発光装置
【課題】発光層を塗布法によって形成するさいに不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が不要な構造であるとともに、大面積の有機ＥＬ素子においても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を提供する。
【解決手段】支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機ＥＬ素子とを備える発光装置であって、前記発光層は、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、前記一対の電極はそれぞれ、幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機ＥＬ素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置。
【解決手段】支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機ＥＬ素子とを備える発光装置であって、前記発光層は、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、前記一対の電極はそれぞれ、幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機ＥＬ素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は発光装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「エレクトロルミネッセンス」を「ＥＬ」と記載することがある。）は、電圧を印加することによって発光する発光素子の一種であり、一対の電極と、この一対の電極間に配置される発光層とを含んで構成される。有機ＥＬ素子に電圧を印加すると、陽極から正孔が注入されるとともに陰極から電子が注入される。これら正孔と電子とが発光層において結合することにより発光が生じる。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子を複数個直列に接続した発光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００４】
図７は複数（図７では３個）の有機ＥＬ素子１が直列接続された発光装置２を模式的に示す図である。図７（１）は発光装置２の平面図であり、図７（２）は発光装置２の断面図である。
【０００５】
図７に示す発光装置２は３個の有機ＥＬ素子１を備える。これら３個の有機ＥＬ素子１は、所定の配列方向Ｘに沿って支持基板３上に配置され、直列接続されている。各有機ＥＬ素子１は一対の電極４，５と、この電極間に設けられる発光層６を備える。以下では一対の電極４，５のうちの支持基板３寄りに配置される一方の電極を第１電極４と記載し、第１電極４よりも支持基板３から離間して配置される他方の電極を第２電極５と記載する。なお製造工程の簡易さや素子特性などを勘案して、第１および第２電極４，５間には発光層６のみならず、発光層とは異なる所定の層が設けられることもある。また第１電極４および第２電極５のうちの少なくとも１つの電極は、光透過性を示す導電性薄膜によって構成される。発光層６で発生した光を有機ＥＬ素子の外界に出射させる必要があるからである。このような導電性薄膜には通常、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）などの金属酸化物薄膜がもちいられている。
【０００６】
図７に示すように各有機ＥＬ素子１の第１電極４は、互いに配列方向Ｘに所定の間隔を開けて離散的に配置されるため、互いに電気的に接続されていない。同様に各有機ＥＬ素子１の第２電極５は、互いに配列方向Ｘに所定の間隔をあけて配置されるため、相互に電気的に接続されていない。
【０００７】
他方、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子１の第１電極４と、第２電極５とは互いに接して接続されており、電気的に接続されている。これによって複数の有機ＥＬ素子１は直列接続を構成する。具体的には第１電極４は、配列方向Ｘの一方（以下、「配列方向Ｘの一方」を「左方」といい、「配列方向Ｘの他方」を右方ということがある。）の端部（以下、左端部ということがある。）が、左方に隣り合う有機ＥＬ素子１の第２電極５の右方の端部（以下、右端部ということがある。）に重なる位置まで延在するように形成され、左方に隣り合う有機ＥＬ素子１の第１電極４と接して接続されており、電気的に接続されている。このように配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子１の第１電極４と第２電極５とが電気的に接続されることにより、複数の有機ＥＬ素子１が直列接続を構成する。
【０００８】
つぎに図８を参照して照明装置の製造方法を説明する。
まず支持基板３上に第１電極４を形成する。具体的には支持基板３上に、配列方向Ｘに所定の間隔をあけて離散的に３つの第１電極４を形成する（図８（１）参照）
【０００９】
つぎに発光層６となる材料を含むインキを、所定の塗布法によって支持基板３上に塗布する。一般に塗布法は意図する部位にのみ選択的にインキをパターン塗布することがむずかしいため、第１電極４間などの不要な部位にもインキが塗布される（図８（２）参照）。そのためインキを塗布した後に、不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が必要となる（図８（３）参照）。インキの除去は、たとえばインキが可溶な溶剤を含ませた布や綿棒などを使ってインキを拭き取る方法や、レーザーアブレーション法などによっておこなうことができる。その後、第２電極５をパターン形成する（図８（４）参照）。これによって、直列接続された３個の有機ＥＬ素子１を備える発光装置２を作製することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−２５７８５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述の従来の技術では、不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が必要となるため、工程数が増加するという問題がある。さらに不要な部位に塗布されたインキを除去するさいに、発光層に異物が混入するおそれもある。
【００１２】
また光透過性を示す電極として用いられるＩＴＯ薄膜やＩＺＯ薄膜などは、導電性が必ずしも十分とはいえない。とくに大面積の有機ＥＬ素子を駆動する場合には電圧降下に起因する発光ムラが顕著になり、また発熱量が大きくなるという問題がある。
【００１３】
したがって本発明の目的は、発光層を塗布法によって形成するさいに不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が不要な構造であるとともに、大面積の有機ＥＬ素子においても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であって、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置に関する。
【００１５】
また本発明は、前記網目状透光性電極の導電体が、導電性フィラーと樹脂との混合物、または導電性材料のみからなる発光装置に関する。
【００１６】
また本発明は、前記網目状透光性電極のシート抵抗が５Ω／ｓｑ以下である発光装置に関する。
【００１７】
また本発明は、前記網目状透光性電極の光透過率が５０％以上である発光装置に関する。
【００１８】
また本発明は、前記延在部は、前記厚み方向一方から見て、前記幅方向の一方に発光層から突出するように延在する第１延在部と、前記幅方向の他方に発光層から突出するように延在する第２延在部とを含む発光装置に関する。
【００１９】
また本発明は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であり、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、
前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含むことを特徴とする発光装置の製造方法に関する。
【００２０】
また本発明は、前記インキを塗布する方法が、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法または印刷法である発光装置の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、発光層を塗布法によって形成するさいに不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が不要な構造であるとともに、大面積の有機ＥＬ素子においても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態の発光装置１１を示す平面図である。
【図２】発光装置１１の製造工程を説明するための図である。
【図３】発光装置１１の製造工程を説明するための図である。
【図４】第２実施形態の発光装置３１を模式的に示す図である。
【図５】第３実施形態の発光装置４１を模式的に示す図である。
【図６】第４実施形態の発光装置６１を示す図である。
【図７】複数の有機ＥＬ素子１が直列接続された発光装置２を模式的に示す図である。
【図８】発光装置２の製造工程を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
１）発光装置の構成
以下、図面を参照して発光装置の構成についてまず説明する。本実施形態の発光装置はたとえば照明装置、液晶表示装置およびスキャナなどの光源に用いられる。図１は本発明の第１実施形態の発光装置１１を模式的に示す平面図である。発光装置１１は、支持基板１２と、この支持基板１２上に設けられ、直列接続される複数の有機ＥＬ素子１３とを備える。
【００２４】
所定の配列方向Ｘは支持基板１２の厚み方向Ｚに垂直な方向に設定される。すなわち配列方向Ｘは支持基板１２の主面に平行に設定される。本実施形態では図１に示すように複数の有機ＥＬ素子１３は所定の直線に沿って配列しているが、所定の曲線に沿って配列されていてもよい。なお所定の曲線に沿って複数の有機ＥＬ素子１３が配列されている場合、配列方向Ｘは前記所定の曲線の接線方向に相当する。
【００２５】
支持基板１２上に設けられる有機ＥＬ素子１３の個数は設計に応じて適宜設定される。以下第１実施形態では３個の有機ＥＬ素子１３が設けられた発光装置１１について説明する。
【００２６】
各有機ＥＬ素子１３はそれぞれ一対の電極１４,１５と、この電極１４,１５間に設けられる発光層１６を備える。一対の電極１４，１５のうちのいずれか一方の電極が有機ＥＬ素子１３の陽極として機能し、いずれか他方の電極が有機ＥＬ素子１３の陰極として機能する。以下一対の電極１４，１５のうちで支持基板１２寄りに配置される電極を第１電極１４と記載し、支持基板１２から離間して配置される他方の電極を第２電極１５と記載する。
【００２７】
第１および第２電極１４，１５間には少なくとも１層の発光層１６が設けられる。なお第１および第２電極１４，１５間には、１層の発光層１６に限らず、複数の発光層や発光層とは異なる層が必要に応じて設けられることがある。
【００２８】
発光層１６は複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って延在している。本実施形態では直列接続される複数の有機ＥＬ素子１３において、配列方向Ｘの一端（図１では左端）に設けられる有機ＥＬ素子１３の発光層１６から、配列方向Ｘの他端（図１では右端）に設けられる有機ＥＬ素子１３の発光層１６まで、配列方向Ｘに沿って延在する発光層が連続して一体的に形成されている。発光層とは異なる所定の層が第１および第２電極１４，１５間に設けられる場合、この所定の層は、複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って延在していてもよく、また有機ＥＬ素子１３ごとに離間するように形成されていてもよい。
【００２９】
さらに発光層１６とは異なる所定の層が塗布法によって形成される場合には、この発光層１６とは異なる所定の層は、発光層１６と同様に、複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って延在していることが好ましい。後述するように、不要な部位に形成された層を除去する工程が省略できるためである。
【００３０】
第１および第２電極１４，１５（一対の電極）はそれぞれ延在部１７，１８を有する。この延在部１７，１８は、支持基板１２の厚み方向Ｚ一方から見て（以下、「平面視で」ということがある。）、前記支持基板の厚み方向Ｚおよび前記配列方向Ｘに垂直な幅方向Ｙに、発光層１６から突出するように延在する。第１電極１４の延在部１７は第１電極１４に一体的に形成されている。また第２電極１５の延在部１８は第２電極１５に一体的に形成されている。各有機ＥＬ素子１３を構成する第１電極１４と第２電極１５（一対の電極）とは、有機ＥＬ素子１３ごとには互いに接触するようには構成されておらず、平面視で第１電極１４の延在部１７と第２電極１５の延在部１８とは重ならないように配置されている。本実施形態では第１電極１４の延在部１７は、第１電極１４において、第２電極１５と対向する部分の左方の端部（以下、左端部ということがある）から幅方向Ｙに延在する。第２電極１５の延在部１８は、第２電極１５において、第１電極１４との対向部の右方の端部（以下、右端部ということがある）から幅方向Ｙに延在している。そのため第１電極１４の延在部１７と第２電極１５の延在部１８とは平面視で重ならず、電気的に絶縁されている。
【００３１】
第１および第２電極１４，１５（一対の電極）の一方の電極は接続部を有する。この接続部は、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の他方の電極にまで延在部から配列方向Ｘに延在し、該他方の電極に接続される。なお接続部は、第１および第２電極１４，１５（一対の電極のうち）の一方の電極のみに限らず、第１および第２電極１４，１５（一対の電極のうち）の他方の電極も有していてもよい。すなわち第１および第２電極１４，１５（一対の電極のうち）の他方の電極も、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の一方の電極にまで延在部から配列方向Ｘに延在し、該一方の電極に接続される接続部を有していてもよい。
【００３２】
本実施形態では第１および第２電極１４，１５（一対の電極）の一方の電極に相当する第１電極１４が接続部１９を有する。すなわち第１電極１４は、左方に配置される有機ＥＬ素子の第２電極１５（他方の電極）の延在部１８にまで、第１電極１４の延在部１７から左方に延在する接続部１９を備える。このように第１電極１４の接続部１９は、左方に配置される有機ＥＬ素子の第２電極１５（他方の電極）の延在部１８と平面視で重なり、この重なる部分で直接的に第２電極１５（他方の電極）と接続される。
【００３３】
平面視で発光層１６から幅方向Ｙに延在する延在部１８は、幅方向Ｙの一方または他方に設けられるが、幅方向Ｙの両方に設けられることが好ましい。すなわち延在部１７，１８は、平面視で、前記幅方向の一方に発光層から突出するように延在する第１延在部１７ａ，１８ａと、幅方向Ｙの他方に発光層１６から突出するように延在する第２延在部１７ｂ，１８ｂとを含むことが好ましい。平面視で発光層１６から幅方向Ｙの両方に延在する延在部１７，１８を備えることにより、隣り合う有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と第２電極１５とが幅方向Ｙの両方の端部で接続されることになる。
【００３４】
さらに直列接続を構成する複数の有機ＥＬ素子１３のうちで、最も左方に配置される有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と、最も右方に配置される有機ＥＬ素子１３の第２電極とは、電力供給部（不図示）に電気的につながる配線にそれぞれ接続される。これによって電力供給部から、直列接続を構成する複数の有機ＥＬ素子１３に電力が供給され、各有機ＥＬ素子が発光する。
【００３５】
各有機ＥＬ素子１３は接続部から給電される。本実施形態では平面視で発光層１６から幅方向Ｙの両方に延在する延在部１７，１８を備えることにより、各有機ＥＬ素子１３は幅方向Ｙの両方の端部から給電される。有機ＥＬ素子１３は、給電される部位から離間するほど、電圧降下のために輝度が低下する。本実施形態では延在部１７，１８から幅方向Ｙに離間するほど、すなわち幅方向Ｙの中央部ほど電圧低下のために輝度が低下するが、各有機ＥＬ素子１３は幅方向Ｙの両方の端部から給電されるため、幅方向Ｙの一方の端部から給電される素子構成に比べると電圧降下の影響を抑制することができ、ひいては輝度ムラを抑制することができる。
【００３６】
（網目状透光性電極）
有機ＥＬ素子には、ボトムエミッション型の構成のものと、トップエミッション型の構成のものと、両面発光型の構成のものとがある。ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子は支持基板を通して光を外界に出射し、トップエミッション型の有機ＥＬ素子は、支持基板とは反対側から光を外界に出射し、両面発光型の有機ＥＬ素子は、支持基板側および支持基板とは反対側の両方から光を外界に出射する。本発明はボトムエミッション型、トップエミッション型、および両面発光型の有機ＥＬ素子のいずれであっても適用することができる。
【００３７】
ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子では、第１電極１４を通して光が出射するため、第１電極１４が光透過性を示す電極によって構成され、逆に第２電極は通常光を反射する電極によって構成される。またトップエミッション型の有機ＥＬ素子では第２電極を通して光が出射するため、第２電極１５が光透過性を示す電極によって構成され、逆に第１電極１４は通常光を反射する電極によって構成される。また両面発光型の有機ＥＬ素子では、第１および第２電極１４，１５の両方の電極が、光透過性を示す電極によって構成される。
【００３８】
このように第１および第２電極１４，１５（一対の電極）のうちの少なくとも１つの電極は、光透過性を示す電極によって構成されるが、本実施形態では、この光透過性を示す電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極からなる。
【００３９】
網目状透光性電極は、網目状に配置される導電体を含む。この導電体は、支持基板１２の主面に平行な２次元平面において網目状構造を形成している。網目状構造としては、少なくとも前記２次元平面において導電体が連続してつらなり、電気的に導通している構造を有していればよく、たとえば格子構造やハニカム構造のような規則的な構造を有していてもよく、また規則的な構造を有していなくてもよい。
【００４０】
網目状透光性電極の導電体は、導電性フィラーと樹脂との混合物、または導電性材料のみからなることが好ましい。
【００４１】
上記導電性フィラーには、ＡｕやＡｇ、Ａｌ、カーボンなどからなる金属微粒子、またはＡｕやＡｇ、Ａｌ、カーボンなどからなる導電性ワイヤーなどを用いることができる。
【００４２】
また上記導電性フィラーが混合される樹脂には、エポキシやアクリル、ナイロン、ウレタン、フェノールなどの樹脂、さらには３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸などの導電性樹脂をもちいることができる。
【００４３】
また網目状透光性電極の導電体を構成する上記導電性材料には、ＡｕやＡｇ、Ａｌ、Ｃｕの単体またはこれらの金属を１種以上含む合金などをもちいることができる。
【００４４】
網目状透光性電極は、支持基板１２の主面に平行な２次元平面において網目状構造を形成する導電体からなる非透光部を有する。網目状透光性電極に入射する光は、非透光部を除く残余の領域（以下、透光部ということがある）を通って網目状透光性電極を透過する。このように網目状透光性電極は非透光部を有するが、人間の目に視認される程度に巨視的に見れば、全体として透光性を有する。
【００４５】
網目状透光性電極の一方の主面または両方の主面には、当該網目状透光性電極に接して
透過性導電層を積層してもよい。このように透過性導電層を積層することにより、透光部の導電性を高めることができ、さらには透光部と非透光部との段差を低減することができる。このような透過性導電層としては、ＩＴＯ、ＺＴＯなどの金属酸化物や、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの透明導電性樹脂をいることができる。また、透明導電性樹脂は、ＩＴＯ、ＺＴＯなどの金属酸化物と比較し屈折率が低いため、透光部に透明導電性樹脂を積層させた場合でも発光層から出射される光を発光装置の外部に効率的に取り出すことができる。透過性導電層は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、あるいはインキを用いた印刷法、インクジェット法などにより形成することができる。
【００４６】
網目状透光性電極のシート抵抗は有機ＥＬ素子の発光効率の向上、輝度ムラおよび発熱の低減の観点から、１０Ω／ｓｑ以下であることが好ましく、さらには５Ω／ｓｑ以下であることが好ましく、さらには１Ω／ｓｑ以下であることが好ましい。網目状透光性電極の膜厚は、網目状透光性電極の導電性や有機ＥＬ素子の作製のしやすさの観点から適宜選択され、５０ｎｍ〜１μｍが好ましく、さらには１００ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましい。網目状透光性電極の開口率、すなわち単位面積当たりの透光部の割合は、導電性や光取り出し効率などを勘案して適宜選択されるが、３０〜９５％が好ましく、さらに５０〜９０％がより好ましい。また網目状に配置される導電体の線幅は、導電性や光取り出し効率などを勘案して適宜選択されるが、５μｍ〜１ｍｍが好ましく、さらには１０μｍ〜２００μｍが好ましい。また網目状に配置される導電体に囲まれる各透光部の面積は、平均すると１００μｍ２〜４ｍｍ２が好ましく、さらには４００μｍ２〜１ｍｍ２が好ましい。また網目状透光性電極の光透過率は、３０％以上が好ましく、５０％以上が好ましく、７０％以上がさらに好ましい。なお本明細書における光透過率は、可視光透過率を意味する。
【００４７】
網目状透光性電極は、（１）まず上述の導電体からなる導電性薄膜を一面に形成して、さらにこの導電性薄膜を所定の方法によって網目状にパターニングすることによって形成してもよく、また（２）上述の導電体を網目状に直接パターン形成してもよい。
【００４８】
たとえば上記（１）の方法として、まず真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより導電体からなる導電性薄膜を一面に形成し、さらにフォトリソグラフィ法によって導電性薄膜をパターニングすることにより網目状透光性電極を形成することができる。また上記導電性フィラーと樹脂とを所定の分散媒に分散させた塗布液を所定の塗布法によって塗布成膜し、さらにこれをフォトリソグラフィ法によってパターニングすることによって網目状透光性電極を形成することができる。
【００４９】
またたとえば上記（２）の方法として、所定のパターンのマスクをもちいて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより上記導電体を網目状に形成することによって網目状透光性電極を形成することができる。またたとえば上記導電性フィラーと樹脂とを所定の分散媒に分散させた塗布液を、印刷法、インクジェット法などによって網目状に塗布液を塗布成膜することによって網目状透光性電極をパターン形成することができる。
【００５０】
さらには、支持基板１２とは異なる所定の基台上にあらかじめ作製した網目状透光性電極を、ラミネート法によって支持基板１２上に転写することにより、支持基板１２上に網目状透光性電極を形成してもよい。
【００５１】
２）発光装置の製造方法
本実施形態の発光装置の製造方法は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であり、各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含む。
【００５２】
以下、図２および図３を参照して発光装置を製造する方法を説明する。まず支持基板１２を用意する。本工程では有機ＥＬ素子１３を駆動する駆動回路（不図示）があらかじめ形成されている支持基板１２を用意してもよい。
【００５３】
つぎに支持基板１２上に第１電極１４をパターン形成する（図２参照）。第１電極が光透過性を示す電極である場合、支持基板１２上には第１電極１４として前述の導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極をパターン形成する。この網目状透光性電極の形成方法は上述のとおりである。
【００５４】
なお第１電極が非透光性の電極の場合、たとえばスパッタリング法または蒸着法によって、導電体膜を支持基板１２上に成膜し、つぎにフォトリソグラフィ法によって導電体膜を所定の形状にパターニングすることによって、第１電極１４をパターン形成することができる。なおフォトリソグラフィ工程をおこなうことなく、マスク蒸着法などによって所定の部位にのみ第１電極１４をパターン形成してもよい。また塗布法により導電性材料を含むインキを塗布し、塗布した塗膜を固化することにより第１電極１４を形成してもよい。またラミネート法により導電性薄膜を転写することにより第１電極１４を形成してもよい。
【００５５】
なお本工程では第１電極１４があらかじめ形成された支持基板１２を用意してもよい。
【００５６】
つぎに支持基板１２上に発光層１６を形成する（図３参照）。たとえば発光層１６となる材料を含むインキを、複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層１６を形成することができる。
【００５７】
インキを塗布する方法としては、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法、印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などをあげることができ、これらのなかでも大面積を効率的に塗布することが可能なキャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法および印刷法が好ましい。
【００５８】
つぎに支持基板１２上に第２電極１５を形成する。第２電極１５が光透過性を示す電極である場合、発光層１６上には第２電極１５として前述の導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極をパターン形成する。この網目状透光性電極の形成方法は上述のとおりである。
【００５９】
なお第２電極が非透光性の電極の場合、たとえばスパッタリング法または蒸着法によって、導電体膜を支持基板１２上に成膜し、つぎにフォトリソグラフィ法によって導電体膜を所定の形状にパターニングすることによって、第２電極をパターン形成することができる。なおフォトリソグラフィ工程をおこなうことなく、マスク蒸着法などによって所定の部位にのみ第２電極をパターン形成してもよい。また塗布法により導電性材料を含むインキを塗布し、塗布した塗膜を固化することにより第２電極を形成してもよい。またラミネート法により導電性薄膜を転写することにより第２電極を形成してもよい。
【００６０】
なお前述したように第１および第２電極１４，１５間には発光層１６とは異なる所定の層を設けることがある。発光層とは異なる所定の層を塗布法によって形成する場合には、発光層を形成する方法と同じ方法によって、発光層とは異なる所定の層を形成することが好ましい。すなわち発光層とは異なる所定の層となる材料を含むインキを、複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層とは異なる所定の層を形成することが好ましい。なお発光層とは異なる所定の層を蒸着法などの乾式法で形成する場合には、発光層とは異なる所定の層を第１電極１４上にのみ選択的に形成してもよい。
【００６１】
インキを塗布する方法としては、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法、印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などをあげることができ、これらのなかでも大面積を効率的に塗布することが可能なキャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法および印刷法が好ましい。
【００６２】
以下支持基板１２および有機ＥＬ素子１３の構成についてさらに詳細に説明する。
【００６３】
前述したように第１および第２電極１４，１５間には発光層１６のみならず、発光層１６とは異なる所定の層がさらに設けられることがある。陰極と発光層との間に設けられる層としては、電子輸送層、正孔ブロック層などを挙げることができる。
【００６４】
正孔ブロック層は正孔の輸送を堰き止める機能を有する。なお電子注入層及び／又は電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。
【００６５】
陽極と発光層との間に設けられる層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層などを挙げることができる。陽極と発光層との間に、正孔注入層と正孔輸送層との両方の層が設けられる場合、陽極に接する層を正孔注入層といい、この正孔注入層を除く層を正孔輸送層という。
【００６６】
正孔注入層は陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する。正孔輸送層は陽極側の表面に接する層からの正孔注入を改善する機能を有する。電子ブロック層は電子の輸送を堰き止める機能を有する。なお正孔注入層及び／又は正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。
【００６７】
なお電子注入層および正孔注入層を総称して電荷注入層ということがあり、電子輸送層および正孔輸送層を総称して電荷輸送層ということがある。
【００６８】
本実施形態の有機ＥＬ素子のとりうる層構成の一例を以下に示す。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｆ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｇ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｉ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
以下同じ。）
本実施形態の有機ＥＬ素子は２層以上の発光層を有していてもよい。上記ａ）〜ｉ）の層構成のうちのいずれか１つにおいて、陽極と陰極とに挟持された積層体を「構造単位Ａ」とすると、２層の発光層を有する有機ＥＬ素子の構成として、以下のｊ）に示す層構成をあげることができる。なお２つある（構造単位Ａ）の層構成は互いに同じでも、異なっていてもよい。
ｊ）陽極／（構造単位Ａ）／電荷発生層／（構造単位Ａ）／陰極
ここで電荷発生層とは、電界を印加することにより、正孔と電子を発生する層である。
電荷発生層としては、たとえば酸化バナジウム、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、酸化モリブデンなどから成る薄膜をあげることができる。
【００６９】
また「（構造単位Ａ）／電荷発生層」を「構造単位Ｂ」とすると、３層以上の発光層を有する有機ＥＬ素子の構成として、以下のｋ）に示す層構成をあげることができる。
ｋ）陽極／（構造単位Ｂ）ｘ／（構造単位Ａ）／陰極
なお記号「ｘ」は、２以上の整数を表し、（構造単位Ｂ）ｘは、構造単位Ｂがｘ段積層された積層体を表す。また複数ある（構造単位Ｂ）の層構成は同じでも、異なっていてもよい。
【００７０】
なお電荷発生層を設けずに、複数の発光層を直接積層させた有機ＥＬ素子を構成してもよい。
【００７１】
＜支持基板＞
支持基板は有機ＥＬ素子を製造する工程において化学的に変化しないものが好適に用いられ、たとえばガラス、プラスチック、高分子フィルム、およびシリコン板、並びにこれらを積層したものなどが用いられる。なお有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路が予め形成されている駆動用基板を支持基板として用いてもよい。支持基板を通して光が出射する構成のボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を支持基板に搭載する場合、支持基板には光透過性を示す基板が用いられる。
【００７２】
＜陽極および陰極＞
陽極および陰極の少なくとも１つの電極は透光性電極から構成される。なお陰極および陽極のうちの１つの電極のみが透光性電極から構成される場合には、当該透光性電極は前述した網目状透光性電極によって構成される。また陽極および陰極が透光性電極である場合、少なくとも一方が前記網目状透光性電極から構成されればよく、他方は光透過性を示す電極によって構成されてもよい。光透過性を示す電極としては、ＩＴＯ、ＺＴＯなどの金属酸化物や、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの透明導電性樹脂を用いてもよい。このような光透過性を示す電極は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、あるいはインキを用いた印刷法、インクジェット法などにより形成することができる。
【００７３】
陽極および陰極のうちの１つの電極には不透光性を示す電極を用いてもよく、このような不透光性を示す電極の材料としては、電気伝導度の高い材料が好ましく、可視光反射率の高い材料が好ましい。不透光性を示す電極には、金、銀、白金、銅、アルミニウム、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫の単体もしくは１種以上を含む合金、またはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物などが用いられる。なお不透光性を示す電極は、２層以上の層を積層した積層体で構成されていてもよい。不透光性を示す電極の膜厚は、求められる特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設計され、たとえば１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。不透光性を示す電極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法などを挙げることができる。
【００７４】
＜正孔注入層＞
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウムおよび酸化アルミニウムなどの金属酸化物や、フェニルアミン系化合物、スターバースト型アミン系化合物、フタロシアニン系、アモルファスカーボン、ポリアニリンおよびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
【００７５】
正孔注入層の成膜方法としては、たとえば正孔注入材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。たとえば所定の塗布法によって正孔注入材料を含む溶液を塗布成膜し、さらにこれを固化することによって正孔注入層を形成することができる。
【００７６】
溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水を挙げることができる。
【００７７】
正孔注入層の膜厚は、求められる特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００７８】
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などを挙げることができる。
【００７９】
これらの中で正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などの高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。
【００８０】
正孔輸送層の成膜方法としては、たとえば正孔輸送材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。たとえば所定の塗布法によって正孔輸送材料を含む溶液を塗布成膜し、さらにこれを固化することによって正孔輸送層を形成することができる。低分子の正孔輸送材料では、高分子バインダーをさらに混合した溶液を用いて成膜してもよい。
【００８１】
溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、たとえばクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒などを挙げることができる。
【００８２】
混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収の弱いものが好適に用いられ、たとえばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどを挙げることができる。
【００８３】
正孔輸送層の膜厚は、要求される特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００８４】
＜発光層＞
発光層は、通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、または該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。たとえば発光効率の向上や、発光波長を変化させるためにドーパントは加えられる。なお発光層に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。低分子化合物よりも溶媒への溶解性が一般的に高い高分子化合物は塗布法に好適に用いられるため、発光層は高分子化合物を含むことが好ましく、高分子化合物としてポリスチレン換算の数平均分子量が１０３〜１０８の化合物を含むことが好ましい。発光層を構成する発光材料としては、たとえば以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料を挙げることができる。
【００８５】
（色素系材料）
色素系材料としては、たとえば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。
【００８６】
（金属錯体系材料）
金属錯体系材料としては、たとえばＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属、またはＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｉｒ、Ｐｔなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を挙げることができ、たとえばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体などを挙げることができる。
【００８７】
（高分子系材料）
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系材料や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどを挙げることができる。
【００８８】
上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００８９】
また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００９０】
また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
（ドーパント材料）
ドーパント材料としては、たとえばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約２ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００９１】
発光層は、たとえば溶液からの成膜によって形成される。たとえば発光材料を含む溶液を所定の塗布法によって塗布し、さらにこれを固化することによって発光層は形成される。溶液からの成膜に用いる溶媒としては、前述の溶液から正孔注入層を成膜する際に用いられる溶媒と同様の溶媒を挙げることができる。
【００９２】
＜電子輸送層＞
電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。
【００９３】
電子輸送層の成膜法としては、たとえば蒸着法および溶液からの成膜法などをあげることができる。なお溶液から成膜する場合には高分子バインダーを併用してもよい。
【００９４】
電子輸送層の膜厚は、要求される特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００９５】
＜電子注入層＞
電子注入層を構成する材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの１種類以上を含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、またはこれらの物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、および炭酸塩の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどを挙げることができる。電子注入層は、２層以上を積層した積層体で構成されてもよく、たとえばＬｉＦ／Ｃａなどを挙げることができる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法などにより形成される。電子注入層の膜厚としては、１ｎｍ〜１μｍ程度が好ましい。
【００９６】
以上説明した発光装置１１は、平面視で発光層１６が形成される領域から幅方向Ｙに突出した領域において、隣り合う有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と第２電極１５とが接続されることにより隣り合う有機ＥＬ素子１３が直列接続されるので、隣り合う有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と第２電極１５とを有機ＥＬ素子１３間の領域において接続する必要がない。そのため隣り合う有機ＥＬ素子１３間の領域に発光層などが形成されていてもよく、これによって塗布法で発光層を形成するさいに、隣り合う有機ＥＬ素子１３間の領域に形成される発光層を除去する工程を省略することができる。したがって微細なパターン塗布が比較的不得手なキャップコート法などの塗布法であっても、直列接続される複数の有機ＥＬ素子１３を簡便に作製することができる。
【００９７】
また網目状透光性電極を用いることにより、たとえ有機ＥＬ素子の発光面積を大きくしたとしても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を実現することができる。
【００９８】
図４は本発明の第２実施形態の発光装置３１を模式的に示す図である。本実施形態の発光装置３１は前述の第１実施形態の発光装置１１とは第１電極１４および第２電極１５の形状のみが異なるので、第１電極１４および第２電極１５についてのみ説明し、第１実施形態と対応する部分については同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００９９】
本実施形態では第１電極１４に加えて、第２電極１５も接続部３２を有する。すなわち第２電極１５は、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の第１電極１４にまで延在部から配列方向Ｘに延在し、該第１電極１５に接続される接続部３２を有する。
【０１００】
従って配列方向Ｘに隣り合う一対の有機ＥＬ素子１３において、右方に配置される有機ＥＬ素子１３の第１電極１４の延在部１７から接続部１９が左方に延在するとともに、左方に配置される有機ＥＬ素子１３の第２電極１５の延在部１８から接続部３２が右方に延在し、これら第１電極１４の接続部１９と、第２電極１５の接続部３２とが重なることによって隣り合う一対の有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と第２電極１５とが接続される。
【０１０１】
図５は本発明の第３実施形態の発光装置４１を模式的に示す図である。本実施形態の発光装置４１は前述の第１実施形態の発光装置１１とは第１電極１４および第２電極１５の形状のみが異なるので、第１電極１４および第２電極１５についてのみ説明し、第１実施形態と対応する部分については同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【０１０２】
本実施形態では第１電極１４が接続部１９を有さず、逆に第２電極１５が接続部４２を有する。すなわち第２電極１５は、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の第１電極１４にまで延在部から配列方向Ｘに延在し、該第１電極１５に接続される接続部４２を有する。
【０１０３】
図１に示す第１実施形態の発光装置１１では、第１電極１４のみが接続部１９を有し、逆に図５に示す第３実施形態の発光装置４１では、第２電極１５のみが接続部４２を有する。第１および第２電極１４，１５のうちのいずれか一方のみが接続部を有する場合、いずれの電極が接続部を有するかは設計に応じて適宜選択すればよいが、第１および第２電極１４，１５（一対の電極）のうちでシート抵抗が低い方の電極のみが接続部を有することが好ましい。すなわち第２電極１５のシート抵抗よりも第１電極１４のシート抵抗が低い場合、図１に示す第１実施形態の発光装置１１のように第１電極１４のみが接続部１９を有することが好ましい。逆に第１電極１４のシート抵抗よりも第２電極１５のシート抵抗が低い場合、図５に示す第３実施形態の発光装置４１のように第２電極１５のみが接続部４２を有することが好ましい。
【０１０４】
なお前述した各実施形態では複数の有機ＥＬ素子によって１つの直列接続が構成された発光装置を示しているが、複数の有機ＥＬ素子によって複数の直列接続が構成された発光装置であっても本発明を好適に適用することができる。また直列接続と並列接続とを併用して構成された発光装置であっても本発明を好適に適用することができる。
【０１０５】
図６は本発明の第４実施形態の発光装置６１を示す図である。本実施形態の発光装置６１は、２列の直列接続を並列接続した構成の発光装置である。各直列接続は、３個の有機ＥＬ素子が直列接続されて構成される。２列の直列接続は、一端同士および他端同士が電気的に接続され、並列接続される。
【０１０６】
複数の有機ＥＬ素子によって１つの直列接続が構成された発光装置では、有機ＥＬ素子の数が増加するほど、素子を駆動する駆動源の電圧が高くなるが、並列接続を併用することによって、駆動源に要求される供給電圧を適度に抑制することができる。
【符号の説明】
【０１０７】
１ 有機ＥＬ素子
２ 発光装置
３ 支持基板
４ 第１電極
５ 第２電極
６ 発光層
１１ 発光装置
１２ 支持基板
１３ 有機ＥＬ素子
１４ 第１電極
１５ 第２電極
１６ 発光層
１７，１８ 延在部
１９ 接続部
３１ 発光装置
３２ 接続部
４１ 発光装置
４２ 接続部
６１ 発光装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は発光装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「エレクトロルミネッセンス」を「ＥＬ」と記載することがある。）は、電圧を印加することによって発光する発光素子の一種であり、一対の電極と、この一対の電極間に配置される発光層とを含んで構成される。有機ＥＬ素子に電圧を印加すると、陽極から正孔が注入されるとともに陰極から電子が注入される。これら正孔と電子とが発光層において結合することにより発光が生じる。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子を複数個直列に接続した発光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００４】
図７は複数（図７では３個）の有機ＥＬ素子１が直列接続された発光装置２を模式的に示す図である。図７（１）は発光装置２の平面図であり、図７（２）は発光装置２の断面図である。
【０００５】
図７に示す発光装置２は３個の有機ＥＬ素子１を備える。これら３個の有機ＥＬ素子１は、所定の配列方向Ｘに沿って支持基板３上に配置され、直列接続されている。各有機ＥＬ素子１は一対の電極４，５と、この電極間に設けられる発光層６を備える。以下では一対の電極４，５のうちの支持基板３寄りに配置される一方の電極を第１電極４と記載し、第１電極４よりも支持基板３から離間して配置される他方の電極を第２電極５と記載する。なお製造工程の簡易さや素子特性などを勘案して、第１および第２電極４，５間には発光層６のみならず、発光層とは異なる所定の層が設けられることもある。また第１電極４および第２電極５のうちの少なくとも１つの電極は、光透過性を示す導電性薄膜によって構成される。発光層６で発生した光を有機ＥＬ素子の外界に出射させる必要があるからである。このような導電性薄膜には通常、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）などの金属酸化物薄膜がもちいられている。
【０００６】
図７に示すように各有機ＥＬ素子１の第１電極４は、互いに配列方向Ｘに所定の間隔を開けて離散的に配置されるため、互いに電気的に接続されていない。同様に各有機ＥＬ素子１の第２電極５は、互いに配列方向Ｘに所定の間隔をあけて配置されるため、相互に電気的に接続されていない。
【０００７】
他方、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子１の第１電極４と、第２電極５とは互いに接して接続されており、電気的に接続されている。これによって複数の有機ＥＬ素子１は直列接続を構成する。具体的には第１電極４は、配列方向Ｘの一方（以下、「配列方向Ｘの一方」を「左方」といい、「配列方向Ｘの他方」を右方ということがある。）の端部（以下、左端部ということがある。）が、左方に隣り合う有機ＥＬ素子１の第２電極５の右方の端部（以下、右端部ということがある。）に重なる位置まで延在するように形成され、左方に隣り合う有機ＥＬ素子１の第１電極４と接して接続されており、電気的に接続されている。このように配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子１の第１電極４と第２電極５とが電気的に接続されることにより、複数の有機ＥＬ素子１が直列接続を構成する。
【０００８】
つぎに図８を参照して照明装置の製造方法を説明する。
まず支持基板３上に第１電極４を形成する。具体的には支持基板３上に、配列方向Ｘに所定の間隔をあけて離散的に３つの第１電極４を形成する（図８（１）参照）
【０００９】
つぎに発光層６となる材料を含むインキを、所定の塗布法によって支持基板３上に塗布する。一般に塗布法は意図する部位にのみ選択的にインキをパターン塗布することがむずかしいため、第１電極４間などの不要な部位にもインキが塗布される（図８（２）参照）。そのためインキを塗布した後に、不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が必要となる（図８（３）参照）。インキの除去は、たとえばインキが可溶な溶剤を含ませた布や綿棒などを使ってインキを拭き取る方法や、レーザーアブレーション法などによっておこなうことができる。その後、第２電極５をパターン形成する（図８（４）参照）。これによって、直列接続された３個の有機ＥＬ素子１を備える発光装置２を作製することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−２５７８５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述の従来の技術では、不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が必要となるため、工程数が増加するという問題がある。さらに不要な部位に塗布されたインキを除去するさいに、発光層に異物が混入するおそれもある。
【００１２】
また光透過性を示す電極として用いられるＩＴＯ薄膜やＩＺＯ薄膜などは、導電性が必ずしも十分とはいえない。とくに大面積の有機ＥＬ素子を駆動する場合には電圧降下に起因する発光ムラが顕著になり、また発熱量が大きくなるという問題がある。
【００１３】
したがって本発明の目的は、発光層を塗布法によって形成するさいに不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が不要な構造であるとともに、大面積の有機ＥＬ素子においても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であって、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置に関する。
【００１５】
また本発明は、前記網目状透光性電極の導電体が、導電性フィラーと樹脂との混合物、または導電性材料のみからなる発光装置に関する。
【００１６】
また本発明は、前記網目状透光性電極のシート抵抗が５Ω／ｓｑ以下である発光装置に関する。
【００１７】
また本発明は、前記網目状透光性電極の光透過率が５０％以上である発光装置に関する。
【００１８】
また本発明は、前記延在部は、前記厚み方向一方から見て、前記幅方向の一方に発光層から突出するように延在する第１延在部と、前記幅方向の他方に発光層から突出するように延在する第２延在部とを含む発光装置に関する。
【００１９】
また本発明は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であり、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、
前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含むことを特徴とする発光装置の製造方法に関する。
【００２０】
また本発明は、前記インキを塗布する方法が、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法または印刷法である発光装置の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、発光層を塗布法によって形成するさいに不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が不要な構造であるとともに、大面積の有機ＥＬ素子においても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態の発光装置１１を示す平面図である。
【図２】発光装置１１の製造工程を説明するための図である。
【図３】発光装置１１の製造工程を説明するための図である。
【図４】第２実施形態の発光装置３１を模式的に示す図である。
【図５】第３実施形態の発光装置４１を模式的に示す図である。
【図６】第４実施形態の発光装置６１を示す図である。
【図７】複数の有機ＥＬ素子１が直列接続された発光装置２を模式的に示す図である。
【図８】発光装置２の製造工程を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
１）発光装置の構成
以下、図面を参照して発光装置の構成についてまず説明する。本実施形態の発光装置はたとえば照明装置、液晶表示装置およびスキャナなどの光源に用いられる。図１は本発明の第１実施形態の発光装置１１を模式的に示す平面図である。発光装置１１は、支持基板１２と、この支持基板１２上に設けられ、直列接続される複数の有機ＥＬ素子１３とを備える。
【００２４】
所定の配列方向Ｘは支持基板１２の厚み方向Ｚに垂直な方向に設定される。すなわち配列方向Ｘは支持基板１２の主面に平行に設定される。本実施形態では図１に示すように複数の有機ＥＬ素子１３は所定の直線に沿って配列しているが、所定の曲線に沿って配列されていてもよい。なお所定の曲線に沿って複数の有機ＥＬ素子１３が配列されている場合、配列方向Ｘは前記所定の曲線の接線方向に相当する。
【００２５】
支持基板１２上に設けられる有機ＥＬ素子１３の個数は設計に応じて適宜設定される。以下第１実施形態では３個の有機ＥＬ素子１３が設けられた発光装置１１について説明する。
【００２６】
各有機ＥＬ素子１３はそれぞれ一対の電極１４,１５と、この電極１４,１５間に設けられる発光層１６を備える。一対の電極１４，１５のうちのいずれか一方の電極が有機ＥＬ素子１３の陽極として機能し、いずれか他方の電極が有機ＥＬ素子１３の陰極として機能する。以下一対の電極１４，１５のうちで支持基板１２寄りに配置される電極を第１電極１４と記載し、支持基板１２から離間して配置される他方の電極を第２電極１５と記載する。
【００２７】
第１および第２電極１４，１５間には少なくとも１層の発光層１６が設けられる。なお第１および第２電極１４，１５間には、１層の発光層１６に限らず、複数の発光層や発光層とは異なる層が必要に応じて設けられることがある。
【００２８】
発光層１６は複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って延在している。本実施形態では直列接続される複数の有機ＥＬ素子１３において、配列方向Ｘの一端（図１では左端）に設けられる有機ＥＬ素子１３の発光層１６から、配列方向Ｘの他端（図１では右端）に設けられる有機ＥＬ素子１３の発光層１６まで、配列方向Ｘに沿って延在する発光層が連続して一体的に形成されている。発光層とは異なる所定の層が第１および第２電極１４，１５間に設けられる場合、この所定の層は、複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って延在していてもよく、また有機ＥＬ素子１３ごとに離間するように形成されていてもよい。
【００２９】
さらに発光層１６とは異なる所定の層が塗布法によって形成される場合には、この発光層１６とは異なる所定の層は、発光層１６と同様に、複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って延在していることが好ましい。後述するように、不要な部位に形成された層を除去する工程が省略できるためである。
【００３０】
第１および第２電極１４，１５（一対の電極）はそれぞれ延在部１７，１８を有する。この延在部１７，１８は、支持基板１２の厚み方向Ｚ一方から見て（以下、「平面視で」ということがある。）、前記支持基板の厚み方向Ｚおよび前記配列方向Ｘに垂直な幅方向Ｙに、発光層１６から突出するように延在する。第１電極１４の延在部１７は第１電極１４に一体的に形成されている。また第２電極１５の延在部１８は第２電極１５に一体的に形成されている。各有機ＥＬ素子１３を構成する第１電極１４と第２電極１５（一対の電極）とは、有機ＥＬ素子１３ごとには互いに接触するようには構成されておらず、平面視で第１電極１４の延在部１７と第２電極１５の延在部１８とは重ならないように配置されている。本実施形態では第１電極１４の延在部１７は、第１電極１４において、第２電極１５と対向する部分の左方の端部（以下、左端部ということがある）から幅方向Ｙに延在する。第２電極１５の延在部１８は、第２電極１５において、第１電極１４との対向部の右方の端部（以下、右端部ということがある）から幅方向Ｙに延在している。そのため第１電極１４の延在部１７と第２電極１５の延在部１８とは平面視で重ならず、電気的に絶縁されている。
【００３１】
第１および第２電極１４，１５（一対の電極）の一方の電極は接続部を有する。この接続部は、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の他方の電極にまで延在部から配列方向Ｘに延在し、該他方の電極に接続される。なお接続部は、第１および第２電極１４，１５（一対の電極のうち）の一方の電極のみに限らず、第１および第２電極１４，１５（一対の電極のうち）の他方の電極も有していてもよい。すなわち第１および第２電極１４，１５（一対の電極のうち）の他方の電極も、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の一方の電極にまで延在部から配列方向Ｘに延在し、該一方の電極に接続される接続部を有していてもよい。
【００３２】
本実施形態では第１および第２電極１４，１５（一対の電極）の一方の電極に相当する第１電極１４が接続部１９を有する。すなわち第１電極１４は、左方に配置される有機ＥＬ素子の第２電極１５（他方の電極）の延在部１８にまで、第１電極１４の延在部１７から左方に延在する接続部１９を備える。このように第１電極１４の接続部１９は、左方に配置される有機ＥＬ素子の第２電極１５（他方の電極）の延在部１８と平面視で重なり、この重なる部分で直接的に第２電極１５（他方の電極）と接続される。
【００３３】
平面視で発光層１６から幅方向Ｙに延在する延在部１８は、幅方向Ｙの一方または他方に設けられるが、幅方向Ｙの両方に設けられることが好ましい。すなわち延在部１７，１８は、平面視で、前記幅方向の一方に発光層から突出するように延在する第１延在部１７ａ，１８ａと、幅方向Ｙの他方に発光層１６から突出するように延在する第２延在部１７ｂ，１８ｂとを含むことが好ましい。平面視で発光層１６から幅方向Ｙの両方に延在する延在部１７，１８を備えることにより、隣り合う有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と第２電極１５とが幅方向Ｙの両方の端部で接続されることになる。
【００３４】
さらに直列接続を構成する複数の有機ＥＬ素子１３のうちで、最も左方に配置される有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と、最も右方に配置される有機ＥＬ素子１３の第２電極とは、電力供給部（不図示）に電気的につながる配線にそれぞれ接続される。これによって電力供給部から、直列接続を構成する複数の有機ＥＬ素子１３に電力が供給され、各有機ＥＬ素子が発光する。
【００３５】
各有機ＥＬ素子１３は接続部から給電される。本実施形態では平面視で発光層１６から幅方向Ｙの両方に延在する延在部１７，１８を備えることにより、各有機ＥＬ素子１３は幅方向Ｙの両方の端部から給電される。有機ＥＬ素子１３は、給電される部位から離間するほど、電圧降下のために輝度が低下する。本実施形態では延在部１７，１８から幅方向Ｙに離間するほど、すなわち幅方向Ｙの中央部ほど電圧低下のために輝度が低下するが、各有機ＥＬ素子１３は幅方向Ｙの両方の端部から給電されるため、幅方向Ｙの一方の端部から給電される素子構成に比べると電圧降下の影響を抑制することができ、ひいては輝度ムラを抑制することができる。
【００３６】
（網目状透光性電極）
有機ＥＬ素子には、ボトムエミッション型の構成のものと、トップエミッション型の構成のものと、両面発光型の構成のものとがある。ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子は支持基板を通して光を外界に出射し、トップエミッション型の有機ＥＬ素子は、支持基板とは反対側から光を外界に出射し、両面発光型の有機ＥＬ素子は、支持基板側および支持基板とは反対側の両方から光を外界に出射する。本発明はボトムエミッション型、トップエミッション型、および両面発光型の有機ＥＬ素子のいずれであっても適用することができる。
【００３７】
ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子では、第１電極１４を通して光が出射するため、第１電極１４が光透過性を示す電極によって構成され、逆に第２電極は通常光を反射する電極によって構成される。またトップエミッション型の有機ＥＬ素子では第２電極を通して光が出射するため、第２電極１５が光透過性を示す電極によって構成され、逆に第１電極１４は通常光を反射する電極によって構成される。また両面発光型の有機ＥＬ素子では、第１および第２電極１４，１５の両方の電極が、光透過性を示す電極によって構成される。
【００３８】
このように第１および第２電極１４，１５（一対の電極）のうちの少なくとも１つの電極は、光透過性を示す電極によって構成されるが、本実施形態では、この光透過性を示す電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極からなる。
【００３９】
網目状透光性電極は、網目状に配置される導電体を含む。この導電体は、支持基板１２の主面に平行な２次元平面において網目状構造を形成している。網目状構造としては、少なくとも前記２次元平面において導電体が連続してつらなり、電気的に導通している構造を有していればよく、たとえば格子構造やハニカム構造のような規則的な構造を有していてもよく、また規則的な構造を有していなくてもよい。
【００４０】
網目状透光性電極の導電体は、導電性フィラーと樹脂との混合物、または導電性材料のみからなることが好ましい。
【００４１】
上記導電性フィラーには、ＡｕやＡｇ、Ａｌ、カーボンなどからなる金属微粒子、またはＡｕやＡｇ、Ａｌ、カーボンなどからなる導電性ワイヤーなどを用いることができる。
【００４２】
また上記導電性フィラーが混合される樹脂には、エポキシやアクリル、ナイロン、ウレタン、フェノールなどの樹脂、さらには３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸などの導電性樹脂をもちいることができる。
【００４３】
また網目状透光性電極の導電体を構成する上記導電性材料には、ＡｕやＡｇ、Ａｌ、Ｃｕの単体またはこれらの金属を１種以上含む合金などをもちいることができる。
【００４４】
網目状透光性電極は、支持基板１２の主面に平行な２次元平面において網目状構造を形成する導電体からなる非透光部を有する。網目状透光性電極に入射する光は、非透光部を除く残余の領域（以下、透光部ということがある）を通って網目状透光性電極を透過する。このように網目状透光性電極は非透光部を有するが、人間の目に視認される程度に巨視的に見れば、全体として透光性を有する。
【００４５】
網目状透光性電極の一方の主面または両方の主面には、当該網目状透光性電極に接して
透過性導電層を積層してもよい。このように透過性導電層を積層することにより、透光部の導電性を高めることができ、さらには透光部と非透光部との段差を低減することができる。このような透過性導電層としては、ＩＴＯ、ＺＴＯなどの金属酸化物や、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの透明導電性樹脂をいることができる。また、透明導電性樹脂は、ＩＴＯ、ＺＴＯなどの金属酸化物と比較し屈折率が低いため、透光部に透明導電性樹脂を積層させた場合でも発光層から出射される光を発光装置の外部に効率的に取り出すことができる。透過性導電層は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、あるいはインキを用いた印刷法、インクジェット法などにより形成することができる。
【００４６】
網目状透光性電極のシート抵抗は有機ＥＬ素子の発光効率の向上、輝度ムラおよび発熱の低減の観点から、１０Ω／ｓｑ以下であることが好ましく、さらには５Ω／ｓｑ以下であることが好ましく、さらには１Ω／ｓｑ以下であることが好ましい。網目状透光性電極の膜厚は、網目状透光性電極の導電性や有機ＥＬ素子の作製のしやすさの観点から適宜選択され、５０ｎｍ〜１μｍが好ましく、さらには１００ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましい。網目状透光性電極の開口率、すなわち単位面積当たりの透光部の割合は、導電性や光取り出し効率などを勘案して適宜選択されるが、３０〜９５％が好ましく、さらに５０〜９０％がより好ましい。また網目状に配置される導電体の線幅は、導電性や光取り出し効率などを勘案して適宜選択されるが、５μｍ〜１ｍｍが好ましく、さらには１０μｍ〜２００μｍが好ましい。また網目状に配置される導電体に囲まれる各透光部の面積は、平均すると１００μｍ２〜４ｍｍ２が好ましく、さらには４００μｍ２〜１ｍｍ２が好ましい。また網目状透光性電極の光透過率は、３０％以上が好ましく、５０％以上が好ましく、７０％以上がさらに好ましい。なお本明細書における光透過率は、可視光透過率を意味する。
【００４７】
網目状透光性電極は、（１）まず上述の導電体からなる導電性薄膜を一面に形成して、さらにこの導電性薄膜を所定の方法によって網目状にパターニングすることによって形成してもよく、また（２）上述の導電体を網目状に直接パターン形成してもよい。
【００４８】
たとえば上記（１）の方法として、まず真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより導電体からなる導電性薄膜を一面に形成し、さらにフォトリソグラフィ法によって導電性薄膜をパターニングすることにより網目状透光性電極を形成することができる。また上記導電性フィラーと樹脂とを所定の分散媒に分散させた塗布液を所定の塗布法によって塗布成膜し、さらにこれをフォトリソグラフィ法によってパターニングすることによって網目状透光性電極を形成することができる。
【００４９】
またたとえば上記（２）の方法として、所定のパターンのマスクをもちいて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより上記導電体を網目状に形成することによって網目状透光性電極を形成することができる。またたとえば上記導電性フィラーと樹脂とを所定の分散媒に分散させた塗布液を、印刷法、インクジェット法などによって網目状に塗布液を塗布成膜することによって網目状透光性電極をパターン形成することができる。
【００５０】
さらには、支持基板１２とは異なる所定の基台上にあらかじめ作製した網目状透光性電極を、ラミネート法によって支持基板１２上に転写することにより、支持基板１２上に網目状透光性電極を形成してもよい。
【００５１】
２）発光装置の製造方法
本実施形態の発光装置の製造方法は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であり、各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含む。
【００５２】
以下、図２および図３を参照して発光装置を製造する方法を説明する。まず支持基板１２を用意する。本工程では有機ＥＬ素子１３を駆動する駆動回路（不図示）があらかじめ形成されている支持基板１２を用意してもよい。
【００５３】
つぎに支持基板１２上に第１電極１４をパターン形成する（図２参照）。第１電極が光透過性を示す電極である場合、支持基板１２上には第１電極１４として前述の導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極をパターン形成する。この網目状透光性電極の形成方法は上述のとおりである。
【００５４】
なお第１電極が非透光性の電極の場合、たとえばスパッタリング法または蒸着法によって、導電体膜を支持基板１２上に成膜し、つぎにフォトリソグラフィ法によって導電体膜を所定の形状にパターニングすることによって、第１電極１４をパターン形成することができる。なおフォトリソグラフィ工程をおこなうことなく、マスク蒸着法などによって所定の部位にのみ第１電極１４をパターン形成してもよい。また塗布法により導電性材料を含むインキを塗布し、塗布した塗膜を固化することにより第１電極１４を形成してもよい。またラミネート法により導電性薄膜を転写することにより第１電極１４を形成してもよい。
【００５５】
なお本工程では第１電極１４があらかじめ形成された支持基板１２を用意してもよい。
【００５６】
つぎに支持基板１２上に発光層１６を形成する（図３参照）。たとえば発光層１６となる材料を含むインキを、複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層１６を形成することができる。
【００５７】
インキを塗布する方法としては、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法、印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などをあげることができ、これらのなかでも大面積を効率的に塗布することが可能なキャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法および印刷法が好ましい。
【００５８】
つぎに支持基板１２上に第２電極１５を形成する。第２電極１５が光透過性を示す電極である場合、発光層１６上には第２電極１５として前述の導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極をパターン形成する。この網目状透光性電極の形成方法は上述のとおりである。
【００５９】
なお第２電極が非透光性の電極の場合、たとえばスパッタリング法または蒸着法によって、導電体膜を支持基板１２上に成膜し、つぎにフォトリソグラフィ法によって導電体膜を所定の形状にパターニングすることによって、第２電極をパターン形成することができる。なおフォトリソグラフィ工程をおこなうことなく、マスク蒸着法などによって所定の部位にのみ第２電極をパターン形成してもよい。また塗布法により導電性材料を含むインキを塗布し、塗布した塗膜を固化することにより第２電極を形成してもよい。またラミネート法により導電性薄膜を転写することにより第２電極を形成してもよい。
【００６０】
なお前述したように第１および第２電極１４，１５間には発光層１６とは異なる所定の層を設けることがある。発光層とは異なる所定の層を塗布法によって形成する場合には、発光層を形成する方法と同じ方法によって、発光層とは異なる所定の層を形成することが好ましい。すなわち発光層とは異なる所定の層となる材料を含むインキを、複数の有機ＥＬ素子１３に跨って配列方向Ｘに沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層とは異なる所定の層を形成することが好ましい。なお発光層とは異なる所定の層を蒸着法などの乾式法で形成する場合には、発光層とは異なる所定の層を第１電極１４上にのみ選択的に形成してもよい。
【００６１】
インキを塗布する方法としては、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法、印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などをあげることができ、これらのなかでも大面積を効率的に塗布することが可能なキャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法および印刷法が好ましい。
【００６２】
以下支持基板１２および有機ＥＬ素子１３の構成についてさらに詳細に説明する。
【００６３】
前述したように第１および第２電極１４，１５間には発光層１６のみならず、発光層１６とは異なる所定の層がさらに設けられることがある。陰極と発光層との間に設けられる層としては、電子輸送層、正孔ブロック層などを挙げることができる。
【００６４】
正孔ブロック層は正孔の輸送を堰き止める機能を有する。なお電子注入層及び／又は電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。
【００６５】
陽極と発光層との間に設けられる層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層などを挙げることができる。陽極と発光層との間に、正孔注入層と正孔輸送層との両方の層が設けられる場合、陽極に接する層を正孔注入層といい、この正孔注入層を除く層を正孔輸送層という。
【００６６】
正孔注入層は陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する。正孔輸送層は陽極側の表面に接する層からの正孔注入を改善する機能を有する。電子ブロック層は電子の輸送を堰き止める機能を有する。なお正孔注入層及び／又は正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。
【００６７】
なお電子注入層および正孔注入層を総称して電荷注入層ということがあり、電子輸送層および正孔輸送層を総称して電荷輸送層ということがある。
【００６８】
本実施形態の有機ＥＬ素子のとりうる層構成の一例を以下に示す。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｆ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｇ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｉ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
以下同じ。）
本実施形態の有機ＥＬ素子は２層以上の発光層を有していてもよい。上記ａ）〜ｉ）の層構成のうちのいずれか１つにおいて、陽極と陰極とに挟持された積層体を「構造単位Ａ」とすると、２層の発光層を有する有機ＥＬ素子の構成として、以下のｊ）に示す層構成をあげることができる。なお２つある（構造単位Ａ）の層構成は互いに同じでも、異なっていてもよい。
ｊ）陽極／（構造単位Ａ）／電荷発生層／（構造単位Ａ）／陰極
ここで電荷発生層とは、電界を印加することにより、正孔と電子を発生する層である。
電荷発生層としては、たとえば酸化バナジウム、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、酸化モリブデンなどから成る薄膜をあげることができる。
【００６９】
また「（構造単位Ａ）／電荷発生層」を「構造単位Ｂ」とすると、３層以上の発光層を有する有機ＥＬ素子の構成として、以下のｋ）に示す層構成をあげることができる。
ｋ）陽極／（構造単位Ｂ）ｘ／（構造単位Ａ）／陰極
なお記号「ｘ」は、２以上の整数を表し、（構造単位Ｂ）ｘは、構造単位Ｂがｘ段積層された積層体を表す。また複数ある（構造単位Ｂ）の層構成は同じでも、異なっていてもよい。
【００７０】
なお電荷発生層を設けずに、複数の発光層を直接積層させた有機ＥＬ素子を構成してもよい。
【００７１】
＜支持基板＞
支持基板は有機ＥＬ素子を製造する工程において化学的に変化しないものが好適に用いられ、たとえばガラス、プラスチック、高分子フィルム、およびシリコン板、並びにこれらを積層したものなどが用いられる。なお有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路が予め形成されている駆動用基板を支持基板として用いてもよい。支持基板を通して光が出射する構成のボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を支持基板に搭載する場合、支持基板には光透過性を示す基板が用いられる。
【００７２】
＜陽極および陰極＞
陽極および陰極の少なくとも１つの電極は透光性電極から構成される。なお陰極および陽極のうちの１つの電極のみが透光性電極から構成される場合には、当該透光性電極は前述した網目状透光性電極によって構成される。また陽極および陰極が透光性電極である場合、少なくとも一方が前記網目状透光性電極から構成されればよく、他方は光透過性を示す電極によって構成されてもよい。光透過性を示す電極としては、ＩＴＯ、ＺＴＯなどの金属酸化物や、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの透明導電性樹脂を用いてもよい。このような光透過性を示す電極は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、あるいはインキを用いた印刷法、インクジェット法などにより形成することができる。
【００７３】
陽極および陰極のうちの１つの電極には不透光性を示す電極を用いてもよく、このような不透光性を示す電極の材料としては、電気伝導度の高い材料が好ましく、可視光反射率の高い材料が好ましい。不透光性を示す電極には、金、銀、白金、銅、アルミニウム、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫の単体もしくは１種以上を含む合金、またはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物などが用いられる。なお不透光性を示す電極は、２層以上の層を積層した積層体で構成されていてもよい。不透光性を示す電極の膜厚は、求められる特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設計され、たとえば１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。不透光性を示す電極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法などを挙げることができる。
【００７４】
＜正孔注入層＞
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウムおよび酸化アルミニウムなどの金属酸化物や、フェニルアミン系化合物、スターバースト型アミン系化合物、フタロシアニン系、アモルファスカーボン、ポリアニリンおよびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
【００７５】
正孔注入層の成膜方法としては、たとえば正孔注入材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。たとえば所定の塗布法によって正孔注入材料を含む溶液を塗布成膜し、さらにこれを固化することによって正孔注入層を形成することができる。
【００７６】
溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水を挙げることができる。
【００７７】
正孔注入層の膜厚は、求められる特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００７８】
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などを挙げることができる。
【００７９】
これらの中で正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などの高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。
【００８０】
正孔輸送層の成膜方法としては、たとえば正孔輸送材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。たとえば所定の塗布法によって正孔輸送材料を含む溶液を塗布成膜し、さらにこれを固化することによって正孔輸送層を形成することができる。低分子の正孔輸送材料では、高分子バインダーをさらに混合した溶液を用いて成膜してもよい。
【００８１】
溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、たとえばクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒などを挙げることができる。
【００８２】
混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収の弱いものが好適に用いられ、たとえばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどを挙げることができる。
【００８３】
正孔輸送層の膜厚は、要求される特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００８４】
＜発光層＞
発光層は、通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、または該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。たとえば発光効率の向上や、発光波長を変化させるためにドーパントは加えられる。なお発光層に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。低分子化合物よりも溶媒への溶解性が一般的に高い高分子化合物は塗布法に好適に用いられるため、発光層は高分子化合物を含むことが好ましく、高分子化合物としてポリスチレン換算の数平均分子量が１０３〜１０８の化合物を含むことが好ましい。発光層を構成する発光材料としては、たとえば以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料を挙げることができる。
【００８５】
（色素系材料）
色素系材料としては、たとえば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。
【００８６】
（金属錯体系材料）
金属錯体系材料としては、たとえばＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属、またはＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｉｒ、Ｐｔなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を挙げることができ、たとえばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体などを挙げることができる。
【００８７】
（高分子系材料）
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系材料や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどを挙げることができる。
【００８８】
上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００８９】
また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００９０】
また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
（ドーパント材料）
ドーパント材料としては、たとえばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約２ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００９１】
発光層は、たとえば溶液からの成膜によって形成される。たとえば発光材料を含む溶液を所定の塗布法によって塗布し、さらにこれを固化することによって発光層は形成される。溶液からの成膜に用いる溶媒としては、前述の溶液から正孔注入層を成膜する際に用いられる溶媒と同様の溶媒を挙げることができる。
【００９２】
＜電子輸送層＞
電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。
【００９３】
電子輸送層の成膜法としては、たとえば蒸着法および溶液からの成膜法などをあげることができる。なお溶液から成膜する場合には高分子バインダーを併用してもよい。
【００９４】
電子輸送層の膜厚は、要求される特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００９５】
＜電子注入層＞
電子注入層を構成する材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの１種類以上を含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、またはこれらの物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、および炭酸塩の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどを挙げることができる。電子注入層は、２層以上を積層した積層体で構成されてもよく、たとえばＬｉＦ／Ｃａなどを挙げることができる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法などにより形成される。電子注入層の膜厚としては、１ｎｍ〜１μｍ程度が好ましい。
【００９６】
以上説明した発光装置１１は、平面視で発光層１６が形成される領域から幅方向Ｙに突出した領域において、隣り合う有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と第２電極１５とが接続されることにより隣り合う有機ＥＬ素子１３が直列接続されるので、隣り合う有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と第２電極１５とを有機ＥＬ素子１３間の領域において接続する必要がない。そのため隣り合う有機ＥＬ素子１３間の領域に発光層などが形成されていてもよく、これによって塗布法で発光層を形成するさいに、隣り合う有機ＥＬ素子１３間の領域に形成される発光層を除去する工程を省略することができる。したがって微細なパターン塗布が比較的不得手なキャップコート法などの塗布法であっても、直列接続される複数の有機ＥＬ素子１３を簡便に作製することができる。
【００９７】
また網目状透光性電極を用いることにより、たとえ有機ＥＬ素子の発光面積を大きくしたとしても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を実現することができる。
【００９８】
図４は本発明の第２実施形態の発光装置３１を模式的に示す図である。本実施形態の発光装置３１は前述の第１実施形態の発光装置１１とは第１電極１４および第２電極１５の形状のみが異なるので、第１電極１４および第２電極１５についてのみ説明し、第１実施形態と対応する部分については同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００９９】
本実施形態では第１電極１４に加えて、第２電極１５も接続部３２を有する。すなわち第２電極１５は、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の第１電極１４にまで延在部から配列方向Ｘに延在し、該第１電極１５に接続される接続部３２を有する。
【０１００】
従って配列方向Ｘに隣り合う一対の有機ＥＬ素子１３において、右方に配置される有機ＥＬ素子１３の第１電極１４の延在部１７から接続部１９が左方に延在するとともに、左方に配置される有機ＥＬ素子１３の第２電極１５の延在部１８から接続部３２が右方に延在し、これら第１電極１４の接続部１９と、第２電極１５の接続部３２とが重なることによって隣り合う一対の有機ＥＬ素子１３の第１電極１４と第２電極１５とが接続される。
【０１０１】
図５は本発明の第３実施形態の発光装置４１を模式的に示す図である。本実施形態の発光装置４１は前述の第１実施形態の発光装置１１とは第１電極１４および第２電極１５の形状のみが異なるので、第１電極１４および第２電極１５についてのみ説明し、第１実施形態と対応する部分については同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【０１０２】
本実施形態では第１電極１４が接続部１９を有さず、逆に第２電極１５が接続部４２を有する。すなわち第２電極１５は、配列方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の第１電極１４にまで延在部から配列方向Ｘに延在し、該第１電極１５に接続される接続部４２を有する。
【０１０３】
図１に示す第１実施形態の発光装置１１では、第１電極１４のみが接続部１９を有し、逆に図５に示す第３実施形態の発光装置４１では、第２電極１５のみが接続部４２を有する。第１および第２電極１４，１５のうちのいずれか一方のみが接続部を有する場合、いずれの電極が接続部を有するかは設計に応じて適宜選択すればよいが、第１および第２電極１４，１５（一対の電極）のうちでシート抵抗が低い方の電極のみが接続部を有することが好ましい。すなわち第２電極１５のシート抵抗よりも第１電極１４のシート抵抗が低い場合、図１に示す第１実施形態の発光装置１１のように第１電極１４のみが接続部１９を有することが好ましい。逆に第１電極１４のシート抵抗よりも第２電極１５のシート抵抗が低い場合、図５に示す第３実施形態の発光装置４１のように第２電極１５のみが接続部４２を有することが好ましい。
【０１０４】
なお前述した各実施形態では複数の有機ＥＬ素子によって１つの直列接続が構成された発光装置を示しているが、複数の有機ＥＬ素子によって複数の直列接続が構成された発光装置であっても本発明を好適に適用することができる。また直列接続と並列接続とを併用して構成された発光装置であっても本発明を好適に適用することができる。
【０１０５】
図６は本発明の第４実施形態の発光装置６１を示す図である。本実施形態の発光装置６１は、２列の直列接続を並列接続した構成の発光装置である。各直列接続は、３個の有機ＥＬ素子が直列接続されて構成される。２列の直列接続は、一端同士および他端同士が電気的に接続され、並列接続される。
【０１０６】
複数の有機ＥＬ素子によって１つの直列接続が構成された発光装置では、有機ＥＬ素子の数が増加するほど、素子を駆動する駆動源の電圧が高くなるが、並列接続を併用することによって、駆動源に要求される供給電圧を適度に抑制することができる。
【符号の説明】
【０１０７】
１ 有機ＥＬ素子
２ 発光装置
３ 支持基板
４ 第１電極
５ 第２電極
６ 発光層
１１ 発光装置
１２ 支持基板
１３ 有機ＥＬ素子
１４ 第１電極
１５ 第２電極
１６ 発光層
１７，１８ 延在部
１９ 接続部
３１ 発光装置
３２ 接続部
４１ 発光装置
４２ 接続部
６１ 発光装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であって、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置。
【請求項２】
前記網目状透光性電極の前記導電体が、導電性フィラーと樹脂との混合物、または導電性材料のみからなる請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記網目状透光性電極のシート抵抗が５Ω／ｓｑ以下である請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記網目状透光性電極の光透過率が５０％以上である請求項１〜３のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項５】
前記延在部は、前記厚み方向一方から見て、前記幅方向の一方に発光層から突出するように延在する第１延在部と、前記幅方向の他方に発光層から突出するように延在する第２延在部とを含む請求項１〜４のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項６】
支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であり、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、
前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含む発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記インキを塗布する方法が、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法または印刷法である請求項６に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１】
支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であって、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置。
【請求項２】
前記網目状透光性電極の前記導電体が、導電性フィラーと樹脂との混合物、または導電性材料のみからなる請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記網目状透光性電極のシート抵抗が５Ω／ｓｑ以下である請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記網目状透光性電極の光透過率が５０％以上である請求項１〜３のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項５】
前記延在部は、前記厚み方向一方から見て、前記幅方向の一方に発光層から突出するように延在する第１延在部と、前記幅方向の他方に発光層から突出するように延在する第２延在部とを含む請求項１〜４のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項６】
支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であり、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも１つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、
前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含む発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記インキを塗布する方法が、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法または印刷法である請求項６に記載の発光装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１２−１１３９１７（Ｐ２０１２−１１３９１７Ａ）
【公開日】平成２４年６月１４日（２０１２．６．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２６０９２３（Ｐ２０１０−２６０９２３）
【出願日】平成２２年１１月２４日（２０１０．１１．２４）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月１４日（２０１２．６．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月２４日（２０１０．１１．２４）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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