磁気記録媒体およびその製造方法
【課題】 エラーレートが低く、オフトラックが小さく、かつ出力変動が小さい磁気記録媒体の提供。
【解決手段】 非磁性支持体の一面に下塗層と磁性層の順に形成され、前記磁性層が、厚さが０．３０μｍ以下、表面の中心線平均粗さＲａが４．０ｎｍ以下、粗さ曲線の中心線をＰ０、最大の山部をＰ１、第２０番目の山部をＰ２０としたとき、中心線からの最大の山部Ｐ１の高さ（Ｐ１−Ｐ０）が２５ｎｍ以下、最大の山部Ｐ１と第２０番目の山部Ｐ２０との高さの差（Ｐ１−Ｐ２０）が５ｎｍ以下であり、かつＥＳＣＡ分析によって測定される前記磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気記録媒体およびその製造方法。
【解決手段】 非磁性支持体の一面に下塗層と磁性層の順に形成され、前記磁性層が、厚さが０．３０μｍ以下、表面の中心線平均粗さＲａが４．０ｎｍ以下、粗さ曲線の中心線をＰ０、最大の山部をＰ１、第２０番目の山部をＰ２０としたとき、中心線からの最大の山部Ｐ１の高さ（Ｐ１−Ｐ０）が２５ｎｍ以下、最大の山部Ｐ１と第２０番目の山部Ｐ２０との高さの差（Ｐ１−Ｐ２０）が５ｎｍ以下であり、かつＥＳＣＡ分析によって測定される前記磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気記録媒体およびその製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関し、特に、エラーレートが低く、オフトラックが小さく、かつ、出力変動の小さい磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＩＴ技術の進展等に伴って、情報を記録する記録媒体は、益々、高記録容量化、高記録密度化が求められている。例えば、コンピュータのデータバックアップ用の磁気テープは、コンピュータの処理速度の増大、処理する情報の大容量化、ハードディスクの高容量化等に伴って、益々、高記録容量および高記録密度化が必要となってきている。こうした磁気テープの高容量化および高記録密度化は、磁気テープ上の狭トラックピッチ化によるトラック数の増加、磁性層の薄層化、テープの全厚さの減少による１巻きあたりのテープ全長を増加させる等によって進められている。
【０００３】
一方、こうした狭トラックピッチ化および磁性層の薄層化に伴って磁性層からの漏れ磁束が小さくなるため、微小磁束でも高い再生出力が得られる磁気抵抗効果型素子を用いた再生ヘッド（例えば、ＭＲヘッド、ＧＭＲヘッド、ＴＭＲヘッド（トンネル磁気抵抗ヘッド））が用いられるようになってきている。
【０００４】
しかし、狭トラックピッチ化に伴って生じるオフトラック、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス等による出力変動およびエラーレートの増加を招く、という問題があった。
【０００５】
また、磁気テープをテープワインダ（磁気テープ巻取装置）、または、ドライブにおいて、テープリールに巻き取る際に、いわゆる巻き乱れが生じると、オフトラックによる出力変動およびエラーレートの増加の原因となることがある。これは、巻き乱れを有する磁気テープは、保管中に悪い巻き癖が付き、ドライブ内でのテープ走行精度に悪影響を与えるためである。
【特許文献１】特開２００３−３４６４５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明の目的は、前記した問題を解決し、オフトラックが小さく、エラーレートが低く、出力変動の小さいＭＲヘッド対応磁気記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、非磁性支持体と、前記非磁性支持体の一面に形成された下塗層と、前記下塗層の上に形成された磁性層と、前記非磁性支持体の他面に形成されたバックコート層とを備える磁気記録媒体であって、前記磁性層が、厚さが０．３０μｍ以下および表面の中心線平均粗さＲａが４．０ｎｍ以下であり、前記磁性層の表面について測定される粗さ曲線において、粗さ曲線の中心線をＰ０、最大の山部をＰ１、第２０番目の山部をＰ２０としたとき、中心線からの最大の山部Ｐ１の高さ（Ｐ１−Ｐ０）が２５ｎｍ以下、最大の山部Ｐ１と第２０番目の山部Ｐ２０との高さの差（Ｐ１−Ｐ２０）が５ｎｍ以下であり、かつＥＳＣＡ分析によって測定される前記磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲率が９５％以上であることを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
【０００８】
この磁気記録媒体では、磁性層の表面が前記の特有の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）を有し、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲率が９５％以上であることによって、狭トラックピッチ化、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス、磁気記録媒体の巻き乱れ等によって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートが少なく、小さい出力変動を示す磁気記録媒体を得ることができる。
【０００９】
また、請求項２に係る発明は、前記磁気記録媒体において、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによって、前記磁性層に記録された磁気記録信号が再生されることを特徴とする。
【００１０】
この磁気記録媒体では、前記のとおり、狭トラックピッチ化、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス、磁気記録媒体の巻き乱れ等によって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートが少なく、小さい出力変動を示すため、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによる磁気記録信号の再生に好適である。
【００１１】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の磁気記録媒体において、前記非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記下塗層を形成した後、その下塗層の上に磁性層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記磁性層が形成されていることを特徴とする。
【００１２】
この磁気記録媒体では、下塗層と磁性層が順次形成されることによって、より均一な下塗層および磁性層を有する磁気記録媒体を得ることができる。
【００１３】
また、請求項４に係る発明は、非磁性支持体上に下塗層を形成する工程と、磁気記録媒体をテーパー状のハブに巻き取って熱処理して前記磁気記録媒体に巻き癖を付与する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【００１４】
この磁気記録媒体の製造方法では、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成した後、加圧・加熱処理する工程と、磁気記録媒体をテーパー状のハブに巻き取って熱処理し前記磁気記録媒体に湾曲を付与することによって、磁性層の表面が前記の特有の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）を有し、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気記録媒体を製造することができる。
【００１５】
請求項５に係る発明は、前記非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記下塗層を形成する工程と、その下塗層の上に磁性層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記磁性層を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【００１６】
この磁気記録媒体の製造方法では、非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層と磁性層を順次形成することによって、より均一な下塗層および磁性層を有する磁気記録媒体を得ることができる。
【００１７】
請求項６に係る発明は、前記磁気記録媒体の製造方法において、前記磁性層は、前記下塗層の上に、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成することを特徴とする。
【００１８】
この磁気記録媒体の製造方法では、前記磁性層を、前記下塗層の上に、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して形成することが、後段の巻き癖を付与する工程における加圧・加熱処理において、前記フィラーの下層への沈み込みにより、前記特有の形態の表面形態を形成するために有効である。
【００１９】
請求項７に係る発明は、前記磁気記録媒体の製造方法において、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含み、塗膜形成後の塗膜のガラス転移温度が６０〜９０℃となるように調製された前記磁性層用塗布液を用いて磁性層を形成し、前記湾曲を付与するための熱処理を前記ガラス転移温度近傍の温度で行うことを特徴とする。
【００２０】
この磁気記録媒体の製造方法では、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含塗膜形成後の塗膜のガラス転移温度が６０〜９０℃となるように調製された前記磁性層用塗布液を用いて磁性層を形成し、前記湾曲を付与するための熱処理を前記ガラス転移温度近傍の温度で行うことが、磁気記録媒体の表面を前記特有の形態にするために有効である。
【００２１】
さらに、請求項８に係る発明は、非磁性支持体上に下塗層を形成する工程と、磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成する工程とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁性層を研磨テープを用いて研磨する工程（ａ）、および回転ドラムを用いて磁性層を平滑化する工程（ｂ）から選ばれる少なくとも１つの工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【００２２】
この磁気記録媒体の製造方法では、磁性層の表面が前記の特有の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）を有し、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気記録媒体を製造することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の磁気記録媒体は、狭トラックピッチ化、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス、磁気記録媒体の巻き乱れ等によって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートが少なく、小さい出力変動を示す。そのため、本発明の磁気記録媒体は、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによる磁気記録信号の再生に好適である。
【００２４】
また、本発明の製造方法によれば、前記特有の表面形態、および磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）、および特有の湾曲を有し、より均一な下塗層および磁性層を有する磁気記録媒体を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の磁気記録媒体およびその製造方法について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に設けられた磁性層に磁気的変化としてデータ信号を記録し、また、その磁気的変化を読み取ってデータ信号を再生することができる記録媒体である。この磁気記録媒体の形状は特に限定されるものではなく、テープ状、シート状、ディスク状等のいずれの形態であってもよい。シート状、テープ状の磁気テープでは、磁気記録再生方向がそれに直交する方向に比べて長い形態を有する。
【００２６】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、単に「実施形態」という）として、本発明を磁気テープに適用した場合について説明する。
【００２７】
図１は、本発明の実施形態に係る磁気テープを示す模式断面図である。図２は、本発明の実施形態に係る磁気テープの磁性層の表面の粗さ曲線を示す概念図である。図３は、本発明の実施形態に係る磁気テープの湾曲値を説明する概念図である。
【００２８】
図１に示す磁気テープ１は、例えば、コンピュータの記憶媒体として使用されるテープであり、主として、非磁性のベースフィルム（非磁性支持体）２と、ベースフィルム２の一面に形成された下塗層３と、下塗層３の上に形成された磁性層４と、ベースフィルム２の他面に形成されたバックコート層５とを有する。
【００２９】
ベースフィルム２は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド（特に好ましくは芳香族ポリアミド）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミド、ポリフェニルスルホン、ＢＰＯ（ポリベンゾオキサゾール）等からなる公知のフィルムが使用できる。ベースフィルムには、予めコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理等を施しても良い。なお、ベースフィルムは、加工性や機械特性および低コストが要求される場合には、ポリエステル類を用いることが望ましい。また、強度、剛性および耐熱性が要求される場合には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）よりもポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を用いることが望ましい。
【００３０】
このベースフィルム２の長手方向および幅方向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下であり、８０℃、３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。また、その破断強度は長手方向および幅方向ともに、好ましくは５〜１００ｋｇ／ｍｍ2であり、その弾性率は、長手方向および幅方向ともに、好ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ2である。
また、このベースフィルム２の厚さは、１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μｍである。特に、コンピュータの記憶媒体として使用される高記録容量の磁気テープの場合には、ベースフィルムの厚さを、４〜８μｍ程度とすることが、磁気テープの機械的強度、磁気テープ１巻き当たりの記録容量を向上するために有効である。
【００３１】
次に、下塗層３は、ベースフィルム２と磁性層４の間に形成され、ベースフィルム２と磁性層４との間の密着性を向上させる役割を有する。この下塗層３は、結合剤、カーボンブラック、酸化チタン、酸化鉄、アルミナ等の非磁性粒子などを用いて形成される。前記のカーボンブラック、非磁性粒子等は、導電性の改良、テープの剛性、磁性層４との密着性の向上、下塗層形成用塗料の塗布時の粘度調整などの各種の目的で、所定の組成に調整される。例えば、カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用でき、分散性、導電性等を考慮してその粒径および粒径分布、さらに粒子形状、含有量等を選択することができる。また、非磁性粒子は、分散性、下塗層３の強度、下塗層３中での配向性、下塗層３と磁性層４との界面の凹凸等を考慮して、針状、粒状または無定形の粒子形状、粒径、含有量を選択することができる。
【００３２】
また、下塗層３に用いる結合剤は、磁性層４と同じく公知のものが用いられる。さらに、下塗層３には、必要に応じて、帯電防止剤、潤滑剤等を含有させることができる。
【００３３】
この下塗層３の厚さは、磁気テープの耐久性、および磁気テープ１巻き当たりの記録容量の観点から、通常、０．０１〜２μｍ程度であり、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。
【００３４】
磁性層４は、磁性粉末と結合剤とを必須成分として形成され、磁気的変化としてデータ信号を記録し、また、その磁気的変化を再生ヘッドによって読み取ってデータ信号を再生することができるものである。
この磁性層４の構成成分である磁性粉末は、高密度記録を可能とするため、強磁性金属粉末または六方晶フェライト磁性粉末が好ましい。強磁性金属粉末は、例えば、Ｆｅを主体とした針状粉末であり、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｓｍ、Ｎｂ等が含まれる合金粉末が用いられる。また、Ａｌ、Ｙ等の化合物を焼結防止剤として用いることができる。
【００３５】
強磁性金属粉末の平均長軸長は１０〜１００ｎｍであることが好ましく、２０〜９０ｎｍであることがより好ましく、３０〜８０ｎｍであることがさらに好ましい。平均長軸長を１００ｎｍ以下とすることで、ノイズが低減でき、良好なサーボ信号およびデータ信号のＳＮ比が得られる。また、平均長軸長を３０ｎｍ以上とすることで良好な保持力Ｈｃが確保できる。
また、強磁性金属粉末の平均針状比は３〜１０であることが好ましく、３〜８であることがより好ましく、４〜８であることがさらに好ましい。
【００３６】
強磁性金属粉末の長軸長の変動率［（長軸長の標準偏差）／（長軸長の平均値）］は３０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。長軸長の変動率を３０％以下とすることで、長軸長の異なった磁性粒子が混在することによるノイズを低減して磁性層４に記録されるデータ信号のＳＮ比を向上できる。
【００３７】
強磁性金属粉末の飽和磁化量σｓは７０〜１５０Ａ・ｍ2／ｋｇであることが好ましく、８０〜１４０Ａ・ｍ2／ｋｇであることがより好ましく、９０〜１２５Ａ・ｍ2／ｋｇであることがさらに好ましい。また、その保磁力Ｈｃは１２７〜３５６ｋＡ／ｍであることが好ましく、１４２〜３１６ｋＡ／ｍであることがより好ましく、１５８〜２００ｋＡ／ｍであることがさらに好ましい。
【００３８】
強磁性金属粉末のＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）は、４０〜８０ｍ2／ｇであることが好ましく、より好ましくは４５〜７０ｍ2／ｇである。ＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）が４０ｍ2／ｇ以上であれば、ノイズが低減され、８０ｍ2／ｇ以下であれば、良好な表面性を得ることができる。
【００３９】
六方晶フェライト磁性粉末の場合は、Ｂａフェライトが適している。また、置換元素としてＴｉ等を含んでいても良い。六方晶フェライト磁性粉末の平均板径は１０〜５０ｎｍであることが好ましく、１５〜４５ｎｍであることがより好ましく、２０〜４０ｎｍであることがさらに好ましい。強磁性金属粉末を用いる場合と同様、平均板径を５０ｎｍ以下とすることで、ノイズが低減でき、良好なサーボ信号およびデータ信号のＳＮ比が得られる。また、平均板径を１５ｎｍ以上とすることで良好な保持力Ｈｃが確保できる。
また、六方晶フェライト磁性粉末の平均板状比は２〜７であることが好ましく、３〜５であることがより好ましい。
【００４０】
六方晶フェライト磁性粉末の板径の変動率［（板径の標準偏差）／（板径の平均値）］は３０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。板径の変動率を３０％とすることで、板径の異なった磁性粒子が混在することによるノイズを低減して磁性層４に記録されるデータ信号のＳＮ比を向上できる。
【００４１】
六方晶フェライト磁性粉末の飽和磁化量σｓは、４０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇであることが好ましく、４５〜７５Ａ・ｍ2／ｋｇであることがより好ましく、４５〜６５Ａ・ｍ2／ｋｇであることがさらに好ましい。また、その保磁力Ｈｃは１２７〜３５６ｋＡ／ｍであることが好ましく、１４２〜３１６ｋＡ／ｍであることがより好ましく、１５８〜２００ｋＡ／ｍであることがさらに好ましい。
上記粒子サイズの範囲内におけるＢＥＴ法による比表面積は１０〜２００ｍ2／ｇである。この比表面積は、概ね粒子板径と板厚からの計算値と符合する。
【００４２】
また、磁性層４に用いられる結合剤には公知のものを使用できる。例えば、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂等、またはこれらの混合物が挙げられる。また、これらの樹脂の数平均分子量は２〜１０万、好ましくは３〜８万である。なお、これらの樹脂には磁性粉末の分散性を向上させるために極性基を導入すると良い。極性基としては−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2（Ｍは水素原子またはアルカリ金属）が知られている。ここで、結合剤として、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含み、塗膜形成後の塗膜のガラス転移温度が６０〜９０℃となるように調製された前記磁性層用塗布液を用いることが、磁気記録媒体の表面を前記特有の形態にするために有効である。
【００４３】
さらに、磁性層４には、必要に応じて、フィラー、研磨剤（アルミナ、酸化クロム、弁柄、ＺｒＯ2、ダイヤモンド等）、カーボンブラック、潤滑剤等を含有させることができる。研磨剤を含有させる場合は、平均粒子サイズが１０〜３００ｎｍ、かつ、磁性層厚みの２倍以下のものが好ましく、形状は粒状、平板状、紡錘状等のものが好ましい。
【００４４】
磁性層４の厚さは、磁気テープの高記録密度化および高容量化の観点から、０．３０μｍ以下、好ましくは１０〜２５０ｎｍ、さらに好ましくは３０〜２３０ｎｍ、特に好ましくは４０〜２００ｎｍである。
【００４５】
磁性層４の表面の中心線平均粗さＲａは、エラーレートの低減に有効であることから、４．０ｎｍ以下であり、好ましくは１．０〜３．５ｎｍである。この磁性層４の表面の中心線平均粗さは、例えば、図２に示すとおり、表面粗さ測定装置によって測定された粗さ曲線から求められる（粗さ曲線Ｆを中心線で折り返し、その粗さ曲線と中心線によって得られた面積を測定長さＬで割った値（μｍ）をいう：ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４）。表面粗さ測定装置の具体例としては、ＷＹＫＯ社製 ＨＤ−２０００が挙げられる。
【００４６】
また、磁性層４は、前記磁性層４の表面Ａについて測定される粗さ曲線において、図２に示すとおり、粗さ曲線の中心線をＰ０、最大の山部をＰ１、第２０番目の山部をＰ２０としたとき、中心線からの最大の山部Ｐ１の高さ（Ｐ１−Ｐ０）が２５ｎｍ以下、好ましくは１〜２０ｎｍであり、さらに、最大の山部Ｐ１と第２０番目の山部Ｐ２０との高さの差（Ｐ１−Ｐ２０）が５ｎｍ以下であり、好ましくは０．０１〜３ｎｍである。ここで、（Ｐ１−Ｐ２０）は、図２に示す（Ｐ１−Ｐ０）と（Ｐ２０−Ｐ０）の差から求められる。（Ｐ１−Ｐ０）および（Ｐ１−Ｐ２０）がこの範囲にあることによって、磁気テープと再生ヘッドとの当たり及びスペーシングが改善されて磁気テープの走行安定性が向上し、エラーレートおよび出力変動の抑制に有効である。
【００４７】
また、磁性層４中の結合剤によって形成されるネットワーク構造（架橋構造）の目安となる表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）は、０．２以下、好ましくは０．０１〜０．１８である。この範囲にすることによって、磁性層４の表面に存在する未反応の架橋剤および結合剤に起因して、再生ヘッドおよび記録ヘッドと磁気テープとの間のスペーシングロスや摩擦係数の増大によるオフトラックを抑制し、エラーレートの増大を防止するために有効である。この磁性層４の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）は、ＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）分析によって測定される。具体的には、Ｘ線光電子分光分析装置（Ｘ−Ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＸＰＳ）を用いて、軟Ｘ線（ＡｌＫα線、ＭｇＫα線）を照射することによって磁性層４の表面から数ｎｍの深さまでの領域に存在する窒素原子と鉄原子から放出される光電子のスペクトル強度を計測することによって測定することができる。
【００４８】
また、磁性層４の保磁力Ｈｃは１２７〜３５６ｋＡ／ｍ、好ましくは１４２〜３１６ｋＡ／ｍ、さらに好ましくは１５８〜２４０ｋＡ／ｍである。Ｈｃを１２７ｋＡ／ｍ以上とすることで、高い出力が得られ、記録波長が小さくなっても反磁界の影響を低減することができる。Ｈｃが３５６ｋＡ／ｍを超えると磁気ヘッドでの記録が困難になるため、Ｈｃを３５６ｋＡ／ｍ以下とすることが好ましい。
【００４９】
さらに、磁性層４の残留磁化と厚みとの積（Ｍｒｔ）は５×１０-10〜７．５×１０-8Ｔ・ｍ、好ましくは５×１０-10〜５×１０-8Ｔ・ｍ、さらに好ましくは５×１０-10〜３×１０-8Ｔ・ｍである。Ｍｒｔを５×１０-10〜７．５×１０-8Ｔ・ｍとすることで、ＭＲ素子が飽和するのを防ぎ、ノイズを低減させることができる。
【００５０】
また、下塗層３と磁性層４との間に、非磁性粉末と結合剤とを主要成分として形成される非磁性層を介設することが望ましい。
【００５１】
この非磁性層の成分である非磁性粉末としては公知のものが使用可能で、例えば、ＴｉＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2、ＢａＳＯ4、ＺｎＯ、カーボンブラック、グラファイト、ダイヤモンド等が挙げられる。これらの中でもＴｉＯ2、α−Ｆｅ2Ｏ3が好ましく、これらとカーボンブラックを併用することがより好ましい。また、極性基が導入された樹脂を結合剤に用いる場合は、金属酸化物が分散性の点で優れる。これら非磁性粉末の平均粒子サイズ（針状の場合は平均長軸長）は１０〜３００ｎｍ、好ましくは３０〜２００ｎｍであり、形状は粒状、針状、サイコロ状、板状、紡錘状のいずれでも良い。また、非磁性粉末は必要に応じて複数種類用いられる。例えば導電性付与のために非磁性酸化物、カーボンブラック等を混合することも可能である。
【００５２】
バックコート層５は、磁気テープ１の走行耐久性向上のために、磁性層４が設けられた側と反対側のベースフィルム２上に形成される。このバックコート層５は、結合剤、およびカーボンブラックを含有するものであることが好ましい。バックコート層５は、微粒子で電気伝導性が優れたカーボンブラックを主なフィラーとし、平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラックを含有させたり、必要により無機質粉末を含有してもよい。例えば、モース硬度５〜９の無機質粉末を含有させることができる。無機質粉末のバックコート層への配合量は、カーボンブラック１００質量部に対して、通常、０．５〜１５０質量部であり、好ましくは０．５〜１００質量部である。
【００５３】
前述のように、バックコート層５には、平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラックを含有させることができる。例えば、平均粒子サイズが１５〜５０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイズが８０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを用いることができる。このように、二種類のカーボンブラックを使用することにより、バックコート層を粗面化しても磁性層４への裏写りの少ない磁気テープを得ることができる。
【００５４】
また、一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バックコート層５の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録の装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また、微粒子状カーボンブラックは、一般に潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。
【００５５】
一方、平均粒子サイズ８０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、またバックコート層５の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。
【００５６】
本発明で用いることができる微粒子状カーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙げることができる。括弧内は、平均粒子サイズを示す。ＲＥＧＡＬ ９９Ｒ（３８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化学（株）製）。
また、粗粒子カーボンブラックの具体的な商品の例としては、旭＃５１（９１ｎｍ）（旭カーボン社製）、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。平均粒子サイズ８０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、ゴム用カーボンブラックや、カラー用カーボンブラックより選択することができる。
【００５７】
本発明において、バックコート層における微粒子状カーボンブラックと粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲とすることが好ましく、さらに好ましくは、９５：５〜８５：１５である。また、バックコート層におけるカーボンブラックの含有量（二種類のカーボンブラックを使用する場合は、微粒子状カーボンブラックと粗粒子状カーボンブラックの合計量）は、結合剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲とすることができ、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。
【００５８】
バックコート層に添加することができる無機質粉末としては、平均粉体サイズが８０〜２５０ｎｍでモース硬度が５〜９の無機質粉末が挙げられる。無機質粉末としては、上述した下塗層に使用される非磁性粉末や研磨剤などと同様のものを使用することができ、中でもα−酸化鉄、α−アルミナ等を用いることが好ましい。無機質粉末のバックコート層への添加量は、結合剤１００質量部に対して、好ましくは０．５〜４０質量部の範囲であり、さらに好ましくは１〜３０質量部の範囲である。
【００５９】
バックコート層に使用する結合剤は、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂等を用いることができる。好ましい結合剤は、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース等の繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂である。その中でも、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、またはポリエステルポリウレタン樹脂を用いるのがより好ましい。
【００６０】
バックコート層には、前述の成分以外に、他の任意の成分として、分散剤、潤滑剤を添加することもできる。分散剤としては、例えば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数１２〜２２個の脂肪酸（ＲＣＯＯＨ；Ｒは炭素数１１〜１７個のアルキル基、またはアルケニル基）、前記脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる金属石けん、前記の脂肪酸エステルのフッ素を含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンは、エチレン、プロピレンなど）、硫酸エステル、銅フタロシアニン、沈降性硫酸バリウム等を使用することができる。分散剤は、結合剤樹脂１００質量部に対して、０．５〜２０質量部の範囲で添加することができる。
【００６１】
バックコート層は、その平均表面粗さＲａが、２０〜３０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２２〜２８ｎｍである。バックコート層の表面粗さは、テープが巻かれた状態でバックコート層の表面が磁性層の表面に転写されることで、再生出力に影響を与えたり、ガイドポールに対する摩擦係数に影響を与えるため、上記の範囲に調整することが好ましい。なお、この表面粗さＲａの調整は、バックコート層を形成後、カレンダーによる表面処理工程において、用いるカレンダーロールの材質、その表面性、圧力等の調整により行うことができる。このバックコート層の厚さは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍ、さらに好ましくは０．３〜０．６μｍである。
【００６２】
また、磁気テープ１には、前記の下塗層３、磁性層４、バックコート層５以外の層が含まれていても良い。例えば、第２の磁性層、クッション層、オーバーコート層、接着層、保護層を有していても良い。これらの層は、その機能を有効に発揮することができるように適切な位置に設けることができる。
【００６３】
この磁気テープ１は、１０００巻き当たりの＋湾曲率が９５％以上、好ましくは９８％以上である。この磁気テープの＋湾曲率は、図３に示すように、巻き解いた磁気テープ１を平面視して、長手方向（矢印Ａ方向）の長さのＬ（ｍ）、通常、１ｍの任意地点Ｅ，Ｆにおいて、任意地点Ｅと任意地点Ｆとを結ぶ基準線ｇから磁気テープ１の短い方のエッジ１ｃまでの距離ｄが＋０．２〜２．０ｍｍである比率をいう。このような湾曲を付与することによって、巻き乱れによって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートの少ない磁気テープを得ることができる。
【００６４】
この磁気テープは、狭トラックピッチ化、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス、磁気記録媒体の巻き乱れ等によって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートが少なく、小さい出力変動を示すため、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによる磁気記録信号の再生に好適である。
【００６５】
この磁気テープ１の製造は、磁性層の表面が前記の特有の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）を有し、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気テープを製造できる方法であれば、特に制限されない。例えば、（１）広幅のベースフィルム原反の一面に、下塗層３および磁性層４を形成し、さらに、ベースフィルム原反の他面にバックコート層５を形成する工程、（２）ベースフィルム原反を所定の幅に裁断（スリット）して所定の幅の磁気テープ原反を製造する工程、（３）磁気テープ原反の磁性層４の表面を前記の特有の形態に形成する工程、（４）磁気テープ原反に湾曲を付与して巻き癖を付ける工程を含む方法によって、磁気テープ１を製造することができる。得られた磁気テープは、所定の長さでテープリールに巻き取られ、カートリッジ等の所定の筐体に、リール駆動機構、テープ取り出し機構等とともに収納されて使用に供される。
【００６６】
この製造方法の（１）の工程において、下塗層３の形成は、ベースフィルム原反の表面に、結合剤、非磁性粒子等の下塗層３の構成成分を、有機溶媒等の適当な溶媒に分散または溶解させて調製された塗布液を塗布・乾燥して行うことができる。また、バックコート層５の形成も、同様に、結合剤、カーボンブラックおよびその他の成分を、溶媒に分散または溶解させて調製された塗布液を塗布・乾燥して行うことができる。さらに、非磁性層を、下塗層３と磁性層４との間に設ける場合、その非磁性層の形成も同様にして行うことができる。
【００６７】
また、磁性層４は、磁性粉末、結合剤等を含む塗布液を下塗層３の上に塗布することにより形成される。また、磁性層４は、金属、合金等の強磁性材を、真空蒸着やスパッタリングなどの手段で下塗層３に被着させることにより形成することもできる。
【００６８】
磁性層を塗布液の塗布によって形成する場合、塗布の方法には、ベースフィルム原反に下塗層３を形成した後に磁性層用塗布液を塗布する方法、ベースフィルム原反上に下塗層用塗布液と磁性層用塗布液とを同時に塗布する方法等がある。下塗層３の乾燥後、磁性層用塗布液を塗布する前にカレンダ処理工程を設けてもよい。
【００６９】
次に、図４および図５を参照して、磁気テープ１の製造方法について説明する。
前記のとおり、図示しない塗布工程、配向工程、乾燥工程、カレンダ処理工程を経て製造された幅広の磁気テープ原反を、巻芯に巻き取る。
【００７０】
次に、この磁気テープ原反をスリッタ装置（図示せず）によって、図４に示すように、この磁気テープ原反６が最終的に製品化されるその製品（磁気テープカートリッジ）の規格で定められたテープ幅に裁断される。このスリット工程で所定寸法のテープ幅に裁断された各磁気テープ１は、次に、パンケーキ巻取工程で、各ハブにそれぞれ巻き取り、パンケーキにする。このパンケーキに巻き取られた磁気テープ１は、幅方向の厚さにムラがある形状で、ばらつきがあるため、もともと磁気テープ原反６のどこに位置していたかによって湾曲極性が異なる。
【００７１】
次に、（３）磁気テープ原反の磁性層４の表面を前記の特有の形態に形成する工程、（４）磁気テープ原反に巻き癖を付ける工程が行われる。この工程によって、磁性層の表面が特有の形態（中心線平均粗さＲａ、（Ｐ１―Ｐ０）、（Ｐ１―Ｐ２０））に形成され、さらに、磁性層の表面に存在する未反応の架橋剤等が除去されて、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気テープを得ることができる。この（３）の工程および（４）の工程は、次のいずれかの方法に従って行うことができる。
（ｉ）前記非磁性層の形成に際して、磁気記録媒体をテーパー状のハブに巻き取って熱処理して前記磁気テープに湾曲を付与する工程を含む方法
（ｉｉ）前記磁性層を研磨テープを用いて研磨する工程（ａ）、および回転ドラムを用いて磁性層を平滑化する工程（ｂ）から選ばれる少なくとも１つの工程と、磁気テープに巻き癖を付与する工程とを含む方法
【００７２】
前記の（ｉ）の方法は、スリッタ装置で所定のテープ幅に裁断されて、湾曲極性が正または負のいずれか一方向になるように巻き取られたパンケーキ７を、熱処理工程（図示せず）で湾曲する巻き癖を付けた後、磁気テープ巻取装置によってテープリールに巻き取ることによって行うことができる。
【００７３】
ここで、パンケーキ７および磁気テープ１の巻き癖の付与について、図５を参照しながらその一例を説明する。
まず、図５に示すように、パンケーキ７のハブ７ａの直径Ｄは、例えば、１１５ｍｍ以上とし、パンケーキ７の直径Ｃに対するハブ７ａの直径Ｄの比は、０．３〜０．９９（望ましくは、０．５０〜０．９９）とする。
そして、パンケーキ７の大きい方のエッジ（上側のエッジ）７ｂの半径Ｃ１と、小さい方のエッジ（下側のエッジ）７ｃの半径Ｃ２との上下エッジ半径の比Ｒは、磁気テープ１に付与する湾曲値Ｂに対して表１に示すような値とする。
ここで、表１は、磁気テープに湾曲値と磁気テープの上下エッジ半径の比を示す表である。
【００７４】
【表１】
【００７５】
表１に示すように、湾曲値Ｂが０．５ｍｍ／ｍのときには、パンケーキ７の上下エッジ半径の比Ｒが１．００００７であり、湾曲値Ｂが１．０ｍｍ／ｍのときには、上下エッジ半径の比Ｒが１．０００１０であり、湾曲値Ｂが２．０ｍｍ／ｍのときには、上下エッジ半径の比Ｒが１．０００３０であり、湾曲値Ｂが４．０ｍｍ／ｍのときには、上下エッジ半径の比Ｒが１．０００６０であり、湾曲値Ｂが８．０ｍｍ／ｍのときには、上下エッジ半径の比Ｒが１．００１２０である。
例えば、厚み１８ｍｍのハブ７ａのテーパ量は、表１に従い、直径が２５０ｍｍで、テーパ量は、１８μｍとすればよい。
【００７６】
次に、前記の工程によって湾曲が付与された磁気テープ１からなるパンケーキ７を、例えば、恒温槽（図示せず）などに所定時間置いて、熱処理工程（図示せず）で、湾曲値Ｂの湾曲形状を付ける。このとき、予め、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記非磁性層の上に塗布して磁性層４を形成しておくと、巻き癖を付与する工程における加圧・加熱処理において、前記フィラーの下層への沈み込みにより、前記特有の形態の表面形態を形成するために有効である。また、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含む磁性層用塗布液を用いて磁性層を形成し、前記ガラス転移温度近傍の温度で前記熱処理を行うことによって、磁気記録媒体の表面を前記特有の形態にするために有効である。
【００７７】
なお、この熱処理工程での熱処理条件は、熱処理するときの温度をＴ（℃）、熱処理する時間をｔ（Ｈ）、ｋを定数とすると、
ｔ＝ｋ×１０10×Ｔ-5
であることが好ましい。ＰＥＴの場合は、ｋ≧１が好ましい。熱処理の温度Ｔの範囲は、ベースフィルムのガラス転移温度直下の温度であり、例えば、ＰＥＴやＰＥＮであれば、４０〜６９℃で、好ましくは５５〜６５℃であり、熱処理する時間ｔは、３〜７２時間とする。また、この熱処理温度を、磁性層の成分である結合剤のガラス転移温度Ｔｇの近傍の温度にすれば、熱処理後の結合剤の復元によって、凹部による欠落信号の発生を低減できる。
【００７８】
なお、熱処理工程（図示せず）を行う装置は、例えば、恒温槽（図示せず）が利用されるが、磁気テープ１を所定の温度で一定時間熱処理することができれば、特に限定しない。また、熱処理の温度Ｔ（℃）や熱処理時間ｔ（Ｈ）は、磁気テープ１のベースフィルムの材料によって相違するため、その材料に合わせて適宜に設定すればよい。
【００７９】
また、前記（ｉｉ）の方法において、前記工程（ａ）および前記工程（ｂ）は、それぞれ単独で行ってもよいし、（ａ）および（ｂ）の順で２工程を組み合わせて行ってもよい。
【００８０】
前記磁性層４を研磨テープを用いて研磨する工程（ａ）は、研磨テープを、回転ロールによって磁気テープの送り方向と反対方向に一定の速さで移動させながら、ガイドブロックによって押圧して磁気テープの磁性層と接触させることによって行うことができる。このとき、磁気テープの巻き出し張力、研磨テープの張力を一定として処理を行う。使用する研磨テープは、例えば、ＭＡ２００００番、ＷＡ１００００番あるいはＫ１００００番の細かい研磨砥粒が表面に付着されたテープである。
【００８１】
また、回転ホイールを用いて磁性層を平滑化する工程（ｂ）は、摺動面に空気抜き用溝が刻設された回転ホイールを、磁気テープの走行方向と反対方向に一定の回転速度で回転させながら、磁気テープの磁性層に対して一定の接触角度（標準：９０度）で接触させることにより、磁性層の表面処理を行う工程である。回転ホイールは、通常、アルミニウム金属、ＳＵＳ鋼等で形成され、ホイールの表面粗さは、ベースフィルム、磁性層の材質等に応じて適宜調整される。
【００８２】
また、この工程（ｂ）の後、磁性層の汚れ、または磁性層およびバックコート層の汚れを拭き取る工程（ｃ）を行うと、好ましい。
この工程（ｃ）は、ティッシュ（不織布）、超極細繊維からなる織布（例えば、東レ社製のトレシー）を、磁気テープの送り方向と反対方向に一定の速度で送り、回転棒でそれぞれ磁気テープのバックコート層５および磁性層４の表面に押し当ててクリーニング処理を行う工程である。この工程により、スリッタ工程、工程（ａ）、工程（ｂ）等で発生した研磨屑や未反応の架橋剤が除去される。この工程（ｃ）は、可能な限り工程（ｂ）の直後で行うことが好ましい。これは、工程（ｂ）で磁性層の表面に浮き出した未反応の架橋剤等が再び磁性層に染み込まないうちに未反応の架橋剤を拭き取れるためである。
【００８３】
次に、工程（ｃ）の後、前記と同様にして、磁気テープに巻き癖を付与する工程を行う。この巻き癖を付与する工程は、前記（ｉ）の方法について説明したとおりである。
【００８４】
以上のようにして、巻き癖が付けられた磁気テープ１は、サーボライタによってサーボ信号が書き込まれる等の所定の処理が施された後、テープワインダと呼ばれる専用の磁気テープ巻取装置８によって、テープリールに所定量巻き取り、切断される。
【００８５】
以上、本発明の磁気記録媒体の実施形態として、べースフィルム（非磁性支持体）上に下塗層と磁性層とを、この順で１層ずつ形成した形態の磁気テープを例にして説明したが、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に下塗層と磁性層をこの順で交互に複数層を積層して、複数の下塗層と磁性層とを有する形態であってもよい。これによって、金属蒸着による磁性層を有する磁気記録媒体と同等の高出力を確保できる。また、１組の下塗層と磁性層と、他の組の下塗層と磁性層との間に、必要に応じて、非磁性層、潤滑層、磁性層、保護層等の層を設けてもよい。
【実施例】
【００８６】
以下、実施例によって本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例、比較例の「部」は質量部を示す。
【００８７】
実施例１〜６、比較例１〜５
下塗層用塗料、磁性層用塗料およびバックコート層用塗料の調製、ならびに磁気シートの製造を下記のようにして行った。
【００８８】
《下塗層用塗料成分》
（１）成分Ａ１の組成
酸化鉄粉末（粒径：０．１０×０．０２μｍ） ６８部
α−アルミナ（粒径：０．０５μｍ） ８部
カーボンブラック（粒径：１９ｎｍ、吸油量：２００ｇ／ｃｃ） ２４部
パルミチン酸／ステアリン酸（３／７） ２．０部
塩化ビニル共重合体（含有−SO3Na基：０．７×１０-4当量／ｇ） １０部
ポリエステルポリウレタン樹脂（Ｔｇ：４０℃、含有−SO3Na基：１×１０-4当量／ｇ）
４．４部
シクロヘキサノン ３０部
メチルエチルケトン ５０部
【００８９】
（２）成分Ａ２の組成
ステアリン酸イソオクチル １部
シクロヘキサノン ３０部
メチルエチルケトン ９０部
【００９０】
（３）成分Ａ３の処方
ポリイソシアネート ４．４部
シクロヘキサノン １０部
メチルエチルケトン １５部
トルエン １０部
【００９１】
《磁性層用塗料成分》
（１）成分Ｂ１の組成
強磁性鉄系金属粉(Ｃｏ／Ｆｅ：０．２原子比、Ｙ／(Ｆｅ＋Ｃｏ)：０．０３原子比、Ａｌ／(Ｆｅ＋Ｃｏ)：０．０５原子比、Ｃａ／Ｆｅ：０．０００１、σｓ：１５５Ａ・m2／ｋｇ、Hc：１４９．６ｋＡ／m、pH：９．４、長軸長：０．１０μｍ)
１００部
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体(Ｔｇ：８２．５℃、含有−SO3Na基 ：０．７×１０―4当量／ｇ）
１２．３部
ポリエステルポリウレタン樹脂(含有−SO3Na基：１．０×１０―4当量／ｇ)
５．５部
α−アルミナ（平均粒径：０．２μｍ） ６部
α−アルミナ（平均粒径：０．０５μｍ） ３部
カーボンブラック(平均粒径：５０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：１２０ｃｃ／１００ｇ)
１．０部
メルアシッドホスフェート ２部
ステアリン酸イソオクチル １．０部
シクロヘキサノン ７０部
メチルエチルケトン ３２０部
（２）成分Ｂ２の組成
ポリイソシアネート ２．０部
シクロヘキサノン １６７部
【００９２】
前記の下塗層用塗料成分における成分Ａ１をニーダで混練した後、成分Ａ２を加えて撹拌した。次に、撹拌混合物を、サンドミルで滞留時間を９０分として分散処理を行い、さらに成分Ａ３を加えて撹拌した後、得られた混合物を濾過して、下塗層用塗料を得た。
【００９３】
これとは別に、前記の磁性層用塗料成分における成分Ｂ１をニーダで混練した後、サンドミルで滞留時間を６０分として分散処理を行った。次に、成分Ｂ２を加えて撹拌した後、得られた混合物を濾過して、磁性塗料を得た。
【００９４】
前記の下塗層用塗料を、ポリエチレンナフタレートフイルム（厚さ５．０μｍ、長手方向のヤング率（ＭＤ）：６．５Ｇｐａ、ＭＤ／ＴＤ＝１．３、帝人（株）製）からなる支持体上に、乾燥およびカレンダ後の厚さが１．５μｍとなるように塗布・乾燥した。さらにその上に、前記の磁性塗料を磁場配向処理、乾燥、カレンダー処理後の磁性層の厚さが０．１２μｍとなるようにドライ・オン・ウエットで塗布し、磁場配向処理後、ドライヤを用いて乾燥し、磁気シートを得た。なお、磁場配向処理は、ドライヤの前方にＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を設置し、ドライヤ内で塗膜の指蝕乾燥位置の手前側５０ｃｍからＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を２基５０ｃｍ間隔で設置して行った。塗布速度は３００ｍ／分とした。
【００９５】
下記のバックコート層用塗料成分をサンドミルで滞留時間６０分として分散させた後、ポリイソシアネート１８部を加えてバックコート層用塗料を調製した。濾過した後、上記で作製した磁気シートの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ処理後の厚みが０．４μｍとなるように塗布して乾燥した。
【００９６】
《バックコート層用塗料成分》
カーボンブラック（粒径：２０ｎｍ） ８０部
カーボンブラック（粒径：２９０ｎｍ） １０部
酸化鉄（長軸長：０．１μｍ、軸比：約１０） １０部
ニトロセルロース ４５部
ポリウレタン樹脂（−ＳＯ3Ｎａ基含有） ３０部
シクロヘキサノン ２６０部
メチルエチルケトン ５２５部
テトラヒドロフラン ８０部
【００９７】
このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍの条件で鏡面化処理した。次に、磁気シートを角度１度のテーパー付きコアにパラボラ状に巻いた状態で６０℃で４８時間エージングした後、１／２インチ（１２．７ｍｍ）幅に裁断して磁気テープを得た。
【００９８】
比較例６
成分Ｂ２のポリイソシアネートの配合割合を６部とした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを製造した。
【００９９】
得られた磁気テープについて、磁性層表面の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）、窒素／鉄の存在原子比、＋湾曲率、および出力変動を、下記の方法に従って測定した。結果を表１に示す。
【０１００】
＜磁性層の表面の中心平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０の測定＞
光学式位相シフト干渉方式表面粗さ計（WYKO社製、ＨＤ−２０００）を用いて、磁性層の表面を、測定面積２５０μｍ2、長手方向に粗さ曲線を測定した。得られた粗さ曲線から、中心線平均粗さＲａを求めるとともに、磁性層の凹凸の中心値をＰ０ 、最大の凸量（第１番目の凸量）をＰ1とし、順次第２番目、第３番目、第４番目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸量を、Ｐ２ 、Ｐ３ 、Ｐ４ 、Ｐ５ 、・・・、Ｐ１９、Ｐ２０とした時の（Ｐ１−Ｐ０）と（Ｐ１−Ｐ２０）を求めた。
【０１０１】
＜ＥＳＣＡ測定＞
Ｘ線光電子分光分析装置を用い、ＭｇＫα線をＸ線源とし、強度１２ｋＶ−１０ｍＡの条件で磁性層の表面近傍のＮ／Ｆｅを測定した。測定は、塩素（２ｐ）、窒素（１ｓ）、鉄（２ｐ）の順序でそれぞれの積算回数を５回、５０回、２０回に定め、光電子スペクトル強度を計測することにより行った。なお、測定に際しては、テープから脂肪酸アミド（Ｎ含有）を除去するため、テープをヘキサン中に１６時間保存した後、真空乾燥してから測定を行った。
【０１０２】
＋湾曲率
１０００本測定したときの１ｍ定規で測定した＋湾曲率を言い、テープリールに巻装された磁気テープを巻き解き、テープの幅方向の上端を上方向に載置させた時の１ｍのテープ長の両下端と中央下端との直線からの＋０．２〜２．０ｍｍでの値の比率である。測定は２３℃、５０ＲＨ％で１時間エージング後に行った。
【０１０３】
出力変動
１０００パス走行後のテープの出力変動を測定。出力最大値からの最小値をｄＢで表示した。
【０１０４】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明の実施形態に係る磁気テープを示す模式断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る磁気テープの磁性層の表面の粗さ曲線を示す概念図である。
【図３】本発明の実施形態に係る磁気テープの湾曲率を説明する概念図である。
【図４】本発明の実施形態に係る磁気テープの製造方法におけるスリット工程を説明する図である。
【図５】本発明の実施形態に係る磁気テープの製造方法における磁気テープに巻き癖を付与する工程を説明する図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１ 磁気テープ
２ ベースフィルム
３ 下塗層
４ 磁性層
５ バックコート層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関し、特に、エラーレートが低く、オフトラックが小さく、かつ、出力変動の小さい磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＩＴ技術の進展等に伴って、情報を記録する記録媒体は、益々、高記録容量化、高記録密度化が求められている。例えば、コンピュータのデータバックアップ用の磁気テープは、コンピュータの処理速度の増大、処理する情報の大容量化、ハードディスクの高容量化等に伴って、益々、高記録容量および高記録密度化が必要となってきている。こうした磁気テープの高容量化および高記録密度化は、磁気テープ上の狭トラックピッチ化によるトラック数の増加、磁性層の薄層化、テープの全厚さの減少による１巻きあたりのテープ全長を増加させる等によって進められている。
【０００３】
一方、こうした狭トラックピッチ化および磁性層の薄層化に伴って磁性層からの漏れ磁束が小さくなるため、微小磁束でも高い再生出力が得られる磁気抵抗効果型素子を用いた再生ヘッド（例えば、ＭＲヘッド、ＧＭＲヘッド、ＴＭＲヘッド（トンネル磁気抵抗ヘッド））が用いられるようになってきている。
【０００４】
しかし、狭トラックピッチ化に伴って生じるオフトラック、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス等による出力変動およびエラーレートの増加を招く、という問題があった。
【０００５】
また、磁気テープをテープワインダ（磁気テープ巻取装置）、または、ドライブにおいて、テープリールに巻き取る際に、いわゆる巻き乱れが生じると、オフトラックによる出力変動およびエラーレートの増加の原因となることがある。これは、巻き乱れを有する磁気テープは、保管中に悪い巻き癖が付き、ドライブ内でのテープ走行精度に悪影響を与えるためである。
【特許文献１】特開２００３−３４６４５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明の目的は、前記した問題を解決し、オフトラックが小さく、エラーレートが低く、出力変動の小さいＭＲヘッド対応磁気記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、非磁性支持体と、前記非磁性支持体の一面に形成された下塗層と、前記下塗層の上に形成された磁性層と、前記非磁性支持体の他面に形成されたバックコート層とを備える磁気記録媒体であって、前記磁性層が、厚さが０．３０μｍ以下および表面の中心線平均粗さＲａが４．０ｎｍ以下であり、前記磁性層の表面について測定される粗さ曲線において、粗さ曲線の中心線をＰ０、最大の山部をＰ１、第２０番目の山部をＰ２０としたとき、中心線からの最大の山部Ｐ１の高さ（Ｐ１−Ｐ０）が２５ｎｍ以下、最大の山部Ｐ１と第２０番目の山部Ｐ２０との高さの差（Ｐ１−Ｐ２０）が５ｎｍ以下であり、かつＥＳＣＡ分析によって測定される前記磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲率が９５％以上であることを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
【０００８】
この磁気記録媒体では、磁性層の表面が前記の特有の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）を有し、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲率が９５％以上であることによって、狭トラックピッチ化、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス、磁気記録媒体の巻き乱れ等によって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートが少なく、小さい出力変動を示す磁気記録媒体を得ることができる。
【０００９】
また、請求項２に係る発明は、前記磁気記録媒体において、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによって、前記磁性層に記録された磁気記録信号が再生されることを特徴とする。
【００１０】
この磁気記録媒体では、前記のとおり、狭トラックピッチ化、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス、磁気記録媒体の巻き乱れ等によって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートが少なく、小さい出力変動を示すため、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによる磁気記録信号の再生に好適である。
【００１１】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の磁気記録媒体において、前記非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記下塗層を形成した後、その下塗層の上に磁性層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記磁性層が形成されていることを特徴とする。
【００１２】
この磁気記録媒体では、下塗層と磁性層が順次形成されることによって、より均一な下塗層および磁性層を有する磁気記録媒体を得ることができる。
【００１３】
また、請求項４に係る発明は、非磁性支持体上に下塗層を形成する工程と、磁気記録媒体をテーパー状のハブに巻き取って熱処理して前記磁気記録媒体に巻き癖を付与する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【００１４】
この磁気記録媒体の製造方法では、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成した後、加圧・加熱処理する工程と、磁気記録媒体をテーパー状のハブに巻き取って熱処理し前記磁気記録媒体に湾曲を付与することによって、磁性層の表面が前記の特有の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）を有し、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気記録媒体を製造することができる。
【００１５】
請求項５に係る発明は、前記非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記下塗層を形成する工程と、その下塗層の上に磁性層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記磁性層を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【００１６】
この磁気記録媒体の製造方法では、非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層と磁性層を順次形成することによって、より均一な下塗層および磁性層を有する磁気記録媒体を得ることができる。
【００１７】
請求項６に係る発明は、前記磁気記録媒体の製造方法において、前記磁性層は、前記下塗層の上に、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成することを特徴とする。
【００１８】
この磁気記録媒体の製造方法では、前記磁性層を、前記下塗層の上に、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して形成することが、後段の巻き癖を付与する工程における加圧・加熱処理において、前記フィラーの下層への沈み込みにより、前記特有の形態の表面形態を形成するために有効である。
【００１９】
請求項７に係る発明は、前記磁気記録媒体の製造方法において、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含み、塗膜形成後の塗膜のガラス転移温度が６０〜９０℃となるように調製された前記磁性層用塗布液を用いて磁性層を形成し、前記湾曲を付与するための熱処理を前記ガラス転移温度近傍の温度で行うことを特徴とする。
【００２０】
この磁気記録媒体の製造方法では、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含塗膜形成後の塗膜のガラス転移温度が６０〜９０℃となるように調製された前記磁性層用塗布液を用いて磁性層を形成し、前記湾曲を付与するための熱処理を前記ガラス転移温度近傍の温度で行うことが、磁気記録媒体の表面を前記特有の形態にするために有効である。
【００２１】
さらに、請求項８に係る発明は、非磁性支持体上に下塗層を形成する工程と、磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成する工程とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁性層を研磨テープを用いて研磨する工程（ａ）、および回転ドラムを用いて磁性層を平滑化する工程（ｂ）から選ばれる少なくとも１つの工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【００２２】
この磁気記録媒体の製造方法では、磁性層の表面が前記の特有の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）を有し、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気記録媒体を製造することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の磁気記録媒体は、狭トラックピッチ化、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス、磁気記録媒体の巻き乱れ等によって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートが少なく、小さい出力変動を示す。そのため、本発明の磁気記録媒体は、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによる磁気記録信号の再生に好適である。
【００２４】
また、本発明の製造方法によれば、前記特有の表面形態、および磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）、および特有の湾曲を有し、より均一な下塗層および磁性層を有する磁気記録媒体を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の磁気記録媒体およびその製造方法について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に設けられた磁性層に磁気的変化としてデータ信号を記録し、また、その磁気的変化を読み取ってデータ信号を再生することができる記録媒体である。この磁気記録媒体の形状は特に限定されるものではなく、テープ状、シート状、ディスク状等のいずれの形態であってもよい。シート状、テープ状の磁気テープでは、磁気記録再生方向がそれに直交する方向に比べて長い形態を有する。
【００２６】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、単に「実施形態」という）として、本発明を磁気テープに適用した場合について説明する。
【００２７】
図１は、本発明の実施形態に係る磁気テープを示す模式断面図である。図２は、本発明の実施形態に係る磁気テープの磁性層の表面の粗さ曲線を示す概念図である。図３は、本発明の実施形態に係る磁気テープの湾曲値を説明する概念図である。
【００２８】
図１に示す磁気テープ１は、例えば、コンピュータの記憶媒体として使用されるテープであり、主として、非磁性のベースフィルム（非磁性支持体）２と、ベースフィルム２の一面に形成された下塗層３と、下塗層３の上に形成された磁性層４と、ベースフィルム２の他面に形成されたバックコート層５とを有する。
【００２９】
ベースフィルム２は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド（特に好ましくは芳香族ポリアミド）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミド、ポリフェニルスルホン、ＢＰＯ（ポリベンゾオキサゾール）等からなる公知のフィルムが使用できる。ベースフィルムには、予めコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理等を施しても良い。なお、ベースフィルムは、加工性や機械特性および低コストが要求される場合には、ポリエステル類を用いることが望ましい。また、強度、剛性および耐熱性が要求される場合には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）よりもポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を用いることが望ましい。
【００３０】
このベースフィルム２の長手方向および幅方向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下であり、８０℃、３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。また、その破断強度は長手方向および幅方向ともに、好ましくは５〜１００ｋｇ／ｍｍ2であり、その弾性率は、長手方向および幅方向ともに、好ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ2である。
また、このベースフィルム２の厚さは、１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μｍである。特に、コンピュータの記憶媒体として使用される高記録容量の磁気テープの場合には、ベースフィルムの厚さを、４〜８μｍ程度とすることが、磁気テープの機械的強度、磁気テープ１巻き当たりの記録容量を向上するために有効である。
【００３１】
次に、下塗層３は、ベースフィルム２と磁性層４の間に形成され、ベースフィルム２と磁性層４との間の密着性を向上させる役割を有する。この下塗層３は、結合剤、カーボンブラック、酸化チタン、酸化鉄、アルミナ等の非磁性粒子などを用いて形成される。前記のカーボンブラック、非磁性粒子等は、導電性の改良、テープの剛性、磁性層４との密着性の向上、下塗層形成用塗料の塗布時の粘度調整などの各種の目的で、所定の組成に調整される。例えば、カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用でき、分散性、導電性等を考慮してその粒径および粒径分布、さらに粒子形状、含有量等を選択することができる。また、非磁性粒子は、分散性、下塗層３の強度、下塗層３中での配向性、下塗層３と磁性層４との界面の凹凸等を考慮して、針状、粒状または無定形の粒子形状、粒径、含有量を選択することができる。
【００３２】
また、下塗層３に用いる結合剤は、磁性層４と同じく公知のものが用いられる。さらに、下塗層３には、必要に応じて、帯電防止剤、潤滑剤等を含有させることができる。
【００３３】
この下塗層３の厚さは、磁気テープの耐久性、および磁気テープ１巻き当たりの記録容量の観点から、通常、０．０１〜２μｍ程度であり、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。
【００３４】
磁性層４は、磁性粉末と結合剤とを必須成分として形成され、磁気的変化としてデータ信号を記録し、また、その磁気的変化を再生ヘッドによって読み取ってデータ信号を再生することができるものである。
この磁性層４の構成成分である磁性粉末は、高密度記録を可能とするため、強磁性金属粉末または六方晶フェライト磁性粉末が好ましい。強磁性金属粉末は、例えば、Ｆｅを主体とした針状粉末であり、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｓｍ、Ｎｂ等が含まれる合金粉末が用いられる。また、Ａｌ、Ｙ等の化合物を焼結防止剤として用いることができる。
【００３５】
強磁性金属粉末の平均長軸長は１０〜１００ｎｍであることが好ましく、２０〜９０ｎｍであることがより好ましく、３０〜８０ｎｍであることがさらに好ましい。平均長軸長を１００ｎｍ以下とすることで、ノイズが低減でき、良好なサーボ信号およびデータ信号のＳＮ比が得られる。また、平均長軸長を３０ｎｍ以上とすることで良好な保持力Ｈｃが確保できる。
また、強磁性金属粉末の平均針状比は３〜１０であることが好ましく、３〜８であることがより好ましく、４〜８であることがさらに好ましい。
【００３６】
強磁性金属粉末の長軸長の変動率［（長軸長の標準偏差）／（長軸長の平均値）］は３０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。長軸長の変動率を３０％以下とすることで、長軸長の異なった磁性粒子が混在することによるノイズを低減して磁性層４に記録されるデータ信号のＳＮ比を向上できる。
【００３７】
強磁性金属粉末の飽和磁化量σｓは７０〜１５０Ａ・ｍ2／ｋｇであることが好ましく、８０〜１４０Ａ・ｍ2／ｋｇであることがより好ましく、９０〜１２５Ａ・ｍ2／ｋｇであることがさらに好ましい。また、その保磁力Ｈｃは１２７〜３５６ｋＡ／ｍであることが好ましく、１４２〜３１６ｋＡ／ｍであることがより好ましく、１５８〜２００ｋＡ／ｍであることがさらに好ましい。
【００３８】
強磁性金属粉末のＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）は、４０〜８０ｍ2／ｇであることが好ましく、より好ましくは４５〜７０ｍ2／ｇである。ＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）が４０ｍ2／ｇ以上であれば、ノイズが低減され、８０ｍ2／ｇ以下であれば、良好な表面性を得ることができる。
【００３９】
六方晶フェライト磁性粉末の場合は、Ｂａフェライトが適している。また、置換元素としてＴｉ等を含んでいても良い。六方晶フェライト磁性粉末の平均板径は１０〜５０ｎｍであることが好ましく、１５〜４５ｎｍであることがより好ましく、２０〜４０ｎｍであることがさらに好ましい。強磁性金属粉末を用いる場合と同様、平均板径を５０ｎｍ以下とすることで、ノイズが低減でき、良好なサーボ信号およびデータ信号のＳＮ比が得られる。また、平均板径を１５ｎｍ以上とすることで良好な保持力Ｈｃが確保できる。
また、六方晶フェライト磁性粉末の平均板状比は２〜７であることが好ましく、３〜５であることがより好ましい。
【００４０】
六方晶フェライト磁性粉末の板径の変動率［（板径の標準偏差）／（板径の平均値）］は３０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。板径の変動率を３０％とすることで、板径の異なった磁性粒子が混在することによるノイズを低減して磁性層４に記録されるデータ信号のＳＮ比を向上できる。
【００４１】
六方晶フェライト磁性粉末の飽和磁化量σｓは、４０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇであることが好ましく、４５〜７５Ａ・ｍ2／ｋｇであることがより好ましく、４５〜６５Ａ・ｍ2／ｋｇであることがさらに好ましい。また、その保磁力Ｈｃは１２７〜３５６ｋＡ／ｍであることが好ましく、１４２〜３１６ｋＡ／ｍであることがより好ましく、１５８〜２００ｋＡ／ｍであることがさらに好ましい。
上記粒子サイズの範囲内におけるＢＥＴ法による比表面積は１０〜２００ｍ2／ｇである。この比表面積は、概ね粒子板径と板厚からの計算値と符合する。
【００４２】
また、磁性層４に用いられる結合剤には公知のものを使用できる。例えば、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂等、またはこれらの混合物が挙げられる。また、これらの樹脂の数平均分子量は２〜１０万、好ましくは３〜８万である。なお、これらの樹脂には磁性粉末の分散性を向上させるために極性基を導入すると良い。極性基としては−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2（Ｍは水素原子またはアルカリ金属）が知られている。ここで、結合剤として、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含み、塗膜形成後の塗膜のガラス転移温度が６０〜９０℃となるように調製された前記磁性層用塗布液を用いることが、磁気記録媒体の表面を前記特有の形態にするために有効である。
【００４３】
さらに、磁性層４には、必要に応じて、フィラー、研磨剤（アルミナ、酸化クロム、弁柄、ＺｒＯ2、ダイヤモンド等）、カーボンブラック、潤滑剤等を含有させることができる。研磨剤を含有させる場合は、平均粒子サイズが１０〜３００ｎｍ、かつ、磁性層厚みの２倍以下のものが好ましく、形状は粒状、平板状、紡錘状等のものが好ましい。
【００４４】
磁性層４の厚さは、磁気テープの高記録密度化および高容量化の観点から、０．３０μｍ以下、好ましくは１０〜２５０ｎｍ、さらに好ましくは３０〜２３０ｎｍ、特に好ましくは４０〜２００ｎｍである。
【００４５】
磁性層４の表面の中心線平均粗さＲａは、エラーレートの低減に有効であることから、４．０ｎｍ以下であり、好ましくは１．０〜３．５ｎｍである。この磁性層４の表面の中心線平均粗さは、例えば、図２に示すとおり、表面粗さ測定装置によって測定された粗さ曲線から求められる（粗さ曲線Ｆを中心線で折り返し、その粗さ曲線と中心線によって得られた面積を測定長さＬで割った値（μｍ）をいう：ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４）。表面粗さ測定装置の具体例としては、ＷＹＫＯ社製 ＨＤ−２０００が挙げられる。
【００４６】
また、磁性層４は、前記磁性層４の表面Ａについて測定される粗さ曲線において、図２に示すとおり、粗さ曲線の中心線をＰ０、最大の山部をＰ１、第２０番目の山部をＰ２０としたとき、中心線からの最大の山部Ｐ１の高さ（Ｐ１−Ｐ０）が２５ｎｍ以下、好ましくは１〜２０ｎｍであり、さらに、最大の山部Ｐ１と第２０番目の山部Ｐ２０との高さの差（Ｐ１−Ｐ２０）が５ｎｍ以下であり、好ましくは０．０１〜３ｎｍである。ここで、（Ｐ１−Ｐ２０）は、図２に示す（Ｐ１−Ｐ０）と（Ｐ２０−Ｐ０）の差から求められる。（Ｐ１−Ｐ０）および（Ｐ１−Ｐ２０）がこの範囲にあることによって、磁気テープと再生ヘッドとの当たり及びスペーシングが改善されて磁気テープの走行安定性が向上し、エラーレートおよび出力変動の抑制に有効である。
【００４７】
また、磁性層４中の結合剤によって形成されるネットワーク構造（架橋構造）の目安となる表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）は、０．２以下、好ましくは０．０１〜０．１８である。この範囲にすることによって、磁性層４の表面に存在する未反応の架橋剤および結合剤に起因して、再生ヘッドおよび記録ヘッドと磁気テープとの間のスペーシングロスや摩擦係数の増大によるオフトラックを抑制し、エラーレートの増大を防止するために有効である。この磁性層４の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）は、ＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）分析によって測定される。具体的には、Ｘ線光電子分光分析装置（Ｘ−Ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＸＰＳ）を用いて、軟Ｘ線（ＡｌＫα線、ＭｇＫα線）を照射することによって磁性層４の表面から数ｎｍの深さまでの領域に存在する窒素原子と鉄原子から放出される光電子のスペクトル強度を計測することによって測定することができる。
【００４８】
また、磁性層４の保磁力Ｈｃは１２７〜３５６ｋＡ／ｍ、好ましくは１４２〜３１６ｋＡ／ｍ、さらに好ましくは１５８〜２４０ｋＡ／ｍである。Ｈｃを１２７ｋＡ／ｍ以上とすることで、高い出力が得られ、記録波長が小さくなっても反磁界の影響を低減することができる。Ｈｃが３５６ｋＡ／ｍを超えると磁気ヘッドでの記録が困難になるため、Ｈｃを３５６ｋＡ／ｍ以下とすることが好ましい。
【００４９】
さらに、磁性層４の残留磁化と厚みとの積（Ｍｒｔ）は５×１０-10〜７．５×１０-8Ｔ・ｍ、好ましくは５×１０-10〜５×１０-8Ｔ・ｍ、さらに好ましくは５×１０-10〜３×１０-8Ｔ・ｍである。Ｍｒｔを５×１０-10〜７．５×１０-8Ｔ・ｍとすることで、ＭＲ素子が飽和するのを防ぎ、ノイズを低減させることができる。
【００５０】
また、下塗層３と磁性層４との間に、非磁性粉末と結合剤とを主要成分として形成される非磁性層を介設することが望ましい。
【００５１】
この非磁性層の成分である非磁性粉末としては公知のものが使用可能で、例えば、ＴｉＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2、ＢａＳＯ4、ＺｎＯ、カーボンブラック、グラファイト、ダイヤモンド等が挙げられる。これらの中でもＴｉＯ2、α−Ｆｅ2Ｏ3が好ましく、これらとカーボンブラックを併用することがより好ましい。また、極性基が導入された樹脂を結合剤に用いる場合は、金属酸化物が分散性の点で優れる。これら非磁性粉末の平均粒子サイズ（針状の場合は平均長軸長）は１０〜３００ｎｍ、好ましくは３０〜２００ｎｍであり、形状は粒状、針状、サイコロ状、板状、紡錘状のいずれでも良い。また、非磁性粉末は必要に応じて複数種類用いられる。例えば導電性付与のために非磁性酸化物、カーボンブラック等を混合することも可能である。
【００５２】
バックコート層５は、磁気テープ１の走行耐久性向上のために、磁性層４が設けられた側と反対側のベースフィルム２上に形成される。このバックコート層５は、結合剤、およびカーボンブラックを含有するものであることが好ましい。バックコート層５は、微粒子で電気伝導性が優れたカーボンブラックを主なフィラーとし、平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラックを含有させたり、必要により無機質粉末を含有してもよい。例えば、モース硬度５〜９の無機質粉末を含有させることができる。無機質粉末のバックコート層への配合量は、カーボンブラック１００質量部に対して、通常、０．５〜１５０質量部であり、好ましくは０．５〜１００質量部である。
【００５３】
前述のように、バックコート層５には、平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラックを含有させることができる。例えば、平均粒子サイズが１５〜５０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイズが８０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを用いることができる。このように、二種類のカーボンブラックを使用することにより、バックコート層を粗面化しても磁性層４への裏写りの少ない磁気テープを得ることができる。
【００５４】
また、一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バックコート層５の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録の装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また、微粒子状カーボンブラックは、一般に潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。
【００５５】
一方、平均粒子サイズ８０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、またバックコート層５の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。
【００５６】
本発明で用いることができる微粒子状カーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙げることができる。括弧内は、平均粒子サイズを示す。ＲＥＧＡＬ ９９Ｒ（３８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化学（株）製）。
また、粗粒子カーボンブラックの具体的な商品の例としては、旭＃５１（９１ｎｍ）（旭カーボン社製）、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。平均粒子サイズ８０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、ゴム用カーボンブラックや、カラー用カーボンブラックより選択することができる。
【００５７】
本発明において、バックコート層における微粒子状カーボンブラックと粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲とすることが好ましく、さらに好ましくは、９５：５〜８５：１５である。また、バックコート層におけるカーボンブラックの含有量（二種類のカーボンブラックを使用する場合は、微粒子状カーボンブラックと粗粒子状カーボンブラックの合計量）は、結合剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲とすることができ、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。
【００５８】
バックコート層に添加することができる無機質粉末としては、平均粉体サイズが８０〜２５０ｎｍでモース硬度が５〜９の無機質粉末が挙げられる。無機質粉末としては、上述した下塗層に使用される非磁性粉末や研磨剤などと同様のものを使用することができ、中でもα−酸化鉄、α−アルミナ等を用いることが好ましい。無機質粉末のバックコート層への添加量は、結合剤１００質量部に対して、好ましくは０．５〜４０質量部の範囲であり、さらに好ましくは１〜３０質量部の範囲である。
【００５９】
バックコート層に使用する結合剤は、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂等を用いることができる。好ましい結合剤は、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース等の繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂である。その中でも、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、またはポリエステルポリウレタン樹脂を用いるのがより好ましい。
【００６０】
バックコート層には、前述の成分以外に、他の任意の成分として、分散剤、潤滑剤を添加することもできる。分散剤としては、例えば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数１２〜２２個の脂肪酸（ＲＣＯＯＨ；Ｒは炭素数１１〜１７個のアルキル基、またはアルケニル基）、前記脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる金属石けん、前記の脂肪酸エステルのフッ素を含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンは、エチレン、プロピレンなど）、硫酸エステル、銅フタロシアニン、沈降性硫酸バリウム等を使用することができる。分散剤は、結合剤樹脂１００質量部に対して、０．５〜２０質量部の範囲で添加することができる。
【００６１】
バックコート層は、その平均表面粗さＲａが、２０〜３０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２２〜２８ｎｍである。バックコート層の表面粗さは、テープが巻かれた状態でバックコート層の表面が磁性層の表面に転写されることで、再生出力に影響を与えたり、ガイドポールに対する摩擦係数に影響を与えるため、上記の範囲に調整することが好ましい。なお、この表面粗さＲａの調整は、バックコート層を形成後、カレンダーによる表面処理工程において、用いるカレンダーロールの材質、その表面性、圧力等の調整により行うことができる。このバックコート層の厚さは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍ、さらに好ましくは０．３〜０．６μｍである。
【００６２】
また、磁気テープ１には、前記の下塗層３、磁性層４、バックコート層５以外の層が含まれていても良い。例えば、第２の磁性層、クッション層、オーバーコート層、接着層、保護層を有していても良い。これらの層は、その機能を有効に発揮することができるように適切な位置に設けることができる。
【００６３】
この磁気テープ１は、１０００巻き当たりの＋湾曲率が９５％以上、好ましくは９８％以上である。この磁気テープの＋湾曲率は、図３に示すように、巻き解いた磁気テープ１を平面視して、長手方向（矢印Ａ方向）の長さのＬ（ｍ）、通常、１ｍの任意地点Ｅ，Ｆにおいて、任意地点Ｅと任意地点Ｆとを結ぶ基準線ｇから磁気テープ１の短い方のエッジ１ｃまでの距離ｄが＋０．２〜２．０ｍｍである比率をいう。このような湾曲を付与することによって、巻き乱れによって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートの少ない磁気テープを得ることができる。
【００６４】
この磁気テープは、狭トラックピッチ化、再生ヘッドと磁性層との間のスペーシングロス、磁気記録媒体の巻き乱れ等によって生じるオフトラックを抑制し、エラーレートが少なく、小さい出力変動を示すため、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによる磁気記録信号の再生に好適である。
【００６５】
この磁気テープ１の製造は、磁性層の表面が前記の特有の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）を有し、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気テープを製造できる方法であれば、特に制限されない。例えば、（１）広幅のベースフィルム原反の一面に、下塗層３および磁性層４を形成し、さらに、ベースフィルム原反の他面にバックコート層５を形成する工程、（２）ベースフィルム原反を所定の幅に裁断（スリット）して所定の幅の磁気テープ原反を製造する工程、（３）磁気テープ原反の磁性層４の表面を前記の特有の形態に形成する工程、（４）磁気テープ原反に湾曲を付与して巻き癖を付ける工程を含む方法によって、磁気テープ１を製造することができる。得られた磁気テープは、所定の長さでテープリールに巻き取られ、カートリッジ等の所定の筐体に、リール駆動機構、テープ取り出し機構等とともに収納されて使用に供される。
【００６６】
この製造方法の（１）の工程において、下塗層３の形成は、ベースフィルム原反の表面に、結合剤、非磁性粒子等の下塗層３の構成成分を、有機溶媒等の適当な溶媒に分散または溶解させて調製された塗布液を塗布・乾燥して行うことができる。また、バックコート層５の形成も、同様に、結合剤、カーボンブラックおよびその他の成分を、溶媒に分散または溶解させて調製された塗布液を塗布・乾燥して行うことができる。さらに、非磁性層を、下塗層３と磁性層４との間に設ける場合、その非磁性層の形成も同様にして行うことができる。
【００６７】
また、磁性層４は、磁性粉末、結合剤等を含む塗布液を下塗層３の上に塗布することにより形成される。また、磁性層４は、金属、合金等の強磁性材を、真空蒸着やスパッタリングなどの手段で下塗層３に被着させることにより形成することもできる。
【００６８】
磁性層を塗布液の塗布によって形成する場合、塗布の方法には、ベースフィルム原反に下塗層３を形成した後に磁性層用塗布液を塗布する方法、ベースフィルム原反上に下塗層用塗布液と磁性層用塗布液とを同時に塗布する方法等がある。下塗層３の乾燥後、磁性層用塗布液を塗布する前にカレンダ処理工程を設けてもよい。
【００６９】
次に、図４および図５を参照して、磁気テープ１の製造方法について説明する。
前記のとおり、図示しない塗布工程、配向工程、乾燥工程、カレンダ処理工程を経て製造された幅広の磁気テープ原反を、巻芯に巻き取る。
【００７０】
次に、この磁気テープ原反をスリッタ装置（図示せず）によって、図４に示すように、この磁気テープ原反６が最終的に製品化されるその製品（磁気テープカートリッジ）の規格で定められたテープ幅に裁断される。このスリット工程で所定寸法のテープ幅に裁断された各磁気テープ１は、次に、パンケーキ巻取工程で、各ハブにそれぞれ巻き取り、パンケーキにする。このパンケーキに巻き取られた磁気テープ１は、幅方向の厚さにムラがある形状で、ばらつきがあるため、もともと磁気テープ原反６のどこに位置していたかによって湾曲極性が異なる。
【００７１】
次に、（３）磁気テープ原反の磁性層４の表面を前記の特有の形態に形成する工程、（４）磁気テープ原反に巻き癖を付ける工程が行われる。この工程によって、磁性層の表面が特有の形態（中心線平均粗さＲａ、（Ｐ１―Ｐ０）、（Ｐ１―Ｐ２０））に形成され、さらに、磁性層の表面に存在する未反応の架橋剤等が除去されて、磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲が９５％以上である磁気テープを得ることができる。この（３）の工程および（４）の工程は、次のいずれかの方法に従って行うことができる。
（ｉ）前記非磁性層の形成に際して、磁気記録媒体をテーパー状のハブに巻き取って熱処理して前記磁気テープに湾曲を付与する工程を含む方法
（ｉｉ）前記磁性層を研磨テープを用いて研磨する工程（ａ）、および回転ドラムを用いて磁性層を平滑化する工程（ｂ）から選ばれる少なくとも１つの工程と、磁気テープに巻き癖を付与する工程とを含む方法
【００７２】
前記の（ｉ）の方法は、スリッタ装置で所定のテープ幅に裁断されて、湾曲極性が正または負のいずれか一方向になるように巻き取られたパンケーキ７を、熱処理工程（図示せず）で湾曲する巻き癖を付けた後、磁気テープ巻取装置によってテープリールに巻き取ることによって行うことができる。
【００７３】
ここで、パンケーキ７および磁気テープ１の巻き癖の付与について、図５を参照しながらその一例を説明する。
まず、図５に示すように、パンケーキ７のハブ７ａの直径Ｄは、例えば、１１５ｍｍ以上とし、パンケーキ７の直径Ｃに対するハブ７ａの直径Ｄの比は、０．３〜０．９９（望ましくは、０．５０〜０．９９）とする。
そして、パンケーキ７の大きい方のエッジ（上側のエッジ）７ｂの半径Ｃ１と、小さい方のエッジ（下側のエッジ）７ｃの半径Ｃ２との上下エッジ半径の比Ｒは、磁気テープ１に付与する湾曲値Ｂに対して表１に示すような値とする。
ここで、表１は、磁気テープに湾曲値と磁気テープの上下エッジ半径の比を示す表である。
【００７４】
【表１】
【００７５】
表１に示すように、湾曲値Ｂが０．５ｍｍ／ｍのときには、パンケーキ７の上下エッジ半径の比Ｒが１．００００７であり、湾曲値Ｂが１．０ｍｍ／ｍのときには、上下エッジ半径の比Ｒが１．０００１０であり、湾曲値Ｂが２．０ｍｍ／ｍのときには、上下エッジ半径の比Ｒが１．０００３０であり、湾曲値Ｂが４．０ｍｍ／ｍのときには、上下エッジ半径の比Ｒが１．０００６０であり、湾曲値Ｂが８．０ｍｍ／ｍのときには、上下エッジ半径の比Ｒが１．００１２０である。
例えば、厚み１８ｍｍのハブ７ａのテーパ量は、表１に従い、直径が２５０ｍｍで、テーパ量は、１８μｍとすればよい。
【００７６】
次に、前記の工程によって湾曲が付与された磁気テープ１からなるパンケーキ７を、例えば、恒温槽（図示せず）などに所定時間置いて、熱処理工程（図示せず）で、湾曲値Ｂの湾曲形状を付ける。このとき、予め、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記非磁性層の上に塗布して磁性層４を形成しておくと、巻き癖を付与する工程における加圧・加熱処理において、前記フィラーの下層への沈み込みにより、前記特有の形態の表面形態を形成するために有効である。また、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含む磁性層用塗布液を用いて磁性層を形成し、前記ガラス転移温度近傍の温度で前記熱処理を行うことによって、磁気記録媒体の表面を前記特有の形態にするために有効である。
【００７７】
なお、この熱処理工程での熱処理条件は、熱処理するときの温度をＴ（℃）、熱処理する時間をｔ（Ｈ）、ｋを定数とすると、
ｔ＝ｋ×１０10×Ｔ-5
であることが好ましい。ＰＥＴの場合は、ｋ≧１が好ましい。熱処理の温度Ｔの範囲は、ベースフィルムのガラス転移温度直下の温度であり、例えば、ＰＥＴやＰＥＮであれば、４０〜６９℃で、好ましくは５５〜６５℃であり、熱処理する時間ｔは、３〜７２時間とする。また、この熱処理温度を、磁性層の成分である結合剤のガラス転移温度Ｔｇの近傍の温度にすれば、熱処理後の結合剤の復元によって、凹部による欠落信号の発生を低減できる。
【００７８】
なお、熱処理工程（図示せず）を行う装置は、例えば、恒温槽（図示せず）が利用されるが、磁気テープ１を所定の温度で一定時間熱処理することができれば、特に限定しない。また、熱処理の温度Ｔ（℃）や熱処理時間ｔ（Ｈ）は、磁気テープ１のベースフィルムの材料によって相違するため、その材料に合わせて適宜に設定すればよい。
【００７９】
また、前記（ｉｉ）の方法において、前記工程（ａ）および前記工程（ｂ）は、それぞれ単独で行ってもよいし、（ａ）および（ｂ）の順で２工程を組み合わせて行ってもよい。
【００８０】
前記磁性層４を研磨テープを用いて研磨する工程（ａ）は、研磨テープを、回転ロールによって磁気テープの送り方向と反対方向に一定の速さで移動させながら、ガイドブロックによって押圧して磁気テープの磁性層と接触させることによって行うことができる。このとき、磁気テープの巻き出し張力、研磨テープの張力を一定として処理を行う。使用する研磨テープは、例えば、ＭＡ２００００番、ＷＡ１００００番あるいはＫ１００００番の細かい研磨砥粒が表面に付着されたテープである。
【００８１】
また、回転ホイールを用いて磁性層を平滑化する工程（ｂ）は、摺動面に空気抜き用溝が刻設された回転ホイールを、磁気テープの走行方向と反対方向に一定の回転速度で回転させながら、磁気テープの磁性層に対して一定の接触角度（標準：９０度）で接触させることにより、磁性層の表面処理を行う工程である。回転ホイールは、通常、アルミニウム金属、ＳＵＳ鋼等で形成され、ホイールの表面粗さは、ベースフィルム、磁性層の材質等に応じて適宜調整される。
【００８２】
また、この工程（ｂ）の後、磁性層の汚れ、または磁性層およびバックコート層の汚れを拭き取る工程（ｃ）を行うと、好ましい。
この工程（ｃ）は、ティッシュ（不織布）、超極細繊維からなる織布（例えば、東レ社製のトレシー）を、磁気テープの送り方向と反対方向に一定の速度で送り、回転棒でそれぞれ磁気テープのバックコート層５および磁性層４の表面に押し当ててクリーニング処理を行う工程である。この工程により、スリッタ工程、工程（ａ）、工程（ｂ）等で発生した研磨屑や未反応の架橋剤が除去される。この工程（ｃ）は、可能な限り工程（ｂ）の直後で行うことが好ましい。これは、工程（ｂ）で磁性層の表面に浮き出した未反応の架橋剤等が再び磁性層に染み込まないうちに未反応の架橋剤を拭き取れるためである。
【００８３】
次に、工程（ｃ）の後、前記と同様にして、磁気テープに巻き癖を付与する工程を行う。この巻き癖を付与する工程は、前記（ｉ）の方法について説明したとおりである。
【００８４】
以上のようにして、巻き癖が付けられた磁気テープ１は、サーボライタによってサーボ信号が書き込まれる等の所定の処理が施された後、テープワインダと呼ばれる専用の磁気テープ巻取装置８によって、テープリールに所定量巻き取り、切断される。
【００８５】
以上、本発明の磁気記録媒体の実施形態として、べースフィルム（非磁性支持体）上に下塗層と磁性層とを、この順で１層ずつ形成した形態の磁気テープを例にして説明したが、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に下塗層と磁性層をこの順で交互に複数層を積層して、複数の下塗層と磁性層とを有する形態であってもよい。これによって、金属蒸着による磁性層を有する磁気記録媒体と同等の高出力を確保できる。また、１組の下塗層と磁性層と、他の組の下塗層と磁性層との間に、必要に応じて、非磁性層、潤滑層、磁性層、保護層等の層を設けてもよい。
【実施例】
【００８６】
以下、実施例によって本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例、比較例の「部」は質量部を示す。
【００８７】
実施例１〜６、比較例１〜５
下塗層用塗料、磁性層用塗料およびバックコート層用塗料の調製、ならびに磁気シートの製造を下記のようにして行った。
【００８８】
《下塗層用塗料成分》
（１）成分Ａ１の組成
酸化鉄粉末（粒径：０．１０×０．０２μｍ） ６８部
α−アルミナ（粒径：０．０５μｍ） ８部
カーボンブラック（粒径：１９ｎｍ、吸油量：２００ｇ／ｃｃ） ２４部
パルミチン酸／ステアリン酸（３／７） ２．０部
塩化ビニル共重合体（含有−SO3Na基：０．７×１０-4当量／ｇ） １０部
ポリエステルポリウレタン樹脂（Ｔｇ：４０℃、含有−SO3Na基：１×１０-4当量／ｇ）
４．４部
シクロヘキサノン ３０部
メチルエチルケトン ５０部
【００８９】
（２）成分Ａ２の組成
ステアリン酸イソオクチル １部
シクロヘキサノン ３０部
メチルエチルケトン ９０部
【００９０】
（３）成分Ａ３の処方
ポリイソシアネート ４．４部
シクロヘキサノン １０部
メチルエチルケトン １５部
トルエン １０部
【００９１】
《磁性層用塗料成分》
（１）成分Ｂ１の組成
強磁性鉄系金属粉(Ｃｏ／Ｆｅ：０．２原子比、Ｙ／(Ｆｅ＋Ｃｏ)：０．０３原子比、Ａｌ／(Ｆｅ＋Ｃｏ)：０．０５原子比、Ｃａ／Ｆｅ：０．０００１、σｓ：１５５Ａ・m2／ｋｇ、Hc：１４９．６ｋＡ／m、pH：９．４、長軸長：０．１０μｍ)
１００部
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体(Ｔｇ：８２．５℃、含有−SO3Na基 ：０．７×１０―4当量／ｇ）
１２．３部
ポリエステルポリウレタン樹脂(含有−SO3Na基：１．０×１０―4当量／ｇ)
５．５部
α−アルミナ（平均粒径：０．２μｍ） ６部
α−アルミナ（平均粒径：０．０５μｍ） ３部
カーボンブラック(平均粒径：５０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：１２０ｃｃ／１００ｇ)
１．０部
メルアシッドホスフェート ２部
ステアリン酸イソオクチル １．０部
シクロヘキサノン ７０部
メチルエチルケトン ３２０部
（２）成分Ｂ２の組成
ポリイソシアネート ２．０部
シクロヘキサノン １６７部
【００９２】
前記の下塗層用塗料成分における成分Ａ１をニーダで混練した後、成分Ａ２を加えて撹拌した。次に、撹拌混合物を、サンドミルで滞留時間を９０分として分散処理を行い、さらに成分Ａ３を加えて撹拌した後、得られた混合物を濾過して、下塗層用塗料を得た。
【００９３】
これとは別に、前記の磁性層用塗料成分における成分Ｂ１をニーダで混練した後、サンドミルで滞留時間を６０分として分散処理を行った。次に、成分Ｂ２を加えて撹拌した後、得られた混合物を濾過して、磁性塗料を得た。
【００９４】
前記の下塗層用塗料を、ポリエチレンナフタレートフイルム（厚さ５．０μｍ、長手方向のヤング率（ＭＤ）：６．５Ｇｐａ、ＭＤ／ＴＤ＝１．３、帝人（株）製）からなる支持体上に、乾燥およびカレンダ後の厚さが１．５μｍとなるように塗布・乾燥した。さらにその上に、前記の磁性塗料を磁場配向処理、乾燥、カレンダー処理後の磁性層の厚さが０．１２μｍとなるようにドライ・オン・ウエットで塗布し、磁場配向処理後、ドライヤを用いて乾燥し、磁気シートを得た。なお、磁場配向処理は、ドライヤの前方にＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を設置し、ドライヤ内で塗膜の指蝕乾燥位置の手前側５０ｃｍからＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を２基５０ｃｍ間隔で設置して行った。塗布速度は３００ｍ／分とした。
【００９５】
下記のバックコート層用塗料成分をサンドミルで滞留時間６０分として分散させた後、ポリイソシアネート１８部を加えてバックコート層用塗料を調製した。濾過した後、上記で作製した磁気シートの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ処理後の厚みが０．４μｍとなるように塗布して乾燥した。
【００９６】
《バックコート層用塗料成分》
カーボンブラック（粒径：２０ｎｍ） ８０部
カーボンブラック（粒径：２９０ｎｍ） １０部
酸化鉄（長軸長：０．１μｍ、軸比：約１０） １０部
ニトロセルロース ４５部
ポリウレタン樹脂（−ＳＯ3Ｎａ基含有） ３０部
シクロヘキサノン ２６０部
メチルエチルケトン ５２５部
テトラヒドロフラン ８０部
【００９７】
このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍの条件で鏡面化処理した。次に、磁気シートを角度１度のテーパー付きコアにパラボラ状に巻いた状態で６０℃で４８時間エージングした後、１／２インチ（１２．７ｍｍ）幅に裁断して磁気テープを得た。
【００９８】
比較例６
成分Ｂ２のポリイソシアネートの配合割合を６部とした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを製造した。
【００９９】
得られた磁気テープについて、磁性層表面の形態（中心線平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０）、窒素／鉄の存在原子比、＋湾曲率、および出力変動を、下記の方法に従って測定した。結果を表１に示す。
【０１００】
＜磁性層の表面の中心平均粗さＲａ、Ｐ１−Ｐ０、Ｐ１−Ｐ２０の測定＞
光学式位相シフト干渉方式表面粗さ計（WYKO社製、ＨＤ−２０００）を用いて、磁性層の表面を、測定面積２５０μｍ2、長手方向に粗さ曲線を測定した。得られた粗さ曲線から、中心線平均粗さＲａを求めるとともに、磁性層の凹凸の中心値をＰ０ 、最大の凸量（第１番目の凸量）をＰ1とし、順次第２番目、第３番目、第４番目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸量を、Ｐ２ 、Ｐ３ 、Ｐ４ 、Ｐ５ 、・・・、Ｐ１９、Ｐ２０とした時の（Ｐ１−Ｐ０）と（Ｐ１−Ｐ２０）を求めた。
【０１０１】
＜ＥＳＣＡ測定＞
Ｘ線光電子分光分析装置を用い、ＭｇＫα線をＸ線源とし、強度１２ｋＶ−１０ｍＡの条件で磁性層の表面近傍のＮ／Ｆｅを測定した。測定は、塩素（２ｐ）、窒素（１ｓ）、鉄（２ｐ）の順序でそれぞれの積算回数を５回、５０回、２０回に定め、光電子スペクトル強度を計測することにより行った。なお、測定に際しては、テープから脂肪酸アミド（Ｎ含有）を除去するため、テープをヘキサン中に１６時間保存した後、真空乾燥してから測定を行った。
【０１０２】
＋湾曲率
１０００本測定したときの１ｍ定規で測定した＋湾曲率を言い、テープリールに巻装された磁気テープを巻き解き、テープの幅方向の上端を上方向に載置させた時の１ｍのテープ長の両下端と中央下端との直線からの＋０．２〜２．０ｍｍでの値の比率である。測定は２３℃、５０ＲＨ％で１時間エージング後に行った。
【０１０３】
出力変動
１０００パス走行後のテープの出力変動を測定。出力最大値からの最小値をｄＢで表示した。
【０１０４】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明の実施形態に係る磁気テープを示す模式断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る磁気テープの磁性層の表面の粗さ曲線を示す概念図である。
【図３】本発明の実施形態に係る磁気テープの湾曲率を説明する概念図である。
【図４】本発明の実施形態に係る磁気テープの製造方法におけるスリット工程を説明する図である。
【図５】本発明の実施形態に係る磁気テープの製造方法における磁気テープに巻き癖を付与する工程を説明する図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１ 磁気テープ
２ ベースフィルム
３ 下塗層
４ 磁性層
５ バックコート層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体と、前記非磁性支持体の一面に形成された下塗層と、前記下塗層の上に形成された磁性層と、前記非磁性支持体の他面に形成されたバックコート層とを備える磁気記録媒体であって、前記磁性層が、厚さが０．３０μｍ以下および表面の中心線平均粗さＲａが４．０ｎｍ以下であり、前記磁性層の表面について測定される粗さ曲線において、粗さ曲線の中心線をＰ０、最大の山部をＰ１、第２０番目の山部をＰ２０としたとき、中心線からの最大の山部Ｐ１の高さ（Ｐ１−Ｐ０）が２５ｎｍ以下、最大の山部Ｐ１と第２０番目の山部Ｐ２０との高さの差（Ｐ１−Ｐ２０）が５ｎｍ以下であり、かつＥＳＣＡ分析によって測定される前記磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲率が９５％以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによって、前記磁性層に記録された磁気記録信号が再生される請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記下塗層を形成した後、その下塗層の上に磁性層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記磁性層が形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
非磁性支持体上に下塗層を形成する工程と、磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成した後、加圧・加熱処理する工程と、磁気記録媒体原反をテーパー状のハブに巻き取って熱処理して前記磁気記録媒体原反に巻き癖を付与する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記下塗層を形成する工程と、その下塗層の上に磁性層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記磁性層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記磁性層は、前記下塗層の上に、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記磁性層形成用塗布液は、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含み、塗膜形成後の塗膜のガラス転移温度が６０〜９０℃となるように調製された前記磁性層用塗布液を用いて磁性層を形成し、前記湾曲を付与するための熱処理を前記ガラス転移温度近傍の温度で行うことを特徴とする請求項４または請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
非磁性支持体上に下塗層を形成する工程と、磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成する工程とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁性層を研磨テープを用いて研磨する工程（ａ）、および回転ドラムを用いて磁性層を平滑化する工程（ｂ）から選ばれる少なくとも１つの工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１】
非磁性支持体と、前記非磁性支持体の一面に形成された下塗層と、前記下塗層の上に形成された磁性層と、前記非磁性支持体の他面に形成されたバックコート層とを備える磁気記録媒体であって、前記磁性層が、厚さが０．３０μｍ以下および表面の中心線平均粗さＲａが４．０ｎｍ以下であり、前記磁性層の表面について測定される粗さ曲線において、粗さ曲線の中心線をＰ０、最大の山部をＰ１、第２０番目の山部をＰ２０としたとき、中心線からの最大の山部Ｐ１の高さ（Ｐ１−Ｐ０）が２５ｎｍ以下、最大の山部Ｐ１と第２０番目の山部Ｐ２０との高さの差（Ｐ１−Ｐ２０）が５ｎｍ以下であり、かつＥＳＣＡ分析によって測定される前記磁性層の表面近傍における窒素と鉄の存在原子比（Ｎ／Ｆｅ）が０．２以下であり、１０００巻き当たりの＋湾曲率が９５％以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによって、前記磁性層に記録された磁気記録信号が再生される請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記下塗層を形成した後、その下塗層の上に磁性層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記磁性層が形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
非磁性支持体上に下塗層を形成する工程と、磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成した後、加圧・加熱処理する工程と、磁気記録媒体原反をテーパー状のハブに巻き取って熱処理して前記磁気記録媒体原反に巻き癖を付与する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記非磁性支持体上の少なくとも一面に、下塗層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記下塗層を形成する工程と、その下塗層の上に磁性層形成用塗布液を塗布・乾燥して前記磁性層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記磁性層は、前記下塗層の上に、磁性層の厚さの２倍以下の大きさのフィラーを含む磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記磁性層形成用塗布液は、ガラス転移温度が６０〜９０℃の結合剤を含み、塗膜形成後の塗膜のガラス転移温度が６０〜９０℃となるように調製された前記磁性層用塗布液を用いて磁性層を形成し、前記湾曲を付与するための熱処理を前記ガラス転移温度近傍の温度で行うことを特徴とする請求項４または請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
非磁性支持体上に下塗層を形成する工程と、磁性層形成用塗布液を前記下塗層の上に塗布して磁性層を形成する工程とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁性層を研磨テープを用いて研磨する工程（ａ）、および回転ドラムを用いて磁性層を平滑化する工程（ｂ）から選ばれる少なくとも１つの工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−２８６１０７（Ｐ２００６−２８６１０７Ａ）
【公開日】平成１８年１０月１９日（２００６．１０．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１０５３３６（Ｐ２００５−１０５３３６）
【出願日】平成１７年３月３１日（２００５．３．３１）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１０月１９日（２００６．１０．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月３１日（２００５．３．３１）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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