表示パネル及び表示パネルの製造方法
【課題】有機化合物層の膜厚むらを抑える有機化合物層を形成することができる表示パネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法である。基板１１上の画素配列領域１２に画素電極１３をマトリクス状に配列し、画素電極１３の各列間に画素配列領域１２の両端まで達する隔壁１５をそれぞれ独立するように形成し、各隔壁１５間に有機化合物含有液１６を塗布し、塗布した有機化合物含有液１６の余分量を隔壁１５の両端部より画素配列領域１２外に流出させることにより、有機化合物層を均一な膜厚に作成することができる。
【解決手段】ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法である。基板１１上の画素配列領域１２に画素電極１３をマトリクス状に配列し、画素電極１３の各列間に画素配列領域１２の両端まで達する隔壁１５をそれぞれ独立するように形成し、各隔壁１５間に有機化合物含有液１６を塗布し、塗布した有機化合物含有液１６の余分量を隔壁１５の両端部より画素配列領域１２外に流出させることにより、有機化合物層を均一な膜厚に作成することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル及び表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）はアノードとカソードとの間に有機化合物層が介在した積層構造を為しており、アノードとカソードの間に順バイアス電圧が印加されると有機化合物層において発光する。このような複数の有機ＥＬ素子を赤、緑、青の何れかに発光させるサブピクセルとして基板上にマトリクス状に配列し、画像表示を行うエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル（以下、ＥＬディスプレイパネルという）が実現化されている。
【０００３】
有機化合物層の形成方法としては、例えばインクジェット法、ノズルコート法等の湿式塗布法によって電極に積層するものがある（例えば、特許文献１参照）。この方法では、例えば次に説明するようにしてＥＬディスプレイパネルを製造されている。
【０００４】
まず、図８，図９に示すように、基板３１の表面上に導体膜を成膜し、この導体膜をフォトリソグラフィーによりパターニングし、マトリクス状の画素電極３３を形成する。次に、フォトリソグラフィー技術を用いて、画素電極３３を囲むように網目状の絶縁膜３４を基板３１上に形成する。次に、フォトリソグラフィー技術を用いて、絶縁膜３４上に画素電極３３を１列ずつ囲むように隔壁３５を形成する。一方で、有機ＥＬ素子の有機化合物層に用いる有機化合物材料を含有させた有機化合物含有液を作成しておく。
【０００５】
そして、有機化合物含有液をノズルから隔壁内の画素電極に向けて噴出させることにより、図１０，図１１に示すように、隔壁内の画素電極に有機化合物材料３６を塗布する。
【０００６】
具体的には、ある隔壁内の画素電極の列の上には、赤色発光用の有機化合物含有液３６ｒが塗布される。その隔壁内の画素電極の列に隣接する一方の列の画素電極の上には、緑色発光用の有機化合物含有液３６ｇが塗布され、他方の列の画素電極の上には、青色発光用の有機化合物含有液３６ｂが塗布される。
【０００７】
このように、赤色発光用、緑色発光用、青色発光用の有機化合物含有液がその順に個別に隔壁内の画素電極上に塗布される。なお、隔壁により、赤、緑、青の各色発光用の有機化合物含有液の混合が防止されている。有機化合物含有液が乾燥することで、有機化合物層が形成される。
【０００８】
その後、気相成長法により対向電極を有機化合物層上に形成する。以上により、画素電極と対向電極との間に有機化合物層を挟み込んだ有機ＥＬ素子がマトリクス状に配列される。これらの有機ＥＬ素子が赤、緑、青の何れかに発光するサブピクセルとなり、画像表示を行うＥＬディスプレイパネルが製造される。
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、上述の製造方法では、隔壁の終端部において、図１１に示すように、ノズルから噴出される有機化合物含有液３６が表面張力により隔壁３５に沿って付着するため、乾燥した有機化合物層に膜厚が厚い部分３６ａができる。一方、有機化合物含有液３６が表面張力により隔壁３５側に引き寄せられることにより、乾燥させた有機化合物層に膜厚が薄い部分３６ｂができる。このように、有機化合物層の膜厚むらが生じるという問題があった。
【００１０】
本発明の課題は、上述のような隔壁の側壁における有機化合物層の膜厚むらを抑えた有機化合物層を形成することができるエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法及びエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、表示パネルにおいて、画素配列領域に設けられた複数の画素電極と、前記画素電極上に成膜された有機ＥＬ層と、所定方向に沿って互いに隣接する前記複数の画素電極間に配置され、前記有機ＥＬ層を成膜するための仕切りとなるとともに、互いに離間された複数の隔壁と、を備えることを特徴とする。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の表示パネルにおいて、前記複数の隔壁は線形状であることを特徴とする。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の表示パネルにおいて、前記画素配列領域は基板に設けられた突出層上に位置することを特徴とする。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の表示パネルにおいて、前記突出層は、側面が傾斜していることを特徴とする。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜請求項４のいずれかに記載の表示パネルにおいて、前記複数の隔壁の末端部に位置し、前記隔壁よりも低く、前記画素電極よりも高い膜を有することを特徴とする表示パネルである。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、表示パネルにおいて、画素配列領域に設けられた有機ＥＬ層を、第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する隔壁を備えることを特徴とする。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、表示パネルの製造方法において、画素配列領域に設けられた複数の画素電極を第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する複数の隔壁間に有機化合物含有液を塗布することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、有機化合物層の膜厚のばらつきを抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を適用した実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。ただし、発明の範囲はこれら図示例に限定されるものではない。
【００２０】
（第１実施形態）
図１を参照して本実施形態に用いられる塗布装置２００について詳細に説明する。塗布装置２００は、有機ＥＬ素子２０のアノードとカソードとの間に積層される有機ＥＬ素子層１６’を基板１１に塗布する装置であり、図１に示すように、ｘ軸ステージ１１０、ヘッド１２０、ｘ軸ガイド１３０、ｙ軸ステージ１５０、及びコントローラ２６０等からなる。塗布装置２００は、微小の独立した液滴を個々に吐出するインクジェットと異なり、有機化合物溶液を連続して流すノズルコータである。
ｘ軸ステージ１１０は、コントローラ２６０から送信される制御信号に応じてｘ軸ガイド１３０が案内する方向（ｘ軸方向であり、ｙ軸ステージ１５０の表面と平行な方向）に移動可能となっている。
【００２１】
ｘ軸ステージ１１０には、塗布する液体の種類ごとに複数のヘッド１２０が取り付けられている（図１では１つのみ図示）。ヘッド１２０には、有機化合物層、例えば、正孔輸送層、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層、または、電子輸送層等の各層の材料となる有機化合物材料を溶媒に溶解させた有機化合物溶液、または有機化合物材料を分散媒に分散させた有機化合物分散液が充填されている（以下、有機化合物溶液及び有機化合物分散液を総称して有機化合物含有液とする）。ヘッド１２０の下端部には、複数のノズルを有する噴射口１２１が設けられている。各有機化合物含有液は、コントローラ２６０の指示に応じて各溶液に対応するノズルから所定量ずつ射出される。
【００２２】
ｙ軸ステージ１５０は、ヘッド１２０の噴射口１２１の下方に配置されている。ｙ軸ステージ１５０は、コントローラ２６０から送信される制御信号に応じてｙ軸方向（ｘ軸方向と直交する方向であり、ｙ軸ステージ１５０の表面と平行な方向）に移動可能となっている。有機化合物材料を塗布する基板１１は、ｙ軸ステージ１５０上に載置される。
【００２３】
コントローラ２６０は、ｘ軸ステージ１１０のｘ軸方向への移動、ｙ軸ステージ１５０のｙ軸方向への移動、及び、噴出口１２１のノズルからの各溶液の射出を制御する。
【００２４】
各有機ＥＬ素子２０は、図６及び図７に示すように、画素電極１３、有機ＥＬ層１６’及び対向電極１７を備えている。画素電極１３及び対向電極１７は一方がアノード電極として機能し、他方がカソード電極として機能する。これらの有機ＥＬ素子２０は、縦方向、横方向にそれぞれ規則的に配列されるようにマトリクス状に設けられている。また、図６の縦方向に隣接する有機ＥＬ素子２０同士は、互いに平行且つ横方向に延在する線形状の複数の隔壁１５によって、その有機ＥＬ層１６’が仕切られている。つまり、有機ＥＬ層１６’は横方向に沿って複数の有機ＥＬ素子２０にわたって連続して形成されているが、縦方向には、それぞれ異なる各有機ＥＬ層１６’が被膜されている。このようにして、横方向に同じ色で発光し、縦方向に互いに異なる色で発光する複数の有機ＥＬ層１６’が配列されることによって多色発光することができる。
【００２５】
基板１１の上には突出層１２が設けられ、突出層１２内には、図示しないが、画素電極１３に各種の信号を出力するために、複数の走査線、信号線等の配線が設けられている。さらに、突出層１２内には、各画素電極１３に対応して設けられた有機ＥＬ素子２０を発光するための電流を画素電極１３に流す駆動トランジスタ１８や、突出層１２のコンタクトホール内に充填され、駆動トランジスタ１８と画素電極１３との間を接続する導電材１９や、キャパシタ等の素子（図示せず）が設けられている。これらの素子は、走査線、信号線等の配線の入力信号に応じて画素電極１３に電圧を印加する。
【００２６】
突出層１２の上面は画素配列領域となり、各隔壁１５は、画素電極１３が配列されている画素配列領域の四辺のうちの対向する二辺に沿って有機ＥＬ層１６’を仕切っているが、残り対向する二つの辺に沿って有機ＥＬ層１６’を仕切っていない。つまり、隔壁１５は、画素配列領域に設けられた有機ＥＬ層１６’を図６の平面図の上下方向において仕切るとともに図６の平面図の左右方向において有機ＥＬ層１６’を画素配列領域外に開放している。
突出層１２は、単数又は複数の絶縁膜を備えており、層間絶縁膜、保護絶縁膜、又は平坦化絶縁膜として機能している。
【００２７】
このような、有機ＥＬ素子２０の有機ＥＬ層１６’を成膜する塗布装置２００について説明する。図２は基板１１の平面図であり、図３は図２のIII−III矢視断面図である。
【００２８】
有機ＥＬ層１６’を形成前の基板１１の上面には、複数の走査線、信号線等の配線、複数の駆動トランジスタ１８が形成されており、これら配線及び駆動トランジスタ１８を被膜するように突出層１２が１μｍ〜１５μｍの厚さで画素配列領域全域にわたって形成されている。突出層１２は、表面が平坦で、側壁がテーパ状に傾斜しており、有機ＥＬ素子２０が基板１１側から光を出射するボトムエミッション型であれば、例えばポリイミドのような透明感光性樹脂膜のような透明な基材が好ましい。突出層１２には各駆動トランジスタ１８に対応してコンタクトホールが設けられており、コンタクトホール内には導電材１９が充填されている。突出層１２の上面には、複数の画素電極１３が所定の間隔をおいてマトリクス状に配置され、それぞれが各導電材１９を介して各駆動トランジスタ１８と導通している。
【００２９】
各画素電極１３はその周縁を画素電極１３よりも高い絶縁膜１４に覆われている。換言すれば、絶縁膜１４は、各画素電極１３の周縁を覆うとともに各画素電極１３の中央を露出するような複数の開口部を備えている。
【００３０】
有機ＥＬ層１６’となる有機化合物を含有する有機化合物含有液１６は、溶媒等に溶解又は分散させた溶液であるため、塗布時の有機化合物含有液１６の液面の高さは、有機ＥＬ層１６’の高さより高くなる。絶縁膜１４は、有機ＥＬ層１６’となる有機化合物含有液１６の塗布時の高さより低く、有機化合物含有液１６が乾燥して収縮した有機ＥＬ層１６’より高く設定されている。絶縁膜１４は、後述する塗布法によって余剰の有機化合物含有液１６が絶縁膜１４を乗り越えて自然と画素配列領域外に流れ落ちやすくするように側壁がテーパ状になっている。
そして、縦方向に隣接する画素電極１３同士の間の絶縁膜１４上には、絶縁膜１４より高い隔壁１５が設けられている。この隔壁１５は、画素電極１３と所定の距離だけ離間しており、有機ＥＬ素子２０の対向電極１７に接続される配線として利用することもでき、また絶縁材料で形成してあってもよい。
【００３１】
画素電極１３は、厚さが３０ｎｍ〜１００ｎｍであり、有機ＥＬ素子２０がボトムエミッション型の場合、例えば錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）又はカドミウム−錫酸化物（ＣＴＯ）のような透明導電膜を突出層１２上に成膜し、この透明導電膜をフォトリソグラフィーによりパターニングすることにより形成することができる。また、有機ＥＬ素子２０がトップエミッション型の場合、アルミニウム等の光反射性金属膜、或いは下層に光反射性金属膜、上層に上述の透明導電膜の積層構造としてもよい。
【００３２】
絶縁膜１４は、厚さが１５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、例えば窒化珪素または酸化珪素等を気相成長法によって成膜し、フォトリソグラフィー法、エッチング法を順次行うことで網目状に形成することができる。対向電極１７は、カソード電極である場合、下層となる電子注入層と、電子注入層が酸化されることを防止するとともにシート抵抗を下げる上層となる導電膜との積層構造であり、電子注入層は、仕事関数の低い材料、例えば、マグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム、インジウム、希土類金属の少なくとも一種を含む単体又は合金を有することが好ましく、厚さは０．１ｎｍ〜５０ｎｍの厚さでよい。
【００３３】
導電層は、ボトムエミッション型の場合、光反射性の導電層となり、例えば、アルミニウム、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、金、銀、銅の少なくとも一種を含む単体又は合金を有することが好ましく、トップエミッション型の場合、光透過性の導電層となり、例えば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）又はカドミウム−錫酸化物（ＣＴＯ）を有することが好ましい。
【００３４】
ここで、複数の有機ＥＬ素子２０を備えたＥＬディスプレイパネルの製造方法について説明する。
まず、塗布装置２００を用いる前に基板１１に突出層１２、画素電極１３、絶縁膜１４、隔壁１５を形成するので、これらを形成する方法について説明する。
【００３５】
まず、基板１１に感光性樹脂膜を成膜し、その感光性樹脂膜を露光・現像することによって、突出層１２を形成する。ここで、感光性樹脂がポジ型である場合には、基板１１の画素配列領域外を露光し、感光性樹脂がネガ型である場合には、画素配列領域内を露光する。
【００３６】
次に、コンタクトホールに導電材１９が埋設された突出層１２の表面上に導電膜を成膜し、その導電膜に対してフォトリソグラフィー法・エッチング法を施すことによって、画素電極１３をマトリクス状に配列するようパターニングする。次に、これら画素電極１３をコーティングするよう絶縁膜を成膜し、フォトリソグラフィー法・エッチング法によりその絶縁膜の画素電極１３に重なる箇所を除去することによって、絶縁膜１４をパターニングする。
【００３７】
次に、絶縁膜１４及び画素電極１３全体を被覆するよう感光性樹脂膜（例えば、感光性ポリイミド膜）を成膜し、その感光性樹脂膜を露光・現像することによって、画素電極１３の各列間に突出層１２の左右の縁まで達する複数の隔壁１５を互いに独立するよう形成する。
【００３８】
ここで、感光性樹脂がポジ型である場合には、横方向に並んだ画素電極１３の列の上を突出層１２の左右の縁まで帯状に露光し、感光性樹脂がネガ型である場合には、横方向に並んだ画素電極１３の列と列との間の上を突出層１２の左右の縁まで帯状に露光する。
【００３９】
なお、隔壁が感光性樹脂ではない高分子材料や、金属材料等である場合には、気相成長法、フォトリソグラフィー法、エッチング法を経て隔壁１５をパターニングすることができる。
【００４０】
以上のようにして、基板１１に突出層１２、画素電極１３、絶縁膜１４、隔壁１５を形成したら、塗布装置２００によって有機化合物層を形成する。
すなわち、まず、基板１１の突出層１２、画素電極１３、絶縁膜１４が形成された面を上にして、基板１１をｙ軸ステージ１５０上に載置する。次いで、コントローラ２６０によりノズル、ｘ軸ステージ１１０及びｙ軸ステージ１５０を制御し、ノズルを基板１１に対して相対的に移動させながら、有機化合物含有液を基板１１に塗布し、乾燥させて有機化合物層を形成する。有機ＥＬ層１６’は、有機化合物からなる発光層を少なくとも一層備えており、この発光層以外に他の有機化合物層或いは無機化合物層を備えていてもよい。
【００４１】
ここで、画素電極１３を陽極とする場合には、有機ＥＬ層１６’として、例えば正孔輸送層、発光層の順に形成されていてもよいし、発光層の次に電子輸送層が形成されていてもよいし、正孔輸送層が設けられていなくてもよいし、発光層単層であってもよい。
また、画素電極１３を陰極とする場合には、有機ＥＬ層１６’として、例えば電子輸送層、発光層の順に形成されていてもよいし、発光層の次に正孔輸送層が形成されていてもよいし、電子輸送層が設けられていなくてもよい。また、有機ＥＬ層１６’を形成する前に、画素電極１３上に真空蒸着法等により電子注入層を形成してもよい。
【００４２】
図４は塗布装置２００により有機化合物含有液１６が塗布された基板１１の平面図であり、図５は図４のV−V矢視断面図である。有機化合物含有液１６は塗布装置２００により、隔壁１５の長さ方向に塗布されている。有機化合物含有液１６は、有機ＥＬ層１６’となる有機化合物を溶媒等に溶解又は分散させた溶液である。正孔輸送層としては、ＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）及びＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）の混合物、発光層としては、共役二重結合高分子発光材料が好ましく、溶媒としては、水や、疎水性の有機溶剤（例えば、キシレン、テトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン）がある。
【００４３】
２つの隔壁１５の間に挟まれる所定の一列の画素電極１３及び絶縁膜１４上には、塗布装置２００のヘッド１２０とともにｘ軸方向に移動しながら噴射口１２１が同一の有機化合物含有液１６を塗布し、隔壁１５を挟んで隣り合う他の列の画素電極１３及び絶縁膜１４上には、当該所定の一列の噴射口１２１と異なる噴射口１２１が、当該所定の一列の有機ＥＬ層１６’と異なる色に発光する有機ＥＬ層１６’となる有機化合物含有液１６を塗布する。例えば、ある一列の画素電極１３及び絶縁膜１４を挟む隔壁１５の間には、赤色発光用の有機化合物含有液１６ｒが塗布され、隣接する一方の列の画素電極１３及び絶縁膜１４を挟む隔壁１５の間には、緑色発光用の有機化合物含有液１６ｇが塗布され、隣接する他方の列の画素電極１３及び絶縁膜１４を挟む隔壁１５の間には、青色発光用の有機化合物含有液１６ｂが塗布される。このとき、隔壁１５が突出層１２の両端まで延在しているため、各色の発光用の有機化合物含有液１６ｒ，１６ｇ，１６ｂは、隣接する他の発光層用の有機化合物含有液と突出層１２上（画素配列領域内）で混合することがない。
【００４４】
塗布装置２００の噴射口１２１は、成膜される有機ＥＬ層１６’となる有機化合物含有液１６の量よりも多い量の有機化合物含有液１６を横方向に走査されながら送出する。このとき、図４において、基板１１の左右両側には、縦方向に延在する高い隔壁等の仕切りがないため、噴射口１２１から送出された余剰の有機化合物含有液１６が、突出層１２の左右両端部に位置する絶縁膜１４を乗り越えて絶縁膜１４の傾斜された側壁をつたって緩やかに流れ出し、斜面となっている突出層１２の側壁から基板１１の外周部（画素配列領域外）へ流れ落ちる。
【００４５】
このように、隔壁１５の両端部において、塗布された有機化合物含有液１６の余分量を突出層１２から基板１１の外周部へ流し落とすことにより、有機化合物含有液１６の液面の高さに偏りが小さくなり、有機化合物含有液１６の隔壁１５との接触面積が小さくなる。このため、隔壁１５における表面張力が小さくなり、有機化合物層の膜厚のばらつきを抑えることができる。
【００４６】
また、突出層１２の外周部では複数色の発光層用の有機化合物含有液１６が混合されることになるが、突出層１２により画素配列領域と外周部との間に段差が形成されているため、乾燥前の有機化合物含有液１６の混合液が段差を乗り越えて画素配列領域に逆流することがない。
【００４７】
有機化合物含有液１６を乾燥させて有機ＥＬ層１６’を形成したら、有機ＥＬ層１６’上に対向電極１７を形成する。対向電極１７は真空蒸着法等により形成することができる。
これにより、画素電極１３と対向電極との間に有機ＥＬ層１６’を挟み込んだ有機ＥＬ素子２０が基板１１上にマトリクス状に形成される。
その後、封止基板（例えば、メタルキャップ、ガラス基板等）を接着剤により対向電極に接着する。これにより、ＥＬディスプレイパネルが完成する。
【００４８】
以上のように、本実施形態によれば、画素電極１３の列が隔壁１５により仕切られているので、各列毎に異なる種類の有機化合物含有液１６を塗布しても、異なる種類の有機化合物含有液１６が画素配列領域で混合することがない。また、余剰の有機化合物含有液１６が隔壁１５が設けられていない左右両側より絶縁膜１４を乗り越えて突出層１２の外周部に流出するので、有機ＥＬ層の膜厚のばらつきを抑えることができる。
【００４９】
また、基板１１の突出層１２が設けられた画素配列領域よりも外に位置する外周部は、突出層１２よりも低くなっているので、有機化合物含有液が突出層１２の外周部に速やかに流出し、さらに他の有機化合物含有液と混合した混合液が画素配列領域内へ再び流入することを防ぐことができる。
【００５０】
なお、以上の実施形態においては、基板１１として、画素電極１３に各種の信号を出力する複数の走査線、信号線等の配線、及び、各画素電極１３に対応した駆動トランジスタ１８やキャパシタ等の素子（図示せず）が設けられたトランジスタアレイパネルを用いたが、本発明はこれに限らず、例えばパッシブ駆動のパネルを用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の実施に用いられる塗布装置２００の概略構成図である。
【図２】本発明の実施に用いられる基板１１の平面図である。
【図３】図２のIII−III矢視断面図である。
【図４】図１の塗布装置２００により有機化合物含有液１６が塗布された図２の基板１１の平面図である。
【図５】図４のV−V矢視断面図である。
【図６】有機ＥＬ素子２０が形成された図２の基板１１の平面図である。
【図７】図６のVII−VII矢視断面図である。
【図８】従来のＥＬディスプレイパネルに用いられる基板１１の平面図である。
【図９】図８のIX−IX矢視断面図である。
【図１０】有機化合物含有液１６が塗布された図８の基板１１の平面図である。
【図１１】図１０のXI−XI矢視断面図である
【符号の説明】
【００５２】
１１ 基板
１２ 突出層
１３ 画素電極（画素電極）
１５ 隔壁
１６ 有機化合物含有液
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル及び表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）はアノードとカソードとの間に有機化合物層が介在した積層構造を為しており、アノードとカソードの間に順バイアス電圧が印加されると有機化合物層において発光する。このような複数の有機ＥＬ素子を赤、緑、青の何れかに発光させるサブピクセルとして基板上にマトリクス状に配列し、画像表示を行うエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル（以下、ＥＬディスプレイパネルという）が実現化されている。
【０００３】
有機化合物層の形成方法としては、例えばインクジェット法、ノズルコート法等の湿式塗布法によって電極に積層するものがある（例えば、特許文献１参照）。この方法では、例えば次に説明するようにしてＥＬディスプレイパネルを製造されている。
【０００４】
まず、図８，図９に示すように、基板３１の表面上に導体膜を成膜し、この導体膜をフォトリソグラフィーによりパターニングし、マトリクス状の画素電極３３を形成する。次に、フォトリソグラフィー技術を用いて、画素電極３３を囲むように網目状の絶縁膜３４を基板３１上に形成する。次に、フォトリソグラフィー技術を用いて、絶縁膜３４上に画素電極３３を１列ずつ囲むように隔壁３５を形成する。一方で、有機ＥＬ素子の有機化合物層に用いる有機化合物材料を含有させた有機化合物含有液を作成しておく。
【０００５】
そして、有機化合物含有液をノズルから隔壁内の画素電極に向けて噴出させることにより、図１０，図１１に示すように、隔壁内の画素電極に有機化合物材料３６を塗布する。
【０００６】
具体的には、ある隔壁内の画素電極の列の上には、赤色発光用の有機化合物含有液３６ｒが塗布される。その隔壁内の画素電極の列に隣接する一方の列の画素電極の上には、緑色発光用の有機化合物含有液３６ｇが塗布され、他方の列の画素電極の上には、青色発光用の有機化合物含有液３６ｂが塗布される。
【０００７】
このように、赤色発光用、緑色発光用、青色発光用の有機化合物含有液がその順に個別に隔壁内の画素電極上に塗布される。なお、隔壁により、赤、緑、青の各色発光用の有機化合物含有液の混合が防止されている。有機化合物含有液が乾燥することで、有機化合物層が形成される。
【０００８】
その後、気相成長法により対向電極を有機化合物層上に形成する。以上により、画素電極と対向電極との間に有機化合物層を挟み込んだ有機ＥＬ素子がマトリクス状に配列される。これらの有機ＥＬ素子が赤、緑、青の何れかに発光するサブピクセルとなり、画像表示を行うＥＬディスプレイパネルが製造される。
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、上述の製造方法では、隔壁の終端部において、図１１に示すように、ノズルから噴出される有機化合物含有液３６が表面張力により隔壁３５に沿って付着するため、乾燥した有機化合物層に膜厚が厚い部分３６ａができる。一方、有機化合物含有液３６が表面張力により隔壁３５側に引き寄せられることにより、乾燥させた有機化合物層に膜厚が薄い部分３６ｂができる。このように、有機化合物層の膜厚むらが生じるという問題があった。
【００１０】
本発明の課題は、上述のような隔壁の側壁における有機化合物層の膜厚むらを抑えた有機化合物層を形成することができるエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法及びエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、表示パネルにおいて、画素配列領域に設けられた複数の画素電極と、前記画素電極上に成膜された有機ＥＬ層と、所定方向に沿って互いに隣接する前記複数の画素電極間に配置され、前記有機ＥＬ層を成膜するための仕切りとなるとともに、互いに離間された複数の隔壁と、を備えることを特徴とする。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の表示パネルにおいて、前記複数の隔壁は線形状であることを特徴とする。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の表示パネルにおいて、前記画素配列領域は基板に設けられた突出層上に位置することを特徴とする。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の表示パネルにおいて、前記突出層は、側面が傾斜していることを特徴とする。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜請求項４のいずれかに記載の表示パネルにおいて、前記複数の隔壁の末端部に位置し、前記隔壁よりも低く、前記画素電極よりも高い膜を有することを特徴とする表示パネルである。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、表示パネルにおいて、画素配列領域に設けられた有機ＥＬ層を、第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する隔壁を備えることを特徴とする。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、表示パネルの製造方法において、画素配列領域に設けられた複数の画素電極を第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する複数の隔壁間に有機化合物含有液を塗布することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、有機化合物層の膜厚のばらつきを抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を適用した実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。ただし、発明の範囲はこれら図示例に限定されるものではない。
【００２０】
（第１実施形態）
図１を参照して本実施形態に用いられる塗布装置２００について詳細に説明する。塗布装置２００は、有機ＥＬ素子２０のアノードとカソードとの間に積層される有機ＥＬ素子層１６’を基板１１に塗布する装置であり、図１に示すように、ｘ軸ステージ１１０、ヘッド１２０、ｘ軸ガイド１３０、ｙ軸ステージ１５０、及びコントローラ２６０等からなる。塗布装置２００は、微小の独立した液滴を個々に吐出するインクジェットと異なり、有機化合物溶液を連続して流すノズルコータである。
ｘ軸ステージ１１０は、コントローラ２６０から送信される制御信号に応じてｘ軸ガイド１３０が案内する方向（ｘ軸方向であり、ｙ軸ステージ１５０の表面と平行な方向）に移動可能となっている。
【００２１】
ｘ軸ステージ１１０には、塗布する液体の種類ごとに複数のヘッド１２０が取り付けられている（図１では１つのみ図示）。ヘッド１２０には、有機化合物層、例えば、正孔輸送層、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層、または、電子輸送層等の各層の材料となる有機化合物材料を溶媒に溶解させた有機化合物溶液、または有機化合物材料を分散媒に分散させた有機化合物分散液が充填されている（以下、有機化合物溶液及び有機化合物分散液を総称して有機化合物含有液とする）。ヘッド１２０の下端部には、複数のノズルを有する噴射口１２１が設けられている。各有機化合物含有液は、コントローラ２６０の指示に応じて各溶液に対応するノズルから所定量ずつ射出される。
【００２２】
ｙ軸ステージ１５０は、ヘッド１２０の噴射口１２１の下方に配置されている。ｙ軸ステージ１５０は、コントローラ２６０から送信される制御信号に応じてｙ軸方向（ｘ軸方向と直交する方向であり、ｙ軸ステージ１５０の表面と平行な方向）に移動可能となっている。有機化合物材料を塗布する基板１１は、ｙ軸ステージ１５０上に載置される。
【００２３】
コントローラ２６０は、ｘ軸ステージ１１０のｘ軸方向への移動、ｙ軸ステージ１５０のｙ軸方向への移動、及び、噴出口１２１のノズルからの各溶液の射出を制御する。
【００２４】
各有機ＥＬ素子２０は、図６及び図７に示すように、画素電極１３、有機ＥＬ層１６’及び対向電極１７を備えている。画素電極１３及び対向電極１７は一方がアノード電極として機能し、他方がカソード電極として機能する。これらの有機ＥＬ素子２０は、縦方向、横方向にそれぞれ規則的に配列されるようにマトリクス状に設けられている。また、図６の縦方向に隣接する有機ＥＬ素子２０同士は、互いに平行且つ横方向に延在する線形状の複数の隔壁１５によって、その有機ＥＬ層１６’が仕切られている。つまり、有機ＥＬ層１６’は横方向に沿って複数の有機ＥＬ素子２０にわたって連続して形成されているが、縦方向には、それぞれ異なる各有機ＥＬ層１６’が被膜されている。このようにして、横方向に同じ色で発光し、縦方向に互いに異なる色で発光する複数の有機ＥＬ層１６’が配列されることによって多色発光することができる。
【００２５】
基板１１の上には突出層１２が設けられ、突出層１２内には、図示しないが、画素電極１３に各種の信号を出力するために、複数の走査線、信号線等の配線が設けられている。さらに、突出層１２内には、各画素電極１３に対応して設けられた有機ＥＬ素子２０を発光するための電流を画素電極１３に流す駆動トランジスタ１８や、突出層１２のコンタクトホール内に充填され、駆動トランジスタ１８と画素電極１３との間を接続する導電材１９や、キャパシタ等の素子（図示せず）が設けられている。これらの素子は、走査線、信号線等の配線の入力信号に応じて画素電極１３に電圧を印加する。
【００２６】
突出層１２の上面は画素配列領域となり、各隔壁１５は、画素電極１３が配列されている画素配列領域の四辺のうちの対向する二辺に沿って有機ＥＬ層１６’を仕切っているが、残り対向する二つの辺に沿って有機ＥＬ層１６’を仕切っていない。つまり、隔壁１５は、画素配列領域に設けられた有機ＥＬ層１６’を図６の平面図の上下方向において仕切るとともに図６の平面図の左右方向において有機ＥＬ層１６’を画素配列領域外に開放している。
突出層１２は、単数又は複数の絶縁膜を備えており、層間絶縁膜、保護絶縁膜、又は平坦化絶縁膜として機能している。
【００２７】
このような、有機ＥＬ素子２０の有機ＥＬ層１６’を成膜する塗布装置２００について説明する。図２は基板１１の平面図であり、図３は図２のIII−III矢視断面図である。
【００２８】
有機ＥＬ層１６’を形成前の基板１１の上面には、複数の走査線、信号線等の配線、複数の駆動トランジスタ１８が形成されており、これら配線及び駆動トランジスタ１８を被膜するように突出層１２が１μｍ〜１５μｍの厚さで画素配列領域全域にわたって形成されている。突出層１２は、表面が平坦で、側壁がテーパ状に傾斜しており、有機ＥＬ素子２０が基板１１側から光を出射するボトムエミッション型であれば、例えばポリイミドのような透明感光性樹脂膜のような透明な基材が好ましい。突出層１２には各駆動トランジスタ１８に対応してコンタクトホールが設けられており、コンタクトホール内には導電材１９が充填されている。突出層１２の上面には、複数の画素電極１３が所定の間隔をおいてマトリクス状に配置され、それぞれが各導電材１９を介して各駆動トランジスタ１８と導通している。
【００２９】
各画素電極１３はその周縁を画素電極１３よりも高い絶縁膜１４に覆われている。換言すれば、絶縁膜１４は、各画素電極１３の周縁を覆うとともに各画素電極１３の中央を露出するような複数の開口部を備えている。
【００３０】
有機ＥＬ層１６’となる有機化合物を含有する有機化合物含有液１６は、溶媒等に溶解又は分散させた溶液であるため、塗布時の有機化合物含有液１６の液面の高さは、有機ＥＬ層１６’の高さより高くなる。絶縁膜１４は、有機ＥＬ層１６’となる有機化合物含有液１６の塗布時の高さより低く、有機化合物含有液１６が乾燥して収縮した有機ＥＬ層１６’より高く設定されている。絶縁膜１４は、後述する塗布法によって余剰の有機化合物含有液１６が絶縁膜１４を乗り越えて自然と画素配列領域外に流れ落ちやすくするように側壁がテーパ状になっている。
そして、縦方向に隣接する画素電極１３同士の間の絶縁膜１４上には、絶縁膜１４より高い隔壁１５が設けられている。この隔壁１５は、画素電極１３と所定の距離だけ離間しており、有機ＥＬ素子２０の対向電極１７に接続される配線として利用することもでき、また絶縁材料で形成してあってもよい。
【００３１】
画素電極１３は、厚さが３０ｎｍ〜１００ｎｍであり、有機ＥＬ素子２０がボトムエミッション型の場合、例えば錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）又はカドミウム−錫酸化物（ＣＴＯ）のような透明導電膜を突出層１２上に成膜し、この透明導電膜をフォトリソグラフィーによりパターニングすることにより形成することができる。また、有機ＥＬ素子２０がトップエミッション型の場合、アルミニウム等の光反射性金属膜、或いは下層に光反射性金属膜、上層に上述の透明導電膜の積層構造としてもよい。
【００３２】
絶縁膜１４は、厚さが１５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、例えば窒化珪素または酸化珪素等を気相成長法によって成膜し、フォトリソグラフィー法、エッチング法を順次行うことで網目状に形成することができる。対向電極１７は、カソード電極である場合、下層となる電子注入層と、電子注入層が酸化されることを防止するとともにシート抵抗を下げる上層となる導電膜との積層構造であり、電子注入層は、仕事関数の低い材料、例えば、マグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム、インジウム、希土類金属の少なくとも一種を含む単体又は合金を有することが好ましく、厚さは０．１ｎｍ〜５０ｎｍの厚さでよい。
【００３３】
導電層は、ボトムエミッション型の場合、光反射性の導電層となり、例えば、アルミニウム、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、金、銀、銅の少なくとも一種を含む単体又は合金を有することが好ましく、トップエミッション型の場合、光透過性の導電層となり、例えば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）又はカドミウム−錫酸化物（ＣＴＯ）を有することが好ましい。
【００３４】
ここで、複数の有機ＥＬ素子２０を備えたＥＬディスプレイパネルの製造方法について説明する。
まず、塗布装置２００を用いる前に基板１１に突出層１２、画素電極１３、絶縁膜１４、隔壁１５を形成するので、これらを形成する方法について説明する。
【００３５】
まず、基板１１に感光性樹脂膜を成膜し、その感光性樹脂膜を露光・現像することによって、突出層１２を形成する。ここで、感光性樹脂がポジ型である場合には、基板１１の画素配列領域外を露光し、感光性樹脂がネガ型である場合には、画素配列領域内を露光する。
【００３６】
次に、コンタクトホールに導電材１９が埋設された突出層１２の表面上に導電膜を成膜し、その導電膜に対してフォトリソグラフィー法・エッチング法を施すことによって、画素電極１３をマトリクス状に配列するようパターニングする。次に、これら画素電極１３をコーティングするよう絶縁膜を成膜し、フォトリソグラフィー法・エッチング法によりその絶縁膜の画素電極１３に重なる箇所を除去することによって、絶縁膜１４をパターニングする。
【００３７】
次に、絶縁膜１４及び画素電極１３全体を被覆するよう感光性樹脂膜（例えば、感光性ポリイミド膜）を成膜し、その感光性樹脂膜を露光・現像することによって、画素電極１３の各列間に突出層１２の左右の縁まで達する複数の隔壁１５を互いに独立するよう形成する。
【００３８】
ここで、感光性樹脂がポジ型である場合には、横方向に並んだ画素電極１３の列の上を突出層１２の左右の縁まで帯状に露光し、感光性樹脂がネガ型である場合には、横方向に並んだ画素電極１３の列と列との間の上を突出層１２の左右の縁まで帯状に露光する。
【００３９】
なお、隔壁が感光性樹脂ではない高分子材料や、金属材料等である場合には、気相成長法、フォトリソグラフィー法、エッチング法を経て隔壁１５をパターニングすることができる。
【００４０】
以上のようにして、基板１１に突出層１２、画素電極１３、絶縁膜１４、隔壁１５を形成したら、塗布装置２００によって有機化合物層を形成する。
すなわち、まず、基板１１の突出層１２、画素電極１３、絶縁膜１４が形成された面を上にして、基板１１をｙ軸ステージ１５０上に載置する。次いで、コントローラ２６０によりノズル、ｘ軸ステージ１１０及びｙ軸ステージ１５０を制御し、ノズルを基板１１に対して相対的に移動させながら、有機化合物含有液を基板１１に塗布し、乾燥させて有機化合物層を形成する。有機ＥＬ層１６’は、有機化合物からなる発光層を少なくとも一層備えており、この発光層以外に他の有機化合物層或いは無機化合物層を備えていてもよい。
【００４１】
ここで、画素電極１３を陽極とする場合には、有機ＥＬ層１６’として、例えば正孔輸送層、発光層の順に形成されていてもよいし、発光層の次に電子輸送層が形成されていてもよいし、正孔輸送層が設けられていなくてもよいし、発光層単層であってもよい。
また、画素電極１３を陰極とする場合には、有機ＥＬ層１６’として、例えば電子輸送層、発光層の順に形成されていてもよいし、発光層の次に正孔輸送層が形成されていてもよいし、電子輸送層が設けられていなくてもよい。また、有機ＥＬ層１６’を形成する前に、画素電極１３上に真空蒸着法等により電子注入層を形成してもよい。
【００４２】
図４は塗布装置２００により有機化合物含有液１６が塗布された基板１１の平面図であり、図５は図４のV−V矢視断面図である。有機化合物含有液１６は塗布装置２００により、隔壁１５の長さ方向に塗布されている。有機化合物含有液１６は、有機ＥＬ層１６’となる有機化合物を溶媒等に溶解又は分散させた溶液である。正孔輸送層としては、ＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）及びＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）の混合物、発光層としては、共役二重結合高分子発光材料が好ましく、溶媒としては、水や、疎水性の有機溶剤（例えば、キシレン、テトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン）がある。
【００４３】
２つの隔壁１５の間に挟まれる所定の一列の画素電極１３及び絶縁膜１４上には、塗布装置２００のヘッド１２０とともにｘ軸方向に移動しながら噴射口１２１が同一の有機化合物含有液１６を塗布し、隔壁１５を挟んで隣り合う他の列の画素電極１３及び絶縁膜１４上には、当該所定の一列の噴射口１２１と異なる噴射口１２１が、当該所定の一列の有機ＥＬ層１６’と異なる色に発光する有機ＥＬ層１６’となる有機化合物含有液１６を塗布する。例えば、ある一列の画素電極１３及び絶縁膜１４を挟む隔壁１５の間には、赤色発光用の有機化合物含有液１６ｒが塗布され、隣接する一方の列の画素電極１３及び絶縁膜１４を挟む隔壁１５の間には、緑色発光用の有機化合物含有液１６ｇが塗布され、隣接する他方の列の画素電極１３及び絶縁膜１４を挟む隔壁１５の間には、青色発光用の有機化合物含有液１６ｂが塗布される。このとき、隔壁１５が突出層１２の両端まで延在しているため、各色の発光用の有機化合物含有液１６ｒ，１６ｇ，１６ｂは、隣接する他の発光層用の有機化合物含有液と突出層１２上（画素配列領域内）で混合することがない。
【００４４】
塗布装置２００の噴射口１２１は、成膜される有機ＥＬ層１６’となる有機化合物含有液１６の量よりも多い量の有機化合物含有液１６を横方向に走査されながら送出する。このとき、図４において、基板１１の左右両側には、縦方向に延在する高い隔壁等の仕切りがないため、噴射口１２１から送出された余剰の有機化合物含有液１６が、突出層１２の左右両端部に位置する絶縁膜１４を乗り越えて絶縁膜１４の傾斜された側壁をつたって緩やかに流れ出し、斜面となっている突出層１２の側壁から基板１１の外周部（画素配列領域外）へ流れ落ちる。
【００４５】
このように、隔壁１５の両端部において、塗布された有機化合物含有液１６の余分量を突出層１２から基板１１の外周部へ流し落とすことにより、有機化合物含有液１６の液面の高さに偏りが小さくなり、有機化合物含有液１６の隔壁１５との接触面積が小さくなる。このため、隔壁１５における表面張力が小さくなり、有機化合物層の膜厚のばらつきを抑えることができる。
【００４６】
また、突出層１２の外周部では複数色の発光層用の有機化合物含有液１６が混合されることになるが、突出層１２により画素配列領域と外周部との間に段差が形成されているため、乾燥前の有機化合物含有液１６の混合液が段差を乗り越えて画素配列領域に逆流することがない。
【００４７】
有機化合物含有液１６を乾燥させて有機ＥＬ層１６’を形成したら、有機ＥＬ層１６’上に対向電極１７を形成する。対向電極１７は真空蒸着法等により形成することができる。
これにより、画素電極１３と対向電極との間に有機ＥＬ層１６’を挟み込んだ有機ＥＬ素子２０が基板１１上にマトリクス状に形成される。
その後、封止基板（例えば、メタルキャップ、ガラス基板等）を接着剤により対向電極に接着する。これにより、ＥＬディスプレイパネルが完成する。
【００４８】
以上のように、本実施形態によれば、画素電極１３の列が隔壁１５により仕切られているので、各列毎に異なる種類の有機化合物含有液１６を塗布しても、異なる種類の有機化合物含有液１６が画素配列領域で混合することがない。また、余剰の有機化合物含有液１６が隔壁１５が設けられていない左右両側より絶縁膜１４を乗り越えて突出層１２の外周部に流出するので、有機ＥＬ層の膜厚のばらつきを抑えることができる。
【００４９】
また、基板１１の突出層１２が設けられた画素配列領域よりも外に位置する外周部は、突出層１２よりも低くなっているので、有機化合物含有液が突出層１２の外周部に速やかに流出し、さらに他の有機化合物含有液と混合した混合液が画素配列領域内へ再び流入することを防ぐことができる。
【００５０】
なお、以上の実施形態においては、基板１１として、画素電極１３に各種の信号を出力する複数の走査線、信号線等の配線、及び、各画素電極１３に対応した駆動トランジスタ１８やキャパシタ等の素子（図示せず）が設けられたトランジスタアレイパネルを用いたが、本発明はこれに限らず、例えばパッシブ駆動のパネルを用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の実施に用いられる塗布装置２００の概略構成図である。
【図２】本発明の実施に用いられる基板１１の平面図である。
【図３】図２のIII−III矢視断面図である。
【図４】図１の塗布装置２００により有機化合物含有液１６が塗布された図２の基板１１の平面図である。
【図５】図４のV−V矢視断面図である。
【図６】有機ＥＬ素子２０が形成された図２の基板１１の平面図である。
【図７】図６のVII−VII矢視断面図である。
【図８】従来のＥＬディスプレイパネルに用いられる基板１１の平面図である。
【図９】図８のIX−IX矢視断面図である。
【図１０】有機化合物含有液１６が塗布された図８の基板１１の平面図である。
【図１１】図１０のXI−XI矢視断面図である
【符号の説明】
【００５２】
１１ 基板
１２ 突出層
１３ 画素電極（画素電極）
１５ 隔壁
１６ 有機化合物含有液
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素配列領域に設けられた複数の画素電極と、
前記画素電極上に成膜された有機ＥＬ層と、
所定方向に沿って互いに隣接する前記複数の画素電極間に配置され、前記有機ＥＬ層を成膜するための仕切りとなるとともに、互いに離間された複数の隔壁と、
を備えることを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記複数の隔壁は線形状であることを特徴とする請求項１記載の表示パネル。
【請求項３】
前記画素配列領域は基板に設けられた突出層上に位置することを特徴とする請求項１又は２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記突出層は、側面が傾斜していることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の表示パネル。
【請求項５】
前記複数の隔壁の末端部に位置し、前記隔壁よりも低く、前記画素電極よりも高い膜を有することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の表示パネル。
【請求項６】
画素配列領域に設けられた有機ＥＬ層を、第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する隔壁を備えることを特徴とする表示パネル。
【請求項７】
画素配列領域に設けられた複数の画素電極を第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する複数の隔壁間に有機化合物含有液を塗布することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項１】
画素配列領域に設けられた複数の画素電極と、
前記画素電極上に成膜された有機ＥＬ層と、
所定方向に沿って互いに隣接する前記複数の画素電極間に配置され、前記有機ＥＬ層を成膜するための仕切りとなるとともに、互いに離間された複数の隔壁と、
を備えることを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記複数の隔壁は線形状であることを特徴とする請求項１記載の表示パネル。
【請求項３】
前記画素配列領域は基板に設けられた突出層上に位置することを特徴とする請求項１又は２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記突出層は、側面が傾斜していることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の表示パネル。
【請求項５】
前記複数の隔壁の末端部に位置し、前記隔壁よりも低く、前記画素電極よりも高い膜を有することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の表示パネル。
【請求項６】
画素配列領域に設けられた有機ＥＬ層を、第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する隔壁を備えることを特徴とする表示パネル。
【請求項７】
画素配列領域に設けられた複数の画素電極を第一の方向において仕切るとともに第二の方向において前記画素配列領域外に開放する複数の隔壁間に有機化合物含有液を塗布することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００７−８７６４０（Ｐ２００７−８７６４０Ａ）
【公開日】平成１９年４月５日（２００７．４．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２７２１８２（Ｐ２００５−２７２１８２）
【出願日】平成１７年９月２０日（２００５．９．２０）
【出願人】（０００００１４４３）カシオ計算機株式会社 (8,748)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年４月５日（２００７．４．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月２０日（２００５．９．２０）
【出願人】（０００００１４４３）カシオ計算機株式会社 (8,748)
【Ｆターム（参考）】
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