表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法
【課題】 表面研磨陶磁器タイルの表面を有機皮膜又は無機皮膜で覆うことなく、防汚性を付与する方法を提供する。
【解決手段】 テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーを含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布する。その後直ちに、当該溶液を布ウエス等で拭き取って、当該多数の微孔にシリケートオリゴマーを充填せしめる。そして、２４時間程度大気雰囲気中に放置しておくことにより、シリケートオリゴマーを硬化させて、表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する。シリケートオリゴマーに代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨや（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2等の化合物を用いて、同様の処理を行っても、良好な防汚性を付与しうる。
【解決手段】 テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーを含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布する。その後直ちに、当該溶液を布ウエス等で拭き取って、当該多数の微孔にシリケートオリゴマーを充填せしめる。そして、２４時間程度大気雰囲気中に放置しておくことにより、シリケートオリゴマーを硬化させて、表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する。シリケートオリゴマーに代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨや（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2等の化合物を用いて、同様の処理を行っても、良好な防汚性を付与しうる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面を研磨して鏡面仕上した表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
陶磁器タイルは見た目の高級感から商用施設、ホテル、或いはマンションのロビー、更には近年では戸建て住宅等にも用いられている。なかでも表面を研磨して鏡面仕上した表面研磨陶磁器タイルは、光沢によってよりいっそう高級感がある。したがって、塩ビタイル等の化学タイルのようにワックス掛けによって光沢を出す必要がないため、商用施設等では好んで用いられている。
【０００３】
陶磁器タイルは製造工程において高温で焼き固め、成形するが、その際にタイル原料中に含まれる成分が高温で揮発し、タイル中及びタイル表面には無数の微細な気泡（微孔）が発生する。通常、陶磁器タイルは表面に釉薬等を塗り最終製品とするため、これらの微孔が表面に現れることはない。一方、表面研磨陶磁器タイルは表面に釉薬等を使用せず、研磨による鏡面加工によって意匠性を出すため、微孔が表面に現れる。すなわち、表面研磨陶磁器タイルの表面には２０μｍ〜１００μｍ程度の多数の微孔が存在することになる。したがって、かかる表面研磨陶磁器タイル上にコーヒーやカレー等の色素含有物が付着した場合、これらに含まれる色素成分が表面の微孔に入り込み、取り除くことが困難になるため、汚れが容易に沈着する。
【０００４】
この問題を解決するため、現在はワックスコーティング等によって表面に有機皮膜を形成し、微孔中に汚れが沈着するのを防ぐ方法が行われている。また、有機皮膜ではなく無機皮膜を形成して、微孔中に汚れが沈着するのを防ぐ方法も提案されている（特許文献１及び２）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−８９２６７２号公報
【特許文献２】国際公開Ｗ０００／２３５２８号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、有機皮膜であれ無機皮膜であれ、表面研磨陶磁器タイルの表面に皮膜を形成することは、好ましいことではない。なぜなら、表面研磨陶磁器タイルは、表面の鏡面加工による光沢に価値があるのであって、この表面を皮膜で覆うとその価値が低下するからである。
【０００７】
そこで、本発明者等は、表面研磨陶磁器タイルの表面を皮膜で覆うのではなく、表面研磨陶磁器タイルの微孔を塞ぐことによって、微孔中に汚れが沈着するのを防止しようと試みた。そして、本発明者等が種々実験を重ねたところ、後記実施例に示したとおり、特定の化合物を表面研磨陶磁器タイルの微孔に充填せしめることにより、汚れの沈着を防止しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明は、化１で表されるテトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーを含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布した後、直ちに拭き取って、該多数の微孔に該シリケートオリゴマーを充填せしめた後、硬化させることを特徴とする表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法に関するものである。
【化１】
【０００９】
また、本発明は、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨ，（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2，（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6Ｓ4Ｃ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）9ＣＨ3，（Ｃ17Ｈ35ＣＯＯ）3ＴｉＯＣＨ（ＣＨ3）2及び（ＣＨ（ＣＨ3）2Ｏ）2ＡｌＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＯＣＣ18Ｈ35よりなる群から選ばれた化合物を含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布した後、直ちに拭き取って、該多数の微孔に該化合物を充填せしめた後、硬化させることを特徴とする表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法に関するものである。
【００１０】
まず、本発明で用いる化合物を説明する。本発明で用いる第一番目の化合物（以下、第一番目の化合物を「化合物１」といい、第二番目の化合物を「化合物２」といい、以下順次、「化合物３」等という。）は、テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーである。テトラメトキシシランは、上記した化１の構造式で表されるものである。そして、これが加水分解縮合すると三次元的に結合して網目構造の重合体になる。本発明では、この重合体の平均分子量は５００〜１８００であり、この範囲のものが表面研磨陶磁器タイルに良好な防汚性を付与し得たのである。なお、この平均分子量は数平均分子量である。
【００１１】
本発明で用いる化合物２は、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨである。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化２】
【００１２】
本発明で用いる化合物３は、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化３】
【００１３】
本発明で用いる化合物４は、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6Ｓ4Ｃ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化４】
【００１４】
本発明で用いる化合物５は、（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）9ＣＨ3である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化５】
【００１５】
本発明で用いる化合物６は、（Ｃ17Ｈ35ＣＯＯ）3ＴｉＯＣＨ（ＣＨ3）2である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化６】
【００１６】
本発明で用いる化合物７は、（ＣＨ（ＣＨ3）2Ｏ）2ＡｌＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＯＣＣ18Ｈ35である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化７】
【００１７】
化合物１〜７は、一般的に常温で液状であるから、この溶液を表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布する。また、化合物１〜７のままでは塗布しにくいときは、化合物１〜７をアセトン等の有機溶剤と混合して溶液を調製してもよい。塗布方法は従来公知の方法でよく、たとえばゴムヘラ、ハケ又はポリッシューを用いて塗布する。そして、塗布後、直ちに編織物等の布帛で拭き取る。この拭き取りは手作業でもよく、機械を用いて行ってもよい。拭き取った結果、表面研磨陶磁器タイルは、表面に多数の微孔を有しているので、陶磁器タイルの表面に存在した化合物１〜７は、この微孔に充填せしめられる。
【００１８】
微孔に充填せしめられた化合物１〜７は、珪素、チタン又はアルミニウムに結合しているアルコキシ基を持っているので、常温で大気中に放置しておくだけで、加水分解して硬化する。具体的には、２４時間程度大気中に放置しておくだけで硬化し、微孔が塞がれるのである。なお、硬化を促進するために加熱処理や風乾処理等を行ってもよいことは言うまでもない。
【００１９】
本発明に係る方法は、表面研磨陶磁器タイルを生産した後に行ってもよいし、表面研磨陶磁器タイルをホテル等の施設に敷設した後、行ってもよい。本発明で用いる化合物１〜７は、加熱処理しなくても大気中に放置しておくだけで硬化するため、後者の方法も採用しうるのである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の方法によれば、表面研磨陶磁器タイル表面の微孔が、化合物１〜７の硬化物によって塞がれているため、コーヒーやカレー等の色素含有物が陶磁器タイルの表面に付着しても、色素成分が微孔に沈着するのを防止しうる。したがって、陶磁器タイル表面に付着した色素含有物を布等で拭い取った後、水等を用いて洗浄すれば、色素成分をほぼ完全に取り除くことができ、陶磁器タイルが汚れるのを防止しうるという効果を奏する。
【実施例】
【００２１】
以下、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。本発明は、化合物１〜７が表面研磨陶磁器タイルの表面に存在する微孔を良好に塞ぐことができ、汚れの沈着を防止しうるとの知見に基づくものとして、解釈されるべきである。
【００２２】
実施例１
１０ｃｍ×１０ｃｍの表面研磨陶磁器タイル( セラミカ・クレオパトラ社製、商品名：ナイル オジリス オフホワイト) の表面に、テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜７００よりなるシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）約０．４ｇを滴下し、ゴムヘラを用いて均一に塗布した後、直ちに布ウエスで拭き取った。そして、一昼夜大気中に放置して、シリケートオリゴマーを硬化させて、表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２３】
実施例２
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が１５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５８Ｂ３０」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２４】
実施例３
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に、アセトンを等量混合して溶液を調製した他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２５】
実施例４
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）9ＣＨ3よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ３１０３Ｃ」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２６】
実施例５
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨよりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ８０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２７】
実施例６
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ１００３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２８】
実施例７
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6Ｓ4Ｃ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＥ８４６」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２９】
実施例８
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（Ｃ17Ｈ35ＣＯＯ）3ＴｉＯＣＨ（ＣＨ3）2よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＫＲＴＴＳ」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３０】
実施例９
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ（ＣＨ3）2Ｏ）2ＡｌＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＯＣＣ18Ｈ35よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＡＬ−Ｍ」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３１】
比較例１
実施例１で用いた表面研磨陶磁器タイルに何らの処理も施さなかった。
【００３２】
比較例２
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、テトラエトキシシラン［Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4］よりなる溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル・ジャパン社製、商品名「ＴＳＬ８１２４」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３３】
比較例３
実施例３で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、シリカ粒子（日本アエロジル社製、商品名「ＡＥＲＯＳＩＬ ２００」）を用いた他は、実施例３と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３４】
比較例４
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、二酸化珪素及び酸化リチウムを含む溶液（日産化学社製、商品名「ＬＳＳ−４５」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３５】
比較例５
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨＣ2Ｈ4ＮＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ６０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３６】
比較例６
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＯＣＨ2Ｃ2Ｈ3Ｏよりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ４０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３７】
比較例７
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）2Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃ3Ｈ6ＮＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ９０２」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３８】
比較例８
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）2ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨＣ6Ｈ5よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ５７３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３９】
比較例９
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ９０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４０】
比較例１０
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）2Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃ3Ｈ6ＯＣＯＣＨ3ＣＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ５０２」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４１】
比較例１１
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）5ＣＨ3よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ３０６３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４２】
比較例１２
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＣＯよりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ９００７」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４３】
比較例１３
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＣ（ＣＨ3）Ｃ4Ｈ9よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ９１０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４４】
比較例１４
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＯＣＯＣ（ＣＨ3）ＣＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ５０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４５】
比較例１５
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、Ｃ8Ｈ17Ｏ及びＨＯＰ（ＯＣ13Ｈ27のＴｉへの配位結合体よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＫＲ５５」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４６】
比較例１６
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、ＣＨ（ＣＨ3）2Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ4ＮＨＣ2Ｈ4ＮＨ2）3よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＫＲ４４」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４７】
比較例１７
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、ＣＨ（ＣＨ3）2Ｔｉ（ＯＳＯ2Ｃ6Ｈ5Ｃ12Ｈ25）3よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＫＲ９ＳＡ」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４８】
［塗布性］
実施例１〜９及び比較例１〜１７に係る方法において、溶液の塗布性を以下の四段階で評価した。この結果を表１に示した。
◎・・・非常に塗布しやすい。
○・・・塗布しやすい。
△・・・やや塗布しにくい。
×・・・塗布しにいく。
【００４９】
［防汚性］
また、実施例１〜９及び比較例１〜１７に係る方法で得られた表面研磨陶磁器タイルの防汚性を以下の方法で評価した。まず、表面研磨陶磁器タイルの表面にコーヒーを適量滴下する。そして、１５分置いた後、水を含んで布ウエスでコーヒーを拭き取る。コーヒーを拭き取った後の表面研磨陶磁器タイルと、コーヒーを滴下する前の表面研磨陶磁器タイルの色差を測定する。色差測定には、ＭＩＮＯＬＴＡ社製の光度計ＣＭ−３５００ｄを用い、正反射光除去方式で反射率測定を行った。測定値はＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系を用い、下記式（１）によりΔＥを得た。
［（ΔＬ）2＋（Δａ）2＋（Δｂ）2］1/2＝ΔＥ ・・・（１）
そして、ΔＥの値により、以下の三段階により防汚性を評価した。この結果を表１に示した。
○・・・ΔＥ＜１．０
×・・・ΔＥ≧１．０
【００５０】
［表１］
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
塗布性 防汚性
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例１ ○ ○
実施例２ ○ ○
実施例３ ◎ ○
実施例４ ○ ○
実施例５ ○ ○
実施例６ ○ ○
実施例７ ○ ○
実施例８ △ ○
実施例９ △ ○
比較例１ − ×
比較例２ ○ ×
比較例３ ○ ×
比較例４ ○ ×
比較例５ ○ ×
比較例６ ○ ×
比較例７ ○ ×
比較例８ ○ ×
比較例９ ○ ×
比較例１０ ○ ×
比較例１１ ○ ×
比較例１２ ○ ×
比較例１３ ○ ×
比較例１４ ○ ×
比較例１５ ○ ×
比較例１６ × ×
比較例１７ × ×
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【００５１】
表１の結果から分かるように、実施例に係る方法で処理された表面研磨陶磁器タイルは、比較例に係る方法で処理された表面研磨陶磁器タイル（未処理も含む。）に比べて、防汚性に優れていることが分かる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面を研磨して鏡面仕上した表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
陶磁器タイルは見た目の高級感から商用施設、ホテル、或いはマンションのロビー、更には近年では戸建て住宅等にも用いられている。なかでも表面を研磨して鏡面仕上した表面研磨陶磁器タイルは、光沢によってよりいっそう高級感がある。したがって、塩ビタイル等の化学タイルのようにワックス掛けによって光沢を出す必要がないため、商用施設等では好んで用いられている。
【０００３】
陶磁器タイルは製造工程において高温で焼き固め、成形するが、その際にタイル原料中に含まれる成分が高温で揮発し、タイル中及びタイル表面には無数の微細な気泡（微孔）が発生する。通常、陶磁器タイルは表面に釉薬等を塗り最終製品とするため、これらの微孔が表面に現れることはない。一方、表面研磨陶磁器タイルは表面に釉薬等を使用せず、研磨による鏡面加工によって意匠性を出すため、微孔が表面に現れる。すなわち、表面研磨陶磁器タイルの表面には２０μｍ〜１００μｍ程度の多数の微孔が存在することになる。したがって、かかる表面研磨陶磁器タイル上にコーヒーやカレー等の色素含有物が付着した場合、これらに含まれる色素成分が表面の微孔に入り込み、取り除くことが困難になるため、汚れが容易に沈着する。
【０００４】
この問題を解決するため、現在はワックスコーティング等によって表面に有機皮膜を形成し、微孔中に汚れが沈着するのを防ぐ方法が行われている。また、有機皮膜ではなく無機皮膜を形成して、微孔中に汚れが沈着するのを防ぐ方法も提案されている（特許文献１及び２）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−８９２６７２号公報
【特許文献２】国際公開Ｗ０００／２３５２８号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、有機皮膜であれ無機皮膜であれ、表面研磨陶磁器タイルの表面に皮膜を形成することは、好ましいことではない。なぜなら、表面研磨陶磁器タイルは、表面の鏡面加工による光沢に価値があるのであって、この表面を皮膜で覆うとその価値が低下するからである。
【０００７】
そこで、本発明者等は、表面研磨陶磁器タイルの表面を皮膜で覆うのではなく、表面研磨陶磁器タイルの微孔を塞ぐことによって、微孔中に汚れが沈着するのを防止しようと試みた。そして、本発明者等が種々実験を重ねたところ、後記実施例に示したとおり、特定の化合物を表面研磨陶磁器タイルの微孔に充填せしめることにより、汚れの沈着を防止しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明は、化１で表されるテトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーを含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布した後、直ちに拭き取って、該多数の微孔に該シリケートオリゴマーを充填せしめた後、硬化させることを特徴とする表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法に関するものである。
【化１】
【０００９】
また、本発明は、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨ，（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2，（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6Ｓ4Ｃ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）9ＣＨ3，（Ｃ17Ｈ35ＣＯＯ）3ＴｉＯＣＨ（ＣＨ3）2及び（ＣＨ（ＣＨ3）2Ｏ）2ＡｌＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＯＣＣ18Ｈ35よりなる群から選ばれた化合物を含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布した後、直ちに拭き取って、該多数の微孔に該化合物を充填せしめた後、硬化させることを特徴とする表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法に関するものである。
【００１０】
まず、本発明で用いる化合物を説明する。本発明で用いる第一番目の化合物（以下、第一番目の化合物を「化合物１」といい、第二番目の化合物を「化合物２」といい、以下順次、「化合物３」等という。）は、テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーである。テトラメトキシシランは、上記した化１の構造式で表されるものである。そして、これが加水分解縮合すると三次元的に結合して網目構造の重合体になる。本発明では、この重合体の平均分子量は５００〜１８００であり、この範囲のものが表面研磨陶磁器タイルに良好な防汚性を付与し得たのである。なお、この平均分子量は数平均分子量である。
【００１１】
本発明で用いる化合物２は、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨである。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化２】
【００１２】
本発明で用いる化合物３は、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化３】
【００１３】
本発明で用いる化合物４は、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6Ｓ4Ｃ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化４】
【００１４】
本発明で用いる化合物５は、（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）9ＣＨ3である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化５】
【００１５】
本発明で用いる化合物６は、（Ｃ17Ｈ35ＣＯＯ）3ＴｉＯＣＨ（ＣＨ3）2である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化６】
【００１６】
本発明で用いる化合物７は、（ＣＨ（ＣＨ3）2Ｏ）2ＡｌＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＯＣＣ18Ｈ35である。これを構造式で表せば、次のとおりである。
【化７】
【００１７】
化合物１〜７は、一般的に常温で液状であるから、この溶液を表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布する。また、化合物１〜７のままでは塗布しにくいときは、化合物１〜７をアセトン等の有機溶剤と混合して溶液を調製してもよい。塗布方法は従来公知の方法でよく、たとえばゴムヘラ、ハケ又はポリッシューを用いて塗布する。そして、塗布後、直ちに編織物等の布帛で拭き取る。この拭き取りは手作業でもよく、機械を用いて行ってもよい。拭き取った結果、表面研磨陶磁器タイルは、表面に多数の微孔を有しているので、陶磁器タイルの表面に存在した化合物１〜７は、この微孔に充填せしめられる。
【００１８】
微孔に充填せしめられた化合物１〜７は、珪素、チタン又はアルミニウムに結合しているアルコキシ基を持っているので、常温で大気中に放置しておくだけで、加水分解して硬化する。具体的には、２４時間程度大気中に放置しておくだけで硬化し、微孔が塞がれるのである。なお、硬化を促進するために加熱処理や風乾処理等を行ってもよいことは言うまでもない。
【００１９】
本発明に係る方法は、表面研磨陶磁器タイルを生産した後に行ってもよいし、表面研磨陶磁器タイルをホテル等の施設に敷設した後、行ってもよい。本発明で用いる化合物１〜７は、加熱処理しなくても大気中に放置しておくだけで硬化するため、後者の方法も採用しうるのである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の方法によれば、表面研磨陶磁器タイル表面の微孔が、化合物１〜７の硬化物によって塞がれているため、コーヒーやカレー等の色素含有物が陶磁器タイルの表面に付着しても、色素成分が微孔に沈着するのを防止しうる。したがって、陶磁器タイル表面に付着した色素含有物を布等で拭い取った後、水等を用いて洗浄すれば、色素成分をほぼ完全に取り除くことができ、陶磁器タイルが汚れるのを防止しうるという効果を奏する。
【実施例】
【００２１】
以下、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。本発明は、化合物１〜７が表面研磨陶磁器タイルの表面に存在する微孔を良好に塞ぐことができ、汚れの沈着を防止しうるとの知見に基づくものとして、解釈されるべきである。
【００２２】
実施例１
１０ｃｍ×１０ｃｍの表面研磨陶磁器タイル( セラミカ・クレオパトラ社製、商品名：ナイル オジリス オフホワイト) の表面に、テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜７００よりなるシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）約０．４ｇを滴下し、ゴムヘラを用いて均一に塗布した後、直ちに布ウエスで拭き取った。そして、一昼夜大気中に放置して、シリケートオリゴマーを硬化させて、表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２３】
実施例２
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が１５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５８Ｂ３０」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２４】
実施例３
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に、アセトンを等量混合して溶液を調製した他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２５】
実施例４
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）9ＣＨ3よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ３１０３Ｃ」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２６】
実施例５
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨよりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ８０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２７】
実施例６
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ１００３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２８】
実施例７
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6Ｓ4Ｃ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＥ８４６」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００２９】
実施例８
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（Ｃ17Ｈ35ＣＯＯ）3ＴｉＯＣＨ（ＣＨ3）2よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＫＲＴＴＳ」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３０】
実施例９
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ（ＣＨ3）2Ｏ）2ＡｌＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＯＣＣ18Ｈ35よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＡＬ−Ｍ」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３１】
比較例１
実施例１で用いた表面研磨陶磁器タイルに何らの処理も施さなかった。
【００３２】
比較例２
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、テトラエトキシシラン［Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4］よりなる溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル・ジャパン社製、商品名「ＴＳＬ８１２４」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３３】
比較例３
実施例３で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、シリカ粒子（日本アエロジル社製、商品名「ＡＥＲＯＳＩＬ ２００」）を用いた他は、実施例３と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３４】
比較例４
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、二酸化珪素及び酸化リチウムを含む溶液（日産化学社製、商品名「ＬＳＳ−４５」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３５】
比較例５
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨＣ2Ｈ4ＮＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ６０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３６】
比較例６
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＯＣＨ2Ｃ2Ｈ3Ｏよりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ４０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３７】
比較例７
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）2Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃ3Ｈ6ＮＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ９０２」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３８】
比較例８
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）2ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨＣ6Ｈ5よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ５７３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００３９】
比較例９
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ９０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４０】
比較例１０
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）2Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃ3Ｈ6ＯＣＯＣＨ3ＣＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ５０２」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４１】
比較例１１
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）5ＣＨ3よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ３０６３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４２】
比較例１２
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＣＯよりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ９００７」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４３】
比較例１３
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＣ（ＣＨ3）Ｃ4Ｈ9よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ９１０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４４】
比較例１４
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＯＣＯＣ（ＣＨ3）ＣＨ2よりなる溶液（信越化学工業社製、商品名「ＫＢＭ５０３」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４５】
比較例１５
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、Ｃ8Ｈ17Ｏ及びＨＯＰ（ＯＣ13Ｈ27のＴｉへの配位結合体よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＫＲ５５」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４６】
比較例１６
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、ＣＨ（ＣＨ3）2Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ4ＮＨＣ2Ｈ4ＮＨ2）3よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＫＲ４４」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４７】
比較例１７
実施例１で用いたシリケートオリゴマーよりなる溶液（三菱化学社製、商品名「ＭＳ５１」）に代えて、ＣＨ（ＣＨ3）2Ｔｉ（ＯＳＯ2Ｃ6Ｈ5Ｃ12Ｈ25）3よりなる溶液（味の素ファインケミカル社製、商品名「プレンアクト ＫＲ９ＳＡ」）を用いた他は、実施例１と同様にして表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与した。
【００４８】
［塗布性］
実施例１〜９及び比較例１〜１７に係る方法において、溶液の塗布性を以下の四段階で評価した。この結果を表１に示した。
◎・・・非常に塗布しやすい。
○・・・塗布しやすい。
△・・・やや塗布しにくい。
×・・・塗布しにいく。
【００４９】
［防汚性］
また、実施例１〜９及び比較例１〜１７に係る方法で得られた表面研磨陶磁器タイルの防汚性を以下の方法で評価した。まず、表面研磨陶磁器タイルの表面にコーヒーを適量滴下する。そして、１５分置いた後、水を含んで布ウエスでコーヒーを拭き取る。コーヒーを拭き取った後の表面研磨陶磁器タイルと、コーヒーを滴下する前の表面研磨陶磁器タイルの色差を測定する。色差測定には、ＭＩＮＯＬＴＡ社製の光度計ＣＭ−３５００ｄを用い、正反射光除去方式で反射率測定を行った。測定値はＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系を用い、下記式（１）によりΔＥを得た。
［（ΔＬ）2＋（Δａ）2＋（Δｂ）2］1/2＝ΔＥ ・・・（１）
そして、ΔＥの値により、以下の三段階により防汚性を評価した。この結果を表１に示した。
○・・・ΔＥ＜１．０
×・・・ΔＥ≧１．０
【００５０】
［表１］
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
塗布性 防汚性
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例１ ○ ○
実施例２ ○ ○
実施例３ ◎ ○
実施例４ ○ ○
実施例５ ○ ○
実施例６ ○ ○
実施例７ ○ ○
実施例８ △ ○
実施例９ △ ○
比較例１ − ×
比較例２ ○ ×
比較例３ ○ ×
比較例４ ○ ×
比較例５ ○ ×
比較例６ ○ ×
比較例７ ○ ×
比較例８ ○ ×
比較例９ ○ ×
比較例１０ ○ ×
比較例１１ ○ ×
比較例１２ ○ ×
比較例１３ ○ ×
比較例１４ ○ ×
比較例１５ ○ ×
比較例１６ × ×
比較例１７ × ×
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【００５１】
表１の結果から分かるように、実施例に係る方法で処理された表面研磨陶磁器タイルは、比較例に係る方法で処理された表面研磨陶磁器タイル（未処理も含む。）に比べて、防汚性に優れていることが分かる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化１で表されるテトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーを含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布した後、直ちに拭き取って、該多数の微孔に該シリケートオリゴマーを充填せしめた後、硬化させることを特徴とする表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法。
【化１】
【請求項２】
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨ，（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2，（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6Ｓ4Ｃ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）9ＣＨ3，（Ｃ17Ｈ35ＣＯＯ）3ＴｉＯＣＨ（ＣＨ3）2及び（ＣＨ（ＣＨ3）2Ｏ）2ＡｌＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＯＣＣ18Ｈ35よりなる群から選ばれた化合物を含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布した後、直ちに拭き取って、該多数の微孔に該化合物を充填せしめた後、硬化させることを特徴とする表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法。
【請求項３】
溶液中にアセトンが含まれている請求項１又は２記載の表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法で防汚性が付与されてなる表面研磨陶磁器タイル。
【請求項１】
化１で表されるテトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーを含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布した後、直ちに拭き取って、該多数の微孔に該シリケートオリゴマーを充填せしめた後、硬化させることを特徴とする表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法。
【化１】
【請求項２】
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＳＨ，（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨＣＨ2，（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6Ｓ4Ｃ3Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）9ＣＨ3，（Ｃ17Ｈ35ＣＯＯ）3ＴｉＯＣＨ（ＣＨ3）2及び（ＣＨ（ＣＨ3）2Ｏ）2ＡｌＯＣＨ（ＣＨ3）ＯＯＣＣ18Ｈ35よりなる群から選ばれた化合物を含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布した後、直ちに拭き取って、該多数の微孔に該化合物を充填せしめた後、硬化させることを特徴とする表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法。
【請求項３】
溶液中にアセトンが含まれている請求項１又は２記載の表面研磨陶磁器タイルに防汚性を付与する方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法で防汚性が付与されてなる表面研磨陶磁器タイル。
【公開番号】特開２０１１−２４１１０２（Ｐ２０１１−２４１１０２Ａ）
【公開日】平成２３年１２月１日（２０１１．１２．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１１２４２４（Ｐ２０１０−１１２４２４）
【出願日】平成２２年５月１４日（２０１０．５．１４）
【出願人】（０００１０５６４８）コニシ株式会社 (217)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月１日（２０１１．１２．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月１４日（２０１０．５．１４）
【出願人】（０００１０５６４８）コニシ株式会社 (217)
【Ｆターム（参考）】
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