粒子数計測システム
【課題】粒子数計測システムの構成を簡単化及びコンパクト化するとともに、そのコストを削減する。
【解決手段】メイン流路ＭＬ及び希釈ガス流路ＤＬとの接続点に設けた希釈器ＰＮＤ２と、希釈器ＰＮＤ２に導入される希釈ガス流量を制御する希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３と、希釈された排出ガス中の固体粒子数を計測する粒子数計測装置２と、メイン流路ＭＬにおける希釈器ＰＮＤ２及び粒子数計測装置２間から分岐し、定流量器ＣＦＯ３が設けられたバイパス流路ＢＬ３と、メイン流路ＭＬ及びバイパス流路ＢＬ３の合流点下流に接続された吸引ポンプＰと、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御される希釈ガス流量Ｑ１と、粒子数計測装置２の装置流量Ｑ２及び定流量器ＣＦＯ３の設定流量Ｑ３の合計流量とから排出ガスの希釈率を算出する情報処理装置４と、を備える。
【解決手段】メイン流路ＭＬ及び希釈ガス流路ＤＬとの接続点に設けた希釈器ＰＮＤ２と、希釈器ＰＮＤ２に導入される希釈ガス流量を制御する希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３と、希釈された排出ガス中の固体粒子数を計測する粒子数計測装置２と、メイン流路ＭＬにおける希釈器ＰＮＤ２及び粒子数計測装置２間から分岐し、定流量器ＣＦＯ３が設けられたバイパス流路ＢＬ３と、メイン流路ＭＬ及びバイパス流路ＢＬ３の合流点下流に接続された吸引ポンプＰと、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御される希釈ガス流量Ｑ１と、粒子数計測装置２の装置流量Ｑ２及び定流量器ＣＦＯ３の設定流量Ｑ３の合計流量とから排出ガスの希釈率を算出する情報処理装置４と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エンジンの排出ガスに含まれるＰＭ等の固体粒子数を計測する粒子数計測システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
エンジンからの排出物質の１つである粒子状物質（ＰＭ：Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ Ｍａｔｔｅｒｓ）の測定方法としては、フィルタを用いてＰＭを捕集し、そのＰＭ質量を図るフィルタ質量法が周知である。ところで、ＰＭ排出量が微量となり、フィルタ重量法では精度面で厳しい状況となってきている。そのような状況のもと、フィルタ重量法の代替法として開発されたものが、排出ガス中のＰＭの数を計測する手法である。その具体的なシステム構成としては、例えば粒子数計測装置の前段に、エンジンの排出ガスをエア等で希釈する希釈ユニットを設け、その希釈した排出ガスの一部を当該粒子数計測装置に導いて、その中に含まれる粒子数をカウントするようにしたものが知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
従来、このようなシステムにおいて、希釈ユニットは、特許文献２に示すように、排ガスが流れるメイン流路と希釈ガスが流れる希釈ガス流路との接続点又はその下流近傍に設けた希釈器と、その希釈器に導入される排出ガスの質量流量を測定するための流量測定機構と、希釈器に同じく導入される希釈ガスの質量流量を制御する希釈ガス流量制御部と、排出ガスの質量流量を可変させる排出ガス流量制御部と、を備えている。そして、この希釈ユニットに流れ込んでくる排出ガスの流量を、前記流量測定機構で測定するとともに排出ガス流量制御部で制御して、所望の希釈比を実現するように構成されている。
【０００４】
そして、流量制御機構は、流体抵抗となるオリフィス部と、そのオリフィス部の差圧を測定する圧力センサと、上流側の絶対圧を測定する圧力センサとを備えており、オリフィス部の上下流の圧力情報等に基づいて、別に設けた情報処理装置が、希釈器に導入される排出ガスの質量流量を算出できるように構成されている。
【０００５】
しかしながら、希釈ユニットの上流側にオリフィス部、差圧測定用の圧力センサ、絶対圧測定用の圧力センサ及び温調器を設けることによって、粒子数計測システムが大きくなってしまうという問題があるとともに、部品点数が増えることによってコスト増大の問題もある。
【０００６】
また、この粒子数計測システムにおいては、希釈ユニットと粒子数計測装置との間にバイパス流路を設け、そのバイパス流路にマスフローコントローラにより流量制御されたエアを供給することによって希釈ユニットから粒子数計測装置に導かれる排出ガスの流量を調整するようにしている。
【０００７】
しかしながら、マスフローコントローラを用いているので、粒子数計測システムとして大きくなってしまうだけでなく、コスト増大の問題もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−１９４７２６号公報
【特許文献２】特開２００８−１６４４４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決するためになされたものであり、粒子数計測システムの構成を簡単化及びコンパクト化するとともに、そのコストを削減することをその主たる所期課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち本発明に係る粒子数計測システムは、エンジンの排出ガスを導入するための排出ガス導入ポートと、希釈ガスを導入するための希釈ガス導入ポートと、前記排出ガス導入ポートに一端が接続されたメイン流路と、前記希釈ガス導入ポートに一端が接続され、他端が前記メイン流路に接続された希釈ガス流路と、前記メイン流路及び前記希釈ガス流路との接続点又はその下流近傍に設けた希釈器と、前記希釈ガス流路に設けられ、前記希釈器に導入される希釈ガスの流量を制御する希釈ガス流量制御部と、前記希釈器の下流にバルブを介して設けられ、希釈された排出ガス中の固体粒子数を計測するものであって、定流量機能を有する粒子数計測装置と、前記メイン流路における前記希釈器及び前記粒子数計測装置の間から分岐して設けられ、定流量器及びバルブが設けられたバイパス流路と、前記メイン流路及び前記バイパス流路の合流点下流に接続され、前記メイン流路及び前記バイパス流路に排出ガスを導入するための吸引ポンプと、前記希釈ガス流量制御部により制御される希釈ガス流量と、前記粒子数計測装置を流れる流量である装置流量及び前記バイパス流路上の定流量器の設定流量の合計流量と、から排出ガスの希釈率を算出する情報処理装置と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
このようなものであれば、希釈ガス流量制御部により制御される希釈ガス流量と、粒子数計測装置の装置流量及びバイパス流路上の定流量器の設定流量の合計流量と、から排出ガスの希釈率を算出するようにしているので、従来希釈ユニットに流入する排出ガスの流量を測定していた流量測定機構を不要とすることができ、システム構成を簡単化及びコンパクト化することができるとともに、コストダウンを可能にすることができる。また、従来、粒子数計測装置が設けられた流路及びバイパス流路毎に設けていた吸引ポンプを共通化させているので、これによってもシステム構成を簡単化及びコンパクト化することができ、システムのコストダウンを可能にすることができる。
【００１２】
バイパス流路上の定流量器がシステムに組み込んだ状態（初期）の設定流量と異なることがあり、これによる希釈比率の変動を防止するためには、前記情報処理装置が、前記粒子数計測装置の上流に設けたバルブを閉じ、前記バイパス流路に設けたバルブを開けて、前記希釈ガス流量制御部により制御された流量を前記バイパス流路上に流すことによって前記バイパス流路上の定流量器の設定流量を校正することが望ましい。
【００１３】
同様に、前記情報処理装置が、前記バイパス流路に設けたバルブを閉じ、前記粒子数計測装置の上流に設けたバルブを開けて、前記希釈ガス流量制御部により制御された流量を前記メイン流路に流すことによって前記粒子数計測装置の装置流量を校正することが望ましい。
【００１４】
上記のように定流量器の設定流量を校正したとしても、校正時における流路内の温度及び圧力と粒子測定時における流路内の温度及び圧力が異なることから、定流量器を流れる流量が変動してしまう。この問題を解決するためには、前記情報処理装置が、前記バイパス流路上の定流量器の校正時におけるその定流量器上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における前記バイパス流路上の定流量器上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、前記バイパス流路上の定流量器の設定流量を補正することが望ましい。
【００１５】
同様にして、前記情報処理装置が、前記粒子数計測装置の装置流量の校正時におけるその粒子数計測装置上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における前記粒子数計測装置上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、前記粒子数計測装置の装置流量を補正することが望ましい。
【発明の効果】
【００１６】
このように構成した本発明によれば、粒子数計測システムの構成を簡単化及びコンパクト化するとともに、そのコストを削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態に係る粒子数計測システムの全体構成図である。
【図２】同実施形態における情報の流れを示す情報伝達図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に本発明に係る粒子数計測システムの一実施形態について図面を参照して説明する。
【００１９】
本実施形態に係る粒子数計測システム１００は、排出ガス導入ポートＰＴ１から内部に設けたメイン流路ＭＬにエンジンの排出ガスを導いて、それに希釈や気化等を施した後、メイン流路ＭＬに設けた粒子数計測装置２で前記排出ガス中の固体粒子であるＰＭを測定するものである。
【００２０】
前記排出ガス導入ポートＰＴ１は、図示しないエンジンからの排気ラインに接続されており、この排出ガス導入ポートＰＴ１に、例えばエンジンからの直接の排出ガスもしくは全流希釈トンネルや分流希釈トンネルで希釈された排出ガスが導かれるように構成している。なお、以下で排出ガスというときは、上述したような希釈された排出ガスも含む意味で用いることとする。
【００２１】
この排出ガス導入ポートＰＴ１から開閉バルブＶ１を介して内部に導入された排出ガスは、一部は第１バイパス路ＢＬ１から排出され、その残りが、直列に設けた複数段（本実施形態では２段）の希釈器ＰＮＤ１、ＰＮＤ２に導かれて希釈ガスであるエアによって希釈される。
【００２２】
なお、エアは、希釈ガス導入ポートＰＴ２からレギュレータＲＥＧを介して複数の希釈ガス流路ＤＬ１〜ＤＬ３を経て、メイン流路ＭＬの各所又は第２バイパス流路ＢＬ２に供給される。
【００２３】
また、第１バイパス流路ＢＬ１は、後述する粒子数計測装置２の下流においてメイン流路ＭＬと合流しており、開閉バルブＶ２、及びバイパス流路ＢＬ１を流れる流量を一定に保つ、クリティカルオリフィス等の定流量器ＣＦＯ１がこの順で設けられている。さらに、メイン流路ＭＬ及びバイパス流路（第１バイパス流路ＢＬ１の他、後述するその他のバイパス流路ＢＬ２、ＢＬ３も含む。）の合流点下流には、メイン流路ＭＬ及びバイパス流路ＢＬ１〜ＢＬ３を負圧にして排出ガスを導入するための吸引ポンプＰが接続されている。また、吸引ポンプＰの上流側近傍には、吸引ポンプＰの吸引力の変動を平滑化するためのバッファチャンバＢＣが設けられている。
【００２４】
第１希釈器ＰＮＤ１は、メイン流路ＭＬと希釈ガス流路ＤＬとの接続点又はその下流近傍に設けられており、第１希釈器ＰＮＤ１に導入された排出ガスを加熱するとともにその排出ガスを希釈するものである。
【００２５】
この第１希釈器ＰＮＤ１に導入される被希釈ガスである排出ガスは、その質量流量が第１希釈器ＰＮＤ１の上流、より具体的には接続点上流に設けられた流量測定機構３により測定されている。
【００２６】
この流量測定機構３は、流体抵抗となるオリフィス部３１と、そのオリフィス部３１の差圧を測定する圧力センサ３２と、上流側の絶対圧を測定する圧力センサ３３と、流体の温度を調整する温調器３４とを備えており、オリフィス部３１の上下流の圧力情報及び温調器３４からの温度情報に基づいて、別に設けた情報処理装置４（特に図２参照）が、第１希釈器ＰＮＤ１に導入される排出ガスの質量流量を算出できるように構成されている。情報処理装置４は、ＣＰＵ、メモリ、入力手段、ディスプレイ等を備え、メモリに格納した所定プログラムにしたがってＣＰＵや周辺機器が協働して動作する汎用乃至専用のいわゆるコンピュータである。
【００２７】
また、第１希釈器ＰＮＤ１に導入される希釈ガスは、希釈ガス流路ＤＬ１上に設けられた希釈ガス流量制御部ＭＦＣ１によりその質量流量が制御されている。この希釈ガス流量制御部ＭＦＣ１は、前記情報処理装置４から目標流量データを与えられると、内部に設けた流量センサ（図示しない）で測定される実流量が、目標流量データの値（以下、目標流量とも言う）となるように、内部のバルブ（図示しない）を調整してローカルで流量制御するものである。この目標流量は、前記情報処理装置４によって、希釈比率から算出される。
【００２８】
また、第１希釈器ＰＮＤ１の下流には、揮発性粒子を気化させるための蒸発器ＥＵが設けられるとともに、第１希釈器ＰＮＤ１及び蒸発器ＥＵの間から分岐して、粒子数計測装置２の下流においてメイン流路ＭＬに合流する第２バイパス流路ＢＬ２が設けられている。なお、蒸発器ＥＵは、３００〜４００度に加熱されている。
【００２９】
第２バイパス流路ＢＬ２には、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ２が設けられた希釈ガス流路ＤＬ２が接続されている。またバイパス流路ＢＬ２には、開閉バルブＶ３、及び第２バイパス流路ＢＬ２を流れる流量を一定に保つ、クリティカルオリフィス等の定流量器ＣＦＯ２が設けられている。このような構成により、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ２が情報処理装置４によって制御されることにより、第２バイパス流路ＢＬ２に流入する希釈ガスが調整され、その結果、メイン流路ＭＬから第２バイパス流路ＢＬ２に流入する排出ガスの質量流量を調節する。
【００３０】
第２希釈器ＰＮＤ２は、メイン流路ＭＬと希釈ガス流路ＤＬ３との接続点又はその下流近傍に設けられており、第２希釈器ＰＮＤ２に導入される排出ガスを冷却するとともにその排出ガスを希釈するものである。
【００３１】
第２希釈器ＰＮＤ２に導入される希釈ガスは、希釈ガス流路ＤＬ３に設けられた希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３によりその質量流量が制御されている。この希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３は、前記希釈ガス流量制御部ＭＦＣ１と同様に、前記情報処理装置４から目標流量データを与えられると、内部に設けた流量センサ（図示しない）で測定される実流量が、目標流量データの値（以下、目標流量とも言う）となるように、内部のバルブ（図示しない）を調整してローカルで流量制御するものである。この目標流量は、前記情報処理装置４によって、希釈比率から算出される。
【００３２】
このような構成において、第１希釈器ＰＮＤ１及びその近傍から第２希釈器ＰＮＤ２に至る配管を図示しないヒータ等の加熱手段を有する温度調節器により、例えば１５０度以上に加熱されている。これにより、配管内壁へのＰＭの付着や凝集等を防止して、計数誤差を抑制している。
【００３３】
また、第２希釈器ＰＮＤ２の下流には、第１希釈器ＰＮＤ１及び第２希釈器ＰＮＤ２により希釈された排出ガス中の固体粒子数を計測する粒子数計測装置２が開閉バルブＶ５を介して設けられるとともに、第２希釈器ＰＮＤ２及び粒子数計測装置２の間、具体的には開閉バルブＶ５上流から分岐して、粒子数計測装置２の下流においてメイン流路ＭＬと合流する第３バイパス流路ＢＬ３が設けられている。
【００３４】
このバイパス流路ＢＬ３には、バイパス流路ＢＬ３を流れる流量を一定に保つ、クリティカルオリフィス等の定流量器ＣＦＯ３、及び開閉バルブＶ４がこの順で設けられている。なお、開閉バルブＶ５及び粒子数計測装置３の間には、開閉バルブＶ６及びフィルタをこの順で設けた大気開放通路ＡＬが形成されており、吸引ポンプＰの停止時などに開閉バルブＶ５が閉じられる際に、開閉バルブＶ６を開けて粒子数計測装置２内を大気開放させる。
【００３５】
粒子数計測装置２は、アルコールやブタノールなどの有機ガスを過飽和状態で混入させて排出ガス中のＰＭに付着させることにより、このＰＭを大きな径に成長させ、成長したＰＭをスリットから排出して、出てきた粒子にレーザ光にて計数するものである。この粒子数計測装置２は、成長したＰＭをスリットから排出するように構成していることから、そのスリットが定流量器としての機能を有し、粒子測定装置２には一定流量の排出ガスが流れることになる。
【００３６】
このような構成により、２段の希釈器ＰＮＤ１、ＰＮＤ２で希釈された排出ガスの一部が粒子数計測装置２に導かれ、その排出ガスに含まれる固体粒子数が計数される。そして、粒子数計測装置２で測定された計数データは、前記情報処理装置４に出力されて適宜処理される。
【００３７】
しかして、本実施形態の情報処理装置４は、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御される希釈ガス流量Ｑ１と、粒子数計測装置２を流れる流量である装置流量Ｑ２及び第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の設定流量Ｑ３の合計流量Ｑ２＋Ｑ３と、から排出ガスの希釈比率を算出する。具体的に情報処理装置４は、希釈比率を（Ｑ２＋Ｑ３）／（Ｑ２＋Ｑ３−Ｑ１）により算出する。このように構成することによって、第２希釈器ＰＮＤ２に導入される排出ガスの質量流量を測定する流量測定機構を不要としている。
【００３８】
また本実施形態の情報処理装置４は、粒子数計測装置２の上流に設けた開閉バルブＶ５を閉じ、第３バイパス流路ＢＬ３に設けた開閉バルブＶ４を開けて、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御された流量Ｑ１を第３バイパス流路ＢＬ３上に流すことによって第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の設定流量を校正する。なお、この校正の際の定流量器ＣＦＯ３の上流近傍の圧力及び温度を圧力センサＰ１及び温度センサＴ１により測定し、情報処理装置４が、その測定データを校正データと関連付けて記憶する。
【００３９】
一方、情報処理装置４は、第３バイパス流路ＢＬ３に設けた開閉バルブＶ４を閉じ、粒子数計測装置２の上流に設けた開閉バルブＶ５を開けて、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御された流量Ｑ１をメイン流路ＭＬに流すことによって粒子数計測装置２の装置流量を校正する。なお、この校正の際の粒子数計測装置２の上流近傍の圧力及び温度を圧力センサＰ２及び温度センサＴ２により測定し、情報処理装置４が、その測定データを校正データと関連付けて記憶する。
【００４０】
さらに本実施形態の情報処理装置４は、第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の校正時におけるその定流量器ＣＦＯ３上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、バイパス流路上の定流量器の設定流量を補正する（補正後の設定流量Ｑ３’）。さらに、情報処理装置４は、粒子数計測装置２の装置流量の校正時におけるその粒子数計測装置２上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における粒子数計測装置２上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、粒子数計測装置２の装置流量を補正する（補正後の設定流量Ｑ２’）。そして、情報処理装置４は、この補正の結果得られた装置流量Ｑ２’及び設定流量Ｑ３’を用いて希釈比率を算出し、第２希釈器ＰＮＤ２での希釈比率が一定となるように希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３に目標流量データを与える。
【００４１】
＜本実施形態の効果＞
このように構成した本実施形態に係る粒子数計測システム１００によれば、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御される希釈ガス流量Ｑ１と、粒子数計測装置２の装置流量Ｑ２及びバイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の設定流量Ｑ３の合計流量Ｑ２＋Ｑ３と、から排出ガスの希釈率を算出するようにしているので、従来第２希釈器ＰＮＤ２に流入する排出ガスの流量を測定していた流量測定機構を不要とすることができ、システム構成を簡単化及びコンパクト化することができるとともに、コストダウンを可能にすることができる。また、従来、粒子数計測装置２が設けられた流路ＭＬ及びバイパス流路ＢＬ毎に設けていた吸引ポンプを共通化させているので、これによってもシステム構成を簡単化及びコンパクト化することができ、システムのコストダウンを可能にすることができる。
【００４２】
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
【００４３】
例えば、前記実施形態では、粒子数計測装置２の内部に設けられた定流量器（ＣＦＯ）が温調されていない場合を想定しており、粒子数計測装置２の装置流量を、この粒子数計測装置２の上流近傍の圧力及び温度を用いて校正している。一方、粒子数計数装置２内部に設けられた定流量器（ＣＦＯ）が温調されている場合には、粒子数計測装置２の装置流量は、粒子数計測装置２の上流近傍の圧力を用いて校正すれば良く、その上流近傍の温度を用いて校正する必要はない。
【００４４】
また、前記実施形態では、第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の上流近傍に圧力センサＰ１及び温度センサＴ１を設け、メイン流路ＭＬの粒子数計測装置の上流近傍に圧力センサＰ１及び温度センサＴ１を設けているが、それら圧力センサ及び温度センサを共通としても良い。具体的には、メイン流路ＭＬと第３バイパス流路ＢＬ３との分岐点上流近傍に共通の圧力センサ及び温度センサを設けても良い。
【００４５】
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
【符号の説明】
【００４６】
１００ ・・・粒子数計測システム
ＰＴ１ ・・・排出ガス導入ポート
ＰＴ２ ・・・希釈ガス導入ポート
ＭＬ ・・・メイン流路
ＤＬ ・・・希釈ガス流路
ＰＮＤ ・・・希釈器
ＭＦＣ ・・・希釈ガス流量制御部
Ｖ５ ・・・バルブ
２ ・・・粒子数計測装置
ＣＦＯ３・・・定流量器
Ｖ４ ・・・バルブ
ＢＬ ・・・バイパス流路
Ｐ ・・・吸引ポンプ
４ ・・・情報処理装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エンジンの排出ガスに含まれるＰＭ等の固体粒子数を計測する粒子数計測システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
エンジンからの排出物質の１つである粒子状物質（ＰＭ：Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ Ｍａｔｔｅｒｓ）の測定方法としては、フィルタを用いてＰＭを捕集し、そのＰＭ質量を図るフィルタ質量法が周知である。ところで、ＰＭ排出量が微量となり、フィルタ重量法では精度面で厳しい状況となってきている。そのような状況のもと、フィルタ重量法の代替法として開発されたものが、排出ガス中のＰＭの数を計測する手法である。その具体的なシステム構成としては、例えば粒子数計測装置の前段に、エンジンの排出ガスをエア等で希釈する希釈ユニットを設け、その希釈した排出ガスの一部を当該粒子数計測装置に導いて、その中に含まれる粒子数をカウントするようにしたものが知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
従来、このようなシステムにおいて、希釈ユニットは、特許文献２に示すように、排ガスが流れるメイン流路と希釈ガスが流れる希釈ガス流路との接続点又はその下流近傍に設けた希釈器と、その希釈器に導入される排出ガスの質量流量を測定するための流量測定機構と、希釈器に同じく導入される希釈ガスの質量流量を制御する希釈ガス流量制御部と、排出ガスの質量流量を可変させる排出ガス流量制御部と、を備えている。そして、この希釈ユニットに流れ込んでくる排出ガスの流量を、前記流量測定機構で測定するとともに排出ガス流量制御部で制御して、所望の希釈比を実現するように構成されている。
【０００４】
そして、流量制御機構は、流体抵抗となるオリフィス部と、そのオリフィス部の差圧を測定する圧力センサと、上流側の絶対圧を測定する圧力センサとを備えており、オリフィス部の上下流の圧力情報等に基づいて、別に設けた情報処理装置が、希釈器に導入される排出ガスの質量流量を算出できるように構成されている。
【０００５】
しかしながら、希釈ユニットの上流側にオリフィス部、差圧測定用の圧力センサ、絶対圧測定用の圧力センサ及び温調器を設けることによって、粒子数計測システムが大きくなってしまうという問題があるとともに、部品点数が増えることによってコスト増大の問題もある。
【０００６】
また、この粒子数計測システムにおいては、希釈ユニットと粒子数計測装置との間にバイパス流路を設け、そのバイパス流路にマスフローコントローラにより流量制御されたエアを供給することによって希釈ユニットから粒子数計測装置に導かれる排出ガスの流量を調整するようにしている。
【０００７】
しかしながら、マスフローコントローラを用いているので、粒子数計測システムとして大きくなってしまうだけでなく、コスト増大の問題もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−１９４７２６号公報
【特許文献２】特開２００８−１６４４４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決するためになされたものであり、粒子数計測システムの構成を簡単化及びコンパクト化するとともに、そのコストを削減することをその主たる所期課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち本発明に係る粒子数計測システムは、エンジンの排出ガスを導入するための排出ガス導入ポートと、希釈ガスを導入するための希釈ガス導入ポートと、前記排出ガス導入ポートに一端が接続されたメイン流路と、前記希釈ガス導入ポートに一端が接続され、他端が前記メイン流路に接続された希釈ガス流路と、前記メイン流路及び前記希釈ガス流路との接続点又はその下流近傍に設けた希釈器と、前記希釈ガス流路に設けられ、前記希釈器に導入される希釈ガスの流量を制御する希釈ガス流量制御部と、前記希釈器の下流にバルブを介して設けられ、希釈された排出ガス中の固体粒子数を計測するものであって、定流量機能を有する粒子数計測装置と、前記メイン流路における前記希釈器及び前記粒子数計測装置の間から分岐して設けられ、定流量器及びバルブが設けられたバイパス流路と、前記メイン流路及び前記バイパス流路の合流点下流に接続され、前記メイン流路及び前記バイパス流路に排出ガスを導入するための吸引ポンプと、前記希釈ガス流量制御部により制御される希釈ガス流量と、前記粒子数計測装置を流れる流量である装置流量及び前記バイパス流路上の定流量器の設定流量の合計流量と、から排出ガスの希釈率を算出する情報処理装置と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
このようなものであれば、希釈ガス流量制御部により制御される希釈ガス流量と、粒子数計測装置の装置流量及びバイパス流路上の定流量器の設定流量の合計流量と、から排出ガスの希釈率を算出するようにしているので、従来希釈ユニットに流入する排出ガスの流量を測定していた流量測定機構を不要とすることができ、システム構成を簡単化及びコンパクト化することができるとともに、コストダウンを可能にすることができる。また、従来、粒子数計測装置が設けられた流路及びバイパス流路毎に設けていた吸引ポンプを共通化させているので、これによってもシステム構成を簡単化及びコンパクト化することができ、システムのコストダウンを可能にすることができる。
【００１２】
バイパス流路上の定流量器がシステムに組み込んだ状態（初期）の設定流量と異なることがあり、これによる希釈比率の変動を防止するためには、前記情報処理装置が、前記粒子数計測装置の上流に設けたバルブを閉じ、前記バイパス流路に設けたバルブを開けて、前記希釈ガス流量制御部により制御された流量を前記バイパス流路上に流すことによって前記バイパス流路上の定流量器の設定流量を校正することが望ましい。
【００１３】
同様に、前記情報処理装置が、前記バイパス流路に設けたバルブを閉じ、前記粒子数計測装置の上流に設けたバルブを開けて、前記希釈ガス流量制御部により制御された流量を前記メイン流路に流すことによって前記粒子数計測装置の装置流量を校正することが望ましい。
【００１４】
上記のように定流量器の設定流量を校正したとしても、校正時における流路内の温度及び圧力と粒子測定時における流路内の温度及び圧力が異なることから、定流量器を流れる流量が変動してしまう。この問題を解決するためには、前記情報処理装置が、前記バイパス流路上の定流量器の校正時におけるその定流量器上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における前記バイパス流路上の定流量器上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、前記バイパス流路上の定流量器の設定流量を補正することが望ましい。
【００１５】
同様にして、前記情報処理装置が、前記粒子数計測装置の装置流量の校正時におけるその粒子数計測装置上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における前記粒子数計測装置上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、前記粒子数計測装置の装置流量を補正することが望ましい。
【発明の効果】
【００１６】
このように構成した本発明によれば、粒子数計測システムの構成を簡単化及びコンパクト化するとともに、そのコストを削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態に係る粒子数計測システムの全体構成図である。
【図２】同実施形態における情報の流れを示す情報伝達図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に本発明に係る粒子数計測システムの一実施形態について図面を参照して説明する。
【００１９】
本実施形態に係る粒子数計測システム１００は、排出ガス導入ポートＰＴ１から内部に設けたメイン流路ＭＬにエンジンの排出ガスを導いて、それに希釈や気化等を施した後、メイン流路ＭＬに設けた粒子数計測装置２で前記排出ガス中の固体粒子であるＰＭを測定するものである。
【００２０】
前記排出ガス導入ポートＰＴ１は、図示しないエンジンからの排気ラインに接続されており、この排出ガス導入ポートＰＴ１に、例えばエンジンからの直接の排出ガスもしくは全流希釈トンネルや分流希釈トンネルで希釈された排出ガスが導かれるように構成している。なお、以下で排出ガスというときは、上述したような希釈された排出ガスも含む意味で用いることとする。
【００２１】
この排出ガス導入ポートＰＴ１から開閉バルブＶ１を介して内部に導入された排出ガスは、一部は第１バイパス路ＢＬ１から排出され、その残りが、直列に設けた複数段（本実施形態では２段）の希釈器ＰＮＤ１、ＰＮＤ２に導かれて希釈ガスであるエアによって希釈される。
【００２２】
なお、エアは、希釈ガス導入ポートＰＴ２からレギュレータＲＥＧを介して複数の希釈ガス流路ＤＬ１〜ＤＬ３を経て、メイン流路ＭＬの各所又は第２バイパス流路ＢＬ２に供給される。
【００２３】
また、第１バイパス流路ＢＬ１は、後述する粒子数計測装置２の下流においてメイン流路ＭＬと合流しており、開閉バルブＶ２、及びバイパス流路ＢＬ１を流れる流量を一定に保つ、クリティカルオリフィス等の定流量器ＣＦＯ１がこの順で設けられている。さらに、メイン流路ＭＬ及びバイパス流路（第１バイパス流路ＢＬ１の他、後述するその他のバイパス流路ＢＬ２、ＢＬ３も含む。）の合流点下流には、メイン流路ＭＬ及びバイパス流路ＢＬ１〜ＢＬ３を負圧にして排出ガスを導入するための吸引ポンプＰが接続されている。また、吸引ポンプＰの上流側近傍には、吸引ポンプＰの吸引力の変動を平滑化するためのバッファチャンバＢＣが設けられている。
【００２４】
第１希釈器ＰＮＤ１は、メイン流路ＭＬと希釈ガス流路ＤＬとの接続点又はその下流近傍に設けられており、第１希釈器ＰＮＤ１に導入された排出ガスを加熱するとともにその排出ガスを希釈するものである。
【００２５】
この第１希釈器ＰＮＤ１に導入される被希釈ガスである排出ガスは、その質量流量が第１希釈器ＰＮＤ１の上流、より具体的には接続点上流に設けられた流量測定機構３により測定されている。
【００２６】
この流量測定機構３は、流体抵抗となるオリフィス部３１と、そのオリフィス部３１の差圧を測定する圧力センサ３２と、上流側の絶対圧を測定する圧力センサ３３と、流体の温度を調整する温調器３４とを備えており、オリフィス部３１の上下流の圧力情報及び温調器３４からの温度情報に基づいて、別に設けた情報処理装置４（特に図２参照）が、第１希釈器ＰＮＤ１に導入される排出ガスの質量流量を算出できるように構成されている。情報処理装置４は、ＣＰＵ、メモリ、入力手段、ディスプレイ等を備え、メモリに格納した所定プログラムにしたがってＣＰＵや周辺機器が協働して動作する汎用乃至専用のいわゆるコンピュータである。
【００２７】
また、第１希釈器ＰＮＤ１に導入される希釈ガスは、希釈ガス流路ＤＬ１上に設けられた希釈ガス流量制御部ＭＦＣ１によりその質量流量が制御されている。この希釈ガス流量制御部ＭＦＣ１は、前記情報処理装置４から目標流量データを与えられると、内部に設けた流量センサ（図示しない）で測定される実流量が、目標流量データの値（以下、目標流量とも言う）となるように、内部のバルブ（図示しない）を調整してローカルで流量制御するものである。この目標流量は、前記情報処理装置４によって、希釈比率から算出される。
【００２８】
また、第１希釈器ＰＮＤ１の下流には、揮発性粒子を気化させるための蒸発器ＥＵが設けられるとともに、第１希釈器ＰＮＤ１及び蒸発器ＥＵの間から分岐して、粒子数計測装置２の下流においてメイン流路ＭＬに合流する第２バイパス流路ＢＬ２が設けられている。なお、蒸発器ＥＵは、３００〜４００度に加熱されている。
【００２９】
第２バイパス流路ＢＬ２には、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ２が設けられた希釈ガス流路ＤＬ２が接続されている。またバイパス流路ＢＬ２には、開閉バルブＶ３、及び第２バイパス流路ＢＬ２を流れる流量を一定に保つ、クリティカルオリフィス等の定流量器ＣＦＯ２が設けられている。このような構成により、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ２が情報処理装置４によって制御されることにより、第２バイパス流路ＢＬ２に流入する希釈ガスが調整され、その結果、メイン流路ＭＬから第２バイパス流路ＢＬ２に流入する排出ガスの質量流量を調節する。
【００３０】
第２希釈器ＰＮＤ２は、メイン流路ＭＬと希釈ガス流路ＤＬ３との接続点又はその下流近傍に設けられており、第２希釈器ＰＮＤ２に導入される排出ガスを冷却するとともにその排出ガスを希釈するものである。
【００３１】
第２希釈器ＰＮＤ２に導入される希釈ガスは、希釈ガス流路ＤＬ３に設けられた希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３によりその質量流量が制御されている。この希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３は、前記希釈ガス流量制御部ＭＦＣ１と同様に、前記情報処理装置４から目標流量データを与えられると、内部に設けた流量センサ（図示しない）で測定される実流量が、目標流量データの値（以下、目標流量とも言う）となるように、内部のバルブ（図示しない）を調整してローカルで流量制御するものである。この目標流量は、前記情報処理装置４によって、希釈比率から算出される。
【００３２】
このような構成において、第１希釈器ＰＮＤ１及びその近傍から第２希釈器ＰＮＤ２に至る配管を図示しないヒータ等の加熱手段を有する温度調節器により、例えば１５０度以上に加熱されている。これにより、配管内壁へのＰＭの付着や凝集等を防止して、計数誤差を抑制している。
【００３３】
また、第２希釈器ＰＮＤ２の下流には、第１希釈器ＰＮＤ１及び第２希釈器ＰＮＤ２により希釈された排出ガス中の固体粒子数を計測する粒子数計測装置２が開閉バルブＶ５を介して設けられるとともに、第２希釈器ＰＮＤ２及び粒子数計測装置２の間、具体的には開閉バルブＶ５上流から分岐して、粒子数計測装置２の下流においてメイン流路ＭＬと合流する第３バイパス流路ＢＬ３が設けられている。
【００３４】
このバイパス流路ＢＬ３には、バイパス流路ＢＬ３を流れる流量を一定に保つ、クリティカルオリフィス等の定流量器ＣＦＯ３、及び開閉バルブＶ４がこの順で設けられている。なお、開閉バルブＶ５及び粒子数計測装置３の間には、開閉バルブＶ６及びフィルタをこの順で設けた大気開放通路ＡＬが形成されており、吸引ポンプＰの停止時などに開閉バルブＶ５が閉じられる際に、開閉バルブＶ６を開けて粒子数計測装置２内を大気開放させる。
【００３５】
粒子数計測装置２は、アルコールやブタノールなどの有機ガスを過飽和状態で混入させて排出ガス中のＰＭに付着させることにより、このＰＭを大きな径に成長させ、成長したＰＭをスリットから排出して、出てきた粒子にレーザ光にて計数するものである。この粒子数計測装置２は、成長したＰＭをスリットから排出するように構成していることから、そのスリットが定流量器としての機能を有し、粒子測定装置２には一定流量の排出ガスが流れることになる。
【００３６】
このような構成により、２段の希釈器ＰＮＤ１、ＰＮＤ２で希釈された排出ガスの一部が粒子数計測装置２に導かれ、その排出ガスに含まれる固体粒子数が計数される。そして、粒子数計測装置２で測定された計数データは、前記情報処理装置４に出力されて適宜処理される。
【００３７】
しかして、本実施形態の情報処理装置４は、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御される希釈ガス流量Ｑ１と、粒子数計測装置２を流れる流量である装置流量Ｑ２及び第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の設定流量Ｑ３の合計流量Ｑ２＋Ｑ３と、から排出ガスの希釈比率を算出する。具体的に情報処理装置４は、希釈比率を（Ｑ２＋Ｑ３）／（Ｑ２＋Ｑ３−Ｑ１）により算出する。このように構成することによって、第２希釈器ＰＮＤ２に導入される排出ガスの質量流量を測定する流量測定機構を不要としている。
【００３８】
また本実施形態の情報処理装置４は、粒子数計測装置２の上流に設けた開閉バルブＶ５を閉じ、第３バイパス流路ＢＬ３に設けた開閉バルブＶ４を開けて、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御された流量Ｑ１を第３バイパス流路ＢＬ３上に流すことによって第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の設定流量を校正する。なお、この校正の際の定流量器ＣＦＯ３の上流近傍の圧力及び温度を圧力センサＰ１及び温度センサＴ１により測定し、情報処理装置４が、その測定データを校正データと関連付けて記憶する。
【００３９】
一方、情報処理装置４は、第３バイパス流路ＢＬ３に設けた開閉バルブＶ４を閉じ、粒子数計測装置２の上流に設けた開閉バルブＶ５を開けて、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御された流量Ｑ１をメイン流路ＭＬに流すことによって粒子数計測装置２の装置流量を校正する。なお、この校正の際の粒子数計測装置２の上流近傍の圧力及び温度を圧力センサＰ２及び温度センサＴ２により測定し、情報処理装置４が、その測定データを校正データと関連付けて記憶する。
【００４０】
さらに本実施形態の情報処理装置４は、第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の校正時におけるその定流量器ＣＦＯ３上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、バイパス流路上の定流量器の設定流量を補正する（補正後の設定流量Ｑ３’）。さらに、情報処理装置４は、粒子数計測装置２の装置流量の校正時におけるその粒子数計測装置２上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における粒子数計測装置２上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、粒子数計測装置２の装置流量を補正する（補正後の設定流量Ｑ２’）。そして、情報処理装置４は、この補正の結果得られた装置流量Ｑ２’及び設定流量Ｑ３’を用いて希釈比率を算出し、第２希釈器ＰＮＤ２での希釈比率が一定となるように希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３に目標流量データを与える。
【００４１】
＜本実施形態の効果＞
このように構成した本実施形態に係る粒子数計測システム１００によれば、希釈ガス流量制御部ＭＦＣ３により制御される希釈ガス流量Ｑ１と、粒子数計測装置２の装置流量Ｑ２及びバイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の設定流量Ｑ３の合計流量Ｑ２＋Ｑ３と、から排出ガスの希釈率を算出するようにしているので、従来第２希釈器ＰＮＤ２に流入する排出ガスの流量を測定していた流量測定機構を不要とすることができ、システム構成を簡単化及びコンパクト化することができるとともに、コストダウンを可能にすることができる。また、従来、粒子数計測装置２が設けられた流路ＭＬ及びバイパス流路ＢＬ毎に設けていた吸引ポンプを共通化させているので、これによってもシステム構成を簡単化及びコンパクト化することができ、システムのコストダウンを可能にすることができる。
【００４２】
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
【００４３】
例えば、前記実施形態では、粒子数計測装置２の内部に設けられた定流量器（ＣＦＯ）が温調されていない場合を想定しており、粒子数計測装置２の装置流量を、この粒子数計測装置２の上流近傍の圧力及び温度を用いて校正している。一方、粒子数計数装置２内部に設けられた定流量器（ＣＦＯ）が温調されている場合には、粒子数計測装置２の装置流量は、粒子数計測装置２の上流近傍の圧力を用いて校正すれば良く、その上流近傍の温度を用いて校正する必要はない。
【００４４】
また、前記実施形態では、第３バイパス流路ＢＬ３上の定流量器ＣＦＯ３の上流近傍に圧力センサＰ１及び温度センサＴ１を設け、メイン流路ＭＬの粒子数計測装置の上流近傍に圧力センサＰ１及び温度センサＴ１を設けているが、それら圧力センサ及び温度センサを共通としても良い。具体的には、メイン流路ＭＬと第３バイパス流路ＢＬ３との分岐点上流近傍に共通の圧力センサ及び温度センサを設けても良い。
【００４５】
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
【符号の説明】
【００４６】
１００ ・・・粒子数計測システム
ＰＴ１ ・・・排出ガス導入ポート
ＰＴ２ ・・・希釈ガス導入ポート
ＭＬ ・・・メイン流路
ＤＬ ・・・希釈ガス流路
ＰＮＤ ・・・希釈器
ＭＦＣ ・・・希釈ガス流量制御部
Ｖ５ ・・・バルブ
２ ・・・粒子数計測装置
ＣＦＯ３・・・定流量器
Ｖ４ ・・・バルブ
ＢＬ ・・・バイパス流路
Ｐ ・・・吸引ポンプ
４ ・・・情報処理装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジンの排出ガスを導入するための排出ガス導入ポートと、
希釈ガスを導入するための希釈ガス導入ポートと、
前記排出ガス導入ポートに一端が接続されたメイン流路と、
前記希釈ガス導入ポートに一端が接続され、他端が前記メイン流路に接続された希釈ガス流路と、
前記メイン流路及び前記希釈ガス流路との接続点又はその下流近傍に設けた希釈器と、
前記希釈ガス流路に設けられ、前記希釈器に導入される希釈ガスの流量を制御する希釈ガス流量制御部と、
前記希釈器の下流にバルブを介して設けられ、希釈された排出ガス中の固体粒子数を計測するものであって、定流量機能を有する粒子数計測装置と、
前記メイン流路における前記希釈器及び前記粒子数計測装置の間から分岐して設けられ、定流量器及びバルブが設けられたバイパス流路と、
前記メイン流路及び前記バイパス流路の合流点下流に接続され、前記メイン流路及び前記バイパス流路に排出ガスを導入するための吸引ポンプと、
前記希釈ガス流量制御部により制御される希釈ガス流量と、前記粒子数計測装置を流れる流量である装置流量及び前記バイパス流路上の定流量器の設定流量の合計流量と、から排出ガスの希釈率を算出する情報処理装置と、を備える粒子数計測システム。
【請求項２】
前記情報処理装置が、前記粒子数計測装置の上流に設けたバルブを閉じ、前記バイパス流路に設けたバルブを開けて、前記希釈ガス流量制御部により制御された流量を前記バイパス流路上に流すことによって前記バイパス流路上の定流量器の設定流量を校正する請求項１記載の粒子数計測システム。
【請求項３】
前記情報処理装置が、前記バイパス流路に設けたバルブを閉じ、前記粒子数計測装置の上流に設けたバルブを開けて、前記希釈ガス流量制御部により制御された流量を前記メイン流路に流すことによって前記粒子数計測装置の装置流量を校正する請求項１又は２記載の粒子数計測システム。
【請求項４】
前記情報処理装置が、前記バイパス流路上の定流量器の校正時におけるその定流量器上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における前記バイパス流路上の定流量器上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、前記バイパス流路上の定流量器の設定流量を補正する請求項２又は３記載の粒子数計測システム。
【請求項５】
前記情報処理装置が、前記粒子数計測装置の装置流量の校正時におけるその粒子数計測装置上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における前記粒子数計測装置上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、前記粒子数計測装置の装置流量を補正する請求項２、３又は４記載の粒子数計測システム。
【請求項１】
エンジンの排出ガスを導入するための排出ガス導入ポートと、
希釈ガスを導入するための希釈ガス導入ポートと、
前記排出ガス導入ポートに一端が接続されたメイン流路と、
前記希釈ガス導入ポートに一端が接続され、他端が前記メイン流路に接続された希釈ガス流路と、
前記メイン流路及び前記希釈ガス流路との接続点又はその下流近傍に設けた希釈器と、
前記希釈ガス流路に設けられ、前記希釈器に導入される希釈ガスの流量を制御する希釈ガス流量制御部と、
前記希釈器の下流にバルブを介して設けられ、希釈された排出ガス中の固体粒子数を計測するものであって、定流量機能を有する粒子数計測装置と、
前記メイン流路における前記希釈器及び前記粒子数計測装置の間から分岐して設けられ、定流量器及びバルブが設けられたバイパス流路と、
前記メイン流路及び前記バイパス流路の合流点下流に接続され、前記メイン流路及び前記バイパス流路に排出ガスを導入するための吸引ポンプと、
前記希釈ガス流量制御部により制御される希釈ガス流量と、前記粒子数計測装置を流れる流量である装置流量及び前記バイパス流路上の定流量器の設定流量の合計流量と、から排出ガスの希釈率を算出する情報処理装置と、を備える粒子数計測システム。
【請求項２】
前記情報処理装置が、前記粒子数計測装置の上流に設けたバルブを閉じ、前記バイパス流路に設けたバルブを開けて、前記希釈ガス流量制御部により制御された流量を前記バイパス流路上に流すことによって前記バイパス流路上の定流量器の設定流量を校正する請求項１記載の粒子数計測システム。
【請求項３】
前記情報処理装置が、前記バイパス流路に設けたバルブを閉じ、前記粒子数計測装置の上流に設けたバルブを開けて、前記希釈ガス流量制御部により制御された流量を前記メイン流路に流すことによって前記粒子数計測装置の装置流量を校正する請求項１又は２記載の粒子数計測システム。
【請求項４】
前記情報処理装置が、前記バイパス流路上の定流量器の校正時におけるその定流量器上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における前記バイパス流路上の定流量器上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、前記バイパス流路上の定流量器の設定流量を補正する請求項２又は３記載の粒子数計測システム。
【請求項５】
前記情報処理装置が、前記粒子数計測装置の装置流量の校正時におけるその粒子数計測装置上流近傍の温度及び圧力と、粒子数測定時における前記粒子数計測装置上流近傍の温度及び圧力とをパラメータとして、前記粒子数計測装置の装置流量を補正する請求項２、３又は４記載の粒子数計測システム。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１０−２６１９３８（Ｐ２０１０−２６１９３８Ａ）
【公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８８５９５（Ｐ２０１０−８８５９５）
【出願日】平成２２年４月７日（２０１０．４．７）
【出願人】（０００１５５０２３）株式会社堀場製作所 (638)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月７日（２０１０．４．７）
【出願人】（０００１５５０２３）株式会社堀場製作所 (638)
【Ｆターム（参考）】
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