磁気共鳴イメージング装置
【課題】本発明は、傾斜磁場コイルの振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイルを薄肉化し、開放感を高めることを目的とするものである。
【解決手段】モールド部１７は、主コイル１１〜１３を一体成型する円筒状の内側モールド部１７ａと、内側モールド部１７ａの径方向外側に設けられ、シールドコイル１４〜１６を一体成型する円筒状の外側モールド部１７ｂとを有している。外側モールド部１７ｂの軸方向両端部は、内側モールド部１７ａよりも軸方向外側へ突出している。これにより、傾斜磁場コイル３の軸方向両端部の肉厚は、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっている。補強リブ８は、外側モールド部１７ｂの軸方向両端部の内周面に、周方向に互いに間隔をおいて取り付けられている。
【解決手段】モールド部１７は、主コイル１１〜１３を一体成型する円筒状の内側モールド部１７ａと、内側モールド部１７ａの径方向外側に設けられ、シールドコイル１４〜１６を一体成型する円筒状の外側モールド部１７ｂとを有している。外側モールド部１７ｂの軸方向両端部は、内側モールド部１７ａよりも軸方向外側へ突出している。これにより、傾斜磁場コイル３の軸方向両端部の肉厚は、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっている。補強リブ８は、外側モールド部１７ｂの軸方向両端部の内周面に、周方向に互いに間隔をおいて取り付けられている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、複数の主コイルと複数のシールドコイルとが一体成型されている傾斜磁場コイルを有する磁気共鳴イメージング装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の磁気共鳴イメージング装置では、被検者の入る空間を最大限に確保し、閉塞感を和らげるために、傾斜磁場コイルの内径を大きくすることが望まれている。また、例えば特許文献１に示されているように、傾斜磁場コイルの内径を楕円形状にして、被検者の入る空間を水平方向に広くするという解決策も提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３２７４７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に示された従来の磁気共鳴イメージング装置では、傾斜磁場コイルの内径を楕円形状にするために、内ボア形状を単に大きくしているため、傾斜磁場コイルの軸方向両端部の支持部の厚みが小さくなり、振動が増大する。
【０００５】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、傾斜磁場コイルの振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイルを薄肉化し、開放感を高めることができる磁気共鳴イメージング装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明に係る磁気共鳴イメージング装置は、静磁場を発生する静磁場発生装置、及び静磁場発生装置の内側に設けられている筒状の傾斜磁場コイルを備え、傾斜磁場コイルの軸方向端部の肉厚は、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっており、軸方向端部の内周面には、複数の補強リブが周方向に互いに間隔をおいて設けられている。
【発明の効果】
【０００７】
この発明の磁気共鳴イメージング装置は、傾斜磁場コイルの軸方向端部の薄肉部に補強リブが設けられているので、傾斜磁場コイルの振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイルを薄肉化し、開放感を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】この発明の実施の形態１による磁気共鳴イメージング装置の断面図である。
【図２】図１の傾斜磁場コイルを示す正面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。
【図４】図３のＹ主コイル及びＹシールドコイルの概略の全体構成を示す斜視図である。
【図５】図３のＺ主コイル及びＺシールドコイルの概略の全体構成を示す斜視図である。
【図６】図５のＺ主コイルを示す斜視図である。
【図７】図３の補強リブを示す斜視図である。
【図８】図７の補強リブの傾斜磁場コイルへの固定方法の一例を示す断面図である。
【図９】図２の要部を拡大して示す正面図である。
【図１０】図９のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。
【図１１】この発明の実施の形態２による補強リブを示す斜視図である。
【図１２】図１１の補強リブの傾斜磁場コイルへの固定方法の一例を示す断面図である。
【図１３】この発明の実施の形態３による補強リブを示す斜視図である。
【図１４】この発明の実施の形態４による補強リブを示す斜視図である。
【図１５】この発明の実施の形態５による磁気共鳴イメージング装置の要部を示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、この発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１による磁気共鳴イメージング装置（ＭＲＩ装置）の断面図である。図において、スキャナガントリ１は、静磁場発生装置２、傾斜磁場コイル３及び高周波磁場コイル４を有している。静磁場発生装置２は、その内側に均一な静磁場空間５を発生する。
【００１０】
傾斜磁場コイル３は、円筒状であり、静磁場発生装置２の内側、即ち静磁場空間５と静磁場発生装置２との間に配置されている。また、傾斜磁場コイル３は、被検者（図示せず）から発せられる信号に位置情報を与えるための傾斜磁場を静磁場空間５内に生成する。
【００１１】
高周波磁場コイル４は、静磁場空間５と傾斜磁場コイル３との間に配置され、被検者の生体組織を構成する原子核に核磁気共鳴を起こさせるために高周波信号を被検者に照射する。
【００１２】
スキャナガントリ１内には、被検者を載せるベッド６が設けられている。静磁場発生装置２の両端部には、傾斜磁場コイル３を支持する一対の支持ブラケット７が固定されている。傾斜磁場コイル３は、静磁場発生装置２との間に例えば２〜３ｍｍ程度の隙間をおいて、その軸方向両端部で支持ブラケット７上に支持されている。なお、支持ブラケット７と傾斜磁場コイル３との間には、波や振動を抑制するためのゴム系ダンパを挿入してもよい。
【００１３】
傾斜磁場コイル３の軸方向両端部には、側面形状が直角三角形の複数の補強リブ８がそれぞれ固定されている。
【００１４】
図２は図１の傾斜磁場コイル３を示す正面図、図３は図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。傾斜磁場コイル３は、複数のＸ主コイル１１と、複数のＹ主コイル１２と、複数のＺ主コイル１３と、複数のＸシールドコイル１４と、複数のＹシールドコイル１５と、複数のＺシールドコイル１６と、これらのコイル１１〜１６を一体成型するモールド部１７とを有している。
【００１５】
Ｘ主コイル１１、Ｙ主コイル１２及びＺ主コイル１３は、それぞれ対応する方向に線形な傾斜磁場を発生させる。Ｘシールドコイル１４、Ｙシールドコイル１５及びＺシールドコイル１６は、主コイル１１〜１３が発生する磁場が静磁場発生装置２側に漏洩しないように、対応する主コイル１１〜１３とは逆向きの磁場を発生させる。
【００１６】
モールド部１７は、樹脂により構成されている。また、モールド部１７は、主コイル１１〜１３を一体成型する円筒状の内側モールド部１７ａと、内側モールド部１７ａの径方向外側（静磁場発生装置２側）に設けられ、シールドコイル１４〜１６を一体成型する円筒状の外側モールド部１７ｂとを有している。外側モールド部１７ｂの軸方向両端部は、内側モールド部１７ａよりも軸方向外側へ突出（例えば２００ｍｍ程度）している。これにより、傾斜磁場コイル３の軸方向両端部の肉厚は、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっている。
【００１７】
内側モールド部１７ａには、複数のシムトレイポケット１８が、軸方向に沿って連続して、かつ周方向に互いに等間隔をおいて設けられている。各シムトレイポケット１８は、モールド部１７内で、主コイル１１〜１３とシールドコイル１４〜１６との間に配置されている。各シムトレイポケット１８には、シムトレイ（図示せず）が挿入される。各シムトレイには、静磁場の均一度を調整するための複数のシム片（鉄片）が収容される。
【００１８】
補強リブ８は、外側モールド部１７ｂの軸方向両端部の内周面に、周方向に互いに間隔をおいて固定されている。また、補強リブ８は、外側モールド部１７ｂの内周面と、内側モールド部１７ａの軸方向端面とに当接されている。さらに、補強リブ８は、周方向に隣接するシムトレイポケット１８間に配置されている。
【００１９】
図４は図３のＹ主コイル１２及びＹシールドコイル１５の概略の全体構成を示す斜視図である。この例では、Ｙ主コイル１２及びＹシールドコイル１５がそれぞれ４つずつ用いられている。これらのコイル１１，１４，１２，１５は、いずれも湾曲された薄板コイルにより構成されている。薄板コイルは、例えば銅又はアルミニウム等の電気伝導度の高い材料からなる導体薄板に渦巻状のスリット加工を施すことにより製作される。
【００２０】
Ｘ主コイル１１及びＸシールドコイル１４は、Ｙ主コイル１２及びＹシールドコイル１５を９０°回転させたコイルである。従って、この例では、Ｘ主コイル１１及びＸシールドコイル１４がそれぞれ４つずつ用いられている。また、Ｘ主コイル１１及びＸシールドコイル１４は、Ｙ主コイル１２及びＹシールドコイル１５と同様に製作される。
【００２１】
図５は図３のＺ主コイル１３及びＺシールドコイル１６の概略の全体構成を示す斜視図、図６は図５のＺ主コイル１３を示す斜視図である。この例では、ソレノイド形状のＺ主コイル１３及びＺシールドコイル１６がそれぞれ２つずつ用いられている。また、Ｚ主コイル１３及びＺシールドコイル１６は、例えば銅又はアルミニウム等の電気伝導度の高い材料からなる導体により構成され、同心円状をなしている。
【００２２】
さらに、Ｚ主コイル１３及びＺシールドコイル１６を構成する導体には、冷却用媒体を通すための中空領域が設けられている。そして、Ｚ主コイル１３及びＺシールドコイル１６の両端部は、外部の冷却用チラーに接続されている。これにより、傾斜磁場コイル３で発生した熱が外部へ排除される。即ち、Ｚ主コイル１３及びＺシールドコイル１６は、冷却兼用コイルとして機能する。なお、各コイル間には高電圧が印加されるため、絶縁材が挿入されている。
【００２３】
図７は図３の補強リブ８を示す斜視図、図８は図７の補強リブ８の傾斜磁場コイル３への固定方法の一例を示す断面図である。補強リブ８は、高強度な材料、例えば、プラスチック、ガラスエポキシ積層板、又は非磁性金属（ステンレス鋼、アルミニウム等）により構成することができる。
【００２４】
図８の例では、補強リブ８は、第１及び第２のボルト１９，２０を用いて傾斜磁場コイル３に固定されている。第１のボルト１９は、傾斜磁場コイル３の軸方向に沿って配置されている。第２のボルト２０は、傾斜磁場コイル３の径方向に沿って配置されている。
【００２５】
補強リブ８には、第１のボルト１９を通す孔８ａと、第２のボルト２０が螺着されるねじ穴８ｂとが設けられている。また、傾斜磁場コイル３のモールド部１７には、第１のボルト１９が螺着されるねじ穴１７ｃと、第２のボルト２０を通す孔１７ｄとが設けられている。
【００２６】
図９は図２の要部を拡大して示す正面図、図１０は図９のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。Ｚ主コイル１３の両端部及びＺシールドコイル１６の両端部と冷却用チラーとの間は、プラスチックチューブや継手等の複数の配管２１を用いて接続されている。
【００２７】
配管２１をＺ主コイル１３及びＺシールドコイル１６に接続するための配管コネクタ２２は、互いに隣接する補強リブ８間で、内側モールド部１７ａの軸方向端面に設けられている。また、配管コネクタ２２は、シムトレイポケット１８よりも径方向内側に配置されている。さらに、配管コネクタ２２は、ＰＥＴフィルムやポリイミドなどの絶縁材で覆われている。
【００２８】
このような磁気共鳴イメージング装置では、傾斜磁場コイル３の軸方向両端部の内周面に補強リブ８が取り付けられているので、補強リブ８による剛性向上により、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００２９】
また、傾斜磁場コイル３の軸方向への寸法が長いＸシールドコイル１４及びＹシールドコイル１５への境界部（傾斜磁場コイル３の厚肉部と薄肉部の境界）での応力集中を防止することもできる。
【００３０】
さらに、補強リブ８は、周方向に隣接するシムトレイポケット１８間に配置されているので、シムトレイポケット１８に対してシムトレイを出し入れする際、補強リブ８とシムトレイとが干渉することがない。
【００３１】
さらにまた、互いに隣接する補強リブ８間に、配管コネクタ２２が設けられているので、補強リブ８に干渉することなく、配管２１を自由に配置することができ、配管２１の数を増加、つまりはＺ主コイル１３及びＺシールドコイル１６の分割数を増加させ、冷却能力を高めることができる。
【００３２】
また、側面形状が直角三角形の補強リブ８を用いたので、補強リブ８を軽量化しつつ、傾斜磁場コイル３の支持部を効率的に補強することができるとともに、傾斜磁場コイル３の開口寸法を大きくすることができる。
【００３３】
実施の形態２．
次に、図１１はこの発明の実施の形態２による補強リブを示す斜視図、図１２は図１１の補強リブの傾斜磁場コイルへの固定方法の一例を示す断面図である。実施の形態１では側面形状が直角三角形の補強リブ８を用いたが、実施の形態２では直方体の補強リブ２３が用いられている。補強リブ２３の取付位置は、実施の形態１の補強リブ８の取付位置と同様である。また、補強リブ２３は、実施の形態１の補強リブ８と同様の材料により構成することができる。
【００３４】
図１２の例では、補強リブ２３は、ボルト２４を用いて傾斜磁場コイル３に固定されている。ボルト２４は、傾斜磁場コイル３の径方向に沿って配置されている。補強リブ２３には、ボルト２４を通す孔２３ａが設けられている。外側モールド部１７ｂには、ボルト２４が螺着されるねじ穴１７ｅが設けられている。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００３５】
このような補強リブ２３を用いた場合も、補強リブ２３による剛性向上により、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００３６】
実施の形態３．
次に、図１３はこの発明の実施の形態３による補強リブを示す斜視図である。実施の形態３の補強リブ２５は、金属板を折り曲げて形成されている。また、補強リブ２５は、内側モールド部１７ａの軸方向端面に当接される端面当接部２５ａと、外側モールド部１７ｂの軸方向両端部の内周面に当接される内周面当接部２５ｂと、端面当接部２５ａと内周面当接部２５ｂとの間に設けられている補強リブ主部２５ｃとを有している。
【００３７】
補強リブ２３の取付位置は、実施の形態１の補強リブ８の取付位置と同様である。端面当接部２５ａ及び内周面当接部２５ｂには、補強リブ２５を傾斜磁場コイル３に固定するためのボルトが通される孔２５ｃ，２５ｄがそれぞれ設けられている。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００３８】
このような補強リブ２５を用いた場合も、補強リブ２５による剛性向上により、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００３９】
実施の形態４．
次に、図１４はこの発明の実施の形態４による補強リブを示す斜視図である。実施の形態４の補強リブ２６は、金属板をＬ字形に折り曲げて形成されている。また、補強リブ２６は、内側モールド部１７ａの軸方向端面に当接される端面当接部２６ａと、外側モールド部１７ｂの軸方向両端部の内周面に当接される内周面当接部２６ｂとを有している。
【００４０】
補強リブ２３の取付位置は、実施の形態１の補強リブ８の取付位置と同様である。端面当接部２６ａ及び内周面当接部２６ｂには、補強リブ２６を傾斜磁場コイル３に固定するためのボルトが通される孔２６ｃ，２６ｄがそれぞれ設けられている。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００４１】
このような補強リブ２６を用いた場合も、補強リブ２６による剛性向上により、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００４２】
実施の形態５．
次に、図１５はこの発明の実施の形態５による磁気共鳴イメージング装置の要部を示す正面図である。この例では、傾斜磁場コイル３の内ボア形状が楕円となっている。即ち、傾斜磁場コイル３の幅方向の内径は、上下方向の内径よりも大きくなっている。また、外側モールド部１７ｂの厚さ寸法は、傾斜磁場コイル３の上下両端部で最も大きく、幅方向両端部へ向けて徐々に小さくなっている。
【００４３】
また、補強リブ８の高さ寸法Ｈは、内側モールド部１７ａの厚さ寸法の変化に応じて、傾斜磁場コイル３の周方向の位置によって徐々に変化している。具体的には、補強リブ８の高さ寸法Ｈは、傾斜磁場コイル３の上下両端部で最も大きく、幅方向両端部で最も小さくなっている。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００４４】
このように、傾斜磁場コイル３の内ボア形状を楕円とした場合も、傾斜磁場コイル３に補強リブ８を設けることにより、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００４５】
なお、実施の形態５の傾斜磁場コイル３に実施の形態２〜４の補強リブ２３，２５，２６を適用してもよい。
また、補強リブの構成は、実施の形態１〜４で示したものに限定されず、例えば傾斜磁場コイル３の周方向又は上下方向に非対称な形状であってもよい。
さらに、１つの傾斜磁場コイル３に異なる種類の補強リブを組み合わせて使用してもよい。
さらにまた、補強リブは、必ずしも傾斜磁場コイル３の全周に設けなくてもよい。例えば、傾斜磁場コイル３の下部（支持部）のみに補強リブを配置し、上下で非対称な配置にしてもよい。
また、補強リブの固定方法は、ボルト止めに限定されるものではなく、例えば、接着剤による固定、接着剤及びボルトの組み合わせによる固定、又はエポキシ樹脂によるモールド等であってもよい。
【符号の説明】
【００４６】
２ 静磁場発生装置、３ 傾斜磁場コイル、８，２３，２５，２６ 補強リブ、１１ Ｘ主コイル、１２ Ｙ主コイル、１３ Ｚ主コイル（冷却兼用コイル）、１４ Ｘシールドコイル、１５ Ｙシールドコイル、１６ Ｚシールドコイル（冷却兼用コイル）、１７ モールド部、１７ａ 内側モールド部、１７ｂ 外側モールド部、１８ シムトレイポケット、２１ 配管、２２ 配管コネクタ。
【技術分野】
【０００１】
この発明は、複数の主コイルと複数のシールドコイルとが一体成型されている傾斜磁場コイルを有する磁気共鳴イメージング装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の磁気共鳴イメージング装置では、被検者の入る空間を最大限に確保し、閉塞感を和らげるために、傾斜磁場コイルの内径を大きくすることが望まれている。また、例えば特許文献１に示されているように、傾斜磁場コイルの内径を楕円形状にして、被検者の入る空間を水平方向に広くするという解決策も提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３２７４７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に示された従来の磁気共鳴イメージング装置では、傾斜磁場コイルの内径を楕円形状にするために、内ボア形状を単に大きくしているため、傾斜磁場コイルの軸方向両端部の支持部の厚みが小さくなり、振動が増大する。
【０００５】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、傾斜磁場コイルの振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイルを薄肉化し、開放感を高めることができる磁気共鳴イメージング装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明に係る磁気共鳴イメージング装置は、静磁場を発生する静磁場発生装置、及び静磁場発生装置の内側に設けられている筒状の傾斜磁場コイルを備え、傾斜磁場コイルの軸方向端部の肉厚は、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっており、軸方向端部の内周面には、複数の補強リブが周方向に互いに間隔をおいて設けられている。
【発明の効果】
【０００７】
この発明の磁気共鳴イメージング装置は、傾斜磁場コイルの軸方向端部の薄肉部に補強リブが設けられているので、傾斜磁場コイルの振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイルを薄肉化し、開放感を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】この発明の実施の形態１による磁気共鳴イメージング装置の断面図である。
【図２】図１の傾斜磁場コイルを示す正面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。
【図４】図３のＹ主コイル及びＹシールドコイルの概略の全体構成を示す斜視図である。
【図５】図３のＺ主コイル及びＺシールドコイルの概略の全体構成を示す斜視図である。
【図６】図５のＺ主コイルを示す斜視図である。
【図７】図３の補強リブを示す斜視図である。
【図８】図７の補強リブの傾斜磁場コイルへの固定方法の一例を示す断面図である。
【図９】図２の要部を拡大して示す正面図である。
【図１０】図９のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。
【図１１】この発明の実施の形態２による補強リブを示す斜視図である。
【図１２】図１１の補強リブの傾斜磁場コイルへの固定方法の一例を示す断面図である。
【図１３】この発明の実施の形態３による補強リブを示す斜視図である。
【図１４】この発明の実施の形態４による補強リブを示す斜視図である。
【図１５】この発明の実施の形態５による磁気共鳴イメージング装置の要部を示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、この発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１による磁気共鳴イメージング装置（ＭＲＩ装置）の断面図である。図において、スキャナガントリ１は、静磁場発生装置２、傾斜磁場コイル３及び高周波磁場コイル４を有している。静磁場発生装置２は、その内側に均一な静磁場空間５を発生する。
【００１０】
傾斜磁場コイル３は、円筒状であり、静磁場発生装置２の内側、即ち静磁場空間５と静磁場発生装置２との間に配置されている。また、傾斜磁場コイル３は、被検者（図示せず）から発せられる信号に位置情報を与えるための傾斜磁場を静磁場空間５内に生成する。
【００１１】
高周波磁場コイル４は、静磁場空間５と傾斜磁場コイル３との間に配置され、被検者の生体組織を構成する原子核に核磁気共鳴を起こさせるために高周波信号を被検者に照射する。
【００１２】
スキャナガントリ１内には、被検者を載せるベッド６が設けられている。静磁場発生装置２の両端部には、傾斜磁場コイル３を支持する一対の支持ブラケット７が固定されている。傾斜磁場コイル３は、静磁場発生装置２との間に例えば２〜３ｍｍ程度の隙間をおいて、その軸方向両端部で支持ブラケット７上に支持されている。なお、支持ブラケット７と傾斜磁場コイル３との間には、波や振動を抑制するためのゴム系ダンパを挿入してもよい。
【００１３】
傾斜磁場コイル３の軸方向両端部には、側面形状が直角三角形の複数の補強リブ８がそれぞれ固定されている。
【００１４】
図２は図１の傾斜磁場コイル３を示す正面図、図３は図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。傾斜磁場コイル３は、複数のＸ主コイル１１と、複数のＹ主コイル１２と、複数のＺ主コイル１３と、複数のＸシールドコイル１４と、複数のＹシールドコイル１５と、複数のＺシールドコイル１６と、これらのコイル１１〜１６を一体成型するモールド部１７とを有している。
【００１５】
Ｘ主コイル１１、Ｙ主コイル１２及びＺ主コイル１３は、それぞれ対応する方向に線形な傾斜磁場を発生させる。Ｘシールドコイル１４、Ｙシールドコイル１５及びＺシールドコイル１６は、主コイル１１〜１３が発生する磁場が静磁場発生装置２側に漏洩しないように、対応する主コイル１１〜１３とは逆向きの磁場を発生させる。
【００１６】
モールド部１７は、樹脂により構成されている。また、モールド部１７は、主コイル１１〜１３を一体成型する円筒状の内側モールド部１７ａと、内側モールド部１７ａの径方向外側（静磁場発生装置２側）に設けられ、シールドコイル１４〜１６を一体成型する円筒状の外側モールド部１７ｂとを有している。外側モールド部１７ｂの軸方向両端部は、内側モールド部１７ａよりも軸方向外側へ突出（例えば２００ｍｍ程度）している。これにより、傾斜磁場コイル３の軸方向両端部の肉厚は、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっている。
【００１７】
内側モールド部１７ａには、複数のシムトレイポケット１８が、軸方向に沿って連続して、かつ周方向に互いに等間隔をおいて設けられている。各シムトレイポケット１８は、モールド部１７内で、主コイル１１〜１３とシールドコイル１４〜１６との間に配置されている。各シムトレイポケット１８には、シムトレイ（図示せず）が挿入される。各シムトレイには、静磁場の均一度を調整するための複数のシム片（鉄片）が収容される。
【００１８】
補強リブ８は、外側モールド部１７ｂの軸方向両端部の内周面に、周方向に互いに間隔をおいて固定されている。また、補強リブ８は、外側モールド部１７ｂの内周面と、内側モールド部１７ａの軸方向端面とに当接されている。さらに、補強リブ８は、周方向に隣接するシムトレイポケット１８間に配置されている。
【００１９】
図４は図３のＹ主コイル１２及びＹシールドコイル１５の概略の全体構成を示す斜視図である。この例では、Ｙ主コイル１２及びＹシールドコイル１５がそれぞれ４つずつ用いられている。これらのコイル１１，１４，１２，１５は、いずれも湾曲された薄板コイルにより構成されている。薄板コイルは、例えば銅又はアルミニウム等の電気伝導度の高い材料からなる導体薄板に渦巻状のスリット加工を施すことにより製作される。
【００２０】
Ｘ主コイル１１及びＸシールドコイル１４は、Ｙ主コイル１２及びＹシールドコイル１５を９０°回転させたコイルである。従って、この例では、Ｘ主コイル１１及びＸシールドコイル１４がそれぞれ４つずつ用いられている。また、Ｘ主コイル１１及びＸシールドコイル１４は、Ｙ主コイル１２及びＹシールドコイル１５と同様に製作される。
【００２１】
図５は図３のＺ主コイル１３及びＺシールドコイル１６の概略の全体構成を示す斜視図、図６は図５のＺ主コイル１３を示す斜視図である。この例では、ソレノイド形状のＺ主コイル１３及びＺシールドコイル１６がそれぞれ２つずつ用いられている。また、Ｚ主コイル１３及びＺシールドコイル１６は、例えば銅又はアルミニウム等の電気伝導度の高い材料からなる導体により構成され、同心円状をなしている。
【００２２】
さらに、Ｚ主コイル１３及びＺシールドコイル１６を構成する導体には、冷却用媒体を通すための中空領域が設けられている。そして、Ｚ主コイル１３及びＺシールドコイル１６の両端部は、外部の冷却用チラーに接続されている。これにより、傾斜磁場コイル３で発生した熱が外部へ排除される。即ち、Ｚ主コイル１３及びＺシールドコイル１６は、冷却兼用コイルとして機能する。なお、各コイル間には高電圧が印加されるため、絶縁材が挿入されている。
【００２３】
図７は図３の補強リブ８を示す斜視図、図８は図７の補強リブ８の傾斜磁場コイル３への固定方法の一例を示す断面図である。補強リブ８は、高強度な材料、例えば、プラスチック、ガラスエポキシ積層板、又は非磁性金属（ステンレス鋼、アルミニウム等）により構成することができる。
【００２４】
図８の例では、補強リブ８は、第１及び第２のボルト１９，２０を用いて傾斜磁場コイル３に固定されている。第１のボルト１９は、傾斜磁場コイル３の軸方向に沿って配置されている。第２のボルト２０は、傾斜磁場コイル３の径方向に沿って配置されている。
【００２５】
補強リブ８には、第１のボルト１９を通す孔８ａと、第２のボルト２０が螺着されるねじ穴８ｂとが設けられている。また、傾斜磁場コイル３のモールド部１７には、第１のボルト１９が螺着されるねじ穴１７ｃと、第２のボルト２０を通す孔１７ｄとが設けられている。
【００２６】
図９は図２の要部を拡大して示す正面図、図１０は図９のＸ−Ｘ線に沿う断面図である。Ｚ主コイル１３の両端部及びＺシールドコイル１６の両端部と冷却用チラーとの間は、プラスチックチューブや継手等の複数の配管２１を用いて接続されている。
【００２７】
配管２１をＺ主コイル１３及びＺシールドコイル１６に接続するための配管コネクタ２２は、互いに隣接する補強リブ８間で、内側モールド部１７ａの軸方向端面に設けられている。また、配管コネクタ２２は、シムトレイポケット１８よりも径方向内側に配置されている。さらに、配管コネクタ２２は、ＰＥＴフィルムやポリイミドなどの絶縁材で覆われている。
【００２８】
このような磁気共鳴イメージング装置では、傾斜磁場コイル３の軸方向両端部の内周面に補強リブ８が取り付けられているので、補強リブ８による剛性向上により、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００２９】
また、傾斜磁場コイル３の軸方向への寸法が長いＸシールドコイル１４及びＹシールドコイル１５への境界部（傾斜磁場コイル３の厚肉部と薄肉部の境界）での応力集中を防止することもできる。
【００３０】
さらに、補強リブ８は、周方向に隣接するシムトレイポケット１８間に配置されているので、シムトレイポケット１８に対してシムトレイを出し入れする際、補強リブ８とシムトレイとが干渉することがない。
【００３１】
さらにまた、互いに隣接する補強リブ８間に、配管コネクタ２２が設けられているので、補強リブ８に干渉することなく、配管２１を自由に配置することができ、配管２１の数を増加、つまりはＺ主コイル１３及びＺシールドコイル１６の分割数を増加させ、冷却能力を高めることができる。
【００３２】
また、側面形状が直角三角形の補強リブ８を用いたので、補強リブ８を軽量化しつつ、傾斜磁場コイル３の支持部を効率的に補強することができるとともに、傾斜磁場コイル３の開口寸法を大きくすることができる。
【００３３】
実施の形態２．
次に、図１１はこの発明の実施の形態２による補強リブを示す斜視図、図１２は図１１の補強リブの傾斜磁場コイルへの固定方法の一例を示す断面図である。実施の形態１では側面形状が直角三角形の補強リブ８を用いたが、実施の形態２では直方体の補強リブ２３が用いられている。補強リブ２３の取付位置は、実施の形態１の補強リブ８の取付位置と同様である。また、補強リブ２３は、実施の形態１の補強リブ８と同様の材料により構成することができる。
【００３４】
図１２の例では、補強リブ２３は、ボルト２４を用いて傾斜磁場コイル３に固定されている。ボルト２４は、傾斜磁場コイル３の径方向に沿って配置されている。補強リブ２３には、ボルト２４を通す孔２３ａが設けられている。外側モールド部１７ｂには、ボルト２４が螺着されるねじ穴１７ｅが設けられている。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００３５】
このような補強リブ２３を用いた場合も、補強リブ２３による剛性向上により、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００３６】
実施の形態３．
次に、図１３はこの発明の実施の形態３による補強リブを示す斜視図である。実施の形態３の補強リブ２５は、金属板を折り曲げて形成されている。また、補強リブ２５は、内側モールド部１７ａの軸方向端面に当接される端面当接部２５ａと、外側モールド部１７ｂの軸方向両端部の内周面に当接される内周面当接部２５ｂと、端面当接部２５ａと内周面当接部２５ｂとの間に設けられている補強リブ主部２５ｃとを有している。
【００３７】
補強リブ２３の取付位置は、実施の形態１の補強リブ８の取付位置と同様である。端面当接部２５ａ及び内周面当接部２５ｂには、補強リブ２５を傾斜磁場コイル３に固定するためのボルトが通される孔２５ｃ，２５ｄがそれぞれ設けられている。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００３８】
このような補強リブ２５を用いた場合も、補強リブ２５による剛性向上により、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００３９】
実施の形態４．
次に、図１４はこの発明の実施の形態４による補強リブを示す斜視図である。実施の形態４の補強リブ２６は、金属板をＬ字形に折り曲げて形成されている。また、補強リブ２６は、内側モールド部１７ａの軸方向端面に当接される端面当接部２６ａと、外側モールド部１７ｂの軸方向両端部の内周面に当接される内周面当接部２６ｂとを有している。
【００４０】
補強リブ２３の取付位置は、実施の形態１の補強リブ８の取付位置と同様である。端面当接部２６ａ及び内周面当接部２６ｂには、補強リブ２６を傾斜磁場コイル３に固定するためのボルトが通される孔２６ｃ，２６ｄがそれぞれ設けられている。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００４１】
このような補強リブ２６を用いた場合も、補強リブ２６による剛性向上により、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００４２】
実施の形態５．
次に、図１５はこの発明の実施の形態５による磁気共鳴イメージング装置の要部を示す正面図である。この例では、傾斜磁場コイル３の内ボア形状が楕円となっている。即ち、傾斜磁場コイル３の幅方向の内径は、上下方向の内径よりも大きくなっている。また、外側モールド部１７ｂの厚さ寸法は、傾斜磁場コイル３の上下両端部で最も大きく、幅方向両端部へ向けて徐々に小さくなっている。
【００４３】
また、補強リブ８の高さ寸法Ｈは、内側モールド部１７ａの厚さ寸法の変化に応じて、傾斜磁場コイル３の周方向の位置によって徐々に変化している。具体的には、補強リブ８の高さ寸法Ｈは、傾斜磁場コイル３の上下両端部で最も大きく、幅方向両端部で最も小さくなっている。他の構成は、実施の形態１と同様である。
【００４４】
このように、傾斜磁場コイル３の内ボア形状を楕円とした場合も、傾斜磁場コイル３に補強リブ８を設けることにより、傾斜磁場コイル３の両端部の支持部の厚みを小さくすることができ、傾斜磁場コイル３の内径を大きくすることができる。従って、傾斜磁場コイル３の振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイル３を薄肉化し、被検者空間を拡大して開放感を高めることができる。
【００４５】
なお、実施の形態５の傾斜磁場コイル３に実施の形態２〜４の補強リブ２３，２５，２６を適用してもよい。
また、補強リブの構成は、実施の形態１〜４で示したものに限定されず、例えば傾斜磁場コイル３の周方向又は上下方向に非対称な形状であってもよい。
さらに、１つの傾斜磁場コイル３に異なる種類の補強リブを組み合わせて使用してもよい。
さらにまた、補強リブは、必ずしも傾斜磁場コイル３の全周に設けなくてもよい。例えば、傾斜磁場コイル３の下部（支持部）のみに補強リブを配置し、上下で非対称な配置にしてもよい。
また、補強リブの固定方法は、ボルト止めに限定されるものではなく、例えば、接着剤による固定、接着剤及びボルトの組み合わせによる固定、又はエポキシ樹脂によるモールド等であってもよい。
【符号の説明】
【００４６】
２ 静磁場発生装置、３ 傾斜磁場コイル、８，２３，２５，２６ 補強リブ、１１ Ｘ主コイル、１２ Ｙ主コイル、１３ Ｚ主コイル（冷却兼用コイル）、１４ Ｘシールドコイル、１５ Ｙシールドコイル、１６ Ｚシールドコイル（冷却兼用コイル）、１７ モールド部、１７ａ 内側モールド部、１７ｂ 外側モールド部、１８ シムトレイポケット、２１ 配管、２２ 配管コネクタ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静磁場を発生する静磁場発生装置、及び
前記静磁場発生装置の内側に設けられている筒状の傾斜磁場コイル
を備え、
前記傾斜磁場コイルの軸方向端部の肉厚は、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっており、
前記軸方向端部の内周面には、複数の補強リブが周方向に互いに間隔をおいて設けられていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
前記傾斜磁場コイルは、複数の主コイルと、複数のシールドコイルと、前記主コイル及び前記シールドコイルを一体成型するモールド部とを有しており、
前記モールド部は、前記主コイルを一体成型する内側モールド部と、前記内側モールド部の径方向外側に設けられ、前記シールドコイルを一体成型する外側モールド部とを有しており、
前記外側モールド部の軸方向端部が前記内側モールド部よりも軸方向外側へ突出することにより、前記傾斜磁場コイルの軸方向端部の肉厚が、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっており、
前記補強リブは、前記外側モールド部の軸方向端部の内周面に固定されていることを特徴とする請求項１記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
前記補強リブは、前記内側モールド部の軸方向端面にも固定されていることを特徴とする請求項２記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
前記傾斜磁場コイルには、前記静磁場を調整するためのシム片が挿入される複数のポケットが、軸方向に沿って連続して、かつ周方向に互いに間隔をおいて設けられており、
前記補強リブは、周方向に隣接するポケット間に配置されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
前記傾斜磁場コイルは、冷却用媒体を通すための中空領域が設けられている冷却兼用コイルを有し、
互いに隣接する前記補強リブ間には、前記冷却兼用コイルに配管を接続するための配管コネクタが設けられていることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項６】
前記傾斜磁場コイルの内ボア形状が楕円であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項１】
静磁場を発生する静磁場発生装置、及び
前記静磁場発生装置の内側に設けられている筒状の傾斜磁場コイル
を備え、
前記傾斜磁場コイルの軸方向端部の肉厚は、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっており、
前記軸方向端部の内周面には、複数の補強リブが周方向に互いに間隔をおいて設けられていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
前記傾斜磁場コイルは、複数の主コイルと、複数のシールドコイルと、前記主コイル及び前記シールドコイルを一体成型するモールド部とを有しており、
前記モールド部は、前記主コイルを一体成型する内側モールド部と、前記内側モールド部の径方向外側に設けられ、前記シールドコイルを一体成型する外側モールド部とを有しており、
前記外側モールド部の軸方向端部が前記内側モールド部よりも軸方向外側へ突出することにより、前記傾斜磁場コイルの軸方向端部の肉厚が、軸方向中間部の肉厚よりも薄くなっており、
前記補強リブは、前記外側モールド部の軸方向端部の内周面に固定されていることを特徴とする請求項１記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
前記補強リブは、前記内側モールド部の軸方向端面にも固定されていることを特徴とする請求項２記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
前記傾斜磁場コイルには、前記静磁場を調整するためのシム片が挿入される複数のポケットが、軸方向に沿って連続して、かつ周方向に互いに間隔をおいて設けられており、
前記補強リブは、周方向に隣接するポケット間に配置されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
前記傾斜磁場コイルは、冷却用媒体を通すための中空領域が設けられている冷却兼用コイルを有し、
互いに隣接する前記補強リブ間には、前記冷却兼用コイルに配管を接続するための配管コネクタが設けられていることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項６】
前記傾斜磁場コイルの内ボア形状が楕円であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１３−３９１５２（Ｐ２０１３−３９１５２Ａ）
【公開日】平成２５年２月２８日（２０１３．２．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１７６１２０（Ｐ２０１１−１７６１２０）
【出願日】平成２３年８月１１日（２０１１．８．１１）
【出願人】（０００１５３４９８）株式会社日立メディコ (1,613)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月２８日（２０１３．２．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月１１日（２０１１．８．１１）
【出願人】（０００１５３４９８）株式会社日立メディコ (1,613)
【Ｆターム（参考）】
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