磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法
【課題】 磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法に関し、ディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体に形成したサーボパターンからの再生信号を充分な強度にする。
【解決手段】 基体１上に磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のいずれかのサーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成し、サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設ける。
【解決手段】 基体１上に磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のいずれかのサーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成し、サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設ける。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法に関するものであり、特に、磁性体部分がデータ部においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体において充分な再生出力が得られる磁気サーボパターンを形成するための構成に特徴のある磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の連続媒体におけるデータの記録・再生においては、装置側のクロックで媒体上に記録ピット位置にとらわれずに信号を記録し、再生の際には、書かれたピットに対して再生のクロックを同期させれば良かった。
【０００３】
これに対し、ディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体ではデータを記録すべき位置が媒体上で規定されているため、その位置に合わせてデータを記録しなければ、正確なデータを記録することはできない。
【０００４】
そのために、ディスクリートトラック媒体またはビットパターン媒体ではトラックに位置を合わせたサーボパターンが必要となる（例えば、特許文献１或いは特許文献２参照）ので、ここで、図１１及び図１２を参照して、従来のディスクリートトラック媒体におけるサーボパターンの構成を説明する。
【０００５】
図１１参照
図１１は、従来のディスクリートトラック媒体の要部平面図であり、裏打層５４、中間層５５、及び、磁気記録膜５６を順次堆積して構成した磁性膜５３が切断部５７で分断されたデータ部５２と、分断部５９によって所定パターンに画定された磁性膜６０からなるサーボパターン部５８から構成されている。
【０００６】
図１２参照
図１２は、従来のディスクリートトラック媒体の要部断面図であり、サーボパターン部５８に形成される所定パターンの磁性膜６０は、トラックに位置が合ったサーボパターンを構成するために、ディスクリートトラックの作成時に同時にガラス基板等の基板５１上においてサーボパターン部の磁性膜を分断してサーボパターンを形成している。
なお、ビットパターン媒体の場合も、データ部がビットパターンになっているだけ、サーボパターン部の構成は実質的に同様である。
【０００７】
このサーボパターン部５８における磁性膜６０から再生ヘッドによりサーボパターン情報を読み出すことによって、所定のトラック位置に情報を磁気記録することになる。
【特許文献１】特開２００３−１５７５０７号公報
【特許文献２】特開２００６−２７７８６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上述の構成の場合には、分断部５９においては磁性材料が存在しないため、サーボパターンからの再生出力が半減して、位置決め精度が劣化するという問題がある。
即ち、従来の連続媒体の場合には、全面を一方向に磁化に初期化したのち、逆方向の磁界で磁気パターンを書き込むため、サーボパターンからの再生出力は「１」または「−１」となるのに対して、分断部５９に磁性材料しないので、再生出力は「１」または「０」となるためである。
【０００９】
したがって、本発明は、ディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体に形成したサーボパターンからの再生信号を充分な強度にすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
ここで図１を参照して、本発明における課題を解決するための手段を説明する。
図１参照
上記課題を解決するために、本発明は、基体１上に磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のいずれかにおいて、サーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成し、サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設けたことを特徴とする。
【００１１】
このように、磁気サーボパターンを構成する磁気記録膜６の下地に高透磁率磁性材料４を設けるとともに、サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設けることによって、従来の分断部に磁気記録膜６を設けてもその下地に高透磁率磁性材料４が存在するか否かによって磁化方向をｕｐとｄｏｗｎの２方向に設定できるので、従来の連続媒体と同様の再生出力を得ることができる。
なお、本発明において「基体（ｂｏｄｙ）」とは、ガラス等の基板自体或いは基板上に裏打層や中間層を堆積させた全体構造を意味する。
【００１２】
なお、このような２方向の磁化方向を容易に確実設定して充分な再生出力を得るためには、高透磁率磁性材料４の透磁率は５０００〔Ｈ／ｍ〕以上である必要があり、５０００〔Ｈ／ｍ〕未満の場合には、ラフマスター等のサーボパターン部２全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させて一括して磁気転写した場合に、ｕｐとｄｏｗｎの２値化が困難になる。
【００１３】
この場合、サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４を、基体１の平坦面に形成された凸状パターン５として設けても良いし、或いは、基体１に設けられた凹部に充填された埋込パターンとして設けても良いものである。
【００１４】
また、この場合の高透磁率磁性材料４としては、Ｆｅ、Ｎｉ、ＦｅＣｏ、或いは、パーマロイのいずれかが好適である。
【００１５】
また、磁気サーボパターン作成方法としては、磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のサーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成し、サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設け、サーボパターン部２に垂直に十分に強い磁界を印加して初期化したのち、初期化磁界と逆方向に磁界を印加して高透磁率磁性材料４を充填した箇所の磁気記録膜６のみの磁化を反転させれば良い。
【００１６】
この場合も、サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４を、基体１の平坦面に形成された凸状パターン５として設けても良いし、或いは、基体１に設けられた凹部に充填された埋込パターンとして設けても良いものである。
【００１７】
なお、凸状パターン５を設ける場合には、高透磁率磁性材料４上に磁気記録膜６を堆積したのち、選択的にエッチングすることによって凸状パターン５を形成し、次いで、隣接する凸状パターン５の間に再び磁気記録膜６を形成することになる。
【００１８】
また、初期化磁界と逆方向に磁界を印加する際に、サーボパターン部２全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させて垂直に磁界を印加することが望ましく、それによって、磁気サーボパターンを一括して書き込むことができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ディスクリートトラック等の作成時に同時にサーボパターン部を作成するのでトラックに位置が合ったサーボパターンを作成することができ、且つ、サーボパターンの再生出力が半減しないので、位置決め精度の高いサーボパターンとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明は、磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、磁性体部分がデータ部においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のサーボパターン部の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料を基板の平坦面に形成された凸状パターン或いは基板に設けられた凹部に充填された埋込パターンとして設け、サーボパターン部の表面を全て覆うように磁気記録膜を設け、典型的には、サーボパターン部全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させてサーボパターン部に垂直に十分に強い磁界を印加して初期化したのち、初期化磁界と逆方向に磁界を印加して高透磁率磁性材料を充填した箇所の磁気記録膜のみの磁化を反転させるものである。
【実施例１】
【００２１】
次に、図２乃至図５を参照して本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の製造工程を説明する。
なお、説明を簡単にするために、ガラス基板の一方の面側の構成を説明するが、基板の他方の面に対しても同じ構成を採用するものである。
図２参照
まず、ガラス基体１１上に、軟磁性材料からなり厚さが、例えば、２００ｎｍの裏打層１２、非磁性材料からなり厚さが、例えば、２０ｎｍの中間層１３、Ｆｅ−Ｎｉ合金からなり厚さが、例えば、１００ｎｍの高μ磁性膜１４、及び、Ｆｅ−Ｃｏ合金からなり厚さが、例えば、５０ｎｍの磁気記録膜１５を順次成膜したのち、全面にレジスト膜１６を塗布する。
【００２２】
次いで、レジスト膜１６を露光・現像することによって分断部１８及び分断部２０を開口部とすることによってデータ部１７とサーボパターン部１９を形成する。
【００２３】
図３参照
次いで、サーボパターン部１９を覆うように保護膜２１を塗布したのち、磁気記録膜１５の露出部を除去して高μ磁性膜１４に達する分断部２２を形成することによってディスクリートトラック２３を形成する。
【００２４】
次いで、保護膜２１を除去したのち、データ部１７を覆うように保護膜２４を塗布したのち、磁気記録膜１５の露出部を除去して高μ磁性膜１４に達する分断部２５を形成することによってサーボパターン２６を形成する。
【００２５】
図４参照
次いで、全面にＦｅ−Ｃｏ合金からなり厚さが、例えば、５０ｎｍの磁気記録膜２７を堆積したのち、保護膜２４及びレジスト膜１６を除去して、不要な磁気記録膜２７をリフトオフする。
【００２６】
図５参照
次いで、全面に垂直に磁界を印加して初期化することによって、磁気記録膜１５及び磁気記録膜２７の磁化方向を揃える。
【００２７】
次いで、サーボパターン部１９のみを覆うような突起部２９を設けた磁化反転用ラフパターンマスター２８をサーボパターン部１９に接触させた状態で、初期化した磁化方向と逆方向に磁界を印加し、高μ磁性膜１４の上に設けた磁気記録膜１５の磁化を反転させ、磁気サーボパターンを形成することによって、本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の基本構成が完成する。
この時、高μ磁性膜１４の上に設けた磁気記録膜１５は、高μ磁性膜１４を介して磁束が通りやすくなるため、磁気記録膜２７に比べて優先的に磁化が反転することになる。
【００２８】
このように、本発明の実施例１においては、磁気記録膜の下地に高μ磁性膜を設けて、サーボパターン部の分断部となる凹部に磁気記録膜を充填しているので、一方の磁気記録膜からの再生出力が「１」であれば、他方の磁気記録膜からの再生出力は「−１」になるため、磁気サーボパターンからの再生出力が従来と比べて半減することがない。
【００２９】
また、ディスクリートトラックを形成する工程において、同じレジスト膜を用いてデータ部の分断部とサーボパターン部の分断部を形成しているので、サーボパターンとディスククリートトラックとの位置合わせが不要になる。
【実施例２】
【００３０】
次に、図６乃至図８を参照して、本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の製造工程を説明する。
この場合も、説明を簡単にするために、ガラス基板の一方の面側の構成を説明するが、基板の他方の面に対しても同じ構成を採用するものである。
図６参照
まず、ガラス基体１１上に、軟磁性材料からなり厚さが、例えば、２００ｎｍの裏打層１２、非磁性材料からなり厚さが、例えば、２０ｎｍの中間層１３、及び、Ｆｅ−Ｃｏ合金からなり厚さが、例えば、５０ｎｍの磁気記録膜１５を順次成膜したのち、全面にレジスト膜１６を塗布する。
【００３１】
次いで、レジスト膜１６を露光・現像することによって分断部１８及び分断部２９を開口部とすることによってデータ部１７とサーボパターン部１９を形成する。
【００３２】
図７参照
次いで、サーボパターン部１９を覆うように保護膜２１を塗布したのち、磁気記録膜１５の露出部を除去してガラス基板１１に達する分断部２２を形成することによってディスクリートトラック２３を形成する。
【００３３】
次いで、保護膜２１を除去したのち、データ部１７を覆うように保護膜２４を塗布したのち、磁気記録膜１５の露出部を除去するとともに、ガラス基板１１に深さが、例えば、１００ｎｍの凹部３０を形成する。
【００３４】
次いで、全面に軟磁性材料からなる裏打層３１、非磁性材料からなる中間層３２、及び、Ｆｅ−Ｎｉ合金からなる高μ磁性膜３３を堆積させて凹部３０を埋め込む。
【００３５】
図８参照
次いで、全面にＦｅ−Ｃｏ合金からなり厚さが、例えば、５０ｎｍの磁気記録膜３４を堆積したのち、保護膜２４及びレジスト膜１６を除去して、不要な磁気記録膜３４乃至裏打層３１をリフトオフする。
この場合、凹部３０に埋め込まれた高μ磁性膜３３上に堆積した磁気記録膜３４がサーボパターン３５となる。
【００３６】
以降は、図示を省略するが、上記の図５の工程と同様に、全面に垂直に磁界を印加して初期化することによって、磁気記録膜１５及び磁気記録膜３４の磁化方向を揃える。
次いで、サーボパターン部１９のみを覆うような突起部を設けた磁化反転用ラフパターンマスターをサーボパターン部１９に接触させた状態で、初期化した磁化方向と逆方向に磁界を印加し、埋め込まれた高μ磁性膜３３の上に位置する磁気記録膜３４の磁化を反転させ、磁気サーボパターンを形成することによって、本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の基本構成が完成する。
この時、高μ磁性膜３３の上に位置する磁気記録膜３４は、高μ磁性膜３３を介して磁束が通りやすくなるため、磁気記録膜１５に比べて優先的に磁化が反転することになる。
【００３７】
このように、本発明の実施例２においては、高μ磁性膜をガラス基板に設けた凹部に埋め込むとともに、その上に磁気記録膜を堆積させているので、一方の磁気記録膜からの再生出力が「１」であれば、他方の磁気記録膜からの再生出力は「−１」になるため、磁気サーボパターンからの再生出力が従来と比べて半減することがない。
【００３８】
また、ディスクリートトラックを形成する工程において、同じレジスト膜を用いてデータ部の分断部とサーボパターン部の分断部を形成しているので、サーボパターンとディスククリートトラックとの位置合わせが不要になる。
さらに、高μ磁性膜をガラス基板に設けた凹部に埋め込んでいるので、全体の表面の平坦化が容易になる。
【実施例３】
【００３９】
次に、図９を参照して、本発明の実施例３のディスクリートトラック型磁気記録媒体の形成工程を説明するが、磁化反転工程が異なるだけで、基本的な製造工程は上記の実施例１と全く同様であるので、磁化反転工程のみ説明する。
図９参照
上記の実施例１と全く同様にしてサーボパターン部１９の分断部２０に磁気記録膜２７を埋め込んだのち、垂直に十分に強い磁界を印加して初期化し、次いで、高μ磁性膜１４上の磁気記録膜１５のみ磁化を反転させる磁界強度の磁界を用いて反転させ、磁気サーボパターンを形成する。
この時の初期化のための磁界強度は、例えば、８ｋＯｅとし、磁化反転のための磁界強度は高μ磁性膜１４の透磁率によるが、例えば、５ｋＯｅとする。
【００４０】
このように、本発明の実施例３においては、磁化反転用のラフパターンマスターを用いることなく、磁気サーボパターンを形成することができるので、磁化反転時のラフパターンマスターとサーボパターン部との位置合わせが不要になる。
【実施例４】
【００４１】
次に、図１０を参照して、本発明の実施例４のビットパターン型磁気記録媒体の形成工程を説明するが、データ部の構成が異なるだけで、基本的な製造工程は上記の実施例１と全く同様であるので、最終的な構成のみ説明する。
図１０参照
図１０は、本発明の実施例４のビットパターン型磁気記録媒体の構成説明図であり、上図は概略的要部平面図であり、下図は上図におけるＡ−Ａ′を結ぶ一点鎖線に沿った概略的要部断面図である。
図に示すように、データ部１７における磁気記録膜１５がビットパターン３６として形成される。
【００４２】
この実施例４における作用効果は、データ部１７における磁気記録膜１５がビットパターン３１であること以外については、上記実施例１と全く同様である。
【００４３】
以上、本発明の各実施例を説明してきたが、本発明は各実施例に記載された構成・条件等に限られるものではなく各種の変更が可能であり、例えば、上記各実施例においては磁気記録膜１５と磁気記録膜２７を同じ材料で構成しているが、同じ材料である必要はない。
【００４４】
また、上記の実施例２においては、データ部の分断部をガラス基板に達するように形成しているが、ガラス基板に達する必要はなく、磁気記録膜１５が完全に分断されていれば良く、したがって、少なくとも中間層に達するように分断部を形成すれば良い。
【００４５】
また、上記の実施例４は、上記の実施例１に対応する構成として説明しているが、上記の実施例２に示した埋込高μ磁性膜を利用したサーボパターン部を有するドットパターン型磁気記録媒体を構成しても良いものである。
【００４６】
また、上記の実施例３は、上記の実施例１に示した構造の磁気記録媒体における磁化反転工程として説明しているが、上記の実施例４に示したビットパターン型磁気記録媒体の磁化反転工程にも適用されるものである。
【００４７】
また、上記の各実施例においては、基板としてガラスを用いているがガラス基板に限られるものではなく、Ａｌ基板やＳｉ基板等の他の基板を用いても良いものである。
また、上記の各実施例に示した裏打層、中間層、或いは、磁気記録膜の組成・素材は単なる一例であり、各種の公知の磁気記録媒体に用いられている裏打層、中間層、或いは、磁気記録膜の組成・素材に置き換えても良いことは言うまでもない。
【００４８】
ここで、再び、図１を参照して、本発明の詳細な特徴を改めて説明する。
再び、図１参照
（付記１） 基体１上に磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、前記磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のいずれかにおいて、前記サーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成し、前記サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
（付記２） 上記サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４が、基体１の平坦面に形成された凸状パターン５であり、前記凸状パターン５の上に上記磁気記録膜６を設けるとともに、前記隣接する凸状パターン５間にも前記磁気記録膜６を設けたことを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
（付記３） 上記サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４が、基体１に設けられた凹部に充填された埋込パターンであり、少なくとも前記サーボパターン部２の全面を覆うように上記磁気記録膜６を設けたことを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
（付記４） 上記高透磁率磁性材料４が、Ｆｅ、Ｎｉ、ＦｅＣｏ、或いは、パーマロイのいずれかであることを特徴とする付記１乃至３のいずれか１に記載の磁気記録媒体。
（付記５） 磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、前記磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体の前記サーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成する工程、前記サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設ける工程、前記サーボパターン部２に垂直に十分に強い磁界を印加して初期化したのち、前記初期化磁界と逆方向に磁界を印加して前記高透磁率磁性材料４を充填した箇所の前記磁気記録膜６のみの磁化を反転させる工程を有することを特徴とする磁気サーボパターン作成方法。
（付記６） 上記サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４が、基体１の平坦面に形成された凸状パターン５であり、前記凸状パターン５の上に上記磁気記録膜６を設けるとともに、前記隣接する凸状パターン５間にも前記磁気記録膜６を設けたことを特徴とする付記４記載の磁気サーボパターン作成方法。
（付記７） 上記サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４が、基体１に設けられた凹部に充填された埋込パターンであり、少なくとも前記サーボパターン部２の全面を覆うように上記磁気記録膜６を設けたことを特徴とする付記４記載の磁気サーボパターン作成方法。
（付記８） 上記初期化磁界と逆方向に磁界を印加する際に、上記サーボパターン部２全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させて垂直に磁界を印加することを特徴とする付記５乃至７のいずれか１に記載の磁気サーボパターン作成方法。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の途中までの製造工程の説明図である。
【図３】本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図２以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図４】本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図３以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図５】本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図４以降の製造工程の説明図である。
【図６】本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の途中までの製造工程の説明図である。
【図７】本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図６以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図８】本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図７以降の製造工程の説明図である。
【図９】本発明の実施例３のディスクリートトラック型磁気記録媒体の磁化反転工程の説明図である。
【図１０】本発明の実施例４のビットパターン型磁気記録媒体の構成説明図である。
【図１１】従来のディスクリートトラック媒体の要部平面図である。
【図１２】従来のディスクリートトラック媒体の要部断面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１ 基体
２ サーボパターン部
３ データ部
４ 高透磁率磁性材料
５ 凸状パターン
６ 磁気記録膜
１１ ガラス基体
１２ 裏打層
１３ 中間層
１４ 高μ磁性膜
１５ 磁気記録膜
１６ レジスト膜
１７ データ部
１８ 分断部
１９ サーボパターン部
２０ 分断部
２１ 保護膜
２２ 分断部
２３ ディスクリートトラック
２４ 保護膜
２５ 分断部
２６ サーボパターン
２７ 磁気記録膜
２８ 磁化反転用ラフパターンマスター
２９ 分断部
３０ 凹部
３１ 裏打層
３２ 中間層
３３ 高μ磁性膜
３４ 磁気記録膜
３５ サーボパターン
３６ ビットパターン
５１ 基板
５２ データ部
５３ 磁性膜
５４ 裏打層
５５ 中間層
５６ 磁気記録膜
５７ 切断部
５８ サーボパターン部
５９ 分断部
６０ 磁性膜
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法に関するものであり、特に、磁性体部分がデータ部においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体において充分な再生出力が得られる磁気サーボパターンを形成するための構成に特徴のある磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の連続媒体におけるデータの記録・再生においては、装置側のクロックで媒体上に記録ピット位置にとらわれずに信号を記録し、再生の際には、書かれたピットに対して再生のクロックを同期させれば良かった。
【０００３】
これに対し、ディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体ではデータを記録すべき位置が媒体上で規定されているため、その位置に合わせてデータを記録しなければ、正確なデータを記録することはできない。
【０００４】
そのために、ディスクリートトラック媒体またはビットパターン媒体ではトラックに位置を合わせたサーボパターンが必要となる（例えば、特許文献１或いは特許文献２参照）ので、ここで、図１１及び図１２を参照して、従来のディスクリートトラック媒体におけるサーボパターンの構成を説明する。
【０００５】
図１１参照
図１１は、従来のディスクリートトラック媒体の要部平面図であり、裏打層５４、中間層５５、及び、磁気記録膜５６を順次堆積して構成した磁性膜５３が切断部５７で分断されたデータ部５２と、分断部５９によって所定パターンに画定された磁性膜６０からなるサーボパターン部５８から構成されている。
【０００６】
図１２参照
図１２は、従来のディスクリートトラック媒体の要部断面図であり、サーボパターン部５８に形成される所定パターンの磁性膜６０は、トラックに位置が合ったサーボパターンを構成するために、ディスクリートトラックの作成時に同時にガラス基板等の基板５１上においてサーボパターン部の磁性膜を分断してサーボパターンを形成している。
なお、ビットパターン媒体の場合も、データ部がビットパターンになっているだけ、サーボパターン部の構成は実質的に同様である。
【０００７】
このサーボパターン部５８における磁性膜６０から再生ヘッドによりサーボパターン情報を読み出すことによって、所定のトラック位置に情報を磁気記録することになる。
【特許文献１】特開２００３−１５７５０７号公報
【特許文献２】特開２００６−２７７８６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、上述の構成の場合には、分断部５９においては磁性材料が存在しないため、サーボパターンからの再生出力が半減して、位置決め精度が劣化するという問題がある。
即ち、従来の連続媒体の場合には、全面を一方向に磁化に初期化したのち、逆方向の磁界で磁気パターンを書き込むため、サーボパターンからの再生出力は「１」または「−１」となるのに対して、分断部５９に磁性材料しないので、再生出力は「１」または「０」となるためである。
【０００９】
したがって、本発明は、ディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体に形成したサーボパターンからの再生信号を充分な強度にすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
ここで図１を参照して、本発明における課題を解決するための手段を説明する。
図１参照
上記課題を解決するために、本発明は、基体１上に磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のいずれかにおいて、サーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成し、サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設けたことを特徴とする。
【００１１】
このように、磁気サーボパターンを構成する磁気記録膜６の下地に高透磁率磁性材料４を設けるとともに、サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設けることによって、従来の分断部に磁気記録膜６を設けてもその下地に高透磁率磁性材料４が存在するか否かによって磁化方向をｕｐとｄｏｗｎの２方向に設定できるので、従来の連続媒体と同様の再生出力を得ることができる。
なお、本発明において「基体（ｂｏｄｙ）」とは、ガラス等の基板自体或いは基板上に裏打層や中間層を堆積させた全体構造を意味する。
【００１２】
なお、このような２方向の磁化方向を容易に確実設定して充分な再生出力を得るためには、高透磁率磁性材料４の透磁率は５０００〔Ｈ／ｍ〕以上である必要があり、５０００〔Ｈ／ｍ〕未満の場合には、ラフマスター等のサーボパターン部２全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させて一括して磁気転写した場合に、ｕｐとｄｏｗｎの２値化が困難になる。
【００１３】
この場合、サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４を、基体１の平坦面に形成された凸状パターン５として設けても良いし、或いは、基体１に設けられた凹部に充填された埋込パターンとして設けても良いものである。
【００１４】
また、この場合の高透磁率磁性材料４としては、Ｆｅ、Ｎｉ、ＦｅＣｏ、或いは、パーマロイのいずれかが好適である。
【００１５】
また、磁気サーボパターン作成方法としては、磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のサーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成し、サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設け、サーボパターン部２に垂直に十分に強い磁界を印加して初期化したのち、初期化磁界と逆方向に磁界を印加して高透磁率磁性材料４を充填した箇所の磁気記録膜６のみの磁化を反転させれば良い。
【００１６】
この場合も、サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４を、基体１の平坦面に形成された凸状パターン５として設けても良いし、或いは、基体１に設けられた凹部に充填された埋込パターンとして設けても良いものである。
【００１７】
なお、凸状パターン５を設ける場合には、高透磁率磁性材料４上に磁気記録膜６を堆積したのち、選択的にエッチングすることによって凸状パターン５を形成し、次いで、隣接する凸状パターン５の間に再び磁気記録膜６を形成することになる。
【００１８】
また、初期化磁界と逆方向に磁界を印加する際に、サーボパターン部２全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させて垂直に磁界を印加することが望ましく、それによって、磁気サーボパターンを一括して書き込むことができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ディスクリートトラック等の作成時に同時にサーボパターン部を作成するのでトラックに位置が合ったサーボパターンを作成することができ、且つ、サーボパターンの再生出力が半減しないので、位置決め精度の高いサーボパターンとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明は、磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、磁性体部分がデータ部においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のサーボパターン部の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料を基板の平坦面に形成された凸状パターン或いは基板に設けられた凹部に充填された埋込パターンとして設け、サーボパターン部の表面を全て覆うように磁気記録膜を設け、典型的には、サーボパターン部全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させてサーボパターン部に垂直に十分に強い磁界を印加して初期化したのち、初期化磁界と逆方向に磁界を印加して高透磁率磁性材料を充填した箇所の磁気記録膜のみの磁化を反転させるものである。
【実施例１】
【００２１】
次に、図２乃至図５を参照して本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の製造工程を説明する。
なお、説明を簡単にするために、ガラス基板の一方の面側の構成を説明するが、基板の他方の面に対しても同じ構成を採用するものである。
図２参照
まず、ガラス基体１１上に、軟磁性材料からなり厚さが、例えば、２００ｎｍの裏打層１２、非磁性材料からなり厚さが、例えば、２０ｎｍの中間層１３、Ｆｅ−Ｎｉ合金からなり厚さが、例えば、１００ｎｍの高μ磁性膜１４、及び、Ｆｅ−Ｃｏ合金からなり厚さが、例えば、５０ｎｍの磁気記録膜１５を順次成膜したのち、全面にレジスト膜１６を塗布する。
【００２２】
次いで、レジスト膜１６を露光・現像することによって分断部１８及び分断部２０を開口部とすることによってデータ部１７とサーボパターン部１９を形成する。
【００２３】
図３参照
次いで、サーボパターン部１９を覆うように保護膜２１を塗布したのち、磁気記録膜１５の露出部を除去して高μ磁性膜１４に達する分断部２２を形成することによってディスクリートトラック２３を形成する。
【００２４】
次いで、保護膜２１を除去したのち、データ部１７を覆うように保護膜２４を塗布したのち、磁気記録膜１５の露出部を除去して高μ磁性膜１４に達する分断部２５を形成することによってサーボパターン２６を形成する。
【００２５】
図４参照
次いで、全面にＦｅ−Ｃｏ合金からなり厚さが、例えば、５０ｎｍの磁気記録膜２７を堆積したのち、保護膜２４及びレジスト膜１６を除去して、不要な磁気記録膜２７をリフトオフする。
【００２６】
図５参照
次いで、全面に垂直に磁界を印加して初期化することによって、磁気記録膜１５及び磁気記録膜２７の磁化方向を揃える。
【００２７】
次いで、サーボパターン部１９のみを覆うような突起部２９を設けた磁化反転用ラフパターンマスター２８をサーボパターン部１９に接触させた状態で、初期化した磁化方向と逆方向に磁界を印加し、高μ磁性膜１４の上に設けた磁気記録膜１５の磁化を反転させ、磁気サーボパターンを形成することによって、本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の基本構成が完成する。
この時、高μ磁性膜１４の上に設けた磁気記録膜１５は、高μ磁性膜１４を介して磁束が通りやすくなるため、磁気記録膜２７に比べて優先的に磁化が反転することになる。
【００２８】
このように、本発明の実施例１においては、磁気記録膜の下地に高μ磁性膜を設けて、サーボパターン部の分断部となる凹部に磁気記録膜を充填しているので、一方の磁気記録膜からの再生出力が「１」であれば、他方の磁気記録膜からの再生出力は「−１」になるため、磁気サーボパターンからの再生出力が従来と比べて半減することがない。
【００２９】
また、ディスクリートトラックを形成する工程において、同じレジスト膜を用いてデータ部の分断部とサーボパターン部の分断部を形成しているので、サーボパターンとディスククリートトラックとの位置合わせが不要になる。
【実施例２】
【００３０】
次に、図６乃至図８を参照して、本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の製造工程を説明する。
この場合も、説明を簡単にするために、ガラス基板の一方の面側の構成を説明するが、基板の他方の面に対しても同じ構成を採用するものである。
図６参照
まず、ガラス基体１１上に、軟磁性材料からなり厚さが、例えば、２００ｎｍの裏打層１２、非磁性材料からなり厚さが、例えば、２０ｎｍの中間層１３、及び、Ｆｅ−Ｃｏ合金からなり厚さが、例えば、５０ｎｍの磁気記録膜１５を順次成膜したのち、全面にレジスト膜１６を塗布する。
【００３１】
次いで、レジスト膜１６を露光・現像することによって分断部１８及び分断部２９を開口部とすることによってデータ部１７とサーボパターン部１９を形成する。
【００３２】
図７参照
次いで、サーボパターン部１９を覆うように保護膜２１を塗布したのち、磁気記録膜１５の露出部を除去してガラス基板１１に達する分断部２２を形成することによってディスクリートトラック２３を形成する。
【００３３】
次いで、保護膜２１を除去したのち、データ部１７を覆うように保護膜２４を塗布したのち、磁気記録膜１５の露出部を除去するとともに、ガラス基板１１に深さが、例えば、１００ｎｍの凹部３０を形成する。
【００３４】
次いで、全面に軟磁性材料からなる裏打層３１、非磁性材料からなる中間層３２、及び、Ｆｅ−Ｎｉ合金からなる高μ磁性膜３３を堆積させて凹部３０を埋め込む。
【００３５】
図８参照
次いで、全面にＦｅ−Ｃｏ合金からなり厚さが、例えば、５０ｎｍの磁気記録膜３４を堆積したのち、保護膜２４及びレジスト膜１６を除去して、不要な磁気記録膜３４乃至裏打層３１をリフトオフする。
この場合、凹部３０に埋め込まれた高μ磁性膜３３上に堆積した磁気記録膜３４がサーボパターン３５となる。
【００３６】
以降は、図示を省略するが、上記の図５の工程と同様に、全面に垂直に磁界を印加して初期化することによって、磁気記録膜１５及び磁気記録膜３４の磁化方向を揃える。
次いで、サーボパターン部１９のみを覆うような突起部を設けた磁化反転用ラフパターンマスターをサーボパターン部１９に接触させた状態で、初期化した磁化方向と逆方向に磁界を印加し、埋め込まれた高μ磁性膜３３の上に位置する磁気記録膜３４の磁化を反転させ、磁気サーボパターンを形成することによって、本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の基本構成が完成する。
この時、高μ磁性膜３３の上に位置する磁気記録膜３４は、高μ磁性膜３３を介して磁束が通りやすくなるため、磁気記録膜１５に比べて優先的に磁化が反転することになる。
【００３７】
このように、本発明の実施例２においては、高μ磁性膜をガラス基板に設けた凹部に埋め込むとともに、その上に磁気記録膜を堆積させているので、一方の磁気記録膜からの再生出力が「１」であれば、他方の磁気記録膜からの再生出力は「−１」になるため、磁気サーボパターンからの再生出力が従来と比べて半減することがない。
【００３８】
また、ディスクリートトラックを形成する工程において、同じレジスト膜を用いてデータ部の分断部とサーボパターン部の分断部を形成しているので、サーボパターンとディスククリートトラックとの位置合わせが不要になる。
さらに、高μ磁性膜をガラス基板に設けた凹部に埋め込んでいるので、全体の表面の平坦化が容易になる。
【実施例３】
【００３９】
次に、図９を参照して、本発明の実施例３のディスクリートトラック型磁気記録媒体の形成工程を説明するが、磁化反転工程が異なるだけで、基本的な製造工程は上記の実施例１と全く同様であるので、磁化反転工程のみ説明する。
図９参照
上記の実施例１と全く同様にしてサーボパターン部１９の分断部２０に磁気記録膜２７を埋め込んだのち、垂直に十分に強い磁界を印加して初期化し、次いで、高μ磁性膜１４上の磁気記録膜１５のみ磁化を反転させる磁界強度の磁界を用いて反転させ、磁気サーボパターンを形成する。
この時の初期化のための磁界強度は、例えば、８ｋＯｅとし、磁化反転のための磁界強度は高μ磁性膜１４の透磁率によるが、例えば、５ｋＯｅとする。
【００４０】
このように、本発明の実施例３においては、磁化反転用のラフパターンマスターを用いることなく、磁気サーボパターンを形成することができるので、磁化反転時のラフパターンマスターとサーボパターン部との位置合わせが不要になる。
【実施例４】
【００４１】
次に、図１０を参照して、本発明の実施例４のビットパターン型磁気記録媒体の形成工程を説明するが、データ部の構成が異なるだけで、基本的な製造工程は上記の実施例１と全く同様であるので、最終的な構成のみ説明する。
図１０参照
図１０は、本発明の実施例４のビットパターン型磁気記録媒体の構成説明図であり、上図は概略的要部平面図であり、下図は上図におけるＡ−Ａ′を結ぶ一点鎖線に沿った概略的要部断面図である。
図に示すように、データ部１７における磁気記録膜１５がビットパターン３６として形成される。
【００４２】
この実施例４における作用効果は、データ部１７における磁気記録膜１５がビットパターン３１であること以外については、上記実施例１と全く同様である。
【００４３】
以上、本発明の各実施例を説明してきたが、本発明は各実施例に記載された構成・条件等に限られるものではなく各種の変更が可能であり、例えば、上記各実施例においては磁気記録膜１５と磁気記録膜２７を同じ材料で構成しているが、同じ材料である必要はない。
【００４４】
また、上記の実施例２においては、データ部の分断部をガラス基板に達するように形成しているが、ガラス基板に達する必要はなく、磁気記録膜１５が完全に分断されていれば良く、したがって、少なくとも中間層に達するように分断部を形成すれば良い。
【００４５】
また、上記の実施例４は、上記の実施例１に対応する構成として説明しているが、上記の実施例２に示した埋込高μ磁性膜を利用したサーボパターン部を有するドットパターン型磁気記録媒体を構成しても良いものである。
【００４６】
また、上記の実施例３は、上記の実施例１に示した構造の磁気記録媒体における磁化反転工程として説明しているが、上記の実施例４に示したビットパターン型磁気記録媒体の磁化反転工程にも適用されるものである。
【００４７】
また、上記の各実施例においては、基板としてガラスを用いているがガラス基板に限られるものではなく、Ａｌ基板やＳｉ基板等の他の基板を用いても良いものである。
また、上記の各実施例に示した裏打層、中間層、或いは、磁気記録膜の組成・素材は単なる一例であり、各種の公知の磁気記録媒体に用いられている裏打層、中間層、或いは、磁気記録膜の組成・素材に置き換えても良いことは言うまでもない。
【００４８】
ここで、再び、図１を参照して、本発明の詳細な特徴を改めて説明する。
再び、図１参照
（付記１） 基体１上に磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、前記磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のいずれかにおいて、前記サーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成し、前記サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
（付記２） 上記サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４が、基体１の平坦面に形成された凸状パターン５であり、前記凸状パターン５の上に上記磁気記録膜６を設けるとともに、前記隣接する凸状パターン５間にも前記磁気記録膜６を設けたことを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
（付記３） 上記サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４が、基体１に設けられた凹部に充填された埋込パターンであり、少なくとも前記サーボパターン部２の全面を覆うように上記磁気記録膜６を設けたことを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
（付記４） 上記高透磁率磁性材料４が、Ｆｅ、Ｎｉ、ＦｅＣｏ、或いは、パーマロイのいずれかであることを特徴とする付記１乃至３のいずれか１に記載の磁気記録媒体。
（付記５） 磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、前記磁性体部分がデータ部３においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体の前記サーボパターン部２の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料４を形成する工程、前記サーボパターン部２の表面を全て覆うように磁気記録膜６を設ける工程、前記サーボパターン部２に垂直に十分に強い磁界を印加して初期化したのち、前記初期化磁界と逆方向に磁界を印加して前記高透磁率磁性材料４を充填した箇所の前記磁気記録膜６のみの磁化を反転させる工程を有することを特徴とする磁気サーボパターン作成方法。
（付記６） 上記サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４が、基体１の平坦面に形成された凸状パターン５であり、前記凸状パターン５の上に上記磁気記録膜６を設けるとともに、前記隣接する凸状パターン５間にも前記磁気記録膜６を設けたことを特徴とする付記４記載の磁気サーボパターン作成方法。
（付記７） 上記サーボパターン部２の一部に形成された高透磁率磁性材料４が、基体１に設けられた凹部に充填された埋込パターンであり、少なくとも前記サーボパターン部２の全面を覆うように上記磁気記録膜６を設けたことを特徴とする付記４記載の磁気サーボパターン作成方法。
（付記８） 上記初期化磁界と逆方向に磁界を印加する際に、上記サーボパターン部２全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させて垂直に磁界を印加することを特徴とする付記５乃至７のいずれか１に記載の磁気サーボパターン作成方法。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の途中までの製造工程の説明図である。
【図３】本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図２以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図４】本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図３以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図５】本発明の実施例１のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図４以降の製造工程の説明図である。
【図６】本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の途中までの製造工程の説明図である。
【図７】本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図６以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図８】本発明の実施例２のディスクリートトラック型磁気記録媒体の図７以降の製造工程の説明図である。
【図９】本発明の実施例３のディスクリートトラック型磁気記録媒体の磁化反転工程の説明図である。
【図１０】本発明の実施例４のビットパターン型磁気記録媒体の構成説明図である。
【図１１】従来のディスクリートトラック媒体の要部平面図である。
【図１２】従来のディスクリートトラック媒体の要部断面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１ 基体
２ サーボパターン部
３ データ部
４ 高透磁率磁性材料
５ 凸状パターン
６ 磁気記録膜
１１ ガラス基体
１２ 裏打層
１３ 中間層
１４ 高μ磁性膜
１５ 磁気記録膜
１６ レジスト膜
１７ データ部
１８ 分断部
１９ サーボパターン部
２０ 分断部
２１ 保護膜
２２ 分断部
２３ ディスクリートトラック
２４ 保護膜
２５ 分断部
２６ サーボパターン
２７ 磁気記録膜
２８ 磁化反転用ラフパターンマスター
２９ 分断部
３０ 凹部
３１ 裏打層
３２ 中間層
３３ 高μ磁性膜
３４ 磁気記録膜
３５ サーボパターン
３６ ビットパターン
５１ 基板
５２ データ部
５３ 磁性膜
５４ 裏打層
５５ 中間層
５６ 磁気記録膜
５７ 切断部
５８ サーボパターン部
５９ 分断部
６０ 磁性膜
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、前記磁性体部分がデータ部においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のいずれかにおいて、前記サーボパターン部の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料を形成し、前記サーボパターン部の表面を全て覆うように磁気記録膜を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
上記サーボパターン部の一部に形成された高透磁率磁性材料が、基体の平坦面に形成された凸状パターンであり、前記凸状パターンの上に上記磁気記録膜を設けるとともに、前記隣接する凸状パターン間の間隙にも前記磁気記録膜を設けたことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
上記サーボパターン部の一部に形成された高透磁率磁性材料が、基体に設けられた凹部に充填された埋込パターンであり、少なくとも前記サーボパターン部の全面を覆うように上記磁気記録膜を設けたことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、前記磁性体部分がデータ部においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体の前記サーボパターン部の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料を形成する工程、前記サーボパターン部の表面を全て覆うように磁気記録膜を設ける工程、及び、前記サーボパターン部に垂直に十分に強い磁界を印加して初期化したのち、前記初期化磁界と逆方向に磁界を印加して前記高透磁率磁性材料を充填した箇所の前記磁気記録膜のみの磁化を反転させる工程を有することを特徴とする磁気サーボパターン作成方法。
【請求項５】
上記初期化磁界と逆方向に磁界を印加する際に、上記サーボパターン部全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させて垂直に磁界を印加することを特徴とする請求項４記載の磁気サーボパターン作成方法。
【請求項１】
基体上に磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、前記磁性体部分がデータ部においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体のいずれかにおいて、前記サーボパターン部の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料を形成し、前記サーボパターン部の表面を全て覆うように磁気記録膜を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
上記サーボパターン部の一部に形成された高透磁率磁性材料が、基体の平坦面に形成された凸状パターンであり、前記凸状パターンの上に上記磁気記録膜を設けるとともに、前記隣接する凸状パターン間の間隙にも前記磁気記録膜を設けたことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
上記サーボパターン部の一部に形成された高透磁率磁性材料が、基体に設けられた凹部に充填された埋込パターンであり、少なくとも前記サーボパターン部の全面を覆うように上記磁気記録膜を設けたことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
磁気情報を記録できる磁性体部分を有する円板状の磁気記録媒体であって、前記磁性体部分がデータ部においてトラック間或いはビット間で分断され、且つ、サーボパターンが設けられているサーボパターン埋め込み式のディスクリートトラック媒体或いはビットパターン媒体の前記サーボパターン部の一部に透磁率が５０００〔Ｈ／ｍ〕以上の高透磁率磁性材料を形成する工程、前記サーボパターン部の表面を全て覆うように磁気記録膜を設ける工程、及び、前記サーボパターン部に垂直に十分に強い磁界を印加して初期化したのち、前記初期化磁界と逆方向に磁界を印加して前記高透磁率磁性材料を充填した箇所の前記磁気記録膜のみの磁化を反転させる工程を有することを特徴とする磁気サーボパターン作成方法。
【請求項５】
上記初期化磁界と逆方向に磁界を印加する際に、上記サーボパターン部全体のみに接触する突起部を有するマスターを接触させて垂直に磁界を印加することを特徴とする請求項４記載の磁気サーボパターン作成方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００９−９６６３（Ｐ２００９−９６６３Ａ）
【公開日】平成２１年１月１５日（２００９．１．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１７１８６６（Ｐ２００７−１７１８６６）
【出願日】平成１９年６月２９日（２００７．６．２９）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１月１５日（２００９．１．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年６月２９日（２００７．６．２９）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
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