表示装置および電子機器
【課題】発光素子の寸法が小さい場合にも、隣接するカラーフィルタを通過した光の回折による混色を抑えることが可能な表示装置およびこれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】複数の発光素子と、複数の発光素子に対向する透過色領域および透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタとを備えた表示装置。
【解決手段】複数の発光素子と、複数の発光素子に対向する透過色領域および透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタとを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機ＥＬ（Electroluminescence）または無機ＥＬなどの自発光型の表示装置およびこれを備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
フルカラー表示装置では、白色発光の発光素子を用いる場合には、カラーフィルタを用いて赤，緑および青の三原色の光を生成し、カラー画像を表示する。また、赤，緑および青の三原色の発光素子を用いる場合にも、色純度の向上を目的として、カラーフィルタを用いる場合がある。更に、コントラスト向上のため、カラーフィルタの境界には遮光性のブラックマトリクスが設けられる。
【０００３】
カラーフィルタと遮光性のブラックマトリクスとを併用する場合には、ブラックマトリクスが回折格子となり、隣接するカラーフィルタを通過した光が回折して混色を発生させる。従来では、ブラックマトリクスによる回折現象を抑制するため、ブラックマトリクスの端部から開口部に向けて光学的濃度勾配を設けることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−８８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ブラックマトリクスの縁に光学的濃度勾配をつけることは、発光素子の寸法が小さい場合には極めて困難であるという問題があった。
【０００６】
本開示の目的は、発光素子の寸法が小さい場合にも、隣接するカラーフィルタを通過した光の回折による混色を抑えることが可能な表示装置およびこれを備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示による表示装置は、複数の発光素子と、複数の発光素子に対向する透過色領域および透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタとを備えたものである。
【０００８】
本開示の表示装置では、複数の発光素子の各々で発生した光は、その発光素子に対向する透過色領域を通過して取り出されるが、発生した光の一部は、隣接する透過色領域に入射する。ここでは、透過色領域の一部に半透過領域が設けられているので、隣接する透過色領域に入射した光の一部は半透過領域を通過する。よって、隣接する透過色領域を通過する光と、隣接する透過色領域および半透過領域を通過する光との間に位相差が生じ、互いに打ち消し合う。これにより、隣接する透過色領域を通過する光の回折に起因する混色が低減される。
【０００９】
本開示による電子機器は、上記表示装置を備えたものである。
【００１０】
本開示の電子機器では、上記表示装置によって画像表示がなされる。
【発明の効果】
【００１１】
本開示の表示装置、または本開示の電子機器によれば、カラーフィルタの透過色領域の一部に半透過領域を設けるようにしたので、発光素子の寸法が小さい場合にも、カラーフィルタの隣接する透過色領域を通過した光の回折による混色を抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の概略構成を表すと共に、半透過領域の第１例を表す断面図である。
【図４】半透過領域の第２例を表す図である。
【図５】半透過領域の第３例を表す図である。
【図６】第３例の他の例を表す図である。
【図７】半透過領域の第４例を表す図である。
【図８】第４例の他の例を表す図である。
【図９】半透過領域の第５例を表す図である。
【図１０】第５例の他の例を表す図である。
【図１１】半透過領域の第６例を表す図である。
【図１２】第６例の他の例を表す図である。
【図１３】回折による混色の原理を説明するための図である。
【図１４】隣接する透過色領域を通過した光の輝度を表す図である。
【図１５】第１例ないし第４例の半透過領域の混色率低減効果を、図１３に示した従来のブラックマトリクスを設けた場合と比較して表す図である。
【図１６】第１例の半透過領域を設けた場合に、隣接する透過色領域を通過した光の輝度を、図１３に示した従来のブラックマトリクスを設けた場合と比較して表す図である。
【図１７】第３例の半透過領域を設けた場合に、隣接する透過色領域を通過した光の輝度を、図１３に示した従来のブラックマトリクスを設けた場合と比較して表す図である。
【図１８】第１例ないし第４例の半透過領域を設けた場合の色再現範囲を、図１３に示した従来のブラックマトリクスを設けた場合と比較して表す図である。
【図１９】図３に示した発光素子の構成を表す断面図である。
【図２０】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図２１】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す正面図および背面図である。
【図２２】適用例２の外観を表す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、デジタル一眼レフカメラのビューファインダやヘッドマウント形ディスプレイなどに用いられる小型・高精細有機ＥＬ表示装置であり、例えば、ガラスなどの基板１１の上に、後述する複数の画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１０が設けられたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【００１５】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極３２の下層に設けられたアクティブ型の駆動回路である。画素駆動回路１４０は、例えば、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、キャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機ＥＬ素子１０とを有している。キャパシタＣｓの一方の電極は駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２の間に接続され、他方の電極は駆動トランジスタＴｒ１および有機ＥＬ素子１０との間に接続されている。
【００１６】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機ＥＬ素子１０のいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１７】
図３は、図１に示した表示領域１１０の一部の断面構成を表したものである。各画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、例えば、白色光を発生する複数の有機ＥＬ素子１０と、カラーフィルタ２０との組み合わせにより三原色（赤，緑および青）のいずれかの光を発生するものである。複数の有機ＥＬ素子１０のピッチ（中心間距離）ｐは、例えば３０μｍ以下、具体的には例えば約２μｍないし３μｍである。すなわち、この表示装置は、有機ＥＬ素子１０の寸法が極めて小さい、いわゆるマイクロディスプレイと呼ばれるものである。なお、この表示装置上には接眼レンズ（図示せず）が設けられており、使用者は、表示装置に表示された画像を、接眼レンズを通して拡大して見るようになっている。そのため、使用者が見ることができるのは、表示装置に表示された画像のうち、接眼レンズの取り込み角の範囲内の部分のみである。
【００１８】
有機ＥＬ素子１０は、基板１１上に行列状に配置されると共に、保護膜１２により被覆されている。保護膜１２上には、接着層１３を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板１４が全面にわたって貼り合わせられている。この封止用基板１４の基板１１側の表面にカラーフィルタ２０が設けられている。そのため、有機ＥＬ素子１０と、カラーフィルタ２０の上面（封止用基板１４側の表面）との間には、例えば７μｍ程度の離間距離（ギャップ）Ｇが生じている。
【００１９】
保護膜１２は、例えば、厚みが０．５μｍないし１０μｍであり、窒化ケイ素（ＳｉＮ）により構成されている。接着層１３は、例えば紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂により構成されている。封止用基板１４は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの後述する第２電極３５の側に位置しており、接着層１３と共に有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを封止するものである。封止用基板１４は、例えば、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。
【００２０】
カラーフィルタ２０は、複数の有機ＥＬ素子１０に対向する透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇ，透過青色領域２１Ｂ（以下、「透過色領域２１」と総称する。）を有している。透過色領域２１の一部には、半透過領域２２が設けられている。これにより、この表示装置では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの寸法が小さい場合にも、隣接する透過色領域２１を通過した光の回折による混色を抑えることが可能となっている。
【００２１】
透過色領域２１は、有機ＥＬ素子１０で発生した白色光を，赤，緑または青の色光として取り出すためのものであり、上述したように透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有している。透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂは、有機ＥＬ素子１０に対応して順に配置されている。透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂは、顔料を混入した樹脂よりなる着色層により構成され、顔料の選択により、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。
【００２２】
半透過領域２２は、透過色領域２１の一部に後述する半透過膜が設けられていることにより、透過色領域２１の一部の透過率を可変させたものである。透過率は、半透過膜の材料、厚みなどにより調整することが可能である。
【００２３】
半透過領域２２は、有機ＥＬ素子１０の一つから、当該有機ＥＬ素子１０に対向する透過色領域２１に隣接する透過色領域２１（以下、単に「隣接する透過色領域２１」と呼ぶ。）に入射する光の一部が半透過領域２２を通過可能な位置に設けられていることが好ましい。具体的には、半透過領域２２は、複数の有機ＥＬ素子１０どうしの境界に対向して設けられていることが好ましい。これにより、発光面垂直方向（視野角０°方向）の光取り出しを妨げず、かつ透過色領域２１の開口幅ｗ１を大きくしつつ、光の回折に起因する混色を抑えることが可能となる。
【００２４】
また、半透過領域２２は、封止用基板１４側から入射する外光を吸収することによりコントラストを向上させる、すなわち従来のブラックマトリクスと同様の機能も有している。
【００２５】
（半透過領域２２の第１例）
このような半透過領域２２は、例えば図３に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた半透過膜２２Ａにより構成されている。半透過膜２２Ａは、例えば、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍであり、窒化チタン（ＴｉＮ）により構成されている。この場合には、製造工程において封止用基板１４に窒化チタンよりなる半透過膜２２Ａを直接成膜することにより、半透過領域２２を容易に形成することが可能となる。
【００２６】
（半透過領域２２の第２例）
半透過領域２２は、また、図４に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられた半透過膜２２Ａにより構成されていることも可能である。半透過膜２２Ａは、例えば、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍであり、窒化チタン、または光学濃度を薄くした黒色樹脂により構成されている。
【００２７】
（半透過領域２２の第３例）
更に、半透過領域２２は、図５に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた第１半透過膜２２Ｂと、この第１半透過膜２２Ｂの表面（下面および側面）を覆う第２半透過膜２２Ｃを有していることも可能である。第２半透過膜２２Ｃは、第１半透過膜２２Ｂの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｄを有している。第１半透過膜２２Ｂは、例えば、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍであり、窒化チタンにより構成されている。第２半透過膜２２Ｃは、例えば、厚みが３０ｎｍ、線幅が１．８μｍであり、窒化チタンにより構成されている。張り出した部分２２Ｄの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍである。
【００２８】
張り出した部分２２Ｄの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の両側の合計で、第１半透過膜２２Ｂの開口幅ｄ２の１／４（４分の１）以下であることが好ましい。張り出し量ｄ１がこれよりも大きくなると、透過色領域２１の開口率が低下してしまうからである。
【００２９】
なお、第１半透過膜２２Ｂと第２半透過膜２２Ｃとの積層順序は、図５に示した例に限られない。例えば、図６に示したように、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた第２半透過膜２２Ｃと、この第２半透過膜２２Ｃの表面（下面）の一部に設けられた第１半透過膜２２Ｂを有していることも可能である。第２半透過膜２２Ｃは、第１半透過膜２２Ｂの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｄを有している。
【００３０】
（半透過領域２２の第４例）
あるいは、半透過領域２２は、図７に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた半透過膜２２Ｅと、この半透過膜２２Ｅの表面（下面）の一部に設けられた遮光膜２２Ｆを有していることも可能である。半透過膜２２Ｅは、遮光膜２２Ｆの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｇを有している。半透過膜２２Ｅは、例えば、厚みが３０ｎｍ、線幅が１．８μｍであり、窒化チタンにより構成されている。遮光膜２２Ｆは、例えば、厚みが１６０ｎｍ、線幅が１．２μｍであり、チタン（Ｔｉ）により構成されている。張り出した部分２２Ｇの張り出し量ｄは、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍである。
【００３１】
張り出した部分２２Ｇの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の両側の合計で、遮光膜２２Ｆの開口幅ｄ２の１／４（４分の１）以下であることが好ましい。張り出し量ｄ１がこれよりも大きくなると、透過色領域２１の開口率が低下してしまうからである。
【００３２】
なお、半透過膜２２Ｅと遮光膜２２Ｆとの積層順序は、図７に示した例に限られない。例えば、図８に示したように、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた遮光膜２２Ｆと、この遮光膜２２Ｆの表面（下面および側面）を覆う半透過膜２２Ｅを有していることも可能である。半透過膜２２Ｅは、遮光膜２２Ｆの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｇを有している。
【００３３】
（半透過領域２２の第５例）
なお、第３例に示した第１半透過膜２２Ａおよび第２半透過膜２２Ｂよりなる半透過領域２２は、図９または図１０に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられていることも可能である。
【００３４】
（半透過領域２２の第６例）
また、第４例に示した半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆよりなる半透過領域２２は、図１１または図１２に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられていることも可能である。
【００３５】
この表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、各有機ＥＬ素子１０に駆動電流Ｉｄｓが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、保護膜１２，接着層１３，カラーフィルタ２０および封止用基板１４を透過して（トップエミッション）取り出される。
【００３６】
ここでは、各有機ＥＬ素子１０で発生した光は、その有機ＥＬ素子１０に対向する透過色領域２１を通過して取り出されるが、発生した光の一部は、隣接する透過色領域２１に入射する。ここでは、透過色領域２１の一部に半透過領域２２が設けられているので、隣接する透過色領域２１に入射した光の一部は半透過領域２２を通過する。よって、隣接する透過色領域２１を通過する光ｈ１と、隣接する透過色領域２１および半透過領域２２を通過する光ｈ２との間に位相差が生じ、互いに打ち消し合う。これにより、隣接する透過色領域２１を通過する光ｈ１，ｈ２の回折に起因する混色が低減される。
【００３７】
特に、図４に示した第２例では、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられた半透過膜２２Ａにより構成されている。よって、半透過領域２２と有機ＥＬ素子１０との距離が小さくなり、光ｈ１，ｈ２の入射角度が同じでも、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通る光ｈ２の量が増える。よって、光ｈ１，ｈ２の回折に起因する混色を抑える効果がより高くなる。
【００３８】
また、特に、図５または図６に示した第３例では、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた第１半透過膜２２Ｂと、この第１半透過膜２２Ｂの表面（下面および側面）を覆う第１半透過膜２２Ｃを有している。第２半透過膜２２Ｃは、第１半透過膜２２Ｂの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｄを有している。よって、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通過する光ｈ２のうち、第１半透過膜２２Ｂと第２半透過膜２２Ｃとが重なった部分を通過する光ｈ３と、張り出した部分２２Ｄを通過する光ｈ４との間に位相差を生じさせることが可能となる。よって、透過色領域２１のみを通過する光ｈ１と、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通過する光ｈ２との間に位相差を生じさせると同時に、光ｈ３，ｈ４との間にも位相差を生じさせることが可能となる。よって、光ｈ１〜ｈ４の回折に起因する混色を更に抑えることが可能となる。
【００３９】
更に、特に、図７または図８に示した第４例では、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた半透過膜２２Ｅと、この半透過膜２２Ｅの表面（下面）の一部に設けられた遮光膜２２Ｆを有している。半透過膜２２Ｅは、遮光膜２２Ｆの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｇを有している。よって、半透過膜２２Ｅの貼りだした部分２２Ｇによって光ｈ１，ｈ２の回折に起因する混色を抑えると共に、遮光膜２２Ｆにより外光を吸収してコントラストを向上させるという本来のブラックマトリクスの効果を得ることが可能となる。
【００４０】
加えて、特に、図９または図１０に示した第５例では、第１半透過膜２２Ａおよび第２半透過膜２２Ｂよりなる半透過領域２２が、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられている。また、図１１または図１２に示した第６例では、半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆよりなる半透過領域２２が、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられている。よって、半透過領域２２と有機ＥＬ素子１０との距離が小さくなるので、光ｈ１，ｈ２の入射角度が同じでも、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通る光ｈ２の量が増える。よって、光ｈ１，ｈ２の回折に起因する混色を抑える効果をより高めることが可能となる。
【００４１】
図１３は、半透過領域２２に代えて従来のブラックマトリクスＢＭを有する表示装置の断面構成を表したものである。ブラックマトリクスＢＭは、厚みが２００ｎｍ、線幅ｗ２が１．２μｍであり、チタン（Ｔｉ）により構成されている。なお、図１３においては、図３と同一の構成要素には２００番台の同一の符号を付している。
【００４２】
図１３において、例えば中央の有機ＥＬ素子２１０で発生した光は、その有機ＥＬ素子２１０に対向する透過色領域２２１（透過赤色領域２２１Ｒ）を通過して取り出されるが、発生した光の一部は、隣接する透過色領域２２１（透過緑色領域２２１Ｇまたは透過青色領域２２１Ｂ）に入射し、透過光ｈ５と、ブラックマトリクスＢＭによる１次回折光ｈ６とが生じる。
【００４３】
図１４は、図１３に示した従来のブラックマトリクスＢＭを有する表示装置について、隣接する透過色領域２２１（透過緑色領域２２１Ｇ）を通過した光の強度を調べたシミュレーション結果を表したものである。なお、図１４において、角度は空気中での値である。図１４から分かるように、隣接する透過色領域２２１を通過した光は、視野角θ＝３２°付近に最大のピークを有している。これは図１３に示した透過光ｈ５に相当する。また、視野角１０°付近に第２のピークがあり、これは図１３に示した１次回折光ｈ６に相当する。また、視野角−５°付近および−２０°付近には、第３および第４のピークがそれぞれ生じている。これらは２次回折光および３次回折光（図１３には図示せず）に相当する。
【００４４】
一方、上述した接眼レンズ（図示せず）の取り込み角αは、例えば−１０°ないし＋１０°である。そのため、図１３および図１４に示したように、透過光ｈ５は−１０°ないし＋１０°の範囲内には入射しないが、１次回折光ｈ６および２次回折光（図１４参照。）は−１０°ないし＋１０°の範囲内に入射し、混色が発生する。
【００４５】
図１５は、図３，図４，図５および図７に示した第１例ないし第４例の半透過領域２２を有する表示装置を作製し、得られた表示装置について、接眼レンズの取り込み角の範囲内（±１０°）での混色率を調べたシミュレーション結果を表したものである。なお、図１５の混色率は、図１３に示した従来のブラックマトリクスＢＭを設けた表示装置の混色率を参照値として表している。図１５から分かるように、混色率は、第１例では−４８％、第２例では−６３％、第３例では−６６％、第４例では−４４％となり、いずれも従来のブラックマトリクスＢＭを有する場合（比較例）に比べて混色率が大幅に抑えられていた。
【００４６】
第１例と第２例とを比較すると、第２例のほうが第１例よりも更に混色率が抑えられていた。これは、第２例では半透過領域２２と有機ＥＬ素子１０との距離が小さくなり、光ｈ１，ｈ２の入射角度が同じでも、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通る光ｈ２の量が増えたためであると考えられる。
【００４７】
また、第１例と第３例を比較すると、第３例のほうが第１例よりも更に混色率が抑えられていた。これは、第３例では、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通過する光ｈ２のうち、第１半透過膜２２Ｂと第２半透過膜２２Ｃとが重なった部分を通過する光ｈ３と、張り出した部分２２Ｄを通過する光ｈ４との間に位相差を生じさせることが可能となるからであると考えられる。
【００４８】
図１６および図１７は、第１例および第３例において隣接する透過色領域２１を通過した光の強度を調べた結果を表したものである。なお、図１６および図１７には、図１４に示した従来のブラックマトリクスＢＭを有する場合を、比較例として併せて示している。図１６および図１７から分かるように、第１例および第３例ではいずれも、接眼レンズの取り込み角α（−１０°ないし＋１０°）の範囲内の１次回折光および２次回折光ともに、比較例に比べて抑えられていた。また、第３例のほうが第１例よりも更に回折光の強度が抑えられていることが分かる。
【００４９】
更に、図１５において第１例と第４例を比較すると、第４例は第１例と同程度の混色率となっていた。これは、第４例では、チタンよりなる遮光膜２２Ｆでの反射の影響があったからであると考えられる。
【００５０】
図１８は、図３，図４，図５および図７に示した半透過領域２２の第１例ないし第４例の色再現範囲を、図１３に示した従来のブラックマトリクスＢＭを設けた比較例と比較して表した色度図（ＣＩＥ１９７６ｕ'ｖ'色度図）である。図１８から分かるように、第１例ないし第４例ではいずれも、比較例に比べて、特に赤および青の色再現範囲が拡大されていた。
【００５１】
すなわち、透過色領域２１の一部に半透過領域２２を設けるようにすれば、隣接する透過色領域２１を通過する光の回折による混色を抑え、色純度を改善し、色再現範囲を拡大することが可能となることが分かった。
【００５２】
図１９は、図３に示した有機ＥＬ素子１０の具体的な構成を表したものである。基板１１上には、上述した駆動トランジスタＴｒ１を有する画素駆動回路１４０が設けられている。基板１１の画素駆動回路１４０が設けられた面は、第１絶縁膜３１によって被覆されている。第１絶縁膜３１の上に有機ＥＬ素子１０が設けられている。
【００５３】
駆動トランジスタＴｒ１は、例えば、基板１１にゲート電極１１Ａ，ゲート絶縁膜１１Ｂ，半導体膜１１Ｃ，チャネル保護膜１１Ｄ，層間絶縁膜１１Ｅ，配線１１Ｆがこの順に積層されたボトムゲート型（逆スタガ型）の構成を有している。なお、図２に示した書き込みトランジスタＴｒ２も、駆動トランジスタＴｒ１と同様の構成を有している。
【００５４】
第１絶縁膜３１は、画素駆動回路１４０が形成された基板１１の表面を平坦化するためのものであり、例えば、厚みが１００ｎｍないし１０００ｎｍであり、酸化窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）または酸化ケイ素（ＳｉＯ2またはＳｉＯ）により構成されている。また、第１絶縁膜３１は、厚みが２．０μｍ程度であり、ポリイミドなどの感光性絶縁材料により構成されていることも可能である。第１絶縁膜３１には、駆動トランジスタＴｒ１と有機ＥＬ素子１０との電気的接続をとるための接続孔３１Ａが設けられている。
【００５５】
有機ＥＬ素子１０は、第１絶縁膜３１の上に設けられ、基板１１の側から、第１電極３２，第２絶縁膜３３，発光層を含む有機層３４、および第２電極３５がこの順に積層された構成を有している。
【００５６】
第１電極３２は、複数の有機ＥＬ素子１０の各々ごとに設けられている。第１電極３２は、例えば、厚みが１００ｎｍ程度であり、高反射率材料であるアルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金により構成されており、発光層で発生した光を第２電極３５側から取り出すようになっている（トップエミッション）。第１電極３２の厚みは、発光層で発生した光が透過されず、光取出し効率を維持することが可能な程度、例えば３０ｎｍないし２００ｎｍの範囲であることが好ましい。第１電極３２の構成材料としては、アルミニウム（Ａｌ）またはその合金のほか、金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），クロム（Ｃｒ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ），モリブデン（Ｍｏ），チタン（Ｔｉ），タンタル（Ｔａ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極が挙げられる。
【００５７】
また、第１電極３２は、上述した反射電極の下地として、厚みが２０ｎｍ程度であり、チタン（Ｔｉ），タングステン（Ｗ），銅（Ｃｕ），タンタル（Ｔａ），モリブデン（Ｍｏ）などよりなる密着層（図示せず）を有していてもよい。この密着層は、第１電極３２の厚みを薄くした場合にも反射率を高く維持するための反射補助層としての機能も有している。このような密着層を設けた場合には、第１電極３２の厚みは１５ｎｍ以上であれば足りる。
【００５８】
更に、第１電極３２は、密着層または反射補助層としてのチタン層と、アルミニウムまたはその合金などの上述した反射電極と、チタン層またはタンタル層との３層の積層構造を有していてもよい。あるいは、第１電極３２は、上述した反射電極と、ＩＴＯ（インジウム・スズ複合酸化物；Indium Tin Oxide），ＩＺＯ（登録商標）（インジウム・亜鉛複合酸化物），またはＳｎＯ2などの透明電極との複合膜により構成されていてもよい。
【００５９】
第２絶縁膜３３は、第１電極３２と第２電極３５との絶縁性を確保すると共に発光領域を正確に所望の形状にするためのものである。第２絶縁膜３３は、第１電極３２の発光領域に対応して開口部３３Ａを有している。第２絶縁膜３３は、例えば、厚みが１００ｎｍないし２００ｎｍであり、ＳｉＯＮにより構成されている。また、第２絶縁膜３３は、ポリイミドなどの感光性絶縁材料により構成されていることも可能である。
【００６０】
有機層３４は、第１電極３２および第２絶縁膜３３の上に、複数の有機ＥＬ素子１０に共通に設けられている。有機層３４は、例えば、第１電極３２の側から順に、正孔注入層，正孔輸送層，発光層および電子輸送層を積層した構成を有している。
【００６１】
正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層は、例えば、厚みが２ｎｍないし１０ｎｍであり、化１に示したヘキサトリルアザトリフェニレンにより構成されている。
【００６２】
【化１】
【００６３】
正孔輸送層は、発光層への正孔注入効率を高めるためのものである。正孔輸送層は、例えば、厚みが３０ｎｍであり、化２に示した材料により構成されている。
【００６４】
【化２】
【００６５】
発光層は、例えば、第１電極３２の側から順に、厚み１０ｎｍの赤色発光層、厚み１０ｎｍの発光分離層、厚み１０ｎｍの青色発光層、および厚み１０ｎｍの緑色発光層（いずれも図示せず）を順に積層した白色発光用のものである。赤色発光層は、電界をかけることにより、第１電極３２から正孔注入層および正孔輸送層を介して注入された正孔の一部と、第２電極３５から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、赤色の光を発生するものである。発光分離層は、赤色発光層への電子供給量を減らすためのものである。青色発光層は、電界をかけることにより、第１電極３２から正孔注入層，正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第２電極３５から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、青色の光を発生するものである。緑色発光層は、電界をかけることにより、第１電極３２から正孔注入層，正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第２電極３５から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、緑色の光を発生するものである。赤色発光層，緑色発光層および青色発光層は、第２絶縁膜３３の開口部３３Ａに対応した領域で発光するようになっている。
【００６６】
赤色発光層は、例えば、赤色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種を含んでいる。赤色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、赤色発光層は、例えば、厚みが５ｎｍ程度であり、４，４−ビス（２，２−ジフェニルビニン）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）に２，６−ビス［（４’−メトキシジフェニルアミノ）スチリル］−１，５−ジシアノナフタレン（ＢＳＮ）を３０重量％混合したものにより構成されている。
【００６７】
発光分離層は、例えば、化３に示した材料により構成されている。
【００６８】
【化３】
【００６９】
緑色発光層は、例えば、緑色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種を含んでいる。緑色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、緑色発光層は、例えば、厚みが１０ｎｍ程度であり、ＤＰＶＢｉにクマリン６を５重量％混合したものにより構成されている。
【００７０】
青色発光層は、例えば、青色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種とを含んでいる。青色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、青色発光層は、例えば、厚みが３０ｎｍ程度であり、ＤＰＶＢｉに４，４’−ビス［２−｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を２．５重量％混合したものにより構成されている。
【００７１】
電子輸送層は、発光層への電子注入効率を高めるためのものである。電子輸送層は、例えば、厚みが２０ｎｍ程度であり、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３ ）により構成されている。
【００７２】
第２電極３５は、有機層３４の上に、複数の有機ＥＬ素子１０に共通に設けられている。第２電極３５は、例えば、第１電極３２の側から順に、厚みが約０．３ｎｍでありフッ化リチウム（ＬｉＦ）よりなる第１層と、厚みが３ｎｍでありカルシウム（Ｃａ）よりなる第２層と、厚みが５ｎｍでありＭｇ−Ａｇ合金よりなる第３層とを積層した構成を有している。第２電極３５は、表示領域１１０の外側の領域で、図示しない補助配線に接続されている。その理由は、有機層３４が複数の有機ＥＬ素子１０に共通に設けられているので、各有機ＥＬ素子１０ごとに第２電極３５と補助配線との接続をとることができないからである。
【００７３】
この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【００７４】
まず、上述した材料よりなる基板１１の上に画素駆動回路１４０を形成し、接続孔３１Ａを有する第１絶縁膜３１を形成する。
【００７５】
次いで、第１絶縁膜３１の上に、例えばスパッタリング法により、例えばチタン膜およびアルミニウム合金膜（図示せず）を形成する。そののち、このチタン膜およびアルミニウム合金膜を、例えばフォトリソグラフィ法およびドライエッチングにより所定の形状に成形し、複数の有機ＥＬ素子１０の各々ごとに第１電極３２を形成する。
【００７６】
続いて、第１電極３２上および第１絶縁膜３１上に、例えばＰＥＣＶＤ法により、ＳｉＯＮ膜を例えば１０ｎｍないし２００ｎｍの厚みで成膜する。このＳｉＯＮ膜を、例えばフォトリソグラフィ法およびドライエッチングにより所定の形状に成形し、開口部３３Ａを有する第２絶縁膜３３を形成する。
【００７７】
そののち、第１電極３２および第２絶縁膜３３の上に、例えば蒸着法により、有機層３４を形成し、引き続き、例えば真空蒸着法により、第２電極３５を形成する。以上により、図３および図１９に示した有機ＥＬ素子１０が形成される。
【００７８】
続いて、図３に示したように、例えばＣＶＤ法またはスパッタ法により、有機ＥＬ素子１０の上に上述した材料よりなる保護膜１２を形成する。
【００７９】
また、例えば、上述した材料よりなる封止用基板１４を用意し、この封止用基板１４に、図３ないし図１２に示した第１例ないし第６例のいずれかの構成を有する半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する。
【００８０】
図３に示した第１例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を作製する場合には、まず、封止用基板１４に、窒化チタン膜を９０ｎｍの厚みで形成する。続いて、この窒化チタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、線幅が１．２μｍの窒化チタンよりなる半透過膜２２Ａを有する半透過領域２２を形成する。
【００８１】
そののち、半透過膜２２Ａを形成した封止用基板１４に、透過赤色領域２１Ｒの着色層の材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより透過赤色領域２１Ｒを形成する。続いて、透過赤色領域２１Ｒと同様にして、透過青色領域２１Ｂおよび透過緑色領域２１Ｇを順次形成し、透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００８２】
図４に示した第２例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、まず、封止用基板１４に、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００８３】
続いて、透過色領域２１の上に、上述した第１例と同様にして、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍの窒化チタンよりなる半透過膜２２Ａを有する半透過領域２２を形成する。あるいは、透過色領域２１の上に、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍの黒色樹脂よりなる半透過膜２２Ａを有する半透過領域２２を形成する。
【００８４】
図５に示した第３例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、まず、封止用基板１４に、上述した第１例と同様にして、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍの窒化チタンよりなる第１半透過膜２２Ｂを形成する。
【００８５】
続いて、第１半透過膜２２Ｂを形成した封止用基板１４に、窒化チタン膜を３０ｎｍの厚みで形成したのち、この窒化チタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、線幅が１．８μｍの第２半透過膜２２Ｃを形成する。張り出した部分２２Ｄの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍとなる。これにより、第１半透過膜２２Ｂおよび第２半透過膜２２Ｃを有する半透過領域２２が形成される。
【００８６】
そののち、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００８７】
図７に示した第４例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、窒化チタン膜を３０ｎｍの厚みで形成したのち、この窒化チタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、線幅が１．８μｍの半透過膜２２Ｅを形成する。
【００８８】
続いて、半透過膜２２Ｅを形成した封止用基板１４に、チタン膜を２００ｎｍの厚みで形成する。このチタン膜に対して、半透過膜２２Ｅと同じ線幅の１．８μｍでフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行う。窒化チタンとチタンとではエッチング選択比が異なり、チタンのエッチングレートが速いので、半透過膜２２Ｅの線幅ｗ４を維持する一方で、半透過膜２２Ｅの表面に、線幅が１．２μｍの遮光膜２２Ｆを形成することが可能となる。張り出した部分２２Ｇの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍとなる。これにより、半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆを有する半透過領域２２が形成される。
【００８９】
そののち、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００９０】
図８に示した第４例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、チタン膜を２００ｎｍの厚みで形成したのち、このチタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、線幅が１．２μｍの遮光膜２２Ｆを形成する。
【００９１】
続いて、遮光膜２２Ｆを形成した封止用基板１４に、窒化チタン膜を３０ｎｍの厚みで形成する。この窒化チタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、遮光膜２２Ｆの表面に、線幅が１．８μｍの半透過膜２２Ｅを形成する。張り出した部分２２Ｇの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍとなる。これにより、半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆを有する半透過領域２２が形成される。
【００９２】
そののち、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００９３】
図９または図１０に示した第５例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、まず、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。そののち、上述した第３例と同様にして第１半透過膜２２Ｂおよび第２半透過膜２２Ｃを有する半透過領域２２を形成する。
【００９４】
図１１または図１２に示した第６例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、まず、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。そののち、上述した第４例と同様にして半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆを有する半透過領域２２を形成する。
【００９５】
封止用基板１４にカラーフィルタ２０を形成したのち、同じく図３に示したように、保護膜１２の上に、接着層１３を形成し、この接着層１３を間にして封止用基板１４を貼り合わせる。以上により、図１ないし図３に示した表示装置が完成する。
【００９６】
このように本実施の形態では、カラーフィルタ２０の透過色領域２１の一部に半透過領域２２を設けるようにしたので、有機ＥＬ素子１０の寸法が小さい場合にも、カラーフィルタ２０の隣接する透過色領域２１を通過した光ｈ１，ｈ２の回折による混色を抑えることが可能となる。
【００９７】
（モジュールおよび適用例）
以下、上述した実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００９８】
（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図２０に示したようなモジュールとして、後述する適用例１，２などの電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板１４から露出した領域３１０を設け、この露出した領域３１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）３２０が設けられていてもよい。
【００９９】
（適用例１）
図２１は、上記実施の形態の表示装置が適用される撮像装置（レンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルカメラ）の外観を表したものである。この撮像装置は、例えば、カメラ本体部（カメラボディ）４１１の正面右側に交換式の撮影レンズユニット（交換レンズ）４１２を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部４１３を有している。カメラ本体部４１１の背面略中央にはモニタ４１４が設けられている。モニタ４１４の上部には、ビューファインダ（接眼窓）４１５が設けられている。撮影者は、ビューファインダ４１５を除くことによって、撮影レンズユニット４１２から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことが可能である。このビューファインダ４１５は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【０１００】
（適用例２）
図２２は、上記実施の形態の表示装置が適用されるヘッドマウントディスプレイの外観を表したものである。このヘッドマウントディスプレイは、例えば、眼鏡形の表示部４２１の両側に、使用者の頭部に装着するための耳掛け部４２２を有しており、その表示部４２１は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【０１０１】
以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、半透過領域２２が、複数の有機ＥＬ素子１０どうしの境界に対向して設けられている場合について説明した。しかしながら、半透過領域２２は、複数の有機ＥＬ素子１０の一つから、当該有機ＥＬ素子１０に隣接する有機ＥＬ素子１０に対向する透過色領域２１に入射する光の一部が半透過領域２２を通過可能な位置に設けられていれば、その位置は特に限定されない。例えば、半透過領域２２は、透過色領域２１の中央（透過赤色領域２１Ｒの中央，透過緑色領域２１Ｇの中央，透過青色領域２１Ｂの中央）に配置されていてもよい。
【０１０２】
また、例えば、上記実施の形態では、透過色領域２１が赤色透過領域２１Ｒ，緑色透過領域２１Ｇおよび青色透過領域２１Ｂの三つの異なる色の着色層を有する場合について説明したが、透過色領域２１は、二つ、または四つ以上の異なる色の着色層を有していてもよい。二色の場合としては、青色および黄色の例が挙げられる。また、四色の場合としては、赤色，緑色，青色と、黄色またはシアン色またはマゼンタ色との例が挙げられる。
【０１０３】
更に、例えば、上記実施の形態では、カラーフィルタ２０が封止用基板１４に設けられている場合について説明したが、カラーフィルタ２０は基板１１上、例えば保護膜１２と接着層１３との間に設けられていることも可能である。
【０１０４】
加えて、例えば、上記実施の形態では、発光層で発生した光を封止用基板１４側から取り出す場合（トップエミッション）を例として説明したが、発光層で発生した光を基板１１側から取り出すことも可能である（ボトムエミッション）。この場合には、カラーフィルタ２０は基板１１上、例えば画素駆動回路１４０と第１絶縁膜３１との間に設けることが可能である。また、ボトムエミッションの場合には、第１電極３２は、ＩＴＯ，ＩＺＯ（登録商標），またはＳｎＯ2などの透明電極により構成され、第２電極３５は、金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），クロム（Ｃｒ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ），アルミニウム（Ａｌ），モリブデン（Ｍｏ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極により構成されている。また、第２電極３５は、上述した反射電極と透明電極との複合膜により構成されていてもよい。
【０１０５】
更にまた、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態では、半透過膜２２Ａ，２２Ｅ、第１半透過膜２２Ｂおよび第２半透過膜２２Ｃを窒化チタン、遮光膜２２Ｆをチタンにより構成した場合について説明した。しかしながら、半透過領域２２を構成する各層の材料としては、窒化チタンおよびチタンのほか、窒化クロム（ＣｒＮ），クロム（Ｃｒ）または感光性黒色樹脂など、反射率が低く、光吸収率が高い材料を用いることが可能である。
【０１０６】
加えてまた、例えば、上記実施の形態では発光素子が有機ＥＬ素子１０である場合について説明したが、本開示の表示装置は無機ＥＬ素子などの他の発光素子を備えたものでもよい。
【０１０７】
なお、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子に対向する透過色領域および前記透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタと
を備えた表示装置。
（２）
前記半透過領域は、前記複数の発光素子の一つから、当該発光素子に隣接する発光素子に対向する透過色領域に入射する光の一部が前記半透過領域を通過可能な位置に設けられている
前記（１）記載の表示装置。
（３）
前記半透過領域は、前記複数の発光素子どうしの境界に対向して設けられている
前記（２）記載の表示装置。
（４）
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、前記着色層の表面に設けられた半透過膜により構成されている
前記（１）ないし（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（５）
前記半透過膜は、前記着色層の前記複数の発光素子から遠い側の表面に設けられている
前記（４）記載の表示装置。
（６）
前記半透過膜は、前記着色層の前記複数の発光素子に近い側の表面に設けられている
前記（４）記載の表示装置。
（７）
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、
第１半透過膜と、
前記第１半透過膜の周囲の前記着色層の表面に張り出した部分を有する第２半透過膜と
を有する前記（１）ないし（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（８）
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、
遮光膜と、
前記遮光膜の周囲の前記着色層の表面に張り出した部分を有する半透過膜と
を有する前記（１）ないし（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（９）
前記発光素子は、第１電極と、発光層を含む有機層と、第２電極とを順に積層した有機ＥＬ素子である
前記（１）ないし（８）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１０）
前記有機ＥＬ素子は白色光を発生するものであり、
前記着色層は、前記白色光を赤色光，緑色光または青色光として取り出す赤色着色層，緑色着色層および青色着色層を有する
前記（９）記載の表示装置。
（１１）
前記複数の有機ＥＬ素子は一方向に長い矩形形状を有すると共に、短辺に平行な行方向および長辺に平行な列方向に配列されており、
前記複数の有機ＥＬ素子の行方向のピッチは３０μｍ以下である
前記（９）または（１０）記載の表示装置。
（１２）
表示装置を備え、
前記表示装置は、
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子に対向する透過色領域および前記透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタと
を備えた電子機器。
【符号の説明】
【０１０８】
１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…画素、１０…有機ＥＬ素子、１１…基板、１２…保護膜、１３…接着層、１４…封止用基板、２０…カラーフィルタ、２１…透過色領域、２１Ｒ…透過赤色領域、２１Ｇ…透過緑色領域、２１Ｂ…透過青色領域、２２…半透過領域、３２…第１電極、３３…第２絶縁膜、３４…有機層、３５…第２電極、１１０…表示領域、１２０…信号線駆動回路、１３０…走査線駆動回路、１４０…画素駆動回路、Ｔｒ１，Ｔｒ２…トランジスタ。
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機ＥＬ（Electroluminescence）または無機ＥＬなどの自発光型の表示装置およびこれを備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
フルカラー表示装置では、白色発光の発光素子を用いる場合には、カラーフィルタを用いて赤，緑および青の三原色の光を生成し、カラー画像を表示する。また、赤，緑および青の三原色の発光素子を用いる場合にも、色純度の向上を目的として、カラーフィルタを用いる場合がある。更に、コントラスト向上のため、カラーフィルタの境界には遮光性のブラックマトリクスが設けられる。
【０００３】
カラーフィルタと遮光性のブラックマトリクスとを併用する場合には、ブラックマトリクスが回折格子となり、隣接するカラーフィルタを通過した光が回折して混色を発生させる。従来では、ブラックマトリクスによる回折現象を抑制するため、ブラックマトリクスの端部から開口部に向けて光学的濃度勾配を設けることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−８８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ブラックマトリクスの縁に光学的濃度勾配をつけることは、発光素子の寸法が小さい場合には極めて困難であるという問題があった。
【０００６】
本開示の目的は、発光素子の寸法が小さい場合にも、隣接するカラーフィルタを通過した光の回折による混色を抑えることが可能な表示装置およびこれを備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示による表示装置は、複数の発光素子と、複数の発光素子に対向する透過色領域および透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタとを備えたものである。
【０００８】
本開示の表示装置では、複数の発光素子の各々で発生した光は、その発光素子に対向する透過色領域を通過して取り出されるが、発生した光の一部は、隣接する透過色領域に入射する。ここでは、透過色領域の一部に半透過領域が設けられているので、隣接する透過色領域に入射した光の一部は半透過領域を通過する。よって、隣接する透過色領域を通過する光と、隣接する透過色領域および半透過領域を通過する光との間に位相差が生じ、互いに打ち消し合う。これにより、隣接する透過色領域を通過する光の回折に起因する混色が低減される。
【０００９】
本開示による電子機器は、上記表示装置を備えたものである。
【００１０】
本開示の電子機器では、上記表示装置によって画像表示がなされる。
【発明の効果】
【００１１】
本開示の表示装置、または本開示の電子機器によれば、カラーフィルタの透過色領域の一部に半透過領域を設けるようにしたので、発光素子の寸法が小さい場合にも、カラーフィルタの隣接する透過色領域を通過した光の回折による混色を抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の概略構成を表すと共に、半透過領域の第１例を表す断面図である。
【図４】半透過領域の第２例を表す図である。
【図５】半透過領域の第３例を表す図である。
【図６】第３例の他の例を表す図である。
【図７】半透過領域の第４例を表す図である。
【図８】第４例の他の例を表す図である。
【図９】半透過領域の第５例を表す図である。
【図１０】第５例の他の例を表す図である。
【図１１】半透過領域の第６例を表す図である。
【図１２】第６例の他の例を表す図である。
【図１３】回折による混色の原理を説明するための図である。
【図１４】隣接する透過色領域を通過した光の輝度を表す図である。
【図１５】第１例ないし第４例の半透過領域の混色率低減効果を、図１３に示した従来のブラックマトリクスを設けた場合と比較して表す図である。
【図１６】第１例の半透過領域を設けた場合に、隣接する透過色領域を通過した光の輝度を、図１３に示した従来のブラックマトリクスを設けた場合と比較して表す図である。
【図１７】第３例の半透過領域を設けた場合に、隣接する透過色領域を通過した光の輝度を、図１３に示した従来のブラックマトリクスを設けた場合と比較して表す図である。
【図１８】第１例ないし第４例の半透過領域を設けた場合の色再現範囲を、図１３に示した従来のブラックマトリクスを設けた場合と比較して表す図である。
【図１９】図３に示した発光素子の構成を表す断面図である。
【図２０】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図２１】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す正面図および背面図である。
【図２２】適用例２の外観を表す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、デジタル一眼レフカメラのビューファインダやヘッドマウント形ディスプレイなどに用いられる小型・高精細有機ＥＬ表示装置であり、例えば、ガラスなどの基板１１の上に、後述する複数の画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１０が設けられたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【００１５】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極３２の下層に設けられたアクティブ型の駆動回路である。画素駆動回路１４０は、例えば、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、キャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機ＥＬ素子１０とを有している。キャパシタＣｓの一方の電極は駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２の間に接続され、他方の電極は駆動トランジスタＴｒ１および有機ＥＬ素子１０との間に接続されている。
【００１６】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機ＥＬ素子１０のいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１７】
図３は、図１に示した表示領域１１０の一部の断面構成を表したものである。各画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、例えば、白色光を発生する複数の有機ＥＬ素子１０と、カラーフィルタ２０との組み合わせにより三原色（赤，緑および青）のいずれかの光を発生するものである。複数の有機ＥＬ素子１０のピッチ（中心間距離）ｐは、例えば３０μｍ以下、具体的には例えば約２μｍないし３μｍである。すなわち、この表示装置は、有機ＥＬ素子１０の寸法が極めて小さい、いわゆるマイクロディスプレイと呼ばれるものである。なお、この表示装置上には接眼レンズ（図示せず）が設けられており、使用者は、表示装置に表示された画像を、接眼レンズを通して拡大して見るようになっている。そのため、使用者が見ることができるのは、表示装置に表示された画像のうち、接眼レンズの取り込み角の範囲内の部分のみである。
【００１８】
有機ＥＬ素子１０は、基板１１上に行列状に配置されると共に、保護膜１２により被覆されている。保護膜１２上には、接着層１３を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板１４が全面にわたって貼り合わせられている。この封止用基板１４の基板１１側の表面にカラーフィルタ２０が設けられている。そのため、有機ＥＬ素子１０と、カラーフィルタ２０の上面（封止用基板１４側の表面）との間には、例えば７μｍ程度の離間距離（ギャップ）Ｇが生じている。
【００１９】
保護膜１２は、例えば、厚みが０．５μｍないし１０μｍであり、窒化ケイ素（ＳｉＮ）により構成されている。接着層１３は、例えば紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂により構成されている。封止用基板１４は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの後述する第２電極３５の側に位置しており、接着層１３と共に有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを封止するものである。封止用基板１４は、例えば、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。
【００２０】
カラーフィルタ２０は、複数の有機ＥＬ素子１０に対向する透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇ，透過青色領域２１Ｂ（以下、「透過色領域２１」と総称する。）を有している。透過色領域２１の一部には、半透過領域２２が設けられている。これにより、この表示装置では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの寸法が小さい場合にも、隣接する透過色領域２１を通過した光の回折による混色を抑えることが可能となっている。
【００２１】
透過色領域２１は、有機ＥＬ素子１０で発生した白色光を，赤，緑または青の色光として取り出すためのものであり、上述したように透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有している。透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂは、有機ＥＬ素子１０に対応して順に配置されている。透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂは、顔料を混入した樹脂よりなる着色層により構成され、顔料の選択により、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。
【００２２】
半透過領域２２は、透過色領域２１の一部に後述する半透過膜が設けられていることにより、透過色領域２１の一部の透過率を可変させたものである。透過率は、半透過膜の材料、厚みなどにより調整することが可能である。
【００２３】
半透過領域２２は、有機ＥＬ素子１０の一つから、当該有機ＥＬ素子１０に対向する透過色領域２１に隣接する透過色領域２１（以下、単に「隣接する透過色領域２１」と呼ぶ。）に入射する光の一部が半透過領域２２を通過可能な位置に設けられていることが好ましい。具体的には、半透過領域２２は、複数の有機ＥＬ素子１０どうしの境界に対向して設けられていることが好ましい。これにより、発光面垂直方向（視野角０°方向）の光取り出しを妨げず、かつ透過色領域２１の開口幅ｗ１を大きくしつつ、光の回折に起因する混色を抑えることが可能となる。
【００２４】
また、半透過領域２２は、封止用基板１４側から入射する外光を吸収することによりコントラストを向上させる、すなわち従来のブラックマトリクスと同様の機能も有している。
【００２５】
（半透過領域２２の第１例）
このような半透過領域２２は、例えば図３に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた半透過膜２２Ａにより構成されている。半透過膜２２Ａは、例えば、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍであり、窒化チタン（ＴｉＮ）により構成されている。この場合には、製造工程において封止用基板１４に窒化チタンよりなる半透過膜２２Ａを直接成膜することにより、半透過領域２２を容易に形成することが可能となる。
【００２６】
（半透過領域２２の第２例）
半透過領域２２は、また、図４に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられた半透過膜２２Ａにより構成されていることも可能である。半透過膜２２Ａは、例えば、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍであり、窒化チタン、または光学濃度を薄くした黒色樹脂により構成されている。
【００２７】
（半透過領域２２の第３例）
更に、半透過領域２２は、図５に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた第１半透過膜２２Ｂと、この第１半透過膜２２Ｂの表面（下面および側面）を覆う第２半透過膜２２Ｃを有していることも可能である。第２半透過膜２２Ｃは、第１半透過膜２２Ｂの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｄを有している。第１半透過膜２２Ｂは、例えば、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍであり、窒化チタンにより構成されている。第２半透過膜２２Ｃは、例えば、厚みが３０ｎｍ、線幅が１．８μｍであり、窒化チタンにより構成されている。張り出した部分２２Ｄの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍである。
【００２８】
張り出した部分２２Ｄの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の両側の合計で、第１半透過膜２２Ｂの開口幅ｄ２の１／４（４分の１）以下であることが好ましい。張り出し量ｄ１がこれよりも大きくなると、透過色領域２１の開口率が低下してしまうからである。
【００２９】
なお、第１半透過膜２２Ｂと第２半透過膜２２Ｃとの積層順序は、図５に示した例に限られない。例えば、図６に示したように、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた第２半透過膜２２Ｃと、この第２半透過膜２２Ｃの表面（下面）の一部に設けられた第１半透過膜２２Ｂを有していることも可能である。第２半透過膜２２Ｃは、第１半透過膜２２Ｂの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｄを有している。
【００３０】
（半透過領域２２の第４例）
あるいは、半透過領域２２は、図７に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた半透過膜２２Ｅと、この半透過膜２２Ｅの表面（下面）の一部に設けられた遮光膜２２Ｆを有していることも可能である。半透過膜２２Ｅは、遮光膜２２Ｆの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｇを有している。半透過膜２２Ｅは、例えば、厚みが３０ｎｍ、線幅が１．８μｍであり、窒化チタンにより構成されている。遮光膜２２Ｆは、例えば、厚みが１６０ｎｍ、線幅が１．２μｍであり、チタン（Ｔｉ）により構成されている。張り出した部分２２Ｇの張り出し量ｄは、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍである。
【００３１】
張り出した部分２２Ｇの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の両側の合計で、遮光膜２２Ｆの開口幅ｄ２の１／４（４分の１）以下であることが好ましい。張り出し量ｄ１がこれよりも大きくなると、透過色領域２１の開口率が低下してしまうからである。
【００３２】
なお、半透過膜２２Ｅと遮光膜２２Ｆとの積層順序は、図７に示した例に限られない。例えば、図８に示したように、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた遮光膜２２Ｆと、この遮光膜２２Ｆの表面（下面および側面）を覆う半透過膜２２Ｅを有していることも可能である。半透過膜２２Ｅは、遮光膜２２Ｆの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｇを有している。
【００３３】
（半透過領域２２の第５例）
なお、第３例に示した第１半透過膜２２Ａおよび第２半透過膜２２Ｂよりなる半透過領域２２は、図９または図１０に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられていることも可能である。
【００３４】
（半透過領域２２の第６例）
また、第４例に示した半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆよりなる半透過領域２２は、図１１または図１２に示したように、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられていることも可能である。
【００３５】
この表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、各有機ＥＬ素子１０に駆動電流Ｉｄｓが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、保護膜１２，接着層１３，カラーフィルタ２０および封止用基板１４を透過して（トップエミッション）取り出される。
【００３６】
ここでは、各有機ＥＬ素子１０で発生した光は、その有機ＥＬ素子１０に対向する透過色領域２１を通過して取り出されるが、発生した光の一部は、隣接する透過色領域２１に入射する。ここでは、透過色領域２１の一部に半透過領域２２が設けられているので、隣接する透過色領域２１に入射した光の一部は半透過領域２２を通過する。よって、隣接する透過色領域２１を通過する光ｈ１と、隣接する透過色領域２１および半透過領域２２を通過する光ｈ２との間に位相差が生じ、互いに打ち消し合う。これにより、隣接する透過色領域２１を通過する光ｈ１，ｈ２の回折に起因する混色が低減される。
【００３７】
特に、図４に示した第２例では、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられた半透過膜２２Ａにより構成されている。よって、半透過領域２２と有機ＥＬ素子１０との距離が小さくなり、光ｈ１，ｈ２の入射角度が同じでも、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通る光ｈ２の量が増える。よって、光ｈ１，ｈ２の回折に起因する混色を抑える効果がより高くなる。
【００３８】
また、特に、図５または図６に示した第３例では、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた第１半透過膜２２Ｂと、この第１半透過膜２２Ｂの表面（下面および側面）を覆う第１半透過膜２２Ｃを有している。第２半透過膜２２Ｃは、第１半透過膜２２Ｂの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｄを有している。よって、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通過する光ｈ２のうち、第１半透過膜２２Ｂと第２半透過膜２２Ｃとが重なった部分を通過する光ｈ３と、張り出した部分２２Ｄを通過する光ｈ４との間に位相差を生じさせることが可能となる。よって、透過色領域２１のみを通過する光ｈ１と、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通過する光ｈ２との間に位相差を生じさせると同時に、光ｈ３，ｈ４との間にも位相差を生じさせることが可能となる。よって、光ｈ１〜ｈ４の回折に起因する混色を更に抑えることが可能となる。
【００３９】
更に、特に、図７または図８に示した第４例では、半透過領域２２は、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０から遠い側の表面（封止用基板１４側の表面）に設けられた半透過膜２２Ｅと、この半透過膜２２Ｅの表面（下面）の一部に設けられた遮光膜２２Ｆを有している。半透過膜２２Ｅは、遮光膜２２Ｆの周囲の着色層の表面に張り出した部分２２Ｇを有している。よって、半透過膜２２Ｅの貼りだした部分２２Ｇによって光ｈ１，ｈ２の回折に起因する混色を抑えると共に、遮光膜２２Ｆにより外光を吸収してコントラストを向上させるという本来のブラックマトリクスの効果を得ることが可能となる。
【００４０】
加えて、特に、図９または図１０に示した第５例では、第１半透過膜２２Ａおよび第２半透過膜２２Ｂよりなる半透過領域２２が、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられている。また、図１１または図１２に示した第６例では、半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆよりなる半透過領域２２が、透過色領域２１の着色層の有機ＥＬ素子１０に近い側の表面（基板１１側の表面）に設けられている。よって、半透過領域２２と有機ＥＬ素子１０との距離が小さくなるので、光ｈ１，ｈ２の入射角度が同じでも、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通る光ｈ２の量が増える。よって、光ｈ１，ｈ２の回折に起因する混色を抑える効果をより高めることが可能となる。
【００４１】
図１３は、半透過領域２２に代えて従来のブラックマトリクスＢＭを有する表示装置の断面構成を表したものである。ブラックマトリクスＢＭは、厚みが２００ｎｍ、線幅ｗ２が１．２μｍであり、チタン（Ｔｉ）により構成されている。なお、図１３においては、図３と同一の構成要素には２００番台の同一の符号を付している。
【００４２】
図１３において、例えば中央の有機ＥＬ素子２１０で発生した光は、その有機ＥＬ素子２１０に対向する透過色領域２２１（透過赤色領域２２１Ｒ）を通過して取り出されるが、発生した光の一部は、隣接する透過色領域２２１（透過緑色領域２２１Ｇまたは透過青色領域２２１Ｂ）に入射し、透過光ｈ５と、ブラックマトリクスＢＭによる１次回折光ｈ６とが生じる。
【００４３】
図１４は、図１３に示した従来のブラックマトリクスＢＭを有する表示装置について、隣接する透過色領域２２１（透過緑色領域２２１Ｇ）を通過した光の強度を調べたシミュレーション結果を表したものである。なお、図１４において、角度は空気中での値である。図１４から分かるように、隣接する透過色領域２２１を通過した光は、視野角θ＝３２°付近に最大のピークを有している。これは図１３に示した透過光ｈ５に相当する。また、視野角１０°付近に第２のピークがあり、これは図１３に示した１次回折光ｈ６に相当する。また、視野角−５°付近および−２０°付近には、第３および第４のピークがそれぞれ生じている。これらは２次回折光および３次回折光（図１３には図示せず）に相当する。
【００４４】
一方、上述した接眼レンズ（図示せず）の取り込み角αは、例えば−１０°ないし＋１０°である。そのため、図１３および図１４に示したように、透過光ｈ５は−１０°ないし＋１０°の範囲内には入射しないが、１次回折光ｈ６および２次回折光（図１４参照。）は−１０°ないし＋１０°の範囲内に入射し、混色が発生する。
【００４５】
図１５は、図３，図４，図５および図７に示した第１例ないし第４例の半透過領域２２を有する表示装置を作製し、得られた表示装置について、接眼レンズの取り込み角の範囲内（±１０°）での混色率を調べたシミュレーション結果を表したものである。なお、図１５の混色率は、図１３に示した従来のブラックマトリクスＢＭを設けた表示装置の混色率を参照値として表している。図１５から分かるように、混色率は、第１例では−４８％、第２例では−６３％、第３例では−６６％、第４例では−４４％となり、いずれも従来のブラックマトリクスＢＭを有する場合（比較例）に比べて混色率が大幅に抑えられていた。
【００４６】
第１例と第２例とを比較すると、第２例のほうが第１例よりも更に混色率が抑えられていた。これは、第２例では半透過領域２２と有機ＥＬ素子１０との距離が小さくなり、光ｈ１，ｈ２の入射角度が同じでも、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通る光ｈ２の量が増えたためであると考えられる。
【００４７】
また、第１例と第３例を比較すると、第３例のほうが第１例よりも更に混色率が抑えられていた。これは、第３例では、透過色領域２１および半透過領域２２の両方を通過する光ｈ２のうち、第１半透過膜２２Ｂと第２半透過膜２２Ｃとが重なった部分を通過する光ｈ３と、張り出した部分２２Ｄを通過する光ｈ４との間に位相差を生じさせることが可能となるからであると考えられる。
【００４８】
図１６および図１７は、第１例および第３例において隣接する透過色領域２１を通過した光の強度を調べた結果を表したものである。なお、図１６および図１７には、図１４に示した従来のブラックマトリクスＢＭを有する場合を、比較例として併せて示している。図１６および図１７から分かるように、第１例および第３例ではいずれも、接眼レンズの取り込み角α（−１０°ないし＋１０°）の範囲内の１次回折光および２次回折光ともに、比較例に比べて抑えられていた。また、第３例のほうが第１例よりも更に回折光の強度が抑えられていることが分かる。
【００４９】
更に、図１５において第１例と第４例を比較すると、第４例は第１例と同程度の混色率となっていた。これは、第４例では、チタンよりなる遮光膜２２Ｆでの反射の影響があったからであると考えられる。
【００５０】
図１８は、図３，図４，図５および図７に示した半透過領域２２の第１例ないし第４例の色再現範囲を、図１３に示した従来のブラックマトリクスＢＭを設けた比較例と比較して表した色度図（ＣＩＥ１９７６ｕ'ｖ'色度図）である。図１８から分かるように、第１例ないし第４例ではいずれも、比較例に比べて、特に赤および青の色再現範囲が拡大されていた。
【００５１】
すなわち、透過色領域２１の一部に半透過領域２２を設けるようにすれば、隣接する透過色領域２１を通過する光の回折による混色を抑え、色純度を改善し、色再現範囲を拡大することが可能となることが分かった。
【００５２】
図１９は、図３に示した有機ＥＬ素子１０の具体的な構成を表したものである。基板１１上には、上述した駆動トランジスタＴｒ１を有する画素駆動回路１４０が設けられている。基板１１の画素駆動回路１４０が設けられた面は、第１絶縁膜３１によって被覆されている。第１絶縁膜３１の上に有機ＥＬ素子１０が設けられている。
【００５３】
駆動トランジスタＴｒ１は、例えば、基板１１にゲート電極１１Ａ，ゲート絶縁膜１１Ｂ，半導体膜１１Ｃ，チャネル保護膜１１Ｄ，層間絶縁膜１１Ｅ，配線１１Ｆがこの順に積層されたボトムゲート型（逆スタガ型）の構成を有している。なお、図２に示した書き込みトランジスタＴｒ２も、駆動トランジスタＴｒ１と同様の構成を有している。
【００５４】
第１絶縁膜３１は、画素駆動回路１４０が形成された基板１１の表面を平坦化するためのものであり、例えば、厚みが１００ｎｍないし１０００ｎｍであり、酸化窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）または酸化ケイ素（ＳｉＯ2またはＳｉＯ）により構成されている。また、第１絶縁膜３１は、厚みが２．０μｍ程度であり、ポリイミドなどの感光性絶縁材料により構成されていることも可能である。第１絶縁膜３１には、駆動トランジスタＴｒ１と有機ＥＬ素子１０との電気的接続をとるための接続孔３１Ａが設けられている。
【００５５】
有機ＥＬ素子１０は、第１絶縁膜３１の上に設けられ、基板１１の側から、第１電極３２，第２絶縁膜３３，発光層を含む有機層３４、および第２電極３５がこの順に積層された構成を有している。
【００５６】
第１電極３２は、複数の有機ＥＬ素子１０の各々ごとに設けられている。第１電極３２は、例えば、厚みが１００ｎｍ程度であり、高反射率材料であるアルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）を含む合金により構成されており、発光層で発生した光を第２電極３５側から取り出すようになっている（トップエミッション）。第１電極３２の厚みは、発光層で発生した光が透過されず、光取出し効率を維持することが可能な程度、例えば３０ｎｍないし２００ｎｍの範囲であることが好ましい。第１電極３２の構成材料としては、アルミニウム（Ａｌ）またはその合金のほか、金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），クロム（Ｃｒ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ），モリブデン（Ｍｏ），チタン（Ｔｉ），タンタル（Ｔａ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極が挙げられる。
【００５７】
また、第１電極３２は、上述した反射電極の下地として、厚みが２０ｎｍ程度であり、チタン（Ｔｉ），タングステン（Ｗ），銅（Ｃｕ），タンタル（Ｔａ），モリブデン（Ｍｏ）などよりなる密着層（図示せず）を有していてもよい。この密着層は、第１電極３２の厚みを薄くした場合にも反射率を高く維持するための反射補助層としての機能も有している。このような密着層を設けた場合には、第１電極３２の厚みは１５ｎｍ以上であれば足りる。
【００５８】
更に、第１電極３２は、密着層または反射補助層としてのチタン層と、アルミニウムまたはその合金などの上述した反射電極と、チタン層またはタンタル層との３層の積層構造を有していてもよい。あるいは、第１電極３２は、上述した反射電極と、ＩＴＯ（インジウム・スズ複合酸化物；Indium Tin Oxide），ＩＺＯ（登録商標）（インジウム・亜鉛複合酸化物），またはＳｎＯ2などの透明電極との複合膜により構成されていてもよい。
【００５９】
第２絶縁膜３３は、第１電極３２と第２電極３５との絶縁性を確保すると共に発光領域を正確に所望の形状にするためのものである。第２絶縁膜３３は、第１電極３２の発光領域に対応して開口部３３Ａを有している。第２絶縁膜３３は、例えば、厚みが１００ｎｍないし２００ｎｍであり、ＳｉＯＮにより構成されている。また、第２絶縁膜３３は、ポリイミドなどの感光性絶縁材料により構成されていることも可能である。
【００６０】
有機層３４は、第１電極３２および第２絶縁膜３３の上に、複数の有機ＥＬ素子１０に共通に設けられている。有機層３４は、例えば、第１電極３２の側から順に、正孔注入層，正孔輸送層，発光層および電子輸送層を積層した構成を有している。
【００６１】
正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層は、例えば、厚みが２ｎｍないし１０ｎｍであり、化１に示したヘキサトリルアザトリフェニレンにより構成されている。
【００６２】
【化１】
【００６３】
正孔輸送層は、発光層への正孔注入効率を高めるためのものである。正孔輸送層は、例えば、厚みが３０ｎｍであり、化２に示した材料により構成されている。
【００６４】
【化２】
【００６５】
発光層は、例えば、第１電極３２の側から順に、厚み１０ｎｍの赤色発光層、厚み１０ｎｍの発光分離層、厚み１０ｎｍの青色発光層、および厚み１０ｎｍの緑色発光層（いずれも図示せず）を順に積層した白色発光用のものである。赤色発光層は、電界をかけることにより、第１電極３２から正孔注入層および正孔輸送層を介して注入された正孔の一部と、第２電極３５から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、赤色の光を発生するものである。発光分離層は、赤色発光層への電子供給量を減らすためのものである。青色発光層は、電界をかけることにより、第１電極３２から正孔注入層，正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第２電極３５から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、青色の光を発生するものである。緑色発光層は、電界をかけることにより、第１電極３２から正孔注入層，正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第２電極３５から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、緑色の光を発生するものである。赤色発光層，緑色発光層および青色発光層は、第２絶縁膜３３の開口部３３Ａに対応した領域で発光するようになっている。
【００６６】
赤色発光層は、例えば、赤色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種を含んでいる。赤色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、赤色発光層は、例えば、厚みが５ｎｍ程度であり、４，４−ビス（２，２−ジフェニルビニン）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）に２，６−ビス［（４’−メトキシジフェニルアミノ）スチリル］−１，５−ジシアノナフタレン（ＢＳＮ）を３０重量％混合したものにより構成されている。
【００６７】
発光分離層は、例えば、化３に示した材料により構成されている。
【００６８】
【化３】
【００６９】
緑色発光層は、例えば、緑色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種を含んでいる。緑色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、緑色発光層は、例えば、厚みが１０ｎｍ程度であり、ＤＰＶＢｉにクマリン６を５重量％混合したものにより構成されている。
【００７０】
青色発光層は、例えば、青色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種とを含んでいる。青色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、青色発光層は、例えば、厚みが３０ｎｍ程度であり、ＤＰＶＢｉに４，４’−ビス［２−｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を２．５重量％混合したものにより構成されている。
【００７１】
電子輸送層は、発光層への電子注入効率を高めるためのものである。電子輸送層は、例えば、厚みが２０ｎｍ程度であり、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３ ）により構成されている。
【００７２】
第２電極３５は、有機層３４の上に、複数の有機ＥＬ素子１０に共通に設けられている。第２電極３５は、例えば、第１電極３２の側から順に、厚みが約０．３ｎｍでありフッ化リチウム（ＬｉＦ）よりなる第１層と、厚みが３ｎｍでありカルシウム（Ｃａ）よりなる第２層と、厚みが５ｎｍでありＭｇ−Ａｇ合金よりなる第３層とを積層した構成を有している。第２電極３５は、表示領域１１０の外側の領域で、図示しない補助配線に接続されている。その理由は、有機層３４が複数の有機ＥＬ素子１０に共通に設けられているので、各有機ＥＬ素子１０ごとに第２電極３５と補助配線との接続をとることができないからである。
【００７３】
この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【００７４】
まず、上述した材料よりなる基板１１の上に画素駆動回路１４０を形成し、接続孔３１Ａを有する第１絶縁膜３１を形成する。
【００７５】
次いで、第１絶縁膜３１の上に、例えばスパッタリング法により、例えばチタン膜およびアルミニウム合金膜（図示せず）を形成する。そののち、このチタン膜およびアルミニウム合金膜を、例えばフォトリソグラフィ法およびドライエッチングにより所定の形状に成形し、複数の有機ＥＬ素子１０の各々ごとに第１電極３２を形成する。
【００７６】
続いて、第１電極３２上および第１絶縁膜３１上に、例えばＰＥＣＶＤ法により、ＳｉＯＮ膜を例えば１０ｎｍないし２００ｎｍの厚みで成膜する。このＳｉＯＮ膜を、例えばフォトリソグラフィ法およびドライエッチングにより所定の形状に成形し、開口部３３Ａを有する第２絶縁膜３３を形成する。
【００７７】
そののち、第１電極３２および第２絶縁膜３３の上に、例えば蒸着法により、有機層３４を形成し、引き続き、例えば真空蒸着法により、第２電極３５を形成する。以上により、図３および図１９に示した有機ＥＬ素子１０が形成される。
【００７８】
続いて、図３に示したように、例えばＣＶＤ法またはスパッタ法により、有機ＥＬ素子１０の上に上述した材料よりなる保護膜１２を形成する。
【００７９】
また、例えば、上述した材料よりなる封止用基板１４を用意し、この封止用基板１４に、図３ないし図１２に示した第１例ないし第６例のいずれかの構成を有する半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する。
【００８０】
図３に示した第１例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を作製する場合には、まず、封止用基板１４に、窒化チタン膜を９０ｎｍの厚みで形成する。続いて、この窒化チタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、線幅が１．２μｍの窒化チタンよりなる半透過膜２２Ａを有する半透過領域２２を形成する。
【００８１】
そののち、半透過膜２２Ａを形成した封止用基板１４に、透過赤色領域２１Ｒの着色層の材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより透過赤色領域２１Ｒを形成する。続いて、透過赤色領域２１Ｒと同様にして、透過青色領域２１Ｂおよび透過緑色領域２１Ｇを順次形成し、透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００８２】
図４に示した第２例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、まず、封止用基板１４に、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００８３】
続いて、透過色領域２１の上に、上述した第１例と同様にして、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍの窒化チタンよりなる半透過膜２２Ａを有する半透過領域２２を形成する。あるいは、透過色領域２１の上に、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍの黒色樹脂よりなる半透過膜２２Ａを有する半透過領域２２を形成する。
【００８４】
図５に示した第３例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、まず、封止用基板１４に、上述した第１例と同様にして、厚みが９０ｎｍ、線幅が１．２μｍの窒化チタンよりなる第１半透過膜２２Ｂを形成する。
【００８５】
続いて、第１半透過膜２２Ｂを形成した封止用基板１４に、窒化チタン膜を３０ｎｍの厚みで形成したのち、この窒化チタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、線幅が１．８μｍの第２半透過膜２２Ｃを形成する。張り出した部分２２Ｄの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍとなる。これにより、第１半透過膜２２Ｂおよび第２半透過膜２２Ｃを有する半透過領域２２が形成される。
【００８６】
そののち、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００８７】
図７に示した第４例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、窒化チタン膜を３０ｎｍの厚みで形成したのち、この窒化チタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、線幅が１．８μｍの半透過膜２２Ｅを形成する。
【００８８】
続いて、半透過膜２２Ｅを形成した封止用基板１４に、チタン膜を２００ｎｍの厚みで形成する。このチタン膜に対して、半透過膜２２Ｅと同じ線幅の１．８μｍでフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行う。窒化チタンとチタンとではエッチング選択比が異なり、チタンのエッチングレートが速いので、半透過膜２２Ｅの線幅ｗ４を維持する一方で、半透過膜２２Ｅの表面に、線幅が１．２μｍの遮光膜２２Ｆを形成することが可能となる。張り出した部分２２Ｇの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍとなる。これにより、半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆを有する半透過領域２２が形成される。
【００８９】
そののち、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００９０】
図８に示した第４例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、チタン膜を２００ｎｍの厚みで形成したのち、このチタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、線幅が１．２μｍの遮光膜２２Ｆを形成する。
【００９１】
続いて、遮光膜２２Ｆを形成した封止用基板１４に、窒化チタン膜を３０ｎｍの厚みで形成する。この窒化チタン膜に対してフォトレジストパターニングおよびウェットエッチングを行い、遮光膜２２Ｆの表面に、線幅が１．８μｍの半透過膜２２Ｅを形成する。張り出した部分２２Ｇの張り出し量ｄ１は、透過色領域２１の片側で０．３μｍ、両側の合計で０．６μｍとなる。これにより、半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆを有する半透過領域２２が形成される。
【００９２】
そののち、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。
【００９３】
図９または図１０に示した第５例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、まず、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。そののち、上述した第３例と同様にして第１半透過膜２２Ｂおよび第２半透過膜２２Ｃを有する半透過領域２２を形成する。
【００９４】
図１１または図１２に示した第６例の半透過領域２２を有するカラーフィルタ２０を形成する場合には、まず、上述した第１例と同様にして透過赤色領域２１Ｒ，透過緑色領域２１Ｇおよび透過青色領域２１Ｂを有する透過色領域２１を形成する。そののち、上述した第４例と同様にして半透過膜２２Ｅおよび遮光膜２２Ｆを有する半透過領域２２を形成する。
【００９５】
封止用基板１４にカラーフィルタ２０を形成したのち、同じく図３に示したように、保護膜１２の上に、接着層１３を形成し、この接着層１３を間にして封止用基板１４を貼り合わせる。以上により、図１ないし図３に示した表示装置が完成する。
【００９６】
このように本実施の形態では、カラーフィルタ２０の透過色領域２１の一部に半透過領域２２を設けるようにしたので、有機ＥＬ素子１０の寸法が小さい場合にも、カラーフィルタ２０の隣接する透過色領域２１を通過した光ｈ１，ｈ２の回折による混色を抑えることが可能となる。
【００９７】
（モジュールおよび適用例）
以下、上述した実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００９８】
（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図２０に示したようなモジュールとして、後述する適用例１，２などの電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板１４から露出した領域３１０を設け、この露出した領域３１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）３２０が設けられていてもよい。
【００９９】
（適用例１）
図２１は、上記実施の形態の表示装置が適用される撮像装置（レンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルカメラ）の外観を表したものである。この撮像装置は、例えば、カメラ本体部（カメラボディ）４１１の正面右側に交換式の撮影レンズユニット（交換レンズ）４１２を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部４１３を有している。カメラ本体部４１１の背面略中央にはモニタ４１４が設けられている。モニタ４１４の上部には、ビューファインダ（接眼窓）４１５が設けられている。撮影者は、ビューファインダ４１５を除くことによって、撮影レンズユニット４１２から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことが可能である。このビューファインダ４１５は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【０１００】
（適用例２）
図２２は、上記実施の形態の表示装置が適用されるヘッドマウントディスプレイの外観を表したものである。このヘッドマウントディスプレイは、例えば、眼鏡形の表示部４２１の両側に、使用者の頭部に装着するための耳掛け部４２２を有しており、その表示部４２１は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【０１０１】
以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、半透過領域２２が、複数の有機ＥＬ素子１０どうしの境界に対向して設けられている場合について説明した。しかしながら、半透過領域２２は、複数の有機ＥＬ素子１０の一つから、当該有機ＥＬ素子１０に隣接する有機ＥＬ素子１０に対向する透過色領域２１に入射する光の一部が半透過領域２２を通過可能な位置に設けられていれば、その位置は特に限定されない。例えば、半透過領域２２は、透過色領域２１の中央（透過赤色領域２１Ｒの中央，透過緑色領域２１Ｇの中央，透過青色領域２１Ｂの中央）に配置されていてもよい。
【０１０２】
また、例えば、上記実施の形態では、透過色領域２１が赤色透過領域２１Ｒ，緑色透過領域２１Ｇおよび青色透過領域２１Ｂの三つの異なる色の着色層を有する場合について説明したが、透過色領域２１は、二つ、または四つ以上の異なる色の着色層を有していてもよい。二色の場合としては、青色および黄色の例が挙げられる。また、四色の場合としては、赤色，緑色，青色と、黄色またはシアン色またはマゼンタ色との例が挙げられる。
【０１０３】
更に、例えば、上記実施の形態では、カラーフィルタ２０が封止用基板１４に設けられている場合について説明したが、カラーフィルタ２０は基板１１上、例えば保護膜１２と接着層１３との間に設けられていることも可能である。
【０１０４】
加えて、例えば、上記実施の形態では、発光層で発生した光を封止用基板１４側から取り出す場合（トップエミッション）を例として説明したが、発光層で発生した光を基板１１側から取り出すことも可能である（ボトムエミッション）。この場合には、カラーフィルタ２０は基板１１上、例えば画素駆動回路１４０と第１絶縁膜３１との間に設けることが可能である。また、ボトムエミッションの場合には、第１電極３２は、ＩＴＯ，ＩＺＯ（登録商標），またはＳｎＯ2などの透明電極により構成され、第２電極３５は、金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），クロム（Ｃｒ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ），アルミニウム（Ａｌ），モリブデン（Ｍｏ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極により構成されている。また、第２電極３５は、上述した反射電極と透明電極との複合膜により構成されていてもよい。
【０１０５】
更にまた、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態では、半透過膜２２Ａ，２２Ｅ、第１半透過膜２２Ｂおよび第２半透過膜２２Ｃを窒化チタン、遮光膜２２Ｆをチタンにより構成した場合について説明した。しかしながら、半透過領域２２を構成する各層の材料としては、窒化チタンおよびチタンのほか、窒化クロム（ＣｒＮ），クロム（Ｃｒ）または感光性黒色樹脂など、反射率が低く、光吸収率が高い材料を用いることが可能である。
【０１０６】
加えてまた、例えば、上記実施の形態では発光素子が有機ＥＬ素子１０である場合について説明したが、本開示の表示装置は無機ＥＬ素子などの他の発光素子を備えたものでもよい。
【０１０７】
なお、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子に対向する透過色領域および前記透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタと
を備えた表示装置。
（２）
前記半透過領域は、前記複数の発光素子の一つから、当該発光素子に隣接する発光素子に対向する透過色領域に入射する光の一部が前記半透過領域を通過可能な位置に設けられている
前記（１）記載の表示装置。
（３）
前記半透過領域は、前記複数の発光素子どうしの境界に対向して設けられている
前記（２）記載の表示装置。
（４）
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、前記着色層の表面に設けられた半透過膜により構成されている
前記（１）ないし（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（５）
前記半透過膜は、前記着色層の前記複数の発光素子から遠い側の表面に設けられている
前記（４）記載の表示装置。
（６）
前記半透過膜は、前記着色層の前記複数の発光素子に近い側の表面に設けられている
前記（４）記載の表示装置。
（７）
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、
第１半透過膜と、
前記第１半透過膜の周囲の前記着色層の表面に張り出した部分を有する第２半透過膜と
を有する前記（１）ないし（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（８）
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、
遮光膜と、
前記遮光膜の周囲の前記着色層の表面に張り出した部分を有する半透過膜と
を有する前記（１）ないし（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（９）
前記発光素子は、第１電極と、発光層を含む有機層と、第２電極とを順に積層した有機ＥＬ素子である
前記（１）ないし（８）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１０）
前記有機ＥＬ素子は白色光を発生するものであり、
前記着色層は、前記白色光を赤色光，緑色光または青色光として取り出す赤色着色層，緑色着色層および青色着色層を有する
前記（９）記載の表示装置。
（１１）
前記複数の有機ＥＬ素子は一方向に長い矩形形状を有すると共に、短辺に平行な行方向および長辺に平行な列方向に配列されており、
前記複数の有機ＥＬ素子の行方向のピッチは３０μｍ以下である
前記（９）または（１０）記載の表示装置。
（１２）
表示装置を備え、
前記表示装置は、
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子に対向する透過色領域および前記透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタと
を備えた電子機器。
【符号の説明】
【０１０８】
１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…画素、１０…有機ＥＬ素子、１１…基板、１２…保護膜、１３…接着層、１４…封止用基板、２０…カラーフィルタ、２１…透過色領域、２１Ｒ…透過赤色領域、２１Ｇ…透過緑色領域、２１Ｂ…透過青色領域、２２…半透過領域、３２…第１電極、３３…第２絶縁膜、３４…有機層、３５…第２電極、１１０…表示領域、１２０…信号線駆動回路、１３０…走査線駆動回路、１４０…画素駆動回路、Ｔｒ１，Ｔｒ２…トランジスタ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子に対向する透過色領域および前記透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタと
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記半透過領域は、前記複数の発光素子の一つから、当該発光素子に隣接する発光素子に対向する透過色領域に入射する光の一部が前記半透過領域を通過可能な位置に設けられている
請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記半透過領域は、前記複数の発光素子どうしの境界に対向して設けられている
請求項２記載の表示装置。
【請求項４】
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、前記着色層の表面に設けられた半透過膜により構成されている
請求項１記載の表示装置。
【請求項５】
前記半透過膜は、前記着色層の前記複数の発光素子から遠い側の表面に設けられている
請求項４記載の表示装置。
【請求項６】
前記半透過膜は、前記着色層の前記複数の発光素子に近い側の表面に設けられている
請求項４記載の表示装置。
【請求項７】
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、
第１半透過膜と、
前記第１半透過膜の周囲の前記着色層の表面に張り出した部分を有する第２半透過膜と
を有する請求項１記載の表示装置。
【請求項８】
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、
遮光膜と、
前記遮光膜の周囲の前記着色層の表面に張り出した部分を有する半透過膜と
を有する請求項１記載の表示装置。
【請求項９】
前記発光素子は、第１電極と、発光層を含む有機層と、第２電極とを順に積層した有機ＥＬ素子である
請求項１記載の表示装置。
【請求項１０】
前記有機ＥＬ素子は白色光を発生するものであり、
前記着色層は、前記白色光を赤色光，緑色光または青色光として取り出す赤色着色層，緑色着色層および青色着色層を有する
請求項９記載の表示装置。
【請求項１１】
前記複数の有機ＥＬ素子は一方向に長い矩形形状を有すると共に、短辺に平行な行方向および長辺に平行な列方向に配列されており、
前記複数の有機ＥＬ素子の行方向のピッチは３０μｍ以下である
請求項９記載の表示装置。
【請求項１２】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子に対向する透過色領域および前記透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタと
を備えた電子機器。
【請求項１】
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子に対向する透過色領域および前記透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタと
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記半透過領域は、前記複数の発光素子の一つから、当該発光素子に隣接する発光素子に対向する透過色領域に入射する光の一部が前記半透過領域を通過可能な位置に設けられている
請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記半透過領域は、前記複数の発光素子どうしの境界に対向して設けられている
請求項２記載の表示装置。
【請求項４】
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、前記着色層の表面に設けられた半透過膜により構成されている
請求項１記載の表示装置。
【請求項５】
前記半透過膜は、前記着色層の前記複数の発光素子から遠い側の表面に設けられている
請求項４記載の表示装置。
【請求項６】
前記半透過膜は、前記着色層の前記複数の発光素子に近い側の表面に設けられている
請求項４記載の表示装置。
【請求項７】
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、
第１半透過膜と、
前記第１半透過膜の周囲の前記着色層の表面に張り出した部分を有する第２半透過膜と
を有する請求項１記載の表示装置。
【請求項８】
前記透過色領域は、二以上の異なる色の着色層により構成され、
前記半透過領域は、
遮光膜と、
前記遮光膜の周囲の前記着色層の表面に張り出した部分を有する半透過膜と
を有する請求項１記載の表示装置。
【請求項９】
前記発光素子は、第１電極と、発光層を含む有機層と、第２電極とを順に積層した有機ＥＬ素子である
請求項１記載の表示装置。
【請求項１０】
前記有機ＥＬ素子は白色光を発生するものであり、
前記着色層は、前記白色光を赤色光，緑色光または青色光として取り出す赤色着色層，緑色着色層および青色着色層を有する
請求項９記載の表示装置。
【請求項１１】
前記複数の有機ＥＬ素子は一方向に長い矩形形状を有すると共に、短辺に平行な行方向および長辺に平行な列方向に配列されており、
前記複数の有機ＥＬ素子の行方向のピッチは３０μｍ以下である
請求項９記載の表示装置。
【請求項１２】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子に対向する透過色領域および前記透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタと
を備えた電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【公開番号】特開２０１２−２０９２０１（Ｐ２０１２−２０９２０１Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７５４７０（Ｐ２０１１−７５４７０）
【出願日】平成２３年３月３０日（２０１１．３．３０）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月３０日（２０１１．３．３０）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
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