の表面において散乱するのを抑えることができる。
【００１９】（７）次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記（５）項に記載した構成の液晶表示装置の製造方法において、前記第１工程においては、前記第１領域の表面と前記第２領域の表面とをそれぞれ異なる粗さの粗面とすることを特徴とする。こうすれば、反射型表示の場合の反射光の散乱特性とは無関係に、透過型表示の場合の第２の粗面における透過光の散乱特性を設定することができる。
【００２０】（８）次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記（７）項に記載した構成の液晶表示装置の製造方法において、前記第１工程においては、前記第２領域の表面を前記第１領域の表面よりも細かい粗面とすることを特徴とする。こうすれば、透過型表示における一の基板の透過光を、広範囲に散乱させることができる。
【００２１】（９）次に、本発明に係る液晶表示装置は、相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なり、さらに前記反射膜が形成された基板と該反射膜との間に形成された第１層と、前記反射膜の前記第１層と反対側に形成されていて前記開口部の所で前記第１層に対して界面を形成する第２層とを有し、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率とは互いに異なることを特徴とする。
【００２２】この構成によれば、第１層と第２層との境界面で光の散乱状態に変化を持たせることができるので、透過型表示における光の散乱特性と、反射型表示における光の散乱特性とを個別に設定することができる。つまり、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを任意に選定することができる。
【００２３】（１０）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（９）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記第１層の屈折率は前記第２層の屈折率よりも大きいことを特徴とする。この構成によれば、第１層から第２層へ向けて光が通過するとき、すなわち、透過表示のときに光の散乱を大きくすることができる。
【００２４】（１１） 次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（９）項又は上記（１０）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率との差は０．２以上であることを特徴とする。この構成によれば、第１層から第２層へ向けて光が通過するとき、すなわち、透過表示のときに光の散乱を大きくすることができる。
【００２５】（１２）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（９）項から上記（１１）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記第１層は前記一方の基板上に形成された樹脂層であり、前記第２層は前記一方の基板上に形成されたカラーフィルタ層であることを特徴とする。
【００２６】（１３）次に、本発明に係る液晶表示装置は、相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なり、さらに前記開口部には複数の微粒子が配置されることを特徴とする。
【００２７】この構成によれば、開口部に配置される微粒子によって、透過光の散乱状態を希望に応じて調整でき、これにより、透過型表示における光の散乱特性と、反射型表示における光の散乱特性とを個別に設定することができる。つまり、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを任意に選定することができる。
【００２８】（１４）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（１３）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記複数の微粒子はバインダー樹脂の内部に含まれた状態で前記開口部に配置されることを特徴とする。この構成によれば、微粒子をバインダー樹脂に含ませた状態で処理ができるので、複数の微粒子を開口部に配置させる工程を簡単且つ確実に行うことができる。
【００２９】（１５）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（１４）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記微粒子の屈折率と前記バインダー樹脂の屈折率との間に差があることを特徴とする。これにより、開口部を通過する光を確実に散乱させることができる。
【００３０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、これ以降説明する実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更可能である。
【００３１】（第１実施形態）まず、本発明をアクティブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置に適用した第１実施形態について説明する。なお、以下では、スイッチング素子として二端子型スイッチング素子を用いた場合を例示する。
【００３２】（１）液晶表示装置の構成図１は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成を模式的に例示する断面図である。なお、図１及び以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
【００３３】図１に示すように、この液晶表示装置は、シール材（図示せず）を介して対向する第１基板１１及び第２基板１２の間に液晶１３を挟持してなる液晶パネル１と、当該液晶パネル１の第２基板１２側に配設されるバックライトユニット２とを含んで構成される。なお、実際には、第１基板１１の外側及び第２基板１２の外側（すなわち、いずれも液晶１３の反対側）の表面に、入射光を偏光させるための偏光板や位相差板等が貼着されるが、これらは本発明とは直接には関係がないため、その説明及び図示を省略する。
【００３４】バックライトユニット２は、光を照射する線状の蛍光管（図示せず）と、その蛍光管から発せられる光を反射して導光板２１に導く反射板（図示せず）と、蛍光管からの光を液晶パネル１の全面に導く導光板２１と、この導光板２１に導かれた光を液晶パネル１に対して一様に拡散させる拡散板２２と、導光板２１から液晶パネル１とは反対側に出射される光を液晶パネル１側へ反射させる反射板２３とを有している。
【００３５】ここで、上記蛍光管は、常に点灯しているのではなく、外光がほとんどないような環境において液晶表示装置が使用される場合に、ユーザからの指示やセンサからの検出信号に応じて点灯し、これにより透過型表示が行われるようになっている。
【００３６】液晶パネル１の第１基板１１は、ガラスや石英、プラスティック等の光透過性を有する板状部材である。この第１基板１１の内側（すなわち、液晶１３側）表面には、複数の画素電極４１がマトリクス状に配列して形成される。各画素電極４１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料によって形成される。ここで、図２は、画素電極４１等が形成された第１基板１１の表面を拡大して示す斜視図である。なお、図２と図１とでは、上下関係が逆になっていることに留意されたい。
【００３７】図２において、第１基板１１の表面に走査線４３が形成される。この走査線４３は、図１においては紙面に対して垂直方向に延在して形成される。図２において、画素電極４１は、ＴＦＤ４２を介して画素電圧供給用の走査線４３に接続される。また、各ＴＦＤ４２は、走査線４３から分岐した部分である第１金属膜４２ａと、この第１金属膜４２ａの表面に陽極酸化によって形成された絶縁体たる酸化膜４２ｂと、この酸化膜４２ｂの上面に例えばクロム等によって形成された第２金属膜４２ｃとから成り、非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子として構成されている。そして、このＴＦＤ４２の第２金属膜４２ｃが画素電極４１に接続されている。
【００３８】図１において、画素電極４１及びＴＦＤ４２等が形成された第１基板１１の表面は、配向膜４４によって覆われている。この配向膜４４は、ポリイミド等の有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶１３の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【００３９】一方、第２基板１２は、ガラス基板等の基材１２ａと、樹脂層１２ｂとを積層して構成される。この第２基板１２の内側表面（すなわち、樹脂層１２ｂの表面）には、反射膜１４と、遮光膜１５と、カラーフィルタ１６と、オーバーコート層１７と、対向電極１８と、配向膜１９とが形成されている。
【００４０】反射膜１４は、反射性を有する材料（例えばアルミニウムや銀等）によって形成され、第１基板１１側からの入射光を反射させるための膜である。ここで、図３は、この反射膜１４の形状を模式的に例示する平面図である。なお、図３においては、反射膜１４のうち、第１基板１１に形成された画素電極４１と対向する領域が破線で示されている。反射膜１４は、第２基板１２の全面を覆うように形成されるが、第２基板１２の表面のうち、第１基板１１に形成された各画素電極４１と対向する領域の一部には開口部１４ａが形成された形状となっている。後述するように、バックライトユニット２からの入射光は、この反射膜１４の開口部１４ａを通過して第１基板１１側に出射する。
【００４１】図１において、第２基板１２の内側表面（すなわち、樹脂層１２ｂの表面）のうち、反射膜１４によって覆われる領域（以下、「反射領域」という）は、多数の微細な凹凸が形成された粗面となっている。このため、反射膜１４の表面には、反射領域上の凹凸を反映した凹凸が形成されることとなる。これに対し、第２基板１２の内側表面のうち、開口部１４ａに対応する領域は平坦となっている。このため、バックライトユニット２から第２基板１２に入射した光は、第２基板１２の透過領域表面を通過する際に散乱することなく第１基板１１側に出射する。
【００４２】遮光膜１５は、第１基板１１に形成された各画素電極４１の間隙部分に位置するように格子状に形成された膜であり、各画素間の隙間を遮光するためのものである。カラーフィルタ１６は、染料や顔料によってＲ（赤色）、Ｇ（緑色）及びＢ（青色）のいずれかに着色された樹脂材料で形成された膜である。また、反射膜１４、遮光膜１５及びカラーフィルタ１６が形成された第２基板１２の表面は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂からなるオーバーコート層１７によって覆われている。これは、反射膜１４、遮光膜１５及びカラーフィルタ１６によって第２基板１２上に形成された凸部を平坦化するとともに、カラーフィルタ１６から有機材料が染み出して液晶を劣化させるのを防ぐためである。
【００４３】このオーバーコート層１７の表面には複数の対向電極１８が形成されている。各対向電極１８は、第１基板１１上に列をなす複数の画素電極４１の各々と対向するように所定の方向に延在して形成された帯状の電極であり、透明導電材料、例えばＩＴＯ等によって形成される。第１基板１１と第２基板１２との間に挟持された液晶１３は、画素電極４１と対向電極１８との間に電圧が印加されることによってその配向方向が変化する。すなわち、各画素電極４１と各対向電極１８とが対向する領域が画素として機能することとなる。
【００４４】上記の開口部１４ａは、画素が形成される領域の一部に形成される。一方、対向電極１８が形成されたオーバーコート層１７の表面は、上記配向膜４４と同様の配向膜１９によって覆われている。
【００４５】本実施形態の液晶表示装置は以上のように構成されているので、以下に説明するようにして反射型表示及び透過型表示の両方が行われる。
【００４６】まず、反射型表示の場合には、図１において、太陽光や室内照明等の外光は、第１基板１１側から入射し、第１基板１１→画素電極４１→配向膜４４→液晶１３→配向膜１９→対向電極１８→オーバーコート層１７→カラーフィルタ１６→反射膜１４という経路で反射膜１４に達し、この反射膜１４の表面で反射する。反射した光は、その後、上記経路を逆に辿って第１基板１１側から出射して観察者に視認される。
【００４７】ここで、反射膜１４の表面には、上述したように、第２基板１２の反射領域に形成された凹凸を反映した凹凸が形成されている。このため、第１基板１１側からの入射光は、この反射膜１４の凹凸によって適度に散乱された後に第１基板１１側から出射する。これにより、観察者によって視認される画像に背景が映り込んだり、室内照明からの光が反射するといった事態を回避することができる。
【００４８】一方、透過型表示の場合には、バックライトユニット２による照射光は、第２基板１２→反射膜１４の開口部１４ａ→カラーフィルタ１６→オーバーコート層１７→対向電極１８→配向膜１９→液晶１３→配向膜４４→画素電極４１→第１基板１１という経路を辿って外部へ出射してユーザに視認される。
【００４９】以上説明したように、本実施形態においては、第２基板１２の表面のうち、反射膜１４によって覆われる反射領域は粗面である一方、当該反射膜１４の開口部１４ａに対応する透過領域は平坦面となっているので、透過型表示における表示特性は、反射膜１４の散乱特性に応じた粗面の形状とは無関係となる。この結果、例えば以下に示す利点を得ることができる。
【００５０】従来の技術に示したように、第２基板１２の透過領域の表面が、反射領域の表面に形成された粗面と同様の粗面である場合、透過型表示においてバックライトユニット２から第２基板１２に入射して開口部１４ａを通過する光が、この透過領域の粗面によって散乱することとなる。しかしながら、場合によっては、この透過領域における光の散乱を抑えることが望ましい場合も考えられる。
【００５１】例えば、図４（ｂ）に示すように、ある画素Ａに対応する開口部１４ａの縁部と、当該画素Ａに隣接する他の画素Ｂの縁部との距離が短い場合、画素Ａに対応する開口部１４ａを通った光が透過領域の粗面によって散乱して、当該画素Ａに隣接する他の画素Ｂの画素電極４１にまで至ってしまうことが考えられる。ここで、本来ならば、画素Ａに対応する開口部１４ａを通った光は、当該画素Ａに対応する画素電極４１にのみ至って第１基板１１側から出射することが望ましい。つまり、透過領域における光の散乱を抑えることが望ましいのである。しかしながら、従来の技術にあっては、透過領域の表面形状が反射領域における表面形状と同一となっていたため、透過領域を通過する光の散乱を抑えることができなかった。
【００５２】これに対し、本実施形態に係る液晶表示装置によれば、透過領域が平坦面となっている。従って、図４（ａ）に示すように、バックライトユニット２から入射して画素Ａに対応する開口部１４ａを通過した光は、散乱することなく当該画素Ａに対応する画素電極４１にのみ至ることとなる。この結果、上記従来の技術において発生し得る上記問題を回避することができるのである。
【００５３】（２）液晶表示装置の製造方法次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明する。
【００５４】（Ａ）第１の製造方法まず、図５（ａ）に示すように、ガラス基板等といった基材１２ａの一方の表面を覆うように、樹脂材料を塗布し、さらに焼成して樹脂層１２ｂを形成する。次に、この樹脂層１２ｂを覆うようにフォトレジスト３２を形成し、反射領域に対応する領域に多数の微小な孔３２ａを形成する（図５（ｂ））。ここで、図６は、多数の孔３２ａが形成されたフォトレジスト３２の様子を模式的に例示する平面図である。なお、図６においては、透過領域（すなわち、反射膜１４の開口部１４ａに対応する領域）が破線で示されている。
【００５５】図６に示すように、フォトレジスト３２のうち、後の工程において形成される反射膜１４に対応する領域、すなわち、反射領域に対応する領域に、多数の微細な孔３２ａを形成する一方、透過領域に対応する領域には、孔を形成しない。なお、後述するように、フォトレジスト３２に設けられた孔３２ａの態様に応じて、第２基板１２の反射領域における粗面の態様が決まるので、各孔３２ａの径及び隣接する各孔の距離等は、当該第２基板１２上に形成される反射膜１４が所望の散乱特性を発揮するように選定されることが望ましい。
【００５６】次に、このような多数の孔３２ａが形成されたフォトレジスト３２をマスクとして、樹脂層１２ｂに対して等方性エッチングを施す。この結果、図５（ｃ）に示すように、樹脂層１２ｂのうちのフォトレジスト３２の孔３２ａに対応する部分に、多数の微細な凹部が形成される。一方、孔が形成されていない領域はエッチングによって除去されないので、平坦なままとなる。上記エッチングの後、フォトレジスト３２を除去する（図５（ｄ））。
【００５７】次に、こうして多数の凹部が形成された樹脂層１２ｂを、当該樹脂材料の熱変形温度以上に加熱する。この加熱により樹脂層１２ｂは軟化し、その熱変形性及び表面張力の作用によって樹脂層１２ｂの角の部分が丸められる。この結果、図５（ｅ）に示すように、滑らかな凹凸を有する粗面である反射領域Ａと、平坦面である透過領域Ｂとを有する第２基板１２が得られる。
【００５８】続いて、上記のようにして粗面と平坦面とが選択的に形成された第２基板１２の全面に、アルミニウム等といった反射性を有する材料の膜３３を形成する。さらに、図５（ｆ）に示すように、この膜３３のうちの反射領域に対応する領域にフォトレジスト３４を形成する。
【００５９】次に、上記フォトレジスト３４が形成された膜３３に対してエッチングを施し、フォトレジスト３４によって覆われていない領域の膜３３を除去する。この結果、エッチングによって除去された領域を開口部１４ａとする反射膜１４が形成される。
【００６０】続いて、反射膜１４が形成された第２基板１２の表面にクロム等の薄膜を形成するとともに、この薄膜をパターニングして遮光膜１５を形成する。そして、反射膜１４及び遮光膜１５が形成された第２基板１２の表面に、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちのいずれかの色に着色された樹脂膜を形成するとともに、エッチングやフォトリソグラフィを施し、当該色のカラーフィルタ１６を形成する。他の２色についても、同様の工程によってカラーフィルタ１６を形成する（図５（ｈ））。
【００６１】続いて、これらの各部が形成された第２基板１２の全面にアクリル樹脂等の樹脂材料を塗布し、その後焼成してオーバーコート層１７を形成する。さらに、こうして形成されたオーバーコート層１７の表面に、スパッタリング法等によってＩＴＯの薄膜を形成し、この薄膜に対してエッチングやフォトリソグラフィ等を施すことにより、複数の帯状の対向電極１８を形成する。次に、これらの対向電極１８が形成されたオーバーコート層１７の表面にポリイミド等の有機材料を塗布し、さらに焼成して配向膜１９を形成し、さらにその後、使用する液晶１３のツイスト角に応じた一軸配向処理（例えばラビング処理）を配向膜１９に対して施す（図５（ｉ））。
【００６２】一方、図１に示す第１基板１１の表面に、図２に示すように走査線４３、ＴＦＤ４２及び画素電極４１を形成する。これらの各部は、公知の各種方法を用いて形成することができるので、それらの形成方法についての説明は省略する。
【００６３】続いて、上記のようにして得られた図５（ｉ）の第２基板１２上に、当該第２基板１２の縁部を囲む形状のシール材を印刷するとともに、当該第２基板１２と、画素電極４１等が形成された図２の第１基板１１をシール材を介して接合し、液晶１３を封入して図１の液晶パネル１が得られる。この後、液晶パネル１の第２基板１２側にバックライトユニット２を配設して、液晶表示装置が完成する。（Ｂ）第２の製造方法次に、本発明に係る液晶表示装置の第２の製造方法について説明する。なお、本製造方法においては、上記第１の製造方法と比較して図５の第２基板１２の製造方法のみが異なるので、以下ではこの異なる部分についてのみ説明する。また、以下では、ソーダライムガラス基板を用いて第２基板１２を形成する場合を例示する。
【００６４】図７（ａ）は、このソーダライムガラス基板３５の断面構造を模式的に表す断面図である。同図に示すように、このソーダライムガラス基板３５は、網目状構造体３５ａと、この網目状構造体３５ａを埋めるように存在する網目修飾体３５ｂとを有する。網目状構造体３５ａは珪酸によって形成される一方、網目修飾体３５ｂはアルカリ金属やアルカリ土類金属によって形成される。
【００６５】まず、ソーダライムガラス基板３５を、５ｗｔ％程度の弗化水素酸水溶液に２０℃において５秒間程度浸漬することにより、洗浄を兼ねたエッチングを行う。続いて、上記工程により均一にエッチングが施されたソーダライムガラス基板３５の表面のうち、上述した透過領域に対応する領域を覆うように、フォトレジスト３６を形成する（図７（ｂ））。
【００６６】次に、当該ソーダライムガラス基板３５を、弗化水素酸が３０ｗｔ％、水素二弗化アンモニウムが４５ｗｔ％含まれる水溶液に、２５℃にて１５秒間程度浸漬する。ここで、図７（ｃ）に示すように、ソーダライムガラス基板３５を構成する成分のうち、網目修飾体３５ｂが上記処理液に溶出する速度は、網目状構造体３５ａが当該処理液に溶出する速度よりも速い。従って、上記処理液への浸漬が終了すると、図７（ｄ）に示すように、エッチングが施された領域（すなわち、フォトレジスト３６によって覆われていない領域）は、網目状構造体３５ａの形状に応じた山部と谷部とを有する粗面となる。
【００６７】この後、図７（ｅ）に示すように、フォトレジスト３６を除去することにより、反射膜１４（図１参照）によって覆われるべき反射領域が粗面化され、開口部１４ａ（図１４ａ）に対応する透過領域が平坦である第２基板１２が得られる。こうして粗面と平坦面とが選択的に形成された第２基板１２の表面に対して、図１に示すように、粗面化された領域を覆う形状を有し、かつ平坦面に対応して開口部１４ａが設けられた反射膜１４を形成する。なお、反射膜１４の形成工程、及びその後の工程は、上記第１の製造方法と同様となるため、その説明は省略する。
【００６８】（第２実施形態）
（１）液晶表示装置の構成次に、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の構成を説明する。図８は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成の一部を模式的に例示する断面図である。なお、図８R>８に示す各部のうち、図１に示した第１実施形態に係る液晶表示装置の各部と共通する部分については、図１と同一の符号を付してその説明を省略する。
【００６９】上記第１実施形態に係る液晶表示装置においては、第２基板１２の内側表面のうち、反射膜１４によって覆われる反射領域を粗面とし、開口部１４ａに対応する透過領域を平坦面とした。図８に示す本実施形態に係る液晶表示装置においては、第２基板１２の透過領域の形状が反射領域の形状と異なっている点では上記第１実施形態と同様であるが、第２基板１２の透過領域も粗面である点で上記第１実施形態とは異なっている。
【００７０】詳述すると、本実施形態に係る第２基板１２にあっては、透過領域と反射領域の双方が粗面となっているが、透過領域の粗面の粗さが、反射領域の粗面の粗さよりも細かくなっている。ここで、粗面に関して「細かい」とは、当該粗面を構成するいずれかの山部の頂上部から当該山部に隣接する他の山部の頂上部までの距離（以下、山部のピッチという）が短いこと、いずれかの谷部の底部から当該谷部に隣接する他の谷部の底部までの距離（以下、谷部のピッチという）が短いこと、山部の高さが高いこと、あるいは谷部の深さが深いこと等を意味する。本実施形態においては、第２基板１２の透過領域における山部又は谷部のピッチが、反射領域における山部又は谷部のピッチよりも短くなっている。
【００７１】このように、第２基板１２のうちの透過領域における粗面の粗さを、反射領域における粗面の粗さと異ならせることにより、反射膜の散乱特性に応じて決定された反射領域の粗面の形状とは無関係に、透過型表示における表示特性を設定することができるという利点がある。詳述すると、以下の通りである。
【００７２】図１４に示した従来の液晶表示装置のように、第２基板５２の透過領域の表面が、反射領域の表面に形成された粗面と同様の粗面である場合、透過型表示時にバックライトユニット６から第２基板５２に入射して開口部６３ａを通過する光が、この透過領域の粗面によって散乱することとなる。しかしながら、場合によっては、この透過領域において光をより広範囲に散乱させることが望ましい場合も考えられる。
【００７３】例えば、図９（ｂ）に示すように、ある画素に対応する開口部１４ａの縁部と、当該画素の縁部との距離が比較的長いため、透過領域において散乱した光が、画素電極４１のうちの狭い範囲にしか至らないような場合である。このような場合、開口部１４ａを通った光をより拡散させて、画素電極４１の広範囲に至らせることが望ましい。しかしながら、図１４に示す従来技術の下では、透過領域の表面形状が反射領域の表面形状と同一であったため、透過領域を通過する光の散乱の程度を任意に調節することはできなかった。
【００７４】これに対し、本実施形態に係る液晶表示装置によれば、透過領域における表面が、反射領域における粗面よりも細かい粗面となっている。従って、図９（ａ）に示すように、バックライトユニット２（図８参照）から第２基板１２側に入射した光は、当該透過領域の表面において、図９（ｂ）に示した場合よりも広範囲に散乱し、散乱した光は、画素電極４１の広範囲に至ることとなる。つまり、透過型表示における見かけ上の画素の大きさＳを、図９（ｂ）に示した従来の場合と比較して大きくすることができる。このように、本実施形態によれば、透過型表示における表示特性を、反射型表示における散乱特性とは無関係に選定することができる。
【００７５】なお、図８に示す本実施形態においては、第２基板１２のうちの透過領域の表面の粗さを、反射領域の表面の粗さよりも細かくなるようにしたが、これとは逆に、透過領域の表面の粗さを、反射領域の表面の粗さよりも粗くなるようにしてもよい。要は、透過型表示における表示特性、すなわち散乱特性が所望の表示特性となるように、透過領域の表面を、反射領域における表面の粗さとは無関係の粗さとすればよいのである。
【００７６】（２）液晶表示装置の製造方法次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明する。まず、図１０（ａ）に示すように、ガラス基板等といった基材１２ａの一方の表面を覆うように、樹脂材料を塗布し、さらに焼成して樹脂層１２ｂを形成する。次に、この樹脂層１２ｂを覆うようにフォトレジスト３２を形成し、このフォトレジスト３２に多数の微小な孔を形成する（図１０（ｂ））。
【００７７】ここで、図１１は、多数の孔３２ａが形成されたフォトレジスト３２の様子を模式的に例示する平面図、すなわち図１０（ｂ）を上側から見た図である。なお、図１１においては、第２基板１２の透過領域に対応する領域が破線で示されている。この図に示すように、フォトレジスト３２のうちの反射領域に対応する領域には、比較的大径の多数の孔３２ａが形成される。これに対し、フォトレジスト３２のうち、透過領域に対応する領域内には、上記反射領域内に形成された孔３２ａよりも小径の孔３２ｂが、当該反射領域よりも密に（すなわち、各孔３２ｂの間隔が短くなるように）形成される。
【００７８】後述するように、第２基板１２のうち、孔３２ａ及び３２ｂが設けられた領域に対応して谷部が形成される一方、その他の領域には山部が形成されることとなる。従って、反射領域内の各孔の径及び隣接する各孔の距離等は、第２基板１２の当該反射領域に形成される反射膜が所望の反射特性を備えるように選定されることが望ましい。同様に、透過領域内の各孔の径及び隣接する各孔の距離等は、第２基板１２の透過領域を通過する光が所望の散乱光となるように選定されることが望ましい。
【００７９】次に、このような多数の孔３２ａ及び３２ｂが形成されたフォトレジスト３２をマスクとして、樹脂層１２ｂに対して等方性エッチングを施す。この結果、図１０（ｃ）に示すように、樹脂層１２ｂのうちのフォトレジスト３２によって覆われていない部分に、多数の微細な凹部が形成される。上記エッチングの後、フォトレジスト３２を除去する（図１０（ｄ））。
【００８０】続いて、多数の凹部が形成された樹脂層１２ｂを、当該樹脂材料の熱変形温度以上に加熱する。この加熱により樹脂層１２ｂは軟化し、その熱変形性及び表面張力の作用によって樹脂層１２ｂの角の部分が丸められる。この結果、図１０（ｅ）に示すように、粗面である反射領域と、それよりも細かい粗面である透過領域とを有する第２基板１２が得られる。
【００８１】この後、図１０（ｆ）に示すように、第２基板１２の反射領域を覆う形状を有し、かつ透過領域に対応して開口部１４ａが設けられた反射膜１４が形成されるとともに、遮光膜１５、カラーフィルタ１６、オーバーコート層１７、対向電極１８及び配向膜１９が形成される（図１０（ｇ））。これらの各部を形成する工程及びこの第２基板１２を用いて液晶パネル１を形成する工程は、上記第１実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
【００８２】（第３実施形態）上記各実施形態においては、二端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示したが、本発明は、例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor；薄膜トランジスタ）に代表される三端子型スイッチング素子を用いた液晶表示装置又はパッシブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用可能である。
【００８３】これらの液晶表示装置に本発明を適用した場合にも、上記各実施形態に示した場合と同様、液晶を挟持する一対の基板のうちの観察側とは反対側の基板に、開口部を有する反射膜を設け、当該基板のうちの反射膜によって覆われる反射領域表面の形状と、開口部に対応する透過領域表面の形状とを異ならせるようにすればよい。
【００８４】また、上記各実施形態においては、観察側の第１基板１１に画素電極４１及びＴＦＤ４２等を設ける一方、観察側とは反対側の第２基板１２に画素電極４１と対向する対向電極１８を設ける構成としたが、これとは逆に、第１基板１１に対向電極を、第２基板１２に画素電極及びスイッチング素子等を設ける構成としてもよい。一方、ＴＦＴ等の三端子型スイッチング素子を用いた場合にあっても、観察側の基板をスイッチング素子が設けられた素子基板とし、他方の基板を対向電極が形成された対向基板としてもよいし、これとは逆に、観察側の基板を対向電極とし、観察側とは反対側の基板を素子基板としてもよい。
【００８５】（第４実施形態）上記各実施形態においては、第２基板１２側に反射膜１４と対向電極１８とを別個に設ける構成としたが、反射膜１４及び対向電極１８の機能を兼ね備える反射電極を形成するようにしてもよい。図１２（ａ）は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成を模式的に例示する断面図である。なお、この図において、図１に示した各部と共通する要素については同様の符号が付されている。また、この図においては、図１R>１及び図８等に示したカラーフィルタ１６及び遮光膜１５は省略されている。
【００８６】図１２（ａ）に示すように、本変形例に係る液晶表示装置の第２基板１２には、上記各実施形態に示した対向電極１８及び反射膜１４に代えて反射電極２４が形成される。ここで、図１２（ｂ）は、この反射電極２４の構成を例示する平面図である。同図においては、第１基板１１上に形成された画素電極４１が破線で示されている。この図に示すように、各反射電極２４は、第１基板１１上に列をなす画素電極４１の各々と対向するように、反射性を有する導電性材料によって形成される。また、この反射電極２４は、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１基板１１上の画素電極４１と対向する領域の一部に開口部２４ａが設けられている。
【００８７】そして、第２基板１２のうち、反射電極２４によって覆われる反射領域の表面は粗面となる一方、開口部２４ａに対応する透過領域の表面は平坦面となっている。かかる構成とした場合にも、上記各実施形態と同様の効果が得られる。さらに、本変形例によれば、電極と反射膜とを別個に形成する必要がないので、製造コストの低減、及び構造の簡素化を図ることができる。
【００８８】なお、図１２（ａ）においては、第２基板１２のうちの透過領域表面を平坦面としたが、上記第２実施形態と同様、本変形例においても、透過領域表面を反射領域表面の粗面よりも細かい粗面とする構成としてもよい。要は、第２基板１２の透過領域表面の形状と反射領域表面の形状とが異なっていればよいのである。
（第５実施形態）第２基板１２の表面に粗面を形成する方法としては、上記各実施形態に示したものに限られず、他の各種方法を用いることができる。図１３の（ａ）から（ｆ）は、上記第１実施形態に係る液晶表示装置の第２基板１２のうちの反射領域の表面を粗面化するための他の方法を例示する図である。
【００８９】この方法においては、まず、図１３（ａ）に示すように、ガラス基板等といった基材１２ａの全面に感光性アクリル樹脂等の樹脂層１２ｂを形成し、この樹脂層１２ｂに対し、フォトレジスト３２を介して紫外線を照射する（図１３（ｂ））。ここで、図１３（ｂ）に示すように、このフォトレジスト３２には、反射領域に対応する領域に多数の微細な遮光膜が形成されているが、透過領域に対応する領域にはかかる遮光膜は形成されていない。従って、この紫外線照射の後、現像を施すと、図１３（ｃ）に示すように、樹脂層１２ｂのうち、遮光膜によって遮られて紫外線が照射されなかった部分のみが残り、紫外線が照射した部分は除去される。
【００９０】続いて、これらの樹脂層１２ｂを加熱して軟化させ、当該樹脂層１２ｂの角部を丸める。これにより、図１３（ｄ）に示すように、第２基板１２のうちの反射領域のみが、各樹脂層に対応する多数の凸部を有する粗面となるのである。この後、多数の凸部が形成された第２基板１２表面を覆う有機膜３７を形成するとともに（図１３（ｅ））、この有機膜３７上に、開口部１４ａを有する反射膜１４を形成する（図１３（ｆ））。ここで、反射膜１４の下地として有機膜３７を形成したのは、材質が異なる部材、すなわち樹脂層１２ｂと第２基板１２、の表面に跨って反射膜１４を形成すると、当該反射膜１４が剥がれやすくなるためである。
【００９１】このような方法によっても、上記第１実施形態に示した第２基板１２を形成することができる。なお、第２実施形態に示したように、反射領域表面と透過領域表面とが粗さの異なる粗面となっている第２基板も、同様の工程により製造することができる。すなわち、この場合には、上述したフォトマスク３２のうち、第２基板１２の反射領域に対応する領域に比較的大きい多数の遮光膜を設ける一方、透過領域に対応する領域に比較的小さい多数の遮光膜を密に設けるようにすればよい。
【００９２】（第６実施形態）図１に示した構成の液晶表示装置において、反射膜１４の下に形成された樹脂層１２ｂ及び開口部１４ａの上に形成されたカラーフィルタ層１６に関しては、それらの屈折率の間に大きな差が生じることがある。このように樹脂層１２ｂの屈折率とカラーフィルタ層１６の屈折率との間に大きな差がある場合には、開口部１４ａに対応して樹脂層１２ｂに凹凸が形成されるとすると、透過表示を行うときに樹脂層１２ｂとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱が生じる。
【００９３】従って、図４（ａ）に示すように、開口部１４ａの所で光を散乱させたく無い場合であって、しかも、樹脂層１２ｂの屈折率とカラーフィルタ層１６の屈折率との間に大きな差があるときには、開口部１４ａに対応して樹脂層１２ｂを平坦にすることが有効である。
【００９４】特に、カラーフィルタ層１６の屈折率と樹脂層１２ｂの屈折率との差が０．２以上である場合には、それらの界面で発生する散乱が大きくなる傾向にある。よって、この場合に光の散乱を制限したいときには、開口部１４ａに対応する樹脂層１２ｂを平坦に形成することが有効である。
【００９５】（第７実施形態）図１５は、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を示している。図１に示した先に実施形態では、ガラス等によって構成された基材１２ａに樹脂層１２ｂを積層することによって第２基板１２を形成し、さらに、樹脂層１２ｂの表面に凹凸を形成し、この凹凸によって反射膜１４に凹凸を形成した。これに対し、図１５に示す本実施形態では、第２基板１２を基材１２ａの単体によって形成すると共に、その基材１２ａの表面に直接に凹凸を形成し、その凹凸によって反射膜１４に凹凸を形成した。これ以外の点は、図１の液晶表示装置と図１５の液晶表示装置との間には相違がないので、同じ部材は同じ符号で示すことにして、それらの部材の説明は省略する。
【００９６】この実施形態においては、反射膜１４の下に位置する基材１２ａ及び開口部１４ａの上に形成されたカラーフィルタ層１６に関して、それらの屈折率の間に大きな差が生じることがある。このように基材１２ａの屈折率とカラーフィルタ層１６の屈折率との間に大きな差がある場合には、開口部１４ａに対応して基材１２ａに凹凸が形成されるとすると、透過表示を行ったときに基材１２ａとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱が生じる。
【００９７】従って、図４（ａ）に示すように、開口部１４ａの所で光を散乱させたく無い場合であって、しかも、基材１２ａの屈折率とカラーフィルタ層１６の屈折率との間に大きな差があるときには、開口部１４ａに対応して樹脂層１２ｂを平坦にすることが有効である。
【００９８】特に、カラーフィルタ層１６の屈折率と基材１２ａの屈折率との差が０．２以上である場合には、それらの界面で発生する散乱が大きくなる傾向にある。よって、この場合に光の散乱を制限したいときには、開口部１４ａに対応する樹脂層１２ｂを平坦に形成することが有効である。
【００９９】（第８実施形態）なお、本発明は、図１に示した実施形態及び図１５に示す実施形態に限定されるものではなく、反射膜１４の下に形成された図１の樹脂層１２ｂや図１５の基材１２ａによって構成される第１層と、開口部１４ａに対応するカラーフィルタ層１６によって構成される第２層との屈折率の差が相違する構造を有する液晶表示装置であると考えられる。
【０１００】このように第１層の屈折率と第２層の屈折率との差が大きい場合に、例えば図１５において、開口部１４ａに対応して第１層１２ａに凹凸が在ると、透過表示において第１層１２ａ及び第２層１６の界面で大きな散乱が生じる傾向にある。よって、開口部１４ａの所での光の散乱を抑制したい場合には、開口部１４ａに対応して第１層１２ａを平坦にすることが有効である。
【０１０１】特に、第１層と第２層との間の屈折率の差が０．２以上である場合には、それらの界面で発生する散乱が大きくなる傾向にあるので、この場合に光の散乱を制限したいときには、開口部１４ａに対応する第２層を平坦に形成することが有効である。なお、第１層及び第２層はいずれも任意の有機材料又は無機材料から選択することができる。
【０１０２】（第９実施形態）図８に示した構成の液晶表示装置において、反射膜１４の下に形成された樹脂層１２ｂ及び開口部１４ａの上に形成されたカラーフィルタ層１６に関しては、それらの屈折率に差があることが好ましく、さらにはその差が大きいことが好ましい。こうすれば、透過表示の際に樹脂層１２ｂとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱が生じるからである。
【０１０３】特に、カラーフィルタ層１６の屈折率と樹脂層１２ｂの屈折率との差を０．２以上にすれば、樹脂層１２ｂとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱を生じさせることに関して、より一層好ましい。
【０１０４】また、さらに、樹脂層１２ｂの屈折率をカラーフィルタ層１６の屈折率よりも大きくすれば、さらに大きな散乱を生じさせることができる。
【０１０５】（第１０実施形態）図１６は、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を示している。図８R>８に示した先に実施形態では、ガラス等によって構成された基材１２ａに樹脂層１２ｂを積層することによって第２基板１２を形成し、さらに、樹脂層１２ｂの表面に凹凸を形成し、この凹凸によって反射膜１４に凹凸を形成した。これに対し、図１６に示す本実施形態では、第２基板１２を基材１２ａの単体によって形成すると共に、その基材１２ａの表面に直接に凹凸を形成し、その凹凸によって反射膜１４に凹凸を形成した。これ以外の点は、図８の液晶表示装置と図１６の液晶表示装置との間には相違がないので、同じ部材は同じ符号で示すことにして、それらの部材の説明は省略する。
【０１０６】この実施形態においては、反射膜１４の下に位置する基材１２ａ及び開口部１４ａの上に形成されたカラーフィルタ層１６に関して、それらの屈折率に差があることが好ましく、さらにはその差が大きいことが好ましい。こうすれば、透過表示の際に基材１２ａとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱が生じるからである。
【０１０７】特に、カラーフィルタ層１６の屈折率と基材１２ａの屈折率との差を０．２以上にすれば、基材１２ａとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱を生じさせることに関して、より一層好ましい。
【０１０８】また、さらに、基材１２ａの屈折率をカラーフィルタ層１６の屈折率よりも大きくすれば、さらに大きな散乱を生じさせることができる。
【０１０９】（第１１実施形態）なお、本発明は、図８に示した実施形態及び図１６に示す実施形態に限定されるものではなく、反射膜１４の下に形成された図８の樹脂層１２ｂや図１６の基材１２ａによって構成される第１層と、開口部１４ａに対応するカラーフィルタ層１６によって構成される第２層との屈折率の差が相違する構造を有する液晶表示装置であると考えられる。これにより、第１層と第２層との界面で大きな散乱を生じさせることができる。
【０１１０】特に、第１層の屈折率と第２層の屈折率との差を０．２以上にすれば、基材１２ａとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱を生じさせることに関して、より一層好ましい。また、さらに、第１層の屈折率を第２層の屈折率よりも大きくすれば、さらに大きな散乱を生じさせることができる。
【０１１１】なお、第１層及び第２層は、いずれも任意の有機材料又は無機材料から選択することができる。
【０１１２】（第１２実施形態）図１７は、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を示している。図８R>８に示した実施形態では、開口部１４ａに対応する樹脂層１２ｂの表面に凹凸を設けることにより、透過表示の際に開口部１４ａを通る光を大きく散乱させた。これに対し、図１７に示す本実施形態では、バインダー樹脂２９の中に複数の微粒子２８を混在させて成る光散乱層２７を開口部１４ａに対応する部分に形成することにより、透過表示の際に開口部１４ａを通る光を大きく散乱させている。これ以外の点は、図８の液晶表示装置と図１７１７の液晶表示装置との間には相違がないので、同じ部材は同じ符号で示すことにして、それらの部材の説明は省略する。
【０１１３】光散乱層２７は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、屈折率１．４８のシリコン樹脂から成る微粒子２８を重量比で１５％の割合で、屈折率１．３５の透明な含フッ素ポリマー２９に混練し、次に、基材１２ａの表面にスピンコート法によって適宜の膜厚約に成膜し、次に、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行って、開口部１４ａに光散乱層２７を形成する。
【０１１４】複数の微粒子２８は、光を散乱する機能を持った程度に大きく、液晶層１３の厚み、すなわちセルギャップに影響を与えない程度に小さく設定することが望ましく、例えば、直径１〜３μｍのものが望ましい。
【０１１５】なお、混練する微粒子２８には４５０ｎｍから６５０ｎｍの波長範囲において、（散乱断面積）／（幾何学的断面積）で表される散乱効率が２以上となる粒子半径を選ぶことができる。図１８に、（微粒子の屈折率）／（樹脂の屈折率）＝１．１の場合の４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの波長における、粒子半径に対する散乱効率のそれぞれに関係曲線Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６を示した。図１８において、４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長範囲において散乱効率が２以上となる微粒子半径は１．２μｍ〜２．３μｍの範囲であり、このため、本実施形態では微粒子の平均半径を１．７μｍとした。
【０１１６】なお、上記説明ではバインダー樹脂２９として含フッ素ポリマーを用いることを例示したが、樹脂としては、複屈折性が小さく、液晶表示製造装置の製造工程における熱処理や薬品処理に耐え得るものであれば良く、例えば、アクリル樹脂（屈折率：１．４７〜１．５９）、エポキシ樹脂（屈折率：１．５６〜１．６６）、ポリエステル樹脂（屈折率：１，５１〜１．５７）、シリコン樹脂（屈折率：１．３５〜１．４８）、ポリイミド樹脂（屈折率：１．５７〜１．６９）等と用いることができる。
【０１１７】また、上記説明では微粒子としてシリコン樹脂から成る微粒子を考えたが、微粒子としては、有機ポリマーかな成る微粒子や、無機物から成る微粒子を用いることができる。
【０１１８】有機ポリマーから成る微粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリフルオロビニル（ＰＶＦ）等といった含フッ素ポリマーが挙げられる。これら含フッ素ポリマーの屈折率は、それぞれ、１．３５、１．３５、１．４０、１．３５である。
【０１１９】さらに、その他のポリマーにフッ素原子やフッ化アルキル基を付加したものであっても良い。また、これら有機ポリマーの表面に適当な表面処理を施した微粒子でも良い。表面処理の例としては、例えば、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、透明樹脂、カップリング剤、界面活性剤等を表面に塗布する処理が挙げられる。
【０１２０】また、無機物から成る微粒子の例としては、立方晶構造を有する微粒子、正方晶構造を有する微粒子又は非晶質の微粒子等が使用できる。具体的には、例えば、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＬａＦ３、ＬｉＦ２、ＮａＦ等といったフッ素化合物が挙げられる。これらのフッ素化合物の屈折率は、それぞれ、１．４３、１．３８、１．５９、１．３９、１．３４である。
【０１２１】上記方法以外に、光散乱層２７は、半径に分散を持った含フッ素系樹脂（屈折率１．３５）から成る微粒子２８を重量比で１５％の割合で、透明なアクリルポリマー（屈折率１．４７）に混練し、そのポリマーを基材の表面にスピンコート法によって適宜の膜厚で成膜し、その後、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行って、開口部１４ａに光散乱層２７を形成する。
【０１２２】混練する微粒子には、光散乱層２７を通過し、散乱された光が、入射した光の進行方向から５°〜２０°の角度範囲において、それぞれの角度における光の３刺激値、すなわちＸ値、Ｙ値、Ｚ値の分散が１０％以内となるように、半径に分散を持った微粒子を選ぶことができる。こうすれば、散乱された光は色付いておらず、液晶表示装置を観察する角度によって色相が変化することが無くなり、このため、液晶表示装置の色表現を損なうことが無くなる。
【０１２３】（第１３実施形態）図１９は、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を示している。ここに示す実施形態は、開口部１４ａに対応して基材１２ａ上に光散乱層２７を形成することに関して図１７に示した先の実施形態と同じである。
【０１２４】図１７に示した先の実施形態では、基材１２ａの表面に積層した樹脂層１２ｂの表面に凹凸を形成し、この凹凸によって反射膜１４の表面に凹凸を形成した。これに対し、図１８に示す本実施形態では、反射膜１４を形成すべき位置の基材１２ａの表面に複数の粒子を堆積させて粒子層３１を形成し、粒子の球形に応じてその表面が凹凸形状となる粒子層３１の凹凸によって反射膜１４の表面に凹凸を形成してある。
【０１２５】この実施形態において、開口部１４ａに形成する光散乱層２７の形成方法並びにその中に含まれる微粒子２８及びバインダー樹脂２９の材質は、図１７の実施形態の場合と同じとすることができる。
【０１２６】（その他の実施形態）以上、本発明を好ましいいくつかの実施形態を例示して説明したが、上記の各実施形態はあくまでも例示であり、上記の各実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。
【０１２７】例えば、上記の実施形態ではＴＦＤ素子をスイッチング素子とするアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示したが、ＴＦＤ素子以外のスイッチング素子、例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子等といった３端子型のスイッチング素子を用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に関しても本発明を適用できる。また、スイッチング素子を用いない構造の単純マトリクス方式の液晶表示装置に関しても本発明を適用できる。
【０１２８】また、図１及び図８に示す実施形態に関しては、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成とすることができる。この場合、液晶表示装置はモノクロ表示型の液晶表示装置となる。そして、この場合には、オーバーコート層１７と樹脂層１２ｂとが開口部1４ａにおいて互いに接することになるので、これらのオーバーコート層１７と樹脂層１２ｂとの間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１２９】また、図１及び図８に示す実施形態に関しては、オーバーコート層１７、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成とすることができる。この場合、液晶表示装置はモノクロ表示型の液晶表示装置となる。そして、この場合には、電極１８と樹脂層１２ｂとが開口部１４ａにおいて接することになるので、これらの電極１８と樹脂層１２ｂとの間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１３０】また、図１及び図８に示す実施形態においてオーバーコート層１７、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成を採用する場合には、オーバーコート層１７が無いことにより、開口部１４ａにおける配向膜１９の表面形状が樹脂層１２ｂの表面形状に対応して形成される。この場合には、液晶層１３と配向膜１９との間の屈折率の差が大きいときにも本発明の作用効果がより顕著に現れる。要するに、本発明は、前述したように、開口部１４ａにおいて第１層及び該第１層上に形成された第２層を有し、第１層が第２層との界面において表示特性に応じた表面形状を有し、さらに、第１層と第２層との間で屈折率が異なることで所期の効果を得ることができる。この場合、第１層及び第２層としては、それらの屈折率が相互に異なるように設定できるものであれば、それぞれを任意の材料を用いて構成できる。
【０１３１】また、図１５及び図１６に示す実施形態に関しては、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成とすることができる。この場合、液晶表示装置はモノクロ表示型の液晶表示装置となる。そして、この場合には、オーバーコート層１７と基板１２とが開口部１４ａにおいて接することになるので、これらのオーバーコート層１７と基板１２との間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１３２】また、図１５及び図１６に示す実施形態に関しては、オーバーコート層１７、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を設けない構成とすることができる。この場合には、液晶表示装置はモノクロ表示型の液晶表示装置となる。そして、この場合には、電極１８と基板１２とが開口部１４ａにおいて互いに接することになるので、電極１８と基板１２との間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１３３】また、図１５及び図１６に示す実施形態においてオーバーコート層１７、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成を採用する場合には、オーバーコート層１７が無いことにより、開口部１４ａにおいて基板１２の表面形状に対応して配向膜１９の表面形状が形成されるので、液晶層１３と配向膜１９との間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１３４】要するに、本発明は、前述したように、開口部１４ａにおいて第１層及び該第１層上に形成された第２層を有し、第１層が第２層との界面において表示特性に応じた表面形状を有し、さらに、第１層と第２層との間で屈折率が異なることで所期の効果を得ることができる。この場合、第１層及び第２層としては、それらの屈折率が相互に異なるように設定できるものであれば、それぞれを任意の材料を用いて構成できる。
【０１３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを個別に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶表示装置の一実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図２】図１の液晶表示装置の第１基板における画素電極近傍の構成を示す斜視図である。
【図３】図１の液晶表示装置の反射膜の構成を示す平面図である。
【図４】図１の液晶表示装置の効果を説明するための図である。
【図５】図１の液晶表示装置の第１の製造方法を示す図である。
【図６】図５の製造方法の一工程において、第２基板上に形成されたフォトレジストに多数の孔が形成された様子を示す平面図である。
【図７】図１の液晶表示装置の第２の製造方法を示す図である。
【図８】本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図９】図８の液晶表示装置の効果を説明するための図である。
【図１０】図８の液晶表示装置の製造方法を示す図である。
【図１１】図１０の製造方法の一工程において、第２基板上に形成されたフォトレジストに多数の孔が形成された様子を例示する平面図である。
【図１２】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部を示す断面図である。
【図１３】本発明に係る液晶表示装置の第２基板の他の製造方法を示す図である。
【図１４】従来の半透過反射型液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１５】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図１６】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図１７】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図１８】図１７に示す液晶表示装置に用いられる要素である微粒子の特性を示すグラフである。
【図１９】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【符号の説明】
１ 液晶パネル
２ バックライトユニット
１１ 第１基板
１２ 第２基板
１２ａ 基材
１２ｂ 樹脂層
１３ 液晶
１４ 反射膜
１４ａ 開口部
１５ 遮光膜
１６ カラーフィルタ
１７ オーバーコート層
１８ 対向電極
１９ 配向膜
２１ 導光板
２２ 拡散板
２３ 反射板
２４ 反射電極
２４ａ 開口部
２７ 光散乱層
２８ 微粒子
２９ バインダー樹脂
３１ 粒子層
３２，３４ フォトレジスト
３２ａ，３２ｂ 孔
３７ 有機膜
４１ 画素電極
４２ ＴＦＤ
４３ 走査線
４４ 配向膜
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、自然光や室内照明光等の外光を観察側から入射させ、この光を反射させて表示を行う反射型表示と、光源からの光を観察側とは反対側から入射させて表示を行う透過型表示とを必要に応じて切換えることができる、いわゆる半透過反射型液晶表示装置が知られている。図１４は、二端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置の構成を模式的に表す断面図である。
【０００３】同図に示すように、この液晶表示装置は、シール材５４を挟んで対向する第１基板５１及び第２基板５２の間に液晶５３を挟持してなる液晶パネル５と、当該液晶パネル５の第２基板５２側に配設されるバックライトユニット６とを含んで構成される。第１基板５１には、ＴＦＤを介して走査線に接続され（いずれも図示略）、マトリクス状に配列された画素電極６１と、配向膜６２とが形成されている。一方、第２基板５２には、第２基板５２の大部分を覆う反射膜６３と、当該反射膜６３が形成された第２基板５２の表面を覆う平坦化膜６４と、上記走査線と交差する方向に延在する複数の帯状の対向電極６６と配向膜６７とが形成されている。
【０００４】このような構成の下、第１基板５１側から入射した光は、第２基板５２上の反射膜６３の表面において反射して第１基板５１側から出射し、これにより反射型表示がなされるようになっている。さらに、反射膜６３には、各画素電極６１に対応して開口部６３ａが形成されており、バックライトユニット６から出射して第２基板５２側から入射した光は、この開口部６３ａを通過して第１基板５１側に出射する。そして、これにより透過型表示がなされるようになっている。
【０００５】ここで、上記第２基板５２の内側表面は、多数の微細な凹凸が形成された粗面となっている。そして、上述した反射膜６３はかかる粗面上に形成されるので、その表面には当該粗面の凹凸を反映した凹凸が形成される。この結果、第１基板５１側から入射して反射膜６３によって反射された光は、適度に散乱して第１基板５１側から出射することとなるから、観察者が視認する画像に背景や室内照明等が映り込むといった事態を回避することができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記第２基板５２はその全面が粗面化され、この粗面を覆うように、開口部６３ａを有する反射膜６３が形成される構成が一般的である。この場合、図１４に示すように、第２基板５２のうちの開口部６３ａに対応する領域も、反射膜６３によって覆われる領域と同様の粗面となる。従って、透過型表示においてバックライトユニット６から第２基板５２側に入射した光は、上記粗面を通過する際に散乱する。
【０００７】ここで、この透過型表示における散乱特性は、粗面の粗さ等に応じたものとなる。しかしながら、この粗面は、反射膜６３が良好な散乱特性を発揮できるように、その粗さが決定されるものであった。このため、透過型表示における散乱特性は、反射型表示における散乱特性に応じて決定されることとなる。つまり、従来の技術の下では、透過型表示における表示特性が反射型表示における表示特性に左右され、従って、両者の表示特性を任意に設定することができないという問題があった。
【０００８】本発明は、以上説明した事情に鑑みてなされたものであり、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを個別に決定することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】（１）上記の目的を達成するため、本発明に係る液晶表示装置は、相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なることを特徴とする。
【００１０】かかる構成とすることにより、一の基板のうち、透過型表示における光の散乱特性と、反射型表示における光の散乱特性とを個別に設定することができる。つまり、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを任意に選定することができる。
【００１１】（２）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（１）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面は粗面であり、前記開口部に対応する領域の表面は平坦面であることを特徴とする。
【００１２】この構成によれば、例えば、反射型表示の場合に反射膜表面において光を散乱させるために、一の基板のうちの反射膜によって覆われる領域の表面を粗面化しているにも関わらず、透過型表示の場合にバックライトユニットから入射して一の基板を透過する光が、当該基板表面において散乱するのを抑えることができる。
【００１３】（３）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（１）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面は第１の粗面であり、前記開口部に対応する領域の表面は、前記第１の粗面とは粗さが異なる第２の粗面であることを特徴とする。
【００１４】この構成によれば、反射型表示の場合の反射光の散乱特性とは無関係に、透過型表示の場合の第２の粗面における透過光の散乱特性を設定することができるという利点がある。
【００１５】（４）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（３）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記第２の粗面の粗さは、前記第１の粗面の粗さよりも細かいことを特徴とする。この構成によれば、バックライトユニットから入射して一の基板を通過する光を、当該基板表面において広範囲に散乱させることができる。
【００１６】（５）次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなり、前記一対の基板のうちの一の基板に、開口部を有する反射膜が形成された液晶表示装置の製造方法であって、前記一の基板のうち、前記反射膜に覆われる第１領域の表面形状と、前記開口部に対応する第２領域の表面形状とを異ならせる第１工程と、当該一の基板に前記反射膜を形成する第２工程とを有することを特徴とする。
【００１７】この製造方法によって得られた液晶表示装置によれば、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを任意に選定することができるという利点がある。
【００１８】（６）次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記（５）項に記載した構成の液晶表示装置の製造方法において、前記第１工程においては、前記第１領域の表面を粗面とし、前記第２領域の表面を平坦面とすることを特徴とする。こうすれば、透過型表示の場合にバックライトユニットから入射した一の基板を透過する光が、当該基板の表面において散乱するのを抑えることができる。
【００１９】（７）次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記（５）項に記載した構成の液晶表示装置の製造方法において、前記第１工程においては、前記第１領域の表面と前記第２領域の表面とをそれぞれ異なる粗さの粗面とすることを特徴とする。こうすれば、反射型表示の場合の反射光の散乱特性とは無関係に、透過型表示の場合の第２の粗面における透過光の散乱特性を設定することができる。
【００２０】（８）次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、上記（７）項に記載した構成の液晶表示装置の製造方法において、前記第１工程においては、前記第２領域の表面を前記第１領域の表面よりも細かい粗面とすることを特徴とする。こうすれば、透過型表示における一の基板の透過光を、広範囲に散乱させることができる。
【００２１】（９）次に、本発明に係る液晶表示装置は、相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なり、さらに前記反射膜が形成された基板と該反射膜との間に形成された第１層と、前記反射膜の前記第１層と反対側に形成されていて前記開口部の所で前記第１層に対して界面を形成する第２層とを有し、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率とは互いに異なることを特徴とする。
【００２２】この構成によれば、第１層と第２層との境界面で光の散乱状態に変化を持たせることができるので、透過型表示における光の散乱特性と、反射型表示における光の散乱特性とを個別に設定することができる。つまり、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを任意に選定することができる。
【００２３】（１０）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（９）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記第１層の屈折率は前記第２層の屈折率よりも大きいことを特徴とする。この構成によれば、第１層から第２層へ向けて光が通過するとき、すなわち、透過表示のときに光の散乱を大きくすることができる。
【００２４】（１１） 次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（９）項又は上記（１０）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率との差は０．２以上であることを特徴とする。この構成によれば、第１層から第２層へ向けて光が通過するとき、すなわち、透過表示のときに光の散乱を大きくすることができる。
【００２５】（１２）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（９）項から上記（１１）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記第１層は前記一方の基板上に形成された樹脂層であり、前記第２層は前記一方の基板上に形成されたカラーフィルタ層であることを特徴とする。
【００２６】（１３）次に、本発明に係る液晶表示装置は、相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なり、さらに前記開口部には複数の微粒子が配置されることを特徴とする。
【００２７】この構成によれば、開口部に配置される微粒子によって、透過光の散乱状態を希望に応じて調整でき、これにより、透過型表示における光の散乱特性と、反射型表示における光の散乱特性とを個別に設定することができる。つまり、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを任意に選定することができる。
【００２８】（１４）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（１３）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記複数の微粒子はバインダー樹脂の内部に含まれた状態で前記開口部に配置されることを特徴とする。この構成によれば、微粒子をバインダー樹脂に含ませた状態で処理ができるので、複数の微粒子を開口部に配置させる工程を簡単且つ確実に行うことができる。
【００２９】（１５）次に、本発明に係る液晶表示装置は、上記（１４）項に記載した構成の液晶表示装置において、前記微粒子の屈折率と前記バインダー樹脂の屈折率との間に差があることを特徴とする。これにより、開口部を通過する光を確実に散乱させることができる。
【００３０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、これ以降説明する実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更可能である。
【００３１】（第１実施形態）まず、本発明をアクティブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置に適用した第１実施形態について説明する。なお、以下では、スイッチング素子として二端子型スイッチング素子を用いた場合を例示する。
【００３２】（１）液晶表示装置の構成図１は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成を模式的に例示する断面図である。なお、図１及び以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
【００３３】図１に示すように、この液晶表示装置は、シール材（図示せず）を介して対向する第１基板１１及び第２基板１２の間に液晶１３を挟持してなる液晶パネル１と、当該液晶パネル１の第２基板１２側に配設されるバックライトユニット２とを含んで構成される。なお、実際には、第１基板１１の外側及び第２基板１２の外側（すなわち、いずれも液晶１３の反対側）の表面に、入射光を偏光させるための偏光板や位相差板等が貼着されるが、これらは本発明とは直接には関係がないため、その説明及び図示を省略する。
【００３４】バックライトユニット２は、光を照射する線状の蛍光管（図示せず）と、その蛍光管から発せられる光を反射して導光板２１に導く反射板（図示せず）と、蛍光管からの光を液晶パネル１の全面に導く導光板２１と、この導光板２１に導かれた光を液晶パネル１に対して一様に拡散させる拡散板２２と、導光板２１から液晶パネル１とは反対側に出射される光を液晶パネル１側へ反射させる反射板２３とを有している。
【００３５】ここで、上記蛍光管は、常に点灯しているのではなく、外光がほとんどないような環境において液晶表示装置が使用される場合に、ユーザからの指示やセンサからの検出信号に応じて点灯し、これにより透過型表示が行われるようになっている。
【００３６】液晶パネル１の第１基板１１は、ガラスや石英、プラスティック等の光透過性を有する板状部材である。この第１基板１１の内側（すなわち、液晶１３側）表面には、複数の画素電極４１がマトリクス状に配列して形成される。各画素電極４１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料によって形成される。ここで、図２は、画素電極４１等が形成された第１基板１１の表面を拡大して示す斜視図である。なお、図２と図１とでは、上下関係が逆になっていることに留意されたい。
【００３７】図２において、第１基板１１の表面に走査線４３が形成される。この走査線４３は、図１においては紙面に対して垂直方向に延在して形成される。図２において、画素電極４１は、ＴＦＤ４２を介して画素電圧供給用の走査線４３に接続される。また、各ＴＦＤ４２は、走査線４３から分岐した部分である第１金属膜４２ａと、この第１金属膜４２ａの表面に陽極酸化によって形成された絶縁体たる酸化膜４２ｂと、この酸化膜４２ｂの上面に例えばクロム等によって形成された第２金属膜４２ｃとから成り、非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子として構成されている。そして、このＴＦＤ４２の第２金属膜４２ｃが画素電極４１に接続されている。
【００３８】図１において、画素電極４１及びＴＦＤ４２等が形成された第１基板１１の表面は、配向膜４４によって覆われている。この配向膜４４は、ポリイミド等の有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶１３の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【００３９】一方、第２基板１２は、ガラス基板等の基材１２ａと、樹脂層１２ｂとを積層して構成される。この第２基板１２の内側表面（すなわち、樹脂層１２ｂの表面）には、反射膜１４と、遮光膜１５と、カラーフィルタ１６と、オーバーコート層１７と、対向電極１８と、配向膜１９とが形成されている。
【００４０】反射膜１４は、反射性を有する材料（例えばアルミニウムや銀等）によって形成され、第１基板１１側からの入射光を反射させるための膜である。ここで、図３は、この反射膜１４の形状を模式的に例示する平面図である。なお、図３においては、反射膜１４のうち、第１基板１１に形成された画素電極４１と対向する領域が破線で示されている。反射膜１４は、第２基板１２の全面を覆うように形成されるが、第２基板１２の表面のうち、第１基板１１に形成された各画素電極４１と対向する領域の一部には開口部１４ａが形成された形状となっている。後述するように、バックライトユニット２からの入射光は、この反射膜１４の開口部１４ａを通過して第１基板１１側に出射する。
【００４１】図１において、第２基板１２の内側表面（すなわち、樹脂層１２ｂの表面）のうち、反射膜１４によって覆われる領域（以下、「反射領域」という）は、多数の微細な凹凸が形成された粗面となっている。このため、反射膜１４の表面には、反射領域上の凹凸を反映した凹凸が形成されることとなる。これに対し、第２基板１２の内側表面のうち、開口部１４ａに対応する領域は平坦となっている。このため、バックライトユニット２から第２基板１２に入射した光は、第２基板１２の透過領域表面を通過する際に散乱することなく第１基板１１側に出射する。
【００４２】遮光膜１５は、第１基板１１に形成された各画素電極４１の間隙部分に位置するように格子状に形成された膜であり、各画素間の隙間を遮光するためのものである。カラーフィルタ１６は、染料や顔料によってＲ（赤色）、Ｇ（緑色）及びＢ（青色）のいずれかに着色された樹脂材料で形成された膜である。また、反射膜１４、遮光膜１５及びカラーフィルタ１６が形成された第２基板１２の表面は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂からなるオーバーコート層１７によって覆われている。これは、反射膜１４、遮光膜１５及びカラーフィルタ１６によって第２基板１２上に形成された凸部を平坦化するとともに、カラーフィルタ１６から有機材料が染み出して液晶を劣化させるのを防ぐためである。
【００４３】このオーバーコート層１７の表面には複数の対向電極１８が形成されている。各対向電極１８は、第１基板１１上に列をなす複数の画素電極４１の各々と対向するように所定の方向に延在して形成された帯状の電極であり、透明導電材料、例えばＩＴＯ等によって形成される。第１基板１１と第２基板１２との間に挟持された液晶１３は、画素電極４１と対向電極１８との間に電圧が印加されることによってその配向方向が変化する。すなわち、各画素電極４１と各対向電極１８とが対向する領域が画素として機能することとなる。
【００４４】上記の開口部１４ａは、画素が形成される領域の一部に形成される。一方、対向電極１８が形成されたオーバーコート層１７の表面は、上記配向膜４４と同様の配向膜１９によって覆われている。
【００４５】本実施形態の液晶表示装置は以上のように構成されているので、以下に説明するようにして反射型表示及び透過型表示の両方が行われる。
【００４６】まず、反射型表示の場合には、図１において、太陽光や室内照明等の外光は、第１基板１１側から入射し、第１基板１１→画素電極４１→配向膜４４→液晶１３→配向膜１９→対向電極１８→オーバーコート層１７→カラーフィルタ１６→反射膜１４という経路で反射膜１４に達し、この反射膜１４の表面で反射する。反射した光は、その後、上記経路を逆に辿って第１基板１１側から出射して観察者に視認される。
【００４７】ここで、反射膜１４の表面には、上述したように、第２基板１２の反射領域に形成された凹凸を反映した凹凸が形成されている。このため、第１基板１１側からの入射光は、この反射膜１４の凹凸によって適度に散乱された後に第１基板１１側から出射する。これにより、観察者によって視認される画像に背景が映り込んだり、室内照明からの光が反射するといった事態を回避することができる。
【００４８】一方、透過型表示の場合には、バックライトユニット２による照射光は、第２基板１２→反射膜１４の開口部１４ａ→カラーフィルタ１６→オーバーコート層１７→対向電極１８→配向膜１９→液晶１３→配向膜４４→画素電極４１→第１基板１１という経路を辿って外部へ出射してユーザに視認される。
【００４９】以上説明したように、本実施形態においては、第２基板１２の表面のうち、反射膜１４によって覆われる反射領域は粗面である一方、当該反射膜１４の開口部１４ａに対応する透過領域は平坦面となっているので、透過型表示における表示特性は、反射膜１４の散乱特性に応じた粗面の形状とは無関係となる。この結果、例えば以下に示す利点を得ることができる。
【００５０】従来の技術に示したように、第２基板１２の透過領域の表面が、反射領域の表面に形成された粗面と同様の粗面である場合、透過型表示においてバックライトユニット２から第２基板１２に入射して開口部１４ａを通過する光が、この透過領域の粗面によって散乱することとなる。しかしながら、場合によっては、この透過領域における光の散乱を抑えることが望ましい場合も考えられる。
【００５１】例えば、図４（ｂ）に示すように、ある画素Ａに対応する開口部１４ａの縁部と、当該画素Ａに隣接する他の画素Ｂの縁部との距離が短い場合、画素Ａに対応する開口部１４ａを通った光が透過領域の粗面によって散乱して、当該画素Ａに隣接する他の画素Ｂの画素電極４１にまで至ってしまうことが考えられる。ここで、本来ならば、画素Ａに対応する開口部１４ａを通った光は、当該画素Ａに対応する画素電極４１にのみ至って第１基板１１側から出射することが望ましい。つまり、透過領域における光の散乱を抑えることが望ましいのである。しかしながら、従来の技術にあっては、透過領域の表面形状が反射領域における表面形状と同一となっていたため、透過領域を通過する光の散乱を抑えることができなかった。
【００５２】これに対し、本実施形態に係る液晶表示装置によれば、透過領域が平坦面となっている。従って、図４（ａ）に示すように、バックライトユニット２から入射して画素Ａに対応する開口部１４ａを通過した光は、散乱することなく当該画素Ａに対応する画素電極４１にのみ至ることとなる。この結果、上記従来の技術において発生し得る上記問題を回避することができるのである。
【００５３】（２）液晶表示装置の製造方法次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明する。
【００５４】（Ａ）第１の製造方法まず、図５（ａ）に示すように、ガラス基板等といった基材１２ａの一方の表面を覆うように、樹脂材料を塗布し、さらに焼成して樹脂層１２ｂを形成する。次に、この樹脂層１２ｂを覆うようにフォトレジスト３２を形成し、反射領域に対応する領域に多数の微小な孔３２ａを形成する（図５（ｂ））。ここで、図６は、多数の孔３２ａが形成されたフォトレジスト３２の様子を模式的に例示する平面図である。なお、図６においては、透過領域（すなわち、反射膜１４の開口部１４ａに対応する領域）が破線で示されている。
【００５５】図６に示すように、フォトレジスト３２のうち、後の工程において形成される反射膜１４に対応する領域、すなわち、反射領域に対応する領域に、多数の微細な孔３２ａを形成する一方、透過領域に対応する領域には、孔を形成しない。なお、後述するように、フォトレジスト３２に設けられた孔３２ａの態様に応じて、第２基板１２の反射領域における粗面の態様が決まるので、各孔３２ａの径及び隣接する各孔の距離等は、当該第２基板１２上に形成される反射膜１４が所望の散乱特性を発揮するように選定されることが望ましい。
【００５６】次に、このような多数の孔３２ａが形成されたフォトレジスト３２をマスクとして、樹脂層１２ｂに対して等方性エッチングを施す。この結果、図５（ｃ）に示すように、樹脂層１２ｂのうちのフォトレジスト３２の孔３２ａに対応する部分に、多数の微細な凹部が形成される。一方、孔が形成されていない領域はエッチングによって除去されないので、平坦なままとなる。上記エッチングの後、フォトレジスト３２を除去する（図５（ｄ））。
【００５７】次に、こうして多数の凹部が形成された樹脂層１２ｂを、当該樹脂材料の熱変形温度以上に加熱する。この加熱により樹脂層１２ｂは軟化し、その熱変形性及び表面張力の作用によって樹脂層１２ｂの角の部分が丸められる。この結果、図５（ｅ）に示すように、滑らかな凹凸を有する粗面である反射領域Ａと、平坦面である透過領域Ｂとを有する第２基板１２が得られる。
【００５８】続いて、上記のようにして粗面と平坦面とが選択的に形成された第２基板１２の全面に、アルミニウム等といった反射性を有する材料の膜３３を形成する。さらに、図５（ｆ）に示すように、この膜３３のうちの反射領域に対応する領域にフォトレジスト３４を形成する。
【００５９】次に、上記フォトレジスト３４が形成された膜３３に対してエッチングを施し、フォトレジスト３４によって覆われていない領域の膜３３を除去する。この結果、エッチングによって除去された領域を開口部１４ａとする反射膜１４が形成される。
【００６０】続いて、反射膜１４が形成された第２基板１２の表面にクロム等の薄膜を形成するとともに、この薄膜をパターニングして遮光膜１５を形成する。そして、反射膜１４及び遮光膜１５が形成された第２基板１２の表面に、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちのいずれかの色に着色された樹脂膜を形成するとともに、エッチングやフォトリソグラフィを施し、当該色のカラーフィルタ１６を形成する。他の２色についても、同様の工程によってカラーフィルタ１６を形成する（図５（ｈ））。
【００６１】続いて、これらの各部が形成された第２基板１２の全面にアクリル樹脂等の樹脂材料を塗布し、その後焼成してオーバーコート層１７を形成する。さらに、こうして形成されたオーバーコート層１７の表面に、スパッタリング法等によってＩＴＯの薄膜を形成し、この薄膜に対してエッチングやフォトリソグラフィ等を施すことにより、複数の帯状の対向電極１８を形成する。次に、これらの対向電極１８が形成されたオーバーコート層１７の表面にポリイミド等の有機材料を塗布し、さらに焼成して配向膜１９を形成し、さらにその後、使用する液晶１３のツイスト角に応じた一軸配向処理（例えばラビング処理）を配向膜１９に対して施す（図５（ｉ））。
【００６２】一方、図１に示す第１基板１１の表面に、図２に示すように走査線４３、ＴＦＤ４２及び画素電極４１を形成する。これらの各部は、公知の各種方法を用いて形成することができるので、それらの形成方法についての説明は省略する。
【００６３】続いて、上記のようにして得られた図５（ｉ）の第２基板１２上に、当該第２基板１２の縁部を囲む形状のシール材を印刷するとともに、当該第２基板１２と、画素電極４１等が形成された図２の第１基板１１をシール材を介して接合し、液晶１３を封入して図１の液晶パネル１が得られる。この後、液晶パネル１の第２基板１２側にバックライトユニット２を配設して、液晶表示装置が完成する。（Ｂ）第２の製造方法次に、本発明に係る液晶表示装置の第２の製造方法について説明する。なお、本製造方法においては、上記第１の製造方法と比較して図５の第２基板１２の製造方法のみが異なるので、以下ではこの異なる部分についてのみ説明する。また、以下では、ソーダライムガラス基板を用いて第２基板１２を形成する場合を例示する。
【００６４】図７（ａ）は、このソーダライムガラス基板３５の断面構造を模式的に表す断面図である。同図に示すように、このソーダライムガラス基板３５は、網目状構造体３５ａと、この網目状構造体３５ａを埋めるように存在する網目修飾体３５ｂとを有する。網目状構造体３５ａは珪酸によって形成される一方、網目修飾体３５ｂはアルカリ金属やアルカリ土類金属によって形成される。
【００６５】まず、ソーダライムガラス基板３５を、５ｗｔ％程度の弗化水素酸水溶液に２０℃において５秒間程度浸漬することにより、洗浄を兼ねたエッチングを行う。続いて、上記工程により均一にエッチングが施されたソーダライムガラス基板３５の表面のうち、上述した透過領域に対応する領域を覆うように、フォトレジスト３６を形成する（図７（ｂ））。
【００６６】次に、当該ソーダライムガラス基板３５を、弗化水素酸が３０ｗｔ％、水素二弗化アンモニウムが４５ｗｔ％含まれる水溶液に、２５℃にて１５秒間程度浸漬する。ここで、図７（ｃ）に示すように、ソーダライムガラス基板３５を構成する成分のうち、網目修飾体３５ｂが上記処理液に溶出する速度は、網目状構造体３５ａが当該処理液に溶出する速度よりも速い。従って、上記処理液への浸漬が終了すると、図７（ｄ）に示すように、エッチングが施された領域（すなわち、フォトレジスト３６によって覆われていない領域）は、網目状構造体３５ａの形状に応じた山部と谷部とを有する粗面となる。
【００６７】この後、図７（ｅ）に示すように、フォトレジスト３６を除去することにより、反射膜１４（図１参照）によって覆われるべき反射領域が粗面化され、開口部１４ａ（図１４ａ）に対応する透過領域が平坦である第２基板１２が得られる。こうして粗面と平坦面とが選択的に形成された第２基板１２の表面に対して、図１に示すように、粗面化された領域を覆う形状を有し、かつ平坦面に対応して開口部１４ａが設けられた反射膜１４を形成する。なお、反射膜１４の形成工程、及びその後の工程は、上記第１の製造方法と同様となるため、その説明は省略する。
【００６８】（第２実施形態）
（１）液晶表示装置の構成次に、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の構成を説明する。図８は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成の一部を模式的に例示する断面図である。なお、図８R>８に示す各部のうち、図１に示した第１実施形態に係る液晶表示装置の各部と共通する部分については、図１と同一の符号を付してその説明を省略する。
【００６９】上記第１実施形態に係る液晶表示装置においては、第２基板１２の内側表面のうち、反射膜１４によって覆われる反射領域を粗面とし、開口部１４ａに対応する透過領域を平坦面とした。図８に示す本実施形態に係る液晶表示装置においては、第２基板１２の透過領域の形状が反射領域の形状と異なっている点では上記第１実施形態と同様であるが、第２基板１２の透過領域も粗面である点で上記第１実施形態とは異なっている。
【００７０】詳述すると、本実施形態に係る第２基板１２にあっては、透過領域と反射領域の双方が粗面となっているが、透過領域の粗面の粗さが、反射領域の粗面の粗さよりも細かくなっている。ここで、粗面に関して「細かい」とは、当該粗面を構成するいずれかの山部の頂上部から当該山部に隣接する他の山部の頂上部までの距離（以下、山部のピッチという）が短いこと、いずれかの谷部の底部から当該谷部に隣接する他の谷部の底部までの距離（以下、谷部のピッチという）が短いこと、山部の高さが高いこと、あるいは谷部の深さが深いこと等を意味する。本実施形態においては、第２基板１２の透過領域における山部又は谷部のピッチが、反射領域における山部又は谷部のピッチよりも短くなっている。
【００７１】このように、第２基板１２のうちの透過領域における粗面の粗さを、反射領域における粗面の粗さと異ならせることにより、反射膜の散乱特性に応じて決定された反射領域の粗面の形状とは無関係に、透過型表示における表示特性を設定することができるという利点がある。詳述すると、以下の通りである。
【００７２】図１４に示した従来の液晶表示装置のように、第２基板５２の透過領域の表面が、反射領域の表面に形成された粗面と同様の粗面である場合、透過型表示時にバックライトユニット６から第２基板５２に入射して開口部６３ａを通過する光が、この透過領域の粗面によって散乱することとなる。しかしながら、場合によっては、この透過領域において光をより広範囲に散乱させることが望ましい場合も考えられる。
【００７３】例えば、図９（ｂ）に示すように、ある画素に対応する開口部１４ａの縁部と、当該画素の縁部との距離が比較的長いため、透過領域において散乱した光が、画素電極４１のうちの狭い範囲にしか至らないような場合である。このような場合、開口部１４ａを通った光をより拡散させて、画素電極４１の広範囲に至らせることが望ましい。しかしながら、図１４に示す従来技術の下では、透過領域の表面形状が反射領域の表面形状と同一であったため、透過領域を通過する光の散乱の程度を任意に調節することはできなかった。
【００７４】これに対し、本実施形態に係る液晶表示装置によれば、透過領域における表面が、反射領域における粗面よりも細かい粗面となっている。従って、図９（ａ）に示すように、バックライトユニット２（図８参照）から第２基板１２側に入射した光は、当該透過領域の表面において、図９（ｂ）に示した場合よりも広範囲に散乱し、散乱した光は、画素電極４１の広範囲に至ることとなる。つまり、透過型表示における見かけ上の画素の大きさＳを、図９（ｂ）に示した従来の場合と比較して大きくすることができる。このように、本実施形態によれば、透過型表示における表示特性を、反射型表示における散乱特性とは無関係に選定することができる。
【００７５】なお、図８に示す本実施形態においては、第２基板１２のうちの透過領域の表面の粗さを、反射領域の表面の粗さよりも細かくなるようにしたが、これとは逆に、透過領域の表面の粗さを、反射領域の表面の粗さよりも粗くなるようにしてもよい。要は、透過型表示における表示特性、すなわち散乱特性が所望の表示特性となるように、透過領域の表面を、反射領域における表面の粗さとは無関係の粗さとすればよいのである。
【００７６】（２）液晶表示装置の製造方法次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明する。まず、図１０（ａ）に示すように、ガラス基板等といった基材１２ａの一方の表面を覆うように、樹脂材料を塗布し、さらに焼成して樹脂層１２ｂを形成する。次に、この樹脂層１２ｂを覆うようにフォトレジスト３２を形成し、このフォトレジスト３２に多数の微小な孔を形成する（図１０（ｂ））。
【００７７】ここで、図１１は、多数の孔３２ａが形成されたフォトレジスト３２の様子を模式的に例示する平面図、すなわち図１０（ｂ）を上側から見た図である。なお、図１１においては、第２基板１２の透過領域に対応する領域が破線で示されている。この図に示すように、フォトレジスト３２のうちの反射領域に対応する領域には、比較的大径の多数の孔３２ａが形成される。これに対し、フォトレジスト３２のうち、透過領域に対応する領域内には、上記反射領域内に形成された孔３２ａよりも小径の孔３２ｂが、当該反射領域よりも密に（すなわち、各孔３２ｂの間隔が短くなるように）形成される。
【００７８】後述するように、第２基板１２のうち、孔３２ａ及び３２ｂが設けられた領域に対応して谷部が形成される一方、その他の領域には山部が形成されることとなる。従って、反射領域内の各孔の径及び隣接する各孔の距離等は、第２基板１２の当該反射領域に形成される反射膜が所望の反射特性を備えるように選定されることが望ましい。同様に、透過領域内の各孔の径及び隣接する各孔の距離等は、第２基板１２の透過領域を通過する光が所望の散乱光となるように選定されることが望ましい。
【００７９】次に、このような多数の孔３２ａ及び３２ｂが形成されたフォトレジスト３２をマスクとして、樹脂層１２ｂに対して等方性エッチングを施す。この結果、図１０（ｃ）に示すように、樹脂層１２ｂのうちのフォトレジスト３２によって覆われていない部分に、多数の微細な凹部が形成される。上記エッチングの後、フォトレジスト３２を除去する（図１０（ｄ））。
【００８０】続いて、多数の凹部が形成された樹脂層１２ｂを、当該樹脂材料の熱変形温度以上に加熱する。この加熱により樹脂層１２ｂは軟化し、その熱変形性及び表面張力の作用によって樹脂層１２ｂの角の部分が丸められる。この結果、図１０（ｅ）に示すように、粗面である反射領域と、それよりも細かい粗面である透過領域とを有する第２基板１２が得られる。
【００８１】この後、図１０（ｆ）に示すように、第２基板１２の反射領域を覆う形状を有し、かつ透過領域に対応して開口部１４ａが設けられた反射膜１４が形成されるとともに、遮光膜１５、カラーフィルタ１６、オーバーコート層１７、対向電極１８及び配向膜１９が形成される（図１０（ｇ））。これらの各部を形成する工程及びこの第２基板１２を用いて液晶パネル１を形成する工程は、上記第１実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
【００８２】（第３実施形態）上記各実施形態においては、二端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示したが、本発明は、例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor；薄膜トランジスタ）に代表される三端子型スイッチング素子を用いた液晶表示装置又はパッシブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用可能である。
【００８３】これらの液晶表示装置に本発明を適用した場合にも、上記各実施形態に示した場合と同様、液晶を挟持する一対の基板のうちの観察側とは反対側の基板に、開口部を有する反射膜を設け、当該基板のうちの反射膜によって覆われる反射領域表面の形状と、開口部に対応する透過領域表面の形状とを異ならせるようにすればよい。
【００８４】また、上記各実施形態においては、観察側の第１基板１１に画素電極４１及びＴＦＤ４２等を設ける一方、観察側とは反対側の第２基板１２に画素電極４１と対向する対向電極１８を設ける構成としたが、これとは逆に、第１基板１１に対向電極を、第２基板１２に画素電極及びスイッチング素子等を設ける構成としてもよい。一方、ＴＦＴ等の三端子型スイッチング素子を用いた場合にあっても、観察側の基板をスイッチング素子が設けられた素子基板とし、他方の基板を対向電極が形成された対向基板としてもよいし、これとは逆に、観察側の基板を対向電極とし、観察側とは反対側の基板を素子基板としてもよい。
【００８５】（第４実施形態）上記各実施形態においては、第２基板１２側に反射膜１４と対向電極１８とを別個に設ける構成としたが、反射膜１４及び対向電極１８の機能を兼ね備える反射電極を形成するようにしてもよい。図１２（ａ）は、本実施形態に係る液晶表示装置の構成を模式的に例示する断面図である。なお、この図において、図１に示した各部と共通する要素については同様の符号が付されている。また、この図においては、図１R>１及び図８等に示したカラーフィルタ１６及び遮光膜１５は省略されている。
【００８６】図１２（ａ）に示すように、本変形例に係る液晶表示装置の第２基板１２には、上記各実施形態に示した対向電極１８及び反射膜１４に代えて反射電極２４が形成される。ここで、図１２（ｂ）は、この反射電極２４の構成を例示する平面図である。同図においては、第１基板１１上に形成された画素電極４１が破線で示されている。この図に示すように、各反射電極２４は、第１基板１１上に列をなす画素電極４１の各々と対向するように、反射性を有する導電性材料によって形成される。また、この反射電極２４は、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１基板１１上の画素電極４１と対向する領域の一部に開口部２４ａが設けられている。
【００８７】そして、第２基板１２のうち、反射電極２４によって覆われる反射領域の表面は粗面となる一方、開口部２４ａに対応する透過領域の表面は平坦面となっている。かかる構成とした場合にも、上記各実施形態と同様の効果が得られる。さらに、本変形例によれば、電極と反射膜とを別個に形成する必要がないので、製造コストの低減、及び構造の簡素化を図ることができる。
【００８８】なお、図１２（ａ）においては、第２基板１２のうちの透過領域表面を平坦面としたが、上記第２実施形態と同様、本変形例においても、透過領域表面を反射領域表面の粗面よりも細かい粗面とする構成としてもよい。要は、第２基板１２の透過領域表面の形状と反射領域表面の形状とが異なっていればよいのである。
（第５実施形態）第２基板１２の表面に粗面を形成する方法としては、上記各実施形態に示したものに限られず、他の各種方法を用いることができる。図１３の（ａ）から（ｆ）は、上記第１実施形態に係る液晶表示装置の第２基板１２のうちの反射領域の表面を粗面化するための他の方法を例示する図である。
【００８９】この方法においては、まず、図１３（ａ）に示すように、ガラス基板等といった基材１２ａの全面に感光性アクリル樹脂等の樹脂層１２ｂを形成し、この樹脂層１２ｂに対し、フォトレジスト３２を介して紫外線を照射する（図１３（ｂ））。ここで、図１３（ｂ）に示すように、このフォトレジスト３２には、反射領域に対応する領域に多数の微細な遮光膜が形成されているが、透過領域に対応する領域にはかかる遮光膜は形成されていない。従って、この紫外線照射の後、現像を施すと、図１３（ｃ）に示すように、樹脂層１２ｂのうち、遮光膜によって遮られて紫外線が照射されなかった部分のみが残り、紫外線が照射した部分は除去される。
【００９０】続いて、これらの樹脂層１２ｂを加熱して軟化させ、当該樹脂層１２ｂの角部を丸める。これにより、図１３（ｄ）に示すように、第２基板１２のうちの反射領域のみが、各樹脂層に対応する多数の凸部を有する粗面となるのである。この後、多数の凸部が形成された第２基板１２表面を覆う有機膜３７を形成するとともに（図１３（ｅ））、この有機膜３７上に、開口部１４ａを有する反射膜１４を形成する（図１３（ｆ））。ここで、反射膜１４の下地として有機膜３７を形成したのは、材質が異なる部材、すなわち樹脂層１２ｂと第２基板１２、の表面に跨って反射膜１４を形成すると、当該反射膜１４が剥がれやすくなるためである。
【００９１】このような方法によっても、上記第１実施形態に示した第２基板１２を形成することができる。なお、第２実施形態に示したように、反射領域表面と透過領域表面とが粗さの異なる粗面となっている第２基板も、同様の工程により製造することができる。すなわち、この場合には、上述したフォトマスク３２のうち、第２基板１２の反射領域に対応する領域に比較的大きい多数の遮光膜を設ける一方、透過領域に対応する領域に比較的小さい多数の遮光膜を密に設けるようにすればよい。
【００９２】（第６実施形態）図１に示した構成の液晶表示装置において、反射膜１４の下に形成された樹脂層１２ｂ及び開口部１４ａの上に形成されたカラーフィルタ層１６に関しては、それらの屈折率の間に大きな差が生じることがある。このように樹脂層１２ｂの屈折率とカラーフィルタ層１６の屈折率との間に大きな差がある場合には、開口部１４ａに対応して樹脂層１２ｂに凹凸が形成されるとすると、透過表示を行うときに樹脂層１２ｂとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱が生じる。
【００９３】従って、図４（ａ）に示すように、開口部１４ａの所で光を散乱させたく無い場合であって、しかも、樹脂層１２ｂの屈折率とカラーフィルタ層１６の屈折率との間に大きな差があるときには、開口部１４ａに対応して樹脂層１２ｂを平坦にすることが有効である。
【００９４】特に、カラーフィルタ層１６の屈折率と樹脂層１２ｂの屈折率との差が０．２以上である場合には、それらの界面で発生する散乱が大きくなる傾向にある。よって、この場合に光の散乱を制限したいときには、開口部１４ａに対応する樹脂層１２ｂを平坦に形成することが有効である。
【００９５】（第７実施形態）図１５は、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を示している。図１に示した先に実施形態では、ガラス等によって構成された基材１２ａに樹脂層１２ｂを積層することによって第２基板１２を形成し、さらに、樹脂層１２ｂの表面に凹凸を形成し、この凹凸によって反射膜１４に凹凸を形成した。これに対し、図１５に示す本実施形態では、第２基板１２を基材１２ａの単体によって形成すると共に、その基材１２ａの表面に直接に凹凸を形成し、その凹凸によって反射膜１４に凹凸を形成した。これ以外の点は、図１の液晶表示装置と図１５の液晶表示装置との間には相違がないので、同じ部材は同じ符号で示すことにして、それらの部材の説明は省略する。
【００９６】この実施形態においては、反射膜１４の下に位置する基材１２ａ及び開口部１４ａの上に形成されたカラーフィルタ層１６に関して、それらの屈折率の間に大きな差が生じることがある。このように基材１２ａの屈折率とカラーフィルタ層１６の屈折率との間に大きな差がある場合には、開口部１４ａに対応して基材１２ａに凹凸が形成されるとすると、透過表示を行ったときに基材１２ａとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱が生じる。
【００９７】従って、図４（ａ）に示すように、開口部１４ａの所で光を散乱させたく無い場合であって、しかも、基材１２ａの屈折率とカラーフィルタ層１６の屈折率との間に大きな差があるときには、開口部１４ａに対応して樹脂層１２ｂを平坦にすることが有効である。
【００９８】特に、カラーフィルタ層１６の屈折率と基材１２ａの屈折率との差が０．２以上である場合には、それらの界面で発生する散乱が大きくなる傾向にある。よって、この場合に光の散乱を制限したいときには、開口部１４ａに対応する樹脂層１２ｂを平坦に形成することが有効である。
【００９９】（第８実施形態）なお、本発明は、図１に示した実施形態及び図１５に示す実施形態に限定されるものではなく、反射膜１４の下に形成された図１の樹脂層１２ｂや図１５の基材１２ａによって構成される第１層と、開口部１４ａに対応するカラーフィルタ層１６によって構成される第２層との屈折率の差が相違する構造を有する液晶表示装置であると考えられる。
【０１００】このように第１層の屈折率と第２層の屈折率との差が大きい場合に、例えば図１５において、開口部１４ａに対応して第１層１２ａに凹凸が在ると、透過表示において第１層１２ａ及び第２層１６の界面で大きな散乱が生じる傾向にある。よって、開口部１４ａの所での光の散乱を抑制したい場合には、開口部１４ａに対応して第１層１２ａを平坦にすることが有効である。
【０１０１】特に、第１層と第２層との間の屈折率の差が０．２以上である場合には、それらの界面で発生する散乱が大きくなる傾向にあるので、この場合に光の散乱を制限したいときには、開口部１４ａに対応する第２層を平坦に形成することが有効である。なお、第１層及び第２層はいずれも任意の有機材料又は無機材料から選択することができる。
【０１０２】（第９実施形態）図８に示した構成の液晶表示装置において、反射膜１４の下に形成された樹脂層１２ｂ及び開口部１４ａの上に形成されたカラーフィルタ層１６に関しては、それらの屈折率に差があることが好ましく、さらにはその差が大きいことが好ましい。こうすれば、透過表示の際に樹脂層１２ｂとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱が生じるからである。
【０１０３】特に、カラーフィルタ層１６の屈折率と樹脂層１２ｂの屈折率との差を０．２以上にすれば、樹脂層１２ｂとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱を生じさせることに関して、より一層好ましい。
【０１０４】また、さらに、樹脂層１２ｂの屈折率をカラーフィルタ層１６の屈折率よりも大きくすれば、さらに大きな散乱を生じさせることができる。
【０１０５】（第１０実施形態）図１６は、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を示している。図８R>８に示した先に実施形態では、ガラス等によって構成された基材１２ａに樹脂層１２ｂを積層することによって第２基板１２を形成し、さらに、樹脂層１２ｂの表面に凹凸を形成し、この凹凸によって反射膜１４に凹凸を形成した。これに対し、図１６に示す本実施形態では、第２基板１２を基材１２ａの単体によって形成すると共に、その基材１２ａの表面に直接に凹凸を形成し、その凹凸によって反射膜１４に凹凸を形成した。これ以外の点は、図８の液晶表示装置と図１６の液晶表示装置との間には相違がないので、同じ部材は同じ符号で示すことにして、それらの部材の説明は省略する。
【０１０６】この実施形態においては、反射膜１４の下に位置する基材１２ａ及び開口部１４ａの上に形成されたカラーフィルタ層１６に関して、それらの屈折率に差があることが好ましく、さらにはその差が大きいことが好ましい。こうすれば、透過表示の際に基材１２ａとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱が生じるからである。
【０１０７】特に、カラーフィルタ層１６の屈折率と基材１２ａの屈折率との差を０．２以上にすれば、基材１２ａとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱を生じさせることに関して、より一層好ましい。
【０１０８】また、さらに、基材１２ａの屈折率をカラーフィルタ層１６の屈折率よりも大きくすれば、さらに大きな散乱を生じさせることができる。
【０１０９】（第１１実施形態）なお、本発明は、図８に示した実施形態及び図１６に示す実施形態に限定されるものではなく、反射膜１４の下に形成された図８の樹脂層１２ｂや図１６の基材１２ａによって構成される第１層と、開口部１４ａに対応するカラーフィルタ層１６によって構成される第２層との屈折率の差が相違する構造を有する液晶表示装置であると考えられる。これにより、第１層と第２層との界面で大きな散乱を生じさせることができる。
【０１１０】特に、第１層の屈折率と第２層の屈折率との差を０．２以上にすれば、基材１２ａとカラーフィルタ層１６との界面で大きな散乱を生じさせることに関して、より一層好ましい。また、さらに、第１層の屈折率を第２層の屈折率よりも大きくすれば、さらに大きな散乱を生じさせることができる。
【０１１１】なお、第１層及び第２層は、いずれも任意の有機材料又は無機材料から選択することができる。
【０１１２】（第１２実施形態）図１７は、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を示している。図８R>８に示した実施形態では、開口部１４ａに対応する樹脂層１２ｂの表面に凹凸を設けることにより、透過表示の際に開口部１４ａを通る光を大きく散乱させた。これに対し、図１７に示す本実施形態では、バインダー樹脂２９の中に複数の微粒子２８を混在させて成る光散乱層２７を開口部１４ａに対応する部分に形成することにより、透過表示の際に開口部１４ａを通る光を大きく散乱させている。これ以外の点は、図８の液晶表示装置と図１７１７の液晶表示装置との間には相違がないので、同じ部材は同じ符号で示すことにして、それらの部材の説明は省略する。
【０１１３】光散乱層２７は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、屈折率１．４８のシリコン樹脂から成る微粒子２８を重量比で１５％の割合で、屈折率１．３５の透明な含フッ素ポリマー２９に混練し、次に、基材１２ａの表面にスピンコート法によって適宜の膜厚約に成膜し、次に、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行って、開口部１４ａに光散乱層２７を形成する。
【０１１４】複数の微粒子２８は、光を散乱する機能を持った程度に大きく、液晶層１３の厚み、すなわちセルギャップに影響を与えない程度に小さく設定することが望ましく、例えば、直径１〜３μｍのものが望ましい。
【０１１５】なお、混練する微粒子２８には４５０ｎｍから６５０ｎｍの波長範囲において、（散乱断面積）／（幾何学的断面積）で表される散乱効率が２以上となる粒子半径を選ぶことができる。図１８に、（微粒子の屈折率）／（樹脂の屈折率）＝１．１の場合の４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの波長における、粒子半径に対する散乱効率のそれぞれに関係曲線Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６を示した。図１８において、４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長範囲において散乱効率が２以上となる微粒子半径は１．２μｍ〜２．３μｍの範囲であり、このため、本実施形態では微粒子の平均半径を１．７μｍとした。
【０１１６】なお、上記説明ではバインダー樹脂２９として含フッ素ポリマーを用いることを例示したが、樹脂としては、複屈折性が小さく、液晶表示製造装置の製造工程における熱処理や薬品処理に耐え得るものであれば良く、例えば、アクリル樹脂（屈折率：１．４７〜１．５９）、エポキシ樹脂（屈折率：１．５６〜１．６６）、ポリエステル樹脂（屈折率：１，５１〜１．５７）、シリコン樹脂（屈折率：１．３５〜１．４８）、ポリイミド樹脂（屈折率：１．５７〜１．６９）等と用いることができる。
【０１１７】また、上記説明では微粒子としてシリコン樹脂から成る微粒子を考えたが、微粒子としては、有機ポリマーかな成る微粒子や、無機物から成る微粒子を用いることができる。
【０１１８】有機ポリマーから成る微粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリフルオロビニル（ＰＶＦ）等といった含フッ素ポリマーが挙げられる。これら含フッ素ポリマーの屈折率は、それぞれ、１．３５、１．３５、１．４０、１．３５である。
【０１１９】さらに、その他のポリマーにフッ素原子やフッ化アルキル基を付加したものであっても良い。また、これら有機ポリマーの表面に適当な表面処理を施した微粒子でも良い。表面処理の例としては、例えば、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、透明樹脂、カップリング剤、界面活性剤等を表面に塗布する処理が挙げられる。
【０１２０】また、無機物から成る微粒子の例としては、立方晶構造を有する微粒子、正方晶構造を有する微粒子又は非晶質の微粒子等が使用できる。具体的には、例えば、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＬａＦ３、ＬｉＦ２、ＮａＦ等といったフッ素化合物が挙げられる。これらのフッ素化合物の屈折率は、それぞれ、１．４３、１．３８、１．５９、１．３９、１．３４である。
【０１２１】上記方法以外に、光散乱層２７は、半径に分散を持った含フッ素系樹脂（屈折率１．３５）から成る微粒子２８を重量比で１５％の割合で、透明なアクリルポリマー（屈折率１．４７）に混練し、そのポリマーを基材の表面にスピンコート法によって適宜の膜厚で成膜し、その後、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行って、開口部１４ａに光散乱層２７を形成する。
【０１２２】混練する微粒子には、光散乱層２７を通過し、散乱された光が、入射した光の進行方向から５°〜２０°の角度範囲において、それぞれの角度における光の３刺激値、すなわちＸ値、Ｙ値、Ｚ値の分散が１０％以内となるように、半径に分散を持った微粒子を選ぶことができる。こうすれば、散乱された光は色付いておらず、液晶表示装置を観察する角度によって色相が変化することが無くなり、このため、液晶表示装置の色表現を損なうことが無くなる。
【０１２３】（第１３実施形態）図１９は、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を示している。ここに示す実施形態は、開口部１４ａに対応して基材１２ａ上に光散乱層２７を形成することに関して図１７に示した先の実施形態と同じである。
【０１２４】図１７に示した先の実施形態では、基材１２ａの表面に積層した樹脂層１２ｂの表面に凹凸を形成し、この凹凸によって反射膜１４の表面に凹凸を形成した。これに対し、図１８に示す本実施形態では、反射膜１４を形成すべき位置の基材１２ａの表面に複数の粒子を堆積させて粒子層３１を形成し、粒子の球形に応じてその表面が凹凸形状となる粒子層３１の凹凸によって反射膜１４の表面に凹凸を形成してある。
【０１２５】この実施形態において、開口部１４ａに形成する光散乱層２７の形成方法並びにその中に含まれる微粒子２８及びバインダー樹脂２９の材質は、図１７の実施形態の場合と同じとすることができる。
【０１２６】（その他の実施形態）以上、本発明を好ましいいくつかの実施形態を例示して説明したが、上記の各実施形態はあくまでも例示であり、上記の各実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。
【０１２７】例えば、上記の実施形態ではＴＦＤ素子をスイッチング素子とするアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示したが、ＴＦＤ素子以外のスイッチング素子、例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子等といった３端子型のスイッチング素子を用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に関しても本発明を適用できる。また、スイッチング素子を用いない構造の単純マトリクス方式の液晶表示装置に関しても本発明を適用できる。
【０１２８】また、図１及び図８に示す実施形態に関しては、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成とすることができる。この場合、液晶表示装置はモノクロ表示型の液晶表示装置となる。そして、この場合には、オーバーコート層１７と樹脂層１２ｂとが開口部1４ａにおいて互いに接することになるので、これらのオーバーコート層１７と樹脂層１２ｂとの間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１２９】また、図１及び図８に示す実施形態に関しては、オーバーコート層１７、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成とすることができる。この場合、液晶表示装置はモノクロ表示型の液晶表示装置となる。そして、この場合には、電極１８と樹脂層１２ｂとが開口部１４ａにおいて接することになるので、これらの電極１８と樹脂層１２ｂとの間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１３０】また、図１及び図８に示す実施形態においてオーバーコート層１７、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成を採用する場合には、オーバーコート層１７が無いことにより、開口部１４ａにおける配向膜１９の表面形状が樹脂層１２ｂの表面形状に対応して形成される。この場合には、液晶層１３と配向膜１９との間の屈折率の差が大きいときにも本発明の作用効果がより顕著に現れる。要するに、本発明は、前述したように、開口部１４ａにおいて第１層及び該第１層上に形成された第２層を有し、第１層が第２層との界面において表示特性に応じた表面形状を有し、さらに、第１層と第２層との間で屈折率が異なることで所期の効果を得ることができる。この場合、第１層及び第２層としては、それらの屈折率が相互に異なるように設定できるものであれば、それぞれを任意の材料を用いて構成できる。
【０１３１】また、図１５及び図１６に示す実施形態に関しては、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成とすることができる。この場合、液晶表示装置はモノクロ表示型の液晶表示装置となる。そして、この場合には、オーバーコート層１７と基板１２とが開口部１４ａにおいて接することになるので、これらのオーバーコート層１７と基板１２との間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１３２】また、図１５及び図１６に示す実施形態に関しては、オーバーコート層１７、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を設けない構成とすることができる。この場合には、液晶表示装置はモノクロ表示型の液晶表示装置となる。そして、この場合には、電極１８と基板１２とが開口部１４ａにおいて互いに接することになるので、電極１８と基板１２との間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１３３】また、図１５及び図１６に示す実施形態においてオーバーコート層１７、カラーフィルタ１６及び遮光膜１５を用いない構成を採用する場合には、オーバーコート層１７が無いことにより、開口部１４ａにおいて基板１２の表面形状に対応して配向膜１９の表面形状が形成されるので、液晶層１３と配向膜１９との間の屈折率の差が大きいときに、本発明の作用効果がより顕著に現れる。
【０１３４】要するに、本発明は、前述したように、開口部１４ａにおいて第１層及び該第１層上に形成された第２層を有し、第１層が第２層との界面において表示特性に応じた表面形状を有し、さらに、第１層と第２層との間で屈折率が異なることで所期の効果を得ることができる。この場合、第１層及び第２層としては、それらの屈折率が相互に異なるように設定できるものであれば、それぞれを任意の材料を用いて構成できる。
【０１３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、透過型表示における表示特性と、反射型表示における表示特性とを個別に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶表示装置の一実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図２】図１の液晶表示装置の第１基板における画素電極近傍の構成を示す斜視図である。
【図３】図１の液晶表示装置の反射膜の構成を示す平面図である。
【図４】図１の液晶表示装置の効果を説明するための図である。
【図５】図１の液晶表示装置の第１の製造方法を示す図である。
【図６】図５の製造方法の一工程において、第２基板上に形成されたフォトレジストに多数の孔が形成された様子を示す平面図である。
【図７】図１の液晶表示装置の第２の製造方法を示す図である。
【図８】本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図９】図８の液晶表示装置の効果を説明するための図である。
【図１０】図８の液晶表示装置の製造方法を示す図である。
【図１１】図１０の製造方法の一工程において、第２基板上に形成されたフォトレジストに多数の孔が形成された様子を例示する平面図である。
【図１２】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部を示す断面図である。
【図１３】本発明に係る液晶表示装置の第２基板の他の製造方法を示す図である。
【図１４】従来の半透過反射型液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１５】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図１６】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図１７】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【図１８】図１７に示す液晶表示装置に用いられる要素である微粒子の特性を示すグラフである。
【図１９】本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の要部の断面構造を示す断面図である。
【符号の説明】
１ 液晶パネル
２ バックライトユニット
１１ 第１基板
１２ 第２基板
１２ａ 基材
１２ｂ 樹脂層
１３ 液晶
１４ 反射膜
１４ａ 開口部
１５ 遮光膜
１６ カラーフィルタ
１７ オーバーコート層
１８ 対向電極
１９ 配向膜
２１ 導光板
２２ 拡散板
２３ 反射板
２４ 反射電極
２４ａ 開口部
２７ 光散乱層
２８ 微粒子
２９ バインダー樹脂
３１ 粒子層
３２，３４ フォトレジスト
３２ａ，３２ｂ 孔
３７ 有機膜
４１ 画素電極
４２ ＴＦＤ
４３ 走査線
４４ 配向膜
【特許請求の範囲】
【請求項１】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】 請求項１において、前記一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面は粗面であり、前記開口部に対応する領域の表面は平坦面であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】 請求項１において、前記一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面は第１の粗面であり、前記開口部に対応する領域の表面は、前記第１の粗面とは粗さが異なる第２の粗面であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】 請求項３において、前記第２の粗面の粗さは、前記第１の粗面の粗さよりも細かいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなり、前記一対の基板のうちの一の基板に、開口部を有する反射膜が形成された液晶表示装置の製造方法であって、前記一の基板のうち、前記反射膜に覆われる第１領域の表面形状と、前記開口部に対応する第２領域の表面形状とを異ならせる第１工程と、当該一の基板に前記反射膜を形成する第２工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】 請求項５において、前記第１工程においては、前記第１領域の表面を粗面とし、前記第２領域の表面を平坦面とすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】 請求項５において、前記第１工程においては、前記第１領域の表面と前記第２領域の表面とをそれぞれ異なる粗さの粗面とすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】 請求項７において、前記第１工程においては、前記第２領域の表面を前記第１領域の表面よりも細かい粗面とすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なり、さらに前記反射膜が形成された基板と該反射膜との間に形成された第１層と、前記反射膜の前記第１層と反対側に形成されていて前記開口部の所で前記第１層に対して界面を形成する第２層とを有し、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率とは互いに異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】 請求項９において、前記第１層の屈折率は前記第２層の屈折率よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】 請求項９又は請求項１０において、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率との差は０．２以上であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】 請求項９から請求項１１の少なくともいずれか１つにおいて、前記第１層は前記一方の基板上に形成された樹脂層であり、前記第２層は前記一方の基板上に形成されたカラーフィルタ層であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１３】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なり、さらに前記開口部には複数の微粒子が配置されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】 請求項１３において、前記複数の微粒子はバインダー樹脂の内部に含まれた状態で前記開口部に配置されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１５】 請求項１４において、前記微粒子の屈折率と前記バインダー樹脂の屈折率との間に差があることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】 請求項１において、前記一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面は粗面であり、前記開口部に対応する領域の表面は平坦面であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】 請求項１において、前記一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面は第１の粗面であり、前記開口部に対応する領域の表面は、前記第１の粗面とは粗さが異なる第２の粗面であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】 請求項３において、前記第２の粗面の粗さは、前記第１の粗面の粗さよりも細かいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなり、前記一対の基板のうちの一の基板に、開口部を有する反射膜が形成された液晶表示装置の製造方法であって、前記一の基板のうち、前記反射膜に覆われる第１領域の表面形状と、前記開口部に対応する第２領域の表面形状とを異ならせる第１工程と、当該一の基板に前記反射膜を形成する第２工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】 請求項５において、前記第１工程においては、前記第１領域の表面を粗面とし、前記第２領域の表面を平坦面とすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】 請求項５において、前記第１工程においては、前記第１領域の表面と前記第２領域の表面とをそれぞれ異なる粗さの粗面とすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】 請求項７において、前記第１工程においては、前記第２領域の表面を前記第１領域の表面よりも細かい粗面とすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なり、さらに前記反射膜が形成された基板と該反射膜との間に形成された第１層と、前記反射膜の前記第１層と反対側に形成されていて前記開口部の所で前記第１層に対して界面を形成する第２層とを有し、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率とは互いに異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】 請求項９において、前記第１層の屈折率は前記第２層の屈折率よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】 請求項９又は請求項１０において、前記第１層の屈折率と前記第２層の屈折率との差は０．２以上であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】 請求項９から請求項１１の少なくともいずれか１つにおいて、前記第１層は前記一方の基板上に形成された樹脂層であり、前記第２層は前記一方の基板上に形成されたカラーフィルタ層であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１３】 相互に対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一の基板には、開口部を有する反射膜が形成され、当該一の基板のうち、前記反射膜によって覆われる領域の表面形状と前記開口部に対応する領域の表面形状とが異なり、さらに前記開口部には複数の微粒子が配置されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】 請求項１３において、前記複数の微粒子はバインダー樹脂の内部に含まれた状態で前記開口部に配置されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１５】 請求項１４において、前記微粒子の屈折率と前記バインダー樹脂の屈折率との間に差があることを特徴とする液晶表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図６】
【図４】
【図５】
【図８】
【図７】
【図９】
【図１１】
【図１２】
【図１０】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２】
【図３】
【図６】
【図４】
【図５】
【図８】
【図７】
【図９】
【図１１】
【図１２】
【図１０】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【公開番号】特開２００２−９８９５５（Ｐ２００２−９８９５５Ａ）
【公開日】平成１４年４月５日（２００２．４．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００１−２１８７９３（Ｐ２００１−２１８７９３）
【出願日】平成１３年７月１８日（２００１．７．１８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１４年４月５日（２００２．４．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１３年７月１８日（２００１．７．１８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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