磁気ヘッド、データ記録再生装置および磁気ヘッドの磁性膜形成方法
【課題】磁気ヘッドの磁性膜のヒステリシス損失を低減し、磁界発生用のコイルやその周辺部の温度上昇を抑制することが可能な磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】記録媒体Ｄに磁界を印加させるためのコイル３と、このコイル３とは電気的に絶縁されるようにしてコイル３の軸長方向においてコイル３に重なって設けられている磁性膜５と、を具備している磁気ヘッドＨであって、磁性膜５は、コイル３の周方向に並び、かつその方向に幅を有する複数の領域５０Ａ，５０Ｂを有しており、これら複数の領域５０Ａ，５０Ｂのそれぞれの磁化困難軸方向Ｄａ，Ｄｂは、各領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向とされている。好ましくは、磁性膜５の磁化困難軸は、コイル３の中心軸Ｃを中心とする放射状または略放射状に延びる分布とされている。
【解決手段】記録媒体Ｄに磁界を印加させるためのコイル３と、このコイル３とは電気的に絶縁されるようにしてコイル３の軸長方向においてコイル３に重なって設けられている磁性膜５と、を具備している磁気ヘッドＨであって、磁性膜５は、コイル３の周方向に並び、かつその方向に幅を有する複数の領域５０Ａ，５０Ｂを有しており、これら複数の領域５０Ａ，５０Ｂのそれぞれの磁化困難軸方向Ｄａ，Ｄｂは、各領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向とされている。好ましくは、磁性膜５の磁化困難軸は、コイル３の中心軸Ｃを中心とする放射状または略放射状に延びる分布とされている。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、光磁気ディスク装置や磁気ディスク装置などのデータ記録再生装置、データ記録再生装置の構成部品としての磁気ヘッド、および磁気ヘッドに具備された磁性膜の形成方法に関する。
【０００２】本明細書でいう「磁気ヘッド」とは、磁界発生用のコイルを備えたヘッドを意味しており、光学レンズを備えた光磁気ヘッドも含む概念である。
【０００３】
【従来の技術】従来の光磁気ヘッドの一例を図１０に示す。この光磁気ヘッドは、レンズホルダ９０に、対物レンズ９１ａ，９１ｂと磁界発生用のコイル９２とが搭載された構成を有している。対物レンズ９１ａ，９１ｂは、レーザ光源から進行してきたレーザ光を集束させることにより、光磁気ディスクＤ上にビームスポットＢｓを形成する。コイル９２は、ビームスポットＢｓが形成された箇所に磁界を印加するものであり、たとえば対物レンズ９１ｂの光磁気ディスクＤに対向する面上に設けられている。このような構成によれば、コイル９２を光磁気ディスクＤに接近させることができるために、対物レンズを備えた光学ヘッドとコイルを備えた磁気ヘッドとを別々に設けていた従来の伝統的なものと比べると、コイルとしては、低消費電力であって、低インダクタンスのものを用いることが可能となり、磁界変調方式を採用して転送速度を速めるのに有利となる。
【０００４】上記のような構造を有する光磁気ヘッドにおいては、ビームスポットＢｓの形成箇所に垂直磁界をできる限り効率良く作用させることが望まれる。そこで、従来においては、たとえば図１１に示すように、軟磁性体からなる磁性膜９３をコイル９２に接近させて設ける手段が提案されている。このような手段によれば、コイル９２によって発生される磁界の磁力線は、たとえば図１２に示すようになり（同図では、コイル９２などを模式的に示している）、磁性膜９３を設けない場合よりも、ビームスポット形成箇所への垂直磁界の印加効率を高めることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従来の手段においては、次のような不具合があった。
【０００６】すなわち、コイル９２を交流で駆動するときには、コイル９２自体が発熱するのに加え、磁性膜９３のヒステリシス損失に起因して、磁性膜９３自体も発熱する現象がみられる。このヒステリシス損失に起因する磁性膜９３の発熱量は、コイル９２の駆動周波数に略比例して増加する。一方、磁性膜９３は、この磁性膜９３に流れる渦電流（誘導電流）にも起因して発熱する。このような磁性膜９３の発熱は、コイル９２やその周辺部の温度を上昇させる。ところが、このような温度上昇は、コイル９２に断線を生じさせる要因となる他、コイル９２の電気抵抗の増大をもたらし、コイル９２の発熱が促進されるという悪循環を招く。また、対物レンズ９１ａ，９１ｂによって集束されるレーザ光がコイル９２の中心部分を通過する場合、上記したようなコイル９２の温度上昇は、光磁気ヘッドの光学的な特性を劣化させる要因にもなる。このように、従来においては、コイル９２を高い周波数で駆動しようとすると発熱の問題が生じており、この点において改善の余地があった。
【０００７】本願発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、磁気ヘッドの磁性膜のヒステリシス損失を低減し、磁界発生用のコイルやその周辺部の温度上昇を抑制することが可能な磁気ヘッド、およびこのような磁気ヘッドを備えたデータ記録再生装置を提供することをその課題としている。また、本願発明は、そのような磁気ヘッドの磁性膜を適切に形成することができる磁性膜形成方法を提供することを他の目的としている。
【０００８】
【発明の開示】上記の課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
【０００９】本願発明の第１の側面によって提供される磁気ヘッドは、記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜の磁化困難軸は、上記コイルの中心軸を中心とする放射状または略放射状に延びる分布とされていることを特徴としている。
【００１０】このような構成によれば、上記コイルの発生磁界によって上記磁性膜が磁化される方向（磁化方向）は上記コイルの半径方向であることから、上記磁性膜の磁化方向と磁化困難軸が延びる方向（磁化困難軸方向）とは、一致または略一致することとなる。詳細な原理については後述するが、このように磁性膜の磁化方向と磁化困難軸方向とが一致または略一致すると、上記磁性膜のヒステリシス損失を少なくし、上記磁性膜の発熱量も少なくすることができる。したがって、コイルを高い周波数で駆動する場合であっても、その温度上昇を抑制し、温度上昇に起因するコイルの断線や電気抵抗の増大を抑制することが可能となる。
【００１１】本願発明の第２の側面によって提供される磁気ヘッドは、記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜は、上記コイルの周方向に並び、かつその方向に幅を有する複数の領域を有しており、これら複数の領域のそれぞれの磁化困難軸方向は、上記各領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向とされていることを特徴としている。
【００１２】このような構成によれば、上記複数の領域の幅を小さくし、上記複数の領域の総数を多くすると、それら複数の領域のそれぞれの磁化困難軸方向が上記コイルの半径方向またはそれに近い方向となる。また、上記複数の領域の総数を比較的少なくした場合であっても、たとえば上記磁性膜の磁化困難軸が一方向のみである場合や、磁化困難軸方向がアトランダムである場合と比較すると、上記磁性膜の磁化方向と磁化困難軸方向とが一致または略一致する割合を多くすることができる。したがって、上記構成によっても、本願発明の第１の側面によって提供される磁気ヘッドと同様に、上記磁性膜のヒステリシス損失を少なくしてその発熱を抑えることができ、コイルの温度上昇を抑制する効果が得られる。
【００１３】本願発明の好ましい実施の形態においては、上記磁性膜の複数の領域のうち、上記コイルの中心軸を挟んで対をなす領域は、磁化困難軸方向が同一とされている。このような構成によれば、上記磁性膜を形成する場合に、互いに対をなす領域については、同一の作業工程で形成することが可能となり、製造の容易化を図ることができる。
【００１４】本願発明の他の好ましい実施の形態においては、光源から進行してきた光ビームを集光させるための対物レンズを備えているとともに、上記磁性膜には、上記対物レンズを通過してきた光ビームを通過させるための第１の光透過部が形成されており、かつ上記コイルの中心部には、上記第１の光透過部を透過してきた光を上記対物レンズに向けてさらに透過させるための第２の光透過部が形成されている。このような構成によれば、光磁気記録媒体用の光磁気ヘッドとして好適となる。
【００１５】本願発明の第３の側面によって提供されるデータ記録再生装置は、本願発明の第１の側面または第２の側面によって提供される磁気ヘッドを備えていることを特徴としている。
【００１６】このような構成によれば、本願発明の第１の側面および第２の側面によって提供される磁気ヘッドについて述べたのと同様な効果が得られる。
【００１７】本願発明の第４の側面によって提供される磁気ヘッドの磁性膜形成方法は、本願発明の第１の側面または第２の側面によって提供される磁気ヘッドの磁性膜を形成するための方法であって、上記磁性膜の形成は、上記磁性膜を上記コイルの周方向に並ぶとともにその方向に幅を有する複数の領域に区分けして複数回の工程により行い、かつそれらの各工程においては、形成される領域の磁化困難軸方向を、その領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向に規定することを特徴としている。
【００１８】このような構成によれば、本願発明が意図する磁気ヘッドの磁性膜を適切に、かつ簡単に形成することができる。
【００１９】本願発明の好ましい実施の形態においては、上記コイルの中心軸を挟んで対をなす２つの領域については、同一工程によって形成する。このような構成によれば、上記磁性膜の複数の領域を形成する工程数を、上記領域の総数の半分に減らすことができ、磁気ヘッドの生産性を良くするのに好適となる。
【００２０】本願発明のその他の特徴および利点については、以下に行う発明の実施の形態の説明から、より明らかになるであろう。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【００２２】図１〜図３は、本願発明の一実施形態を示している。図１に示す光磁気ディスク装置Ａは、光磁気ヘッドＨを有している。この光磁気ヘッドＨは、スライダ１と、対物レンズとしての一対のレンズ２ａ，２ｂと、磁界発生用のコイル３と、誘電体膜４と、磁性膜５とを具備している。
【００２３】スライダ１は、たとえばセラミック製の板状またはブロック状である。このスライダ１は、アーム６０に対してサスペンション６１を介して支持されており、光磁気ディスクＤの上方に配されている。光磁気ディスクＤは、基板９８の上面に記録層９９が形成されたものであり、本実施形態においては、光磁気ヘッドＨと記録層９９とが基板９８を介することなく直接的に対面する表面記録方式が採用されている。アーム６０は、スライダ１を光磁気ディスクＤの半径方向（トラッキング方向Ｔｇ）に移動させることができるように、同方向に往復動自在な直動型のアーム、あるいは所定部分を中心として揺動自在な揺動アームとして構成されている。サスペンション６１は、フォーカス方向Ｆｓに弾性変形可能であり、光磁気ディスクＤがスピンドルモータＭによって高速回転されることにより、この光磁気ディスクＤの表面と誘電体膜４との間に高速空気流が流れ込むと、このスライダ１は光磁気ディスクＤから微小間隔を隔てて浮上するようになっている。
【００２４】アーム６０の先端部には、レーザダイオード８０やコリメータレンズ８１を備えた固定光学部８から進行してくるレーザ光を、レンズ２ａ，２ｂのそれぞれに順次入射させるように反射するミラー６２が搭載されている。固定光学部８には、ビームスプリッタ８２や光検出器８３も設けられており、光磁気ディスクＤに照射されてからこの光磁気ディスクＤによって反射された光は、光検出器８３で検出され、この検出により光磁気ディスクＤに記録されているデータの読み取り処理がなされ、またトラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号などの各種のエラー信号の作成処理もなされるようになっている。
【００２５】レンズ２ａ，２ｂは、受けたレーザ光を順次集束させることによって、光磁気ディスクＤの記録層９９上にビームスポットを形成するためのものである。レンズ２ａは、たとえばスライダ１の上面部に搭載されている。レンズ２ｂは、スライダ１の貫通穴１０内に収容されていることによりレンズ２ａの直下に配されている。対物レンズとして、複数枚のレンズを用いれば、対物レンズの開口数を高めることが容易化される。レンズ２ｂは、下向きのレンズ面２０が平面状に形成されたものであり、このレンズ面２０には、透明基板２１が接着されている。透明基板２１は、たとえばガラス製であり、スライダ１の下向き面の全面またはその一部分に重ね合わされて接着されている。この透明基板２１の表面上に磁性膜５，コイル３、および誘電体膜４が形成されている。
【００２６】コイル３は、導体薄膜により形成されたものであり、図３の仮想線に示すように、渦巻型のものである。このコイル３は、たとえば銅膜の形成後にこの銅膜にエッチング処理を施して渦巻き状にパターニングする手法、渦巻き状にパターニングされたレジストを形成した後にこのレジストによって規定されている空間領域に銅膜をメッキ処理によって形成する手法、あるいはその他の手法により形成可能である。このコイル３には、一対のリード部３１ａ，３１ｂが繋がって形成されている。図面には示されていないが、このコイル３は、このコイル３とリード部３１ａとの導通を回避するためのスルーホールを備えた構造とされている。むろん、本願発明においては、コイルの具体的な構成はこれに限定されるものではない。たとえば、２層以上の導体薄膜から構成された複数層構造のコイルとして構成することもできる。リード部３１ａ，３１ｂは、図１および図２には表わされていないが、誘電体膜４の側面まで延びており、この部分からコイル３への電力供給が可能となっている。コイル３の中心軸Ｃは、レンズ２ａ，２ｂの中心軸と一致している。
【００２７】誘電体膜４は、たとえばアルミナや酸化珪素からなり、透明である。この誘電体膜４は、コイル３や磁性膜５を覆っており、光磁気ディスクＤに対向する面４０は平面状である。コイル３の中心部にもこの誘電体膜４の一部が進入しており、コイル３の中心部分は、レーザ光を透過させることが可能な光透過部３２として構成されている。コイル３は、そのインダクタンスを低くすることができるように、レーザ光の光路を遮らない範囲において光透過部３２の直径（コイル３の内径）ができる限り小さいものとされている。この誘電体膜４は、たとえば蒸着やスパッタリングにより形成することができる。
【００２８】磁性膜５は、Ｎｉ−Ｆｅ合金などの軟磁性体からなる。この磁性膜５は、透明基板２１とコイル３との間に形成されており、その中心がコイル３の中心軸Ｃと一致する略中空円状である。ただし、図３に示されているように、この磁性膜５は、この磁性膜５の半径方向に延びる計４つのスリット５１を介して中心軸Ｃ周り（コイル３の周方向）において４等分されており、一対ずつの第１および第２の領域５０Ａ，５０Ｂに区分されている。
【００２９】一対の第１の領域５０Ａどうしは、同図のｘ方向において中心軸Ｃを挟む配置となっている。一対の第２の領域５０Ｂどうしは、ｘ方向に直交するｙ方向において中心軸Ｃを挟む配置となっている。磁性膜５は、磁気異方性を有しており、一対の第１の領域５０Ａのそれぞれの磁化困難軸方向Ｄａは、いずれもｘ方向である。これに対し、一対の第２の領域５０Ｂのそれぞれの磁化困難軸方向Ｄｂは、いずれもｙ方向である。
【００３０】磁性膜５の中心の穴部５２には、誘電体膜４の一部が進入している。この穴部５２は、コイル３の光透過部３２と同様に、レーザ光を通過させる光透過部としての役割を果たす。この磁性膜５の外径は、コイル３の外径よりも大きくされている。このように、磁性膜５を大径にすれば、磁性膜５のボリュームおよび表面積が大きくなるため、コイル３から発せられた熱を逃がすための放熱作用を高めるのに有利となる。
【００３１】磁性膜５は、たとえばメッキ処理によって透明基板２１上に形成することが可能であり、その形成工程の一例を図４（ａ），（ｂ）に示す。
【００３２】磁性膜５を形成するには、まず同図（ａ）に示すように、一対の第１の領域５０Ａのみを形成する。ただし、メッキ処理によって各第１の領域５０Ａの膜を成長させている際には、この膜の形成箇所にバイアス磁界を印可する。このバイアス磁界の向きＮａはｙ方向とする。すると、各第１の領域５０Ａは磁気異方性をもった膜として仕上げられ、その磁化困難軸方向Ｄａは、バイアス磁界の向きＮａに直交したｘ方向となる。
【００３３】次いで、同図（ｂ）に示すように、一対の第２の領域５０Ｂの膜をメッキ処理によって形成する。その際には、第１の領域５０Ａの形成工程とは異なり、バイアス磁界の向きＮｂはｘ方向とする。このことにより、各第２の領域５０Ｂの磁化困難軸方向Ｄｂは、ｙ方向となる。
【００３４】上記した形成工程によれば、磁性膜５を適切に形成することができることは勿論のこと、磁性膜５が４分割されているのに対して、メッキ処理回数は２回で済み、その工程数を少なくすることができる。なお、磁性膜５は、メッキ処理に代えて、たとえば蒸着により形成することも可能であり、蒸着膜の成長過程において上記と同様な手法でバイアス磁界を印可すれば、やはり本実施形態の磁性膜５と同様な構成をもつ磁性膜を作製することが可能である。また、メッキや蒸着のいずれの成膜方法の場合であっても、各第２の領域５０Ｂを各第１の領域５０Ａに接触させるように形成することが可能である。したがって、本願発明の磁性膜としては、たとえば図３に示した複数のスリット５１を有しない形態のものとして形成することも可能である。
【００３５】次に、上記した光磁気ヘッドＨの作用について説明する。
【００３６】光磁気ディスクＤへのデータ書き込みを磁界変調方式で行なう場合、光磁気ディスクＤを回転させながら、記録層９９の目的のトラック上にレーザ光のビームスポットを形成し続ける。このビームスポットの形成により、記録層９９の磁性層をキュリー温度まで上昇させる。一方、コイル３には高周波電流を流して磁界の向きを切り替える。このような制御により、記録層９９の磁性膜の磁化の向きを制御し、データの書き込みを行なうことができる。
【００３７】このようなデータ書き込み処理時においては、磁性膜５がコイル３により発生される磁界により磁化される。その際の磁性膜５の磁化方向は、図５の矢印に示すように、磁性膜５の半径方向となる（なお、同図においては磁性膜５のスリット５１を省略している）。
【００３８】一方、Ｎｉ−Ｆｅ合金製の磁性膜５の磁化困難軸方向および磁化容易軸方向におけるヒステリシス曲線は、たとえば図６に示すようになっている。このこのヒステリシス曲線から理解されるように、磁界が磁化困難軸方向と磁化容易軸方向とのそれぞれにおいて変化する場合、磁化困難軸方向の方が、磁化容易軸方向よりもヒステリシス差が小さく、かつヒステリシス損失が少ない。なお、このような特徴は、Ｎｉ−Ｆｅ合金に限らず、それ以外の材質の磁性体についても同様にみられる。
【００３９】ここで、本実施形態の磁性膜５を考察すると、図３に示すように、この磁性膜５の各第１の領域５０Ａの幅方向（コイル３の周方向）の中央部およびその周辺部については、それらの部分の磁化困難軸方向Ｄａが磁性膜５の半径方向または略半径方向となっており、磁性膜５の磁化方向と一致または略一致している。同様に、各第２の領域５０Ｂの幅方向中央部およびその周辺部についても、それらの部分の磁化困難軸方向Ｄｂは、磁性膜５の磁化方向と一致または略一致している。このため、磁性膜５のヒステリシス損失を少なくすることができることとなる。
【００４０】図７は、本願発明との対比例を示している。この対比例の磁性膜５Ｅは、いずれの部分においても磁化困難軸方向Ｄｅがｘ方向とされている。この対比例においては、同図の網点模様が付された２箇所の領域Ｚａの磁化困難軸方向Ｄｅが半径方向または略半径方向となっている。ところが、磁性膜５Ｅのそれ以外の部分においては、そのようにはなっておらず、とくに同図のクロスハッチングが入れられた２箇所の領域Ｚｂにおいては、磁化困難軸方向Ｄｅが半径方向とは直交した方向になっており、磁化方向と磁化容易軸の方向とが一致している。このため、上記の領域Ｚｂにおけるヒステリシス損失は一層多くなる。この対比例と本実施形態とを比較すると、本実施形態の方が対比例よりもヒステリシス損失を少なくし、磁性膜５の発熱を抑制する効果が得られることが理解できるであろう。
【００４１】また、上記対比例とは異なり、磁性膜に磁気異方性をもたせない場合には、磁化困難軸方向がアトランダムであるため、磁性膜の磁化方向と磁化困難軸方向とが一致する割合はやはり少なくなる。したがって、このような場合と比較しても、本実施形態の方が、ヒステリシス損失が少なく、磁性膜の発熱量を少なくすることができる。
【００４２】このように、本実施形態においては、磁性膜５のヒステリシス損失に起因する発熱を抑制することができる。このため、磁性膜５には、コイル３から発せられた熱を外部に逃がす放熱板としての役割をもたせることも可能となり、コイル３を高い周波数で駆動する場合であっても、コイル３の温度があまり高温にならないようにすることができる。また、コイル３の温度上昇を抑制すれば、温度上昇に伴ってコイル３の電気抵抗が増大していくことが防止され、電気抵抗の増大による消費電力の増加、および消費電力の増加に起因するコイル３の発熱温度のさらなる上昇といった連鎖的な現象も好適に防止される。さらには、光透過部３２，５２の温度もあまり高くならないようにすることができるため、これら光透過部３２，５２をレーザ光が透過するときに不具合を生じないようにすることもできる。
【００４３】本実施形態の光磁気ヘッドＨは、いわゆる浮上スライダ方式のものとして構成されており、光磁気ディスクＤの記録層９９とコイル３との間隔を非常に小さくできるため、コイル３の中央部の光透過部３２において、この部分を透過するレーザ光を微小径に絞ることができる。したがって、コイル３の内径を小さくして、コイル３の低インダクタンス化の促進を図るのに好適である。また、浮上スライダ方式においては、光磁気ヘッドＨと光磁気ディスクＤとの間に流れる高速空気流による誘電体膜４の表面に対する冷却効率がよいため、コイル３の温度上昇がより抑制される。
【００４４】図８および図９は、本願発明の他の実施形態を示している。これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。
【００４５】図８に示す構成は、本願発明において理想的な構成であり、磁性膜５の磁化困難軸が中心軸Ｃを中心とする放射状に延びた分布となっており、磁化困難軸方向Ｄ１は、磁性膜５の全域において磁性膜５や図示されていないコイルの半径方向となっている。このような構成によれば、磁性膜５の磁化困難軸方向Ｄ１と磁化方向とを正確に一致させて、磁性膜５のヒステリシス損失を最小にすることが可能である。ただし、磁化困難軸が本実施形態のような分布とされた磁性膜を実際に作製するには困難な点が多い。そこで、本実施形態の構成に近い磁性膜を比較的簡易に作製するための手段として、たとえば図９に示すような手段を採用することが好ましい。
【００４６】図９に示す構成においては、磁性膜５がコイルの中心軸Ｃ周りに並ぶ計１２の領域５０ａ〜５０ｆ，５０a'〜５０f'に区分されている。これらのうち、中心軸Ｃを挟む一対の領域５０ａ，５０a'を代表的に説明すると、これら一対の領域５０ａ，５０a'は、同一方向のバイアス磁界を印可させながらたとえばメッキ処理によって同時に形成された領域であり、それらの磁化困難軸方向Ｄ２は同一である。磁化困難軸方向Ｄ２は、領域５０ａ，５０a'のそれぞれの幅方向（コイルの周方向に相当する）の中心線Ｌａが延びる方向またはこれと略平行な方向とされている。他の計１０箇所の領域５０ｂ〜５０ｆ，５０b'〜５０f'も、上記した一対の領域５０ａ，５０a'と同様な構成となっている。なお、図３には示さなかったが、図３の磁性膜５においても、第１および第２の領域５０Ａ，５０Ｂのそれぞれの磁化困難軸方向は、それらの領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向である。
【００４７】図９に示した構成によれば、磁性膜５の広い面積部分において、その磁化困難軸方向Ｄ２がコイルの半径方向となっており、磁性膜５を図８に示した構成に近いものとすることができる。図９に示した磁性膜５を、たとえば図３に示したものと比較すると、そのヒステリシス損失を少なくするのにより好ましいものとなる。
【００４８】本願発明においては、磁性膜５を複数の領域に区分する場合、その領域の具体的な数は限定されない。各領域の幅を小さくして領域の総数を多くするほど、磁化困難軸方向がコイルの半径方向となる部分の割合を大きくし、図８に示した構成に近づけることができ、理論的には、磁性膜５の全域の磁化困難軸方向を略完全にコイルの半径方向とすることが可能である。ただし、それに伴って膜形成の工程数が多くなるため、実際には、磁気ヘッドの生産性や磁性膜の発熱の程度などを考慮して磁性膜をどの程度に細分化するのかを決定すればよい。
【００４９】本願発明の内容は、上述の実施形態に限定されない。本願発明に係る磁気ヘッドやデータ記録再生装置の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。同様に、磁気ヘッドの磁性膜形成方法の各作業工程の具体的な構成も、種々に変更自在である。
【００５０】たとえば、コイル、磁性膜、およびこれらを覆う誘電体膜については、対物レンズのレンズ面上に直接形成した構成とすることもできる。本願発明に係る磁気ヘッドは、必ずしも浮上スライダタイプのものとして構成されている必要もなく、たとえばアクチュエータの駆動によってフォーカス方向やトラッキング方向に移動自在な磁気ヘッドとして構成することもできる。本願発明に係る磁気ヘッドは、対物レンズを有しない磁気ヘッドとして構成することもできる。記録媒体の具体的な種類もとくに限定されるものではない。
【００５１】本願発明は、次の付記として記載した構成を備えたものとすることができる。
【００５２】〔付記１〕 記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜の磁化困難軸は、上記コイルの中心軸を中心とする放射状または略放射状に延びる分布とされていることを特徴とする、磁気ヘッド。
〔付記２〕 記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜は、上記コイルの周方向に並び、かつその方向に幅を有する複数の領域を有しており、これら複数の領域のそれぞれの磁化困難軸方向は、上記各領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向とされていることを特徴とする、磁気ヘッド。
〔付記３〕 上記磁性膜の複数の領域のうち、上記コイルの中心軸を挟んで対をなす領域は、磁化困難軸方向が同一とされている、付記２に記載の磁気ヘッド。
〔付記４〕 光源から進行してきた光ビームを集光させるための対物レンズを備えているとともに、上記磁性膜には、上記対物レンズを通過してきた光ビームを通過させるための第１の光透過部が形成されており、かつ上記コイルの中心部には、上記第１の光透過部を透過してきた光を上記対物レンズに向けてさらに透過させるための第２の光透過部が形成されている、付記１ないし３のいずれかに記載の磁気ヘッド。
〔付記５〕 付記１ないし４のいずれかに記載の磁気ヘッドを備えていることを特徴とする、データ記録再生装置。
〔付記６〕 付記１ないし４のいずれかに記載の磁気ヘッドの磁性膜を形成するための方法であって、上記磁性膜の形成は、上記磁性膜を上記コイルの周方向に並ぶとともにその方向に幅を有する複数の領域に区分けして複数回の工程により行い、かつ、それらの各工程においては、形成される領域の磁化困難軸方向を、その領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向に規定することを特徴とする、磁気ヘッドの磁性膜形成方法。
〔付記７〕 上記コイルの中心軸を挟んで対をなす２つの領域については、同一工程によって形成する、付記６に記載の磁気ヘッドの磁性膜形成方法。
【００５３】
【発明の効果】以上の説明から理解されるように、本願発明によれば、磁気ヘッドの磁性膜のヒステリシス損失を少なくしてその発熱量を減少させることができ、コイルの温度上昇を抑制することができる。したがって、コイルの熱損傷やその他の不具合を防止することができ、またコイルを高い周波数で駆動するのにも好適となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明の一実施形態を示す説明図である。
【図２】図１の要部拡大断面図である。
【図３】図２のIII −III 矢視説明図である。
【図４】（ａ），（ｂ）は、磁性膜の形成工程の一例を示す説明図である。
【図５】磁性膜の磁化方向を示す説明図である。
【図６】磁性膜のヒステリシス曲線の一例を示す図である。
【図７】本願発明との対比例を示す説明図である。
【図８】本願発明の他の実施形態を示す説明図である。
【図９】本願発明の他の実施形態を示す説明図である。
【図１０】従来技術の一例を示す要部断面図である。
【図１１】従来技術の他の例を示す要部断面図である。
【図１２】磁界の説明図である。
【符号の説明】
Ａ 光磁気ディスク装置
Ｄ 光磁気ディスク（記録媒体）
Ｈ 光磁気ヘッド
１ スライダ
２ａ，２ｂ レンズ（対物レンズ）
３ コイル
４ 誘電体膜
５ 磁性膜
３２ 光透過部
５０Ａ 第１の領域（磁性膜の）
５０Ｂ 第２の領域（磁性膜の）
５０ａ〜５０ｆ 領域（磁性膜の）
５０a'〜５０f' 領域（磁性膜の）
５２ 穴部（磁性膜の）
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、光磁気ディスク装置や磁気ディスク装置などのデータ記録再生装置、データ記録再生装置の構成部品としての磁気ヘッド、および磁気ヘッドに具備された磁性膜の形成方法に関する。
【０００２】本明細書でいう「磁気ヘッド」とは、磁界発生用のコイルを備えたヘッドを意味しており、光学レンズを備えた光磁気ヘッドも含む概念である。
【０００３】
【従来の技術】従来の光磁気ヘッドの一例を図１０に示す。この光磁気ヘッドは、レンズホルダ９０に、対物レンズ９１ａ，９１ｂと磁界発生用のコイル９２とが搭載された構成を有している。対物レンズ９１ａ，９１ｂは、レーザ光源から進行してきたレーザ光を集束させることにより、光磁気ディスクＤ上にビームスポットＢｓを形成する。コイル９２は、ビームスポットＢｓが形成された箇所に磁界を印加するものであり、たとえば対物レンズ９１ｂの光磁気ディスクＤに対向する面上に設けられている。このような構成によれば、コイル９２を光磁気ディスクＤに接近させることができるために、対物レンズを備えた光学ヘッドとコイルを備えた磁気ヘッドとを別々に設けていた従来の伝統的なものと比べると、コイルとしては、低消費電力であって、低インダクタンスのものを用いることが可能となり、磁界変調方式を採用して転送速度を速めるのに有利となる。
【０００４】上記のような構造を有する光磁気ヘッドにおいては、ビームスポットＢｓの形成箇所に垂直磁界をできる限り効率良く作用させることが望まれる。そこで、従来においては、たとえば図１１に示すように、軟磁性体からなる磁性膜９３をコイル９２に接近させて設ける手段が提案されている。このような手段によれば、コイル９２によって発生される磁界の磁力線は、たとえば図１２に示すようになり（同図では、コイル９２などを模式的に示している）、磁性膜９３を設けない場合よりも、ビームスポット形成箇所への垂直磁界の印加効率を高めることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従来の手段においては、次のような不具合があった。
【０００６】すなわち、コイル９２を交流で駆動するときには、コイル９２自体が発熱するのに加え、磁性膜９３のヒステリシス損失に起因して、磁性膜９３自体も発熱する現象がみられる。このヒステリシス損失に起因する磁性膜９３の発熱量は、コイル９２の駆動周波数に略比例して増加する。一方、磁性膜９３は、この磁性膜９３に流れる渦電流（誘導電流）にも起因して発熱する。このような磁性膜９３の発熱は、コイル９２やその周辺部の温度を上昇させる。ところが、このような温度上昇は、コイル９２に断線を生じさせる要因となる他、コイル９２の電気抵抗の増大をもたらし、コイル９２の発熱が促進されるという悪循環を招く。また、対物レンズ９１ａ，９１ｂによって集束されるレーザ光がコイル９２の中心部分を通過する場合、上記したようなコイル９２の温度上昇は、光磁気ヘッドの光学的な特性を劣化させる要因にもなる。このように、従来においては、コイル９２を高い周波数で駆動しようとすると発熱の問題が生じており、この点において改善の余地があった。
【０００７】本願発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、磁気ヘッドの磁性膜のヒステリシス損失を低減し、磁界発生用のコイルやその周辺部の温度上昇を抑制することが可能な磁気ヘッド、およびこのような磁気ヘッドを備えたデータ記録再生装置を提供することをその課題としている。また、本願発明は、そのような磁気ヘッドの磁性膜を適切に形成することができる磁性膜形成方法を提供することを他の目的としている。
【０００８】
【発明の開示】上記の課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
【０００９】本願発明の第１の側面によって提供される磁気ヘッドは、記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜の磁化困難軸は、上記コイルの中心軸を中心とする放射状または略放射状に延びる分布とされていることを特徴としている。
【００１０】このような構成によれば、上記コイルの発生磁界によって上記磁性膜が磁化される方向（磁化方向）は上記コイルの半径方向であることから、上記磁性膜の磁化方向と磁化困難軸が延びる方向（磁化困難軸方向）とは、一致または略一致することとなる。詳細な原理については後述するが、このように磁性膜の磁化方向と磁化困難軸方向とが一致または略一致すると、上記磁性膜のヒステリシス損失を少なくし、上記磁性膜の発熱量も少なくすることができる。したがって、コイルを高い周波数で駆動する場合であっても、その温度上昇を抑制し、温度上昇に起因するコイルの断線や電気抵抗の増大を抑制することが可能となる。
【００１１】本願発明の第２の側面によって提供される磁気ヘッドは、記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜は、上記コイルの周方向に並び、かつその方向に幅を有する複数の領域を有しており、これら複数の領域のそれぞれの磁化困難軸方向は、上記各領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向とされていることを特徴としている。
【００１２】このような構成によれば、上記複数の領域の幅を小さくし、上記複数の領域の総数を多くすると、それら複数の領域のそれぞれの磁化困難軸方向が上記コイルの半径方向またはそれに近い方向となる。また、上記複数の領域の総数を比較的少なくした場合であっても、たとえば上記磁性膜の磁化困難軸が一方向のみである場合や、磁化困難軸方向がアトランダムである場合と比較すると、上記磁性膜の磁化方向と磁化困難軸方向とが一致または略一致する割合を多くすることができる。したがって、上記構成によっても、本願発明の第１の側面によって提供される磁気ヘッドと同様に、上記磁性膜のヒステリシス損失を少なくしてその発熱を抑えることができ、コイルの温度上昇を抑制する効果が得られる。
【００１３】本願発明の好ましい実施の形態においては、上記磁性膜の複数の領域のうち、上記コイルの中心軸を挟んで対をなす領域は、磁化困難軸方向が同一とされている。このような構成によれば、上記磁性膜を形成する場合に、互いに対をなす領域については、同一の作業工程で形成することが可能となり、製造の容易化を図ることができる。
【００１４】本願発明の他の好ましい実施の形態においては、光源から進行してきた光ビームを集光させるための対物レンズを備えているとともに、上記磁性膜には、上記対物レンズを通過してきた光ビームを通過させるための第１の光透過部が形成されており、かつ上記コイルの中心部には、上記第１の光透過部を透過してきた光を上記対物レンズに向けてさらに透過させるための第２の光透過部が形成されている。このような構成によれば、光磁気記録媒体用の光磁気ヘッドとして好適となる。
【００１５】本願発明の第３の側面によって提供されるデータ記録再生装置は、本願発明の第１の側面または第２の側面によって提供される磁気ヘッドを備えていることを特徴としている。
【００１６】このような構成によれば、本願発明の第１の側面および第２の側面によって提供される磁気ヘッドについて述べたのと同様な効果が得られる。
【００１７】本願発明の第４の側面によって提供される磁気ヘッドの磁性膜形成方法は、本願発明の第１の側面または第２の側面によって提供される磁気ヘッドの磁性膜を形成するための方法であって、上記磁性膜の形成は、上記磁性膜を上記コイルの周方向に並ぶとともにその方向に幅を有する複数の領域に区分けして複数回の工程により行い、かつそれらの各工程においては、形成される領域の磁化困難軸方向を、その領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向に規定することを特徴としている。
【００１８】このような構成によれば、本願発明が意図する磁気ヘッドの磁性膜を適切に、かつ簡単に形成することができる。
【００１９】本願発明の好ましい実施の形態においては、上記コイルの中心軸を挟んで対をなす２つの領域については、同一工程によって形成する。このような構成によれば、上記磁性膜の複数の領域を形成する工程数を、上記領域の総数の半分に減らすことができ、磁気ヘッドの生産性を良くするのに好適となる。
【００２０】本願発明のその他の特徴および利点については、以下に行う発明の実施の形態の説明から、より明らかになるであろう。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【００２２】図１〜図３は、本願発明の一実施形態を示している。図１に示す光磁気ディスク装置Ａは、光磁気ヘッドＨを有している。この光磁気ヘッドＨは、スライダ１と、対物レンズとしての一対のレンズ２ａ，２ｂと、磁界発生用のコイル３と、誘電体膜４と、磁性膜５とを具備している。
【００２３】スライダ１は、たとえばセラミック製の板状またはブロック状である。このスライダ１は、アーム６０に対してサスペンション６１を介して支持されており、光磁気ディスクＤの上方に配されている。光磁気ディスクＤは、基板９８の上面に記録層９９が形成されたものであり、本実施形態においては、光磁気ヘッドＨと記録層９９とが基板９８を介することなく直接的に対面する表面記録方式が採用されている。アーム６０は、スライダ１を光磁気ディスクＤの半径方向（トラッキング方向Ｔｇ）に移動させることができるように、同方向に往復動自在な直動型のアーム、あるいは所定部分を中心として揺動自在な揺動アームとして構成されている。サスペンション６１は、フォーカス方向Ｆｓに弾性変形可能であり、光磁気ディスクＤがスピンドルモータＭによって高速回転されることにより、この光磁気ディスクＤの表面と誘電体膜４との間に高速空気流が流れ込むと、このスライダ１は光磁気ディスクＤから微小間隔を隔てて浮上するようになっている。
【００２４】アーム６０の先端部には、レーザダイオード８０やコリメータレンズ８１を備えた固定光学部８から進行してくるレーザ光を、レンズ２ａ，２ｂのそれぞれに順次入射させるように反射するミラー６２が搭載されている。固定光学部８には、ビームスプリッタ８２や光検出器８３も設けられており、光磁気ディスクＤに照射されてからこの光磁気ディスクＤによって反射された光は、光検出器８３で検出され、この検出により光磁気ディスクＤに記録されているデータの読み取り処理がなされ、またトラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号などの各種のエラー信号の作成処理もなされるようになっている。
【００２５】レンズ２ａ，２ｂは、受けたレーザ光を順次集束させることによって、光磁気ディスクＤの記録層９９上にビームスポットを形成するためのものである。レンズ２ａは、たとえばスライダ１の上面部に搭載されている。レンズ２ｂは、スライダ１の貫通穴１０内に収容されていることによりレンズ２ａの直下に配されている。対物レンズとして、複数枚のレンズを用いれば、対物レンズの開口数を高めることが容易化される。レンズ２ｂは、下向きのレンズ面２０が平面状に形成されたものであり、このレンズ面２０には、透明基板２１が接着されている。透明基板２１は、たとえばガラス製であり、スライダ１の下向き面の全面またはその一部分に重ね合わされて接着されている。この透明基板２１の表面上に磁性膜５，コイル３、および誘電体膜４が形成されている。
【００２６】コイル３は、導体薄膜により形成されたものであり、図３の仮想線に示すように、渦巻型のものである。このコイル３は、たとえば銅膜の形成後にこの銅膜にエッチング処理を施して渦巻き状にパターニングする手法、渦巻き状にパターニングされたレジストを形成した後にこのレジストによって規定されている空間領域に銅膜をメッキ処理によって形成する手法、あるいはその他の手法により形成可能である。このコイル３には、一対のリード部３１ａ，３１ｂが繋がって形成されている。図面には示されていないが、このコイル３は、このコイル３とリード部３１ａとの導通を回避するためのスルーホールを備えた構造とされている。むろん、本願発明においては、コイルの具体的な構成はこれに限定されるものではない。たとえば、２層以上の導体薄膜から構成された複数層構造のコイルとして構成することもできる。リード部３１ａ，３１ｂは、図１および図２には表わされていないが、誘電体膜４の側面まで延びており、この部分からコイル３への電力供給が可能となっている。コイル３の中心軸Ｃは、レンズ２ａ，２ｂの中心軸と一致している。
【００２７】誘電体膜４は、たとえばアルミナや酸化珪素からなり、透明である。この誘電体膜４は、コイル３や磁性膜５を覆っており、光磁気ディスクＤに対向する面４０は平面状である。コイル３の中心部にもこの誘電体膜４の一部が進入しており、コイル３の中心部分は、レーザ光を透過させることが可能な光透過部３２として構成されている。コイル３は、そのインダクタンスを低くすることができるように、レーザ光の光路を遮らない範囲において光透過部３２の直径（コイル３の内径）ができる限り小さいものとされている。この誘電体膜４は、たとえば蒸着やスパッタリングにより形成することができる。
【００２８】磁性膜５は、Ｎｉ−Ｆｅ合金などの軟磁性体からなる。この磁性膜５は、透明基板２１とコイル３との間に形成されており、その中心がコイル３の中心軸Ｃと一致する略中空円状である。ただし、図３に示されているように、この磁性膜５は、この磁性膜５の半径方向に延びる計４つのスリット５１を介して中心軸Ｃ周り（コイル３の周方向）において４等分されており、一対ずつの第１および第２の領域５０Ａ，５０Ｂに区分されている。
【００２９】一対の第１の領域５０Ａどうしは、同図のｘ方向において中心軸Ｃを挟む配置となっている。一対の第２の領域５０Ｂどうしは、ｘ方向に直交するｙ方向において中心軸Ｃを挟む配置となっている。磁性膜５は、磁気異方性を有しており、一対の第１の領域５０Ａのそれぞれの磁化困難軸方向Ｄａは、いずれもｘ方向である。これに対し、一対の第２の領域５０Ｂのそれぞれの磁化困難軸方向Ｄｂは、いずれもｙ方向である。
【００３０】磁性膜５の中心の穴部５２には、誘電体膜４の一部が進入している。この穴部５２は、コイル３の光透過部３２と同様に、レーザ光を通過させる光透過部としての役割を果たす。この磁性膜５の外径は、コイル３の外径よりも大きくされている。このように、磁性膜５を大径にすれば、磁性膜５のボリュームおよび表面積が大きくなるため、コイル３から発せられた熱を逃がすための放熱作用を高めるのに有利となる。
【００３１】磁性膜５は、たとえばメッキ処理によって透明基板２１上に形成することが可能であり、その形成工程の一例を図４（ａ），（ｂ）に示す。
【００３２】磁性膜５を形成するには、まず同図（ａ）に示すように、一対の第１の領域５０Ａのみを形成する。ただし、メッキ処理によって各第１の領域５０Ａの膜を成長させている際には、この膜の形成箇所にバイアス磁界を印可する。このバイアス磁界の向きＮａはｙ方向とする。すると、各第１の領域５０Ａは磁気異方性をもった膜として仕上げられ、その磁化困難軸方向Ｄａは、バイアス磁界の向きＮａに直交したｘ方向となる。
【００３３】次いで、同図（ｂ）に示すように、一対の第２の領域５０Ｂの膜をメッキ処理によって形成する。その際には、第１の領域５０Ａの形成工程とは異なり、バイアス磁界の向きＮｂはｘ方向とする。このことにより、各第２の領域５０Ｂの磁化困難軸方向Ｄｂは、ｙ方向となる。
【００３４】上記した形成工程によれば、磁性膜５を適切に形成することができることは勿論のこと、磁性膜５が４分割されているのに対して、メッキ処理回数は２回で済み、その工程数を少なくすることができる。なお、磁性膜５は、メッキ処理に代えて、たとえば蒸着により形成することも可能であり、蒸着膜の成長過程において上記と同様な手法でバイアス磁界を印可すれば、やはり本実施形態の磁性膜５と同様な構成をもつ磁性膜を作製することが可能である。また、メッキや蒸着のいずれの成膜方法の場合であっても、各第２の領域５０Ｂを各第１の領域５０Ａに接触させるように形成することが可能である。したがって、本願発明の磁性膜としては、たとえば図３に示した複数のスリット５１を有しない形態のものとして形成することも可能である。
【００３５】次に、上記した光磁気ヘッドＨの作用について説明する。
【００３６】光磁気ディスクＤへのデータ書き込みを磁界変調方式で行なう場合、光磁気ディスクＤを回転させながら、記録層９９の目的のトラック上にレーザ光のビームスポットを形成し続ける。このビームスポットの形成により、記録層９９の磁性層をキュリー温度まで上昇させる。一方、コイル３には高周波電流を流して磁界の向きを切り替える。このような制御により、記録層９９の磁性膜の磁化の向きを制御し、データの書き込みを行なうことができる。
【００３７】このようなデータ書き込み処理時においては、磁性膜５がコイル３により発生される磁界により磁化される。その際の磁性膜５の磁化方向は、図５の矢印に示すように、磁性膜５の半径方向となる（なお、同図においては磁性膜５のスリット５１を省略している）。
【００３８】一方、Ｎｉ−Ｆｅ合金製の磁性膜５の磁化困難軸方向および磁化容易軸方向におけるヒステリシス曲線は、たとえば図６に示すようになっている。このこのヒステリシス曲線から理解されるように、磁界が磁化困難軸方向と磁化容易軸方向とのそれぞれにおいて変化する場合、磁化困難軸方向の方が、磁化容易軸方向よりもヒステリシス差が小さく、かつヒステリシス損失が少ない。なお、このような特徴は、Ｎｉ−Ｆｅ合金に限らず、それ以外の材質の磁性体についても同様にみられる。
【００３９】ここで、本実施形態の磁性膜５を考察すると、図３に示すように、この磁性膜５の各第１の領域５０Ａの幅方向（コイル３の周方向）の中央部およびその周辺部については、それらの部分の磁化困難軸方向Ｄａが磁性膜５の半径方向または略半径方向となっており、磁性膜５の磁化方向と一致または略一致している。同様に、各第２の領域５０Ｂの幅方向中央部およびその周辺部についても、それらの部分の磁化困難軸方向Ｄｂは、磁性膜５の磁化方向と一致または略一致している。このため、磁性膜５のヒステリシス損失を少なくすることができることとなる。
【００４０】図７は、本願発明との対比例を示している。この対比例の磁性膜５Ｅは、いずれの部分においても磁化困難軸方向Ｄｅがｘ方向とされている。この対比例においては、同図の網点模様が付された２箇所の領域Ｚａの磁化困難軸方向Ｄｅが半径方向または略半径方向となっている。ところが、磁性膜５Ｅのそれ以外の部分においては、そのようにはなっておらず、とくに同図のクロスハッチングが入れられた２箇所の領域Ｚｂにおいては、磁化困難軸方向Ｄｅが半径方向とは直交した方向になっており、磁化方向と磁化容易軸の方向とが一致している。このため、上記の領域Ｚｂにおけるヒステリシス損失は一層多くなる。この対比例と本実施形態とを比較すると、本実施形態の方が対比例よりもヒステリシス損失を少なくし、磁性膜５の発熱を抑制する効果が得られることが理解できるであろう。
【００４１】また、上記対比例とは異なり、磁性膜に磁気異方性をもたせない場合には、磁化困難軸方向がアトランダムであるため、磁性膜の磁化方向と磁化困難軸方向とが一致する割合はやはり少なくなる。したがって、このような場合と比較しても、本実施形態の方が、ヒステリシス損失が少なく、磁性膜の発熱量を少なくすることができる。
【００４２】このように、本実施形態においては、磁性膜５のヒステリシス損失に起因する発熱を抑制することができる。このため、磁性膜５には、コイル３から発せられた熱を外部に逃がす放熱板としての役割をもたせることも可能となり、コイル３を高い周波数で駆動する場合であっても、コイル３の温度があまり高温にならないようにすることができる。また、コイル３の温度上昇を抑制すれば、温度上昇に伴ってコイル３の電気抵抗が増大していくことが防止され、電気抵抗の増大による消費電力の増加、および消費電力の増加に起因するコイル３の発熱温度のさらなる上昇といった連鎖的な現象も好適に防止される。さらには、光透過部３２，５２の温度もあまり高くならないようにすることができるため、これら光透過部３２，５２をレーザ光が透過するときに不具合を生じないようにすることもできる。
【００４３】本実施形態の光磁気ヘッドＨは、いわゆる浮上スライダ方式のものとして構成されており、光磁気ディスクＤの記録層９９とコイル３との間隔を非常に小さくできるため、コイル３の中央部の光透過部３２において、この部分を透過するレーザ光を微小径に絞ることができる。したがって、コイル３の内径を小さくして、コイル３の低インダクタンス化の促進を図るのに好適である。また、浮上スライダ方式においては、光磁気ヘッドＨと光磁気ディスクＤとの間に流れる高速空気流による誘電体膜４の表面に対する冷却効率がよいため、コイル３の温度上昇がより抑制される。
【００４４】図８および図９は、本願発明の他の実施形態を示している。これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。
【００４５】図８に示す構成は、本願発明において理想的な構成であり、磁性膜５の磁化困難軸が中心軸Ｃを中心とする放射状に延びた分布となっており、磁化困難軸方向Ｄ１は、磁性膜５の全域において磁性膜５や図示されていないコイルの半径方向となっている。このような構成によれば、磁性膜５の磁化困難軸方向Ｄ１と磁化方向とを正確に一致させて、磁性膜５のヒステリシス損失を最小にすることが可能である。ただし、磁化困難軸が本実施形態のような分布とされた磁性膜を実際に作製するには困難な点が多い。そこで、本実施形態の構成に近い磁性膜を比較的簡易に作製するための手段として、たとえば図９に示すような手段を採用することが好ましい。
【００４６】図９に示す構成においては、磁性膜５がコイルの中心軸Ｃ周りに並ぶ計１２の領域５０ａ〜５０ｆ，５０a'〜５０f'に区分されている。これらのうち、中心軸Ｃを挟む一対の領域５０ａ，５０a'を代表的に説明すると、これら一対の領域５０ａ，５０a'は、同一方向のバイアス磁界を印可させながらたとえばメッキ処理によって同時に形成された領域であり、それらの磁化困難軸方向Ｄ２は同一である。磁化困難軸方向Ｄ２は、領域５０ａ，５０a'のそれぞれの幅方向（コイルの周方向に相当する）の中心線Ｌａが延びる方向またはこれと略平行な方向とされている。他の計１０箇所の領域５０ｂ〜５０ｆ，５０b'〜５０f'も、上記した一対の領域５０ａ，５０a'と同様な構成となっている。なお、図３には示さなかったが、図３の磁性膜５においても、第１および第２の領域５０Ａ，５０Ｂのそれぞれの磁化困難軸方向は、それらの領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向である。
【００４７】図９に示した構成によれば、磁性膜５の広い面積部分において、その磁化困難軸方向Ｄ２がコイルの半径方向となっており、磁性膜５を図８に示した構成に近いものとすることができる。図９に示した磁性膜５を、たとえば図３に示したものと比較すると、そのヒステリシス損失を少なくするのにより好ましいものとなる。
【００４８】本願発明においては、磁性膜５を複数の領域に区分する場合、その領域の具体的な数は限定されない。各領域の幅を小さくして領域の総数を多くするほど、磁化困難軸方向がコイルの半径方向となる部分の割合を大きくし、図８に示した構成に近づけることができ、理論的には、磁性膜５の全域の磁化困難軸方向を略完全にコイルの半径方向とすることが可能である。ただし、それに伴って膜形成の工程数が多くなるため、実際には、磁気ヘッドの生産性や磁性膜の発熱の程度などを考慮して磁性膜をどの程度に細分化するのかを決定すればよい。
【００４９】本願発明の内容は、上述の実施形態に限定されない。本願発明に係る磁気ヘッドやデータ記録再生装置の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。同様に、磁気ヘッドの磁性膜形成方法の各作業工程の具体的な構成も、種々に変更自在である。
【００５０】たとえば、コイル、磁性膜、およびこれらを覆う誘電体膜については、対物レンズのレンズ面上に直接形成した構成とすることもできる。本願発明に係る磁気ヘッドは、必ずしも浮上スライダタイプのものとして構成されている必要もなく、たとえばアクチュエータの駆動によってフォーカス方向やトラッキング方向に移動自在な磁気ヘッドとして構成することもできる。本願発明に係る磁気ヘッドは、対物レンズを有しない磁気ヘッドとして構成することもできる。記録媒体の具体的な種類もとくに限定されるものではない。
【００５１】本願発明は、次の付記として記載した構成を備えたものとすることができる。
【００５２】〔付記１〕 記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜の磁化困難軸は、上記コイルの中心軸を中心とする放射状または略放射状に延びる分布とされていることを特徴とする、磁気ヘッド。
〔付記２〕 記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜は、上記コイルの周方向に並び、かつその方向に幅を有する複数の領域を有しており、これら複数の領域のそれぞれの磁化困難軸方向は、上記各領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向とされていることを特徴とする、磁気ヘッド。
〔付記３〕 上記磁性膜の複数の領域のうち、上記コイルの中心軸を挟んで対をなす領域は、磁化困難軸方向が同一とされている、付記２に記載の磁気ヘッド。
〔付記４〕 光源から進行してきた光ビームを集光させるための対物レンズを備えているとともに、上記磁性膜には、上記対物レンズを通過してきた光ビームを通過させるための第１の光透過部が形成されており、かつ上記コイルの中心部には、上記第１の光透過部を透過してきた光を上記対物レンズに向けてさらに透過させるための第２の光透過部が形成されている、付記１ないし３のいずれかに記載の磁気ヘッド。
〔付記５〕 付記１ないし４のいずれかに記載の磁気ヘッドを備えていることを特徴とする、データ記録再生装置。
〔付記６〕 付記１ないし４のいずれかに記載の磁気ヘッドの磁性膜を形成するための方法であって、上記磁性膜の形成は、上記磁性膜を上記コイルの周方向に並ぶとともにその方向に幅を有する複数の領域に区分けして複数回の工程により行い、かつ、それらの各工程においては、形成される領域の磁化困難軸方向を、その領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向に規定することを特徴とする、磁気ヘッドの磁性膜形成方法。
〔付記７〕 上記コイルの中心軸を挟んで対をなす２つの領域については、同一工程によって形成する、付記６に記載の磁気ヘッドの磁性膜形成方法。
【００５３】
【発明の効果】以上の説明から理解されるように、本願発明によれば、磁気ヘッドの磁性膜のヒステリシス損失を少なくしてその発熱量を減少させることができ、コイルの温度上昇を抑制することができる。したがって、コイルの熱損傷やその他の不具合を防止することができ、またコイルを高い周波数で駆動するのにも好適となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明の一実施形態を示す説明図である。
【図２】図１の要部拡大断面図である。
【図３】図２のIII −III 矢視説明図である。
【図４】（ａ），（ｂ）は、磁性膜の形成工程の一例を示す説明図である。
【図５】磁性膜の磁化方向を示す説明図である。
【図６】磁性膜のヒステリシス曲線の一例を示す図である。
【図７】本願発明との対比例を示す説明図である。
【図８】本願発明の他の実施形態を示す説明図である。
【図９】本願発明の他の実施形態を示す説明図である。
【図１０】従来技術の一例を示す要部断面図である。
【図１１】従来技術の他の例を示す要部断面図である。
【図１２】磁界の説明図である。
【符号の説明】
Ａ 光磁気ディスク装置
Ｄ 光磁気ディスク（記録媒体）
Ｈ 光磁気ヘッド
１ スライダ
２ａ，２ｂ レンズ（対物レンズ）
３ コイル
４ 誘電体膜
５ 磁性膜
３２ 光透過部
５０Ａ 第１の領域（磁性膜の）
５０Ｂ 第２の領域（磁性膜の）
５０ａ〜５０ｆ 領域（磁性膜の）
５０a'〜５０f' 領域（磁性膜の）
５２ 穴部（磁性膜の）
【特許請求の範囲】
【請求項１】 記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜の磁化困難軸は、上記コイルの中心軸を中心とする放射状または略放射状に延びる分布とされていることを特徴とする、磁気ヘッド。
【請求項２】 記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜は、上記コイルの周方向に並び、かつその方向に幅を有する複数の領域を有しており、これら複数の領域のそれぞれの磁化困難軸方向は、上記各領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向とされていることを特徴とする、磁気ヘッド。
【請求項３】 請求項１または２に記載の磁気ヘッドを備えていることを特徴とする、データ記録再生装置。
【請求項４】 請求項１または２に記載の磁気ヘッドの磁性膜を形成するための方法であって、上記磁性膜の形成は、上記磁性膜を上記コイルの周方向に並ぶとともにその方向に幅を有する複数の領域に区分けして複数回の工程により行い、かつ、それらの各工程においては、形成される領域の磁化困難軸方向を、その領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向に規定することを特徴とする、磁気ヘッドの磁性膜形成方法。
【請求項５】 上記コイルの中心軸を挟んで対をなす２つの領域については、同一工程によって形成する、請求項４に記載の磁気ヘッドの磁性膜形成方法。
【請求項１】 記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜の磁化困難軸は、上記コイルの中心軸を中心とする放射状または略放射状に延びる分布とされていることを特徴とする、磁気ヘッド。
【請求項２】 記録媒体に磁界を印加させるためのコイルと、このコイルとは電気的に絶縁されるようにして上記コイルの軸長方向において上記コイルに重なって設けられている磁性膜と、を具備している、磁気ヘッドであって、上記磁性膜は、上記コイルの周方向に並び、かつその方向に幅を有する複数の領域を有しており、これら複数の領域のそれぞれの磁化困難軸方向は、上記各領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向とされていることを特徴とする、磁気ヘッド。
【請求項３】 請求項１または２に記載の磁気ヘッドを備えていることを特徴とする、データ記録再生装置。
【請求項４】 請求項１または２に記載の磁気ヘッドの磁性膜を形成するための方法であって、上記磁性膜の形成は、上記磁性膜を上記コイルの周方向に並ぶとともにその方向に幅を有する複数の領域に区分けして複数回の工程により行い、かつ、それらの各工程においては、形成される領域の磁化困難軸方向を、その領域の幅方向の中心線に平行または略平行な方向に規定することを特徴とする、磁気ヘッドの磁性膜形成方法。
【請求項５】 上記コイルの中心軸を挟んで対をなす２つの領域については、同一工程によって形成する、請求項４に記載の磁気ヘッドの磁性膜形成方法。
【図２】
【図４】
【図１】
【図３】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図４】
【図１】
【図３】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００３−２５７０９９（Ｐ２００３−２５７０９９Ａ）
【公開日】平成１５年９月１２日（２００３．９．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００２−５３６９１（Ｐ２００２−５３６９１）
【出願日】平成１４年２月２８日（２００２．２．２８）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１５年９月１２日（２００３．９．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１４年２月２８日（２００２．２．２８）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
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