液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置
【課題】手間を要することなくかつ装置の大型化を招くこともなく、耐湿性を良好にすることができる液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】表示領域２０１及びシール領域２０２以外の領域２０３の配向膜２０７が除去され、更に封止領域２０３より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆うようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性部材２０８が形成されている。従って、手間を要することなくかつ装置の大型化を招くこともなく、耐湿性を良好にすることができる。
【解決手段】表示領域２０１及びシール領域２０２以外の領域２０３の配向膜２０７が除去され、更に封止領域２０３より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆うようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性部材２０８が形成されている。従って、手間を要することなくかつ装置の大型化を招くこともなく、耐湿性を良好にすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置の技術分野に属し、特に、基板上に形成された配向膜が外側に露出しないように構成した液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶装置では、例えば薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと称す。）をスイッチン素子として有する液晶装置の場合、ＴＦＴアレイ基板上にシール材がその縁に沿って設けられており、その内側には表示領域が設けられている。そして、ＴＦＴアレイ基板上にシール材を介して対向基板が対向配置され、ＴＦＴアレイ基板と対向基板との間隙に液晶が挟持されている。また、ＴＦＴアレイ基板上のシール材より外側の領域には、駆動回路や駆動回路接続端子等が設けられている。更に、ＴＦＴアレイ基板の表面及び対向基板の表面には、それぞれ液晶分子を保持するための、ラビング処理等の所定の配向処理が施されたポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる配向膜が設けられている。
【０００３】
ここで、ＴＦＴアレイ基板には、表示領域にＴＦＴや画素電極、各種配線が形成され、その外側の領域に駆動回路や駆動回路接続端子等が形成され、これらを覆うように絶縁膜が形成されたＴＦＴアレイ基板の全面にポリイミド薄膜を形成した後、ポリイミド薄膜の表面を配向処理することにより配向膜を形成する。その後、ＴＦＴアレイ基板と同じく配向膜が形成された対向基板とをシール材を介して対向配置し、液晶封入孔（予めシール材を形成していない部分）よりＴＦＴアレイ基板と対向基板との間隙に液晶を封入し、液晶封入口をシール材により塞いでいる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成の液晶装置では、ＴＦＴアレイ基板の表示領域ばかりでなくその外側の領域にも配向膜が形成されているため、この外側の領域の配向膜である例えば、ポリイミド薄膜が外気の水分を吸収し、この水分がポリイミド薄膜を浸透して表示領域まで達して性能を劣化させる、という問題点があった。即ち、従来の液晶装置は、耐湿性が悪い、という問題点があった。
【０００５】
そこで、例えばＴＦＴアレイ基板の表示領域より外側の領域の配向膜上に湿度を吸収しない部材を形成し、配向膜の表面をこのような部材で覆ってしまうことが考えられる。しかしながら、かかる構成の場合、ＴＦＴアレイ基板の表示領域より外側の領域は駆動回路や駆動回路接続端子等が形成され相当面積が広いものであるため、このような部材の形成に手間を要することになり、加えてこのような液晶装置を収容するための従来のフレームケースに該装置が収まらなくなり、従って装置の大型化を招くことにもなる。
【０００６】
本発明は上述した問題点に鑑みなされたものであり、手間を要することなくかつ装置の大型化を招くこともなく、耐湿性を良好にすることができる液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の液晶装置は、一方面上に配向膜を有する第１基板と、前記第１基板の一方面と対向するように配置された第２基板と、前記配向膜に重なる位置に配置され、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間隙に挟持された液晶と、前記シール材と重なる配向膜において、前記シール材により覆われていない配向膜の端面を覆うように形成された非吸湿性部材とを具備し、前記第１基板は前記第２基板から張り出して貼り合わされており、前記非吸湿性部材は、前記第１基板の張り出した領域上で前記配向膜の端面を覆うことを特徴とする。
【０００８】
本発明のこのような構成によれば、表示領域及びこの表示領域の周辺領域の配向膜が除去され、更にシール領域より外方へ露出する配向膜を覆うようにシール領域の外周に沿って非吸湿性部材が形成されているので、配向膜が外側に露出していない。従って、外側の湿気が配向膜を介して表示領域内に浸透するようなことはなくなり、耐湿性が良好になる、という効果を有する。また、非吸湿性部材については、シール領域の外周に沿って形成すればよいだけなので、手間を要することもない。更に、ＴＦＴアレイ基板の表示領域より外側の領域にある駆動回路や駆動回路接続端子等が形成された領域まで非吸湿部材を形成する必要もないので、装置の大型化を招くようなこともない。
【０００９】
また、本発明の液晶装置は、前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなることが好ましい。
【００１０】
このような構成によれば、非吸湿性部材としてウレタン系の部材を用いた場合、ウレタン系の部材がシリコン系の接着剤の硬化阻害を起こすのに対して、非吸湿性部材としてエポキシ系またはアクリル系の部材を用いればそのようなことはなくなる。
【００１１】
本発明の液晶装置は、少なくとも前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板が貼付されていることを特徴とする。このような場合、非吸湿性部材がシリコン系の接着剤の硬化阻害を起こすことを抑えることができる。例えば、非吸湿性部材としえウレタン系の部材を用いた場合、ウレタン系の部材がシリコン系の接着剤の硬化阻害を起こすのに対して、非吸湿性部材としてエポキシ系またはアクリル系の部材を用いればそのような問題を抑えることができる。
【００１２】
本発明の液晶装置は、前記第１基板には画素がマトリクス状に配置されてなり、前記第２基板には前記画素毎に対応するようにマイクロレンズが配置されてなることを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、入射光は、マイクロレンズを介して集光された光が液晶層に入るため、配線や遮光膜等画素周辺への光の侵入を抑え、画素に光を集光できるため、光の利用効率と高めることができる。
【００１４】
本発明の液晶装置は、前記マイクロレンズが配置された第２基板は接着剤により透明基板に貼り合わされてなり、前記非吸湿性部材は前記接着剤の露出する面を覆うように配置されてなることを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、マイクロレンズを有する基板と透明基板との間の接着剤の流出を防ぐとともに、接着剤の信頼性を向上させることができる。
【００１６】
本発明の液晶装置の製造方法は、表示領域を囲むシール領域を有する第１基板の一方面上に配向膜を形成する工程と、前記第１基板の一方面上の前記シール領域であり且つ前記配向膜と重なる位置に配置されたシール材を介在して、前記第１基板の一方面と第２基板とを貼り合わせる工程と、前記シール材と重なる配向膜において、前記シール材により覆われていない配向膜の端面を覆うように非吸湿性部材を形成する工程とを具備し、前記第１基板は前記第２基板から張り出して貼り合わされており、前記非吸湿性部材は、前記第１基板の張り出した領域上に形成されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明のこのような構成によれば、表示領域及びこの表示領域を囲むシール領域よりも外方に露出する配向膜を除去し、更にシール領域より外方へ露出する配向膜を少なくとも覆うようにシール領域の外周に沿って非吸湿性部材を形成することができるので、手間を要することもなく、更に装置の大型化を招来することもなく耐湿性の良好な液晶装置を製造できる、という効果を有する。このように第１基板と第２基板とを貼り合わせた後に、シール材よりも外方向に露出する配向膜２０７を除去するため、配向膜を除去するために使用する例えば、処理ガス等が第１基板と第２基板の間に侵入するのを防ぐことができる。
【００１８】
また、本発明の液晶装置の製造方法は、前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板を貼付する工程を更に有し、前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなることが好ましい。このよう構成によれば、シリコン系の接着剤が効果阻害を起こすといった不良をなくすことができる。
【００１９】
本発明の液晶装置の製造方法は、前記非吸湿性部材を形成する工程にあって、前記非吸湿性部材が硬化型の部材からなり、前記シール領域の外周に非吸湿性部材を形成した後、一部の前記非吸湿性部材を硬化し、その後残りの部分の非吸湿性部材を硬化することを特徴とする。このような構成によれば、非吸湿性部材の硬化時における収縮作用の集中を抑えることができる。すなわち、非吸湿性部材を一度に硬化させようとすると、その内側にある第１及び第２基板（表示領域の部分）を収縮させる力が大きくなり、この結果、第１基板と第２基板との間隙が狭くなったり広くなったりするする恐れがある。かかる問題に対して、本発明の構成によれば、シール領域の外周に非吸湿性部材を配置した後、このうち一部の非吸湿性部材を硬化し、その後残りの部分の非吸湿性部材を硬化するように分割して硬化しているので、第１及び第２基板（表示領域の部分）の収縮作用が表示領域中央に集中することがなくなり、第１基板と第２基板との間隙が狭くなったり広くなったりするのを防ぐことができる。
【００２０】
本発明の投射型表示装置は、上記液晶装置と、当該液晶装置により変調された光を投射する投射手段とを具備することを特徴とする。
【００２１】
かかる構成によれば、上述のように各液晶装置の耐湿性が良好となり、表示品質の劣化を防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２３】
（液晶装置の一実施形態の構成及び作用）
本発明による液晶装置の一実施形態の構成及び作用について、図１から図３を参照して説明する。図１は本実施形態に係る液晶装置の平面図であり、図２は図１に示した液晶装置におけるＨ−Ｈ'断面図であり、図３は図２に示したＩ矢示部を拡大した断面図である。
【００２４】
図１において、第１基板である光透過性のＴＦＴアレイ基板１０上には、表示領域２０１及びこの表示領域２０１を囲むようにシール領域２０２が設けられている。このＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２に沿ってシール材５２が設けられている。
【００２５】
表示領域２０１の周辺は、表示領域を囲むようにシール材５２が形成されたシール領域２０２と、があり、シール材５２の途切れ部分からなる液晶注入口２０３が設けられている。この液晶注入口２０３は例えばシール材５２の同一または異なる材料からなる封止部材２０４により塞がれている。
【００２６】
表示領域２０１には、データ線及び走査線（図示を省略）が縦横に交差するように配置されていると共に、これらの配線により囲まれる各領域にマトリクス状に複数形成された例えばＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイド）膜などの透明導電性薄膜からなる画素電極（図示を省略）と画素電極を制御するためのＴＦＴ３０（図２に参照）とが配置され、画像信号が供給されるデータ線が当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続され、走査信号が供給される走査線のゲート電極が当該ＴＦＴのゲートと交差している。そして、ＴＦＴ３０やこれらの電極等の上には絶縁膜（図示せず）を介して配向膜（後述する。）が形成されている。
【００２７】
シール領域２０２の外側の領域には、データ線駆動回路１０１及び駆動回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路１０４が、例えばこの一辺に隣接する２辺に沿って設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺には、表示領域２０４の両側に設けられた走査線駆動回路１０４間をつなぐための複数の配線１０５が設けられており、また、対向基板２０のコーナ部の少なくとも１箇所においては、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的導通をとるための導通材１０６が設けられている。
【００２８】
図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上には、図１に示したシール材５２とほぼ同じ輪郭を持つ透明基板である、光透過性の対向基板２０が対向配置され、これらＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間のシール材５２により囲まれた空間に液晶が封入され、液晶層５０が形成される。液晶層５０は、画素電極からの電界が印加されていない状態で配向膜により所定の配向状態を採る。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなる。シール材５２は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０をそれらの周辺で貼り合わせるための、例えば光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂からなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のスペーサが混入されている。
【００２９】
ここで、上記のＴＦＴアレイ基板１０は、例えば石英基板からなり、対向基板２０は、例えばガラス基板や石英基板からなる。また、対向基板２０には、その全面に渡って図示を省略した対向電極（共通電極）が設けられており、その下側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜（図示を省略）が設けられている。対向電極は例えば、ＩＴＯ膜などの透明導電性薄膜からなる。また配向膜は、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる。対向基板２０は、画素に対応したマイクロレンズアレイ、カラーフィルターを形成してもよい。
【００３０】
また、対向基板２０の表面（ＴＦＴアレイ基板１０と対向する面と反対面）にはシリコン系の接着剤を介して該対向基板２０とほぼ同形状の透明基板２０５が貼付され、ＴＦＴアレイ基板１０の表面（対向基板２０と対向する面と反対面）にはシリコン系或いは他の部材からなる接着剤を介して該ＴＦＴアレイ基板とほぼ同形状の透明基板２０６が貼付されていてもよい。これら透明基板２０５及び２０６は、対向基板２０の表面やＴＦＴアレイ基板１０の表面を傷等から保護すると共に、例えば当該液晶装置が液晶プロジェクタ等に用いられたときに表面に付着したごみ等を光路上の焦点からできる限りずらし、これらがはっきりと表示映像上に表示されるのを防止し、デフォーカスすることができる。
【００３１】
図３に示すように、表示領域２０１及びシール材５２が形成されたシール領域２０２には、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなり配向処理が施された配向膜２０７が設けられ、これら領域以外の領域、具体的はシール領域２０２より外側の領域２０９では、配向膜２０７が除去されている。
【００３２】
更に、図１乃至図３に示すように、シール領域２０２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆うようにシール領域２０２の外周に沿ってエポキシ系またはアクリル系の部材からなる非吸湿性部材２０８（図中右上がりの斜線で示している。）が形成されている。
【００３３】
このように本実施形態の液晶装置によれば、表示領域２０１及びシール領域２０２の外方の領域２０９の配向膜２０７が除去され、更にシール領域２０２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆うようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性部材２０８が形成されているので、配向膜２０７が外側に露出していない。従って、図４に示すように、外側の湿気２１１が配向膜２０７'を介して表示領域内に浸透するようなことはなくなる。よって、本実施形態の液晶装置は、耐湿性が非常に良好である。また、上述の実施形態では、対向基板側の配向膜の図示を省略して説明したが、対向基板側に配向膜が形成されている場合も同様にシール領域２０２より外方へ露出する配向膜の端面を覆うようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性部材２０８を形成することにより、外側の湿気２１１が配向膜を介して表示領域内に浸透することを防ぐことができる。
【００３４】
耐湿性の向上という観点から、図４に示すように、シール領域２０２より外側の駆動回路や駆動回路接続端子等が形成された領域の配向膜２０７'を覆うように、それらの領域の配向膜２０７'上に非吸湿性部材２０８'（図４の点線で示す）を形成しても良い。しかし、この場合は、非吸湿性部材２０８'を設ける領域が増え、しかも厚さが増すため、フレーム等が組み込めなくなり、装置の大型化を招くことになる。また、これらの領域の全てに非吸湿性部材２０８'を形成するのも非常に手間を要することになる。即ち、本実施形態の液晶装置では、非吸湿性部材の形成にそれほど手間を要することもなく、更に装置の大型化を招くようなこともない。
【００３５】
なお、上記実施の形態における液晶装置のＴＦＴアレイ基板１０上には更に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。また、データ線駆動回路１０１及び走査線駆動回路１０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に設ける代わりに、例えばＴＡＢ（テープオートメイテッドボンディング基板）上に実装された駆動用ＬＳＩに、ＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に設けられた異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。また、対向基板２０の投射光が入射する側及びＴＦＴアレイ基板１０の出射光が出射する側には各々、例えば、ＴＮ（ツイステッドネマティック）モード、ＳＴＮ（スーパーＴＮ）モード、Ｄ−ＳＴＮ（ダブル−ＳＴＮ）モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード／ノーマリーブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光手段などが所定の方向で配置される。
【００３６】
また、上記実施の形態における液晶装置は、例えばカラー液晶プロジェクタ（投射型表示装置）に適用されるため、３枚の液晶装置がＲＧＢ用のライトバルブとして各々用いられ、各パネルには各々ＲＧＢ色分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色の光が投射光として各々入射されることになる。従って、この実施の形態では、対向基板２０に、カラーフィルタは設けられていない。しかしながら、所定領域にＲＧＢのカラーフィルタをその保護膜と共に、対向基板２０上に形成してもよい。このようにすれば、液晶プロジェクタ以外の直視型や反射型のカラー液晶テレビなどのカラー液晶装置に各実施の形態における液晶装置を適用できる。
【００３７】
また、対向基板２０上に、何層もの屈折率の相違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、ＲＧＢ色を作り出すダイクロイックフィルタを形成してもよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によれば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。
【００３８】
（液晶装置の製造プロセス）
次に、以上のような構成を持つ液晶装置の製造プロセスの一例について、図５及び図６を参照して説明する。
【００３９】
図５の工程（１）に示すように、石英基板、ハードガラス等のＴＦＴアレイ基板１０を用意する。ここでは、このＴＦＴアレイ基板１０上に、各種の配線や素子等が既に形成されているものとして、後述する対向基板２０についても対向電極や配向膜が既に形成されているものとして説明する。
【００４０】
工程（２）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上の全面にポリイミド系の配向膜の塗布液を塗布した後、所定のプレティルト角を持つように且つ所定方向でラビング処理を施すこと等により、配向膜２０７を形成する。
【００４１】
次に、工程（３）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２にシール材５２を介在させ、相互の配向膜が対面するようにＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とを対向配置し、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とをシール材５２により貼り合わせる。
【００４２】
次に、工程（４）に示すように、真空吸引等により、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隙に、液晶注入口２０３（図１参照）を介して例えば複数種類のネマティック液晶を混合してなる液晶を吸引する。そして、液晶注入口２０３を封止部材２０４により塞いで（図１参照）、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に所定層厚の液晶層５０を形成する。その後、液晶注入の際に付着した表面上の液晶を洗浄により除去する。
【００４３】
次に、図６の工程（５）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２より外側の領域２０９にある配向膜２０７を、例えばＯ２プラズマ処理により除去する。このように工程（４）の後に配向膜２０７を除去するように構成することで、液晶注入口２０を介してＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隙に例えば処理ガスが進入し、その内の配向膜に悪影響を与えることを防止できる。
【００４４】
次に、工程（６）に示すように、シール領域２０２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆うようにＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿ってエポキシ系またはアクリル系の部材からなる非吸湿性部材２０８を形成する。
【００４５】
次に、工程（７）に示すように、対向基板２０の表面にシリコン系の接着剤を介して透明基板２０５を貼付すると共に、ＴＦＴアレイ基板１０の表面にシリコン系或いは他の部材からなる接着剤を介して透明基板２０６を貼付する。ここで、上述したように非吸湿性部材２０８がエポキシ系またはアクリル系の部材からなるので、シリコン系の接着剤が硬化阻害を起こすようなことはなく、透明基板を確実に基板上に貼付することが可能となる。
【００４６】
以上のように、本実施形態の製造方法によれば、手間を要することもなく、更に装置の大型化を招来することもなく耐湿性の良好な液晶装置を製造できる。
【００４７】
次に、図６の工程（６）に示した非吸湿性部材２０８を形成するために好適な実施形態を説明する。図７はその工程図である。
【００４８】
まず、図７の工程（Ａ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って硬化前の非吸湿性部材２０８ａを形成する。非吸湿性部材としては、例えばＵＶ硬化型（紫外線硬化型）の部材を用いる。
【００４９】
次に、工程（Ｂ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の上方に第１のマスク３０１を配置する。この第１のマスク３０１には、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０１ａが形成されている。そして、第１のマスク３０１の上方より紫外線（ＵＶ）を照射し、この透孔３０１ａを介してＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。
【００５０】
次に、工程（Ｃ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の上方に第２のマスク３０２を配置する。この第２のマスク３０２には、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する他の２辺に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０２ａが形成されている。そして、第２のマスク３０２の上方よりＵＶを照射し、この透孔３０２ａを介してＴＦＴアレイ基板１０の対向する他の２辺に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。
【００５１】
以上の工程を経て、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って硬化された非吸湿性部材２０８が形成される。
【００５２】
ここで、上述した非吸湿性部材２０８の硬化時に非吸湿性部材２０８が収縮し、その内側にあるＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を収縮させようとする。その場合、例えばＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを一度にまとめて硬化した場合には、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のほぼ中心に向けて収縮させようとするので、結果的にＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隙が狭くなったり広くなったりする。これに対して、図７に示したように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを一度にまとめて硬化するのではなく、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化し、その後に残りの２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化するように構成すれば、上記のようなＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の収縮作用が表示領域中央に集中することがなくなり、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隙が狭くなったり広くなったりするようなことはなくなる。
【００５３】
なお、図７に示した実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化し、その後に残りの２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化するようにして非吸湿性部材２０８を形成したが、例えば図８に示すように非吸湿性部材２０８を形成しても構わない。
【００５４】
即ち、まず図８の工程（Ａ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って硬化前の非吸湿性部材２０８ａを形成する。非吸湿性部材としては、例えばＵＶ硬化型（紫外線硬化型）の部材を用いる。
【００５５】
次に、工程（Ｂ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の上方に第１のマスク３０３を配置する。この第１のマスク３０３には、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、４つのコーナ部及びその近傍に形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０３ａが形成されている。そして、第１のマスク３０３の上方よりＵＶを照射し、この透孔３０３ａを介して４つのコーナ部及びその近傍に形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。
【００５６】
次に、工程（Ｃ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の上方に第２のマスク３０４を配置する。この第２のマスク３０４には、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、上述した４つのコーナ部及びその近傍以外の位置に形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０４ａが形成されている。そして、第２のマスク３０４の上方よりＵＶを照射し、この透孔３０４ａを介して４つのコーナ部及びその近傍以外の位置に形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。
【００５７】
更に、本発明の他の実施形態として、対向基板２０上に１画素1個対応するようにマイクロレンズを形成してもよい。このような構成について、図１０を用いて説明する。他の実施形態では、上述の一の実施形態と同様な構成を有し、その説明は省略し、異なる点のみ説明する。
【００５８】
図１０は、ＴＦＴアレイ基板と対向基板とがシール材５２により貼り合わされてなる液晶装置のシール領域周辺の断面図である。図１０に示されるように、ＴＦＴアレイ基板１０上にはＴＦＴ３０とＴＦＴ３０に接続された画素電極９と、その上に配向膜２０７が配置されている。一方、対向基板側は、画素毎にマイクロレンズ３３が形成されたマイクロレンズ基板３１が配置されている。マイクロレンズ基板３１上は接着剤である透明樹脂剤４８によりカバーガラス３２等の透明基板と貼り合わされており、カバーガラス３２上には、画素毎に設けられた遮光膜６、対向電極３３、配向膜２０７が順次積層して配置されている。このように、マイクロレンズ基板３１を用いることにより、入射光の集光効率を向上することで、明るい液晶装置が実現できる。そして、この場合、非吸湿性部材２０８を配向膜２０７だけでなく、マイクロレンズ基板３１とカバーガラス３２との間に配置された接着樹脂層４８を覆うようにすることにより、接着樹脂の流出を留めることができるとともに、接着樹脂層４８の信頼性を向上させることができる。
【００５９】
（電子機器）
上記の液晶装置を用いた電子機器の一例として、投射型表示装置の構成について、図９を参照して説明する。図９において、投射型表示装置１１００は、上述した液晶装置を３個用意し、夫々ＲＧＢ用の液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ及び９６２Ｂとして用いた投射型液晶装置の光学系の概略構成図を示す。本例の投射型表示装置の光学系には、前述した光源装置９２０と、均一照明光学系９２３が採用されている。そして、投射型表示装置は、この均一照明光学系９２３から出射される光束Ｗを赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に分離する色分離手段としての色分離光学系９２４と、各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂを変調する変調手段としての３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂと、変調された後の色光束を再合成する色合成手段としての色合成プリズム９１０と、合成された光束を投射面１００の表面に拡大投射する投射手段としての投射レンズユニット９０６を備えている。また、青色光束Ｂを対応するライトバルブ９２５Ｂに導く導光系９２７をも備えている。
【００６０】
均一照明光学系９２３は、２つのレンズ板９２１、９２２と反射ミラー９３１を備えており、反射ミラー９３１を挟んで２つのレンズ板９２１、９２２が直交する状態に配置されている。均一照明光学系９２３の２つのレンズ板９２１、９２２は、それぞれマトリクス状に配置された複数の矩形レンズを備えている。光源装置９２０から出射された光束は、第１のレンズ板９２１の矩形レンズによって複数の部分光束に分割される。そして、これらの部分光束は、第２のレンズ板９２２の矩形レンズによって３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂ付近で重畳される。従って、均一照明光学系９２３を用いることにより、光源装置９２０が出射光束の断面内で不均一な照度分布を有している場合でも、３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂを均一な照明光で照明することが可能となる。
【００６１】
各色分離光学系９２４は、青緑反射ダイクロイックミラー９４１と、緑反射ダイクロイックミラー９４２と、反射ミラー９４３から構成される。まず、青緑反射ダイクロイックミラー９４１において、光束Ｗに含まれている青色光束Ｂおよび緑色光束Ｇが直角に反射され、緑反射ダイクロイックミラー９４２の側に向かう。赤色光束Ｒはこのミラー９４１を通過して、後方の反射ミラー９４３で直角に反射されて、赤色光束Ｒの出射部９４４からプリズムユニット９１０の側に出射される。
【００６２】
次に、緑反射ダイクロイックミラー９４２において、青緑反射ダイクロイックミラー９４１において反射された青色、緑色光束Ｂ、Ｇのうち、緑色光束Ｇのみが直角に反射されて、緑色光束Ｇの出射部９４５から色合成光学系の側に出射される。緑反射ダイクロイックミラー９４２を通過した青色光束Ｂは、青色光束Ｂの出射部９４６から導光系９２７の側に出射される。本例では、均一照明光学素子の光束Ｗの出射部から、色分離光学系９２４における各色光束の出射部９４４、９４５、９４６までの距離がほぼ等しくなるように設定されている。
【００６３】
色分離光学系９２４の赤色、緑色光束Ｒ、Ｇの出射部９４４、９４５の出射側には、それぞれ集光レンズ９５１、９５２が配置されている。したがって、各出射部から出射した赤色、緑色光束Ｒ、Ｇは、これらの集光レンズ９５１、９５２に入射して平行化される。
【００６４】
このように平行化された赤色、緑色光束Ｒ、Ｇは、ライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇに入射して変調され、各色光に対応した画像情報が付加される。すなわち、これらの液晶装置は、不図示の駆動手段によって画像情報に応じてスイッチング制御されて、これにより、ここを通過する各色光の変調が行われる。一方、青色光束Ｂは、導光系９２７を介して対応するライトバルブ９２５Ｂに導かれ、ここにおいて、同様に画像情報に応じて変調が施される。尚、本例のライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂは、それぞれさらに入射側偏光手段９６０Ｒ、９６０Ｇ、９６０Ｂと、出射側偏光手段９６１Ｒ、９６１Ｇ、９６１Ｂと、これらの間に配置された液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ、９６２Ｂとからなる液晶ライトバルブである。
【００６５】
導光系９２７は、青色光束Ｂの出射部９４６の出射側に配置した集光レンズ９５４と、入射側反射ミラー９７１と、出射側反射ミラー９７２と、これらの反射ミラーの間に配置した中間レンズ９７３と、ライトバルブ９２５Ｂの手前側に配置した集光レンズ９５３とから構成されている。集光レンズ９４６から出射された青色光束Ｂは、導光系９２７を介して液晶装置９６２Ｂに導かれて変調される。各色光束の光路長、すなわち、光束Ｗの出射部から各液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ、９６２Ｂまでの距離は青色光束Ｂが最も長くなり、したがって、青色光束の光量損失が最も多くなる。しかし、導光系９２７を介在させることにより、光量損失を抑制することができる。
【００６６】
各ライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂを通って変調された各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂは、色合成プリズム９１０に入射され、ここで合成される。そして、この色合成プリズム９１０によって合成された光が投射レンズユニット９０６を介して所定の位置にある投射面１００の表面に拡大投射されるようになっている。
【００６７】
このような構成を有する液晶プロジェクタにおいて、各ライトバルブを本発明の構成を有することにより、耐湿性が良好となり、表示品質の劣化を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶装置のＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ'断面図である。
【図３】図２に示したＩ矢示部を拡大した断面図である。
【図４】本発明の効果を説明するための参考図である。
【図５】液晶装置の一実施形態の製造プロセスを、順を追って示す工程図（その１）である。
【図６】液晶装置の一実施形態の製造プロセスを、順を追って示す工程図（その２）である。
【図７】図６に示した工程（６）を更に詳しく説明するための工程図である。
【図８】図６に示した工程（６）の別の例を更に詳しく説明するための工程図である。
【図９】液晶装置を用いた電子機器の一例である投射型表示装置の構成図である。
【図１０】本発明の他の実施形態に係わる液晶装置のＴＦＴアレイ基板とマイクロレンズを有する対向基板とがシール材により貼り合わされたシール領域周辺の断面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１０…ＴＦＴアレイ基板
２０…対向基板
５０…液層層
５２…シール材
２０１…表示領域
２０２…シール領域
２０５…透明基板
２０７…配向膜
２０８…非吸湿性部材
２０９…配向膜が除去された領域
２１０…配向膜の端面
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置の技術分野に属し、特に、基板上に形成された配向膜が外側に露出しないように構成した液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶装置では、例えば薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと称す。）をスイッチン素子として有する液晶装置の場合、ＴＦＴアレイ基板上にシール材がその縁に沿って設けられており、その内側には表示領域が設けられている。そして、ＴＦＴアレイ基板上にシール材を介して対向基板が対向配置され、ＴＦＴアレイ基板と対向基板との間隙に液晶が挟持されている。また、ＴＦＴアレイ基板上のシール材より外側の領域には、駆動回路や駆動回路接続端子等が設けられている。更に、ＴＦＴアレイ基板の表面及び対向基板の表面には、それぞれ液晶分子を保持するための、ラビング処理等の所定の配向処理が施されたポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる配向膜が設けられている。
【０００３】
ここで、ＴＦＴアレイ基板には、表示領域にＴＦＴや画素電極、各種配線が形成され、その外側の領域に駆動回路や駆動回路接続端子等が形成され、これらを覆うように絶縁膜が形成されたＴＦＴアレイ基板の全面にポリイミド薄膜を形成した後、ポリイミド薄膜の表面を配向処理することにより配向膜を形成する。その後、ＴＦＴアレイ基板と同じく配向膜が形成された対向基板とをシール材を介して対向配置し、液晶封入孔（予めシール材を形成していない部分）よりＴＦＴアレイ基板と対向基板との間隙に液晶を封入し、液晶封入口をシール材により塞いでいる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成の液晶装置では、ＴＦＴアレイ基板の表示領域ばかりでなくその外側の領域にも配向膜が形成されているため、この外側の領域の配向膜である例えば、ポリイミド薄膜が外気の水分を吸収し、この水分がポリイミド薄膜を浸透して表示領域まで達して性能を劣化させる、という問題点があった。即ち、従来の液晶装置は、耐湿性が悪い、という問題点があった。
【０００５】
そこで、例えばＴＦＴアレイ基板の表示領域より外側の領域の配向膜上に湿度を吸収しない部材を形成し、配向膜の表面をこのような部材で覆ってしまうことが考えられる。しかしながら、かかる構成の場合、ＴＦＴアレイ基板の表示領域より外側の領域は駆動回路や駆動回路接続端子等が形成され相当面積が広いものであるため、このような部材の形成に手間を要することになり、加えてこのような液晶装置を収容するための従来のフレームケースに該装置が収まらなくなり、従って装置の大型化を招くことにもなる。
【０００６】
本発明は上述した問題点に鑑みなされたものであり、手間を要することなくかつ装置の大型化を招くこともなく、耐湿性を良好にすることができる液晶装置、液晶装置の製造方法及び投射型表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の液晶装置は、一方面上に配向膜を有する第１基板と、前記第１基板の一方面と対向するように配置された第２基板と、前記配向膜に重なる位置に配置され、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間隙に挟持された液晶と、前記シール材と重なる配向膜において、前記シール材により覆われていない配向膜の端面を覆うように形成された非吸湿性部材とを具備し、前記第１基板は前記第２基板から張り出して貼り合わされており、前記非吸湿性部材は、前記第１基板の張り出した領域上で前記配向膜の端面を覆うことを特徴とする。
【０００８】
本発明のこのような構成によれば、表示領域及びこの表示領域の周辺領域の配向膜が除去され、更にシール領域より外方へ露出する配向膜を覆うようにシール領域の外周に沿って非吸湿性部材が形成されているので、配向膜が外側に露出していない。従って、外側の湿気が配向膜を介して表示領域内に浸透するようなことはなくなり、耐湿性が良好になる、という効果を有する。また、非吸湿性部材については、シール領域の外周に沿って形成すればよいだけなので、手間を要することもない。更に、ＴＦＴアレイ基板の表示領域より外側の領域にある駆動回路や駆動回路接続端子等が形成された領域まで非吸湿部材を形成する必要もないので、装置の大型化を招くようなこともない。
【０００９】
また、本発明の液晶装置は、前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなることが好ましい。
【００１０】
このような構成によれば、非吸湿性部材としてウレタン系の部材を用いた場合、ウレタン系の部材がシリコン系の接着剤の硬化阻害を起こすのに対して、非吸湿性部材としてエポキシ系またはアクリル系の部材を用いればそのようなことはなくなる。
【００１１】
本発明の液晶装置は、少なくとも前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板が貼付されていることを特徴とする。このような場合、非吸湿性部材がシリコン系の接着剤の硬化阻害を起こすことを抑えることができる。例えば、非吸湿性部材としえウレタン系の部材を用いた場合、ウレタン系の部材がシリコン系の接着剤の硬化阻害を起こすのに対して、非吸湿性部材としてエポキシ系またはアクリル系の部材を用いればそのような問題を抑えることができる。
【００１２】
本発明の液晶装置は、前記第１基板には画素がマトリクス状に配置されてなり、前記第２基板には前記画素毎に対応するようにマイクロレンズが配置されてなることを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、入射光は、マイクロレンズを介して集光された光が液晶層に入るため、配線や遮光膜等画素周辺への光の侵入を抑え、画素に光を集光できるため、光の利用効率と高めることができる。
【００１４】
本発明の液晶装置は、前記マイクロレンズが配置された第２基板は接着剤により透明基板に貼り合わされてなり、前記非吸湿性部材は前記接着剤の露出する面を覆うように配置されてなることを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、マイクロレンズを有する基板と透明基板との間の接着剤の流出を防ぐとともに、接着剤の信頼性を向上させることができる。
【００１６】
本発明の液晶装置の製造方法は、表示領域を囲むシール領域を有する第１基板の一方面上に配向膜を形成する工程と、前記第１基板の一方面上の前記シール領域であり且つ前記配向膜と重なる位置に配置されたシール材を介在して、前記第１基板の一方面と第２基板とを貼り合わせる工程と、前記シール材と重なる配向膜において、前記シール材により覆われていない配向膜の端面を覆うように非吸湿性部材を形成する工程とを具備し、前記第１基板は前記第２基板から張り出して貼り合わされており、前記非吸湿性部材は、前記第１基板の張り出した領域上に形成されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明のこのような構成によれば、表示領域及びこの表示領域を囲むシール領域よりも外方に露出する配向膜を除去し、更にシール領域より外方へ露出する配向膜を少なくとも覆うようにシール領域の外周に沿って非吸湿性部材を形成することができるので、手間を要することもなく、更に装置の大型化を招来することもなく耐湿性の良好な液晶装置を製造できる、という効果を有する。このように第１基板と第２基板とを貼り合わせた後に、シール材よりも外方向に露出する配向膜２０７を除去するため、配向膜を除去するために使用する例えば、処理ガス等が第１基板と第２基板の間に侵入するのを防ぐことができる。
【００１８】
また、本発明の液晶装置の製造方法は、前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板を貼付する工程を更に有し、前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなることが好ましい。このよう構成によれば、シリコン系の接着剤が効果阻害を起こすといった不良をなくすことができる。
【００１９】
本発明の液晶装置の製造方法は、前記非吸湿性部材を形成する工程にあって、前記非吸湿性部材が硬化型の部材からなり、前記シール領域の外周に非吸湿性部材を形成した後、一部の前記非吸湿性部材を硬化し、その後残りの部分の非吸湿性部材を硬化することを特徴とする。このような構成によれば、非吸湿性部材の硬化時における収縮作用の集中を抑えることができる。すなわち、非吸湿性部材を一度に硬化させようとすると、その内側にある第１及び第２基板（表示領域の部分）を収縮させる力が大きくなり、この結果、第１基板と第２基板との間隙が狭くなったり広くなったりするする恐れがある。かかる問題に対して、本発明の構成によれば、シール領域の外周に非吸湿性部材を配置した後、このうち一部の非吸湿性部材を硬化し、その後残りの部分の非吸湿性部材を硬化するように分割して硬化しているので、第１及び第２基板（表示領域の部分）の収縮作用が表示領域中央に集中することがなくなり、第１基板と第２基板との間隙が狭くなったり広くなったりするのを防ぐことができる。
【００２０】
本発明の投射型表示装置は、上記液晶装置と、当該液晶装置により変調された光を投射する投射手段とを具備することを特徴とする。
【００２１】
かかる構成によれば、上述のように各液晶装置の耐湿性が良好となり、表示品質の劣化を防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２３】
（液晶装置の一実施形態の構成及び作用）
本発明による液晶装置の一実施形態の構成及び作用について、図１から図３を参照して説明する。図１は本実施形態に係る液晶装置の平面図であり、図２は図１に示した液晶装置におけるＨ−Ｈ'断面図であり、図３は図２に示したＩ矢示部を拡大した断面図である。
【００２４】
図１において、第１基板である光透過性のＴＦＴアレイ基板１０上には、表示領域２０１及びこの表示領域２０１を囲むようにシール領域２０２が設けられている。このＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２に沿ってシール材５２が設けられている。
【００２５】
表示領域２０１の周辺は、表示領域を囲むようにシール材５２が形成されたシール領域２０２と、があり、シール材５２の途切れ部分からなる液晶注入口２０３が設けられている。この液晶注入口２０３は例えばシール材５２の同一または異なる材料からなる封止部材２０４により塞がれている。
【００２６】
表示領域２０１には、データ線及び走査線（図示を省略）が縦横に交差するように配置されていると共に、これらの配線により囲まれる各領域にマトリクス状に複数形成された例えばＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイド）膜などの透明導電性薄膜からなる画素電極（図示を省略）と画素電極を制御するためのＴＦＴ３０（図２に参照）とが配置され、画像信号が供給されるデータ線が当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続され、走査信号が供給される走査線のゲート電極が当該ＴＦＴのゲートと交差している。そして、ＴＦＴ３０やこれらの電極等の上には絶縁膜（図示せず）を介して配向膜（後述する。）が形成されている。
【００２７】
シール領域２０２の外側の領域には、データ線駆動回路１０１及び駆動回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路１０４が、例えばこの一辺に隣接する２辺に沿って設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺には、表示領域２０４の両側に設けられた走査線駆動回路１０４間をつなぐための複数の配線１０５が設けられており、また、対向基板２０のコーナ部の少なくとも１箇所においては、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的導通をとるための導通材１０６が設けられている。
【００２８】
図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上には、図１に示したシール材５２とほぼ同じ輪郭を持つ透明基板である、光透過性の対向基板２０が対向配置され、これらＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間のシール材５２により囲まれた空間に液晶が封入され、液晶層５０が形成される。液晶層５０は、画素電極からの電界が印加されていない状態で配向膜により所定の配向状態を採る。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなる。シール材５２は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０をそれらの周辺で貼り合わせるための、例えば光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂からなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のスペーサが混入されている。
【００２９】
ここで、上記のＴＦＴアレイ基板１０は、例えば石英基板からなり、対向基板２０は、例えばガラス基板や石英基板からなる。また、対向基板２０には、その全面に渡って図示を省略した対向電極（共通電極）が設けられており、その下側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜（図示を省略）が設けられている。対向電極は例えば、ＩＴＯ膜などの透明導電性薄膜からなる。また配向膜は、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる。対向基板２０は、画素に対応したマイクロレンズアレイ、カラーフィルターを形成してもよい。
【００３０】
また、対向基板２０の表面（ＴＦＴアレイ基板１０と対向する面と反対面）にはシリコン系の接着剤を介して該対向基板２０とほぼ同形状の透明基板２０５が貼付され、ＴＦＴアレイ基板１０の表面（対向基板２０と対向する面と反対面）にはシリコン系或いは他の部材からなる接着剤を介して該ＴＦＴアレイ基板とほぼ同形状の透明基板２０６が貼付されていてもよい。これら透明基板２０５及び２０６は、対向基板２０の表面やＴＦＴアレイ基板１０の表面を傷等から保護すると共に、例えば当該液晶装置が液晶プロジェクタ等に用いられたときに表面に付着したごみ等を光路上の焦点からできる限りずらし、これらがはっきりと表示映像上に表示されるのを防止し、デフォーカスすることができる。
【００３１】
図３に示すように、表示領域２０１及びシール材５２が形成されたシール領域２０２には、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなり配向処理が施された配向膜２０７が設けられ、これら領域以外の領域、具体的はシール領域２０２より外側の領域２０９では、配向膜２０７が除去されている。
【００３２】
更に、図１乃至図３に示すように、シール領域２０２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆うようにシール領域２０２の外周に沿ってエポキシ系またはアクリル系の部材からなる非吸湿性部材２０８（図中右上がりの斜線で示している。）が形成されている。
【００３３】
このように本実施形態の液晶装置によれば、表示領域２０１及びシール領域２０２の外方の領域２０９の配向膜２０７が除去され、更にシール領域２０２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆うようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性部材２０８が形成されているので、配向膜２０７が外側に露出していない。従って、図４に示すように、外側の湿気２１１が配向膜２０７'を介して表示領域内に浸透するようなことはなくなる。よって、本実施形態の液晶装置は、耐湿性が非常に良好である。また、上述の実施形態では、対向基板側の配向膜の図示を省略して説明したが、対向基板側に配向膜が形成されている場合も同様にシール領域２０２より外方へ露出する配向膜の端面を覆うようにシール領域２０２の外周に沿って非吸湿性部材２０８を形成することにより、外側の湿気２１１が配向膜を介して表示領域内に浸透することを防ぐことができる。
【００３４】
耐湿性の向上という観点から、図４に示すように、シール領域２０２より外側の駆動回路や駆動回路接続端子等が形成された領域の配向膜２０７'を覆うように、それらの領域の配向膜２０７'上に非吸湿性部材２０８'（図４の点線で示す）を形成しても良い。しかし、この場合は、非吸湿性部材２０８'を設ける領域が増え、しかも厚さが増すため、フレーム等が組み込めなくなり、装置の大型化を招くことになる。また、これらの領域の全てに非吸湿性部材２０８'を形成するのも非常に手間を要することになる。即ち、本実施形態の液晶装置では、非吸湿性部材の形成にそれほど手間を要することもなく、更に装置の大型化を招くようなこともない。
【００３５】
なお、上記実施の形態における液晶装置のＴＦＴアレイ基板１０上には更に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。また、データ線駆動回路１０１及び走査線駆動回路１０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に設ける代わりに、例えばＴＡＢ（テープオートメイテッドボンディング基板）上に実装された駆動用ＬＳＩに、ＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に設けられた異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。また、対向基板２０の投射光が入射する側及びＴＦＴアレイ基板１０の出射光が出射する側には各々、例えば、ＴＮ（ツイステッドネマティック）モード、ＳＴＮ（スーパーＴＮ）モード、Ｄ−ＳＴＮ（ダブル−ＳＴＮ）モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード／ノーマリーブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光手段などが所定の方向で配置される。
【００３６】
また、上記実施の形態における液晶装置は、例えばカラー液晶プロジェクタ（投射型表示装置）に適用されるため、３枚の液晶装置がＲＧＢ用のライトバルブとして各々用いられ、各パネルには各々ＲＧＢ色分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色の光が投射光として各々入射されることになる。従って、この実施の形態では、対向基板２０に、カラーフィルタは設けられていない。しかしながら、所定領域にＲＧＢのカラーフィルタをその保護膜と共に、対向基板２０上に形成してもよい。このようにすれば、液晶プロジェクタ以外の直視型や反射型のカラー液晶テレビなどのカラー液晶装置に各実施の形態における液晶装置を適用できる。
【００３７】
また、対向基板２０上に、何層もの屈折率の相違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、ＲＧＢ色を作り出すダイクロイックフィルタを形成してもよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によれば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。
【００３８】
（液晶装置の製造プロセス）
次に、以上のような構成を持つ液晶装置の製造プロセスの一例について、図５及び図６を参照して説明する。
【００３９】
図５の工程（１）に示すように、石英基板、ハードガラス等のＴＦＴアレイ基板１０を用意する。ここでは、このＴＦＴアレイ基板１０上に、各種の配線や素子等が既に形成されているものとして、後述する対向基板２０についても対向電極や配向膜が既に形成されているものとして説明する。
【００４０】
工程（２）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上の全面にポリイミド系の配向膜の塗布液を塗布した後、所定のプレティルト角を持つように且つ所定方向でラビング処理を施すこと等により、配向膜２０７を形成する。
【００４１】
次に、工程（３）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２にシール材５２を介在させ、相互の配向膜が対面するようにＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とを対向配置し、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とをシール材５２により貼り合わせる。
【００４２】
次に、工程（４）に示すように、真空吸引等により、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隙に、液晶注入口２０３（図１参照）を介して例えば複数種類のネマティック液晶を混合してなる液晶を吸引する。そして、液晶注入口２０３を封止部材２０４により塞いで（図１参照）、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に所定層厚の液晶層５０を形成する。その後、液晶注入の際に付着した表面上の液晶を洗浄により除去する。
【００４３】
次に、図６の工程（５）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２より外側の領域２０９にある配向膜２０７を、例えばＯ２プラズマ処理により除去する。このように工程（４）の後に配向膜２０７を除去するように構成することで、液晶注入口２０を介してＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隙に例えば処理ガスが進入し、その内の配向膜に悪影響を与えることを防止できる。
【００４４】
次に、工程（６）に示すように、シール領域２０２より外方へ露出する配向膜２０７の端面２１０を覆うようにＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿ってエポキシ系またはアクリル系の部材からなる非吸湿性部材２０８を形成する。
【００４５】
次に、工程（７）に示すように、対向基板２０の表面にシリコン系の接着剤を介して透明基板２０５を貼付すると共に、ＴＦＴアレイ基板１０の表面にシリコン系或いは他の部材からなる接着剤を介して透明基板２０６を貼付する。ここで、上述したように非吸湿性部材２０８がエポキシ系またはアクリル系の部材からなるので、シリコン系の接着剤が硬化阻害を起こすようなことはなく、透明基板を確実に基板上に貼付することが可能となる。
【００４６】
以上のように、本実施形態の製造方法によれば、手間を要することもなく、更に装置の大型化を招来することもなく耐湿性の良好な液晶装置を製造できる。
【００４７】
次に、図６の工程（６）に示した非吸湿性部材２０８を形成するために好適な実施形態を説明する。図７はその工程図である。
【００４８】
まず、図７の工程（Ａ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って硬化前の非吸湿性部材２０８ａを形成する。非吸湿性部材としては、例えばＵＶ硬化型（紫外線硬化型）の部材を用いる。
【００４９】
次に、工程（Ｂ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の上方に第１のマスク３０１を配置する。この第１のマスク３０１には、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０１ａが形成されている。そして、第１のマスク３０１の上方より紫外線（ＵＶ）を照射し、この透孔３０１ａを介してＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。
【００５０】
次に、工程（Ｃ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の上方に第２のマスク３０２を配置する。この第２のマスク３０２には、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する他の２辺に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０２ａが形成されている。そして、第２のマスク３０２の上方よりＵＶを照射し、この透孔３０２ａを介してＴＦＴアレイ基板１０の対向する他の２辺に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。
【００５１】
以上の工程を経て、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って硬化された非吸湿性部材２０８が形成される。
【００５２】
ここで、上述した非吸湿性部材２０８の硬化時に非吸湿性部材２０８が収縮し、その内側にあるＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を収縮させようとする。その場合、例えばＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを一度にまとめて硬化した場合には、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のほぼ中心に向けて収縮させようとするので、結果的にＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隙が狭くなったり広くなったりする。これに対して、図７に示したように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを一度にまとめて硬化するのではなく、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化し、その後に残りの２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化するように構成すれば、上記のようなＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の収縮作用が表示領域中央に集中することがなくなり、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隙が狭くなったり広くなったりするようなことはなくなる。
【００５３】
なお、図７に示した実施形態では、ＴＦＴアレイ基板１０の対向する２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化し、その後に残りの２辺に沿って形成された非吸湿性部材２０８ａを硬化するようにして非吸湿性部材２０８を形成したが、例えば図８に示すように非吸湿性部材２０８を形成しても構わない。
【００５４】
即ち、まず図８の工程（Ａ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って硬化前の非吸湿性部材２０８ａを形成する。非吸湿性部材としては、例えばＵＶ硬化型（紫外線硬化型）の部材を用いる。
【００５５】
次に、工程（Ｂ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の上方に第１のマスク３０３を配置する。この第１のマスク３０３には、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、４つのコーナ部及びその近傍に形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０３ａが形成されている。そして、第１のマスク３０３の上方よりＵＶを照射し、この透孔３０３ａを介して４つのコーナ部及びその近傍に形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。
【００５６】
次に、工程（Ｃ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の上方に第２のマスク３０４を配置する。この第２のマスク３０４には、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域２０２の外周に沿って形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａのうち、上述した４つのコーナ部及びその近傍以外の位置に形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化するために、該位置に透孔３０４ａが形成されている。そして、第２のマスク３０４の上方よりＵＶを照射し、この透孔３０４ａを介して４つのコーナ部及びその近傍以外の位置に形成された硬化前の非吸湿性部材２０８ａを硬化する。
【００５７】
更に、本発明の他の実施形態として、対向基板２０上に１画素1個対応するようにマイクロレンズを形成してもよい。このような構成について、図１０を用いて説明する。他の実施形態では、上述の一の実施形態と同様な構成を有し、その説明は省略し、異なる点のみ説明する。
【００５８】
図１０は、ＴＦＴアレイ基板と対向基板とがシール材５２により貼り合わされてなる液晶装置のシール領域周辺の断面図である。図１０に示されるように、ＴＦＴアレイ基板１０上にはＴＦＴ３０とＴＦＴ３０に接続された画素電極９と、その上に配向膜２０７が配置されている。一方、対向基板側は、画素毎にマイクロレンズ３３が形成されたマイクロレンズ基板３１が配置されている。マイクロレンズ基板３１上は接着剤である透明樹脂剤４８によりカバーガラス３２等の透明基板と貼り合わされており、カバーガラス３２上には、画素毎に設けられた遮光膜６、対向電極３３、配向膜２０７が順次積層して配置されている。このように、マイクロレンズ基板３１を用いることにより、入射光の集光効率を向上することで、明るい液晶装置が実現できる。そして、この場合、非吸湿性部材２０８を配向膜２０７だけでなく、マイクロレンズ基板３１とカバーガラス３２との間に配置された接着樹脂層４８を覆うようにすることにより、接着樹脂の流出を留めることができるとともに、接着樹脂層４８の信頼性を向上させることができる。
【００５９】
（電子機器）
上記の液晶装置を用いた電子機器の一例として、投射型表示装置の構成について、図９を参照して説明する。図９において、投射型表示装置１１００は、上述した液晶装置を３個用意し、夫々ＲＧＢ用の液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ及び９６２Ｂとして用いた投射型液晶装置の光学系の概略構成図を示す。本例の投射型表示装置の光学系には、前述した光源装置９２０と、均一照明光学系９２３が採用されている。そして、投射型表示装置は、この均一照明光学系９２３から出射される光束Ｗを赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に分離する色分離手段としての色分離光学系９２４と、各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂを変調する変調手段としての３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂと、変調された後の色光束を再合成する色合成手段としての色合成プリズム９１０と、合成された光束を投射面１００の表面に拡大投射する投射手段としての投射レンズユニット９０６を備えている。また、青色光束Ｂを対応するライトバルブ９２５Ｂに導く導光系９２７をも備えている。
【００６０】
均一照明光学系９２３は、２つのレンズ板９２１、９２２と反射ミラー９３１を備えており、反射ミラー９３１を挟んで２つのレンズ板９２１、９２２が直交する状態に配置されている。均一照明光学系９２３の２つのレンズ板９２１、９２２は、それぞれマトリクス状に配置された複数の矩形レンズを備えている。光源装置９２０から出射された光束は、第１のレンズ板９２１の矩形レンズによって複数の部分光束に分割される。そして、これらの部分光束は、第２のレンズ板９２２の矩形レンズによって３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂ付近で重畳される。従って、均一照明光学系９２３を用いることにより、光源装置９２０が出射光束の断面内で不均一な照度分布を有している場合でも、３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂを均一な照明光で照明することが可能となる。
【００６１】
各色分離光学系９２４は、青緑反射ダイクロイックミラー９４１と、緑反射ダイクロイックミラー９４２と、反射ミラー９４３から構成される。まず、青緑反射ダイクロイックミラー９４１において、光束Ｗに含まれている青色光束Ｂおよび緑色光束Ｇが直角に反射され、緑反射ダイクロイックミラー９４２の側に向かう。赤色光束Ｒはこのミラー９４１を通過して、後方の反射ミラー９４３で直角に反射されて、赤色光束Ｒの出射部９４４からプリズムユニット９１０の側に出射される。
【００６２】
次に、緑反射ダイクロイックミラー９４２において、青緑反射ダイクロイックミラー９４１において反射された青色、緑色光束Ｂ、Ｇのうち、緑色光束Ｇのみが直角に反射されて、緑色光束Ｇの出射部９４５から色合成光学系の側に出射される。緑反射ダイクロイックミラー９４２を通過した青色光束Ｂは、青色光束Ｂの出射部９４６から導光系９２７の側に出射される。本例では、均一照明光学素子の光束Ｗの出射部から、色分離光学系９２４における各色光束の出射部９４４、９４５、９４６までの距離がほぼ等しくなるように設定されている。
【００６３】
色分離光学系９２４の赤色、緑色光束Ｒ、Ｇの出射部９４４、９４５の出射側には、それぞれ集光レンズ９５１、９５２が配置されている。したがって、各出射部から出射した赤色、緑色光束Ｒ、Ｇは、これらの集光レンズ９５１、９５２に入射して平行化される。
【００６４】
このように平行化された赤色、緑色光束Ｒ、Ｇは、ライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇに入射して変調され、各色光に対応した画像情報が付加される。すなわち、これらの液晶装置は、不図示の駆動手段によって画像情報に応じてスイッチング制御されて、これにより、ここを通過する各色光の変調が行われる。一方、青色光束Ｂは、導光系９２７を介して対応するライトバルブ９２５Ｂに導かれ、ここにおいて、同様に画像情報に応じて変調が施される。尚、本例のライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂは、それぞれさらに入射側偏光手段９６０Ｒ、９６０Ｇ、９６０Ｂと、出射側偏光手段９６１Ｒ、９６１Ｇ、９６１Ｂと、これらの間に配置された液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ、９６２Ｂとからなる液晶ライトバルブである。
【００６５】
導光系９２７は、青色光束Ｂの出射部９４６の出射側に配置した集光レンズ９５４と、入射側反射ミラー９７１と、出射側反射ミラー９７２と、これらの反射ミラーの間に配置した中間レンズ９７３と、ライトバルブ９２５Ｂの手前側に配置した集光レンズ９５３とから構成されている。集光レンズ９４６から出射された青色光束Ｂは、導光系９２７を介して液晶装置９６２Ｂに導かれて変調される。各色光束の光路長、すなわち、光束Ｗの出射部から各液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ、９６２Ｂまでの距離は青色光束Ｂが最も長くなり、したがって、青色光束の光量損失が最も多くなる。しかし、導光系９２７を介在させることにより、光量損失を抑制することができる。
【００６６】
各ライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂを通って変調された各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂは、色合成プリズム９１０に入射され、ここで合成される。そして、この色合成プリズム９１０によって合成された光が投射レンズユニット９０６を介して所定の位置にある投射面１００の表面に拡大投射されるようになっている。
【００６７】
このような構成を有する液晶プロジェクタにおいて、各ライトバルブを本発明の構成を有することにより、耐湿性が良好となり、表示品質の劣化を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶装置のＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ'断面図である。
【図３】図２に示したＩ矢示部を拡大した断面図である。
【図４】本発明の効果を説明するための参考図である。
【図５】液晶装置の一実施形態の製造プロセスを、順を追って示す工程図（その１）である。
【図６】液晶装置の一実施形態の製造プロセスを、順を追って示す工程図（その２）である。
【図７】図６に示した工程（６）を更に詳しく説明するための工程図である。
【図８】図６に示した工程（６）の別の例を更に詳しく説明するための工程図である。
【図９】液晶装置を用いた電子機器の一例である投射型表示装置の構成図である。
【図１０】本発明の他の実施形態に係わる液晶装置のＴＦＴアレイ基板とマイクロレンズを有する対向基板とがシール材により貼り合わされたシール領域周辺の断面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１０…ＴＦＴアレイ基板
２０…対向基板
５０…液層層
５２…シール材
２０１…表示領域
２０２…シール領域
２０５…透明基板
２０７…配向膜
２０８…非吸湿性部材
２０９…配向膜が除去された領域
２１０…配向膜の端面
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方面上に配向膜を有する第１基板と、
前記第１基板の一方面と対向するように配置された第２基板と、
前記配向膜に重なる位置に配置され、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第１基板と前記第２基板との間隙に挟持された液晶と、
前記シール材と重なる配向膜において、前記シール材により覆われていない配向膜の端面を覆うように形成された非吸湿性部材とを具備し、
前記第１基板は前記第２基板から張り出して貼り合わされており、
前記非吸湿性部材は、前記第１基板の張り出した領域上で前記配向膜の端面を覆うことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
少なくとも前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板が貼付されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記第１基板には画素がマトリクス状に配置されてなり、前記第２基板には前記画素毎に対応するようにマイクロレンズが配置されてなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記マイクロレンズが配置された第２基板は接着剤により透明基板に貼り合わされてなり、前記非吸湿性部材は前記接着剤の露出する面を覆うように配置されてなることを特徴とする請求項４に記載の液晶装置。
【請求項６】
表示領域を囲むシール領域を有する第１基板の一方面上に配向膜を形成する工程と、
前記第１基板の一方面上の前記シール領域であり且つ前記配向膜と重なる位置に配置されたシール材を介在して、前記第１基板の一方面と第２基板とを貼り合わせる工程と、
前記シール材と重なる配向膜において、前記シール材により覆われていない配向膜の端面を覆うように非吸湿性部材を形成する工程とを具備し、
前記第１基板は前記第２基板から張り出して貼り合わされており、
前記非吸湿性部材は、前記第１基板の張り出した領域上に形成されていることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項７】
前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板を貼付する工程を更に有し、
前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなることを特徴とする請求項６に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項８】
前記非吸湿性部材を形成する工程にあって、
前記非吸湿性部材が硬化型の部材からなり、
前記シール領域の外周に非吸湿性部材を形成した後、一部の前記非吸湿性部材を硬化し、その後残りの部分の非吸湿性部材を硬化することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項５のうちいずれか一項に記載の液晶装置と、当該液晶装置により変調された光を投射する投射手段とを具備することを特徴とする投射型表示装置。
【請求項１】
一方面上に配向膜を有する第１基板と、
前記第１基板の一方面と対向するように配置された第２基板と、
前記配向膜に重なる位置に配置され、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第１基板と前記第２基板との間隙に挟持された液晶と、
前記シール材と重なる配向膜において、前記シール材により覆われていない配向膜の端面を覆うように形成された非吸湿性部材とを具備し、
前記第１基板は前記第２基板から張り出して貼り合わされており、
前記非吸湿性部材は、前記第１基板の張り出した領域上で前記配向膜の端面を覆うことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
少なくとも前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板が貼付されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記第１基板には画素がマトリクス状に配置されてなり、前記第２基板には前記画素毎に対応するようにマイクロレンズが配置されてなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記マイクロレンズが配置された第２基板は接着剤により透明基板に貼り合わされてなり、前記非吸湿性部材は前記接着剤の露出する面を覆うように配置されてなることを特徴とする請求項４に記載の液晶装置。
【請求項６】
表示領域を囲むシール領域を有する第１基板の一方面上に配向膜を形成する工程と、
前記第１基板の一方面上の前記シール領域であり且つ前記配向膜と重なる位置に配置されたシール材を介在して、前記第１基板の一方面と第２基板とを貼り合わせる工程と、
前記シール材と重なる配向膜において、前記シール材により覆われていない配向膜の端面を覆うように非吸湿性部材を形成する工程とを具備し、
前記第１基板は前記第２基板から張り出して貼り合わされており、
前記非吸湿性部材は、前記第１基板の張り出した領域上に形成されていることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項７】
前記第２基板の前記第１基板と対向する面の反対面にシリコン系の接着剤を介して透明基板を貼付する工程を更に有し、
前記非吸湿性部材がエポキシ系またはアクリル系の部材からなることを特徴とする請求項６に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項８】
前記非吸湿性部材を形成する工程にあって、
前記非吸湿性部材が硬化型の部材からなり、
前記シール領域の外周に非吸湿性部材を形成した後、一部の前記非吸湿性部材を硬化し、その後残りの部分の非吸湿性部材を硬化することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項５のうちいずれか一項に記載の液晶装置と、当該液晶装置により変調された光を投射する投射手段とを具備することを特徴とする投射型表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００６−７９１１９（Ｐ２００６−７９１１９Ａ）
【公開日】平成１８年３月２３日（２００６．３．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３０６７９９（Ｐ２００５−３０６７９９）
【出願日】平成１７年１０月２１日（２００５．１０．２１）
【分割の表示】特願平１１−９５０８３の分割
【原出願日】平成１１年４月１日（１９９９．４．１）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年３月２３日（２００６．３．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１０月２１日（２００５．１０．２１）
【分割の表示】特願平１１−９５０８３の分割
【原出願日】平成１１年４月１日（１９９９．４．１）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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