磁気記録テープ用ポリエステルフィルム
【課題】 高密度での記録が可能である大容量磁気記録テープ用ポリエステルフィルムとして、ベースフィルムの生産性、電磁変換特性に優れ、エラーが少なく、特に高密度磁気記録を可能とするデータ記録用テープ用途に好適なベースとなるポリエステルフィルムを提供すること。
【解決手段】ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとを有し、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと反対側の表面Ａに皮膜層Ｉを有し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面を表面Ｂとする積層フィルムであって、以下の（ａ）〜（ｄ）を満足する磁気記録テープ用ポリエステルフィルムとする。
（ａ）表面Ａに設ける皮膜層Ｉは、平均粒径５〜６０ｎｍの不活性粒子Ｉが含まれ、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａが２〜６ｎｍで、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みが５，０００個／ｍｍ２以下である。
（ｂ）ポリエステル層Ａは、実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層で、層厚みが３．０μｍ以上である。
（ｃ）ポリエステル層Ｂは、平均粒径０．１〜１．０μmの不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層である。
（ｄ）表面Ｂは、平均面粗さＲａが８〜２０ｎｍ、かつ十点平均面粗さＲｚが３００ｎｍ以下である。
【解決手段】ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとを有し、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと反対側の表面Ａに皮膜層Ｉを有し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面を表面Ｂとする積層フィルムであって、以下の（ａ）〜（ｄ）を満足する磁気記録テープ用ポリエステルフィルムとする。
（ａ）表面Ａに設ける皮膜層Ｉは、平均粒径５〜６０ｎｍの不活性粒子Ｉが含まれ、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａが２〜６ｎｍで、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みが５，０００個／ｍｍ２以下である。
（ｂ）ポリエステル層Ａは、実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層で、層厚みが３．０μｍ以上である。
（ｃ）ポリエステル層Ｂは、平均粒径０．１〜１．０μmの不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層である。
（ｄ）表面Ｂは、平均面粗さＲａが８〜２０ｎｍ、かつ十点平均面粗さＲｚが３００ｎｍ以下である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録テープ用ポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表されるポリエステルフィルムは、その優れた物理的、化学的特性の故に広い用途に、特に磁気記録媒体のベースフィルムとして用いられている。２軸配向ポリエステルフィルムは、デジタルビデオ用テープや、コンピューターのバックアップ用テープ（以後、データテープという）などに用いられている。
【０００３】
磁気記録媒体に代表される例として、１９９６年に実用化された民生用デジタルビデオテープはベースフィルム上にＣｏの金属磁性薄膜を設け、その表面にダイヤモンド状カーボン膜をコーティングしてなり、Ｈｉ８用蒸着（ＭＥ）テープに比べて表面性が更に平滑化したにもかかわらず、良好な耐久性をもつ。そのベースフィルムとしては、（１）熱可塑性樹脂からなる層Ａと、微粒子が含有された熱可塑性樹脂からなる層Ｂとが積層された複合フィルム（例えば特許文献１参照）、（２）平滑なポリエステルフィルムであり非磁性面側表面に滑剤主体の被覆層が形成されたフィルム（例えば特許文献２参照）、等が用いられ、Ｈｉ８ＭＥテープ用ベースに比べ、更に金属磁性膜形成表面粗度の小さいベースフィルムが利用されている。
【０００４】
しかしながらこのように非常に平滑な民生用デジタルビデオテープは、その磁性面の表面うねりにより電磁変換特性が非常に変化し、また蒸着工程での冷却キャンに付着する異物の影響により、得られたテープのドロップアウト（ＤＯ）特性が非常に変化する。
【０００５】
上記（１）より作成したテープはテープ磁性面の表面うねりのバラツキが大であり、電磁変換特性のバラツキが大であった。また、上記（２）の技術は非磁性面側表面の滑剤主体の被覆層が蒸着工程、特に真空蒸着の冷却キャンで削れたり、剥離したりしがちであり、それによりＤＯが多くなる欠点があった。
【０００６】
この問題を解決するために、（３）ポリエステルフィルムの片側表面Ａに強磁性金属薄膜層が設けられ、該強磁性金属薄膜層のＳＲａ値が２〜５ｎｍ、ＳＲｚ値が４０〜７０ｎｍ、表面うねりが３０ｎｍ未満であることを特徴とする磁気テープ（例えば特許文献３参照）等が用いられており、冷却キャンでの削れが改善され、表面のうねりも小さくなり、電磁変換特性の良好なテープが得られる。
【０００７】
しかし、近年のさらなる高密度に磁気記録を行うデータテープにおいては、トラックが非常に小型化したことによって、ベースフィルムの表面状態が磁気テープの磁性層の表面性に大きな影響を及ぼし、磁気記録層の表面の凹凸として発現し、それが記録・再生信号のノイズの原因となり、データの再生不良を引き起こす問題が生じてきた。このため、上記の高密度磁気記録媒体においては、磁気記録媒体で磁性層を形成する側の表面は電磁変換特性の観点からもベースフィルムの表面はできるだけ平滑であることが望ましい。平滑ベースフィルムとして、（４）実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層の少なくとも磁性面を形成する側の表面Ｉに皮膜層を設けた垂直磁化記録方式に使用される強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体用ポリエステルフィルム（例えば特許文献４参照）や、磁気テープの走行耐久性を両立させた、（５）ポリエステル層の磁性面を形成する側の表面Ｉに皮膜層を設けた磁気記録テープ用ポリエステルフィルムであって、表面Ｉの皮膜層は水溶性高分子または水分散性高分子を構成成分とし、この皮膜層には平均粒径の異なる少なくとも２種の不活性粒子が含有されたベースフィルム（例えば特許文献５参照）などが提案されている。
【０００８】
一方でベースフィルムの製膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取りおよび巻出しといったハンドリングの観点からは、ベースフィルムの表面は出来るだけ粗いことが望ましい。なぜならば、フィルム表面が平坦過ぎると、フィルム−フィルム相互の滑り性が悪化し、ブロッキング現象が発生したり、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメーション）が悪化したりして、製品歩留りの低下や製品の製造コストの上昇をきたすからである。このように、電磁変換特性とハンドリング性の観点から相反する特性が要求される。従って上記（３）に代表されるように、ベースフィルムの設計では、磁性層を形成する側の表面は平滑面、一方で磁性層を形成する側の表面の反対側の面は、粗い表面が形成されているベースフィルムが一般的に用いられる。
【０００９】
上記した（３）、（４）、（５）の高密度磁気記録媒体では、平滑な磁性層を形成する側の表面に、ハンドリング性のため粗くした反対側の面の粗さや突起が起因となり、ロール状に巻き取った際に転写の影響が顕著に現れる。高密度記録を達成するため本来平滑である磁性層の表面が数ｎｍ程度凹むことにより、電磁変換特性の低下や、ノイズの原因になることが新たに分かり、平滑な磁性層表面に影響を与えない、ベースフィルムの表面設計が必要となった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特公平１−２６３３８号公報
【特許文献２】特公平４−３３２７３号公報
【特許文献３】特開平１０−１７２１２６号公報
【特許文献４】特開２０１０−７９９９５号公報
【特許文献５】特開２０１０−２２５２４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、上記した従来の問題を解決し、ノイズが少なく電磁変換特性に優れ、かつベースフィルムの生産性に優れ、高密度での記録が可能である大容量磁気記録テープ用ポリエステルフィルムとして、特にコンピューターのデータバックアップ用途に好適なベースとなるポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記した目的を達成するための本発明は以下の特徴を有する。
【００１３】
（１）ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとを有し、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと反対側の表面Ａに皮膜層Ｉを有し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面を表面Ｂとする積層フィルムであって、以下の（ａ）〜（ｄ）を満足する磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【００１４】
（ａ）表面Ａに設ける皮膜層Ｉは、平均粒径５〜６０ｎｍの不活性粒子Ｉが含まれ、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａが２〜６ｎｍで、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みが５，０００個／ｍｍ２以下である。
【００１５】
（ｂ）ポリエステル層Ａは、実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層で、層厚みが３．０μｍ以上である。
【００１６】
（ｃ）ポリエステル層Ｂは、平均粒径０．１〜１．０μmの不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層である。
【００１７】
（ｄ）表面Ｂは、平均面粗さＲａが８〜２０ｎｍ、かつ十点平均面粗さＲｚが３００ｎｍ以下である。
【００１８】
（２）表面Ｂに１０〜５０ｍｇ／ｍ２の固形分質量にて有機化合物からなる被覆層ＩＩが設けられている、上記（１）に記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【００１９】
（３）不活性粒子Ｂの平均粒径ｄＢ（μm）と、ポリエステル層Ｂの厚みｔＢ（μm）が下記式を満足する、上記（１）または（２）に記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【００２０】
０．２≦ｄB ／ｔＢ ≦３
（４）総厚みが４〜９μmである、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【００２１】
（５）ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートを構成成分として含んでいる、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、電磁変換特性に非常に優れた超高密度磁気記録テープの製造が可能となる。
【００２３】
また、本発明の磁気記録テープ用ポリエステルフィルムを用いると、超高密度にデジタル記録することが可能であり、特に、高密度記録、高信頼性が要求されるコンピューターのバックアップ用途のベースフィルムとして使用すると優れた結果を得ることができ、好適である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明における積層フィルムは共押出法等によるポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの二層構造を有するポリエステルフィルムである。ポリエステル層Ａは磁気テープを製造する際に磁性層を設け、磁気記録をする側の面（皮膜層Ｉが設けられる面で、以下表面Ａという）である。一方、ポリエステル層Ａの表面Ａとは反対側のポリエステル層Ｂはフィルムの巻取り性を付与するために巻取り性の観点より不活性粒子Ｂを含有させる必要がある。
【００２５】
本発明においてポリエステル層Ａを構成するポリマー（以下、ポリエステルａという）およびポリエステル層Ｂを構成するポリマー（以下、ポリエステルｂという）は、分子配向により高強度フィルムを形成するポリエステルであればよい。中でもポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）を構成成分として含んでいることが好ましい。このポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートは、それぞれ、全構成成分の８０モル％以上がエチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートであることが好ましい。エチレンテレフタレート、エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート以外の共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ｐ−キシレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどのジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸（ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートの場合）、フタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ポリエチレンテレフタレートの場合）、２，７−ナフタレンジカルボン酸などのジカルボン酸成分、トリメリット酸、ピロメリット酸などの３官能以上の多価カルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などが挙げられる。上記ポリエステルは、また、ポリエステルとは非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘導体、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアルキレングリコールなどの少なくとも一つが５質量％を超えない範囲で混合してもよい。ポリエステルａ、ｂは同じ種類でも異なる種類であってもよい。
【００２６】
ポリエステルａは実質的に不活性粒子を含有しない。実質的に不活性粒子を含有しないとは、積極的に触媒残渣を析出させたり、不活性粒子を添加したりしていないことを意味し、具体的には、粒径０．０５μｍ以上の不活性粒子の含有量が、ポリエステルａの質量を基準として、０．００１質量％未満であることが好ましい。実質的に不活性粒子が含まれると、ポリエステルａ内の不活性粒子の凝集による粗大突起が磁気テープの精密な表面設計を妨げる要因となったり、不活性粒子による表面Ａの変形により、磁気テープにした際に電磁変換特性が大幅に低下したり、ノイズが増えたりする原因になる。
【００２７】
ポリエステルｂに含有させる好ましい不活性粒子Ｂの成分は、例えば、（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステルなどからなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなど）、（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイヤモンドなど）、および（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナイトなど）などのような無機化合物からなる粒子が挙げられる。これらのうち、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイヤモンド、またはカオリンからなる粒子が好ましい。さらに好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、または炭酸カルシウムからなる微粒子である。これらの不活性粒子は１種または２種以上を混合して使用してもよい。また界面活性化剤、帯電防止剤、各種エステル成分等、異なる成分を添加させてもよい。
【００２８】
不活性粒子Ｂの平均粒径は０．１μｍ〜１μｍであり、好ましくは０．２μｍから０．５μｍである。また、不活性粒子Ｂは異なる平均粒径を有する２種以上のものを用いてもよく、その場合は最も平均粒径の大きい粒子の平均粒径が１μｍ未満でなければならない。また、２種の平均粒径を有する不活性粒子Ｂを用いる場合は、不活性粒子Ｂのうち、平均粒径の小さい粒子の質量Ｗ（ＢＳ）に対して、平均粒径の大きい粒子の質量Ｗ（ＢＬ）は、Ｗ（ＢＬ）／Ｗ（ＢＳ）＜０．３であることが好ましい。不活性粒子Ｂの平均粒径が１μｍを超えると、フィルムの巻取り性は向上するが、ポリエステルフィルムに磁性層を設けた後、ロール状に巻き放置した時に、その不活性粒子Ｂの形状が表面Ａに設けられた磁性層に転写することで凹みとして現れ、磁気テープのドロップアウトやエラーが多発することにより電磁変換特性が低下する。また平均粒径が０．１μｍ未満の場合、フィルムをロール上に巻き取る際にハンドリング性が悪く、生産効率が低下する。
【００２９】
本発明においてポリエステル層Ａの層厚みは３．０μｍ以上である。３．０μｍ未満の場合、ロール状にフィルムを巻き取った際、ポリエステル層Ｂ内の不活性粒子Ｂのフィルム内部を通した突き上げのため、表面Ａの形状が変形しやすく、変形のため磁性層の電磁変換特性が低下する。なお、不活性粒子Ｂの平均粒径ｄＢ（μｍ）と、ポリエステル層Ｂの厚みｔＢ（μｍ）の関係は０．２≦ｄＢ／ｔＢ≦３．０であることが好ましい。より好ましくは０．８≦ｄＢ／ｔＢ≦２．０であり、ｄＢ／ｔＢが０．２より小さい場合、不活性粒子がポリエステル層Ｂ内に埋まり気味となり、フィルムの巻き取り性向上の効果が出ない。ｄＢ／ｔＢが３．０を超えると、表面Ｂ側に不活性粒子Ｂの突起がポリエステル層Ｂから突出しすぎる形状となり、ポリエステルフィルムに磁性層を設けた後、ロール状に巻き放置した時に、その不活性粒子Ｂの形状が表面Ａに設けられた磁性層に転写することで凹みとして現れ、磁気テープのドロップアウトやエラーが多発することにより電磁変換特性が低下する。フィルム全厚みが同じ場合、ポリエステル層Ｂは不活性粒子Ｂの効果が出る範囲内で厚みが薄いほうが上記理由から好ましい。
【００３０】
本発明においては、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂとは反対側の表面Ａに、以下に詳述する皮膜層Ｉが形成されている。皮膜層Ｉは水溶性ポリエステル樹脂を含有し、その他の水溶性高分子または水分散性高分子を構成成分としている。
【００３１】
水溶性ポリエステル樹脂としては、酸成分とグリコール成分が重縮合したポリエステルであって、スルホン酸基又はその塩を含有していることが好ましく、例えば酸成分としてジカルボン酸成分のみならずスルホン酸基のような機能性酸成分を全カルボン酸成分の５モル％以上共重合せしめること、及び／又は、グリコール成分としてポリアルキレンエーテルグリコール成分を２〜７０質量％共重合せしめることによって水溶性を付与したものが好ましいが、これらに限定されるものではない。スルホン酸基又はジカルボン酸としては、好ましくは５−スルホイソフタル酸、２−スルホテレフタル酸などや、それらの金属塩、ホスホニウム塩などが使用でき、５−ナトリウムスルホイソフタル酸が特に好ましい。５−ナトリウムスルホイソフタル酸を共重合せしめる際の他のジカルボン酸成分としてはイソフタル酸、テレフタル酸などが好ましく、グリコール成分としてはエチレングリコール、ジエチレングリコールなどが好ましい。また、ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマー又はブロックコポリマー、あるいは２種のポリマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ、コアシェル）を構成したアクリル変性ポリエステル樹脂も含まれる。
【００３２】
皮膜層Ｉの水溶性ポリエステル樹脂以外の構成成分の水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース等のセルロース誘導体、ポリエステルエーテル共重合体、水溶性ポリエステル共重合体等が好ましく挙げられ、なかでも、上記水溶性ポリエステルにセルロース誘導体の高分子ブレンド体が特に好ましい。セルロース誘導体は特にフィルム表面の微細凹凸構造の形成に寄与し、水溶性ポリエステル共重合体はセルロース誘導体とポリエステルフィルム表面との接着性向上に寄与および不活性粒子が削れて脱落することを防止する役割がある。
【００３３】
水分散性高分子としては、ポリメタクリル酸メチルエマルジョン、ポリアクリル酸エステルエマルジョン等が使用できるがこれらに限定されない。
【００３４】
本発明においては、皮膜層Ｉ中には以下に詳述する不活性粒子Ｉを含んでいる。
【００３５】
不活性粒子Ｉの成分としては、ポリスチレン、ポリアクリル酸メチルエステル、ポリアクリル酸エチルエステル、ポリメタクリル酸メチルエステル、ポリメタクリル酸エチルエステル、およびジビニルベンゼンから選ばれた、各単量体の重合体、あるいは共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン、シリコーン等の有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、炭酸カルシウム、タルク、グラファイト等の無機質のいずれを用いてもよい。一般に無機質からなる粒子は硬度が高く変形しにくいため磁気ヘッドのクリーニング性に優れており、また種々のサイズの微粒子の製造が容易であることから無機質、特にシリカからなる球状シリカ粒子が好ましい。一方、有機質からなる粒子は分散性に優れており粒子同士の凝集が少ない。中でも、スチレン、アクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステル、ジビニルベンゼンの重合体およびジビニルベンゼンの共重合体からなる群から選ばれた少なくとも１種の高分子粒子であることが好ましい。
【００３６】
また、不活性粒子Ｉの観察平均粒径は、５〜６０ｎｍである。これは、磁気テープにした際、磁気ヘッドとの摩擦を低減させ走行耐久性を維持する他、繰り返しの使用における磁気ヘッドへのセルフクリーニング性を向上させる役割を果たす。その観察平均粒径は上記したとおり５〜６０ｎｍである。この観察平均粒径は表面Ｉ側のフィルム上から観測される粒径の平均値であり、表面Ｉ側の皮膜中の不活性粒子に起因する突起のうち、個々の粒径が５〜６０ｎｍの範囲にある突起の平均の粒径を意味する。
【００３７】
観察平均粒径が５ｎｍ未満であると、磁気テープの繰り返しの使用における、クリーニング効果が向上せず、耐久性が向上しない。一方、観察平均粒径が６０ｎｍを超えると、磁気テープの表面が粗くなり、電磁変換特性が著しく低下する。また、繰り返し使用により、不活性粒子が削れて脱落し、ドロップアウトが増加することがある。この観察平均粒径は１５〜４０ｎｍが特に好ましい。
【００３８】
また、不活性粒子Ｉに起因する突起密度は１００〜８，０００万個／ｍｍ２であることが好ましく、より好ましくは１，０００〜５，０００万個／ｍｍ２である。突起密度が１００万個／ｍｍ２未満であると、粒子の存在密度が小さすぎるため、クリーニング効果が期待できない。また、８，０００万個／ｍｍ２を超えると、磁気テープの表面が粗くなり、電磁変換特性が著しく低下する上、磁気テープ繰り返しの走行で、粒子の脱落が発生し、表面が削れてのドロップアウトが増加する傾向がある。この不活性粒子Ｉに起因する突起の凝集率は３０％未満であることが好ましく、より好ましくは１５％未満である。該突起の凝集率が３０％以上であると、粗大突起により磁気ヘッドとのスペーシングロスが大きくなり電磁変換特性が著しく低下する上、磁気テープの走行で粒子の脱落によるドロップアウトの原因となる。
【００３９】
また、不活性粒子Ｉは必要に応じて平均粒径が異なる２種以上の不活性粒子を含有せしめてもよい。
【００４０】
本発明において、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａ値は２〜６ｎｍであり、より好ましくは２．５〜４．５ｎｍである。Ｒａ値が６ｎｍを超えると、磁気テープの磁気ヘッドとの走行耐久性は向上するが、電磁変換特性が低下する。また、Ｒａ値が２ｎｍ未満であると、電磁変換特性は良好であるが、磁気テープの繰り返し使用における磁気ヘッドとの摩擦が増え走行耐久性が低下する。
【００４１】
本発明において、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面（以下、表面Ｂという）の平均面粗さＲａは８〜２０ｎｍである。好ましくは１０〜１６ｎｍである。十点平均面粗さＲｚは、３００ｎｍ以下、好ましくは２５０ｎｍ以下である。Ｒａが８ｎｍ未満であると、平滑になりすぎて、ポリエステルフィルムの製造の際、特に製膜後のスリッターによるスリット工程で、フィルムを所定の幅にスリットしロール状に巻き製品化する時にしわが入りすぎ、ロール状に巻けなくなる。Ｒａが２０ｎｍを超える、または、Ｒｚが３００ｎｍを超えると、磁気テープにして、ロール状に巻き取った際、表面Ａに設けられた磁性層に転写することで凹みとして現れ、磁気テープのドロップアウトやエラーが多発することにより電磁変換特性が低下する。さらにＲａとＲｚの比は、Ｒｚ／Ｒａ≦２２を満たすことが好ましい。Ｒｚ／Ｒａが２２を上回ると、表面Ｂ側の粗大な突起により、ロール状に巻き取った際、表面Ａに設けられた磁性層に転写することで凹みとして現れ、電磁変換特性が著しく低下する。
【００４２】
本発明において、表面Ｂ側には、上述の表面Ｂの平均粗さＲａ、Ｒｚを満たす範囲内で、１０〜５０ｍｇ／ｍ２の固形分質量で有機化合物からなる被覆層ＩＩを設けてもよい。表面Ｂに皮膜層を設ける場合は、表面ＢのＲａ、Ｒｚは被覆層ＩＩの上からの測定値を意味する。
【００４３】
被覆層ＩＩとしては、易滑性であって削られにくく、かつ、ポリエステルフィルムからの分解物を通さない機能を有するものであればよく、主として、水溶性高分子及び／又は水分散性高分子から構成され、好ましくは、水溶性高分子及び／又は水分散性高分子にシリコーン及びシランカップリング剤とが加わった組成物から形成されることが好ましい。被覆層ＩＩに用いられる水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース等のセルロース誘導体、ポリエステルエーテル共重合体、水溶性ポリエステル共重合体等が使用できる。また、水分散性高分子のエマルジョンとしては、ポリメタクリル酸メチルエマルジョン、ポリアクリル酸エステルエマルジョン等が使用できる。
【００４４】
シリコーンとしては、ポリジメチルシロキサン等のシロキサン結合を分子骨格にもつ有機ケイ素化合物が共有結合で多数つながった重合体が使用できる。シリコーンにより皮膜層の易滑性が向上し、表面Ｂ側のフィルムの走行性、耐削れ性が確保される。またポリエステルフィルムを巻いたときのフィルム間のブロッキングが防止される。なおフッ素化合物を易滑剤として用いてもよい。
【００４５】
シランカップリング剤としては、その分子中に２個以上の異なった反応基をもつ有機ケイ素単量体が挙げられ、その反応基の一つはメトキシ基、エトキシ基、シラノール基などであり、もう一つの反応基はビニル基、エポキシ基、メタアクリル基、アミノ基、メルカプト基などである。反応基としては水溶性高分子の側鎖、末端基およびポリエステルと結合するものが選ばれるが、シランカップリング剤としてビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が適用できる。シランカップリング剤はシリコーンの易滑剤層からの遊離防止に寄与し、さらに、皮膜層とポリエステルとの接着性向上にも寄与する。
【００４６】
被覆層ＩＩの固形分質量は１０〜５０ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、より好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｍ２である。被覆層ＩＩは磁気テープにして、ロール状に巻き取った際、表面Ａに設けられた磁性層への転写を低減させる役割があり、固形分質量が１０ｍｇ／ｍ２未満であると、上記の効果が得られない。固形分質量が５０ｍｇ／ｍ２を超えると、製膜工程で被覆層ＩＩが削れたり、磁気テープ製造の工程で削れ物が付着したりする。
【００４７】
本発明において、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みの個数は５，０００個／ｍｍ２以下であることが好ましい。凹み個数はポリエステルフィルムをロール状に巻き取った際、表層に比べ、巻芯部分で多い傾向にあるが、表層から巻芯にかけて測定しその最大値を意味する。凹み個数が５，０００個／ｍｍ２を超えると、磁気テープ表面の変形により電磁変換特性が著しく低下する。皮膜層Ｉ上の凹みの大きさは深さ７ｎｍ以上のものが、電磁変換特性に大きく影響する。凹み個数を５，０００個／ｍｍ２以下にするためには、上記ポリエステル層Ａの層厚み、表面ＢのＲａ、Ｒｚ、被覆層ＩＩの固形分質量を所定の条件にする。また、ロール状に巻取る際に、巻取り張力と面圧を低くすること、ロール状での巻芯部分の個数を減らすために、ロール巻芯部からロール表層部にかけて面圧テーパ、張力テーパを利用して徐々に低面圧、低張力で巻き取ることも有効な手法である。
【００４８】
本発明における磁気記録テープ用ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ、ポリエステル層Ｂ、皮膜層を含む総厚みが４〜９μｍであることが好ましく、さらには４．５〜６．０μｍであることが好ましい。
【００４９】
（製造方法）
本発明におけるポリエステルフィルム（ポリエステル層）は種々の方法により製造することが可能である。ポリエステル層Ａ、ポリエステル層Ｂからなる二層構造の積層ポリエステルフィルムを得るには、ポリエステルａとポリエステルｂを共押出し法により製造するのが好ましく、表面Ａおよび表面Ｂの皮膜層Ｉや被覆層ＩＩの形成は塗布法により行うのが好ましい。
【００５０】
以下、本発明におけるポリエステルフィルムの製造方法の例を説明する。
【００５１】
押出機にてポリエステルａを溶融状態にしてさらにそのままフィルターにて高精度濾過する。また、別の押出機にて不活性粒子Ｂを含有させたポリエステルｂを溶融状態にして別のフィルターで高精度濾過したのち、フィードブロックにそれぞれ導き、溶融状態にて複合積層せしめる。ポリエステルａとポリエステルｂとの積層厚みの比は、各層の押出機の押出量を調整することにより、所望の積層厚み比にすることができる。このようにして溶融、好ましくは積層せしめた後、融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度で口金より押出もしくは共押出ししたのち、１０〜５０℃のキャスティングドラム上で急冷固化して未延伸積層フィルムシートを得る。その後、上記未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向または横方向）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋８０）℃の温度（ただし、Ｔｇはポリエステルのガラス転移温度）で２〜８倍の倍率で、好ましくは３〜７．５倍で延伸する。さらに表面Ａ、必要に応じて表面Ｂに皮膜層Ｉや被覆層ＩＩを形成するための塗液をフィルム表面に塗布して乾燥し、その後上記延伸方向とは直角方向に（一軸延伸方向とは直交する方向に）延伸配向させ、熱固定する製造方法により、本発明におけるフィルムを製造することができる。
【００５２】
表面Ａ側の皮膜層Ｉを形成するために塗布する塗液の固形分濃度としては０．１〜２質量％が好ましく、より好ましくは０．６〜１．６質量％である。そして塗液には本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増粘剤、帯電防止剤などを添加することができる。皮膜層Ｉ中に含まれる不活性粒子Ｉの分散状態を調整するためには、塩酸、水酸化ナトリウム水溶液などの酸・塩基成分を適宜使用すればよい。また、フィルムに塗布する直前の塗液温度は１２℃〜２８℃、より好ましくは１９℃から２５℃に調整して塗布することが好ましい。塗液温度が２８℃を超える状態でフィルムに塗布すると、上記皮膜成分の水溶性高分子、水分散性高分子、シランカップリング剤などの固形物が発生することがある。また、塗液温度が１２℃未満であると、不活性粒子Ｉの凝集により粗大突起が発生しやすい傾向にある。
【００５３】
表面Ｂ側の被覆層ＩＩを形成する場合、塗布する塗液の固形分濃度としては０．０１〜１質量％が好ましく、より好ましくは０．３〜０．８質量％である。そして塗液には本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増粘剤、帯電防止剤などを添加することができる。
【００５４】
二軸延伸は例えば逐次二軸延伸法又は同時二軸延伸法で行うことができるが、所望するならば熱固定前にさらに縦方向あるいは横方向、またはその両方（縦と横方向）に再度延伸させ機械的強度を高めた、いわゆる強力化タイプとすることもできる。
【００５５】
表面Ａ側の皮膜層Ｉを形成するためには、前述した通り、１軸方向への延伸を終えた段階で所定組成・濃度の塗液を基層フィルム上に塗布する方法をとればよい。その塗布方法としては、ドクターブレード方式、グラビア方式、リバースロール方式、メイヤーバー方式のいずれであってもよい。表面ＡのＲａ値は皮膜層中の不活性粒子の量や材料平均粒径を調整することにより制御することができる。表面Ｂの被覆層ＩＩの形成に関しても同様の方法を用いればよい。また、皮膜層Ｉや被覆層ＩＩの厚みは、塗液の固形分濃度、塗布厚みの調整により所望値に制御することができる。
【００５６】
本発明の磁気記録テープ用ポリエステルフィルムは磁気記録媒体のベースフィルムとして、特にデジタルデータを記録しＭＲヘッドで再生する磁気テープ用途に使用すると、高密度で記録が可能であり、かつ耐久性に優れた結果を得ることができる。特に高信頼性が要求されるデータバックアップ用途のベースフィルムとして好適に使用することができる。
【実施例】
【００５７】
本実施例で用いた測定法を以下に示す。
【００５８】
（１）ポリエステル層Ａ、Ｂの厚みおよびフィルム全体の厚み測定
フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。ポリエステル層Ａ、Ｂの層厚については、相対的に薄いポリエステル層の層厚みを以下に述べる方法にて測定し、相対的に厚いポリエステル層の層厚みは、全厚みより皮膜層および相対的に薄いポリエステル層の層厚を引き算して求める。
【００５９】
二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、深さ５，０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する金属元素、フィルム中に金属元素を含まない粒子を含有する場合は、ポリエステルフィルム重合時の最も高濃度に含有する触媒に起因する金属元素濃度（Ｍ）を測定する。金属元素濃度Ｍは一旦安定値１になったのち、単調に増加するかまたは減少して安定値２になる。この分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、薄いポリエステル層の厚み（μｍ）とする。
【００６０】
（２）不活性粒子Ｂの平均粒径の測定
ポリエステルフィルムの表面Ｂ側からポリエステル樹脂をプラズマ低温灰化処理法（たとえばヤマト科学製ＰＲ-５０３型）で除去し粒子を露出させる。処理条件は被膜や熱可塑性樹脂は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９００）に結びつけ、観察箇所を変えて粒子数１０，０００個以上で次の数値処理を行い、それによって求めた数平均径を平均粒径（ｄＢ）とする。
【００６１】
（３）皮膜層Ｉの不活性粒子Ｉの測定
Ａ．不活性粒子Ｉの観察平均粒径の測定
表面Ｉから観察平均粒径を求める場合は、皮膜表面Ｉ上に金属スパッター装置により金属蒸着層を２０〜３０ｎｍ（この時のスパッターの蒸着膜厚をｘｎｍとする）で設け、走査型電子顕微鏡を用い、加速電圧５ｋＶで入射方向垂直の条件下、倍率１０万倍で観測し、面積円相当径が２５〜６０ｎｍとなる少なくとも１００個の突起（粒子に起因するもの）について平均値を算出し、この平均値から２ｘｎｍを減じた値をもって観察平均粒径とする。
【００６２】
Ｂ．不活性粒子Ｉに起因する突起の個数密度の測定
皮膜層Ｉ上の、不活性粒子の個数密度は、上述Ａ．の手法において、電子顕微鏡（好ましくは走査型電子顕微鏡）により、３万倍の拡大倍率で観察し、１０枚以上の写真撮影を行うことにより測定し、撮影された写真から観察される突起の個数をカウントする。１ｍｍ２あたりの突起の個数に換算して、個数密度とした。
【００６３】
（４）フィルムの平均面粗さＲａ値、十点平均粗さＲｚ値
フィルムの表面（Ａ、Ｂ）の平均面粗さＲａ値、十点平均粗さＲｚ値は、原子間力顕微鏡（走査型プローブ顕微鏡）を用いて測定した。具体的には、セイコーインスツルメント（株）製の卓上小型プローブ顕微鏡（“Ｎａｎｏｐｉｃｓ”１０００）を用い、ダンピングモードで、フィルムの表面を４０μｍ角または１００μｍ角の範囲で原子間力顕微鏡計測走査を行い、得られる表面のプロファイル曲線よりＪＩＳ・Ｂ０６０１・１９９６・Ｒａに相当する算術平均粗さよりＲａ値を、十点平均粗さよりＲｚ値を求めた。なお、測定条件の詳細は以下のとおりである。
【００６４】
（測定面：表面Ａ）
測定モード ダンピングモード
測定方向 幅方向
測定領域 ４０×４０μｍ
スキャンスピード ３８０ｓ／ＦＲＡＭＥ
スキャン回数 ５１２本
振幅モード ＬＬ（２０％）
（測定面：表面Ｂ）
測定モード ダンピングモード
測定方向 幅方向
測定領域 １００×１００μｍ
スキャンスピード ３８０ｓ／ＦＲＡＭＥ
スキャン回数 ５１２本
振幅モード ＨＨ（１００％）
（５）皮膜層Ｉ上の凹み個数の測定
上記（４）の皮膜層Ｉ上の平均面粗さ測定において得られた２次元像から、断面プロファイルを得る。断面プロファイル像の凹凸で、平均の凸部、凹部のラインを各々引き、その中心線をベースラインとする。このベースラインに対して凹み部分の最低部がベースラインから７ｎｍ以上の距離にあるものを凹みとし、個数をカウントする。得られる４０μｍ角の像で２０本以上の断面プロファイルから上記カウントを行い、得られた凹み個数を１ｍｍ２換算し、皮膜層Ｉ上の凹み個数とした。
【００６５】
（６）表面Ｂ側の被覆層ＩＩの固形分質量
フィルムの表面Ｂにおける皮膜形成用の塗液を塗布する際、一定時間内の塗布により消費される塗液の量を求める。その一定時間内に水溶液が塗布された面積を、塗布幅とフィルム速度と塗布時間とから算出し、塗布時の水溶液消費量を塗布面積で除し、さらに、塗布した水溶液中の固形分濃度より、皮膜層の固形分量（単位：ｍｇ／ｍ２）を算出した。
【００６６】
（７）巻取り性
スリット時の巻取り条件を最適化後、幅６２０ｍｍ×長さ１０，０００ｍで１０ロールのスリットを行い、１０日間常温で放置後のフィルムシワの発生のないロールを良品として、以下の基準で巻取り性の評価をする。
【００６７】
良品ロール本数 判定基準
８本以上 ○
４〜７本 △
３本以下 ×
（８）磁気テープの特性
磁気テープの特性は以下のようにして評価した。
【００６８】
本発明のフィルムの表面Ａに、真空蒸着装置を用いて、コバルト−酸素皮膜を５０ｎｍの膜厚で形成した。次いで、コバルト−酸素皮膜層上に、スパッタリング法によりダイヤモンド状カーボン膜を１０ｎｍの厚さで形成させ、フッ素含有脂肪酸エステル系潤滑剤を３ｎｍの厚さで塗布した。続いて表面Ｂ上に、カーボンブラック、ポリウレタン、シリコーンからなるバックコート層を５００ｎｍの厚さで設け、スリッターにより３．８ｍｍ幅にスリットし、リールに巻き取り磁気テープ（ＭＩＣＲＯ ＭＶテープ）を作製した。
【００６９】
Ａ．耐久性の評価
磁気テープ（ＭＩＣＲＯ ＭＶテープ）の走行耐久性は、市販のＭＩＣＲＯ ＭＶ方式ビデオカメラ（ＭＩＣＲＯ ＭＶビデオカメラ）を用いて静かな室内で録画し、１分間の再生をして画面にあらわれたブロック状のモザイク個数（ドロップアウト（ＤＯ）個数）を数えることによって、評価した。ＤＯ個数は常温（２５℃）でテープ製造後の初期特性（初回のＤＯ個数）を最初に調べた。次にテープの再生を全長にわたり２００回くり返し、２００回目の再生時のＤＯ個数を測定した。
【００７０】
Ｂ．電磁変換特性（Ｃ／Ｎ）の評価
上記で作製したテープについて、市販のＭＩＣＲＯ ＭＶ方式ビデオカメラ（ＭＩＣＲＯ ＭＶビデオカメラ）を用いて、７ＭＨｚ±１ＭＨｚのＣ／Ｎの測定を行った。このＣ／Ｎを市販のＭＩＣＲＯ ＭＶテープと比較して、以下のように判定した。
【００７１】
＋３ｄＢ以上 ：◎
＋２ｄＢ以上〜＋３ｄＢ未満 ：○
＋１ｄＢ以上〜＋２ｄＢ未満 ：△
＋１ｄＢ未満 ：×
次に実施例に基づき、本発明を説明する。
【００７２】
［実施例１］
（ポリエステルａの製造方法）
テレフタル酸ジメチル１００質量部、エチレングリコール７０質量部、酢酸カルシウム０．０９質量部を反応器に入れて１８０〜２１０℃にてエステル交換反応を施し、メタノールを留出させた。エステル交換反応が終了した時点でリン酸０．０２質量部および三酸化アンチモン０．０３質量部を添加し、引き続いて系内を徐々に減圧し、６０分で１ｍｍＨｇ以下とした。それと同時に徐々に昇温し２９０℃とした。重縮合反応を２時間実施し、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；ポリエステルａ）を得た。
【００７３】
（ポリエステルｂの製造方法）
テレフタル酸ジメチル１００質量部、エチレングリコール７０質量部、酢酸カルシウム０．０９質量部を反応器に入れて１８０〜２１０℃にてエステル交換反応を施し、メタノールを留出させた。エステル交換反応が終了した時点でリン酸０．０２質量部および三酸化アンチモン０．０３質量部を添加し、引き続いて系内を徐々に減圧し、６０分で１ｍｍＨｇ以下とした。それと同時に徐々に昇温し２９０℃とした。重縮合反応を２時間実施し、その後吐出ノズルより水中に押出しカッターによって直径約５ｍｍ長さ約７ｍｍの円柱状のチップとした。こうして得られたポリマーに不活性粒子Ｂとして数平均粒径（材料平均粒径）３００ｎｍのポリスチレン球を０．５０ｗｔ％含有させポリエステルｂを得た。
【００７４】
（ポリエステルフィルムの製造方法）
得られたポリエステルａ、ポリエステルｂを、それぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押出し機に、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が７：１となるように調整して共押出しにより供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、ポリエステルａの片面にポリエステルｂを積層させ、温度２５℃のキャスティングドラム上にて急冷して、ポリエステル層Ａ、層Ｂの２層構造からなる未延伸積層フィルムを得た。次にこのようにして得られた未延伸積層フィルムを予熱し、ロール延伸法にて１１０℃で３倍に縦延伸した。
【００７５】
縦延伸後の工程で表面Ａ側の表面に以下の組成・濃度の水溶液をメイヤーバー方式にて塗布した。
【００７６】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径２０ｎｍの球状シリカ粒子 １．３×１０−３質量％
その後、ステンターにて横方向に１１０℃で４倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。これをスリッターで小幅にスリットし、円筒コアーにロール状に巻取り、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００７７】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００７８】
［実施例２］
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）２００ｎｍのポリスチレン球に変更した。実施例１のポリエステルフィルムの製造方法において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が１２：１となるように調整して共押出しにより供給し、縦延伸後の工程で表面Ａ側の表面に以下の組成・濃度の水溶液をメイヤーバー方式にて塗布した。
【００７９】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径３０ｎｍの球状ポリスチレン粒子 １．１×１０−３質量％
また、表面Ｂ側に被覆層ＩＩを設けるため、ポリエステル層Ｂの外側に下記組成・濃度の水溶液を固形分塗布量が２８ｍｇ／ｍ２となるようエアナイフ方式にて塗布した。
【００８０】
表面Ｂ側への塗布水溶液の組成（被覆層ＩＩ）
水 ９９．４４質量％
メチルセルロース ０．２６質量％
水溶性ポリエステル（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１の共重合体） ０．２９質量％
アミノエチルシランカップリング剤 １．１×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ５．２μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００８１】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００８２】
[実施例３]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が５：１となるように調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００８３】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００８４】
[実施例４]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）９００ｎｍのポリスチレン球に変更した。
【００８５】
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００８６】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００８７】
[実施例５]
実施例２のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が４８：１となるように調整した以外は実施例２と同様にして、厚さ４．９μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００８８】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００８９】
[実施例６]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）２００ｎｍのポリスチレン球に変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００９０】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００９１】
[実施例７]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）８００ｎｍのポリスチレン球に変更し、ポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が２１：１になるように調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００９２】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００９３】
[実施例８]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、表面Ａ側への塗布水溶液の組成を以下のように変更した。
【００９４】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径６０ｎｍの球状シリカ粒子 １．４×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００９５】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００９６】
[実施例９]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、表面Ａ側への塗布水溶液の組成を以下のように変更した。
【００９７】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径８ｎｍの球状シリカ粒子 １．０×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００９８】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００９９】
[実施例１０]
実施例２のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ｂの外側へ塗布する水溶液を固形分塗布量が１１ｍｇ／ｍ２となるよう変更した以外は実施例２と同様にして、厚さ５．２μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１００】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１０１】
[実施例１１]
実施例２のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ｂの外側へ塗布する水溶液を固形分塗布量が４８ｍｇ／ｍ２となるよう変更した以外は実施例２と同様にして、厚さ５．２μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１０２】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１０３】
[比較例１]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が１４：３となるように調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．４μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１０４】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１０５】
[比較例２]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）８０ｎｍのポリスチレン球に変更し、ポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が２１：１となるように調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１０６】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１０７】
[比較例３]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、表面Ａ側への塗布水溶液の組成を以下のように変更した。
【０１０８】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径６５ｎｍの球状シリカ粒子 １．４×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１０９】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１１０】
[比較例４]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、表面Ａ側への塗布水溶液の組成を以下のように変更した。
【０１１１】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径４ｎｍの球状シリカ粒子 １．０×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１１２】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１１３】
[比較例５]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）１，１００ｎｍのポリスチレン球に変更した。
【０１１４】
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１１５】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１１６】
[比較例６]
実施例２のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ｂの外側へ塗布する水溶液を固形分塗布量が５２ｍｇ／ｍ２となるよう変更した以外は実施例２と同様にして、厚さ５．２μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１１７】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１１８】
[比較例７]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、ロール状に巻き取る時の張力、面圧を実施例１比１．５倍に変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１１９】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１２０】
【表１】
【０１２１】
【表２】
【０１２２】
表２から明らかなように、本発明によるポリエステルフィルムはベースフィルムの生産性にも優れており、ベースフィルムから製造された磁気記録テープは、電磁変換特性に非常に優れ、繰り返し走行させても走行耐久性の良好な磁気記録テープであった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録テープ用ポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表されるポリエステルフィルムは、その優れた物理的、化学的特性の故に広い用途に、特に磁気記録媒体のベースフィルムとして用いられている。２軸配向ポリエステルフィルムは、デジタルビデオ用テープや、コンピューターのバックアップ用テープ（以後、データテープという）などに用いられている。
【０００３】
磁気記録媒体に代表される例として、１９９６年に実用化された民生用デジタルビデオテープはベースフィルム上にＣｏの金属磁性薄膜を設け、その表面にダイヤモンド状カーボン膜をコーティングしてなり、Ｈｉ８用蒸着（ＭＥ）テープに比べて表面性が更に平滑化したにもかかわらず、良好な耐久性をもつ。そのベースフィルムとしては、（１）熱可塑性樹脂からなる層Ａと、微粒子が含有された熱可塑性樹脂からなる層Ｂとが積層された複合フィルム（例えば特許文献１参照）、（２）平滑なポリエステルフィルムであり非磁性面側表面に滑剤主体の被覆層が形成されたフィルム（例えば特許文献２参照）、等が用いられ、Ｈｉ８ＭＥテープ用ベースに比べ、更に金属磁性膜形成表面粗度の小さいベースフィルムが利用されている。
【０００４】
しかしながらこのように非常に平滑な民生用デジタルビデオテープは、その磁性面の表面うねりにより電磁変換特性が非常に変化し、また蒸着工程での冷却キャンに付着する異物の影響により、得られたテープのドロップアウト（ＤＯ）特性が非常に変化する。
【０００５】
上記（１）より作成したテープはテープ磁性面の表面うねりのバラツキが大であり、電磁変換特性のバラツキが大であった。また、上記（２）の技術は非磁性面側表面の滑剤主体の被覆層が蒸着工程、特に真空蒸着の冷却キャンで削れたり、剥離したりしがちであり、それによりＤＯが多くなる欠点があった。
【０００６】
この問題を解決するために、（３）ポリエステルフィルムの片側表面Ａに強磁性金属薄膜層が設けられ、該強磁性金属薄膜層のＳＲａ値が２〜５ｎｍ、ＳＲｚ値が４０〜７０ｎｍ、表面うねりが３０ｎｍ未満であることを特徴とする磁気テープ（例えば特許文献３参照）等が用いられており、冷却キャンでの削れが改善され、表面のうねりも小さくなり、電磁変換特性の良好なテープが得られる。
【０００７】
しかし、近年のさらなる高密度に磁気記録を行うデータテープにおいては、トラックが非常に小型化したことによって、ベースフィルムの表面状態が磁気テープの磁性層の表面性に大きな影響を及ぼし、磁気記録層の表面の凹凸として発現し、それが記録・再生信号のノイズの原因となり、データの再生不良を引き起こす問題が生じてきた。このため、上記の高密度磁気記録媒体においては、磁気記録媒体で磁性層を形成する側の表面は電磁変換特性の観点からもベースフィルムの表面はできるだけ平滑であることが望ましい。平滑ベースフィルムとして、（４）実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層の少なくとも磁性面を形成する側の表面Ｉに皮膜層を設けた垂直磁化記録方式に使用される強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体用ポリエステルフィルム（例えば特許文献４参照）や、磁気テープの走行耐久性を両立させた、（５）ポリエステル層の磁性面を形成する側の表面Ｉに皮膜層を設けた磁気記録テープ用ポリエステルフィルムであって、表面Ｉの皮膜層は水溶性高分子または水分散性高分子を構成成分とし、この皮膜層には平均粒径の異なる少なくとも２種の不活性粒子が含有されたベースフィルム（例えば特許文献５参照）などが提案されている。
【０００８】
一方でベースフィルムの製膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取りおよび巻出しといったハンドリングの観点からは、ベースフィルムの表面は出来るだけ粗いことが望ましい。なぜならば、フィルム表面が平坦過ぎると、フィルム−フィルム相互の滑り性が悪化し、ブロッキング現象が発生したり、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメーション）が悪化したりして、製品歩留りの低下や製品の製造コストの上昇をきたすからである。このように、電磁変換特性とハンドリング性の観点から相反する特性が要求される。従って上記（３）に代表されるように、ベースフィルムの設計では、磁性層を形成する側の表面は平滑面、一方で磁性層を形成する側の表面の反対側の面は、粗い表面が形成されているベースフィルムが一般的に用いられる。
【０００９】
上記した（３）、（４）、（５）の高密度磁気記録媒体では、平滑な磁性層を形成する側の表面に、ハンドリング性のため粗くした反対側の面の粗さや突起が起因となり、ロール状に巻き取った際に転写の影響が顕著に現れる。高密度記録を達成するため本来平滑である磁性層の表面が数ｎｍ程度凹むことにより、電磁変換特性の低下や、ノイズの原因になることが新たに分かり、平滑な磁性層表面に影響を与えない、ベースフィルムの表面設計が必要となった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特公平１−２６３３８号公報
【特許文献２】特公平４−３３２７３号公報
【特許文献３】特開平１０−１７２１２６号公報
【特許文献４】特開２０１０−７９９９５号公報
【特許文献５】特開２０１０−２２５２４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、上記した従来の問題を解決し、ノイズが少なく電磁変換特性に優れ、かつベースフィルムの生産性に優れ、高密度での記録が可能である大容量磁気記録テープ用ポリエステルフィルムとして、特にコンピューターのデータバックアップ用途に好適なベースとなるポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記した目的を達成するための本発明は以下の特徴を有する。
【００１３】
（１）ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとを有し、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと反対側の表面Ａに皮膜層Ｉを有し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面を表面Ｂとする積層フィルムであって、以下の（ａ）〜（ｄ）を満足する磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【００１４】
（ａ）表面Ａに設ける皮膜層Ｉは、平均粒径５〜６０ｎｍの不活性粒子Ｉが含まれ、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａが２〜６ｎｍで、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みが５，０００個／ｍｍ２以下である。
【００１５】
（ｂ）ポリエステル層Ａは、実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層で、層厚みが３．０μｍ以上である。
【００１６】
（ｃ）ポリエステル層Ｂは、平均粒径０．１〜１．０μmの不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層である。
【００１７】
（ｄ）表面Ｂは、平均面粗さＲａが８〜２０ｎｍ、かつ十点平均面粗さＲｚが３００ｎｍ以下である。
【００１８】
（２）表面Ｂに１０〜５０ｍｇ／ｍ２の固形分質量にて有機化合物からなる被覆層ＩＩが設けられている、上記（１）に記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【００１９】
（３）不活性粒子Ｂの平均粒径ｄＢ（μm）と、ポリエステル層Ｂの厚みｔＢ（μm）が下記式を満足する、上記（１）または（２）に記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【００２０】
０．２≦ｄB ／ｔＢ ≦３
（４）総厚みが４〜９μmである、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【００２１】
（５）ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートを構成成分として含んでいる、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、電磁変換特性に非常に優れた超高密度磁気記録テープの製造が可能となる。
【００２３】
また、本発明の磁気記録テープ用ポリエステルフィルムを用いると、超高密度にデジタル記録することが可能であり、特に、高密度記録、高信頼性が要求されるコンピューターのバックアップ用途のベースフィルムとして使用すると優れた結果を得ることができ、好適である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明における積層フィルムは共押出法等によるポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの二層構造を有するポリエステルフィルムである。ポリエステル層Ａは磁気テープを製造する際に磁性層を設け、磁気記録をする側の面（皮膜層Ｉが設けられる面で、以下表面Ａという）である。一方、ポリエステル層Ａの表面Ａとは反対側のポリエステル層Ｂはフィルムの巻取り性を付与するために巻取り性の観点より不活性粒子Ｂを含有させる必要がある。
【００２５】
本発明においてポリエステル層Ａを構成するポリマー（以下、ポリエステルａという）およびポリエステル層Ｂを構成するポリマー（以下、ポリエステルｂという）は、分子配向により高強度フィルムを形成するポリエステルであればよい。中でもポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）を構成成分として含んでいることが好ましい。このポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートは、それぞれ、全構成成分の８０モル％以上がエチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートであることが好ましい。エチレンテレフタレート、エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート以外の共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ｐ−キシレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどのジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸（ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートの場合）、フタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ポリエチレンテレフタレートの場合）、２，７−ナフタレンジカルボン酸などのジカルボン酸成分、トリメリット酸、ピロメリット酸などの３官能以上の多価カルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などが挙げられる。上記ポリエステルは、また、ポリエステルとは非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘導体、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアルキレングリコールなどの少なくとも一つが５質量％を超えない範囲で混合してもよい。ポリエステルａ、ｂは同じ種類でも異なる種類であってもよい。
【００２６】
ポリエステルａは実質的に不活性粒子を含有しない。実質的に不活性粒子を含有しないとは、積極的に触媒残渣を析出させたり、不活性粒子を添加したりしていないことを意味し、具体的には、粒径０．０５μｍ以上の不活性粒子の含有量が、ポリエステルａの質量を基準として、０．００１質量％未満であることが好ましい。実質的に不活性粒子が含まれると、ポリエステルａ内の不活性粒子の凝集による粗大突起が磁気テープの精密な表面設計を妨げる要因となったり、不活性粒子による表面Ａの変形により、磁気テープにした際に電磁変換特性が大幅に低下したり、ノイズが増えたりする原因になる。
【００２７】
ポリエステルｂに含有させる好ましい不活性粒子Ｂの成分は、例えば、（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステルなどからなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなど）、（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイヤモンドなど）、および（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナイトなど）などのような無機化合物からなる粒子が挙げられる。これらのうち、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイヤモンド、またはカオリンからなる粒子が好ましい。さらに好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、または炭酸カルシウムからなる微粒子である。これらの不活性粒子は１種または２種以上を混合して使用してもよい。また界面活性化剤、帯電防止剤、各種エステル成分等、異なる成分を添加させてもよい。
【００２８】
不活性粒子Ｂの平均粒径は０．１μｍ〜１μｍであり、好ましくは０．２μｍから０．５μｍである。また、不活性粒子Ｂは異なる平均粒径を有する２種以上のものを用いてもよく、その場合は最も平均粒径の大きい粒子の平均粒径が１μｍ未満でなければならない。また、２種の平均粒径を有する不活性粒子Ｂを用いる場合は、不活性粒子Ｂのうち、平均粒径の小さい粒子の質量Ｗ（ＢＳ）に対して、平均粒径の大きい粒子の質量Ｗ（ＢＬ）は、Ｗ（ＢＬ）／Ｗ（ＢＳ）＜０．３であることが好ましい。不活性粒子Ｂの平均粒径が１μｍを超えると、フィルムの巻取り性は向上するが、ポリエステルフィルムに磁性層を設けた後、ロール状に巻き放置した時に、その不活性粒子Ｂの形状が表面Ａに設けられた磁性層に転写することで凹みとして現れ、磁気テープのドロップアウトやエラーが多発することにより電磁変換特性が低下する。また平均粒径が０．１μｍ未満の場合、フィルムをロール上に巻き取る際にハンドリング性が悪く、生産効率が低下する。
【００２９】
本発明においてポリエステル層Ａの層厚みは３．０μｍ以上である。３．０μｍ未満の場合、ロール状にフィルムを巻き取った際、ポリエステル層Ｂ内の不活性粒子Ｂのフィルム内部を通した突き上げのため、表面Ａの形状が変形しやすく、変形のため磁性層の電磁変換特性が低下する。なお、不活性粒子Ｂの平均粒径ｄＢ（μｍ）と、ポリエステル層Ｂの厚みｔＢ（μｍ）の関係は０．２≦ｄＢ／ｔＢ≦３．０であることが好ましい。より好ましくは０．８≦ｄＢ／ｔＢ≦２．０であり、ｄＢ／ｔＢが０．２より小さい場合、不活性粒子がポリエステル層Ｂ内に埋まり気味となり、フィルムの巻き取り性向上の効果が出ない。ｄＢ／ｔＢが３．０を超えると、表面Ｂ側に不活性粒子Ｂの突起がポリエステル層Ｂから突出しすぎる形状となり、ポリエステルフィルムに磁性層を設けた後、ロール状に巻き放置した時に、その不活性粒子Ｂの形状が表面Ａに設けられた磁性層に転写することで凹みとして現れ、磁気テープのドロップアウトやエラーが多発することにより電磁変換特性が低下する。フィルム全厚みが同じ場合、ポリエステル層Ｂは不活性粒子Ｂの効果が出る範囲内で厚みが薄いほうが上記理由から好ましい。
【００３０】
本発明においては、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂとは反対側の表面Ａに、以下に詳述する皮膜層Ｉが形成されている。皮膜層Ｉは水溶性ポリエステル樹脂を含有し、その他の水溶性高分子または水分散性高分子を構成成分としている。
【００３１】
水溶性ポリエステル樹脂としては、酸成分とグリコール成分が重縮合したポリエステルであって、スルホン酸基又はその塩を含有していることが好ましく、例えば酸成分としてジカルボン酸成分のみならずスルホン酸基のような機能性酸成分を全カルボン酸成分の５モル％以上共重合せしめること、及び／又は、グリコール成分としてポリアルキレンエーテルグリコール成分を２〜７０質量％共重合せしめることによって水溶性を付与したものが好ましいが、これらに限定されるものではない。スルホン酸基又はジカルボン酸としては、好ましくは５−スルホイソフタル酸、２−スルホテレフタル酸などや、それらの金属塩、ホスホニウム塩などが使用でき、５−ナトリウムスルホイソフタル酸が特に好ましい。５−ナトリウムスルホイソフタル酸を共重合せしめる際の他のジカルボン酸成分としてはイソフタル酸、テレフタル酸などが好ましく、グリコール成分としてはエチレングリコール、ジエチレングリコールなどが好ましい。また、ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマー又はブロックコポリマー、あるいは２種のポリマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ、コアシェル）を構成したアクリル変性ポリエステル樹脂も含まれる。
【００３２】
皮膜層Ｉの水溶性ポリエステル樹脂以外の構成成分の水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース等のセルロース誘導体、ポリエステルエーテル共重合体、水溶性ポリエステル共重合体等が好ましく挙げられ、なかでも、上記水溶性ポリエステルにセルロース誘導体の高分子ブレンド体が特に好ましい。セルロース誘導体は特にフィルム表面の微細凹凸構造の形成に寄与し、水溶性ポリエステル共重合体はセルロース誘導体とポリエステルフィルム表面との接着性向上に寄与および不活性粒子が削れて脱落することを防止する役割がある。
【００３３】
水分散性高分子としては、ポリメタクリル酸メチルエマルジョン、ポリアクリル酸エステルエマルジョン等が使用できるがこれらに限定されない。
【００３４】
本発明においては、皮膜層Ｉ中には以下に詳述する不活性粒子Ｉを含んでいる。
【００３５】
不活性粒子Ｉの成分としては、ポリスチレン、ポリアクリル酸メチルエステル、ポリアクリル酸エチルエステル、ポリメタクリル酸メチルエステル、ポリメタクリル酸エチルエステル、およびジビニルベンゼンから選ばれた、各単量体の重合体、あるいは共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン、シリコーン等の有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、炭酸カルシウム、タルク、グラファイト等の無機質のいずれを用いてもよい。一般に無機質からなる粒子は硬度が高く変形しにくいため磁気ヘッドのクリーニング性に優れており、また種々のサイズの微粒子の製造が容易であることから無機質、特にシリカからなる球状シリカ粒子が好ましい。一方、有機質からなる粒子は分散性に優れており粒子同士の凝集が少ない。中でも、スチレン、アクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステル、ジビニルベンゼンの重合体およびジビニルベンゼンの共重合体からなる群から選ばれた少なくとも１種の高分子粒子であることが好ましい。
【００３６】
また、不活性粒子Ｉの観察平均粒径は、５〜６０ｎｍである。これは、磁気テープにした際、磁気ヘッドとの摩擦を低減させ走行耐久性を維持する他、繰り返しの使用における磁気ヘッドへのセルフクリーニング性を向上させる役割を果たす。その観察平均粒径は上記したとおり５〜６０ｎｍである。この観察平均粒径は表面Ｉ側のフィルム上から観測される粒径の平均値であり、表面Ｉ側の皮膜中の不活性粒子に起因する突起のうち、個々の粒径が５〜６０ｎｍの範囲にある突起の平均の粒径を意味する。
【００３７】
観察平均粒径が５ｎｍ未満であると、磁気テープの繰り返しの使用における、クリーニング効果が向上せず、耐久性が向上しない。一方、観察平均粒径が６０ｎｍを超えると、磁気テープの表面が粗くなり、電磁変換特性が著しく低下する。また、繰り返し使用により、不活性粒子が削れて脱落し、ドロップアウトが増加することがある。この観察平均粒径は１５〜４０ｎｍが特に好ましい。
【００３８】
また、不活性粒子Ｉに起因する突起密度は１００〜８，０００万個／ｍｍ２であることが好ましく、より好ましくは１，０００〜５，０００万個／ｍｍ２である。突起密度が１００万個／ｍｍ２未満であると、粒子の存在密度が小さすぎるため、クリーニング効果が期待できない。また、８，０００万個／ｍｍ２を超えると、磁気テープの表面が粗くなり、電磁変換特性が著しく低下する上、磁気テープ繰り返しの走行で、粒子の脱落が発生し、表面が削れてのドロップアウトが増加する傾向がある。この不活性粒子Ｉに起因する突起の凝集率は３０％未満であることが好ましく、より好ましくは１５％未満である。該突起の凝集率が３０％以上であると、粗大突起により磁気ヘッドとのスペーシングロスが大きくなり電磁変換特性が著しく低下する上、磁気テープの走行で粒子の脱落によるドロップアウトの原因となる。
【００３９】
また、不活性粒子Ｉは必要に応じて平均粒径が異なる２種以上の不活性粒子を含有せしめてもよい。
【００４０】
本発明において、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａ値は２〜６ｎｍであり、より好ましくは２．５〜４．５ｎｍである。Ｒａ値が６ｎｍを超えると、磁気テープの磁気ヘッドとの走行耐久性は向上するが、電磁変換特性が低下する。また、Ｒａ値が２ｎｍ未満であると、電磁変換特性は良好であるが、磁気テープの繰り返し使用における磁気ヘッドとの摩擦が増え走行耐久性が低下する。
【００４１】
本発明において、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面（以下、表面Ｂという）の平均面粗さＲａは８〜２０ｎｍである。好ましくは１０〜１６ｎｍである。十点平均面粗さＲｚは、３００ｎｍ以下、好ましくは２５０ｎｍ以下である。Ｒａが８ｎｍ未満であると、平滑になりすぎて、ポリエステルフィルムの製造の際、特に製膜後のスリッターによるスリット工程で、フィルムを所定の幅にスリットしロール状に巻き製品化する時にしわが入りすぎ、ロール状に巻けなくなる。Ｒａが２０ｎｍを超える、または、Ｒｚが３００ｎｍを超えると、磁気テープにして、ロール状に巻き取った際、表面Ａに設けられた磁性層に転写することで凹みとして現れ、磁気テープのドロップアウトやエラーが多発することにより電磁変換特性が低下する。さらにＲａとＲｚの比は、Ｒｚ／Ｒａ≦２２を満たすことが好ましい。Ｒｚ／Ｒａが２２を上回ると、表面Ｂ側の粗大な突起により、ロール状に巻き取った際、表面Ａに設けられた磁性層に転写することで凹みとして現れ、電磁変換特性が著しく低下する。
【００４２】
本発明において、表面Ｂ側には、上述の表面Ｂの平均粗さＲａ、Ｒｚを満たす範囲内で、１０〜５０ｍｇ／ｍ２の固形分質量で有機化合物からなる被覆層ＩＩを設けてもよい。表面Ｂに皮膜層を設ける場合は、表面ＢのＲａ、Ｒｚは被覆層ＩＩの上からの測定値を意味する。
【００４３】
被覆層ＩＩとしては、易滑性であって削られにくく、かつ、ポリエステルフィルムからの分解物を通さない機能を有するものであればよく、主として、水溶性高分子及び／又は水分散性高分子から構成され、好ましくは、水溶性高分子及び／又は水分散性高分子にシリコーン及びシランカップリング剤とが加わった組成物から形成されることが好ましい。被覆層ＩＩに用いられる水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース等のセルロース誘導体、ポリエステルエーテル共重合体、水溶性ポリエステル共重合体等が使用できる。また、水分散性高分子のエマルジョンとしては、ポリメタクリル酸メチルエマルジョン、ポリアクリル酸エステルエマルジョン等が使用できる。
【００４４】
シリコーンとしては、ポリジメチルシロキサン等のシロキサン結合を分子骨格にもつ有機ケイ素化合物が共有結合で多数つながった重合体が使用できる。シリコーンにより皮膜層の易滑性が向上し、表面Ｂ側のフィルムの走行性、耐削れ性が確保される。またポリエステルフィルムを巻いたときのフィルム間のブロッキングが防止される。なおフッ素化合物を易滑剤として用いてもよい。
【００４５】
シランカップリング剤としては、その分子中に２個以上の異なった反応基をもつ有機ケイ素単量体が挙げられ、その反応基の一つはメトキシ基、エトキシ基、シラノール基などであり、もう一つの反応基はビニル基、エポキシ基、メタアクリル基、アミノ基、メルカプト基などである。反応基としては水溶性高分子の側鎖、末端基およびポリエステルと結合するものが選ばれるが、シランカップリング剤としてビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が適用できる。シランカップリング剤はシリコーンの易滑剤層からの遊離防止に寄与し、さらに、皮膜層とポリエステルとの接着性向上にも寄与する。
【００４６】
被覆層ＩＩの固形分質量は１０〜５０ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、より好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｍ２である。被覆層ＩＩは磁気テープにして、ロール状に巻き取った際、表面Ａに設けられた磁性層への転写を低減させる役割があり、固形分質量が１０ｍｇ／ｍ２未満であると、上記の効果が得られない。固形分質量が５０ｍｇ／ｍ２を超えると、製膜工程で被覆層ＩＩが削れたり、磁気テープ製造の工程で削れ物が付着したりする。
【００４７】
本発明において、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みの個数は５，０００個／ｍｍ２以下であることが好ましい。凹み個数はポリエステルフィルムをロール状に巻き取った際、表層に比べ、巻芯部分で多い傾向にあるが、表層から巻芯にかけて測定しその最大値を意味する。凹み個数が５，０００個／ｍｍ２を超えると、磁気テープ表面の変形により電磁変換特性が著しく低下する。皮膜層Ｉ上の凹みの大きさは深さ７ｎｍ以上のものが、電磁変換特性に大きく影響する。凹み個数を５，０００個／ｍｍ２以下にするためには、上記ポリエステル層Ａの層厚み、表面ＢのＲａ、Ｒｚ、被覆層ＩＩの固形分質量を所定の条件にする。また、ロール状に巻取る際に、巻取り張力と面圧を低くすること、ロール状での巻芯部分の個数を減らすために、ロール巻芯部からロール表層部にかけて面圧テーパ、張力テーパを利用して徐々に低面圧、低張力で巻き取ることも有効な手法である。
【００４８】
本発明における磁気記録テープ用ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ、ポリエステル層Ｂ、皮膜層を含む総厚みが４〜９μｍであることが好ましく、さらには４．５〜６．０μｍであることが好ましい。
【００４９】
（製造方法）
本発明におけるポリエステルフィルム（ポリエステル層）は種々の方法により製造することが可能である。ポリエステル層Ａ、ポリエステル層Ｂからなる二層構造の積層ポリエステルフィルムを得るには、ポリエステルａとポリエステルｂを共押出し法により製造するのが好ましく、表面Ａおよび表面Ｂの皮膜層Ｉや被覆層ＩＩの形成は塗布法により行うのが好ましい。
【００５０】
以下、本発明におけるポリエステルフィルムの製造方法の例を説明する。
【００５１】
押出機にてポリエステルａを溶融状態にしてさらにそのままフィルターにて高精度濾過する。また、別の押出機にて不活性粒子Ｂを含有させたポリエステルｂを溶融状態にして別のフィルターで高精度濾過したのち、フィードブロックにそれぞれ導き、溶融状態にて複合積層せしめる。ポリエステルａとポリエステルｂとの積層厚みの比は、各層の押出機の押出量を調整することにより、所望の積層厚み比にすることができる。このようにして溶融、好ましくは積層せしめた後、融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度で口金より押出もしくは共押出ししたのち、１０〜５０℃のキャスティングドラム上で急冷固化して未延伸積層フィルムシートを得る。その後、上記未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向または横方向）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋８０）℃の温度（ただし、Ｔｇはポリエステルのガラス転移温度）で２〜８倍の倍率で、好ましくは３〜７．５倍で延伸する。さらに表面Ａ、必要に応じて表面Ｂに皮膜層Ｉや被覆層ＩＩを形成するための塗液をフィルム表面に塗布して乾燥し、その後上記延伸方向とは直角方向に（一軸延伸方向とは直交する方向に）延伸配向させ、熱固定する製造方法により、本発明におけるフィルムを製造することができる。
【００５２】
表面Ａ側の皮膜層Ｉを形成するために塗布する塗液の固形分濃度としては０．１〜２質量％が好ましく、より好ましくは０．６〜１．６質量％である。そして塗液には本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増粘剤、帯電防止剤などを添加することができる。皮膜層Ｉ中に含まれる不活性粒子Ｉの分散状態を調整するためには、塩酸、水酸化ナトリウム水溶液などの酸・塩基成分を適宜使用すればよい。また、フィルムに塗布する直前の塗液温度は１２℃〜２８℃、より好ましくは１９℃から２５℃に調整して塗布することが好ましい。塗液温度が２８℃を超える状態でフィルムに塗布すると、上記皮膜成分の水溶性高分子、水分散性高分子、シランカップリング剤などの固形物が発生することがある。また、塗液温度が１２℃未満であると、不活性粒子Ｉの凝集により粗大突起が発生しやすい傾向にある。
【００５３】
表面Ｂ側の被覆層ＩＩを形成する場合、塗布する塗液の固形分濃度としては０．０１〜１質量％が好ましく、より好ましくは０．３〜０．８質量％である。そして塗液には本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増粘剤、帯電防止剤などを添加することができる。
【００５４】
二軸延伸は例えば逐次二軸延伸法又は同時二軸延伸法で行うことができるが、所望するならば熱固定前にさらに縦方向あるいは横方向、またはその両方（縦と横方向）に再度延伸させ機械的強度を高めた、いわゆる強力化タイプとすることもできる。
【００５５】
表面Ａ側の皮膜層Ｉを形成するためには、前述した通り、１軸方向への延伸を終えた段階で所定組成・濃度の塗液を基層フィルム上に塗布する方法をとればよい。その塗布方法としては、ドクターブレード方式、グラビア方式、リバースロール方式、メイヤーバー方式のいずれであってもよい。表面ＡのＲａ値は皮膜層中の不活性粒子の量や材料平均粒径を調整することにより制御することができる。表面Ｂの被覆層ＩＩの形成に関しても同様の方法を用いればよい。また、皮膜層Ｉや被覆層ＩＩの厚みは、塗液の固形分濃度、塗布厚みの調整により所望値に制御することができる。
【００５６】
本発明の磁気記録テープ用ポリエステルフィルムは磁気記録媒体のベースフィルムとして、特にデジタルデータを記録しＭＲヘッドで再生する磁気テープ用途に使用すると、高密度で記録が可能であり、かつ耐久性に優れた結果を得ることができる。特に高信頼性が要求されるデータバックアップ用途のベースフィルムとして好適に使用することができる。
【実施例】
【００５７】
本実施例で用いた測定法を以下に示す。
【００５８】
（１）ポリエステル層Ａ、Ｂの厚みおよびフィルム全体の厚み測定
フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。ポリエステル層Ａ、Ｂの層厚については、相対的に薄いポリエステル層の層厚みを以下に述べる方法にて測定し、相対的に厚いポリエステル層の層厚みは、全厚みより皮膜層および相対的に薄いポリエステル層の層厚を引き算して求める。
【００５９】
二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、深さ５，０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する金属元素、フィルム中に金属元素を含まない粒子を含有する場合は、ポリエステルフィルム重合時の最も高濃度に含有する触媒に起因する金属元素濃度（Ｍ）を測定する。金属元素濃度Ｍは一旦安定値１になったのち、単調に増加するかまたは減少して安定値２になる。この分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、薄いポリエステル層の厚み（μｍ）とする。
【００６０】
（２）不活性粒子Ｂの平均粒径の測定
ポリエステルフィルムの表面Ｂ側からポリエステル樹脂をプラズマ低温灰化処理法（たとえばヤマト科学製ＰＲ-５０３型）で除去し粒子を露出させる。処理条件は被膜や熱可塑性樹脂は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９００）に結びつけ、観察箇所を変えて粒子数１０，０００個以上で次の数値処理を行い、それによって求めた数平均径を平均粒径（ｄＢ）とする。
【００６１】
（３）皮膜層Ｉの不活性粒子Ｉの測定
Ａ．不活性粒子Ｉの観察平均粒径の測定
表面Ｉから観察平均粒径を求める場合は、皮膜表面Ｉ上に金属スパッター装置により金属蒸着層を２０〜３０ｎｍ（この時のスパッターの蒸着膜厚をｘｎｍとする）で設け、走査型電子顕微鏡を用い、加速電圧５ｋＶで入射方向垂直の条件下、倍率１０万倍で観測し、面積円相当径が２５〜６０ｎｍとなる少なくとも１００個の突起（粒子に起因するもの）について平均値を算出し、この平均値から２ｘｎｍを減じた値をもって観察平均粒径とする。
【００６２】
Ｂ．不活性粒子Ｉに起因する突起の個数密度の測定
皮膜層Ｉ上の、不活性粒子の個数密度は、上述Ａ．の手法において、電子顕微鏡（好ましくは走査型電子顕微鏡）により、３万倍の拡大倍率で観察し、１０枚以上の写真撮影を行うことにより測定し、撮影された写真から観察される突起の個数をカウントする。１ｍｍ２あたりの突起の個数に換算して、個数密度とした。
【００６３】
（４）フィルムの平均面粗さＲａ値、十点平均粗さＲｚ値
フィルムの表面（Ａ、Ｂ）の平均面粗さＲａ値、十点平均粗さＲｚ値は、原子間力顕微鏡（走査型プローブ顕微鏡）を用いて測定した。具体的には、セイコーインスツルメント（株）製の卓上小型プローブ顕微鏡（“Ｎａｎｏｐｉｃｓ”１０００）を用い、ダンピングモードで、フィルムの表面を４０μｍ角または１００μｍ角の範囲で原子間力顕微鏡計測走査を行い、得られる表面のプロファイル曲線よりＪＩＳ・Ｂ０６０１・１９９６・Ｒａに相当する算術平均粗さよりＲａ値を、十点平均粗さよりＲｚ値を求めた。なお、測定条件の詳細は以下のとおりである。
【００６４】
（測定面：表面Ａ）
測定モード ダンピングモード
測定方向 幅方向
測定領域 ４０×４０μｍ
スキャンスピード ３８０ｓ／ＦＲＡＭＥ
スキャン回数 ５１２本
振幅モード ＬＬ（２０％）
（測定面：表面Ｂ）
測定モード ダンピングモード
測定方向 幅方向
測定領域 １００×１００μｍ
スキャンスピード ３８０ｓ／ＦＲＡＭＥ
スキャン回数 ５１２本
振幅モード ＨＨ（１００％）
（５）皮膜層Ｉ上の凹み個数の測定
上記（４）の皮膜層Ｉ上の平均面粗さ測定において得られた２次元像から、断面プロファイルを得る。断面プロファイル像の凹凸で、平均の凸部、凹部のラインを各々引き、その中心線をベースラインとする。このベースラインに対して凹み部分の最低部がベースラインから７ｎｍ以上の距離にあるものを凹みとし、個数をカウントする。得られる４０μｍ角の像で２０本以上の断面プロファイルから上記カウントを行い、得られた凹み個数を１ｍｍ２換算し、皮膜層Ｉ上の凹み個数とした。
【００６５】
（６）表面Ｂ側の被覆層ＩＩの固形分質量
フィルムの表面Ｂにおける皮膜形成用の塗液を塗布する際、一定時間内の塗布により消費される塗液の量を求める。その一定時間内に水溶液が塗布された面積を、塗布幅とフィルム速度と塗布時間とから算出し、塗布時の水溶液消費量を塗布面積で除し、さらに、塗布した水溶液中の固形分濃度より、皮膜層の固形分量（単位：ｍｇ／ｍ２）を算出した。
【００６６】
（７）巻取り性
スリット時の巻取り条件を最適化後、幅６２０ｍｍ×長さ１０，０００ｍで１０ロールのスリットを行い、１０日間常温で放置後のフィルムシワの発生のないロールを良品として、以下の基準で巻取り性の評価をする。
【００６７】
良品ロール本数 判定基準
８本以上 ○
４〜７本 △
３本以下 ×
（８）磁気テープの特性
磁気テープの特性は以下のようにして評価した。
【００６８】
本発明のフィルムの表面Ａに、真空蒸着装置を用いて、コバルト−酸素皮膜を５０ｎｍの膜厚で形成した。次いで、コバルト−酸素皮膜層上に、スパッタリング法によりダイヤモンド状カーボン膜を１０ｎｍの厚さで形成させ、フッ素含有脂肪酸エステル系潤滑剤を３ｎｍの厚さで塗布した。続いて表面Ｂ上に、カーボンブラック、ポリウレタン、シリコーンからなるバックコート層を５００ｎｍの厚さで設け、スリッターにより３．８ｍｍ幅にスリットし、リールに巻き取り磁気テープ（ＭＩＣＲＯ ＭＶテープ）を作製した。
【００６９】
Ａ．耐久性の評価
磁気テープ（ＭＩＣＲＯ ＭＶテープ）の走行耐久性は、市販のＭＩＣＲＯ ＭＶ方式ビデオカメラ（ＭＩＣＲＯ ＭＶビデオカメラ）を用いて静かな室内で録画し、１分間の再生をして画面にあらわれたブロック状のモザイク個数（ドロップアウト（ＤＯ）個数）を数えることによって、評価した。ＤＯ個数は常温（２５℃）でテープ製造後の初期特性（初回のＤＯ個数）を最初に調べた。次にテープの再生を全長にわたり２００回くり返し、２００回目の再生時のＤＯ個数を測定した。
【００７０】
Ｂ．電磁変換特性（Ｃ／Ｎ）の評価
上記で作製したテープについて、市販のＭＩＣＲＯ ＭＶ方式ビデオカメラ（ＭＩＣＲＯ ＭＶビデオカメラ）を用いて、７ＭＨｚ±１ＭＨｚのＣ／Ｎの測定を行った。このＣ／Ｎを市販のＭＩＣＲＯ ＭＶテープと比較して、以下のように判定した。
【００７１】
＋３ｄＢ以上 ：◎
＋２ｄＢ以上〜＋３ｄＢ未満 ：○
＋１ｄＢ以上〜＋２ｄＢ未満 ：△
＋１ｄＢ未満 ：×
次に実施例に基づき、本発明を説明する。
【００７２】
［実施例１］
（ポリエステルａの製造方法）
テレフタル酸ジメチル１００質量部、エチレングリコール７０質量部、酢酸カルシウム０．０９質量部を反応器に入れて１８０〜２１０℃にてエステル交換反応を施し、メタノールを留出させた。エステル交換反応が終了した時点でリン酸０．０２質量部および三酸化アンチモン０．０３質量部を添加し、引き続いて系内を徐々に減圧し、６０分で１ｍｍＨｇ以下とした。それと同時に徐々に昇温し２９０℃とした。重縮合反応を２時間実施し、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；ポリエステルａ）を得た。
【００７３】
（ポリエステルｂの製造方法）
テレフタル酸ジメチル１００質量部、エチレングリコール７０質量部、酢酸カルシウム０．０９質量部を反応器に入れて１８０〜２１０℃にてエステル交換反応を施し、メタノールを留出させた。エステル交換反応が終了した時点でリン酸０．０２質量部および三酸化アンチモン０．０３質量部を添加し、引き続いて系内を徐々に減圧し、６０分で１ｍｍＨｇ以下とした。それと同時に徐々に昇温し２９０℃とした。重縮合反応を２時間実施し、その後吐出ノズルより水中に押出しカッターによって直径約５ｍｍ長さ約７ｍｍの円柱状のチップとした。こうして得られたポリマーに不活性粒子Ｂとして数平均粒径（材料平均粒径）３００ｎｍのポリスチレン球を０．５０ｗｔ％含有させポリエステルｂを得た。
【００７４】
（ポリエステルフィルムの製造方法）
得られたポリエステルａ、ポリエステルｂを、それぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押出し機に、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が７：１となるように調整して共押出しにより供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、ポリエステルａの片面にポリエステルｂを積層させ、温度２５℃のキャスティングドラム上にて急冷して、ポリエステル層Ａ、層Ｂの２層構造からなる未延伸積層フィルムを得た。次にこのようにして得られた未延伸積層フィルムを予熱し、ロール延伸法にて１１０℃で３倍に縦延伸した。
【００７５】
縦延伸後の工程で表面Ａ側の表面に以下の組成・濃度の水溶液をメイヤーバー方式にて塗布した。
【００７６】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径２０ｎｍの球状シリカ粒子 １．３×１０−３質量％
その後、ステンターにて横方向に１１０℃で４倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。これをスリッターで小幅にスリットし、円筒コアーにロール状に巻取り、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００７７】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００７８】
［実施例２］
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）２００ｎｍのポリスチレン球に変更した。実施例１のポリエステルフィルムの製造方法において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が１２：１となるように調整して共押出しにより供給し、縦延伸後の工程で表面Ａ側の表面に以下の組成・濃度の水溶液をメイヤーバー方式にて塗布した。
【００７９】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径３０ｎｍの球状ポリスチレン粒子 １．１×１０−３質量％
また、表面Ｂ側に被覆層ＩＩを設けるため、ポリエステル層Ｂの外側に下記組成・濃度の水溶液を固形分塗布量が２８ｍｇ／ｍ２となるようエアナイフ方式にて塗布した。
【００８０】
表面Ｂ側への塗布水溶液の組成（被覆層ＩＩ）
水 ９９．４４質量％
メチルセルロース ０．２６質量％
水溶性ポリエステル（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１の共重合体） ０．２９質量％
アミノエチルシランカップリング剤 １．１×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ５．２μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００８１】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００８２】
[実施例３]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が５：１となるように調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００８３】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００８４】
[実施例４]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）９００ｎｍのポリスチレン球に変更した。
【００８５】
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００８６】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００８７】
[実施例５]
実施例２のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が４８：１となるように調整した以外は実施例２と同様にして、厚さ４．９μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００８８】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００８９】
[実施例６]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）２００ｎｍのポリスチレン球に変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００９０】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００９１】
[実施例７]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）８００ｎｍのポリスチレン球に変更し、ポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が２１：１になるように調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００９２】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００９３】
[実施例８]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、表面Ａ側への塗布水溶液の組成を以下のように変更した。
【００９４】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径６０ｎｍの球状シリカ粒子 １．４×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００９５】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００９６】
[実施例９]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、表面Ａ側への塗布水溶液の組成を以下のように変更した。
【００９７】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径８ｎｍの球状シリカ粒子 １．０×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【００９８】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【００９９】
[実施例１０]
実施例２のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ｂの外側へ塗布する水溶液を固形分塗布量が１１ｍｇ／ｍ２となるよう変更した以外は実施例２と同様にして、厚さ５．２μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１００】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１０１】
[実施例１１]
実施例２のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ｂの外側へ塗布する水溶液を固形分塗布量が４８ｍｇ／ｍ２となるよう変更した以外は実施例２と同様にして、厚さ５．２μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１０２】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１０３】
[比較例１]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が１４：３となるように調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．４μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１０４】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１０５】
[比較例２]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）８０ｎｍのポリスチレン球に変更し、ポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比が２１：１となるように調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１０６】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１０７】
[比較例３]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、表面Ａ側への塗布水溶液の組成を以下のように変更した。
【０１０８】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径６５ｎｍの球状シリカ粒子 １．４×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１０９】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１１０】
[比較例４]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、表面Ａ側への塗布水溶液の組成を以下のように変更した。
【０１１１】
表面Ａ側への塗布水溶液の組成（皮膜層Ｉ）
水 ９９．３質量％（小数点以下２位で四捨五入）
メチルセルロース ０．１３質量％
水溶性ポリエステル樹脂（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１重縮合体） ０．６０質量％
材料平均粒径４ｎｍの球状シリカ粒子 １．０×１０−３質量％
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１１２】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１１３】
[比較例５]
実施例１のポリエステルｂの製造方法において、不活性粒子Ｂを数平均粒径（材料平均粒径）１，１００ｎｍのポリスチレン球に変更した。
【０１１４】
その他は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１１５】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１１６】
[比較例６]
実施例２のポリエステルフィルムの製造において、ポリエステル層Ｂの外側へ塗布する水溶液を固形分塗布量が５２ｍｇ／ｍ２となるよう変更した以外は実施例２と同様にして、厚さ５．２μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１１７】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１１８】
[比較例７]
実施例１のポリエステルフィルムの製造において、ロール状に巻き取る時の張力、面圧を実施例１比１．５倍に変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．８μｍのポリエステルフィルムを作製した。
【０１１９】
得られたポリエステルフィルムの特性を表１、２に示す。
【０１２０】
【表１】
【０１２１】
【表２】
【０１２２】
表２から明らかなように、本発明によるポリエステルフィルムはベースフィルムの生産性にも優れており、ベースフィルムから製造された磁気記録テープは、電磁変換特性に非常に優れ、繰り返し走行させても走行耐久性の良好な磁気記録テープであった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとを有し、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと反対側の表面Ａに皮膜層Ｉを有し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面を表面Ｂとする積層フィルムであって、以下の（ａ）〜（ｄ）を満足する磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
（ａ）表面Ａに設ける皮膜層Ｉは、平均粒径５〜６０ｎｍの不活性粒子Ｉが含まれ、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａが２〜６ｎｍで、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みが５，０００個／ｍｍ２以下である。
（ｂ）ポリエステル層Ａは、実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層で、層厚みが３．０μｍ以上である。
（ｃ）ポリエステル層Ｂは、平均粒径０．１〜１．０μmの不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層である。
（ｄ）表面Ｂは、平均面粗さＲａが８〜２０ｎｍ、かつ十点平均面粗さＲｚが３００ｎｍ以下である。
【請求項２】
表面Ｂに１０〜５０ｍｇ／ｍ２の固形分質量にて有機化合物からなる被覆層ＩＩが設けられている、請求項１に記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【請求項３】
不活性粒子Ｂの平均粒径ｄＢ（μm）と、ポリエステル層Ｂの厚みｔＢ（μm）が下記式を満足する、請求項１または２に記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
０．２≦ｄB ／ｔＢ ≦３
【請求項４】
総厚みが４〜９μｍである、請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【請求項５】
ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートを構成成分として含んでいる、請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【請求項１】
ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとを有し、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと反対側の表面Ａに皮膜層Ｉを有し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面を表面Ｂとする積層フィルムであって、以下の（ａ）〜（ｄ）を満足する磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
（ａ）表面Ａに設ける皮膜層Ｉは、平均粒径５〜６０ｎｍの不活性粒子Ｉが含まれ、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａが２〜６ｎｍで、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みが５，０００個／ｍｍ２以下である。
（ｂ）ポリエステル層Ａは、実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層で、層厚みが３．０μｍ以上である。
（ｃ）ポリエステル層Ｂは、平均粒径０．１〜１．０μmの不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層である。
（ｄ）表面Ｂは、平均面粗さＲａが８〜２０ｎｍ、かつ十点平均面粗さＲｚが３００ｎｍ以下である。
【請求項２】
表面Ｂに１０〜５０ｍｇ／ｍ２の固形分質量にて有機化合物からなる被覆層ＩＩが設けられている、請求項１に記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【請求項３】
不活性粒子Ｂの平均粒径ｄＢ（μm）と、ポリエステル層Ｂの厚みｔＢ（μm）が下記式を満足する、請求項１または２に記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
０．２≦ｄB ／ｔＢ ≦３
【請求項４】
総厚みが４〜９μｍである、請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【請求項５】
ポリエステルフィルムが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートを構成成分として含んでいる、請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録テープ用ポリエステルフィルム。
【公開番号】特開２０１３−２５８４７（Ｐ２０１３−２５８４７Ａ）
【公開日】平成２５年２月４日（２０１３．２．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１６０４９０（Ｐ２０１１−１６０４９０）
【出願日】平成２３年７月２２日（２０１１．７．２２）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月４日（２０１３．２．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月２２日（２０１１．７．２２）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
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