磁気ディスク、磁気ディスク装置及び磁気ディスク作製方法
【課題】高密度化した磁気ディスクであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することを課題とする。
【解決手段】磁気ディスクは、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置される。つまり、磁気ディスクは、トラックを構成する幅は従来技術と同様の大きさであるが、トラックＮとトラックＮ＋１のように隣接するトラック間の幅（Ｂ２）の長さが従来とは異なり、大きくなる。言い換えれば、磁気ディスクは、従来と比べて、ヘッドの位置マージンを大きくすることができる。
【解決手段】磁気ディスクは、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置される。つまり、磁気ディスクは、トラックを構成する幅は従来技術と同様の大きさであるが、トラックＮとトラックＮ＋１のように隣接するトラック間の幅（Ｂ２）の長さが従来とは異なり、大きくなる。言い換えれば、磁気ディスクは、従来と比べて、ヘッドの位置マージンを大きくすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気ディスク、磁気ディスク装置及び磁気ディスク作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、自装置内に有する磁気ディスク（メディア）に対してデータを読み書きする磁気ディスク装置では、小型かつ大容量が求められ続けており、高記録密度化が要求されている。そのため、記録密度を向上させるパターンドメディア（ビットパターンドメディア、BPM（Bit Patterned Media）とも言う）の開発が進められている。
【０００３】
パターンドメディアとは、磁性粒子が人工的に規則正しく並べられ、磁性粒子１つにつき１ビットを記録することができる高記録密度媒体である。具体的には、ディスク上には、円周上に記録トラックが予めパターンとして記録されている。そして、図４に示すように、記録トラックは、記録再生ヘッドを位置決めするためのサーボ領域と、データを記録するためのデータ領域とを有しており、データ領域は、磁性ドット列で構成されている。
【０００４】
このパターンドメディアを用いた磁気ディスク装置として、記録トラック幅方向に並ぶ複数の最小磁化反転単位１に対し、同時に記録または再生を行う磁気ディスク装置が知られている（特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１０９７１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記した従来の技術では、高密度化したパターンドメディアにおいて、トラック幅方向に並ぶ磁性ドットの幅（位置マージン）が小さくなるため、従来とは異なる精密なヘッド制御が必要であるという課題があった。
【０００７】
具体的には、高密度化されたパターンドメディアおいて、一つの磁性ドットに対してヘッドを位置制御してデータの読み書きを行う場合について説明する。この場合、一般的に用いられている磁気ヘッド制御方法では、高密度化に伴って位置マージンが小さくなっているため、当該磁性ドットにヘッドを制御する際に、当該磁性ドットと隣接する磁性ドットに接近してしまい、隣接する磁性ドットと記録再生干渉してしまう恐れがあった。そのため、位置マージンが小さくても、ヘッドの位置制御対象となる磁性ドット以外の他の磁性ドットと記録再生干渉しないように制御できる精密なヘッド制御手法が必要であった。
【０００８】
そこで、この発明は、上述した従来技術の課題を解決するためになされたものであり、高密度化したパターンドメディアであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することが可能である磁気ディスク、磁気ディスク装置及び磁気ディスク作製方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明に係る磁気ディスクは、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高密度化した磁気ディスクであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することが可能であるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に添付図面を参照して、この発明に係る磁気ディスク、磁気ディスク装置及び磁気ディスク作製方法の実施例を詳細に説明する。なお、以下では、本実施例に係る磁気ディスク装置の概要および特徴、磁気ディスク作製装置の構成を順に説明し、最後に本実施例に対する種々の変形例を説明する。
【実施例１】
【００１２】
［磁気ディスク装置の概要］
最初に、図１を用いて、本願が開示する磁気ディスク装置の概要を説明する。図１は、実施例１に係る磁気ディスク装置の概要を説明するための図である。実施例１に係る磁気ディスク装置は、磁性ドットを２列１トラックとして、同時に記録再生することを概要とするものであり、特に、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置される。なお、ここでは、はじめに、従来技術に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクについて説明し、次に、従来と比較した本実施例に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクを説明する。
【００１３】
（従来技術に係る磁気ディスク）
はじめに、図５を用いて、従来技術に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクについて説明する。図５は、従来技術に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクを説明するための図である。
【００１４】
図５に示す例では、高密度化された磁気ディスクにおける磁性ドットは、千鳥に交互配置され、２列１トラックとして同時記録される。ここで、図５に示す各値は、ヘッドのコア幅「Ｗ」、磁性ドットのドット半径「Ｒ」、トラック内のドット列間隔「Ａ１」、トラック間のドット列間隔「Ｂ１」、円周方向ドットピッチ「Ｐ」とする。ただし、Ａ１＝Ｂ１、Ｂ１＞２Ｒ、Ｗ＝Ａ＋Ｂとする。
【００１５】
このような従来技術の磁気ディスクを用いた場合では、トラック幅方向に並ぶ磁性ドットの幅、言い換えれば、ヘッドの位置マージン「Ｄ１」は、「Ｄ１＝Ｂ−２Ｒ」となる。この場合、ヘッドのコア幅「Ｗ」は、図５に図示したように、幅では１つの磁性ドットをカバーしきれても、長さは１つの磁性ドットをカバーしきれない。つまり、位置マージン「Ｄ１」が小さいため、１つの磁性ドットをカバーするようにヘッドのコア幅および長さを設定すると、対象となる磁性ドットと隣接する他の磁性ドットにヘッドが接近してしまい、他の磁性ドットと記録再生干渉してしまう恐れがある。そのため、従来技術に係る磁気ディスクでは、データの記録を行う磁気ディスクを高密度化できず、また、高密度化したとしても、他の磁性ドットと記録再生干渉しないようにヘッドを精密に制御する必要がある。さらに、ヘッドを精密に制御するためのファームウエアなどの開発は、非常にコストがかかるなどの問題がある。
【００１６】
（実施例１に係る磁気ディスク）
次に、図１を用いて、実施例１に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクについて説明する。図１は、実施例１に係る磁気ディスク装置の概要を説明するための図である。
【００１７】
図１に示すように、高密度化された磁気ディスクおける磁性ドットは、トラック内における磁性ドット間隔よりも、トラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置され、２列１トラックとして同時記録される。つまり、トラックを構成する幅（Ａ２＋Ｂ２）は、従来技術と同様の大きさであるが、トラックＮとトラックＮ＋１のように隣接するトラック間の幅（Ｂ２）の長さが従来とは異なり、大きくなっている（Ｂ２＞Ｂ１）。ここで、図１に示す各値は、ヘッドのコア幅「Ｗ」、磁性ドットのドット半径「Ｒ」、トラック内のドット列間隔「Ａ２」、トラック間のドット列間隔「Ｂ２」、円周方向ドットピッチ「Ｐ」とする。ただし、Ｒ、Ｐは、図５と同様であり、Ａ２＋Ｂ２＝Ａ１＋Ｂ１とし、Ｂ２の上限は、Ａ２の下限（ドットを分離形成し得る限界）で決めるものとする。
【００１８】
このような実施例１の磁気ディスクを用いた場合では、ヘッドの位置マージン「Ｄ２」は、「Ｄ２＝Ｂ２―２Ｒ＝（Ｂ１−２Ｒ）＋（Ａ１−Ａ２）＞Ｂ−２Ｒ＝Ｄ１」となる。この場合、ヘッドのコア幅「Ｗ」は、図１に図示したように、幅および長さの両方ともが１つの磁性ドットをカバーできる。つまり、位置マージン「Ｄ２」が大きいため、１つの磁性ドットをカバーしようとした場合であっても、対象となる磁性ドットと隣接する他の磁性ドットにヘッドが接近することはなく、他の磁性ドットと記録再生干渉してしまう恐れがない。そのため、実施例１に係る磁気ディスクでは、データの記録を行う磁気ディスクを高密度化したとしても、他の磁性ドットと記録再生干渉しないようにヘッドを精密に制御する必要もなく、記録の面密度は従来と変わらない。
【００１９】
（従来技術と本実施例との比較）
上記したように、実施例１に係る磁気ディスク装置は、記録の面密度は従来と変わらない磁気ディスクを用いた場合であっても、記録または再生の対象となる磁性ドットと隣接する他の磁性ドットを記録再生干渉しないようにヘッドを精密に制御する必要もない。その結果、高密度化した磁気ディスクであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することが可能である。
【００２０】
［磁気ディスク作製装置の構成］
次に、図２を用いて、図１に示した磁気ディスク装置が有する磁気ディスクに対してＥＢ露光する装置（例えば、BPM原盤露光装置など）の構成を説明する。図２は、磁気ディスク作製装置の構成を示すブロック図である。
【００２１】
図２に示すように、この磁気ディスク作製装置は、例えば10の-4乗Paの真空に保たれたチャンバー中に、BPM原盤１０、X-Yステージ１１、エアースピンドルモータ１２、電子源１３、電子ビーム調整系１４および電子ビーム集束系１５が配置され、ステージドライバ２１と、スピンドルモータドライバ２２と、電子源コントローラ２３と、電子ビームコントローラ２４と、フォーマッタ２５と、メインコントローラ２６とを有する。
【００２２】
この磁気ディスク作製装置を用いた場合の処理の流れを説明すると、磁気ディスク作製装置は、メインコントローラ２６からの指令により、エアースピンドルモータ１２の回転、電子ビーム制御、およびX-Yステージ１１の制御を行う。電子ビームコントローラ２４は、フォーマッタ２５からの情報を用いて、回転している原盤上に電子ビームを集束させるとともに、X-Yステージ１１を移動させてBPM原盤１０に磁性ドットパターンおよびサーボパターンの形成を行う。例えば、円板に同心円上に磁性ドット列が形成され、その一部にサーボパターンが形成されている。
【００２３】
ここで、それぞれの構成について具体的に説明する。BPM原盤１０は、本装置により磁性ドットが磁気的に分離して形成される磁気ディスクの原盤である。具体的には、BPM原盤１０は、X-Yステージ１１により固定され、エアースピンドルモータ１２によって回転駆動させられ、電子ビームコントローラ２４および電子源１３によって電子ビームが当てられる。この際、BPM原盤１０は、データを記録するデータ領域の磁性ドットを、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように千鳥に交互配置するように電子ビームを当てられる。その後、図３以降で後述するエッチングやナノインプリントを施されることで、図１に示したようなトラックが形成される。
【００２４】
X-Yステージ１１は、BPM原盤１０を横軸（Ｘ軸）、縦軸（Ｙ軸）に移動させる。具体的には、X-Yステージ１１は、接続されるステージドライバ２１から制御信号（例えば、制御電流など）を受け付けて、固定されて回転駆動しているBPM原盤１０を横軸（Ｘ軸）、縦軸（Ｙ軸）に移動させる。エアースピンドルモータ１２は、接続されるスピンドルモータドライバ２２から出力される制御信号（例えば、駆動電流など）を受け付けて、BPM原盤１０を回転駆動させる。このようにしてBPM原盤１０を回転駆動および横軸縦軸移動させることで、BPM原盤１０上に同心円状の磁性ドット列を形成させることができる。
【００２５】
電子源１３は、接続される電子源コントローラ２３からの制御信号に基づいて、BPM原盤１０に電子ビームを照射する。電子ビーム調整系１４は、接続される電子ビームコントローラ２４の制御信号に基づいて、電子源１３によりBPM原盤１０に照射される電子ビームの強度や方向などを調整する。電子ビーム集束系１５は、接続される電子ビームコントローラ２４の制御信号に基づいて、電子源１３によりBPM原盤１０に照射され、電子ビーム調整系１４により調整された電子ビームを集束させる。このようにして制御された電子ビームをBPM原盤１０に照射することで、BPM原盤１０上に同心円状の磁性ドット列を形成するとともに、データを記録するデータ領域の磁性ドットを、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置させたパターンをBPM原盤１０上に作成することができる。
【００２６】
ステージドライバ２１は、接続されるメインコントローラ２６からの制御信号に基づいて、X-Yステージ１１を動作制御する。例えば、ステージドライバ２１は、メインコントローラ２６からトラックを形成するための横軸移動制御信号を受け付けた場合に、X-Yステージ１１を横軸に動作制御したりする。
【００２７】
スピンドルモータドライバ２２は、接続されるメインコントローラ２６からの制御信号（例えば、加速電流や減速電流など）に基づいて、エアースピンドルモータ１２を回転駆動制御する。例えば、スピンドルモータドライバ２２は、メインコントローラ２６からBPM原盤１０を回転させるための加速電流を受け付けた場合に、BPM原盤１０を加速回転させたり、メインコントローラ２６からBPM原盤１０を停止させるための減速電流を受け付けた場合に、BPM原盤１０を減速させて停止させたりする。
【００２８】
電子源コントローラ２３は、接続されるメインコントローラ２６からの制御信号（例えば、照射開始信号など）に基づいて、電子源１３を制御して電子ビームを照射または停止制御する。例えば、電子源コントローラ２３は、メインコントローラ２６から照射開始信号を受け付けた場合に、電子源１３を制御して電子ビームをBPM原盤１０に照射したり、メインコントローラ２６から照射停止信号を受け付けた場合に、電子源１３を制御して電子ビームをBPM原盤１０に照射することを停止したりする。
【００２９】
電子ビームコントローラ２４は、接続されるメインコントローラ２６からの制御信号（例えば、調整信号や集束信号など）に基づいて、電子ビーム調整系１４や電子ビーム集束系を制御して、BPM原盤１０に照射される電子ビームを制御する。例えば、電子ビームコントローラ２４は、メインコントローラ２６からの調整信号（増幅信号）を受け付けた場合に、電子ビーム調整系１４を制御して、BPM原盤１０に照射される電子ビームを強める。また、電子ビームコントローラ２４は、メインコントローラ２６からの集束信号（信号）を受け付けた場合に、電子ビーム集束系１５を制御して、BPM原盤１０に照射される電子ビームを集束させる。このように、電子ビームコントローラ２４は、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように制御された信号をメインコントローラ２６から受け付けて、電子ビーム調整系１４や電子ビーム集束系を制御し、トラック間における磁性ドット間隔を大きくするように電子ビームをBPM原盤１０に照射する。
【００３０】
フォーマッタ２５は、BPM原盤１０に電子ビームを照射するためのフォーマットを記憶する。具体的には、フォーマッタ２５は、データを記録するデータ領域の磁性ドットを千鳥に配置するのに際して、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするようなフォーマットを記憶する。言い換えれば、フォーマッタ２５は、ヘッドの位置マージン「Ｄ２」が「Ｄ２＝Ｂ２―２Ｒ＝（Ｂ１−２Ｒ）＋（Ａ１−Ａ２）＞Ｂ−２Ｒ＝Ｄ１」となるようなフォーマットを記憶する。ここでは、ヘッドのコア幅「Ｗ」、磁性ドットのドット半径「Ｒ」、トラック内のドット列間隔「Ａ１」、トラック間のドット列間隔「Ｂ１」、円周方向ドットピッチ「Ｐ」とする。
【００３１】
メインコントローラ２６は、フォーマッタ２５に記憶されるフォーマットに基づいて、各種制御部を制御する。具体的に例を挙げると、メインコントローラ２６は、フォーマッタ２５に記憶されるヘッドの位置マージン「Ｄ２」が「Ｄ２＝Ｂ２―２Ｒ＝（Ｂ１−２Ｒ）＋（Ａ１−Ａ２）＞Ｂ−２Ｒ＝Ｄ１」となるようなフォーマットを読み出す。そして、メインコントローラ２６は、読み出したフォーマットのようにBPM原盤１０にトラック、サーボパターン、磁性ドットを配置するために、各種制御部を制御する。例えば、メインコントローラ２６は、ステージドライバ２１に対してBPM原盤１０のX-Y位置制御をする制御信号を出力したり、スピンドルモータドライバ２２に対してBPM原盤１０の回転をする制御信号を出力したり、電子源コントローラ２３に対してBPM原盤１０への電子ビーム照射や停止制御をする制御信号を出力したり、電子ビームコントローラ２４に対してBPM原盤１０への電子ビーム強弱などの制御をする制御信号を出力したりする。
【００３２】
そして、メインコントローラ２６から制御信号を受信したステージドライバ２１は、当該制御信号に基づいてX-Yステージ１１を制御し、同様に、スピンドルモータドライバ２２は、エアースピンドルモータ１２を制御し、電子源コントローラ２３は、電子源１３を制御し、電子ビームコントローラ２４は、電子ビーム調整系１４や電子ビーム集束系１５を制御する。
【００３３】
［磁気ディスク作製工程］
次に、図３−１〜図３−５を用いて、図２に示した磁気ディスク作製装置によりＥＢ露光されたパターンから本実施例に係る磁気ディスクを作成する工程について説明する。なお、以下では、BPM原盤露光装置が全ての工程を実施する場合を例にして説明するが、各工程ごとに実施する装置を分けることもできる。
【００３４】
まず、図３−１に示すように、スピンコートされたレジスト膜をＥＢ露光してエッチングし、磁性ドットに対応する部分をBPM原盤１０に残す。具体的には、図２に示したBPM原盤露光装置は、BPM原盤１０における磁性ドットを千鳥配置する際に、トラック間ドット列間隔をトラック内ドット列間隔より大きくして配置するパターンをフォーマッタ２５から読み出す。そして、BPM原盤露光装置は、当該パターンを形成するように、磁性ドット列を1列露光する毎にBPM原盤の半径方向の送りピッチをX-Yステージ１１で変えながらBPM原盤１０にＥＢ露光してエッチングし、当該パターンをBPM原盤１０に残す。つまり、BPM原盤露光装置は、「位置マージン（Ｄ２）＝Ｂ２―２Ｒ＝（Ｂ１−２Ｒ）＋（Ａ１−Ａ２）＞Ｂ−２Ｒ＝Ｄ１」となるような磁性ドットに対応する部分をBPM原盤１０に残す。
【００３５】
次に、ＥＢ露光されたBPM原盤１０に対して行う工程は、従来の磁気ディスクに対して行う処理と同様であるので、詳細な説明は省略する。具体的には、BPM原盤露光装置は、図３−２に示すように、エッチングされて磁性ドットが残されたBPM原盤１０に対して、エッチングにより鋳物パターン（型）にする。続いて、BPM原盤露光装置は、図３−３に示すように、鋳物パターンが作成されたBPM原盤１０に対して、Ｎｉ電鋳により鋳物パターンを転写させたスタンパを作製する。そして、BPM原盤露光装置は、図３−４に示すように、ナノインプリントすることにより、図３−３で転写させたスタンパをBPM原盤１０の磁性層上のレジストに転写する。その後、BPM原盤露光装置は、図３−５に示すように、ナノインプリントにより転写されたパターンをエッチングにより磁性膜を加工して、図３−１でＥＢ露光したパターンを形成する。上記した工程を実施することで、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたBPMを作製することができる。
【００３６】
なお、上記したナノインプリントとは、樹脂への型の押し付けによって、樹脂パターンを形成し、その後のエッチングによって樹脂パターンを材料に転写する手法である。また、図３−１は、ＥＢ露光されて磁性ドットに対応する部分が残されたBPM原盤の例を示す図であり、図３−２は、エッチングにより鋳物パターンにされた例を示す図であり、図３−３は、Ｎｉ電鋳により鋳物パターンを転写させたスタンパの例を示す図であり、図３−４は、ナノインプリントされたBPM原盤の例を示す図であり、図３−５は、作製されたBPMの例を示す図である。
【００３７】
［実施例１による効果］
このように、実施例１によれば、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたBPM原盤１０を磁気ディスク装置として用いることができる。その結果、記録の面密度は従来と変わらないパターンドメディアを用いた場合であっても、記録または再生の対象となる磁性ドットと隣接する他の磁性ドットを傷つけないようにヘッドを精密に制御する必要もない。その結果、高密度化した磁気ディスクであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することが可能である。
【実施例２】
【００３８】
さて、これまで本発明の実施例について説明したが、本発明は上述した実施例以外にも、種々の異なる形態にて実施されてよいものである。そこで、以下に示すように、（１）磁気ディスク、（２）システム構成等、にそれぞれ区分けして異なる実施例を説明する。
【００３９】
（１）磁気ディスク
例えば、本発明は、実施例１で説明した磁気ディスクとして、磁性粒子が人工的に規則正しく並べられた記録媒体であり、磁性粒子１つにつき１ビットを記録することで、高密度記録が可能であるパターンドメディアを用いることができる。
【００４０】
（２）システム構成等
また、図示した磁気ディスク装置の各構成要素は機能概念的なものであり、必ずしも物理的に図示の如く構成されていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部または一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的または物理的に分散・統合して構成することができる。さらに、各装置にて行なわれる各処理機能は、その全部または任意の一部が、ＭＣＵ（もしくは、ＣＰＵ（Central Processing Unit）やＭＰＵ（Micro Processing Unit）などの制御装置）にて解析実行されるプログラムにて実現され、あるいは、ワイヤードロジックによるハードウェアとして実現され得る。
【００４１】
以上の実施例１と２を含む実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
【００４２】
（付記１）データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたことを特徴とする磁気ディスク。
【００４３】
（付記２）データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクに対して磁気ヘッドを制御して、各種データの記録、再生または消去を行うことを特徴とする磁気ディスク装置。
【００４４】
（付記３）データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクを作製する磁性ドット作製部、
を備えたことを特徴とする磁気ディスク作製装置。
【００４５】
（付記４）前記磁性ドット作製部は、前記磁性ドットを電子ビーム直接描画で作製することを特徴とする付記３に記載の磁気ディスク作製装置。
【００４６】
（付記５）前記磁性ドット作製部は、前記磁気ディスクとしてのパターンドメディアに対して前記磁性ドットを作製することを特徴とする付記４に記載の磁気ディスク作製装置。
【００４７】
（付記６）データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクを作製する磁性ドット作製ステップ、
を含んだことを特徴とする磁気ディスク作製方法。
【００４８】
（付記７）前記磁性ドット作製ステップは、前記磁性ドットを電子ビーム直接描画で作製することを特徴とする付記６に記載の磁気ディスク作製方法。
【００４９】
（付記８）前記磁性ドット作製ステップは、前記磁気ディスクとしてのパターンドメディアに対して前記磁性ドットを作製することを特徴とする付記６または７に記載の磁気ディスク作製方法。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】実施例１に係る磁気ディスク装置の概要を説明するための図である。
【図２】磁気ディスク作製装置の構成を示すブロック図である。
【図３−１】ＥＢ露光されて磁性ドットに対応する部分が残されたBPM原盤の例を示す図である。
【図３−２】エッチングにより鋳物パターンにされた例を示す図である。
【図３−３】Ｎｉ電鋳により鋳物パターンを転写させたスタンパの例を示す図である。
【図３−４】ナノインプリントされたBPM原盤の例を示す図である。
【図３−５】作製されたBPMの例を示す図である。
【図４】従来技術を説明するための図である。
【図５】従来技術に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクを説明するための図である。
【符号の説明】
【００５１】
１０ BPM原盤
１１ X-Yステージ
１２ エアースピンドルモータ
１３ 電子源
１４ 電子ビーム調整系
１５ 電子ビーム集束系
２１ ステージドライバ
２２ スピンドルモータドライバ
２３ 電子源コントローラ
２４ 電子ビームコントローラ
２５ フォーマッタ
２６ メインコントローラ
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気ディスク、磁気ディスク装置及び磁気ディスク作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、自装置内に有する磁気ディスク（メディア）に対してデータを読み書きする磁気ディスク装置では、小型かつ大容量が求められ続けており、高記録密度化が要求されている。そのため、記録密度を向上させるパターンドメディア（ビットパターンドメディア、BPM（Bit Patterned Media）とも言う）の開発が進められている。
【０００３】
パターンドメディアとは、磁性粒子が人工的に規則正しく並べられ、磁性粒子１つにつき１ビットを記録することができる高記録密度媒体である。具体的には、ディスク上には、円周上に記録トラックが予めパターンとして記録されている。そして、図４に示すように、記録トラックは、記録再生ヘッドを位置決めするためのサーボ領域と、データを記録するためのデータ領域とを有しており、データ領域は、磁性ドット列で構成されている。
【０００４】
このパターンドメディアを用いた磁気ディスク装置として、記録トラック幅方向に並ぶ複数の最小磁化反転単位１に対し、同時に記録または再生を行う磁気ディスク装置が知られている（特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１０９７１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記した従来の技術では、高密度化したパターンドメディアにおいて、トラック幅方向に並ぶ磁性ドットの幅（位置マージン）が小さくなるため、従来とは異なる精密なヘッド制御が必要であるという課題があった。
【０００７】
具体的には、高密度化されたパターンドメディアおいて、一つの磁性ドットに対してヘッドを位置制御してデータの読み書きを行う場合について説明する。この場合、一般的に用いられている磁気ヘッド制御方法では、高密度化に伴って位置マージンが小さくなっているため、当該磁性ドットにヘッドを制御する際に、当該磁性ドットと隣接する磁性ドットに接近してしまい、隣接する磁性ドットと記録再生干渉してしまう恐れがあった。そのため、位置マージンが小さくても、ヘッドの位置制御対象となる磁性ドット以外の他の磁性ドットと記録再生干渉しないように制御できる精密なヘッド制御手法が必要であった。
【０００８】
そこで、この発明は、上述した従来技術の課題を解決するためになされたものであり、高密度化したパターンドメディアであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することが可能である磁気ディスク、磁気ディスク装置及び磁気ディスク作製方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明に係る磁気ディスクは、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高密度化した磁気ディスクであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することが可能であるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に添付図面を参照して、この発明に係る磁気ディスク、磁気ディスク装置及び磁気ディスク作製方法の実施例を詳細に説明する。なお、以下では、本実施例に係る磁気ディスク装置の概要および特徴、磁気ディスク作製装置の構成を順に説明し、最後に本実施例に対する種々の変形例を説明する。
【実施例１】
【００１２】
［磁気ディスク装置の概要］
最初に、図１を用いて、本願が開示する磁気ディスク装置の概要を説明する。図１は、実施例１に係る磁気ディスク装置の概要を説明するための図である。実施例１に係る磁気ディスク装置は、磁性ドットを２列１トラックとして、同時に記録再生することを概要とするものであり、特に、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置される。なお、ここでは、はじめに、従来技術に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクについて説明し、次に、従来と比較した本実施例に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクを説明する。
【００１３】
（従来技術に係る磁気ディスク）
はじめに、図５を用いて、従来技術に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクについて説明する。図５は、従来技術に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクを説明するための図である。
【００１４】
図５に示す例では、高密度化された磁気ディスクにおける磁性ドットは、千鳥に交互配置され、２列１トラックとして同時記録される。ここで、図５に示す各値は、ヘッドのコア幅「Ｗ」、磁性ドットのドット半径「Ｒ」、トラック内のドット列間隔「Ａ１」、トラック間のドット列間隔「Ｂ１」、円周方向ドットピッチ「Ｐ」とする。ただし、Ａ１＝Ｂ１、Ｂ１＞２Ｒ、Ｗ＝Ａ＋Ｂとする。
【００１５】
このような従来技術の磁気ディスクを用いた場合では、トラック幅方向に並ぶ磁性ドットの幅、言い換えれば、ヘッドの位置マージン「Ｄ１」は、「Ｄ１＝Ｂ−２Ｒ」となる。この場合、ヘッドのコア幅「Ｗ」は、図５に図示したように、幅では１つの磁性ドットをカバーしきれても、長さは１つの磁性ドットをカバーしきれない。つまり、位置マージン「Ｄ１」が小さいため、１つの磁性ドットをカバーするようにヘッドのコア幅および長さを設定すると、対象となる磁性ドットと隣接する他の磁性ドットにヘッドが接近してしまい、他の磁性ドットと記録再生干渉してしまう恐れがある。そのため、従来技術に係る磁気ディスクでは、データの記録を行う磁気ディスクを高密度化できず、また、高密度化したとしても、他の磁性ドットと記録再生干渉しないようにヘッドを精密に制御する必要がある。さらに、ヘッドを精密に制御するためのファームウエアなどの開発は、非常にコストがかかるなどの問題がある。
【００１６】
（実施例１に係る磁気ディスク）
次に、図１を用いて、実施例１に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクについて説明する。図１は、実施例１に係る磁気ディスク装置の概要を説明するための図である。
【００１７】
図１に示すように、高密度化された磁気ディスクおける磁性ドットは、トラック内における磁性ドット間隔よりも、トラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置され、２列１トラックとして同時記録される。つまり、トラックを構成する幅（Ａ２＋Ｂ２）は、従来技術と同様の大きさであるが、トラックＮとトラックＮ＋１のように隣接するトラック間の幅（Ｂ２）の長さが従来とは異なり、大きくなっている（Ｂ２＞Ｂ１）。ここで、図１に示す各値は、ヘッドのコア幅「Ｗ」、磁性ドットのドット半径「Ｒ」、トラック内のドット列間隔「Ａ２」、トラック間のドット列間隔「Ｂ２」、円周方向ドットピッチ「Ｐ」とする。ただし、Ｒ、Ｐは、図５と同様であり、Ａ２＋Ｂ２＝Ａ１＋Ｂ１とし、Ｂ２の上限は、Ａ２の下限（ドットを分離形成し得る限界）で決めるものとする。
【００１８】
このような実施例１の磁気ディスクを用いた場合では、ヘッドの位置マージン「Ｄ２」は、「Ｄ２＝Ｂ２―２Ｒ＝（Ｂ１−２Ｒ）＋（Ａ１−Ａ２）＞Ｂ−２Ｒ＝Ｄ１」となる。この場合、ヘッドのコア幅「Ｗ」は、図１に図示したように、幅および長さの両方ともが１つの磁性ドットをカバーできる。つまり、位置マージン「Ｄ２」が大きいため、１つの磁性ドットをカバーしようとした場合であっても、対象となる磁性ドットと隣接する他の磁性ドットにヘッドが接近することはなく、他の磁性ドットと記録再生干渉してしまう恐れがない。そのため、実施例１に係る磁気ディスクでは、データの記録を行う磁気ディスクを高密度化したとしても、他の磁性ドットと記録再生干渉しないようにヘッドを精密に制御する必要もなく、記録の面密度は従来と変わらない。
【００１９】
（従来技術と本実施例との比較）
上記したように、実施例１に係る磁気ディスク装置は、記録の面密度は従来と変わらない磁気ディスクを用いた場合であっても、記録または再生の対象となる磁性ドットと隣接する他の磁性ドットを記録再生干渉しないようにヘッドを精密に制御する必要もない。その結果、高密度化した磁気ディスクであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することが可能である。
【００２０】
［磁気ディスク作製装置の構成］
次に、図２を用いて、図１に示した磁気ディスク装置が有する磁気ディスクに対してＥＢ露光する装置（例えば、BPM原盤露光装置など）の構成を説明する。図２は、磁気ディスク作製装置の構成を示すブロック図である。
【００２１】
図２に示すように、この磁気ディスク作製装置は、例えば10の-4乗Paの真空に保たれたチャンバー中に、BPM原盤１０、X-Yステージ１１、エアースピンドルモータ１２、電子源１３、電子ビーム調整系１４および電子ビーム集束系１５が配置され、ステージドライバ２１と、スピンドルモータドライバ２２と、電子源コントローラ２３と、電子ビームコントローラ２４と、フォーマッタ２５と、メインコントローラ２６とを有する。
【００２２】
この磁気ディスク作製装置を用いた場合の処理の流れを説明すると、磁気ディスク作製装置は、メインコントローラ２６からの指令により、エアースピンドルモータ１２の回転、電子ビーム制御、およびX-Yステージ１１の制御を行う。電子ビームコントローラ２４は、フォーマッタ２５からの情報を用いて、回転している原盤上に電子ビームを集束させるとともに、X-Yステージ１１を移動させてBPM原盤１０に磁性ドットパターンおよびサーボパターンの形成を行う。例えば、円板に同心円上に磁性ドット列が形成され、その一部にサーボパターンが形成されている。
【００２３】
ここで、それぞれの構成について具体的に説明する。BPM原盤１０は、本装置により磁性ドットが磁気的に分離して形成される磁気ディスクの原盤である。具体的には、BPM原盤１０は、X-Yステージ１１により固定され、エアースピンドルモータ１２によって回転駆動させられ、電子ビームコントローラ２４および電子源１３によって電子ビームが当てられる。この際、BPM原盤１０は、データを記録するデータ領域の磁性ドットを、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように千鳥に交互配置するように電子ビームを当てられる。その後、図３以降で後述するエッチングやナノインプリントを施されることで、図１に示したようなトラックが形成される。
【００２４】
X-Yステージ１１は、BPM原盤１０を横軸（Ｘ軸）、縦軸（Ｙ軸）に移動させる。具体的には、X-Yステージ１１は、接続されるステージドライバ２１から制御信号（例えば、制御電流など）を受け付けて、固定されて回転駆動しているBPM原盤１０を横軸（Ｘ軸）、縦軸（Ｙ軸）に移動させる。エアースピンドルモータ１２は、接続されるスピンドルモータドライバ２２から出力される制御信号（例えば、駆動電流など）を受け付けて、BPM原盤１０を回転駆動させる。このようにしてBPM原盤１０を回転駆動および横軸縦軸移動させることで、BPM原盤１０上に同心円状の磁性ドット列を形成させることができる。
【００２５】
電子源１３は、接続される電子源コントローラ２３からの制御信号に基づいて、BPM原盤１０に電子ビームを照射する。電子ビーム調整系１４は、接続される電子ビームコントローラ２４の制御信号に基づいて、電子源１３によりBPM原盤１０に照射される電子ビームの強度や方向などを調整する。電子ビーム集束系１５は、接続される電子ビームコントローラ２４の制御信号に基づいて、電子源１３によりBPM原盤１０に照射され、電子ビーム調整系１４により調整された電子ビームを集束させる。このようにして制御された電子ビームをBPM原盤１０に照射することで、BPM原盤１０上に同心円状の磁性ドット列を形成するとともに、データを記録するデータ領域の磁性ドットを、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置させたパターンをBPM原盤１０上に作成することができる。
【００２６】
ステージドライバ２１は、接続されるメインコントローラ２６からの制御信号に基づいて、X-Yステージ１１を動作制御する。例えば、ステージドライバ２１は、メインコントローラ２６からトラックを形成するための横軸移動制御信号を受け付けた場合に、X-Yステージ１１を横軸に動作制御したりする。
【００２７】
スピンドルモータドライバ２２は、接続されるメインコントローラ２６からの制御信号（例えば、加速電流や減速電流など）に基づいて、エアースピンドルモータ１２を回転駆動制御する。例えば、スピンドルモータドライバ２２は、メインコントローラ２６からBPM原盤１０を回転させるための加速電流を受け付けた場合に、BPM原盤１０を加速回転させたり、メインコントローラ２６からBPM原盤１０を停止させるための減速電流を受け付けた場合に、BPM原盤１０を減速させて停止させたりする。
【００２８】
電子源コントローラ２３は、接続されるメインコントローラ２６からの制御信号（例えば、照射開始信号など）に基づいて、電子源１３を制御して電子ビームを照射または停止制御する。例えば、電子源コントローラ２３は、メインコントローラ２６から照射開始信号を受け付けた場合に、電子源１３を制御して電子ビームをBPM原盤１０に照射したり、メインコントローラ２６から照射停止信号を受け付けた場合に、電子源１３を制御して電子ビームをBPM原盤１０に照射することを停止したりする。
【００２９】
電子ビームコントローラ２４は、接続されるメインコントローラ２６からの制御信号（例えば、調整信号や集束信号など）に基づいて、電子ビーム調整系１４や電子ビーム集束系を制御して、BPM原盤１０に照射される電子ビームを制御する。例えば、電子ビームコントローラ２４は、メインコントローラ２６からの調整信号（増幅信号）を受け付けた場合に、電子ビーム調整系１４を制御して、BPM原盤１０に照射される電子ビームを強める。また、電子ビームコントローラ２４は、メインコントローラ２６からの集束信号（信号）を受け付けた場合に、電子ビーム集束系１５を制御して、BPM原盤１０に照射される電子ビームを集束させる。このように、電子ビームコントローラ２４は、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように制御された信号をメインコントローラ２６から受け付けて、電子ビーム調整系１４や電子ビーム集束系を制御し、トラック間における磁性ドット間隔を大きくするように電子ビームをBPM原盤１０に照射する。
【００３０】
フォーマッタ２５は、BPM原盤１０に電子ビームを照射するためのフォーマットを記憶する。具体的には、フォーマッタ２５は、データを記録するデータ領域の磁性ドットを千鳥に配置するのに際して、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするようなフォーマットを記憶する。言い換えれば、フォーマッタ２５は、ヘッドの位置マージン「Ｄ２」が「Ｄ２＝Ｂ２―２Ｒ＝（Ｂ１−２Ｒ）＋（Ａ１−Ａ２）＞Ｂ−２Ｒ＝Ｄ１」となるようなフォーマットを記憶する。ここでは、ヘッドのコア幅「Ｗ」、磁性ドットのドット半径「Ｒ」、トラック内のドット列間隔「Ａ１」、トラック間のドット列間隔「Ｂ１」、円周方向ドットピッチ「Ｐ」とする。
【００３１】
メインコントローラ２６は、フォーマッタ２５に記憶されるフォーマットに基づいて、各種制御部を制御する。具体的に例を挙げると、メインコントローラ２６は、フォーマッタ２５に記憶されるヘッドの位置マージン「Ｄ２」が「Ｄ２＝Ｂ２―２Ｒ＝（Ｂ１−２Ｒ）＋（Ａ１−Ａ２）＞Ｂ−２Ｒ＝Ｄ１」となるようなフォーマットを読み出す。そして、メインコントローラ２６は、読み出したフォーマットのようにBPM原盤１０にトラック、サーボパターン、磁性ドットを配置するために、各種制御部を制御する。例えば、メインコントローラ２６は、ステージドライバ２１に対してBPM原盤１０のX-Y位置制御をする制御信号を出力したり、スピンドルモータドライバ２２に対してBPM原盤１０の回転をする制御信号を出力したり、電子源コントローラ２３に対してBPM原盤１０への電子ビーム照射や停止制御をする制御信号を出力したり、電子ビームコントローラ２４に対してBPM原盤１０への電子ビーム強弱などの制御をする制御信号を出力したりする。
【００３２】
そして、メインコントローラ２６から制御信号を受信したステージドライバ２１は、当該制御信号に基づいてX-Yステージ１１を制御し、同様に、スピンドルモータドライバ２２は、エアースピンドルモータ１２を制御し、電子源コントローラ２３は、電子源１３を制御し、電子ビームコントローラ２４は、電子ビーム調整系１４や電子ビーム集束系１５を制御する。
【００３３】
［磁気ディスク作製工程］
次に、図３−１〜図３−５を用いて、図２に示した磁気ディスク作製装置によりＥＢ露光されたパターンから本実施例に係る磁気ディスクを作成する工程について説明する。なお、以下では、BPM原盤露光装置が全ての工程を実施する場合を例にして説明するが、各工程ごとに実施する装置を分けることもできる。
【００３４】
まず、図３−１に示すように、スピンコートされたレジスト膜をＥＢ露光してエッチングし、磁性ドットに対応する部分をBPM原盤１０に残す。具体的には、図２に示したBPM原盤露光装置は、BPM原盤１０における磁性ドットを千鳥配置する際に、トラック間ドット列間隔をトラック内ドット列間隔より大きくして配置するパターンをフォーマッタ２５から読み出す。そして、BPM原盤露光装置は、当該パターンを形成するように、磁性ドット列を1列露光する毎にBPM原盤の半径方向の送りピッチをX-Yステージ１１で変えながらBPM原盤１０にＥＢ露光してエッチングし、当該パターンをBPM原盤１０に残す。つまり、BPM原盤露光装置は、「位置マージン（Ｄ２）＝Ｂ２―２Ｒ＝（Ｂ１−２Ｒ）＋（Ａ１−Ａ２）＞Ｂ−２Ｒ＝Ｄ１」となるような磁性ドットに対応する部分をBPM原盤１０に残す。
【００３５】
次に、ＥＢ露光されたBPM原盤１０に対して行う工程は、従来の磁気ディスクに対して行う処理と同様であるので、詳細な説明は省略する。具体的には、BPM原盤露光装置は、図３−２に示すように、エッチングされて磁性ドットが残されたBPM原盤１０に対して、エッチングにより鋳物パターン（型）にする。続いて、BPM原盤露光装置は、図３−３に示すように、鋳物パターンが作成されたBPM原盤１０に対して、Ｎｉ電鋳により鋳物パターンを転写させたスタンパを作製する。そして、BPM原盤露光装置は、図３−４に示すように、ナノインプリントすることにより、図３−３で転写させたスタンパをBPM原盤１０の磁性層上のレジストに転写する。その後、BPM原盤露光装置は、図３−５に示すように、ナノインプリントにより転写されたパターンをエッチングにより磁性膜を加工して、図３−１でＥＢ露光したパターンを形成する。上記した工程を実施することで、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたBPMを作製することができる。
【００３６】
なお、上記したナノインプリントとは、樹脂への型の押し付けによって、樹脂パターンを形成し、その後のエッチングによって樹脂パターンを材料に転写する手法である。また、図３−１は、ＥＢ露光されて磁性ドットに対応する部分が残されたBPM原盤の例を示す図であり、図３−２は、エッチングにより鋳物パターンにされた例を示す図であり、図３−３は、Ｎｉ電鋳により鋳物パターンを転写させたスタンパの例を示す図であり、図３−４は、ナノインプリントされたBPM原盤の例を示す図であり、図３−５は、作製されたBPMの例を示す図である。
【００３７】
［実施例１による効果］
このように、実施例１によれば、データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたBPM原盤１０を磁気ディスク装置として用いることができる。その結果、記録の面密度は従来と変わらないパターンドメディアを用いた場合であっても、記録または再生の対象となる磁性ドットと隣接する他の磁性ドットを傷つけないようにヘッドを精密に制御する必要もない。その結果、高密度化した磁気ディスクであっても、従来と同じ一般的な手法で正確にヘッドを制御することが可能である。
【実施例２】
【００３８】
さて、これまで本発明の実施例について説明したが、本発明は上述した実施例以外にも、種々の異なる形態にて実施されてよいものである。そこで、以下に示すように、（１）磁気ディスク、（２）システム構成等、にそれぞれ区分けして異なる実施例を説明する。
【００３９】
（１）磁気ディスク
例えば、本発明は、実施例１で説明した磁気ディスクとして、磁性粒子が人工的に規則正しく並べられた記録媒体であり、磁性粒子１つにつき１ビットを記録することで、高密度記録が可能であるパターンドメディアを用いることができる。
【００４０】
（２）システム構成等
また、図示した磁気ディスク装置の各構成要素は機能概念的なものであり、必ずしも物理的に図示の如く構成されていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部または一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的または物理的に分散・統合して構成することができる。さらに、各装置にて行なわれる各処理機能は、その全部または任意の一部が、ＭＣＵ（もしくは、ＣＰＵ（Central Processing Unit）やＭＰＵ（Micro Processing Unit）などの制御装置）にて解析実行されるプログラムにて実現され、あるいは、ワイヤードロジックによるハードウェアとして実現され得る。
【００４１】
以上の実施例１と２を含む実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
【００４２】
（付記１）データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたことを特徴とする磁気ディスク。
【００４３】
（付記２）データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクに対して磁気ヘッドを制御して、各種データの記録、再生または消去を行うことを特徴とする磁気ディスク装置。
【００４４】
（付記３）データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクを作製する磁性ドット作製部、
を備えたことを特徴とする磁気ディスク作製装置。
【００４５】
（付記４）前記磁性ドット作製部は、前記磁性ドットを電子ビーム直接描画で作製することを特徴とする付記３に記載の磁気ディスク作製装置。
【００４６】
（付記５）前記磁性ドット作製部は、前記磁気ディスクとしてのパターンドメディアに対して前記磁性ドットを作製することを特徴とする付記４に記載の磁気ディスク作製装置。
【００４７】
（付記６）データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクを作製する磁性ドット作製ステップ、
を含んだことを特徴とする磁気ディスク作製方法。
【００４８】
（付記７）前記磁性ドット作製ステップは、前記磁性ドットを電子ビーム直接描画で作製することを特徴とする付記６に記載の磁気ディスク作製方法。
【００４９】
（付記８）前記磁性ドット作製ステップは、前記磁気ディスクとしてのパターンドメディアに対して前記磁性ドットを作製することを特徴とする付記６または７に記載の磁気ディスク作製方法。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】実施例１に係る磁気ディスク装置の概要を説明するための図である。
【図２】磁気ディスク作製装置の構成を示すブロック図である。
【図３−１】ＥＢ露光されて磁性ドットに対応する部分が残されたBPM原盤の例を示す図である。
【図３−２】エッチングにより鋳物パターンにされた例を示す図である。
【図３−３】Ｎｉ電鋳により鋳物パターンを転写させたスタンパの例を示す図である。
【図３−４】ナノインプリントされたBPM原盤の例を示す図である。
【図３−５】作製されたBPMの例を示す図である。
【図４】従来技術を説明するための図である。
【図５】従来技術に係る磁気ディスク装置が有する磁気ディスクを説明するための図である。
【符号の説明】
【００５１】
１０ BPM原盤
１１ X-Yステージ
１２ エアースピンドルモータ
１３ 電子源
１４ 電子ビーム調整系
１５ 電子ビーム集束系
２１ ステージドライバ
２２ スピンドルモータドライバ
２３ 電子源コントローラ
２４ 電子ビームコントローラ
２５ フォーマッタ
２６ メインコントローラ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項２】
データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクに対して磁気ヘッドを制御して、各種データの記録、再生または消去を行うことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項３】
データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクを作製する磁性ドット作製ステップ、
を含んだことを特徴とする磁気ディスク作製方法。
【請求項４】
前記磁性ドット作製ステップは、前記磁性ドットを電子ビーム直接描画で作製することを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク作製方法。
【請求項５】
前記磁性ドット作製ステップは、前記磁気ディスクとしてのパターンドメディアに対して前記磁性ドットを作製することを特徴とする請求項３または４に記載の磁気ディスク作製方法。
【請求項１】
データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置されたことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項２】
データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクに対して磁気ヘッドを制御して、各種データの記録、再生または消去を行うことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項３】
データを記録するデータ領域の磁性ドットが、トラック内における磁性ドット間隔よりもトラック間における磁性ドット間隔を大きくするように、千鳥に交互配置された磁気ディスクを作製する磁性ドット作製ステップ、
を含んだことを特徴とする磁気ディスク作製方法。
【請求項４】
前記磁性ドット作製ステップは、前記磁性ドットを電子ビーム直接描画で作製することを特徴とする請求項３に記載の磁気ディスク作製方法。
【請求項５】
前記磁性ドット作製ステップは、前記磁気ディスクとしてのパターンドメディアに対して前記磁性ドットを作製することを特徴とする請求項３または４に記載の磁気ディスク作製方法。
【図１】
【図２】
【図３−１】
【図３−２】
【図３−３】
【図３−４】
【図３−５】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３−１】
【図３−２】
【図３−３】
【図３−４】
【図３−５】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００９−２６６３２０（Ｐ２００９−２６６３２０Ａ）
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１１５９０１（Ｐ２００８−１１５９０１）
【出願日】平成２０年４月２５日（２００８．４．２５）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年４月２５日（２００８．４．２５）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]