磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体の製造装置
【課題】磁気転写を行うために取り付けがなされたパターン形成体に付着した異物を、検出できるようにする。
【解決手段】第１ホルダに保持された第１マスタのサーボ・パターン形成面に光を照射し且つ拡散反射する光を受光することで第１マスタのサーボ・パターン形成面を撮像し、第２ホルダに保持された第２マスタのサーボ・パターン形成面に光を照射し且つ拡散反射する光を受光することで第２マスタのサーボ・パターン形成面を撮像し、第１マスタ、第２マスタの各撮像結果から、第１マスタおよび第２のマスタの両者への異物の付着が認められない場合に、第１ホルダに保持された第１マスタと第２ホルダに保持された第２マスタとの間に磁気記録媒体を挟み込んで、第１マスタに形成された第１パターンおよび第２マスタに形成された第２パターンを磁気転写する。
【解決手段】第１ホルダに保持された第１マスタのサーボ・パターン形成面に光を照射し且つ拡散反射する光を受光することで第１マスタのサーボ・パターン形成面を撮像し、第２ホルダに保持された第２マスタのサーボ・パターン形成面に光を照射し且つ拡散反射する光を受光することで第２マスタのサーボ・パターン形成面を撮像し、第１マスタ、第２マスタの各撮像結果から、第１マスタおよび第２のマスタの両者への異物の付着が認められない場合に、第１ホルダに保持された第１マスタと第２ホルダに保持された第２マスタとの間に磁気記録媒体を挟み込んで、第１マスタに形成された第１パターンおよび第２マスタに形成された第２パターンを磁気転写する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハード・ディスク・ドライブ等に代表される磁気記録装置では、回転する磁気記録媒体に対し、磁気ヘッドを用いたデータの書き込みおよび読み取りが行われる。
この種の磁気記録装置では、磁気記録媒体上の目的とする位置に磁気ヘッドを移動させ、且つ、その位置でのデータの書き込みおよび読み取りを行わせるために、磁気ヘッドの位置決めを行っている。このため、磁気記録媒体には、予め、磁気ヘッドによって読み取られるとともに磁気ヘッドの位置決めに使用される位置決めデータが記録されている。
【０００３】
公報記載の従来技術として、磁気記録媒体に対する位置決めデータ等の記録を、所謂磁気転写方式にて行うことが提案されている（特許文献１参照）。特許文献１では、記録すべきデータに対応したパターンが形成された２枚のパターン形成体によって磁気記録媒体を挟み込んだ状態で、２枚のパターン形成体と磁気記録媒体とを挟んで一方向に向かう磁力を加えることで、磁気記録媒体に対するパターンの磁気的な転写を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３２４３１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気転写方式を用いた磁気記録媒体の製造において、パターン形成体におけるパターンの形成面に異物が付着していると、磁気転写を行う際にパターン形成体と磁気記録媒体との間に異物が挟み込まれてしまい、磁気転写後のパターン形成体および磁気記録媒体のそれぞれに、異物に起因する欠陥が生じ得る。
本発明は、磁気転写を行うために取り付けがなされたパターン形成体に付着した異物を、検出できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、下記［１］〜［１６］に係る発明が提供される。
［１］保持体に保持され且つパターンが形成されたパターン形成体に対し、パターンが形成されたパターン形成面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、パターン形成面から拡散反射する光を受光することで、パターン形成面を撮像する工程と、
パターン形成面の撮像結果に基づいてパターン形成面に対する異物の付着を判断する工程と、
判断する工程においてパターン形成面への異物の付着が認められない場合に、保持体に保持されたパターン形成体におけるパターン形成面に磁気記録媒体における記録面を接触させ、パターン形成体と接触する磁気記録媒体に対し、パターンを磁気転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
［２］磁気転写する工程では、保持体に保持されたパターン形成体におけるパターン形成面に対し相対的に進退可能に設けられる押付部材を用い、磁気記録媒体における記録面の裏面を介して、パターン形成体に対する磁気記録媒体の押し付けを行い、
撮像する工程では、押付部材における磁気記録媒体の押し付け面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、押し付け面から拡散反射する光を受光することで、押し付け面を撮像し、
判断する工程では、押し付け面の撮像結果に基づいて押し付け面に対する異物の付着を判断し、
判断する工程において押し付け面への異物の付着が認められない場合に、磁気転写する工程を実行すること
を特徴とする［１］記載の磁気記録媒体の製造方法。
［３］パターンは、パターン形成面における凹凸で構成されることを特徴とする［１］または[２]記載の磁気記録媒体の製造方法。
【０００７】
［４］第１保持体に保持され且つ第１パターンが形成された第１パターン形成体に対し、第１パターンが形成された第１形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、第１形成面から拡散反射する光を受光することで、第１形成面を撮像する工程と、
第２保持体に保持され且つ第２パターンが形成された第２パターン形成体に対し、第２パターンが形成された第２形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、第２形成面から拡散反射する光を受光することで、第２形成面を撮像する工程と、
第１形成面の撮像結果に基づく第１形成面への異物の付着と、第２形成面の撮像結果に基づく第２形成面への異物の付着とを判断する工程と、
判断する工程において第１形成面および第２形成面の両者への異物の付着が認められない場合に、第１保持体および第２保持体を相対的に移動させることで、第１パターン形成体における第１形成面と第２パターン形成体における第２形成面との間に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を挟み込み、挟み込まれた磁気記録媒体に対し、第１パターンおよび第２パターンを磁気転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
［５］判断する工程において第１形成面および第２形成面の両者への異物の付着が認められた場合に、磁気転写する工程の実行を禁止することを特徴とする［４］記載の磁気記録媒体の製造方法。
［６］第１パターン形成体における第１形成面と第２パターン形成体における第２形成面とが対峙するように第１保持体および第２保持体が配置され、
第１形成面を撮像する工程と第２形成面を撮像する工程とを、並列して実行することを特徴とする［４］または［５］記載の磁気記録媒体の製造方法。
［７］判断する工程では、
第１保持体に取り付けられた後であって磁気転写で使用される前の第１パターン形成体における第１形成面を予め撮像して得られた第１基準データと、第１形成面を撮像する工程で得られた第１撮像データとの比較に基づいて第１形成面に対する異物の付着の有無を判断し、
第２保持体に取り付けられた後であって磁気転写で使用される前の第２パターン形成体における第２形成面を予め撮像して得られた第２基準データと、第２形成面を撮像する工程で得られた第２撮像データとの比較に基づいて第２形成面に対する異物の付着の有無を判断すること
を特徴とする［４］乃至［６］のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
［８］第１パターンは第１形成面における凹凸で形成され、
第２パターンは第２形成面における凹凸で形成されること
を特徴とする［４］乃至［７］のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
【０００８】
［９］パターンがパターン形成面に形成されたパターン形成体を保持する保持体と、
保持体に保持されたパターン形成体に対し、パターン形成面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射する光照射手段と、
光照射手段にて照射され、パターン形成面にて拡散反射した光を受光することでパターン形成面を撮像する撮像手段と、
パターン形成体を保持した保持体におけるパターン形成面に磁気記録媒体における記録面を接触させ、パターン形成体と接触する磁気記録媒体に対し、パターンを磁気転写する磁気転写手段と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
［１０］パターン形成面を撮像して得られた撮像データに基づいてパターン形成面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
判断手段にてパターン形成面への異物の付着が認められない場合に、磁気転写手段による磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする［９］記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１１］保持体に保持されたパターン形成体におけるパターン形成面に対し相対的に進退可能に設けられ、磁気記録媒体における記録面の裏面を介して、パターン形成体に磁気記録媒体を押し付ける押付部材をさらに含み、
光照射手段は、押付部材における記録媒体の押し付け面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、
撮像手段は、光照射手段にて照射され、押し付け面にて拡散反射した光を受光することで押し付け面を撮像すること
を特徴とする［９］または［１０］記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１２］押し付け面を撮像して得られた撮像データに基づいて押し付け面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
判断手段にて押し付け面への異物の付着が認められない場合に、磁気転写手段による磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする［１１］記載の磁気記録媒体の製造装置。
【０００９】
［１３］第１パターンが第１形成面に形成された第１パターン形成体を保持する第１保持体と、
第２パターンが第２形成面に形成された第２パターン形成体を保持する第２保持体と、
第１保持体に保持された第１パターン形成体に対し、第１形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、且つ、第２保持体に保持された第２パターン形成体に対し、第２形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射する光照射手段と、
光照射手段にて照射され、第１形成面にて拡散反射した光を受光することで第１形成面を撮像し、且つ、光照射手段にて照射され、第２形成面にて拡散反射した光を受光することで第２形成面を撮像する撮像手段と、
第１パターン形成体を保持した第１保持体と第２パターン形成体を保持した第２保持体とを相対的に移動させることで、第１パターン形成体における第１形成面と第２パターン形成体における第２形成面との間に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を挟み込み、挟み込まれた磁気記録媒体に対し、第１パターンおよび第２パターンを磁気転写する磁気転写手段と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
［１４］第１形成面を撮像して得られた第１撮像データに基づいて第１形成面に異物が付着しているか否かを判断し、且つ、第２形成面を撮像して得られた第２撮像データに基づいて第２形成面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
判断手段にて第１形成面および第２形成面の両者への異物の付着が認められない場合に、磁気転写手段による磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする［１３］記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１５］撮像手段は、
筐体と、
筐体を第１保持体と第２保持体とに挟まれた領域と挟まれていない領域との間で移動させる移動機構と、
筐体に取り付けられ、移動機構による移動に伴って、第１保持体に保持された第１パターン形成体の第１形成面に対向配置されることで第１形成面を撮像する第１撮像部と、
筐体に取り付けられ、移動機構による移動に伴って、第２保持体に保持された第２パターン形成体の第２形成面に対向配置されることで第２形成面を撮像する第２撮像部と
を有することを特徴とする［１３］または［１４］記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１６］第１保持体に取り付けられた後であって磁気転写で使用される前の第１パターン形成体における第１形成面を予め撮像して得られた第１基準データと、第２保持体に取り付けられた後であって磁気転写で使用される前の第２パターン形成体における第２形成面を予め撮像して得られた第２基準データとを記憶する記憶手段をさらに備え、
判断手段は、記憶手段から読み出した第１基準データと第１形成面を撮像して得られた第１撮像データとの比較に基づいて第１形成面に対する異物の付着の有無を判断し、且つ、第２基準データと第２形成面を撮像して得られた第２撮像データとの比較に基づいて第２形成面に対する異物の付着の有無を判断すること
を特徴とする［１３］乃至［１５］のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、磁気転写を行うために取り付けがなされたパターン形成体に付着した異物を、検出できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施の形態が適用される磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
【図２】磁気記録媒体の断面構成の一例を示す図である。
【図３】磁気記録媒体の片面の上面図である。
【図４】本実施の形態における磁気記録媒体の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図５】磁気転写工程で用いられる磁気転写装置の上面図である。
【図６】図５に示す磁気転写装置のＶＩ−ＶＩ断面図である。
【図７】図５に示すＶＩＩ−ＶＩＩ断面すなわち受光ユニットのＹＺ断面図である。
【図８】磁気転写装置で用いられるマスタ情報記録体の構成の一例を示す図である。
【図９】磁気転写装置における制御ブロックの一例を示す図である。
【図１０】磁気転写工程の一例を示すフローチャートである。
【図１１】第１光源によって照射された光が、第１マスタにて反射し、第１受光部にて受光される様子を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される磁気記録媒体１を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
この磁気記録再生装置は、データを磁気情報として磁気的に記録する磁気記録媒体１と、磁気記録媒体１を回転駆動させる回転駆動部２と、磁気記録媒体１にデータを書き込むとともに磁気記録媒体１に記録されたデータを読み取る磁気ヘッド３と、磁気ヘッド３を搭載するキャリッジ４と、キャリッジ４を介して磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３を相対移動させるヘッド駆動部５と、外部から入力された情報を処理して得られた記録信号を磁気ヘッド３に出力し、磁気ヘッド３からの再生信号を処理して得られた情報を外部に出力する信号処理部６とを備えている。
ここで、本実施の形態では、磁気記録媒体１が円盤状の形状を有しており、後述するように、その両面にそれぞれデータを記録するための記録層が形成されている。そして、図１に示す例では、１台の磁気記録再生装置に複数（ここでは３枚）の磁気記録媒体１が取り付けられている。
【００１３】
図２は、図１に示す磁気記録媒体１の断面構成の一例を示す図である。なお、磁気記録媒体１に対するデータの記録方式には面内記録方式と垂直記録方式とが存在するが、本実施の形態では、垂直記録方式において使用される磁気記録媒体１について説明を行う。
この磁気記録媒体１は、円盤状の基板１００と、円盤状の基板１００の両面上に形成された密着層１１０と、密着層１１０の上に形成された軟磁性下地層１２０と、軟磁性下地層１２０の上に形成された配向制御層１３０と、配向制御層１３０の上に形成された非磁性下地層１４０と、非磁性下地層１４０の上に形成された垂直記録層１５０と、垂直記録層１５０の上に形成された保護層１６０と、保護層１６０の上に形成された潤滑層１７０とを備えている。そして、本実施の形態では、基板１００の両面のそれぞれに、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０、保護層１６０、および潤滑層１７０が形成されるようになっている。なお、以下の説明においては、必要に応じて、基板１００の両面に密着層１１０から保護層１６０までを積層したもの、換言すれば、基板１００に潤滑層１７０以外を形成したものを、積層基板１８０と称することがある。
【００１４】
図３は、磁気記録媒体１の片面の上面図である。また、図３には、磁気記録媒体１の表面に設けられる複数のデータ領域を模式的に示している。
本実施の形態における磁気記録媒体１は、上述したように円盤状の形状を有しており、その中央部には磁気記録媒体１の表裏を貫通する円形状の孔が形成されている。以下の説明では、磁気記録媒体１における円形状の孔の縁を内端１ａと称し、磁気記録媒体１における外周の縁を外端１ｂと称する。
【００１５】
図３に示す磁気記録媒体１の表面には、磁気ヘッド３（図１参照）を用いたデータの読み書きを行うための読み書きデータ記憶領域Ａ１と、磁気ヘッド３を用いたデータの読み書きにおいて磁気ヘッド３の位置決めに用いられるデータ（位置決めデータという）を記憶する位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。この例において、位置決めデータ記憶領域Ａ２は、磁気記録媒体１の表面に、放射状に複数設けられている。また、磁気記録媒体１の表面には、同心円状に、複数のトラックＴが設けられる。なお、図示はしていないが、図３に示す磁気記録媒体１の裏面にも、同様にして、読み書きデータ記憶領域Ａ１と位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。ただし、磁気記録媒体１の表裏面のそれぞれに設けられた位置決めデータ記憶領域Ａ２は、表裏で位置を合わせなくてもかまわない。
【００１６】
磁気記録媒体１の位置決めデータ記憶領域Ａ２には、位置決めデータとして、例えば、磁気ヘッドによる読み取り時において検出信号の利得調整に用いられるＡＧＣ（Auto Gain Control）パターン、サーボ信号の検出に用いられる検出パターン、サーボ・トラックのシリンダ情報あるいはセクタ情報の検出に用いられるアドレス・パターン、そして目的とするトラックＴに磁気ヘッドを移動させた後にそのトラックＴ上に磁気ヘッドを追従させるのに用いられるバースト・パターン（いずれも図示せず）等を含むサーボ・パターンが、磁気記録媒体１に設けられた垂直記録層１５０に磁気記録されている。
【００１７】
磁気記録媒体１に転写されるパターンには、上記のサーボ・パターンの他に、プリサーボ・パターンが含まれる。プリサーボ・パターンとは、ハード・ディスク・ドライブがサーボ・パターンを生成するために用いるパターンであり、セルフサーボ・パターンとも呼ばれる。そして、サーボ・パターンは磁気記録媒体１の両面に形成されるのに対し、プリサーボ・パターンは磁気記録媒体１の片面のみに形成すれば可能な場合がある。
【００１８】
図４は、本実施の形態における磁気記録媒体１の製造方法の一例を示すフローチャートである。
磁気記録媒体１の製造に先立ち、予め円盤状に形成されるとともに中央部に表裏を貫通する円形状の孔が形成された基板１００を準備し、予備洗浄を行った後、この基板１００に対する研磨を行う（ステップ１０１）。ステップ１０１における基板１００の研磨は、例えばダイヤモンドスラリーを用いたメカニカルポリッシュで行うことが望ましい。
【００１９】
次に、研磨が施された基板１００に対し、前洗浄を行う（ステップ１０２）。ステップ１０２における基板１００の前洗浄は、研磨が施された基板１００を、純水あるいは超純水に浸漬して超音波振動を加えながら行うことが好ましい。そして、前洗浄がなされた基板１００は、速やかにスピン法等で乾燥させることが好ましい。
【００２０】
続いて、前洗浄が施された基板１００の両面に対し、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０および保護層１６０を順次積層する成膜工程を行う（ステップ１０３）。ここで、生産性を向上させるという観点からすれば、ステップ１０３における各層の形成を、例えばそれぞれが成膜機能を備えた複数のチャンバを直列に接続したインライン式成膜装置で行うことが好ましい。また、生産性を向上させるという観点からすれば、成膜工程で形成される各層をスパッタリング法で形成することが望ましい。ただし、保護層１６０の強度を確保しつつ薄膜化するという観点からすれば、密着層１１０から垂直記録層１５０についてはスパッタリング法で形成する一方、保護層１６０についてはＣＶＤ法で形成することが好ましい。このように、前洗浄が施された基板１００に対し成膜工程を行うことで、積層基板１８０（図２参照）が得られる。
【００２１】
そして、成膜工程によって得られた積層基板１８０に対し、後洗浄を行う（ステップ１０４）。
次に、後洗浄が施された積層基板１８０に対し、潤滑剤を塗布し（ステップ１０５）、積層基板１８０に潤滑層１７０を形成する。続いて、潤滑層１７０が塗布された積層基板１８０を１００℃程度で数分間加熱するベークを行う（ステップ１０６）。これにより、潤滑層１７０に含まれる水分が揮発し、且つ、積層基板１８０の最表面側に設けられた保護層１６０と保護層１６０に接する潤滑層１７０との密着性が高まる。以上により、磁気記録媒体１が得られる。
【００２２】
次いで、ベークが施された磁気記録媒体１の両面をワイピングする（ステップ１０７）。ワイピング工程は、磁気記録媒体１の両面に付着したスパッタダスト等を拭き取るために行われる。
そして、ワイピングが施された磁気記録媒体１の両面に対しバーニッシュを行う（ステップ１０８）。
【００２３】
次に、バーニッシュが施された磁気記録媒体１に対し、初期磁化を行う（ステップ１０９）。この例では、垂直記録方式で用いられる磁気記録媒体１を対象としているため、初期磁化工程は、磁気記録媒体１の表面に垂直方向に一方向の初期直流磁界を印加することによって行われる。その際に印加する初期直流磁界は永久磁石、電磁石によって発生させることが可能であり、好ましくは、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いて発生させるのが好ましい。また、初期磁化工程は磁気記録媒体１と磁石とを非接触状態で行うことが、磁気記録媒体１の表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００２４】
ここで、本実施の形態の磁気記録媒体１における垂直記録層１５０（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３、第３磁性層１５５）の保磁力Ｈｃは、通常、３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上になっている。よって、初期磁化工程では、垂直記録層１５０の各磁性層を直流磁化することが可能な磁石を用いるとよい。
【００２５】
その後、初期磁化が施された磁気記録媒体１に対し、表面検査を行う（ステップ１１０）。表面検査工程では、初期磁化後の磁気記録媒体１の表裏面への塵埃の付着や異常突起の有無を検査する。
そして、表面検査が完了した磁気記録媒体１に対し磁気転写を行い（ステップ１１１）、磁気記録媒体１の両面または片面に位置決めデータ記憶領域Ａ２（図３参照）を設ける。
【００２６】
続いて、磁気転写が施された磁気記録媒体１に対しグライド検査を行う（ステップ１１２）。グライド検査工程では、磁気転写済の磁気記録媒体１の表面に突起物が無いかどうか、実際に磁気ヘッドを浮上走行させて検査する。磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体１をデータの書き込み（記録）および読み出し（再生）を実行する際に、磁気記録媒体１の表面に浮上量（磁気記録媒体１と磁気ヘッドとの間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッドが突起にぶつかって磁気ヘッドが損傷したり、磁気記録媒体１に欠陥が発生したりする原因となる。このため、グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００２７】
次いで、グライド検査に合格した磁気記録媒体１に対し、サーティファイ検査を行う（ステップ１１３）。サーティファイ検査工程では、通常の磁気記録再生装置と同様に、磁気記録媒体１に対して磁気ヘッドで予め決められた信号を記録した後、記録した信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体１の記録不良を検出し、磁気記録媒体１の電気特性や欠陥の有無など磁気記録媒体１の品質を確かめる。上述した方法で製造した磁気記録媒体１には、既にサーボ・パターンまたはプリサーボ・パターンが書き込まれているため、サーボ情報を用いない従来の方式でのサーティファイ検査を実施することが困難となっている。このため、本実施の形態では、磁気記録媒体１に磁気転写されたサーボ・パターンまたはプリサーボ・パターン（位置決めデータ）を利用して磁気ヘッドを特定箇所に位置づけし、データの読み書きを行う形式の検査を行う。
そして、サーティファイ検査に合格した磁気記録媒体１が、製品として出荷されることになる。
【００２８】
では、ステップ１１１の磁気転写工程について、より詳細に説明する。本実施の形態における磁気転写工程では、磁気記録媒体１の両面に対するマスタ情報記録体２００（図８参照）を用いた磁気転写と、磁気転写で使用するマスタ情報記録体２００の表面検査とを、交互に実行していることに特徴がある。
【００２９】
図５は磁気転写工程で用いられる磁気転写装置１０の上面図を示しており、図６は図５に示す磁気転写装置１０のＶＩ−ＶＩ断面図を示している。図５および図６には、磁気記録媒体１の両面にサーボ・パターンを磁気転写することのできる磁気転写装置１０を例示している。なお、以下では、図５において、図中上側から下側に向かう方向をＸ方向、図中右側から左側に向かう方向をＹ方向、図中奥側から手前側に向かう方向をＺ方向として説明を行う。
【００３０】
本実施の形態の磁気転写装置１０は、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写するための磁気転写部２０と、磁気転写部２０において磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写するのに用いられるマスタ情報記録体２００の表面状態を検査するマスタ検査部７０とを備えている。
【００３１】
これらのうち、磁気転写手段の一例としての磁気転写部２０は、図示しない基台に固定した状態で搭載され、サーボ・パターンが予め記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する第１ホルダ３０と、図示しない基台に対しＹ方向および−Ｙ方向に移動できるように配置され、サーボ・パターンが予め記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する第２ホルダ４０とを備える。また、第１ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００および第２ホルダ４０に取り付けられたマスタ情報記録体２００は、互いにサーボ・パターンの記録面を対向させた状態で配置されている。なお、以下の説明においては、第１ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００を第１マスタと称することがあり、また、第２ホルダ４０に取り付けられたマスタ情報記録体２００を第２マスタと称することがある。なお、本実施の形態では、第１ホルダ３０が第１保持体として、また、第２ホルダ４０が第２保持体として、それぞれ機能している。
【００３２】
また、マスタ情報記録体２００（第１マスタ）を保持した第１ホルダ３０背面側には、図示しない第１磁石を備えた第１磁石部材５０が配置されている。この第１磁石部材５０は、第１ホルダ３０に対向配置される第１磁石を保持する第１磁石保持部５１と、第１磁石保持部５１の背面側からＹ方向に沿って伸びる第１磁石支持部５２とを備えている。第１磁石支持部５２は、図示しない基台に対しＹ方向には固定された状態で支持され、且つ、Ｙ方向を軸として回転可能に支持されている。これにより、第１磁石支持部５２の回転に伴って、第１磁石保持部５１に保持された第１磁石が回転するようになっている。
【００３３】
一方、他のマスタ情報記録体２００（第２マスタ）を保持した第２ホルダ４０の背面側には、図示しない第２磁石を備えた第２磁石部材６０が配置されている。第２磁石部材６０は、第２ホルダ４０に対向配置される第２磁石を保持する第２磁石保持部６１と、第２磁石部材６１の背面側からＹ方向に沿って伸びる第２磁石支持部６２とを備えている。第２磁石支持部６２は、図示しない基台に対してＹ方向および−Ｙ方向に進退可能に支持され、且つＹ方向を軸として回転可能に支持されている。これにより、第２磁石支持部６２の進退に伴って第２磁石保持部６１に保持された第２磁石が進退するとともに、第２磁石支持部６２の回転に伴って第２磁石保持部６１に保持された第２磁石が回転するようになっている。
【００３４】
そして、本実施の形態では、第１磁石部材５０に設けられた第１磁石と第２磁石部材６０に設けられた第２磁石とが、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０を挟んで対向するように配置される。また、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石と第２磁石とを対向させた状態を維持しながら、ともに回転するように構成されている。
【００３５】
また、第１ホルダ３０は、第１マスタの保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、第１マスタの保持面において第１マスタの取り付け位置中央部に開口が設けられた２つの第１吸引路３１と、第１マスタの保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、第１マスタの保持面において第１マスタの取り付け位置の外側に開口が設けられた２つの第２吸引路３２とを備える。そして、第１ホルダ３０は、第１マスタの保持面において第２吸引路３２の開口よりも外側に周方向に沿って取り付けられたＯリング３３を備えている。なお、第１ホルダ３０の第１マスタの保持面での第１吸引路３１の２つの開口には、第１ホルダ３０に第１マスタを取り付けた際に、第１マスタ側に設けられた第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂ（ともに後述する図８（ａ）参照）が重ね合わされるようになっている。
【００３６】
これに対し、第２ホルダ４０は、第１ホルダ３０と対向する側の面に第２マスタを保持するとともに、その背面側には第２磁石部材６０が設けられた記録体保持部４０ａと、記録体保持部４０ａの周縁を覆うように設けられた筒状体４０ｂとを備えている。また、第２ホルダ４０は、筒状体４０ｂの内周面に周方向に沿って取り付けられ、周方向にわたって記録体保持部４０ａの外周面に接触するＯリング４１をさらに備えている。ここで、第２ホルダ４０を構成する記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂは、互いに独立して第１ホルダ３０に対し進退可能に取り付けられている。また、筒状体４０ｂの第１ホルダ３０と対向する側の端部は、第１ホルダ３０に設けられたＯリング３３に対し一周にわたって対向し且つ接触するようになっている。なお、第２ホルダ４０の記録体保持部４０ａには、第１ホルダ３０のような吸引路は設けられていない。このため、記録体保持部４０ａに取り付けられるマスタ情報記録体２００には、第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂ（ともに後述する図８（ａ）参照）を設けておく必要がない。
【００３７】
一方、マスタ検査部７０は、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタに光を照射する第１光源７１と、第２ホルダ４０に取り付けられた第２マスタに光を照射する第２光源７２と、第１光源７１にて照射され第１マスタにて反射した反射光を受光し且つ第２光源７２にて照射され第２マスタにて反射した反射光を受光する受光ユニット７３と、受光ユニット７３をＹ方向および−Ｙ方向に案内するガイドレール７４とを備えている。
【００３８】
ここで、光照射手段の一例としての第１光源７１および第２光源７２は、磁気転写部２０からみて−Ｘ方向側に固定して取り付けられており、第１光源７１は第２ホルダ４０よりも第１ホルダ３０に近い側に、第２光源７２は第１ホルダ３０よりも第２ホルダ４０に近い側に、それぞれ位置している。また、第１光源７１および第２光源７２は、それぞれ、レーザ発生装置やハロゲンランプと、Ｚ方向に伸びる棒状の導光体とを備え、Ｘ方向に向けて光を出射するロッド照明装置にて構成することができる。
【００３９】
また、ガイドレール７４は、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０の間において図示しない基台に取り付けられるようになっており、撮像手段の一例としての受光ユニット７３は、検査を行っていない場合に、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０の間から−Ｘ方向に退避することで、第１光源７１と第２光源７２との間に配置されるようになっている。なお、以下の説明では、図６に示す受光ユニット７３の位置を退避位置と称する。
【００４０】
図７は、図５に示すＶＩＩ−ＶＩＩ断面すなわち受光ユニット７３のＹＺ断面の一例を示している。
この受光ユニット７３は、直方体状の外形を有し且つＺ方向に延びる筐体の一例としての枠体８０と、枠体８０における−Ｙ方向側に取り付けられ且つＺ方向に延びる第１受光部８１と、枠体８０におけるＹ方向側に取り付けられ且つＺ方向に延びる第２受光部８２とを備えている。ここで、第１撮像部の一例としての第１受光部８１は、Ｚ方向に沿って延びる第１ロッドレンズアレイ８１ａと、第１ロッドレンズアレイ８１ａよりもＹ方向側においてＺ方向に沿って延びる第１受光素子列８１ｂとを備えている。また、第２撮像部の一例としての第２受光部８２は、Ｚ方向に沿って伸びる第２ロッドレンズアレイ８２ａと、第２ロッドレンズアレイ８２ａよりも−Ｙ方向側においてＺ方向に沿って伸びる第２受光素子列８２ｂとを備えている。ここで、第１ロッドレンズアレイ８１ａおよび第２ロッドレンズアレイ８２ａは、それぞれ、Ｚ方向に沿って複数のロッドレンズを配列したもので構成されている。また、第１受光素子列８１ｂおよび第２受光素子列８２ｂは、それぞれ、例えばＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳセンサ等の受光素子を、Ｚ方向に沿って複数配列した１次元のラインセンサで構成されている。
【００４１】
そして、受光ユニット７３のＸ方向への移動に伴い、第１受光部８１が第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタ（マスタ情報記録体２００）と対向し、且つ、第２受光部８２が第２ホルダ４０に取り付けられた第２マスタ（マスタ情報記録体２００）と対向するようになっている。
【００４２】
図８は、磁気転写装置１０で用いられるマスタ情報記録体２００（第１マスタ、第２マスタ）の構成の一例を示す図である。ここで、図８（ａ）はマスタ情報記録体２００の上面図を、また、図８（ｂ）は図８（ａ）におけるＶＩＩＩＢ−ＶＩＩＩＢ断面図を、それぞれ示している。
【００４３】
マスタ情報記録体２００は、磁気記録媒体１よりも直径が大きい円盤状の形状を有している。また、マスタ情報記録体２００の一方の面には、サーボ・パターンに対応する微細な凹凸が形成されたサーボ・パターン形成領域ＳＰが設けられている。この例において、サーボ・パターン形成領域ＳＰは、マスタ情報記録体２００の一方の面に、中央部と外縁部とを除いて、放射状に複数設けられている。なお、図６等に示す第１ホルダ３０あるいは第２ホルダ４０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際には、サーボ・パターン形成領域ＳＰを設けた面が、互いに露出した状態で対向することになる。
【００４４】
また、第１ホルダ３０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００（第１マスタ）の中央部には、上述した理由により、表裏を貫通する第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが設けられている。これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは、マスタ情報記録体２００においてサーボ・パターン形成領域ＳＰよりも内側（中心側）に設けられている。なお、第２ホルダ４０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００（第２マスタ）には、上述した理由により、これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは不要である。ここで、本実施の形態では、第１マスタとして用いられるマスタ情報記録体２００が第１パターン形成体として、第１マスタにおけるサーボ・パターン形成領域ＳＰが第１パターンとして、第１マスタにおけるサーボ・パターン領域ＳＰの形成面が第１形成面として、それぞれ機能している。他方、本実施の形態では、第２マスタとして用いられるマスタ情報記録体２００が第２パターン形成体として、第２マスタにおけるサーボ・パターンＳＰが第２パターンとして、第２マスタにおけるサーボ・パターン形成領域ＳＰの形成面が第２形成面として、それぞれ機能している。
【００４５】
次に、構造について説明すると、マスタ情報記録体２００は、円盤状の基体２０１と、この基体２０１の一方の面に形成されたマスタ磁性層２０２と、マスタ磁性層２０２の上に形成されたマスタ保護層２０３とを備えている。ここで、図８（ｂ）は、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおけるマスタ情報記録体２００の断面構成を示しており、この部位には、サーボ・パターンに対応した凸部２０４および凹部２０５が存在している。なお、マスタ情報記録体２００の一方の面のうち、サーボ・パターン形成領域ＳＰ以外の領域は、マスタ情報記録体２００と磁気記録媒体１との吸着を防ぐため、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおける凹部２０５と同じ高さとなっている。
【００４６】
マスタ情報記録体２００は公知の方法によって製造できるが、例えば次の製造方法を掲げることができる。先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。塗布後、このレジストに対し、電子線露光装置を用いて、サーボ・パターンに対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストを露光する。その後、レジストを現像し、未露光部分を除去して、シリコンウェハ上にレジストのパターンを形成する。
【００４７】
次いで、このレジストパターンをマスクとして用い、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させてマスタ情報記録体２００を作製するための原盤を得る。
【００４８】
この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数μｍ厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層を洗浄等して、表面に凸部を配設した基体２０１を得る。
【００４９】
次いで、この基体２０１の表面にマスタ磁性層２０２を形成する。このマスタ磁性層２０２については磁気記録媒体１に用いられる磁性層（第１磁性層１５１等）と同じものが使用できる。またマスタ磁性層２０２の上には磁気記録媒体１と同様にマスタ保護層２０３を形成する。このマスタ保護層２０３は、マスタ情報記録体２００の耐摩耗性すなわちマスタ情報記録体２００の転写耐久性を高めるものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等を用いることができる。以上の製造工程によってマスタ情報記録体２００を得ることができる。
なお、このようにして得られたマスタ情報記録体２００は、例えば１０万枚以上の磁気記録媒体１の製造（磁気転写）に繰り返し使用される。
【００５０】
図９は、図５等に示す磁気転写装置１０における制御ブロックの一例を示す図である。
磁気転写装置１０は、装置全体の動作を制御するためのコントローラ３００を備えている。このコントローラ３００は、第２ホルダ４０をＹ方向に進退させるためのホルダ駆動部３０１、受光ユニット７３をＸ方向に進退させるための受光ユニット駆動部３０２、第１光源７１を点灯・消灯させる第１光源駆動部３０３、第２光源７２を点灯・消灯させる第２光源駆動部３０４、第１受光素子列８１ｂを駆動する第１受光素子列駆動部３０５、第２受光素子列８２ｂを駆動する第２受光素子列駆動部３０６、磁気転写部２０に対する磁気記録媒体１の搬入・搬出を行う媒体搬送部３０７、第１ホルダ３０に設けられた第１吸引路３１および第２吸引路３２に接続された吸引機構（図示せず）を駆動する吸引駆動部３０８、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を駆動する磁石駆動部３０９に、それぞれ制御信号を出力するようになっている。ここで、本実施の形態では、受光ユニット駆動部３０２およびガイドレール７４（図５参照）が、移動機構として機能するようになっている。また、本実施の形態では、コントローラ３００が、判断手段および許可手段として機能するようになっている。
また、コントローラ３００には、第１マスタおよび第２マスタの表面検査において合否判断に使用される基準データを記憶する記憶手段の一例としての基準データ記憶部３１０が接続され、さらに、表面検査の結果を出力する表示部３１１が接続されている。なお、基準データ記憶部３１０に記憶される基準データの内容については後述する。
【００５１】
では、図５乃至図９と、図１０に示すフローチャートとを用いて、磁気転写装置１０によるステップ１１１（図４参照）の磁気転写工程（磁気記録媒体１への磁気転写および各マスタ情報記録体２００（第１マスタ、第２マスタ）の表面検査）について説明を行う。なお、初期状態において、磁気転写装置１０を構成する各部は、図５および図６に示した位置に配置されているものとする。ただし、初期状態において、磁気転写部２０に対する磁気記録媒体１の取り付けは行われていないものとする。
【００５２】
動作の開始に伴い、コントローラ３００が、サーボ・パターンの転写に先立って、マスタ検査部７０を用いて、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタおよび第２ホルダ４０に取り付けられた第２マスタの撮像を行わせる（ステップ２０１）。ここで、ステップ２０１は、第１形成面を撮像する工程と、第２形成面を撮像する工程とに対応する。
【００５３】
次に、コントローラ３００が、ステップ２０１で得られた第１マスタの撮像データに対し、基準データ記憶部３１０から読み出した第１マスタの基準データを用いて画像処理を施し、且つ、ステップ２０１で得られた第２マスタの撮像データに対し、基準データ記憶部１００から読み出した第２マスタの基準データを用いて画像処理を施す（ステップ２０２）。続いて、コントローラ３００は、第１マスタの撮像データに関する画像処理結果（以下の説明では第１処理データと称する）に基づいて第１マスタ（より詳細には第１マスタにおけるサーボ・パターン形成面）に異常が生じているか否かを判断する（ステップ２０３）。ステップ２０３において第１マスタに異常が生じていないと判断した場合、コントローラ３００は、次に、第２マスタの撮像データに関する画像処理結果（以下の説明では第２処理データと称する）に基づいて第２マスタ（より詳細には第２マスタにおけるサーボ・パターン形成面）に異常が生じているか否かを判断する（ステップ２０４）。ここで、ステップ２０３およびステップ２０４は、第１形成面の撮像結果に基づく第１形成面への異物の付着と、第２形成面の撮像結果に基づく第２形成面への異物の付着とを判断する工程と対応する。
【００５４】
ステップ２０４において第２マスタに異常が生じていないと判断した場合、すなわち、第１マスタおよび第２マスタの両者に異常が生じていないと判断した場合、コントローラ３００は、磁気転写部２０（第１マスタ、第２マスタ）を用いて、磁気記録媒体１の両面にサーボ・パターンを磁気転写させる（ステップ２０５）。ここで、ステップ２０５は、挟み込まれた磁気記録媒体に対し、第１パターンおよび第２パターンを磁気転写する工程に対応する。
【００５５】
それから、コントローラ３００は、さらに次に磁気転写を行うべき磁気記録媒体１が存在するか否かの判断を行う（ステップ２０６）。ステップ２０６において次の磁気記録媒体１が存在すると判断した場合、コントローラ３００は、ステップ２０１に戻って再び第１マスタおよび第２マスタの表面検査を実行させる。一方、ステップ２０６において次の磁気記録媒体１が存在しないと判断した場合、コントローラ３００は、一連の動作を完了させる。
【００５６】
他方、ステップ２０３において第１マスタに異常が生じていると判断した場合、および、ステップ２０４において第２マスタに異常が生じていると判断した場合、コントローラ３００は、表示部３１１に向けて制御信号（メッセージ）を出力し（ステップ２０７）、発生した異常に応じたメッセージ（『第１マスタに異常が生じています』、『第１マスタを交換してください』など）を表示部３１１に表示させる。そして、この場合において、コントローラ３００は、磁気記録媒体１に対する新たな磁気転写を行わせることなく、一連の動作を中断させる。なお、ステップ２０７においてメッセージが表示された後は、異常の発生要因となったマスタ情報記録体２００の清掃が行われた後、上述したプロセスを繰り返し行うことになる。
【００５７】
続いて、各ステップにおける磁気転写装置１０の動作について説明を行う。
まず、ステップ２０１では、第１光源駆動部３０３が第１光源７１を消灯状態から点灯状態に移行させ、且つ、第２光源駆動部３０４が第２光源７２を消灯状態から点灯状態に移行させる。次に、受光ユニット駆動部３０２が、退避位置にある受光ユニット７３を、ガイドレール７４に沿ってＸ方向に一定速度で移動させる。これに伴い、受光ユニット７３に取り付けられた第１受光部８１は、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタとの対向領域をＸ方向に沿って順次通過し、同時に、受光ユニット７３に取り付けられた第２受光部８２は、第２ホルダ４０に取り付けられた第２マスタとの対向領域をＸ方向に沿って順次通過する。この間、第１受光部８１には、第１光源７１によって照射され、第１マスタのサーボ・パターン形成面にて反射した光が順次入射し、第２受光部８２には、第２光源７２によって照射され、第２マスタのサーボ・パターン形成面にて反射した光が順次入射する。
【００５８】
より具体的に説明すると、第１受光部８１では、第１マスタからの反射光が第１ロッドレンズアレイ８１ａを通過して第１受光素子列８１ｂに集光される。このとき、第１受光素子列駆動部３０５は、受光ユニット７３のＸ方向への移動速度に応じて予め決められた間隔にて、第１受光素子列８１ｂによる受光結果をコントローラ３００に出力する。これにより、第１受光部８１は、Ｚ方向を主走査方向とする１ライン分の撮像データを、Ｘ方向を副走査方向として順次出力することになる。
【００５９】
一方、第２受光部８２では、第２マスタからの反射光が第２ロッドレンズアレイ８２ａを通過して第２受光素子列８２ｂに集光される。このとき、第２受光素子列駆動部３０６は、受光ユニット７３のＸ方向への移動速度に応じて予め決められた間隔にて、第２受光素子列８２ｂによる受光結果をコントローラ３００に出力する。これにより、第２受光部８２は、Ｚ方向を主走査方向とする１ライン分の撮像データを、Ｘ方向を副走査方向として順次出力することになる。
本実施の形態において、第１受光部８１による受光・出力動作および第２受光部８２による受光・出力動作は、並列且つ同時進行的に行われる。
【００６０】
その後、Ｘ方向に移動する受光ユニット７３が第１マスタおよび第２マスタに挟まれた領域を通過すると、第１マスタおよび第２マスタの撮像が完了する。そして、受光ユニット駆動部３０２は、撮像を完了した受光ユニット７３を、ガイドレール７４に沿って−Ｘ方向に移動させ、再び退避位置で停止させる。なお、このときの受光ユニット７３の移動速度は、撮像を行っているときの受光ユニット７３の移動速度よりも高速とすることが望ましい。また、受光ユニット７３による撮像が完了した後、第１光源駆動部３０３が第１光源７１を点灯状態から消灯状態に移行させ、且つ、第２光源駆動部３０４が第２光源７２を点灯状態から消灯状態に移行させる。
【００６１】
次に、ステップ２０２では、コントローラ３００が、第１受光部８１から主走査方向１ライン分ずつ入力されてくる第１マスタの撮像データを、副走査方向に順次配列していき、第１マスタ１枚分の撮像データ（以下の説明では第１撮像データと称する）を作成する。また、コントローラ３００は、第２受光部８２から主走査方向１ライン分ずつ入力されてくる第２マスタの撮像データを、副走査方向に順次配列していき、第２マスタ１枚分の撮像データ（以下の説明では第２撮像データと称する）を作成する。
【００６２】
さらに、コントローラ３００は、基準データ記憶部３１０に格納されていた第１マスタの基準データ（以下の説明では第１基準データと称する）を読み出す。ここで、第１基準データとは、現在使用している第１マスタが第１ホルダ３０に取り付けられた後、実際に磁気転写に使用される前の初期状態において、マスタ検査部７０（より具体的には第１光源７１および第１受光部８１）を用いて取得された第１マスタの撮像データのことをいう。そして、コントローラ３００は、第１基準データと第１撮像データとを用い、画素毎に差分を求める画像処理を実行することで、第１処理データを得る。
【００６３】
一方、コントローラ３００は、基準データ記憶部３１０に記憶されていた第２マスタの基準データ（以下の説明では第２基準データと称する）を読み出す。ここで、第２基準データとは、現在使用している第２マスタが第２ホルダ４０に取り付けられた後、実際に磁気転写に使用される前の初期状態において、マスタ検査部７０（より具体的には第２光源７２および第２受光部８２）を用いて取得された第２マスタの撮像データのことをいう。そして、コントローラ３００は、第２基準データと第２撮像データとを用い、画素毎に差分を求める画像処理を実行することで、第２処理データを得る。
【００６４】
ここで、図１１は、第１光源７１（図６参照）によって照射された光が、第１マスタ（マスタ情報記録体２００）にて反射し、第１受光部８１にて受光される様子を説明するための図である。なお、図１１（ａ）、（ｂ）は、第１マスタのサーボ・パターン形成面に埃等の異物Ｄが付着していない場合を例示しており、図１１（ａ）は図６におけるＹＺ断面を、図１１（ｂ）は図１１（ａ）において第１受光部８１側から第１マスタをみた図を、それぞれ示している。また、図１１（ｃ）、（ｄ）は、第１マスタのサーボ・パターン形成面に埃等の異物Ｄが付着している場合を例示しており、図１１（ｃ）は図６におけるＹＺ断面を、図１１（ｄ）は図１１（ｃ）において第１受光部８１側から第１マスタをみた図を、それぞれ示している。
【００６５】
本実施の形態では、第１マスタのサーボ・パターン形成面に対し、ほぼ平行に近い浅い角度で、第１光源７１からの光が照射されるようになっている。これに対し、第１受光部８１は、第１マスタのサーボ・パターン形成面に対し、第１ロッドレンズアレイ８１ａ（図７参照）の受光面が、ほぼ垂直となるように配置されている。このため、第１受光部８１は、第１光源７１にて照射され、第１マスタのサーボ・パターン形成面にて反射する光のうち、拡散反射光を受光するようになっている。なお、第１マスタのサーボ・パターン形成面と第１光源７１から照射される光との成す角度は、０°を超え４５°未満となる範囲から選択することができるが、後述するように、より小さな異物を検出可能とするためには、０°に近づけることが望ましい。
【００６６】
本実施の形態の第１マスタは、上述したように、その表面にサーボ・パターンに応じた凹凸が形成されている。このため、例えば図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、異物Ｄが付着していない状態においても、第１光源７１から斜めに入射してくる光により、凹部２０５のうち凸部２０４の背後となる領域には、凸部２０４に応じた第１の影Ｓ１が形成されることになる。一方、例えば図１１（ｃ）、（ｄ）に示すように、凹部２０５に異物Ｄが付着している場合には、第１光源７１から斜めに入射してくる光により、凹部２０５には、凸部２０４に起因する第１の影Ｓ１に加え、異物Ｄに起因する第２の影Ｓ２も形成されることになる。
【００６７】
ここで、異物Ｄは、第１マスタを磁気転写に使用することで、第１マスタと磁気記録媒体１とが接触する際に付着しやすくなることが知られている。特に、磁気転写に伴って第２ホルダ４０が移動したり、第１磁石支持部５２および第２磁石支持部６２が回転したりすることで、これらの部材に付着した埃等が、異物として第１マスタや第２マスタに付着しやすくなる事態が生じ得る。したがって、逆にみれば、交換直後の初期状態において、第１マスタのサーボ・パターン形成面に対する異物Ｄの付着は、生じにくいといえる。このため、本実施の形態では、第１基準データを、第１マスタ交換後の初期状態において予め取得しておき、第１マスタへの異物Ｄの付着を検出するためのリファレンスとして利用している。なお、このときに得られる第１基準データは、凸部２０４の存在に応じた濃淡を有するものとなる。
【００６８】
また、第１マスタに異物Ｄの付着が生じていない場合、ステップ２０１での撮像において、第１マスタには、図１１（ａ）、（ｂ）に示したように、凸部２０４に起因する第１の影Ｓ１が生じる一方、異物Ｄに起因する第２の影Ｓ２は生じない。このため、得られる第１撮像データは、第１基準データと同じく、凸部２０４の存在に応じた濃淡を有するものとなる。したがって、第１マスタに異物Ｄが付着していない場合は、第１基準データと第１撮像データとを用い、画素毎に差分を求めることで得られた第１処理データが、第１マスタの全域にわたってほぼ一定になる。
【００６９】
これに対し、第１マスタに異物Ｄの付着が生じている場合、ステップ２０１での撮像において、第１マスタには、図１１（ｃ）、（ｄ）に示したように、凸部２０４に起因する第１の影Ｓ１に加え、異物Ｄに起因する第２の影Ｓ２も生じる。このため、得られる第１撮像データは、第１基準データとは異なり、凸部２０４および異物Ｄの存在に応じた濃淡を有するものとなる。したがって、第１マスタに異物Ｄが付着している場合は、第１基準データと第１撮像データとを用い、画素毎に差分を求めることで得られた第１処理データが、第２の影Ｓ２の存在領域を除いてほぼ一定になる。逆に言えば、第２の影Ｓ２の存在領域における差分が、他の領域よりも突出することになる。
【００７０】
このため、差分の閾値を予め適切な値に設定しておくことで、ステップ２０３において、第１マスタの異常すなわち第１マスタに対する異物Ｄの付着の有無を判断することが可能になる。
また、この例では、第１マスタに対し０°を超え４５°未満となる浅い角度で第１光源７１からの光を入射させていているので、異物Ｄによって凹部２０５に形成される第２の影Ｓ２の長さを、異物Ｄの実際の高さよりも大きくすることができる。このため、第１受光部８１を用いて、第１受光素子列８１ｂの分解能よりも、実際の径が小さい異物Ｄの検出を行うことが可能になる。
なお、ここでは第１光源７１および第１受光部８１を用いて第１マスタの検査を行う場合を例に説明を行ったが、第２マスタについても、第２光源７２および第２受光部８２により、同じ手法を用いて検査を行うことができる。このとき、第２マスタのサーボ・パターン形成面と第２光源７２から照射される光との成す角度は、０°を超え４５°未満となる範囲から選択することができるが、より０°に近づけることが望ましい。
また、上述した説明においては、第１光源７１および第２光源７２から出力される光の波長について特に言及していなかったが、例えば青色光や紫外光など、より波長の短い光を用いることにより、異物Ｄの検出分解能をより高めることが可能になる。
【００７１】
また、ステップ２０５では、まず、媒体搬送部３０７が、磁気転写前の磁気記録媒体１を保持しつつ、第１ホルダ３０と第２ホルダ４０との間、より具体的には、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタと正対する位置まで搬送する。次に、吸引駆動部３０８が、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで第１ホルダ３０側に磁気記録媒体１を吸着させ、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタのサーボ・パターン形成面に磁気記録媒体１の一方の面を接触させる。そして、第１ホルダ３０側に磁気記録媒体１を吸着させてから、磁気記録媒体１の保持を解除し、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０の対向領域から退避する。
【００７２】
続いて、磁気転写部２０において、第２ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が第１ホルダ３０側に近づく方向へと移動を開始する。これに伴い、まず、筒状体４０ｂの周部端面が第１ホルダ３０に設けられたＯリング３３に突き当たった後に停止する。また、記録体保持部４０ａおよび第２磁石部材６０は、筒状体４０ｂが停止した後も第１ホルダ３０側に近づく方向へと移動を続け、第１ホルダ３０に設けられた第１マスタと可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａに設けられた第２マスタとによって磁気記録媒体１を挟み込んだ後に停止する。なお、記録体保持部４０ａの停止位置は予め決められており、その結果、第１マスタ、第２マスタおよび１枚の磁気記録媒体１には、予め設定された軽い荷重が加えられる。また、このとき、第１ホルダ３０と記録体保持部４０ａと筒状体４０ｂとの間には、第１ホルダ３０に設けられたＯリング３３と筒状体４０ｂに設けられたＯリング４１とを用いて、閉空間が形成される。続いて、第２吸引路３２を介した吸引を開始させることで、閉空間内に存在する第１マスタ、第２マスタと１枚の磁気記録媒体１との間に存在する隙間が真空引きされ、閉空間内外の差圧によって第１マスタ、第２マスタの各サーボ・パターン形成面と１枚の磁気記録媒体１の両面とがそれぞれ密着していく。
【００７３】
次に、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石支持部５２および第２磁石支持部６２を軸とし、第１マスタ、第２マスタと１枚の磁気記録媒体１とを挟んで、第１磁石および第２磁石を対向させた状態を維持しながら少なくとも１回転する。
第１磁石および第２磁石が１回転する間、第１マスタ、第２マスタに挟まれた磁気記録媒体１では、第１磁石および第２磁石により、初期磁化工程とは逆向きの直流磁界が周方向に順次印加される。すると、磁気記録媒体１のうち、第１ホルダ３０側の第１マスタと接する側では、この第１マスタの凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。また、この磁気記録媒体１のうち、第２ホルダ４０側の第２マスタと接する側でも、この第２マスタの凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。このようにして、転写前媒体の両面には、それぞれ、第１マスタ、第２マスタに設けられた凹凸の配列からなるサーボ・パターンが、磁化の向きの配列からなるサーボ・パターンとして転写される。その結果、磁気記録媒体１の位置決めデータ記憶領域Ａ２には、サーボ・パターンが記憶される。
【００７４】
このようにして磁気転写が完了すると、まず、第２吸引路３２を介した吸引を停止して閉空間内を大気圧とし、次いで、第２ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が元の位置への後退を開始する。これにより、固定ホルダ３０に保持された転写済媒体は、外部に露出した状態となる。
【００７５】
それから、媒体搬送部３０７が、第１ホルダ３０と第２ホルダ４０との間、より具体的には、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタと正対する位置まで移動して停止し、磁気転写済の磁気記録媒体１を保持する。続いて、吸引駆動部３０８が、第１吸引路３１を介した吸引を終了させることで第１ホルダ３０側への磁気記録媒体１の吸着を解除する。その後、媒体搬送部３０７が、磁気転写済の磁気記録媒体１を保持しつつ、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０の対向領域から退避する。
【００７６】
なお、本実施の形態では、それぞれ１次元のラインセンサを用いて第１マスタおよび第２マスタの撮像を行っていたが、これに限られるものではなく、例えば２次元のエリアセンサを用いるようにしてもよい。
また、本実施の形態では、第１マスタの撮像と第２マスタの撮像とを並行して行うようにしていたが、これに限られるものではなく、第１マスタの撮像と第２マスタの撮像とを順次行うようにしてもよい。
さらに、本実施の形態では、１枚の磁気記録媒体１に磁気転写を行う毎に第１マスタおよび第２マスタの検査を行うようにしていたが、これに限られるものではなく、複数枚（例えば１０枚、１００枚、…）の磁気記録媒体１に磁気転写を行う毎に第１マスタおよび第２マスタの検査を行うようにしてもよい。
【００７７】
また、本実施の形態では、第１ホルダ３０が保持するマスタ情報記録体２００（第１マスタ）と、第２ホルダ４０が保持するマスタ情報記録体２００（第２マスタ）との間に、磁気記録媒体１を挟み込むことで、磁気記録媒体１の両面にサーボ・パターン（プレサーボ・パターンを含む）等を磁気転写する例について説明を行った。ただし、これに限られるものではなく、例えば第１ホルダ３０が保持するマスタ情報記録体２００に磁気記録媒体１の片面を接触させ、この磁気記録媒体１の片面にのみサーボ・パターン等を磁気転写する構成としてもよい。この場合において、磁気記録媒体１は、例えば第２吸引路３２等を介した吸着等によってマスタ情報記録体２００に接触させるようにしてもかまわない。ただし、マスタ情報記録体２００に対する磁気記録媒体１の密着性を高めるという観点からすれば、マスタ情報記録体２００を保持する第２ホルダ４０に代えて、第１ホルダ３０に対して進退可能な平板状の押付部材を設け、第１ホルダ３０に保持されたマスタ情報記録体２００に対し、押付部材を用いて磁気記録媒体１を押し付けるようにすることが望ましい。
【００７８】
ここで、例えば前者の押付部材を有しない構成を採用した場合には、マスタ検査部７０に第２光源７２および第２受光部８２を設ける必要はなく、第１光源７１および第１受光部８２を用いてマスタ情報記録体２００の表面（サーボ・パターンの形成面）を撮像した結果に基づいて、マスタ情報記録体２００に対する異物Ｄの付着の有無を判定し、磁気記録媒体１に対する磁気転写の実行の可否を決めればよい。
【００７９】
一方、例えば後者の押付部材を有する構成を採用した場合には、第１光源７１および第１受光部８１を用いてマスタ情報記録体２００を撮像した結果に基づいて、マスタ情報記録体２００に対する異物の付着の有無を判定するとともに、第２光源７２および第２受光部８２を用いて押付部材の押し付け面（磁気記録媒体１との接触面）を撮像した結果に基づいて、押付部材に対する異物Ｄの付着の有無を判定し、磁気記録媒体１に対する磁気転写の実行の可否を決めればよい。
【符号の説明】
【００８０】
１…磁気記録媒体、１０…磁気転写装置、２０…磁気転写部、３０…第１ホルダ、４０…第２ホルダ、７０…マスタ検査部、７１…第１光源、７２…第２光源、７３…受光ユニット、８１…第１受光部、８２…第２受光部、２００…マスタ情報記録体、２０１…基体、２０２…マスタ磁性層、２０３…マスタ保護層、２０４…凸部、２０５…凹部、３００…コントローラ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハード・ディスク・ドライブ等に代表される磁気記録装置では、回転する磁気記録媒体に対し、磁気ヘッドを用いたデータの書き込みおよび読み取りが行われる。
この種の磁気記録装置では、磁気記録媒体上の目的とする位置に磁気ヘッドを移動させ、且つ、その位置でのデータの書き込みおよび読み取りを行わせるために、磁気ヘッドの位置決めを行っている。このため、磁気記録媒体には、予め、磁気ヘッドによって読み取られるとともに磁気ヘッドの位置決めに使用される位置決めデータが記録されている。
【０００３】
公報記載の従来技術として、磁気記録媒体に対する位置決めデータ等の記録を、所謂磁気転写方式にて行うことが提案されている（特許文献１参照）。特許文献１では、記録すべきデータに対応したパターンが形成された２枚のパターン形成体によって磁気記録媒体を挟み込んだ状態で、２枚のパターン形成体と磁気記録媒体とを挟んで一方向に向かう磁力を加えることで、磁気記録媒体に対するパターンの磁気的な転写を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３２４３１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気転写方式を用いた磁気記録媒体の製造において、パターン形成体におけるパターンの形成面に異物が付着していると、磁気転写を行う際にパターン形成体と磁気記録媒体との間に異物が挟み込まれてしまい、磁気転写後のパターン形成体および磁気記録媒体のそれぞれに、異物に起因する欠陥が生じ得る。
本発明は、磁気転写を行うために取り付けがなされたパターン形成体に付着した異物を、検出できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、下記［１］〜［１６］に係る発明が提供される。
［１］保持体に保持され且つパターンが形成されたパターン形成体に対し、パターンが形成されたパターン形成面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、パターン形成面から拡散反射する光を受光することで、パターン形成面を撮像する工程と、
パターン形成面の撮像結果に基づいてパターン形成面に対する異物の付着を判断する工程と、
判断する工程においてパターン形成面への異物の付着が認められない場合に、保持体に保持されたパターン形成体におけるパターン形成面に磁気記録媒体における記録面を接触させ、パターン形成体と接触する磁気記録媒体に対し、パターンを磁気転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
［２］磁気転写する工程では、保持体に保持されたパターン形成体におけるパターン形成面に対し相対的に進退可能に設けられる押付部材を用い、磁気記録媒体における記録面の裏面を介して、パターン形成体に対する磁気記録媒体の押し付けを行い、
撮像する工程では、押付部材における磁気記録媒体の押し付け面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、押し付け面から拡散反射する光を受光することで、押し付け面を撮像し、
判断する工程では、押し付け面の撮像結果に基づいて押し付け面に対する異物の付着を判断し、
判断する工程において押し付け面への異物の付着が認められない場合に、磁気転写する工程を実行すること
を特徴とする［１］記載の磁気記録媒体の製造方法。
［３］パターンは、パターン形成面における凹凸で構成されることを特徴とする［１］または[２]記載の磁気記録媒体の製造方法。
【０００７】
［４］第１保持体に保持され且つ第１パターンが形成された第１パターン形成体に対し、第１パターンが形成された第１形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、第１形成面から拡散反射する光を受光することで、第１形成面を撮像する工程と、
第２保持体に保持され且つ第２パターンが形成された第２パターン形成体に対し、第２パターンが形成された第２形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、第２形成面から拡散反射する光を受光することで、第２形成面を撮像する工程と、
第１形成面の撮像結果に基づく第１形成面への異物の付着と、第２形成面の撮像結果に基づく第２形成面への異物の付着とを判断する工程と、
判断する工程において第１形成面および第２形成面の両者への異物の付着が認められない場合に、第１保持体および第２保持体を相対的に移動させることで、第１パターン形成体における第１形成面と第２パターン形成体における第２形成面との間に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を挟み込み、挟み込まれた磁気記録媒体に対し、第１パターンおよび第２パターンを磁気転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
［５］判断する工程において第１形成面および第２形成面の両者への異物の付着が認められた場合に、磁気転写する工程の実行を禁止することを特徴とする［４］記載の磁気記録媒体の製造方法。
［６］第１パターン形成体における第１形成面と第２パターン形成体における第２形成面とが対峙するように第１保持体および第２保持体が配置され、
第１形成面を撮像する工程と第２形成面を撮像する工程とを、並列して実行することを特徴とする［４］または［５］記載の磁気記録媒体の製造方法。
［７］判断する工程では、
第１保持体に取り付けられた後であって磁気転写で使用される前の第１パターン形成体における第１形成面を予め撮像して得られた第１基準データと、第１形成面を撮像する工程で得られた第１撮像データとの比較に基づいて第１形成面に対する異物の付着の有無を判断し、
第２保持体に取り付けられた後であって磁気転写で使用される前の第２パターン形成体における第２形成面を予め撮像して得られた第２基準データと、第２形成面を撮像する工程で得られた第２撮像データとの比較に基づいて第２形成面に対する異物の付着の有無を判断すること
を特徴とする［４］乃至［６］のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
［８］第１パターンは第１形成面における凹凸で形成され、
第２パターンは第２形成面における凹凸で形成されること
を特徴とする［４］乃至［７］のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
【０００８】
［９］パターンがパターン形成面に形成されたパターン形成体を保持する保持体と、
保持体に保持されたパターン形成体に対し、パターン形成面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射する光照射手段と、
光照射手段にて照射され、パターン形成面にて拡散反射した光を受光することでパターン形成面を撮像する撮像手段と、
パターン形成体を保持した保持体におけるパターン形成面に磁気記録媒体における記録面を接触させ、パターン形成体と接触する磁気記録媒体に対し、パターンを磁気転写する磁気転写手段と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
［１０］パターン形成面を撮像して得られた撮像データに基づいてパターン形成面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
判断手段にてパターン形成面への異物の付着が認められない場合に、磁気転写手段による磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする［９］記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１１］保持体に保持されたパターン形成体におけるパターン形成面に対し相対的に進退可能に設けられ、磁気記録媒体における記録面の裏面を介して、パターン形成体に磁気記録媒体を押し付ける押付部材をさらに含み、
光照射手段は、押付部材における記録媒体の押し付け面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、
撮像手段は、光照射手段にて照射され、押し付け面にて拡散反射した光を受光することで押し付け面を撮像すること
を特徴とする［９］または［１０］記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１２］押し付け面を撮像して得られた撮像データに基づいて押し付け面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
判断手段にて押し付け面への異物の付着が認められない場合に、磁気転写手段による磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする［１１］記載の磁気記録媒体の製造装置。
【０００９】
［１３］第１パターンが第１形成面に形成された第１パターン形成体を保持する第１保持体と、
第２パターンが第２形成面に形成された第２パターン形成体を保持する第２保持体と、
第１保持体に保持された第１パターン形成体に対し、第１形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、且つ、第２保持体に保持された第２パターン形成体に対し、第２形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射する光照射手段と、
光照射手段にて照射され、第１形成面にて拡散反射した光を受光することで第１形成面を撮像し、且つ、光照射手段にて照射され、第２形成面にて拡散反射した光を受光することで第２形成面を撮像する撮像手段と、
第１パターン形成体を保持した第１保持体と第２パターン形成体を保持した第２保持体とを相対的に移動させることで、第１パターン形成体における第１形成面と第２パターン形成体における第２形成面との間に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を挟み込み、挟み込まれた磁気記録媒体に対し、第１パターンおよび第２パターンを磁気転写する磁気転写手段と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
［１４］第１形成面を撮像して得られた第１撮像データに基づいて第１形成面に異物が付着しているか否かを判断し、且つ、第２形成面を撮像して得られた第２撮像データに基づいて第２形成面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
判断手段にて第１形成面および第２形成面の両者への異物の付着が認められない場合に、磁気転写手段による磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする［１３］記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１５］撮像手段は、
筐体と、
筐体を第１保持体と第２保持体とに挟まれた領域と挟まれていない領域との間で移動させる移動機構と、
筐体に取り付けられ、移動機構による移動に伴って、第１保持体に保持された第１パターン形成体の第１形成面に対向配置されることで第１形成面を撮像する第１撮像部と、
筐体に取り付けられ、移動機構による移動に伴って、第２保持体に保持された第２パターン形成体の第２形成面に対向配置されることで第２形成面を撮像する第２撮像部と
を有することを特徴とする［１３］または［１４］記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１６］第１保持体に取り付けられた後であって磁気転写で使用される前の第１パターン形成体における第１形成面を予め撮像して得られた第１基準データと、第２保持体に取り付けられた後であって磁気転写で使用される前の第２パターン形成体における第２形成面を予め撮像して得られた第２基準データとを記憶する記憶手段をさらに備え、
判断手段は、記憶手段から読み出した第１基準データと第１形成面を撮像して得られた第１撮像データとの比較に基づいて第１形成面に対する異物の付着の有無を判断し、且つ、第２基準データと第２形成面を撮像して得られた第２撮像データとの比較に基づいて第２形成面に対する異物の付着の有無を判断すること
を特徴とする［１３］乃至［１５］のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、磁気転写を行うために取り付けがなされたパターン形成体に付着した異物を、検出できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施の形態が適用される磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
【図２】磁気記録媒体の断面構成の一例を示す図である。
【図３】磁気記録媒体の片面の上面図である。
【図４】本実施の形態における磁気記録媒体の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図５】磁気転写工程で用いられる磁気転写装置の上面図である。
【図６】図５に示す磁気転写装置のＶＩ−ＶＩ断面図である。
【図７】図５に示すＶＩＩ−ＶＩＩ断面すなわち受光ユニットのＹＺ断面図である。
【図８】磁気転写装置で用いられるマスタ情報記録体の構成の一例を示す図である。
【図９】磁気転写装置における制御ブロックの一例を示す図である。
【図１０】磁気転写工程の一例を示すフローチャートである。
【図１１】第１光源によって照射された光が、第１マスタにて反射し、第１受光部にて受光される様子を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される磁気記録媒体１を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
この磁気記録再生装置は、データを磁気情報として磁気的に記録する磁気記録媒体１と、磁気記録媒体１を回転駆動させる回転駆動部２と、磁気記録媒体１にデータを書き込むとともに磁気記録媒体１に記録されたデータを読み取る磁気ヘッド３と、磁気ヘッド３を搭載するキャリッジ４と、キャリッジ４を介して磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３を相対移動させるヘッド駆動部５と、外部から入力された情報を処理して得られた記録信号を磁気ヘッド３に出力し、磁気ヘッド３からの再生信号を処理して得られた情報を外部に出力する信号処理部６とを備えている。
ここで、本実施の形態では、磁気記録媒体１が円盤状の形状を有しており、後述するように、その両面にそれぞれデータを記録するための記録層が形成されている。そして、図１に示す例では、１台の磁気記録再生装置に複数（ここでは３枚）の磁気記録媒体１が取り付けられている。
【００１３】
図２は、図１に示す磁気記録媒体１の断面構成の一例を示す図である。なお、磁気記録媒体１に対するデータの記録方式には面内記録方式と垂直記録方式とが存在するが、本実施の形態では、垂直記録方式において使用される磁気記録媒体１について説明を行う。
この磁気記録媒体１は、円盤状の基板１００と、円盤状の基板１００の両面上に形成された密着層１１０と、密着層１１０の上に形成された軟磁性下地層１２０と、軟磁性下地層１２０の上に形成された配向制御層１３０と、配向制御層１３０の上に形成された非磁性下地層１４０と、非磁性下地層１４０の上に形成された垂直記録層１５０と、垂直記録層１５０の上に形成された保護層１６０と、保護層１６０の上に形成された潤滑層１７０とを備えている。そして、本実施の形態では、基板１００の両面のそれぞれに、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０、保護層１６０、および潤滑層１７０が形成されるようになっている。なお、以下の説明においては、必要に応じて、基板１００の両面に密着層１１０から保護層１６０までを積層したもの、換言すれば、基板１００に潤滑層１７０以外を形成したものを、積層基板１８０と称することがある。
【００１４】
図３は、磁気記録媒体１の片面の上面図である。また、図３には、磁気記録媒体１の表面に設けられる複数のデータ領域を模式的に示している。
本実施の形態における磁気記録媒体１は、上述したように円盤状の形状を有しており、その中央部には磁気記録媒体１の表裏を貫通する円形状の孔が形成されている。以下の説明では、磁気記録媒体１における円形状の孔の縁を内端１ａと称し、磁気記録媒体１における外周の縁を外端１ｂと称する。
【００１５】
図３に示す磁気記録媒体１の表面には、磁気ヘッド３（図１参照）を用いたデータの読み書きを行うための読み書きデータ記憶領域Ａ１と、磁気ヘッド３を用いたデータの読み書きにおいて磁気ヘッド３の位置決めに用いられるデータ（位置決めデータという）を記憶する位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。この例において、位置決めデータ記憶領域Ａ２は、磁気記録媒体１の表面に、放射状に複数設けられている。また、磁気記録媒体１の表面には、同心円状に、複数のトラックＴが設けられる。なお、図示はしていないが、図３に示す磁気記録媒体１の裏面にも、同様にして、読み書きデータ記憶領域Ａ１と位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。ただし、磁気記録媒体１の表裏面のそれぞれに設けられた位置決めデータ記憶領域Ａ２は、表裏で位置を合わせなくてもかまわない。
【００１６】
磁気記録媒体１の位置決めデータ記憶領域Ａ２には、位置決めデータとして、例えば、磁気ヘッドによる読み取り時において検出信号の利得調整に用いられるＡＧＣ（Auto Gain Control）パターン、サーボ信号の検出に用いられる検出パターン、サーボ・トラックのシリンダ情報あるいはセクタ情報の検出に用いられるアドレス・パターン、そして目的とするトラックＴに磁気ヘッドを移動させた後にそのトラックＴ上に磁気ヘッドを追従させるのに用いられるバースト・パターン（いずれも図示せず）等を含むサーボ・パターンが、磁気記録媒体１に設けられた垂直記録層１５０に磁気記録されている。
【００１７】
磁気記録媒体１に転写されるパターンには、上記のサーボ・パターンの他に、プリサーボ・パターンが含まれる。プリサーボ・パターンとは、ハード・ディスク・ドライブがサーボ・パターンを生成するために用いるパターンであり、セルフサーボ・パターンとも呼ばれる。そして、サーボ・パターンは磁気記録媒体１の両面に形成されるのに対し、プリサーボ・パターンは磁気記録媒体１の片面のみに形成すれば可能な場合がある。
【００１８】
図４は、本実施の形態における磁気記録媒体１の製造方法の一例を示すフローチャートである。
磁気記録媒体１の製造に先立ち、予め円盤状に形成されるとともに中央部に表裏を貫通する円形状の孔が形成された基板１００を準備し、予備洗浄を行った後、この基板１００に対する研磨を行う（ステップ１０１）。ステップ１０１における基板１００の研磨は、例えばダイヤモンドスラリーを用いたメカニカルポリッシュで行うことが望ましい。
【００１９】
次に、研磨が施された基板１００に対し、前洗浄を行う（ステップ１０２）。ステップ１０２における基板１００の前洗浄は、研磨が施された基板１００を、純水あるいは超純水に浸漬して超音波振動を加えながら行うことが好ましい。そして、前洗浄がなされた基板１００は、速やかにスピン法等で乾燥させることが好ましい。
【００２０】
続いて、前洗浄が施された基板１００の両面に対し、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０および保護層１６０を順次積層する成膜工程を行う（ステップ１０３）。ここで、生産性を向上させるという観点からすれば、ステップ１０３における各層の形成を、例えばそれぞれが成膜機能を備えた複数のチャンバを直列に接続したインライン式成膜装置で行うことが好ましい。また、生産性を向上させるという観点からすれば、成膜工程で形成される各層をスパッタリング法で形成することが望ましい。ただし、保護層１６０の強度を確保しつつ薄膜化するという観点からすれば、密着層１１０から垂直記録層１５０についてはスパッタリング法で形成する一方、保護層１６０についてはＣＶＤ法で形成することが好ましい。このように、前洗浄が施された基板１００に対し成膜工程を行うことで、積層基板１８０（図２参照）が得られる。
【００２１】
そして、成膜工程によって得られた積層基板１８０に対し、後洗浄を行う（ステップ１０４）。
次に、後洗浄が施された積層基板１８０に対し、潤滑剤を塗布し（ステップ１０５）、積層基板１８０に潤滑層１７０を形成する。続いて、潤滑層１７０が塗布された積層基板１８０を１００℃程度で数分間加熱するベークを行う（ステップ１０６）。これにより、潤滑層１７０に含まれる水分が揮発し、且つ、積層基板１８０の最表面側に設けられた保護層１６０と保護層１６０に接する潤滑層１７０との密着性が高まる。以上により、磁気記録媒体１が得られる。
【００２２】
次いで、ベークが施された磁気記録媒体１の両面をワイピングする（ステップ１０７）。ワイピング工程は、磁気記録媒体１の両面に付着したスパッタダスト等を拭き取るために行われる。
そして、ワイピングが施された磁気記録媒体１の両面に対しバーニッシュを行う（ステップ１０８）。
【００２３】
次に、バーニッシュが施された磁気記録媒体１に対し、初期磁化を行う（ステップ１０９）。この例では、垂直記録方式で用いられる磁気記録媒体１を対象としているため、初期磁化工程は、磁気記録媒体１の表面に垂直方向に一方向の初期直流磁界を印加することによって行われる。その際に印加する初期直流磁界は永久磁石、電磁石によって発生させることが可能であり、好ましくは、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いて発生させるのが好ましい。また、初期磁化工程は磁気記録媒体１と磁石とを非接触状態で行うことが、磁気記録媒体１の表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００２４】
ここで、本実施の形態の磁気記録媒体１における垂直記録層１５０（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３、第３磁性層１５５）の保磁力Ｈｃは、通常、３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上になっている。よって、初期磁化工程では、垂直記録層１５０の各磁性層を直流磁化することが可能な磁石を用いるとよい。
【００２５】
その後、初期磁化が施された磁気記録媒体１に対し、表面検査を行う（ステップ１１０）。表面検査工程では、初期磁化後の磁気記録媒体１の表裏面への塵埃の付着や異常突起の有無を検査する。
そして、表面検査が完了した磁気記録媒体１に対し磁気転写を行い（ステップ１１１）、磁気記録媒体１の両面または片面に位置決めデータ記憶領域Ａ２（図３参照）を設ける。
【００２６】
続いて、磁気転写が施された磁気記録媒体１に対しグライド検査を行う（ステップ１１２）。グライド検査工程では、磁気転写済の磁気記録媒体１の表面に突起物が無いかどうか、実際に磁気ヘッドを浮上走行させて検査する。磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体１をデータの書き込み（記録）および読み出し（再生）を実行する際に、磁気記録媒体１の表面に浮上量（磁気記録媒体１と磁気ヘッドとの間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッドが突起にぶつかって磁気ヘッドが損傷したり、磁気記録媒体１に欠陥が発生したりする原因となる。このため、グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００２７】
次いで、グライド検査に合格した磁気記録媒体１に対し、サーティファイ検査を行う（ステップ１１３）。サーティファイ検査工程では、通常の磁気記録再生装置と同様に、磁気記録媒体１に対して磁気ヘッドで予め決められた信号を記録した後、記録した信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体１の記録不良を検出し、磁気記録媒体１の電気特性や欠陥の有無など磁気記録媒体１の品質を確かめる。上述した方法で製造した磁気記録媒体１には、既にサーボ・パターンまたはプリサーボ・パターンが書き込まれているため、サーボ情報を用いない従来の方式でのサーティファイ検査を実施することが困難となっている。このため、本実施の形態では、磁気記録媒体１に磁気転写されたサーボ・パターンまたはプリサーボ・パターン（位置決めデータ）を利用して磁気ヘッドを特定箇所に位置づけし、データの読み書きを行う形式の検査を行う。
そして、サーティファイ検査に合格した磁気記録媒体１が、製品として出荷されることになる。
【００２８】
では、ステップ１１１の磁気転写工程について、より詳細に説明する。本実施の形態における磁気転写工程では、磁気記録媒体１の両面に対するマスタ情報記録体２００（図８参照）を用いた磁気転写と、磁気転写で使用するマスタ情報記録体２００の表面検査とを、交互に実行していることに特徴がある。
【００２９】
図５は磁気転写工程で用いられる磁気転写装置１０の上面図を示しており、図６は図５に示す磁気転写装置１０のＶＩ−ＶＩ断面図を示している。図５および図６には、磁気記録媒体１の両面にサーボ・パターンを磁気転写することのできる磁気転写装置１０を例示している。なお、以下では、図５において、図中上側から下側に向かう方向をＸ方向、図中右側から左側に向かう方向をＹ方向、図中奥側から手前側に向かう方向をＺ方向として説明を行う。
【００３０】
本実施の形態の磁気転写装置１０は、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写するための磁気転写部２０と、磁気転写部２０において磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写するのに用いられるマスタ情報記録体２００の表面状態を検査するマスタ検査部７０とを備えている。
【００３１】
これらのうち、磁気転写手段の一例としての磁気転写部２０は、図示しない基台に固定した状態で搭載され、サーボ・パターンが予め記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する第１ホルダ３０と、図示しない基台に対しＹ方向および−Ｙ方向に移動できるように配置され、サーボ・パターンが予め記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する第２ホルダ４０とを備える。また、第１ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００および第２ホルダ４０に取り付けられたマスタ情報記録体２００は、互いにサーボ・パターンの記録面を対向させた状態で配置されている。なお、以下の説明においては、第１ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００を第１マスタと称することがあり、また、第２ホルダ４０に取り付けられたマスタ情報記録体２００を第２マスタと称することがある。なお、本実施の形態では、第１ホルダ３０が第１保持体として、また、第２ホルダ４０が第２保持体として、それぞれ機能している。
【００３２】
また、マスタ情報記録体２００（第１マスタ）を保持した第１ホルダ３０背面側には、図示しない第１磁石を備えた第１磁石部材５０が配置されている。この第１磁石部材５０は、第１ホルダ３０に対向配置される第１磁石を保持する第１磁石保持部５１と、第１磁石保持部５１の背面側からＹ方向に沿って伸びる第１磁石支持部５２とを備えている。第１磁石支持部５２は、図示しない基台に対しＹ方向には固定された状態で支持され、且つ、Ｙ方向を軸として回転可能に支持されている。これにより、第１磁石支持部５２の回転に伴って、第１磁石保持部５１に保持された第１磁石が回転するようになっている。
【００３３】
一方、他のマスタ情報記録体２００（第２マスタ）を保持した第２ホルダ４０の背面側には、図示しない第２磁石を備えた第２磁石部材６０が配置されている。第２磁石部材６０は、第２ホルダ４０に対向配置される第２磁石を保持する第２磁石保持部６１と、第２磁石部材６１の背面側からＹ方向に沿って伸びる第２磁石支持部６２とを備えている。第２磁石支持部６２は、図示しない基台に対してＹ方向および−Ｙ方向に進退可能に支持され、且つＹ方向を軸として回転可能に支持されている。これにより、第２磁石支持部６２の進退に伴って第２磁石保持部６１に保持された第２磁石が進退するとともに、第２磁石支持部６２の回転に伴って第２磁石保持部６１に保持された第２磁石が回転するようになっている。
【００３４】
そして、本実施の形態では、第１磁石部材５０に設けられた第１磁石と第２磁石部材６０に設けられた第２磁石とが、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０を挟んで対向するように配置される。また、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石と第２磁石とを対向させた状態を維持しながら、ともに回転するように構成されている。
【００３５】
また、第１ホルダ３０は、第１マスタの保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、第１マスタの保持面において第１マスタの取り付け位置中央部に開口が設けられた２つの第１吸引路３１と、第１マスタの保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、第１マスタの保持面において第１マスタの取り付け位置の外側に開口が設けられた２つの第２吸引路３２とを備える。そして、第１ホルダ３０は、第１マスタの保持面において第２吸引路３２の開口よりも外側に周方向に沿って取り付けられたＯリング３３を備えている。なお、第１ホルダ３０の第１マスタの保持面での第１吸引路３１の２つの開口には、第１ホルダ３０に第１マスタを取り付けた際に、第１マスタ側に設けられた第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂ（ともに後述する図８（ａ）参照）が重ね合わされるようになっている。
【００３６】
これに対し、第２ホルダ４０は、第１ホルダ３０と対向する側の面に第２マスタを保持するとともに、その背面側には第２磁石部材６０が設けられた記録体保持部４０ａと、記録体保持部４０ａの周縁を覆うように設けられた筒状体４０ｂとを備えている。また、第２ホルダ４０は、筒状体４０ｂの内周面に周方向に沿って取り付けられ、周方向にわたって記録体保持部４０ａの外周面に接触するＯリング４１をさらに備えている。ここで、第２ホルダ４０を構成する記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂは、互いに独立して第１ホルダ３０に対し進退可能に取り付けられている。また、筒状体４０ｂの第１ホルダ３０と対向する側の端部は、第１ホルダ３０に設けられたＯリング３３に対し一周にわたって対向し且つ接触するようになっている。なお、第２ホルダ４０の記録体保持部４０ａには、第１ホルダ３０のような吸引路は設けられていない。このため、記録体保持部４０ａに取り付けられるマスタ情報記録体２００には、第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂ（ともに後述する図８（ａ）参照）を設けておく必要がない。
【００３７】
一方、マスタ検査部７０は、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタに光を照射する第１光源７１と、第２ホルダ４０に取り付けられた第２マスタに光を照射する第２光源７２と、第１光源７１にて照射され第１マスタにて反射した反射光を受光し且つ第２光源７２にて照射され第２マスタにて反射した反射光を受光する受光ユニット７３と、受光ユニット７３をＹ方向および−Ｙ方向に案内するガイドレール７４とを備えている。
【００３８】
ここで、光照射手段の一例としての第１光源７１および第２光源７２は、磁気転写部２０からみて−Ｘ方向側に固定して取り付けられており、第１光源７１は第２ホルダ４０よりも第１ホルダ３０に近い側に、第２光源７２は第１ホルダ３０よりも第２ホルダ４０に近い側に、それぞれ位置している。また、第１光源７１および第２光源７２は、それぞれ、レーザ発生装置やハロゲンランプと、Ｚ方向に伸びる棒状の導光体とを備え、Ｘ方向に向けて光を出射するロッド照明装置にて構成することができる。
【００３９】
また、ガイドレール７４は、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０の間において図示しない基台に取り付けられるようになっており、撮像手段の一例としての受光ユニット７３は、検査を行っていない場合に、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０の間から−Ｘ方向に退避することで、第１光源７１と第２光源７２との間に配置されるようになっている。なお、以下の説明では、図６に示す受光ユニット７３の位置を退避位置と称する。
【００４０】
図７は、図５に示すＶＩＩ−ＶＩＩ断面すなわち受光ユニット７３のＹＺ断面の一例を示している。
この受光ユニット７３は、直方体状の外形を有し且つＺ方向に延びる筐体の一例としての枠体８０と、枠体８０における−Ｙ方向側に取り付けられ且つＺ方向に延びる第１受光部８１と、枠体８０におけるＹ方向側に取り付けられ且つＺ方向に延びる第２受光部８２とを備えている。ここで、第１撮像部の一例としての第１受光部８１は、Ｚ方向に沿って延びる第１ロッドレンズアレイ８１ａと、第１ロッドレンズアレイ８１ａよりもＹ方向側においてＺ方向に沿って延びる第１受光素子列８１ｂとを備えている。また、第２撮像部の一例としての第２受光部８２は、Ｚ方向に沿って伸びる第２ロッドレンズアレイ８２ａと、第２ロッドレンズアレイ８２ａよりも−Ｙ方向側においてＺ方向に沿って伸びる第２受光素子列８２ｂとを備えている。ここで、第１ロッドレンズアレイ８１ａおよび第２ロッドレンズアレイ８２ａは、それぞれ、Ｚ方向に沿って複数のロッドレンズを配列したもので構成されている。また、第１受光素子列８１ｂおよび第２受光素子列８２ｂは、それぞれ、例えばＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳセンサ等の受光素子を、Ｚ方向に沿って複数配列した１次元のラインセンサで構成されている。
【００４１】
そして、受光ユニット７３のＸ方向への移動に伴い、第１受光部８１が第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタ（マスタ情報記録体２００）と対向し、且つ、第２受光部８２が第２ホルダ４０に取り付けられた第２マスタ（マスタ情報記録体２００）と対向するようになっている。
【００４２】
図８は、磁気転写装置１０で用いられるマスタ情報記録体２００（第１マスタ、第２マスタ）の構成の一例を示す図である。ここで、図８（ａ）はマスタ情報記録体２００の上面図を、また、図８（ｂ）は図８（ａ）におけるＶＩＩＩＢ−ＶＩＩＩＢ断面図を、それぞれ示している。
【００４３】
マスタ情報記録体２００は、磁気記録媒体１よりも直径が大きい円盤状の形状を有している。また、マスタ情報記録体２００の一方の面には、サーボ・パターンに対応する微細な凹凸が形成されたサーボ・パターン形成領域ＳＰが設けられている。この例において、サーボ・パターン形成領域ＳＰは、マスタ情報記録体２００の一方の面に、中央部と外縁部とを除いて、放射状に複数設けられている。なお、図６等に示す第１ホルダ３０あるいは第２ホルダ４０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際には、サーボ・パターン形成領域ＳＰを設けた面が、互いに露出した状態で対向することになる。
【００４４】
また、第１ホルダ３０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００（第１マスタ）の中央部には、上述した理由により、表裏を貫通する第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが設けられている。これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは、マスタ情報記録体２００においてサーボ・パターン形成領域ＳＰよりも内側（中心側）に設けられている。なお、第２ホルダ４０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００（第２マスタ）には、上述した理由により、これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは不要である。ここで、本実施の形態では、第１マスタとして用いられるマスタ情報記録体２００が第１パターン形成体として、第１マスタにおけるサーボ・パターン形成領域ＳＰが第１パターンとして、第１マスタにおけるサーボ・パターン領域ＳＰの形成面が第１形成面として、それぞれ機能している。他方、本実施の形態では、第２マスタとして用いられるマスタ情報記録体２００が第２パターン形成体として、第２マスタにおけるサーボ・パターンＳＰが第２パターンとして、第２マスタにおけるサーボ・パターン形成領域ＳＰの形成面が第２形成面として、それぞれ機能している。
【００４５】
次に、構造について説明すると、マスタ情報記録体２００は、円盤状の基体２０１と、この基体２０１の一方の面に形成されたマスタ磁性層２０２と、マスタ磁性層２０２の上に形成されたマスタ保護層２０３とを備えている。ここで、図８（ｂ）は、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおけるマスタ情報記録体２００の断面構成を示しており、この部位には、サーボ・パターンに対応した凸部２０４および凹部２０５が存在している。なお、マスタ情報記録体２００の一方の面のうち、サーボ・パターン形成領域ＳＰ以外の領域は、マスタ情報記録体２００と磁気記録媒体１との吸着を防ぐため、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおける凹部２０５と同じ高さとなっている。
【００４６】
マスタ情報記録体２００は公知の方法によって製造できるが、例えば次の製造方法を掲げることができる。先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。塗布後、このレジストに対し、電子線露光装置を用いて、サーボ・パターンに対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストを露光する。その後、レジストを現像し、未露光部分を除去して、シリコンウェハ上にレジストのパターンを形成する。
【００４７】
次いで、このレジストパターンをマスクとして用い、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させてマスタ情報記録体２００を作製するための原盤を得る。
【００４８】
この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数μｍ厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層を洗浄等して、表面に凸部を配設した基体２０１を得る。
【００４９】
次いで、この基体２０１の表面にマスタ磁性層２０２を形成する。このマスタ磁性層２０２については磁気記録媒体１に用いられる磁性層（第１磁性層１５１等）と同じものが使用できる。またマスタ磁性層２０２の上には磁気記録媒体１と同様にマスタ保護層２０３を形成する。このマスタ保護層２０３は、マスタ情報記録体２００の耐摩耗性すなわちマスタ情報記録体２００の転写耐久性を高めるものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等を用いることができる。以上の製造工程によってマスタ情報記録体２００を得ることができる。
なお、このようにして得られたマスタ情報記録体２００は、例えば１０万枚以上の磁気記録媒体１の製造（磁気転写）に繰り返し使用される。
【００５０】
図９は、図５等に示す磁気転写装置１０における制御ブロックの一例を示す図である。
磁気転写装置１０は、装置全体の動作を制御するためのコントローラ３００を備えている。このコントローラ３００は、第２ホルダ４０をＹ方向に進退させるためのホルダ駆動部３０１、受光ユニット７３をＸ方向に進退させるための受光ユニット駆動部３０２、第１光源７１を点灯・消灯させる第１光源駆動部３０３、第２光源７２を点灯・消灯させる第２光源駆動部３０４、第１受光素子列８１ｂを駆動する第１受光素子列駆動部３０５、第２受光素子列８２ｂを駆動する第２受光素子列駆動部３０６、磁気転写部２０に対する磁気記録媒体１の搬入・搬出を行う媒体搬送部３０７、第１ホルダ３０に設けられた第１吸引路３１および第２吸引路３２に接続された吸引機構（図示せず）を駆動する吸引駆動部３０８、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０を駆動する磁石駆動部３０９に、それぞれ制御信号を出力するようになっている。ここで、本実施の形態では、受光ユニット駆動部３０２およびガイドレール７４（図５参照）が、移動機構として機能するようになっている。また、本実施の形態では、コントローラ３００が、判断手段および許可手段として機能するようになっている。
また、コントローラ３００には、第１マスタおよび第２マスタの表面検査において合否判断に使用される基準データを記憶する記憶手段の一例としての基準データ記憶部３１０が接続され、さらに、表面検査の結果を出力する表示部３１１が接続されている。なお、基準データ記憶部３１０に記憶される基準データの内容については後述する。
【００５１】
では、図５乃至図９と、図１０に示すフローチャートとを用いて、磁気転写装置１０によるステップ１１１（図４参照）の磁気転写工程（磁気記録媒体１への磁気転写および各マスタ情報記録体２００（第１マスタ、第２マスタ）の表面検査）について説明を行う。なお、初期状態において、磁気転写装置１０を構成する各部は、図５および図６に示した位置に配置されているものとする。ただし、初期状態において、磁気転写部２０に対する磁気記録媒体１の取り付けは行われていないものとする。
【００５２】
動作の開始に伴い、コントローラ３００が、サーボ・パターンの転写に先立って、マスタ検査部７０を用いて、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタおよび第２ホルダ４０に取り付けられた第２マスタの撮像を行わせる（ステップ２０１）。ここで、ステップ２０１は、第１形成面を撮像する工程と、第２形成面を撮像する工程とに対応する。
【００５３】
次に、コントローラ３００が、ステップ２０１で得られた第１マスタの撮像データに対し、基準データ記憶部３１０から読み出した第１マスタの基準データを用いて画像処理を施し、且つ、ステップ２０１で得られた第２マスタの撮像データに対し、基準データ記憶部１００から読み出した第２マスタの基準データを用いて画像処理を施す（ステップ２０２）。続いて、コントローラ３００は、第１マスタの撮像データに関する画像処理結果（以下の説明では第１処理データと称する）に基づいて第１マスタ（より詳細には第１マスタにおけるサーボ・パターン形成面）に異常が生じているか否かを判断する（ステップ２０３）。ステップ２０３において第１マスタに異常が生じていないと判断した場合、コントローラ３００は、次に、第２マスタの撮像データに関する画像処理結果（以下の説明では第２処理データと称する）に基づいて第２マスタ（より詳細には第２マスタにおけるサーボ・パターン形成面）に異常が生じているか否かを判断する（ステップ２０４）。ここで、ステップ２０３およびステップ２０４は、第１形成面の撮像結果に基づく第１形成面への異物の付着と、第２形成面の撮像結果に基づく第２形成面への異物の付着とを判断する工程と対応する。
【００５４】
ステップ２０４において第２マスタに異常が生じていないと判断した場合、すなわち、第１マスタおよび第２マスタの両者に異常が生じていないと判断した場合、コントローラ３００は、磁気転写部２０（第１マスタ、第２マスタ）を用いて、磁気記録媒体１の両面にサーボ・パターンを磁気転写させる（ステップ２０５）。ここで、ステップ２０５は、挟み込まれた磁気記録媒体に対し、第１パターンおよび第２パターンを磁気転写する工程に対応する。
【００５５】
それから、コントローラ３００は、さらに次に磁気転写を行うべき磁気記録媒体１が存在するか否かの判断を行う（ステップ２０６）。ステップ２０６において次の磁気記録媒体１が存在すると判断した場合、コントローラ３００は、ステップ２０１に戻って再び第１マスタおよび第２マスタの表面検査を実行させる。一方、ステップ２０６において次の磁気記録媒体１が存在しないと判断した場合、コントローラ３００は、一連の動作を完了させる。
【００５６】
他方、ステップ２０３において第１マスタに異常が生じていると判断した場合、および、ステップ２０４において第２マスタに異常が生じていると判断した場合、コントローラ３００は、表示部３１１に向けて制御信号（メッセージ）を出力し（ステップ２０７）、発生した異常に応じたメッセージ（『第１マスタに異常が生じています』、『第１マスタを交換してください』など）を表示部３１１に表示させる。そして、この場合において、コントローラ３００は、磁気記録媒体１に対する新たな磁気転写を行わせることなく、一連の動作を中断させる。なお、ステップ２０７においてメッセージが表示された後は、異常の発生要因となったマスタ情報記録体２００の清掃が行われた後、上述したプロセスを繰り返し行うことになる。
【００５７】
続いて、各ステップにおける磁気転写装置１０の動作について説明を行う。
まず、ステップ２０１では、第１光源駆動部３０３が第１光源７１を消灯状態から点灯状態に移行させ、且つ、第２光源駆動部３０４が第２光源７２を消灯状態から点灯状態に移行させる。次に、受光ユニット駆動部３０２が、退避位置にある受光ユニット７３を、ガイドレール７４に沿ってＸ方向に一定速度で移動させる。これに伴い、受光ユニット７３に取り付けられた第１受光部８１は、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタとの対向領域をＸ方向に沿って順次通過し、同時に、受光ユニット７３に取り付けられた第２受光部８２は、第２ホルダ４０に取り付けられた第２マスタとの対向領域をＸ方向に沿って順次通過する。この間、第１受光部８１には、第１光源７１によって照射され、第１マスタのサーボ・パターン形成面にて反射した光が順次入射し、第２受光部８２には、第２光源７２によって照射され、第２マスタのサーボ・パターン形成面にて反射した光が順次入射する。
【００５８】
より具体的に説明すると、第１受光部８１では、第１マスタからの反射光が第１ロッドレンズアレイ８１ａを通過して第１受光素子列８１ｂに集光される。このとき、第１受光素子列駆動部３０５は、受光ユニット７３のＸ方向への移動速度に応じて予め決められた間隔にて、第１受光素子列８１ｂによる受光結果をコントローラ３００に出力する。これにより、第１受光部８１は、Ｚ方向を主走査方向とする１ライン分の撮像データを、Ｘ方向を副走査方向として順次出力することになる。
【００５９】
一方、第２受光部８２では、第２マスタからの反射光が第２ロッドレンズアレイ８２ａを通過して第２受光素子列８２ｂに集光される。このとき、第２受光素子列駆動部３０６は、受光ユニット７３のＸ方向への移動速度に応じて予め決められた間隔にて、第２受光素子列８２ｂによる受光結果をコントローラ３００に出力する。これにより、第２受光部８２は、Ｚ方向を主走査方向とする１ライン分の撮像データを、Ｘ方向を副走査方向として順次出力することになる。
本実施の形態において、第１受光部８１による受光・出力動作および第２受光部８２による受光・出力動作は、並列且つ同時進行的に行われる。
【００６０】
その後、Ｘ方向に移動する受光ユニット７３が第１マスタおよび第２マスタに挟まれた領域を通過すると、第１マスタおよび第２マスタの撮像が完了する。そして、受光ユニット駆動部３０２は、撮像を完了した受光ユニット７３を、ガイドレール７４に沿って−Ｘ方向に移動させ、再び退避位置で停止させる。なお、このときの受光ユニット７３の移動速度は、撮像を行っているときの受光ユニット７３の移動速度よりも高速とすることが望ましい。また、受光ユニット７３による撮像が完了した後、第１光源駆動部３０３が第１光源７１を点灯状態から消灯状態に移行させ、且つ、第２光源駆動部３０４が第２光源７２を点灯状態から消灯状態に移行させる。
【００６１】
次に、ステップ２０２では、コントローラ３００が、第１受光部８１から主走査方向１ライン分ずつ入力されてくる第１マスタの撮像データを、副走査方向に順次配列していき、第１マスタ１枚分の撮像データ（以下の説明では第１撮像データと称する）を作成する。また、コントローラ３００は、第２受光部８２から主走査方向１ライン分ずつ入力されてくる第２マスタの撮像データを、副走査方向に順次配列していき、第２マスタ１枚分の撮像データ（以下の説明では第２撮像データと称する）を作成する。
【００６２】
さらに、コントローラ３００は、基準データ記憶部３１０に格納されていた第１マスタの基準データ（以下の説明では第１基準データと称する）を読み出す。ここで、第１基準データとは、現在使用している第１マスタが第１ホルダ３０に取り付けられた後、実際に磁気転写に使用される前の初期状態において、マスタ検査部７０（より具体的には第１光源７１および第１受光部８１）を用いて取得された第１マスタの撮像データのことをいう。そして、コントローラ３００は、第１基準データと第１撮像データとを用い、画素毎に差分を求める画像処理を実行することで、第１処理データを得る。
【００６３】
一方、コントローラ３００は、基準データ記憶部３１０に記憶されていた第２マスタの基準データ（以下の説明では第２基準データと称する）を読み出す。ここで、第２基準データとは、現在使用している第２マスタが第２ホルダ４０に取り付けられた後、実際に磁気転写に使用される前の初期状態において、マスタ検査部７０（より具体的には第２光源７２および第２受光部８２）を用いて取得された第２マスタの撮像データのことをいう。そして、コントローラ３００は、第２基準データと第２撮像データとを用い、画素毎に差分を求める画像処理を実行することで、第２処理データを得る。
【００６４】
ここで、図１１は、第１光源７１（図６参照）によって照射された光が、第１マスタ（マスタ情報記録体２００）にて反射し、第１受光部８１にて受光される様子を説明するための図である。なお、図１１（ａ）、（ｂ）は、第１マスタのサーボ・パターン形成面に埃等の異物Ｄが付着していない場合を例示しており、図１１（ａ）は図６におけるＹＺ断面を、図１１（ｂ）は図１１（ａ）において第１受光部８１側から第１マスタをみた図を、それぞれ示している。また、図１１（ｃ）、（ｄ）は、第１マスタのサーボ・パターン形成面に埃等の異物Ｄが付着している場合を例示しており、図１１（ｃ）は図６におけるＹＺ断面を、図１１（ｄ）は図１１（ｃ）において第１受光部８１側から第１マスタをみた図を、それぞれ示している。
【００６５】
本実施の形態では、第１マスタのサーボ・パターン形成面に対し、ほぼ平行に近い浅い角度で、第１光源７１からの光が照射されるようになっている。これに対し、第１受光部８１は、第１マスタのサーボ・パターン形成面に対し、第１ロッドレンズアレイ８１ａ（図７参照）の受光面が、ほぼ垂直となるように配置されている。このため、第１受光部８１は、第１光源７１にて照射され、第１マスタのサーボ・パターン形成面にて反射する光のうち、拡散反射光を受光するようになっている。なお、第１マスタのサーボ・パターン形成面と第１光源７１から照射される光との成す角度は、０°を超え４５°未満となる範囲から選択することができるが、後述するように、より小さな異物を検出可能とするためには、０°に近づけることが望ましい。
【００６６】
本実施の形態の第１マスタは、上述したように、その表面にサーボ・パターンに応じた凹凸が形成されている。このため、例えば図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、異物Ｄが付着していない状態においても、第１光源７１から斜めに入射してくる光により、凹部２０５のうち凸部２０４の背後となる領域には、凸部２０４に応じた第１の影Ｓ１が形成されることになる。一方、例えば図１１（ｃ）、（ｄ）に示すように、凹部２０５に異物Ｄが付着している場合には、第１光源７１から斜めに入射してくる光により、凹部２０５には、凸部２０４に起因する第１の影Ｓ１に加え、異物Ｄに起因する第２の影Ｓ２も形成されることになる。
【００６７】
ここで、異物Ｄは、第１マスタを磁気転写に使用することで、第１マスタと磁気記録媒体１とが接触する際に付着しやすくなることが知られている。特に、磁気転写に伴って第２ホルダ４０が移動したり、第１磁石支持部５２および第２磁石支持部６２が回転したりすることで、これらの部材に付着した埃等が、異物として第１マスタや第２マスタに付着しやすくなる事態が生じ得る。したがって、逆にみれば、交換直後の初期状態において、第１マスタのサーボ・パターン形成面に対する異物Ｄの付着は、生じにくいといえる。このため、本実施の形態では、第１基準データを、第１マスタ交換後の初期状態において予め取得しておき、第１マスタへの異物Ｄの付着を検出するためのリファレンスとして利用している。なお、このときに得られる第１基準データは、凸部２０４の存在に応じた濃淡を有するものとなる。
【００６８】
また、第１マスタに異物Ｄの付着が生じていない場合、ステップ２０１での撮像において、第１マスタには、図１１（ａ）、（ｂ）に示したように、凸部２０４に起因する第１の影Ｓ１が生じる一方、異物Ｄに起因する第２の影Ｓ２は生じない。このため、得られる第１撮像データは、第１基準データと同じく、凸部２０４の存在に応じた濃淡を有するものとなる。したがって、第１マスタに異物Ｄが付着していない場合は、第１基準データと第１撮像データとを用い、画素毎に差分を求めることで得られた第１処理データが、第１マスタの全域にわたってほぼ一定になる。
【００６９】
これに対し、第１マスタに異物Ｄの付着が生じている場合、ステップ２０１での撮像において、第１マスタには、図１１（ｃ）、（ｄ）に示したように、凸部２０４に起因する第１の影Ｓ１に加え、異物Ｄに起因する第２の影Ｓ２も生じる。このため、得られる第１撮像データは、第１基準データとは異なり、凸部２０４および異物Ｄの存在に応じた濃淡を有するものとなる。したがって、第１マスタに異物Ｄが付着している場合は、第１基準データと第１撮像データとを用い、画素毎に差分を求めることで得られた第１処理データが、第２の影Ｓ２の存在領域を除いてほぼ一定になる。逆に言えば、第２の影Ｓ２の存在領域における差分が、他の領域よりも突出することになる。
【００７０】
このため、差分の閾値を予め適切な値に設定しておくことで、ステップ２０３において、第１マスタの異常すなわち第１マスタに対する異物Ｄの付着の有無を判断することが可能になる。
また、この例では、第１マスタに対し０°を超え４５°未満となる浅い角度で第１光源７１からの光を入射させていているので、異物Ｄによって凹部２０５に形成される第２の影Ｓ２の長さを、異物Ｄの実際の高さよりも大きくすることができる。このため、第１受光部８１を用いて、第１受光素子列８１ｂの分解能よりも、実際の径が小さい異物Ｄの検出を行うことが可能になる。
なお、ここでは第１光源７１および第１受光部８１を用いて第１マスタの検査を行う場合を例に説明を行ったが、第２マスタについても、第２光源７２および第２受光部８２により、同じ手法を用いて検査を行うことができる。このとき、第２マスタのサーボ・パターン形成面と第２光源７２から照射される光との成す角度は、０°を超え４５°未満となる範囲から選択することができるが、より０°に近づけることが望ましい。
また、上述した説明においては、第１光源７１および第２光源７２から出力される光の波長について特に言及していなかったが、例えば青色光や紫外光など、より波長の短い光を用いることにより、異物Ｄの検出分解能をより高めることが可能になる。
【００７１】
また、ステップ２０５では、まず、媒体搬送部３０７が、磁気転写前の磁気記録媒体１を保持しつつ、第１ホルダ３０と第２ホルダ４０との間、より具体的には、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタと正対する位置まで搬送する。次に、吸引駆動部３０８が、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで第１ホルダ３０側に磁気記録媒体１を吸着させ、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタのサーボ・パターン形成面に磁気記録媒体１の一方の面を接触させる。そして、第１ホルダ３０側に磁気記録媒体１を吸着させてから、磁気記録媒体１の保持を解除し、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０の対向領域から退避する。
【００７２】
続いて、磁気転写部２０において、第２ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が第１ホルダ３０側に近づく方向へと移動を開始する。これに伴い、まず、筒状体４０ｂの周部端面が第１ホルダ３０に設けられたＯリング３３に突き当たった後に停止する。また、記録体保持部４０ａおよび第２磁石部材６０は、筒状体４０ｂが停止した後も第１ホルダ３０側に近づく方向へと移動を続け、第１ホルダ３０に設けられた第１マスタと可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａに設けられた第２マスタとによって磁気記録媒体１を挟み込んだ後に停止する。なお、記録体保持部４０ａの停止位置は予め決められており、その結果、第１マスタ、第２マスタおよび１枚の磁気記録媒体１には、予め設定された軽い荷重が加えられる。また、このとき、第１ホルダ３０と記録体保持部４０ａと筒状体４０ｂとの間には、第１ホルダ３０に設けられたＯリング３３と筒状体４０ｂに設けられたＯリング４１とを用いて、閉空間が形成される。続いて、第２吸引路３２を介した吸引を開始させることで、閉空間内に存在する第１マスタ、第２マスタと１枚の磁気記録媒体１との間に存在する隙間が真空引きされ、閉空間内外の差圧によって第１マスタ、第２マスタの各サーボ・パターン形成面と１枚の磁気記録媒体１の両面とがそれぞれ密着していく。
【００７３】
次に、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石支持部５２および第２磁石支持部６２を軸とし、第１マスタ、第２マスタと１枚の磁気記録媒体１とを挟んで、第１磁石および第２磁石を対向させた状態を維持しながら少なくとも１回転する。
第１磁石および第２磁石が１回転する間、第１マスタ、第２マスタに挟まれた磁気記録媒体１では、第１磁石および第２磁石により、初期磁化工程とは逆向きの直流磁界が周方向に順次印加される。すると、磁気記録媒体１のうち、第１ホルダ３０側の第１マスタと接する側では、この第１マスタの凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。また、この磁気記録媒体１のうち、第２ホルダ４０側の第２マスタと接する側でも、この第２マスタの凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。このようにして、転写前媒体の両面には、それぞれ、第１マスタ、第２マスタに設けられた凹凸の配列からなるサーボ・パターンが、磁化の向きの配列からなるサーボ・パターンとして転写される。その結果、磁気記録媒体１の位置決めデータ記憶領域Ａ２には、サーボ・パターンが記憶される。
【００７４】
このようにして磁気転写が完了すると、まず、第２吸引路３２を介した吸引を停止して閉空間内を大気圧とし、次いで、第２ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が元の位置への後退を開始する。これにより、固定ホルダ３０に保持された転写済媒体は、外部に露出した状態となる。
【００７５】
それから、媒体搬送部３０７が、第１ホルダ３０と第２ホルダ４０との間、より具体的には、第１ホルダ３０に取り付けられた第１マスタと正対する位置まで移動して停止し、磁気転写済の磁気記録媒体１を保持する。続いて、吸引駆動部３０８が、第１吸引路３１を介した吸引を終了させることで第１ホルダ３０側への磁気記録媒体１の吸着を解除する。その後、媒体搬送部３０７が、磁気転写済の磁気記録媒体１を保持しつつ、第１ホルダ３０および第２ホルダ４０の対向領域から退避する。
【００７６】
なお、本実施の形態では、それぞれ１次元のラインセンサを用いて第１マスタおよび第２マスタの撮像を行っていたが、これに限られるものではなく、例えば２次元のエリアセンサを用いるようにしてもよい。
また、本実施の形態では、第１マスタの撮像と第２マスタの撮像とを並行して行うようにしていたが、これに限られるものではなく、第１マスタの撮像と第２マスタの撮像とを順次行うようにしてもよい。
さらに、本実施の形態では、１枚の磁気記録媒体１に磁気転写を行う毎に第１マスタおよび第２マスタの検査を行うようにしていたが、これに限られるものではなく、複数枚（例えば１０枚、１００枚、…）の磁気記録媒体１に磁気転写を行う毎に第１マスタおよび第２マスタの検査を行うようにしてもよい。
【００７７】
また、本実施の形態では、第１ホルダ３０が保持するマスタ情報記録体２００（第１マスタ）と、第２ホルダ４０が保持するマスタ情報記録体２００（第２マスタ）との間に、磁気記録媒体１を挟み込むことで、磁気記録媒体１の両面にサーボ・パターン（プレサーボ・パターンを含む）等を磁気転写する例について説明を行った。ただし、これに限られるものではなく、例えば第１ホルダ３０が保持するマスタ情報記録体２００に磁気記録媒体１の片面を接触させ、この磁気記録媒体１の片面にのみサーボ・パターン等を磁気転写する構成としてもよい。この場合において、磁気記録媒体１は、例えば第２吸引路３２等を介した吸着等によってマスタ情報記録体２００に接触させるようにしてもかまわない。ただし、マスタ情報記録体２００に対する磁気記録媒体１の密着性を高めるという観点からすれば、マスタ情報記録体２００を保持する第２ホルダ４０に代えて、第１ホルダ３０に対して進退可能な平板状の押付部材を設け、第１ホルダ３０に保持されたマスタ情報記録体２００に対し、押付部材を用いて磁気記録媒体１を押し付けるようにすることが望ましい。
【００７８】
ここで、例えば前者の押付部材を有しない構成を採用した場合には、マスタ検査部７０に第２光源７２および第２受光部８２を設ける必要はなく、第１光源７１および第１受光部８２を用いてマスタ情報記録体２００の表面（サーボ・パターンの形成面）を撮像した結果に基づいて、マスタ情報記録体２００に対する異物Ｄの付着の有無を判定し、磁気記録媒体１に対する磁気転写の実行の可否を決めればよい。
【００７９】
一方、例えば後者の押付部材を有する構成を採用した場合には、第１光源７１および第１受光部８１を用いてマスタ情報記録体２００を撮像した結果に基づいて、マスタ情報記録体２００に対する異物の付着の有無を判定するとともに、第２光源７２および第２受光部８２を用いて押付部材の押し付け面（磁気記録媒体１との接触面）を撮像した結果に基づいて、押付部材に対する異物Ｄの付着の有無を判定し、磁気記録媒体１に対する磁気転写の実行の可否を決めればよい。
【符号の説明】
【００８０】
１…磁気記録媒体、１０…磁気転写装置、２０…磁気転写部、３０…第１ホルダ、４０…第２ホルダ、７０…マスタ検査部、７１…第１光源、７２…第２光源、７３…受光ユニット、８１…第１受光部、８２…第２受光部、２００…マスタ情報記録体、２０１…基体、２０２…マスタ磁性層、２０３…マスタ保護層、２０４…凸部、２０５…凹部、３００…コントローラ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保持体に保持され且つパターンが形成されたパターン形成体に対し、当該パターンが形成されたパターン形成面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、当該パターン形成面から拡散反射する光を受光することで、当該パターン形成面を撮像する工程と、
前記パターン形成面の撮像結果に基づいて当該パターン形成面に対する異物の付着を判断する工程と、
前記判断する工程において前記パターン形成面への異物の付着が認められない場合に、前記保持体に保持された前記パターン形成体における当該パターン形成面に磁気記録媒体における記録面を接触させ、当該パターン形成体と接触する当該磁気記録媒体に対し、前記パターンを磁気転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記磁気転写する工程では、前記保持体に保持された前記パターン形成体における前記パターン形成面に対し相対的に進退可能に設けられる押付部材を用い、前記磁気記録媒体における前記記録面の裏面を介して、当該パターン形成体に対する当該磁気記録媒体の押し付けを行い、
前記撮像する工程では、前記押付部材における前記磁気記録媒体の押し付け面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、当該押し付け面から拡散反射する光を受光することで、当該押し付け面を撮像し、
前記判断する工程では、前記押し付け面の撮像結果に基づいて当該押し付け面に対する異物の付着を判断し、
前記判断する工程において前記押し付け面への異物の付着が認められない場合に、前記磁気転写する工程を実行すること
を特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記パターンは、前記パターン形成面における凹凸で構成されることを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
第１保持体に保持され且つ第１パターンが形成された第１パターン形成体に対し、当該第１パターンが形成された第１形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、当該第１形成面から拡散反射する光を受光することで、当該第１形成面を撮像する工程と、
第２保持体に保持され且つ第２パターンが形成された第２パターン形成体に対し、当該第２パターンが形成された第２形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、当該第２形成面から拡散反射する光を受光することで、当該第２形成面を撮像する工程と、
前記第１形成面の撮像結果に基づく当該第１形成面への異物の付着と、前記第２形成面の撮像結果に基づく当該第２形成面への異物の付着とを判断する工程と、
前記判断する工程において前記第１形成面および前記第２形成面の両者への異物の付着が認められない場合に、前記第１保持体および前記第２保持体を相対的に移動させることで、前記第１パターン形成体における前記第１形成面と前記第２パターン形成体における前記第２形成面との間に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を挟み込み、挟み込まれた当該磁気記録媒体に対し、前記第１パターンおよび前記第２パターンを磁気転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記判断する工程において前記第１形成面および前記第２形成面の両者への異物の付着が認められた場合に、前記磁気転写する工程の実行を禁止することを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記第１パターン形成体における前記第１形成面と前記第２パターン形成体における前記第２形成面とが対峙するように前記第１保持体および前記第２保持体が配置され、
前記第１形成面を撮像する工程と前記第２形成面を撮像する工程とを、並列して実行することを特徴とする請求項４または５記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記判断する工程では、
前記第１保持体に取り付けられた後であって前記磁気転写で使用される前の前記第１パターン形成体における前記第１形成面を予め撮像して得られた第１基準データと、前記第１形成面を撮像する工程で得られた第１撮像データとの比較に基づいて当該第１形成面に対する異物の付着の有無を判断し、
前記第２保持体に取り付けられた後であって前記磁気転写で使用される前の前記第２パターン形成体における前記第２形成面を予め撮像して得られた第２基準データと、前記第２形成面を撮像する工程で得られた第２撮像データとの比較に基づいて当該第２形成面に対する異物の付着の有無を判断すること
を特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記第１パターンは前記第１形成面における凹凸で形成され、
前記第２パターンは前記第２形成面における凹凸で形成されること
を特徴とする請求項４乃至７のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
パターンがパターン形成面に形成されたパターン形成体を保持する保持体と、
前記保持体に保持された前記パターン形成体に対し、前記パターン形成面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射する光照射手段と、
前記光照射手段にて照射され、前記パターン形成面にて拡散反射した光を受光することで当該パターン形成面を撮像する撮像手段と、
前記パターン形成体を保持した前記保持体における前記パターン形成面に磁気記録媒体における記録面を接触させ、当該パターン形成体と接触する当該磁気記録媒体に対し、前記パターンを磁気転写する磁気転写手段と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
前記パターン形成面を撮像して得られた撮像データに基づいて当該パターン形成面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段にて前記パターン形成面への異物の付着が認められない場合に、前記磁気転写手段による前記磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする請求項９記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１１】
前記保持体に保持された前記パターン形成体における前記パターン形成面に対し相対的に進退可能に設けられ、前記磁気記録媒体における前記記録面の裏面を介して、当該パターン形成体に当該磁気記録媒体を押し付ける押付部材をさらに含み、
前記光照射手段は、前記押付部材における前記記録媒体の押し付け面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、
前記撮像手段は、前記光照射手段にて照射され、前記押し付け面にて拡散反射した光を受光することで当該押し付け面を撮像すること
を特徴とする請求項９または１０記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１２】
前記押し付け面を撮像して得られた撮像データに基づいて当該押し付け面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段にて前記押し付け面への異物の付着が認められない場合に、前記磁気転写手段による前記磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする請求項１１記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１３】
第１パターンが第１形成面に形成された第１パターン形成体を保持する第１保持体と、
第２パターンが第２形成面に形成された第２パターン形成体を保持する第２保持体と、
前記第１保持体に保持された前記第１パターン形成体に対し、前記第１形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、且つ、前記第２保持体に保持された前記第２パターン形成体に対し、前記第２形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射する光照射手段と、
前記光照射手段にて照射され、前記第１形成面にて拡散反射した光を受光することで当該第１形成面を撮像し、且つ、当該光照射手段にて照射され、前記第２形成面にて拡散反射した光を受光することで当該第２形成面を撮像する撮像手段と、
前記第１パターン形成体を保持した前記第１保持体と前記第２パターン形成体を保持した前記第２保持体とを相対的に移動させることで、前記第１パターン形成体における前記第１形成面と前記第２パターン形成体における前記第２形成面との間に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を挟み込み、挟み込まれた当該磁気記録媒体に対し、前記第１パターンおよび前記第２パターンを磁気転写する磁気転写手段と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１４】
前記第１形成面を撮像して得られた第１撮像データに基づいて当該第１形成面に異物が付着しているか否かを判断し、且つ、前記第２形成面を撮像して得られた第２撮像データに基づいて当該第２形成面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段にて前記第１形成面および前記第２形成面の両者への異物の付着が認められない場合に、前記磁気転写手段による前記磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする請求項１３記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１５】
前記撮像手段は、
筐体と、
前記筐体を前記第１保持体と前記第２保持体とに挟まれた領域と挟まれていない領域との間で移動させる移動機構と、
前記筐体に取り付けられ、前記移動機構による移動に伴って、前記第１保持体に保持された前記第１パターン形成体の前記第１形成面に対向配置されることで当該第１形成面を撮像する第１撮像部と、
前記筐体に取り付けられ、前記移動機構による移動に伴って、前記第２保持体に保持された前記第２パターン形成体の前記第２形成面に対向配置されることで当該第２形成面を撮像する第２撮像部と
を有することを特徴とする請求項１３または１４記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１６】
前記第１保持体に取り付けられた後であって前記磁気転写で使用される前の前記第１パターン形成体における前記第１形成面を予め撮像して得られた第１基準データと、前記第２保持体に取り付けられた後であって前記磁気転写で使用される前の前記第２パターン形成体における前記第２形成面を予め撮像して得られた第２基準データとを記憶する記憶手段をさらに備え、
前記判断手段は、前記記憶手段から読み出した前記第１基準データと前記第１形成面を撮像して得られた第１撮像データとの比較に基づいて当該第１形成面に対する異物の付着の有無を判断し、且つ、前記第２基準データと前記第２形成面を撮像して得られた第２撮像データとの比較に基づいて当該第２形成面に対する異物の付着の有無を判断すること
を特徴とする請求項１３乃至１５のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１】
保持体に保持され且つパターンが形成されたパターン形成体に対し、当該パターンが形成されたパターン形成面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、当該パターン形成面から拡散反射する光を受光することで、当該パターン形成面を撮像する工程と、
前記パターン形成面の撮像結果に基づいて当該パターン形成面に対する異物の付着を判断する工程と、
前記判断する工程において前記パターン形成面への異物の付着が認められない場合に、前記保持体に保持された前記パターン形成体における当該パターン形成面に磁気記録媒体における記録面を接触させ、当該パターン形成体と接触する当該磁気記録媒体に対し、前記パターンを磁気転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記磁気転写する工程では、前記保持体に保持された前記パターン形成体における前記パターン形成面に対し相対的に進退可能に設けられる押付部材を用い、前記磁気記録媒体における前記記録面の裏面を介して、当該パターン形成体に対する当該磁気記録媒体の押し付けを行い、
前記撮像する工程では、前記押付部材における前記磁気記録媒体の押し付け面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、当該押し付け面から拡散反射する光を受光することで、当該押し付け面を撮像し、
前記判断する工程では、前記押し付け面の撮像結果に基づいて当該押し付け面に対する異物の付着を判断し、
前記判断する工程において前記押し付け面への異物の付着が認められない場合に、前記磁気転写する工程を実行すること
を特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記パターンは、前記パターン形成面における凹凸で構成されることを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
第１保持体に保持され且つ第１パターンが形成された第１パターン形成体に対し、当該第１パターンが形成された第１形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、当該第１形成面から拡散反射する光を受光することで、当該第１形成面を撮像する工程と、
第２保持体に保持され且つ第２パターンが形成された第２パターン形成体に対し、当該第２パターンが形成された第２形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、当該第２形成面から拡散反射する光を受光することで、当該第２形成面を撮像する工程と、
前記第１形成面の撮像結果に基づく当該第１形成面への異物の付着と、前記第２形成面の撮像結果に基づく当該第２形成面への異物の付着とを判断する工程と、
前記判断する工程において前記第１形成面および前記第２形成面の両者への異物の付着が認められない場合に、前記第１保持体および前記第２保持体を相対的に移動させることで、前記第１パターン形成体における前記第１形成面と前記第２パターン形成体における前記第２形成面との間に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を挟み込み、挟み込まれた当該磁気記録媒体に対し、前記第１パターンおよび前記第２パターンを磁気転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記判断する工程において前記第１形成面および前記第２形成面の両者への異物の付着が認められた場合に、前記磁気転写する工程の実行を禁止することを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記第１パターン形成体における前記第１形成面と前記第２パターン形成体における前記第２形成面とが対峙するように前記第１保持体および前記第２保持体が配置され、
前記第１形成面を撮像する工程と前記第２形成面を撮像する工程とを、並列して実行することを特徴とする請求項４または５記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記判断する工程では、
前記第１保持体に取り付けられた後であって前記磁気転写で使用される前の前記第１パターン形成体における前記第１形成面を予め撮像して得られた第１基準データと、前記第１形成面を撮像する工程で得られた第１撮像データとの比較に基づいて当該第１形成面に対する異物の付着の有無を判断し、
前記第２保持体に取り付けられた後であって前記磁気転写で使用される前の前記第２パターン形成体における前記第２形成面を予め撮像して得られた第２基準データと、前記第２形成面を撮像する工程で得られた第２撮像データとの比較に基づいて当該第２形成面に対する異物の付着の有無を判断すること
を特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記第１パターンは前記第１形成面における凹凸で形成され、
前記第２パターンは前記第２形成面における凹凸で形成されること
を特徴とする請求項４乃至７のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
パターンがパターン形成面に形成されたパターン形成体を保持する保持体と、
前記保持体に保持された前記パターン形成体に対し、前記パターン形成面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射する光照射手段と、
前記光照射手段にて照射され、前記パターン形成面にて拡散反射した光を受光することで当該パターン形成面を撮像する撮像手段と、
前記パターン形成体を保持した前記保持体における前記パターン形成面に磁気記録媒体における記録面を接触させ、当該パターン形成体と接触する当該磁気記録媒体に対し、前記パターンを磁気転写する磁気転写手段と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
前記パターン形成面を撮像して得られた撮像データに基づいて当該パターン形成面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段にて前記パターン形成面への異物の付着が認められない場合に、前記磁気転写手段による前記磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする請求項９記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１１】
前記保持体に保持された前記パターン形成体における前記パターン形成面に対し相対的に進退可能に設けられ、前記磁気記録媒体における前記記録面の裏面を介して、当該パターン形成体に当該磁気記録媒体を押し付ける押付部材をさらに含み、
前記光照射手段は、前記押付部材における前記記録媒体の押し付け面との成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、
前記撮像手段は、前記光照射手段にて照射され、前記押し付け面にて拡散反射した光を受光することで当該押し付け面を撮像すること
を特徴とする請求項９または１０記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１２】
前記押し付け面を撮像して得られた撮像データに基づいて当該押し付け面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段にて前記押し付け面への異物の付着が認められない場合に、前記磁気転写手段による前記磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする請求項１１記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１３】
第１パターンが第１形成面に形成された第１パターン形成体を保持する第１保持体と、
第２パターンが第２形成面に形成された第２パターン形成体を保持する第２保持体と、
前記第１保持体に保持された前記第１パターン形成体に対し、前記第１形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射し、且つ、前記第２保持体に保持された前記第２パターン形成体に対し、前記第２形成面と成す角度が０°を超え且つ４５°未満となるように光を照射する光照射手段と、
前記光照射手段にて照射され、前記第１形成面にて拡散反射した光を受光することで当該第１形成面を撮像し、且つ、当該光照射手段にて照射され、前記第２形成面にて拡散反射した光を受光することで当該第２形成面を撮像する撮像手段と、
前記第１パターン形成体を保持した前記第１保持体と前記第２パターン形成体を保持した前記第２保持体とを相対的に移動させることで、前記第１パターン形成体における前記第１形成面と前記第２パターン形成体における前記第２形成面との間に、磁気情報を記録する磁気記録媒体を挟み込み、挟み込まれた当該磁気記録媒体に対し、前記第１パターンおよび前記第２パターンを磁気転写する磁気転写手段と
を含む磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１４】
前記第１形成面を撮像して得られた第１撮像データに基づいて当該第１形成面に異物が付着しているか否かを判断し、且つ、前記第２形成面を撮像して得られた第２撮像データに基づいて当該第２形成面に異物が付着しているか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段にて前記第１形成面および前記第２形成面の両者への異物の付着が認められない場合に、前記磁気転写手段による前記磁気記録媒体への磁気転写を許可する許可手段と
をさらに含むことを特徴とする請求項１３記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１５】
前記撮像手段は、
筐体と、
前記筐体を前記第１保持体と前記第２保持体とに挟まれた領域と挟まれていない領域との間で移動させる移動機構と、
前記筐体に取り付けられ、前記移動機構による移動に伴って、前記第１保持体に保持された前記第１パターン形成体の前記第１形成面に対向配置されることで当該第１形成面を撮像する第１撮像部と、
前記筐体に取り付けられ、前記移動機構による移動に伴って、前記第２保持体に保持された前記第２パターン形成体の前記第２形成面に対向配置されることで当該第２形成面を撮像する第２撮像部と
を有することを特徴とする請求項１３または１４記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１６】
前記第１保持体に取り付けられた後であって前記磁気転写で使用される前の前記第１パターン形成体における前記第１形成面を予め撮像して得られた第１基準データと、前記第２保持体に取り付けられた後であって前記磁気転写で使用される前の前記第２パターン形成体における前記第２形成面を予め撮像して得られた第２基準データとを記憶する記憶手段をさらに備え、
前記判断手段は、前記記憶手段から読み出した前記第１基準データと前記第１形成面を撮像して得られた第１撮像データとの比較に基づいて当該第１形成面に対する異物の付着の有無を判断し、且つ、前記第２基準データと前記第２形成面を撮像して得られた第２撮像データとの比較に基づいて当該第２形成面に対する異物の付着の有無を判断すること
を特徴とする請求項１３乃至１５のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１２−１１９０４３（Ｐ２０１２−１１９０４３Ａ）
【公開日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２６９９４０（Ｐ２０１０−２６９９４０）
【出願日】平成２２年１２月３日（２０１０．１２．３）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月３日（２０１０．１２．３）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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