真空吸引システム
【課題】 ワーク搬送テーブルのワーク収納孔内へワークを安定して装填でき、かつ排出することができる真空吸引システムを提供する。
【解決手段】 真空吸引システムはワーク収納孔５を有するワーク搬送テーブル２と、ワーク搬送テーブル２のワーク収納孔５に連通する真空吸引溝７を有するテーブルベース３とを備えている。これらワーク収納孔５および真空吸引溝７は真空配管９を介して真空発生源１７に連通されている。真空配管９には負圧センサ１０が接続され、この負圧センサ１０からの信号に基づいて、圧縮エア発生源２０からの圧縮エアが真空配管９内へ送られ、あるいは真空配管９内が大気開放されて、真空配管９内の真空度が調整される。
【解決手段】 真空吸引システムはワーク収納孔５を有するワーク搬送テーブル２と、ワーク搬送テーブル２のワーク収納孔５に連通する真空吸引溝７を有するテーブルベース３とを備えている。これらワーク収納孔５および真空吸引溝７は真空配管９を介して真空発生源１７に連通されている。真空配管９には負圧センサ１０が接続され、この負圧センサ１０からの信号に基づいて、圧縮エア発生源２０からの圧縮エアが真空配管９内へ送られ、あるいは真空配管９内が大気開放されて、真空配管９内の真空度が調整される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品であるチップ部品のワークを搬送テーブルのワーク収納孔に吸引するための真空吸引システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
図８乃至図１０により、ワークを搬送テーブルのワーク収納孔に吸引する従来の真空吸引システムについて述べる。
【０００３】
このうち図８は従来の真空吸引システムを搬送テーブルに適用した例を示す部分縦断面、図９は図８に示す真空吸引システムの配管図、図１０はワーク装填率と真空度との関連を説明するタイムチャートである。
【０００４】
図８において、搬送テーブル２は、テーブルベース３上に回転自在に設けられ、このテーブルベース３はベース４上に固定して設けられている。また、搬送テーブル２を貫通して複数のワーク収納孔５が環状に設けられ、このワーク収納孔５により同心円状の複数列の収納孔列が形成されている。
【０００５】
またテーブルベース３には真空吸引溝３０が環状に設けられている。この真空吸引溝３０は、テーブルベース３及びベース４を貫通して設けられた真空吸引孔８を介して真空配管９に連通し、この真空配管９はさらに図９に示す真空発生源１７に絞り弁１６を介して連通している。また真空吸引溝３０と真空発生源１７との間には、負圧センサ３１が設けられている。また、真空吸引溝３０は搬送テーブル２のワーク収納孔５からなる複数の収納孔列と同心円状に構成され、各真空吸引溝３０は収納孔列に設けられた複数のワーク収納孔５の一部に連通されている。
【０００６】
また搬送テーブル２にはワーク排出部が設けられ、このワーク排出部には、図８に示すようにテーブルベース３及びベース４を貫通して噴射ノズル１１が設けられている。この噴射ノズル１１は圧縮エア配管１２を介して図示しない圧縮エア制御手段に連通している。
【０００７】
図８乃至図１０において、真空吸引溝３０は、真空配管９及び真空吸引孔８を介して真空発生源１７に連通しているため、真空吸引溝３０が真空発生源１７によって負圧化されるとともに、真空吸引溝３０に連通する複数のワーク収納孔５が負圧化される。搬送テーブル２上に載置されたワークＷまたは搬送テーブル２に当接したワークＷは、ワーク収納孔５の負圧により吸引されてワーク収納孔５内に装填される。
【０００８】
ワーク収納孔５と真空吸引溝３０との間には漏れが生じるため、すべてのワーク収納孔５にワークＷが装填されたとき、真空吸引溝３０内の真空度が最も高くなり（以下最高真空度Ｐ２という）、全てのワーク収納孔５にワークＷが全く収納されず開放されているとき、真空吸引溝３０内の真空度が最低真空度となる（図１０参照）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、全てのワーク収納孔５が開放されて真空度が最低の場合であっても、ワークＷを吸引してワーク収納孔５に装填することができるよう、真空吸引溝３０内の最低真空度はワークＷの装填が可能な値に設定されている。しかしながら、ワーク収納孔５には真空吸引溝３０が直接連通しており、かつワーク収納孔５と真空吸引溝３０の間の流路抵抗が小さいため、一部のワーク収納孔５内にワークＷが装填されなかった場合でも、最高真空度Ｐ２からの真空度の低下は極めて大きくなる。このため、最低真空度を装填可能な真空度として確保すると、最高真空度Ｐ２が極端に高くなり、ワーク排出部において噴射ノズル１１から圧縮エアを噴射してワークＷを排出しようとしたとき、圧縮エアの噴射力と吸引力が相殺されて排出不良が生じることがある。この傾向は同時複数のワークＷの排出では更に高くなる。また、ワークＷの吸引力が上昇すると、ワークＷとテーブルベース３との摩擦力が上昇したり、搬送テーブル２とテーブルベース３間が空気吸引により摩擦が発生し、テーブル２の回転が不安定となることがある。
【００１０】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、ワークを安定して搬送テーブルに装填することができ、かつワークを安定して搬送テーブルにより搬送し、かつ排出することができる真空吸引システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、真空漏れ発生部と、真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続する真空配管とを有する真空吸引機構と、この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構とを備え、真空度調整機構は真空配管に第１調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、真空配管に第２調整部を介して接続された大気開放部と、これら第１調整部および第２調整部を制御する制御部とを有することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１２】
本発明は、真空度調整機構は、真空漏れ発生部における真空度を検出する負圧センサを更に有し、制御部は負圧センサからの信号に基づいて第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１３】
本発明は、制御部は負圧センサからの信号に基づいて真空度を定め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第１調整部および第２調整部のいずれも閉とする段階、第１調整部を閉としかつ第２調整部を開とする段階、第１調整部および第２調整部のいずれも開とする段階、第１調整部を開としかつ第２調整部を閉とする段階となるよう第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１４】
本発明は、真空漏れ発生部は、ワークを収納するワーク収納孔を有する搬送テーブルを備えていることを特徴とする真空吸引システムである。
【００１５】
本発明は、真空漏れ発生部は、搬送テーブルの真空吸引機構側に設けられ、ワーク収納孔と連通する環状の真空吸引溝を有するテーブルベースを更に備えていることを特徴とする真空吸引システムである。
【００１６】
本発明は、搬送テーブルのテーブルベース側の面に、ワーク収納孔と真空吸引溝との間に位置する微小断面吸引溝を設けたことを特徴とする真空吸引システムである。
【００１７】
本発明は、搬送テーブルのワーク収納孔内に収納されたワークのワーク装填率を求めるワーク装填率測定部を更に備え、制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて、第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１８】
本発明は、制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて真空度を求め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第１調整部および第２調整部のいずれも閉とする段階、第１調整部を閉としかつ第２調整部を開とする段階、第１調整部および第２調整部のいずれも開とする段階、第１調整部を開としかつ第２調整部を閉とする段階となるよう第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１９】
本発明は、第１調整部と第２調整部は、その開度が可変となっていることを特徴とする真空吸引システムである。
【００２０】
本発明は、第１調整部及び又は第２調整部は、サーボバルブ及び／又はモータ駆動バルブからなることを特徴とする真空吸引システムである。
【００２１】
本発明は、真空漏れ発生部と、真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続する真空配管とを有する真空吸引機構と、この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構とを備え、真空調整機構は真空漏れ発生部における真空度を検出する負圧センサと、真空配管に第１調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、負圧センサからの信号に基づいて第１調整部を制御する制御部とを有することを特徴とする真空吸引システムである。
【発明の効果】
【００２２】
以上のように本発明によれば、真空漏れ発生部における真空度を安定させることができる。このため真空漏れ発生部としてワーク収納孔を有するワーク搬送テーブルを用いた場合、ワーク収納孔内にワークを安定して装填するとともに、ワーク収納孔からワークを安定して排出することができ、またワーク搬送テーブルによってワークを安定して搬送することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００２４】
図１乃至図６は本発明による真空吸引システムを示す図である。このうち図１は真空吸引システムを示す配管図、図２は本発明を適用したワーク搬送装置を示す平面図、図３（ａ）はワーク搬送装置の拡大平面図、図３（ｂ）はワーク搬送装置の拡大側断面図、図４は本発明による真空吸引システムの作用を示す図、図５は真空度のレベルとワークの装填率との関係を示す図、図６は電磁弁のＯＮ−ＯＦＦ制御を示す図である。
【００２５】
まず、図２および図３により本発明を適用したワーク搬送装置について説明する。
【００２６】
図２において、ワーク搬送装置１は、ベース４に固定して設けられたテーブルベース３と、このテーブルベース３上を回転するとともに多数のワーク収納孔５を有する搬送テーブル２とを備えている。
【００２７】
搬送テーブル２のワーク収納孔５は搬送テーブル２を貫通するとともに、環状に等間隔で配置され、これら多数のワーク収納孔５からなる収納孔列５ａが同心円状に複数列設けられている。テーブルベース３の搬送テーブル２側の表面には、搬送テーブル２の複数の収納孔列５ａにそれぞれ負圧を供給する為の環状の真空吸引溝７が設けられ、図３に示すように搬送テーブル２の各ワーク収納孔５は真空吸引溝７と微小断面吸引溝６を介して連通されている。この場合、微小断面吸引溝６は搬送テーブル２のテーブルベース３側の表面に設けられている。また、真空吸引溝７はテーブルベース３及びベース４を貫通して設けられた複数の真空吸引孔８を介して真空配管９に連通され、この真空配管９は図１に示すように更に絞り弁１６を介して真空発生源１７に連通している。この場合、真空配管９と真空発生源１７とによって真空吸引機構が構成される。
【００２８】
図２に示したワーク搬送装置１のワーク排出域においては、図３（ａ）（ｂ）に示すようにテーブルベース３及びベース４を貫通して噴射ノズル１１が設けられ、噴射ノズル１１は圧縮エア配管１２を介して図示しない圧縮エア制御手段に連通している。
【００２９】
また図１において、真空配管９はマニホルド部２３を有し、このマニホルド部２３において真空配管９は絞り弁１６を介して真空発生源１７へ連通するライン２３ａと、電磁弁（第１調整部）１８および絞り弁１９を介して圧縮エア発生源２０へ連通するライン２３ｂと、電磁弁（第２調整部）２１を介して大気開放部２２へ連通するライン２３ｃとに分岐している。
【００３０】
このうち真空発生源１７は真空を発生させ、真空配管９内を真空状態に保つものであり、圧縮エア発生源２０は真空配管９内に圧縮エアを噴射して真空配管９内の真空度を調整するものである。また大気開放部２２は真空配管９内を大気開放して、真空配管９内の真空度を調整するものである。
【００３１】
また真空配管９には、マニホルド部２３において負圧センサ１０が設けられている。負圧センサ１０は真空配管９内の真空度、すなわちワーク収納孔５以降の搬送テーブル２およびテーブルベース３側の真空度を検出するものである。
【００３２】
この場合、ワーク収納孔５を含む搬送テーブル２とテーブルベース３との隙間等から真空漏れ発生部が構成され、負圧センサ１０はこの真空漏れ発生部の真空度を検出することができる。
【００３３】
負圧センサ１０からの信号は制御部１０ａに送られ、この制御部１０ａにより電磁弁１８，２１を制御するようになっている。
【００３４】
また制御部１０ａには、搬送テーブル２のワーク収納孔５内に収納されたワークＷの装填率を求めるワーク装填率測定部１０ｂが接続されている。制御部１０ａはこのワーク装填率測定部１０ｂからの信号に基づいて、電磁弁１８，２１を制御することもできる。
【００３５】
なお、電磁弁１８，２１の代わりに後述のように、モータ駆動バルブまたはサーボバルブを用いることもできる。
【００３６】
図１において、マニホルド部２３、電磁弁１８，２１、絞り弁１６，１９は、いずれも制御エリア１５内に配置されている。
【００３７】
また、図１において、マニホルド部２３に電磁弁１８および絞り弁１９を介して接続された圧縮エア発生源２０と、マニホルド部２３に電磁弁２１を介して接続された大気開放部２２と、負圧センサ１０と、制御部１０ａとにより、真空配管９内の真空度を調整する真空度調整機構が構成されている。
【００３８】
次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
【００３９】
図２に示すように、ワーク搬送装置１のワーク装填域において図示しない装填手段によりワーク収納孔５にワークＷが装填される。ワーク収納孔５内に装填されたワークＷは、搬送テーブル２により途中で電気的測定手段（図示せず）により測定されながら回転搬送されて、ワーク搬送装置１のワーク排出域において噴射ノズル１１から噴射された圧縮エアによりワーク収納孔５から排出される。
【００４０】
この間、負圧センサ１０はワーク収納孔５および真空吸引溝７に連通する真空配管９内の真空度、すなわちワーク収納孔５を含むワーク搬送テーブル２とテーブルベース３とからなる真空漏れ発生部における真空度を検出する。
【００４１】
負圧センサ１０からの信号は、その後、制御部１０ａに送られ、制御部１０ａにより、真空配管９内の真空度が以下のように調整される。
【００４２】
まず、制御部１０ａによる真空配管９内の真空度調整の基本原理を述べる。ワーク収納孔５へのワークＷの装填率が高くなると吸引の真空度は高くなるから、真空配管９内へエアを供給して真空配管９内の真空度を下げる。また真空配管９内へのエアの供給方式としては、(a)大気圧への解放、及び(b)圧縮エアの噴射の２方式を用いる。特に(b)の圧縮エアは高圧が得られるため応答が速く、また、(a)の大気圧への解放は応答が遅いが、より精密な制御が可能である。
【００４３】
以上のことから前記(a)(b)を組み合わせ、或いは(a)(b)を各々単独で用いる。
【００４４】
なお、圧縮エアの噴射はそれぞれ最少時間を単位としてセットし、それを単位時間当たり何回の割合で供給する。
【００４５】
以下、ワーク装填率と、その制御の組み合わせを示す。
【００４６】
負圧センサ１０により真空配管９内の真空度を検知して条件により真空度のレベルを設定し、この真空度のレベルに応じて制御の組合せを定める。
(1)レベル１（初期設定真空圧：装填率０％時の圧力であってワーク１個でも搬送中に落下が無い最低真空圧） ：エア噴射ゼロ
(2)レベル１〜レベル２（装填率が低い状態の真空圧） ：エア噴射ゼロ
(3)レベル２〜レベル３（装填率が中位の状態の真空圧） ：大気圧によるエア供給
(4)レベル３〜レベル４（装填率が高い状態の真空圧） ：大気圧＋圧縮エア噴射
(5)レベル４以上 ：圧縮エア噴射
【００４７】
次に図４乃至図６により、制御部１０ａによる具体的な制御作用について説明する。
【００４８】
図１において、それぞれのワーク収納孔５と真空吸引溝７を連通させる微小断面吸引溝６の断面は、真空漏れ量を制限する絞り６ａの役目を果たしており、全てのワーク収納孔５内にワークＷが装填されていない状態（装填率０％）でも、真空吸引溝７内の真空度は確保される。この装填率０％のとき、絞り弁１６の調整によりワーク収納孔５内にワークＷを吸引保持するのに必要な最低限の真空度が設定（レベル１）されている。
【００４９】
ワーク収納孔５内にワークＷが装填されると、ワーク装填率の変化に伴い真空配管９のマニホルド部２３の真空度が変化する。
【００５０】
この間、負圧センサ１０によりマニホルド部２３の真空度が監視され、負圧センサ１０からの信号が制御部１０ａに送られる。制御部１０ａ内には、ワーク装填率に対応した図５に示すような真空度のレベルが設定されている。このように、真空配管９内の真空度（真空圧力）のレベルはワークＷの装填率により変化する。制御部１０ａはこの真空度のレベル１−４および４以上に対応させて、真空配管９内の真空度を段階毎に調整する。
【００５１】
すなわち制御部１０ａは負圧センサ１０からの信号に基づいて、マニホルド部２３内の真空度がレベル１からレベル２のとき、電磁弁１８，２１をともに閉（ＯＦＦ）となるように制御し、マニホルド部２３内の真空度をそのまま維持する。
【００５２】
マニホルド部２３内の真空度がレベル２からレベル３のとき、制御部１０ａは大気圧のエア用の電磁弁２１を開（ＯＮ）とし、圧縮エア用の電磁弁１８を閉（ＯＦＦ）となるように制御する。この場合、マニホルド部２３内には大気開放部２２を介して大気圧のエアが供給され、マニホルド部２３内の真空度がわずかに低下し、このようにしてマニホルド部２３内の真空度が調整される。
【００５３】
また真空度のレベル２からレベル３の間においても、レベルが上昇するにつれて大気圧のエア用の電磁弁２１の開の回数を増加させて、マニホルド部２３内の真空度をきめ細かく調整する。
【００５４】
マニホルド部２３内の真空度がレベル３からレベル４のとき、制御部１０ａは圧縮エア用の電磁弁１８を短時間だけ開（ＯＮ）とし、かつ大気圧のエア用の電磁弁２１を開（ＯＮ）となるよう制御する。この場合、マニホルド部２３内は大気開放部２２を介して大気解放され、マニホルド部２３内に大気圧のエアが供給される。同時に圧縮エア発生源２０から圧縮エアが短時間噴射される。このためマニホルド部２３内の真空度が低下し、このようにしてマニホルド部２３内の真空度が調整される。
【００５５】
またレベル３からレベル４の間においても、レベルが上昇するにつれて電磁弁１８の開の回数を増加させてマニホルド部２３内の真空度をきめ細かく調整する。
【００５６】
マニホルド部２３内の真空度がレベル４以上のとき、制御部１０ａは電磁弁１８を開（ＯＮ）とし、かつ電磁弁２１を閉（ＯＦＦ）となるよう制御する。この場合、マニホルド部２３内には圧縮エア発生源２０から圧縮エアが噴射され、マニホルド部２３内の真空度が低下し、このようにしてマニホルド部２３内の真空度が調整される。
【００５７】
この間、電磁弁１８，２１は開動作中、連続した開状態をとってもよく、ＯＮ−ＯＦＦのサイクルを繰り返して断続的な開状態をとってもよい。
【００５８】
断続的な開動作中、電磁弁１８，２１がＯＮしている時間ｔ１は、例えば５ｍｓのように固定されており、図４に示す圧縮エア噴射回数／秒（大気開放回数／秒）が変化するとサイクルタイムｔ３及び休止時間ｔ２が変化するようになっている。例えば５０回／秒の場合のサイクルタイムｔ３は２０ｍｓ、噴射時間ｔ１は５ｍｓ、休止時間ｔ２は１５ｍｓとなる。
【００５９】
上述のようにマニホルド部２３の真空度がレベル２からレベル４の間、制御部１０ａにより電磁弁１８，２１が制御される。この場合、マニホルド部２３内に絞り弁１９により設定された噴射圧力Ｐ１の圧縮エアが圧縮エア発生源１７から間欠的に噴射され、あるいはマニホルド部２３が間欠的に大気開放されて大気開放部２２からマニホルド部２３内に大気が流入して真空度が調整される。
【００６０】
レベル２未満になると両電磁弁１８，２１とも閉となり、負圧の減圧動作が停止するようになっている。なお、レベル２は前記ワーク収納孔５内にワークＷを吸引保持するのに必要な最低限の真空度（レベル１）より少し高く設定され、通常状態においてはレベル２以上レベル４未満の範囲でワークＷの装填・搬送・排出がされるようになっている。
【００６１】
上記実施の形態において、制御部１０ａが負圧センサ１０からの信号に基づいて、電磁弁１８，２１を制御してマニホルド部２３内の真空度を調整する例について説明したが、これに限らず、制御部１０ａはワーク装填率測定部１０ｂからの信号に基づいて電磁弁１８，２１を制御してもよい。
【００６２】
すなわち、ワーク装填率測定部１０ｂは、常時搬送テーブル２のワーク収納孔５内に収納されるワークＷのワーク装填率を測定している。ワーク装填率測定部１０ｂは、このワーク装填率を制御部１０ａに送る。
【００６３】
制御部１０ａは、図５に示すように、マニホルド部２３内の真空度とワーク装填率との関係を内蔵しており、ワーク装填率測定部１０ｂからの信号に基づいて、真空度とワーク装填率との関係を用いてマニホルド部２３内の真空度のレベル１−４および４以上を決定する。
【００６４】
次に制御部１０ａは決定した真空度のレベル１−４および４以上に対応して、上述と同様、電磁弁１８，２１を制御する。
【００６５】
すなわち制御部１０ａは、レベル１からレベル２の場合、電磁弁１８，２１を閉とし、レベル２からレベル３の場合、電磁弁１８を閉、電磁弁２１を開としてマニホルド部２３と大気開放部２３とを連通させる。レベル３からレベル４の場合、制御部１０ａは電磁弁１８を短時間開としてマニホルド部２３内に圧縮エア発生源２０から圧縮エアを噴射し、かつ電磁弁２１を開とし、マニホルド部２３内に大気を供給する。その後制御部１０ａはレベル４以上の場合、電磁弁１８を開としてマニホルド部２３内に圧縮エア発生源２０から圧縮エアを噴射し、かつ電磁弁２１を閉とする。
【００６６】
次に図７により本発明の変形例について説明する。図７に示す変形例は、真空配管９のマニホルド部２３に接続された電磁弁２１および大気開放部２２を削除するとともに、マニホルド部２３にサーボバルブ２６を介して圧縮エア発生源２０を接続したものである。なおサーボバルブ２６の代わりにモータ駆動バルブを設けてもよい。
【００６７】
またマニホルド部２３には、負圧に応じたアナログ値を出力する負圧センサ１０ｃが接続されている。負圧センサ１０ｃからの信号は制御部１０ａに送られ、制御部１０ａによりアナログ値からなる負圧センサ１０ｃからの信号に基づいて、サーボバルブ２６が制御される。
【００６８】
この場合、制御部１０ｂは負圧センサ１０ｃからの信号に基づいて、マニホルド部２３内の真空度を定め、マニホルド部２３内の真空度に基づいてサーボバルブ２６を制御して圧縮エア発生源２０からの圧縮エアをマニホルド部２３内に噴射して、真空度を調整する。
【００６９】
図７において、サーボバルブ２６を負圧センサ１０ｃからのアナログ信号に基づいて制御することができるので、マニホルド部２３内の真空度を高速かつ高精度に制御することができる。
【００７０】
なお、図７において、図１乃至図６に示す実施の形態と同一部分には、同一符号を符して詳細な説明は省略する。
【００７１】
このように、上記各実施の形態によればワークＷを吸引する真空配管９中に圧縮エアを噴射するとともに、真空配管９内を大気開放とすることにより、真空配管９内の真空度をきめ細かく調整することができる。
【００７２】
なお真空配管９への圧縮エアの噴射および大気開放の制御方法について、レベル１〜レベル４およびレベル４以上に応じて図４、図５に示すように行なわれるが、図４、図５は制御方法の一例であって、ワーク収納孔５の個数や真空配管９の容積、或いは真空発生源１７および圧縮エア発生源２０の容易さや供給圧力の可変性によって種々の制御方法をとることができる。
【００７３】
また図１において、絞り弁１６，１９は必ずしも設けなくてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明による真空吸引システムの配管図。
【図２】本発明を適用したワーク搬送装置を示す平面図。
【図３】本発明を適用したワーク搬送装置を示す拡大図。
【図４】本発明による真空吸引システムの作用を示す図。
【図５】真空度のレベルとワークの装填率との関係を示す図。
【図６】電磁弁のＯＮ−ＯＦＦ制御を示す図。
【図７】本発明による真空吸引システムの変形例を示す図。
【図８】従来の真空吸引システムを示す図。
【図９】図８に示す真空吸引システムの配管図。
【図１０】ワーク装填率と真空度との関連を説明する図。
【符号の説明】
【００７５】
１ ワーク搬送装置
２ 搬送テーブル
３ テーブルベース
４ ベース
５ ワーク収納孔
６ 微小断面吸引溝
７ 真空吸引溝
８ 真空吸引孔
９ 真空配管
１０ 負圧センサ
１０ａ 制御部
１０ｂ ワーク装填率測定部
１０ｃ 負圧センサ
１１ 噴射ノズル
１２ 圧縮エア配管
１６ 絞り弁
１７ 真空発生源
１８ 電磁弁
１９ 絞り弁
２０ 圧縮エア発生源
２１ 電磁弁
２２ 大気開放部
２３ マニホルド部
２６ サーボバルブ
Ｗ ワーク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品であるチップ部品のワークを搬送テーブルのワーク収納孔に吸引するための真空吸引システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
図８乃至図１０により、ワークを搬送テーブルのワーク収納孔に吸引する従来の真空吸引システムについて述べる。
【０００３】
このうち図８は従来の真空吸引システムを搬送テーブルに適用した例を示す部分縦断面、図９は図８に示す真空吸引システムの配管図、図１０はワーク装填率と真空度との関連を説明するタイムチャートである。
【０００４】
図８において、搬送テーブル２は、テーブルベース３上に回転自在に設けられ、このテーブルベース３はベース４上に固定して設けられている。また、搬送テーブル２を貫通して複数のワーク収納孔５が環状に設けられ、このワーク収納孔５により同心円状の複数列の収納孔列が形成されている。
【０００５】
またテーブルベース３には真空吸引溝３０が環状に設けられている。この真空吸引溝３０は、テーブルベース３及びベース４を貫通して設けられた真空吸引孔８を介して真空配管９に連通し、この真空配管９はさらに図９に示す真空発生源１７に絞り弁１６を介して連通している。また真空吸引溝３０と真空発生源１７との間には、負圧センサ３１が設けられている。また、真空吸引溝３０は搬送テーブル２のワーク収納孔５からなる複数の収納孔列と同心円状に構成され、各真空吸引溝３０は収納孔列に設けられた複数のワーク収納孔５の一部に連通されている。
【０００６】
また搬送テーブル２にはワーク排出部が設けられ、このワーク排出部には、図８に示すようにテーブルベース３及びベース４を貫通して噴射ノズル１１が設けられている。この噴射ノズル１１は圧縮エア配管１２を介して図示しない圧縮エア制御手段に連通している。
【０００７】
図８乃至図１０において、真空吸引溝３０は、真空配管９及び真空吸引孔８を介して真空発生源１７に連通しているため、真空吸引溝３０が真空発生源１７によって負圧化されるとともに、真空吸引溝３０に連通する複数のワーク収納孔５が負圧化される。搬送テーブル２上に載置されたワークＷまたは搬送テーブル２に当接したワークＷは、ワーク収納孔５の負圧により吸引されてワーク収納孔５内に装填される。
【０００８】
ワーク収納孔５と真空吸引溝３０との間には漏れが生じるため、すべてのワーク収納孔５にワークＷが装填されたとき、真空吸引溝３０内の真空度が最も高くなり（以下最高真空度Ｐ２という）、全てのワーク収納孔５にワークＷが全く収納されず開放されているとき、真空吸引溝３０内の真空度が最低真空度となる（図１０参照）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、全てのワーク収納孔５が開放されて真空度が最低の場合であっても、ワークＷを吸引してワーク収納孔５に装填することができるよう、真空吸引溝３０内の最低真空度はワークＷの装填が可能な値に設定されている。しかしながら、ワーク収納孔５には真空吸引溝３０が直接連通しており、かつワーク収納孔５と真空吸引溝３０の間の流路抵抗が小さいため、一部のワーク収納孔５内にワークＷが装填されなかった場合でも、最高真空度Ｐ２からの真空度の低下は極めて大きくなる。このため、最低真空度を装填可能な真空度として確保すると、最高真空度Ｐ２が極端に高くなり、ワーク排出部において噴射ノズル１１から圧縮エアを噴射してワークＷを排出しようとしたとき、圧縮エアの噴射力と吸引力が相殺されて排出不良が生じることがある。この傾向は同時複数のワークＷの排出では更に高くなる。また、ワークＷの吸引力が上昇すると、ワークＷとテーブルベース３との摩擦力が上昇したり、搬送テーブル２とテーブルベース３間が空気吸引により摩擦が発生し、テーブル２の回転が不安定となることがある。
【００１０】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、ワークを安定して搬送テーブルに装填することができ、かつワークを安定して搬送テーブルにより搬送し、かつ排出することができる真空吸引システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、真空漏れ発生部と、真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続する真空配管とを有する真空吸引機構と、この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構とを備え、真空度調整機構は真空配管に第１調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、真空配管に第２調整部を介して接続された大気開放部と、これら第１調整部および第２調整部を制御する制御部とを有することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１２】
本発明は、真空度調整機構は、真空漏れ発生部における真空度を検出する負圧センサを更に有し、制御部は負圧センサからの信号に基づいて第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１３】
本発明は、制御部は負圧センサからの信号に基づいて真空度を定め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第１調整部および第２調整部のいずれも閉とする段階、第１調整部を閉としかつ第２調整部を開とする段階、第１調整部および第２調整部のいずれも開とする段階、第１調整部を開としかつ第２調整部を閉とする段階となるよう第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１４】
本発明は、真空漏れ発生部は、ワークを収納するワーク収納孔を有する搬送テーブルを備えていることを特徴とする真空吸引システムである。
【００１５】
本発明は、真空漏れ発生部は、搬送テーブルの真空吸引機構側に設けられ、ワーク収納孔と連通する環状の真空吸引溝を有するテーブルベースを更に備えていることを特徴とする真空吸引システムである。
【００１６】
本発明は、搬送テーブルのテーブルベース側の面に、ワーク収納孔と真空吸引溝との間に位置する微小断面吸引溝を設けたことを特徴とする真空吸引システムである。
【００１７】
本発明は、搬送テーブルのワーク収納孔内に収納されたワークのワーク装填率を求めるワーク装填率測定部を更に備え、制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて、第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１８】
本発明は、制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて真空度を求め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第１調整部および第２調整部のいずれも閉とする段階、第１調整部を閉としかつ第２調整部を開とする段階、第１調整部および第２調整部のいずれも開とする段階、第１調整部を開としかつ第２調整部を閉とする段階となるよう第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする真空吸引システムである。
【００１９】
本発明は、第１調整部と第２調整部は、その開度が可変となっていることを特徴とする真空吸引システムである。
【００２０】
本発明は、第１調整部及び又は第２調整部は、サーボバルブ及び／又はモータ駆動バルブからなることを特徴とする真空吸引システムである。
【００２１】
本発明は、真空漏れ発生部と、真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続する真空配管とを有する真空吸引機構と、この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構とを備え、真空調整機構は真空漏れ発生部における真空度を検出する負圧センサと、真空配管に第１調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、負圧センサからの信号に基づいて第１調整部を制御する制御部とを有することを特徴とする真空吸引システムである。
【発明の効果】
【００２２】
以上のように本発明によれば、真空漏れ発生部における真空度を安定させることができる。このため真空漏れ発生部としてワーク収納孔を有するワーク搬送テーブルを用いた場合、ワーク収納孔内にワークを安定して装填するとともに、ワーク収納孔からワークを安定して排出することができ、またワーク搬送テーブルによってワークを安定して搬送することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００２４】
図１乃至図６は本発明による真空吸引システムを示す図である。このうち図１は真空吸引システムを示す配管図、図２は本発明を適用したワーク搬送装置を示す平面図、図３（ａ）はワーク搬送装置の拡大平面図、図３（ｂ）はワーク搬送装置の拡大側断面図、図４は本発明による真空吸引システムの作用を示す図、図５は真空度のレベルとワークの装填率との関係を示す図、図６は電磁弁のＯＮ−ＯＦＦ制御を示す図である。
【００２５】
まず、図２および図３により本発明を適用したワーク搬送装置について説明する。
【００２６】
図２において、ワーク搬送装置１は、ベース４に固定して設けられたテーブルベース３と、このテーブルベース３上を回転するとともに多数のワーク収納孔５を有する搬送テーブル２とを備えている。
【００２７】
搬送テーブル２のワーク収納孔５は搬送テーブル２を貫通するとともに、環状に等間隔で配置され、これら多数のワーク収納孔５からなる収納孔列５ａが同心円状に複数列設けられている。テーブルベース３の搬送テーブル２側の表面には、搬送テーブル２の複数の収納孔列５ａにそれぞれ負圧を供給する為の環状の真空吸引溝７が設けられ、図３に示すように搬送テーブル２の各ワーク収納孔５は真空吸引溝７と微小断面吸引溝６を介して連通されている。この場合、微小断面吸引溝６は搬送テーブル２のテーブルベース３側の表面に設けられている。また、真空吸引溝７はテーブルベース３及びベース４を貫通して設けられた複数の真空吸引孔８を介して真空配管９に連通され、この真空配管９は図１に示すように更に絞り弁１６を介して真空発生源１７に連通している。この場合、真空配管９と真空発生源１７とによって真空吸引機構が構成される。
【００２８】
図２に示したワーク搬送装置１のワーク排出域においては、図３（ａ）（ｂ）に示すようにテーブルベース３及びベース４を貫通して噴射ノズル１１が設けられ、噴射ノズル１１は圧縮エア配管１２を介して図示しない圧縮エア制御手段に連通している。
【００２９】
また図１において、真空配管９はマニホルド部２３を有し、このマニホルド部２３において真空配管９は絞り弁１６を介して真空発生源１７へ連通するライン２３ａと、電磁弁（第１調整部）１８および絞り弁１９を介して圧縮エア発生源２０へ連通するライン２３ｂと、電磁弁（第２調整部）２１を介して大気開放部２２へ連通するライン２３ｃとに分岐している。
【００３０】
このうち真空発生源１７は真空を発生させ、真空配管９内を真空状態に保つものであり、圧縮エア発生源２０は真空配管９内に圧縮エアを噴射して真空配管９内の真空度を調整するものである。また大気開放部２２は真空配管９内を大気開放して、真空配管９内の真空度を調整するものである。
【００３１】
また真空配管９には、マニホルド部２３において負圧センサ１０が設けられている。負圧センサ１０は真空配管９内の真空度、すなわちワーク収納孔５以降の搬送テーブル２およびテーブルベース３側の真空度を検出するものである。
【００３２】
この場合、ワーク収納孔５を含む搬送テーブル２とテーブルベース３との隙間等から真空漏れ発生部が構成され、負圧センサ１０はこの真空漏れ発生部の真空度を検出することができる。
【００３３】
負圧センサ１０からの信号は制御部１０ａに送られ、この制御部１０ａにより電磁弁１８，２１を制御するようになっている。
【００３４】
また制御部１０ａには、搬送テーブル２のワーク収納孔５内に収納されたワークＷの装填率を求めるワーク装填率測定部１０ｂが接続されている。制御部１０ａはこのワーク装填率測定部１０ｂからの信号に基づいて、電磁弁１８，２１を制御することもできる。
【００３５】
なお、電磁弁１８，２１の代わりに後述のように、モータ駆動バルブまたはサーボバルブを用いることもできる。
【００３６】
図１において、マニホルド部２３、電磁弁１８，２１、絞り弁１６，１９は、いずれも制御エリア１５内に配置されている。
【００３７】
また、図１において、マニホルド部２３に電磁弁１８および絞り弁１９を介して接続された圧縮エア発生源２０と、マニホルド部２３に電磁弁２１を介して接続された大気開放部２２と、負圧センサ１０と、制御部１０ａとにより、真空配管９内の真空度を調整する真空度調整機構が構成されている。
【００３８】
次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
【００３９】
図２に示すように、ワーク搬送装置１のワーク装填域において図示しない装填手段によりワーク収納孔５にワークＷが装填される。ワーク収納孔５内に装填されたワークＷは、搬送テーブル２により途中で電気的測定手段（図示せず）により測定されながら回転搬送されて、ワーク搬送装置１のワーク排出域において噴射ノズル１１から噴射された圧縮エアによりワーク収納孔５から排出される。
【００４０】
この間、負圧センサ１０はワーク収納孔５および真空吸引溝７に連通する真空配管９内の真空度、すなわちワーク収納孔５を含むワーク搬送テーブル２とテーブルベース３とからなる真空漏れ発生部における真空度を検出する。
【００４１】
負圧センサ１０からの信号は、その後、制御部１０ａに送られ、制御部１０ａにより、真空配管９内の真空度が以下のように調整される。
【００４２】
まず、制御部１０ａによる真空配管９内の真空度調整の基本原理を述べる。ワーク収納孔５へのワークＷの装填率が高くなると吸引の真空度は高くなるから、真空配管９内へエアを供給して真空配管９内の真空度を下げる。また真空配管９内へのエアの供給方式としては、(a)大気圧への解放、及び(b)圧縮エアの噴射の２方式を用いる。特に(b)の圧縮エアは高圧が得られるため応答が速く、また、(a)の大気圧への解放は応答が遅いが、より精密な制御が可能である。
【００４３】
以上のことから前記(a)(b)を組み合わせ、或いは(a)(b)を各々単独で用いる。
【００４４】
なお、圧縮エアの噴射はそれぞれ最少時間を単位としてセットし、それを単位時間当たり何回の割合で供給する。
【００４５】
以下、ワーク装填率と、その制御の組み合わせを示す。
【００４６】
負圧センサ１０により真空配管９内の真空度を検知して条件により真空度のレベルを設定し、この真空度のレベルに応じて制御の組合せを定める。
(1)レベル１（初期設定真空圧：装填率０％時の圧力であってワーク１個でも搬送中に落下が無い最低真空圧） ：エア噴射ゼロ
(2)レベル１〜レベル２（装填率が低い状態の真空圧） ：エア噴射ゼロ
(3)レベル２〜レベル３（装填率が中位の状態の真空圧） ：大気圧によるエア供給
(4)レベル３〜レベル４（装填率が高い状態の真空圧） ：大気圧＋圧縮エア噴射
(5)レベル４以上 ：圧縮エア噴射
【００４７】
次に図４乃至図６により、制御部１０ａによる具体的な制御作用について説明する。
【００４８】
図１において、それぞれのワーク収納孔５と真空吸引溝７を連通させる微小断面吸引溝６の断面は、真空漏れ量を制限する絞り６ａの役目を果たしており、全てのワーク収納孔５内にワークＷが装填されていない状態（装填率０％）でも、真空吸引溝７内の真空度は確保される。この装填率０％のとき、絞り弁１６の調整によりワーク収納孔５内にワークＷを吸引保持するのに必要な最低限の真空度が設定（レベル１）されている。
【００４９】
ワーク収納孔５内にワークＷが装填されると、ワーク装填率の変化に伴い真空配管９のマニホルド部２３の真空度が変化する。
【００５０】
この間、負圧センサ１０によりマニホルド部２３の真空度が監視され、負圧センサ１０からの信号が制御部１０ａに送られる。制御部１０ａ内には、ワーク装填率に対応した図５に示すような真空度のレベルが設定されている。このように、真空配管９内の真空度（真空圧力）のレベルはワークＷの装填率により変化する。制御部１０ａはこの真空度のレベル１−４および４以上に対応させて、真空配管９内の真空度を段階毎に調整する。
【００５１】
すなわち制御部１０ａは負圧センサ１０からの信号に基づいて、マニホルド部２３内の真空度がレベル１からレベル２のとき、電磁弁１８，２１をともに閉（ＯＦＦ）となるように制御し、マニホルド部２３内の真空度をそのまま維持する。
【００５２】
マニホルド部２３内の真空度がレベル２からレベル３のとき、制御部１０ａは大気圧のエア用の電磁弁２１を開（ＯＮ）とし、圧縮エア用の電磁弁１８を閉（ＯＦＦ）となるように制御する。この場合、マニホルド部２３内には大気開放部２２を介して大気圧のエアが供給され、マニホルド部２３内の真空度がわずかに低下し、このようにしてマニホルド部２３内の真空度が調整される。
【００５３】
また真空度のレベル２からレベル３の間においても、レベルが上昇するにつれて大気圧のエア用の電磁弁２１の開の回数を増加させて、マニホルド部２３内の真空度をきめ細かく調整する。
【００５４】
マニホルド部２３内の真空度がレベル３からレベル４のとき、制御部１０ａは圧縮エア用の電磁弁１８を短時間だけ開（ＯＮ）とし、かつ大気圧のエア用の電磁弁２１を開（ＯＮ）となるよう制御する。この場合、マニホルド部２３内は大気開放部２２を介して大気解放され、マニホルド部２３内に大気圧のエアが供給される。同時に圧縮エア発生源２０から圧縮エアが短時間噴射される。このためマニホルド部２３内の真空度が低下し、このようにしてマニホルド部２３内の真空度が調整される。
【００５５】
またレベル３からレベル４の間においても、レベルが上昇するにつれて電磁弁１８の開の回数を増加させてマニホルド部２３内の真空度をきめ細かく調整する。
【００５６】
マニホルド部２３内の真空度がレベル４以上のとき、制御部１０ａは電磁弁１８を開（ＯＮ）とし、かつ電磁弁２１を閉（ＯＦＦ）となるよう制御する。この場合、マニホルド部２３内には圧縮エア発生源２０から圧縮エアが噴射され、マニホルド部２３内の真空度が低下し、このようにしてマニホルド部２３内の真空度が調整される。
【００５７】
この間、電磁弁１８，２１は開動作中、連続した開状態をとってもよく、ＯＮ−ＯＦＦのサイクルを繰り返して断続的な開状態をとってもよい。
【００５８】
断続的な開動作中、電磁弁１８，２１がＯＮしている時間ｔ１は、例えば５ｍｓのように固定されており、図４に示す圧縮エア噴射回数／秒（大気開放回数／秒）が変化するとサイクルタイムｔ３及び休止時間ｔ２が変化するようになっている。例えば５０回／秒の場合のサイクルタイムｔ３は２０ｍｓ、噴射時間ｔ１は５ｍｓ、休止時間ｔ２は１５ｍｓとなる。
【００５９】
上述のようにマニホルド部２３の真空度がレベル２からレベル４の間、制御部１０ａにより電磁弁１８，２１が制御される。この場合、マニホルド部２３内に絞り弁１９により設定された噴射圧力Ｐ１の圧縮エアが圧縮エア発生源１７から間欠的に噴射され、あるいはマニホルド部２３が間欠的に大気開放されて大気開放部２２からマニホルド部２３内に大気が流入して真空度が調整される。
【００６０】
レベル２未満になると両電磁弁１８，２１とも閉となり、負圧の減圧動作が停止するようになっている。なお、レベル２は前記ワーク収納孔５内にワークＷを吸引保持するのに必要な最低限の真空度（レベル１）より少し高く設定され、通常状態においてはレベル２以上レベル４未満の範囲でワークＷの装填・搬送・排出がされるようになっている。
【００６１】
上記実施の形態において、制御部１０ａが負圧センサ１０からの信号に基づいて、電磁弁１８，２１を制御してマニホルド部２３内の真空度を調整する例について説明したが、これに限らず、制御部１０ａはワーク装填率測定部１０ｂからの信号に基づいて電磁弁１８，２１を制御してもよい。
【００６２】
すなわち、ワーク装填率測定部１０ｂは、常時搬送テーブル２のワーク収納孔５内に収納されるワークＷのワーク装填率を測定している。ワーク装填率測定部１０ｂは、このワーク装填率を制御部１０ａに送る。
【００６３】
制御部１０ａは、図５に示すように、マニホルド部２３内の真空度とワーク装填率との関係を内蔵しており、ワーク装填率測定部１０ｂからの信号に基づいて、真空度とワーク装填率との関係を用いてマニホルド部２３内の真空度のレベル１−４および４以上を決定する。
【００６４】
次に制御部１０ａは決定した真空度のレベル１−４および４以上に対応して、上述と同様、電磁弁１８，２１を制御する。
【００６５】
すなわち制御部１０ａは、レベル１からレベル２の場合、電磁弁１８，２１を閉とし、レベル２からレベル３の場合、電磁弁１８を閉、電磁弁２１を開としてマニホルド部２３と大気開放部２３とを連通させる。レベル３からレベル４の場合、制御部１０ａは電磁弁１８を短時間開としてマニホルド部２３内に圧縮エア発生源２０から圧縮エアを噴射し、かつ電磁弁２１を開とし、マニホルド部２３内に大気を供給する。その後制御部１０ａはレベル４以上の場合、電磁弁１８を開としてマニホルド部２３内に圧縮エア発生源２０から圧縮エアを噴射し、かつ電磁弁２１を閉とする。
【００６６】
次に図７により本発明の変形例について説明する。図７に示す変形例は、真空配管９のマニホルド部２３に接続された電磁弁２１および大気開放部２２を削除するとともに、マニホルド部２３にサーボバルブ２６を介して圧縮エア発生源２０を接続したものである。なおサーボバルブ２６の代わりにモータ駆動バルブを設けてもよい。
【００６７】
またマニホルド部２３には、負圧に応じたアナログ値を出力する負圧センサ１０ｃが接続されている。負圧センサ１０ｃからの信号は制御部１０ａに送られ、制御部１０ａによりアナログ値からなる負圧センサ１０ｃからの信号に基づいて、サーボバルブ２６が制御される。
【００６８】
この場合、制御部１０ｂは負圧センサ１０ｃからの信号に基づいて、マニホルド部２３内の真空度を定め、マニホルド部２３内の真空度に基づいてサーボバルブ２６を制御して圧縮エア発生源２０からの圧縮エアをマニホルド部２３内に噴射して、真空度を調整する。
【００６９】
図７において、サーボバルブ２６を負圧センサ１０ｃからのアナログ信号に基づいて制御することができるので、マニホルド部２３内の真空度を高速かつ高精度に制御することができる。
【００７０】
なお、図７において、図１乃至図６に示す実施の形態と同一部分には、同一符号を符して詳細な説明は省略する。
【００７１】
このように、上記各実施の形態によればワークＷを吸引する真空配管９中に圧縮エアを噴射するとともに、真空配管９内を大気開放とすることにより、真空配管９内の真空度をきめ細かく調整することができる。
【００７２】
なお真空配管９への圧縮エアの噴射および大気開放の制御方法について、レベル１〜レベル４およびレベル４以上に応じて図４、図５に示すように行なわれるが、図４、図５は制御方法の一例であって、ワーク収納孔５の個数や真空配管９の容積、或いは真空発生源１７および圧縮エア発生源２０の容易さや供給圧力の可変性によって種々の制御方法をとることができる。
【００７３】
また図１において、絞り弁１６，１９は必ずしも設けなくてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明による真空吸引システムの配管図。
【図２】本発明を適用したワーク搬送装置を示す平面図。
【図３】本発明を適用したワーク搬送装置を示す拡大図。
【図４】本発明による真空吸引システムの作用を示す図。
【図５】真空度のレベルとワークの装填率との関係を示す図。
【図６】電磁弁のＯＮ−ＯＦＦ制御を示す図。
【図７】本発明による真空吸引システムの変形例を示す図。
【図８】従来の真空吸引システムを示す図。
【図９】図８に示す真空吸引システムの配管図。
【図１０】ワーク装填率と真空度との関連を説明する図。
【符号の説明】
【００７５】
１ ワーク搬送装置
２ 搬送テーブル
３ テーブルベース
４ ベース
５ ワーク収納孔
６ 微小断面吸引溝
７ 真空吸引溝
８ 真空吸引孔
９ 真空配管
１０ 負圧センサ
１０ａ 制御部
１０ｂ ワーク装填率測定部
１０ｃ 負圧センサ
１１ 噴射ノズル
１２ 圧縮エア配管
１６ 絞り弁
１７ 真空発生源
１８ 電磁弁
１９ 絞り弁
２０ 圧縮エア発生源
２１ 電磁弁
２２ 大気開放部
２３ マニホルド部
２６ サーボバルブ
Ｗ ワーク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空漏れ発生部と、
真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続する真空配管とを有する真空吸引機構と、
この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構とを備え、
真空度調整機構は真空配管に第１調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、真空配管に第２調整部を介して接続された大気開放部と、これら第１調整部および第２調整部を制御する制御部とを有することを特徴とする真空吸引システム。
【請求項２】
真空度調整機構は、真空漏れ発生部における真空度を検出する負圧センサを更に有し、制御部は負圧センサからの信号に基づいて第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする請求項１記載の真空吸引システム。
【請求項３】
制御部は負圧センサからの信号に基づいて真空度を定め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第１調整部および第２調整部のいずれも閉とする段階、第１調整部を閉としかつ第２調整部を開とする段階、第１調整部および第２調整部のいずれも開とする段階、第１調整部を開としかつ第２調整部を閉とする段階となるよう第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする請求項２記載の真空吸引システム。
【請求項４】
真空漏れ発生部は、ワークを収納するワーク収納孔を有する搬送テーブルを備えていることを特徴とする請求項１記載の真空吸引システム。
【請求項５】
真空漏れ発生部は、搬送テーブルの真空吸引機構側に設けられ、ワーク収納孔と連通する環状の真空吸引溝を有するテーブルベースを更に備えていることを特徴とする請求項４記載の真空吸引システム。
【請求項６】
搬送テーブルのテーブルベース側の面に、ワーク収納孔と真空吸引溝との間に位置する微小断面吸引溝を設けたことを特徴とする請求項５記載の真空吸引システム。
【請求項７】
搬送テーブルのワーク収納孔内に収納されたワークのワーク装填率を求めるワーク装填率測定部を更に備え、
制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて、第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする請求項４記載の真空吸引システム。
【請求項８】
制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて真空度を求め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第１調整部および第２調整部のいずれも閉とする段階、第１調整部を閉としかつ第２調整部を開とする段階、第１調整部および第２調整部のいずれも開とする段階、第１調整部を開としかつ第２調整部を閉とする段階となるよう第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする請求項７記載の真空吸引システム。
【請求項９】
第１調整部と第２調整部は、その開度が可変となっていることを特徴とする請求項１記載の真空吸引システム。
【請求項１０】
第１調整部及び又は第２調整部は、サーボバルブ及び／又はモータ駆動バルブからなることを特徴とする請求項９記載の真空吸引システム。
【請求項１１】
真空漏れ発生部と、
真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続する真空配管とを有する真空吸引機構と、
この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構とを備え、
真空調整機構は真空漏れ発生部における真空度を検出する負圧センサと、真空配管に第１調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、負圧センサからの信号に基づいて第１調整部を制御する制御部とを有することを特徴とする真空吸引システム。
【請求項１】
真空漏れ発生部と、
真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続する真空配管とを有する真空吸引機構と、
この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構とを備え、
真空度調整機構は真空配管に第１調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、真空配管に第２調整部を介して接続された大気開放部と、これら第１調整部および第２調整部を制御する制御部とを有することを特徴とする真空吸引システム。
【請求項２】
真空度調整機構は、真空漏れ発生部における真空度を検出する負圧センサを更に有し、制御部は負圧センサからの信号に基づいて第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする請求項１記載の真空吸引システム。
【請求項３】
制御部は負圧センサからの信号に基づいて真空度を定め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第１調整部および第２調整部のいずれも閉とする段階、第１調整部を閉としかつ第２調整部を開とする段階、第１調整部および第２調整部のいずれも開とする段階、第１調整部を開としかつ第２調整部を閉とする段階となるよう第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする請求項２記載の真空吸引システム。
【請求項４】
真空漏れ発生部は、ワークを収納するワーク収納孔を有する搬送テーブルを備えていることを特徴とする請求項１記載の真空吸引システム。
【請求項５】
真空漏れ発生部は、搬送テーブルの真空吸引機構側に設けられ、ワーク収納孔と連通する環状の真空吸引溝を有するテーブルベースを更に備えていることを特徴とする請求項４記載の真空吸引システム。
【請求項６】
搬送テーブルのテーブルベース側の面に、ワーク収納孔と真空吸引溝との間に位置する微小断面吸引溝を設けたことを特徴とする請求項５記載の真空吸引システム。
【請求項７】
搬送テーブルのワーク収納孔内に収納されたワークのワーク装填率を求めるワーク装填率測定部を更に備え、
制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて、第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする請求項４記載の真空吸引システム。
【請求項８】
制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて真空度を求め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第１調整部および第２調整部のいずれも閉とする段階、第１調整部を閉としかつ第２調整部を開とする段階、第１調整部および第２調整部のいずれも開とする段階、第１調整部を開としかつ第２調整部を閉とする段階となるよう第１調整部と第２調整部を制御することを特徴とする請求項７記載の真空吸引システム。
【請求項９】
第１調整部と第２調整部は、その開度が可変となっていることを特徴とする請求項１記載の真空吸引システム。
【請求項１０】
第１調整部及び又は第２調整部は、サーボバルブ及び／又はモータ駆動バルブからなることを特徴とする請求項９記載の真空吸引システム。
【請求項１１】
真空漏れ発生部と、
真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続する真空配管とを有する真空吸引機構と、
この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構とを備え、
真空調整機構は真空漏れ発生部における真空度を検出する負圧センサと、真空配管に第１調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、負圧センサからの信号に基づいて第１調整部を制御する制御部とを有することを特徴とする真空吸引システム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００６−２７８８１（Ｐ２００６−２７８８１Ａ）
【公開日】平成１８年２月２日（２００６．２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２１２９８１（Ｐ２００４−２１２９８１）
【出願日】平成１６年７月２１日（２００４．７．２１）
【出願人】（５９１００９７０５）株式会社 東京ウエルズ (47)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月２日（２００６．２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年７月２１日（２００４．７．２１）
【出願人】（５９１００９７０５）株式会社 東京ウエルズ (47)
【Ｆターム（参考）】
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