複層剥離フィルム
本発明は、硬化性エラストマーを含む第１の層と、当該第１の層と直接結合し且つ直接接している第２の層とを含む複層フィルムに関する。上記第２の層は、フルオロポリマーを含み、そして５．０μｍ未満の厚さを有する。当該複層フィルムは、少なくとも約５の厚さ比を有する。上記厚さ比は、第１の層の厚さの、第２の層の厚さに対する比である。当該複層フィルムは、概して平行且つ平面の対向する主要な表面を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この公表は、一般に、複層剥離フィルム及び当該フィルムを製造するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
製造業者は、化学及び環境に対するダメージに抵抗性を有する表面を作るためのポリマーを探索し続けている。さらに、製造業者は、他の表面との付着に抵抗性を有する表面を形成する、剥離特性を有するフィルムを探索している。特定の用途では、上記ポリマーから形成されたフィルムは、飛行機及び列車のカーゴホルダ、ビニル側線表面処理、光電池の保護カバー及び剥離フィルムとして用いられている。上記ポリマーの例には、低表面エネルギーポリマーが含まれる。低表面エネルギーポリマー、例えば、フルオロポリマーは、化学物質、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）への暴露により生じたダメージに対する抵抗性を示し、耐汚染性を有し、環境条件への暴露により生じたダメージに対する抵抗性を実証し、そして典型的には剥離表面を形成する。
【０００３】
上記低表面エネルギーポリマーが必要とされるが、上記ポリマーは、高価な傾向にある。さらに、上記ポリマーは、低い湿潤特性及び剥離フィルムを形成する所与のそれらの傾向を示し、他のポリマー基材との付着性に乏しい。特定のフルオロポリマー、例えば、ＰＶＤＦでは、製造業者は、適合性を有しない基材にフルオロポリマー層を付着するために、アクリルポリマー又はカルボン酸変性ポリオレフィンを含む接着層に注目し始めている。しかし、アクリルポリマーは、環境ストレス、例えば、紫外線暴露及び高温に対する耐性が弱いのが一般的である。フルオロポリマー層フィルムと下にある基材との間の結合が、経時的に弱まる場合がある。さらに、下にある基材及びフルオロポリマー層の機械的性質の間のミスマッチは、継続する機械的応力と共に上記層と上記基材との間の接触を弱くし、上記フルオロポリマー層と上記下にあるフィルム層との間の結合の剥離強度の低下と、分解の可能性が生ずる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
改良した複層フィルム及び上記複層フィルムを製造するための方法が、望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
特定の実施形態では、複層フィルムは、硬化性エラストマーを含む第１の層と、上記第１の層と直接結合し且つ接している第２の層とを含む。上記第２の層は、フルオロポリマーを含み且つ５．０μｍ未満の厚さを有する。上記複層フィルムは、少なくとも約５の厚さ比を有する。上記厚さ比は、上記第１の層の厚さの、上記第２の層の厚さに対する比である。上記複層フィルムは、平行且つ平面の対向する主要な表面を一般的に有する。
【０００６】
別の例示的な実施形態では、複層フィルムは、ジエンエラストマーを含む第１の層を含む。上記第１の層は、第１及び第２の対向する主要な表面を有する。上記複層フィルムはまた、第１の層の主要表面と直接結合し且つ直接接している第２の層を含む。上記第２の層は、フルオロポリマーを含む。上記第１の層の厚さの上記第２の層に対する厚さ比は、少なくとも約５である。上記複層フィルムは、上記第１の層の第２の主要な表面と直接結合し且つ直接接している第３の層をさらに含む。上記第３の層は、フルオロポリマーを含む。
【０００７】
さらに例示的な実施形態では、複層フィルムを形成する方法は、硬化性エラストマーを含む第１の層を押出す段階、上記第１の層と接している第２の層を押出し、未硬化の複層フィルムを形成する段階、そして当該未硬化の複層フィルムを硬化させる段階を含む。上記第２の層は、フルオロポリマーを含む。上記第１の層の厚さの、上記第２の層の厚さに対する厚さ比は、少なくとも約５である。
【０００８】
特定の実施形態では、複層フィルムは、第１の層及び第２の層を含む。上記第１の層は、硬化性エラストマーを含むことができる。例えば、上記硬化性エラストマーは、ジエンエラストマーを含むことができる。上記第２の層は、低表面エネルギーポリマーを含む。例えば、上記低表面エネルギーポリマーは、フルオロポリマーを含むことができる。上記第２の層は、上記第１の層と直接結合し且つ直接接している。上記第１の層の厚さの、上記第２の層の厚さに対する厚さ比は、少なくとも約５であることができる。例示的な実施形態では、上記複層フィルムはまた、上記第１の層と直接結合し且つ直接接している第３の層を含む。上記第３の層は、例えば、低表面エネルギーポリマーを含むことができる。特定の例では、上記第２及び第３の層は、上記複層フィルムの対向する最外層を形成する。さらに、上記層は、一般的に平行且つ平面の対向する主要な表面を形成することができる。
【０００９】
例示的な実施形態では、上記複層フィルムは、第１の層を押出すこと及び第２の層を押出すことにより形成されうる。上記第１の層の厚さの、上記第２の層の厚さに対する厚さ比は、少なくとも約５である。ある例では、上記第１の層は、ジエンエラストマー等の硬化性エラストマーを含む。上記第２の層は、低表面エネルギーポリマーを含む。例示的な実施形態では、上記第１の層及び第２の層は、お互いに直接接触するように共押出される。さらに、上記第１の層は、例えば、架橋により硬化されうる。例えば、上記複層フィルムは、ｅ−ビーム放射線又は紫外線等の電磁線に暴露されうる。あるいは、水活性化架橋剤（ｗａｔｅｒ ａｃｔｉｖａｔｅｄ ｃｒｏｓｓｌｉｎｋｉｎｇ ａｇｅｎｔ）が、上記第１の層の硬化性エラストマーを硬化するために用いられうる。
【００１０】
図１において具体的に説明するように、複層フィルム１００は、最外面１１２を形成する層１０２を含むことができる。層１０２は、層１０４の主要な面１０８に沿って、層１０４と結合することができる。例示的な実施形態では、複層フィルム１００は、層１０２及び層１０４等の２つの層を含む。あるいは、複層フィルム１００は、３層等の、２層又は３層以上の層を含むことができる。例えば、第３の層１０６は、層１０４の第２の主要な面１１０と結合することができる。第２の主要な面１１０は、例えば、主要な面１０８と対向する主要な表面である。上記例では、第３の層１０６は、最外面１１２と対向する、最外面１１４を形成することができる。さらに別の実施形態では、層１０４は、複数のコア又は中間層から構成されうる。
【００１１】
一般に、中間層１０４は、最外層１０２又は所望による最外層１０６よりも厚い。例えば、最外層、例えば、層１０２及び所望による層１０６は、複層フィルム１００の約２０体積％以下を構成することができる。例えば、層１０２は、複層フィルム１００の約１５体積％以下、例えば、複層フィルム１００の約１０体積％以下を構成することができる。特定の例では、最外層１０２及び所望による最外層１０６は、それぞれ複層フィルムの５体積％以下、例えば、３体積％以下、２体積％以下若しくは１体積％以下又はそれ未満を構成することができる。
【００１２】
さらなる例では、最外層１０２及び所望による最外層１０６は、約５．０μｍ未満の厚さを有することができる。例えば、上記厚さは、約４．５μｍ以下、例えば、約３．５μｍ以下、約２．５μｍ以下又は約１．３μｍ以下であることができる。中間層１０４は、複層フィルム１００の少なくとも約６０体積％、例えば、複層フィルム１００の少なくとも約７０体積％又は複層フィルム１００の少なくとも約８０体積％を構成することができる。特定の例では、中間層１０４は、上記複層フィルムの少なくとも約９０体積％、例えば、少なくとも約９５体積％又は少なくとも約９７体積％を構成する。さらなる例では、中間層１０４は、少なくとも約１２．０μｍ、例えば、少なくとも約２５．０μｍ、少なくとも約５０．０μｍ、少なくとも約１００．００μｍ又は少なくとも約２００．０μｍの厚さを有することができる。
【００１３】
特定の実施形態では、最外層１０４の厚さの、中間層１０２の厚さに対する比として規定される厚さ比は、少なくとも約５である。例えば、上記厚さ比は、少なくとも約１０、例えば、少なくとも約２０、少なくとも約５０又は少なくとも約１００であることができる。
複層フィルム１００の総フィルム厚は、少なくとも約１３μｍであることができる。例えば、複層フィルム１００は、少なくとも約２５μｍ、例えば、少なくとも約５０μｍ、少なくとも約１００μｍ、少なくとも約２００μｍ若しくは少なくとも約２５０μｍ又はそれ超の総厚さを有する。
【００１４】
例示的な実施形態では、上記層１０２は、低表面エネルギーポリマーから構成される材料を含む。例えば、低表面エネルギーポリマーは、低表面エネルギー表面を形成する傾向を有するポリマーであることができる。一例では、低表面エネルギーポリマーは、フルオロポリマーを含む。さらなる例では、上記フルオロポリマーは、パーフルオロ化ポリマーであることができる。例示的なフルオロポリマーは、ホモポリマー、コポリマー、ターポリマー又はモノマー、例えば、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、ビニリデン、フッ化ビニル、パーフルオロプロピルビニルエーテル、パーフルオロメチルビニルエーテル若しくはそれらの任意の組み合わせから生成されるポリマーブレンドから構成されることができる。例示的なフルオロポリマーには、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロプロピルビニルエーテルとのコポリマー（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロメチルビニルエーテルとのコポリマー（ＭＦＡ）、エチレンとテトラフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオリド（ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン及びビニリデンフルオリドを含むターポリマー（ＴＨＶ）又はそれらの任意の混合物又はそれらの任意のアロイが含まれる。例えば、上記フルオロポリマーは、ＦＥＰを含むことができる。さらなる例では、上記フルオロポリマーは、ＰＶＤＦを含むことができる。例示的な実施形態では、上記フルオロポリマーは、ｅ−ビーム等の放射線により架橋することができる、ポリマーであることができる。例示的な架橋性フルオロポリマーは、ＥＴＦＥ、ＴＨＶ、ＰＶＤＦ又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。ＴＨＶ樹脂は、Ｄｙｎｅｏｎ ３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，Ｍｉｎｎから入手することができる。ＥＣＴＦＥポリマーは、Ａｕｓｉｍｏｎｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（イタリア）から、Ｈａｌａｒの商品名で入手できる。本明細書で用いられる他のフルオロポリマーは、Ｄａｉｋｉｎ（日本）及びＤｕＰｏｎｔ（米国）から入手することができる。特に、ＦＥＰフルオロポリマーは、Ｄａｉｋｉｎ（例えば、ＮＰ−１２Ｘ）から市販されている。
【００１５】
例示的な実施形態では、層１０４は、エラストマー材料から構成される材料を含む。特定の実施形態では、上記エラストマー材料は、硬化性エラストマーを含む。硬化性エラストマーの例には、シリコーンエラストマー、架橋性フルオロポリマー、ジエンエラストマー又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。特定の例では、上記層１０４は、ジエンエラストマーを含むことができる。別の例では、上記エラストマー材料には、ジエンエラストマーとポリオレフィンとのブレンドが含まれる。典型的には、上記ジエンエラストマーは、少なくとも１種のジエンモノマーから構成されるコポリマーである。例えば、上記ジエンエラストマーは、エチレン、プロピレン及びジエンモノマーのコポリマー（ＥＰＤＭ）であることができる。
【００１６】
例示的なジエンモノマーには、共役ジエン、例えば、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等；５〜約２５個の炭素原子を含む非共役ジエン、例えば、１，４−ペンタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，５−ヘキサジエン、２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン、１，４−オクタジエン等；環式ジエン、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン等；ビニル環式エン（ｖｉｎｙｌ ｃｙｃｌｉｃ ｅｎｅ）、例えば、１−ビニル−１−シクロペンテン、１−ビニル−１−シクロヘキセン等；アルキルビシクロノナジエン、例えば、３−メチルビシクロ−（４，２，ｌ）−ノナ−３，７−ジエン等；インデン、例えば、メチルテトラヒドロインデン等；アルケニルノルボルネン、例えば、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−ブチリデン−２−ノルボルネン、２−メタリル−５−ノルボルネン、２−イソプロペニル−５−ノルボルネン、５−（１，５−ヘキサジエニル）−２−ノルボルネン、５−（３，７−オクタジエニル）−２−ノルボルネン等；トリシクロジエン、例えば、３−メチルトリシクロ（５，２，ｌ，０2，６）−デカ−３，８−ジエン等；又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。
【００１７】
特定の実施形態では、上記ジエンには、非共役ジエンが含まれる。別の実施形態では、上記ジエンエラストマーには、アルケニルノルボルネンが含まれる。上記ジエンエラストマーには、例えば、ポリマーの約６３重量％〜約９５重量％のエチレン、約５重量％〜約３７重量％のプロピレン、及び上記ジエンエラストマーの総重量に基づいて、約０．２重量％〜約１５重量％のジエンモノマーが含まれうる。特定の例では、エチレン含有率は、約７０重量％〜約９０重量％であり、プロピレン含有率は、約１７重量％〜約３１重量％であり、そしてジエンモノマーの含有率は、ジエンモノマーの約２重量％〜約１０重量％である。上記ジエンエラストマーは、少なくとも約２０、例えば、約２５〜約１５０のムーニー粘度を典型的には有する（ＭＬ １＋８、１２５℃）。
【００１８】
例示的な実施形態では、上記ジエンエラストマーは、トルエン１デシリットル当たり、０．１グラムのジエンポリマーの溶液として、２５℃において測定された、少なくとも約１、例えば、約１．３〜約３の希釈溶液粘度（ＤＳＶ）を有する。架橋する前に、上記ジエンエラストマーは、約８００ｐｓｉ〜約１，８００ｐｓｉ、例えば、約９００ｐｓｉ〜約１，６００ｐｓｉの未加工の（ｇｒｅｅｎ）抗張力を有することができる。架橋していないジエンエラストマーは、少なくとも約６００％の破断点伸びを有することができる。一般に、上記ジエンエラストマーは、少量のジエンモノマー、例えば、ジシクロペンタジエン、エチルノルボルネン、メチルノルボルネン、非共役ヘキサジエン等を含み、そして約５０，０００〜約１００，０００の数平均分子量を典型的には有する。例示的なジエンエラストマーは、Ｄｏｗ Ｄｕｐｏｎｔから、Ｎｏｒｄｅｌの商品名で市販されている。
【００１９】
上記硬化性エラストマーが、ジエンエラストマーとポリオレフィンとのブレンドを含む場合には、上記ポリオレフィンのブレンドには、ホモポリマー、コポリマー、ターポリマー、合金又はモノマー、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、メチルペンテン、オクテン若しくはそれらの任意の組み合わせから構成されるそれらの任意の組み合わせが含まれる。例示的なポリオレフィンには、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、超低密度ポリエチレン、エチレンプロピレンコポリマー、エチレンブテンコポリマー、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリブテン、ポリペンテン、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＲ）、エチレンオクテンコポリマー又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。特定の例では、上記ポリオレフィンには、高密度ポリエチレンが含まれる。別の例では、上記ポリオレフィンには、ポリプロピレンが含まれる。さらなる例では、上記ポリオレフィンには、エチレンオクテンコポリマーが含まれる。
【００２０】
特定の実施形態では、上記ポリオレフィンは、変性ポリオレフィン、例えば、カルボキシル基変性ポリオレフィンではなく、そして特にエチレンビニルアセテートではない。さらに、上記ポリオレフィンは、ジエンモノマーから形成されない。特定の例では、上記ポリオレフィンは、結晶化度を有する。例えば、上記ポリオレフィンは、少なくとも約３５％の結晶化度を有することができる。特定の例では、上記ポリオレフィンは、少なくとも約５０％、例えば、少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％の結晶化度を有することができる。特定の例では、上記ポリオレフィンは、高結晶化度ポリオレフィンであることができる。あるいは、上記ポリオレフィンは、３５％以下の結晶化度を有する低結晶化度ポリオレフィンであることができる。低結晶化度ポリオレフィンは、剥離フィルムの順応性を強化するか又は透明度を改良することができる。例示的な市販のポリオレフィンには、Ｅｑｕｉｓｔａｒ８５４０、エチレンオクテンコポリマー；Ｅｑｕｉｓｔａｒ ＧＡ−５０２−０２４、ＬＬＤＰＥ；Ｄｏｗ ＤＭＤＡ−８９０４ＮＴ７、ＨＤＰＥ；Ｂａｓｅｌｌ Ｐｒｏ−Ｆａｘ ＳＲ２７５Ｍ、ランダムポリプロピレンコポリマー；Ｄｏｗ ７Ｃ５０、ブロックＰＰコポリマー；又はＤｕｐｏｎｔ Ｄｏｗから、商品名Ｅｎｇａｇｅの下でかつて市販されていた製品が含まれる。
【００２１】
ある例では、上記ブレンドには、約４０重量％以下のポリオレフィン、例えば、約３０重量％以下のポリオレフィンが含まれる。例えば、上記ブレンドは、約２０重量％以下、例えば、１０重量％以下のポリオレフィンを含むことができる。特定の例では、上記ブレンドは、約５重量％〜約３０重量％、例えば、約１０重量％〜約３０重量％、約１０重量％〜約２５重量％、又は約１０重量％〜約２０重量％を含む。
【００２２】
一般に、上記ブレンドは、ポリマー成分間の相溶性を示す。ＤＭＡ分析は、相溶性の証拠を提供することができる。ＤＭＡ分析は、適合性を示す、ブレンドの主要成分のガラス転移温度間の、単一のタンデルタピークを示すことができる。あるいは、相溶しないブレンドは、１つ超のタンデルタピークを示すことができる。一例では、上記ブレンドは、単一のタンデルタピークを示すことができる。特に、上記単一のタンデルタピークは、上記ポリオレフィンのガラス転移温度と上記ジエンエラストマーのガラス転移温度との間であることができる。
【００２３】
一般に、硬化性エラストマーは、架橋により硬化されうる。特定の例では、硬化性エラストマーは、放射線、例えば、Ｘ線、ガンマ放射線、紫外線、可視光線、電子線（ｅ−ビーム）又はそれらの任意の組み合わせにより架橋性となりうる。特定の例では、上記放射線は、化学線であることができる。紫外線（ＵＶ）放射線は、１７０ｎｍ〜４００ｎｍ、例えば、１７０ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲の波長又は複数の波長における放射線を含むことができる。電離放射線は、イオンを発生させることができる高エネルギー放射線を含み、そして電子線（ｅ−ビーム）放射線、ガンマ放射線及びＸ線を含む。特定の例では、ｅ−ビーム電離放射線は、ファンデグラフ発電機、電子加速器又はＸ線により発生した電子線を含む。別の実施形態では、上記硬化性エラストマーは、熱的方法により、架橋性となることができる。さらなる例では、上記硬化性エラストマーは、化学反応、例えば、シラン架橋剤と水との間の反応により架橋性となることができる。
【００２４】
例示的な実施形態では、中間層１０４の材料は、架橋剤、光開始剤、充填剤、可塑剤又はそれらの任意の組み合わせをさらに含むことができる。あるいは、上記ブレンドは、架橋剤、光開始剤、充填剤又は可塑剤を含まなくともよい。特に、上記ブレンドは、光開始剤又は架橋剤を含まなくともよい。
【００２５】
架橋を促進するために、上記エラストマー層１０４の材料は、開始剤を含むことができる。例えば、上記エラストマー層１０４の材料は、開始剤又は増感（ｓｅｎｓｉｂｉｌｉｚｅｒ）組成物を含むことができる。例えば、紫外線が、照射の形態として企図された場合又はｅ−ビーム放射線が照射として企図された場合、上記材料は、架橋効率、すなわち単位放射線量あたりの架橋度を増すために、光開始剤を含むことができる。
【００２６】
例示的な光開始剤には、ベンゾフェノン、オルト−及びパラ−メトキシベンゾフェノン、ジメチルベンゾフェノン、ジメトキシベンゾフェノン、ジフェノキシベンゾフェノン、アセトフェノン、ｏ−メトキシアセトフェノン、アセナフテンキノン、メチルエチルケトン、バレロフェノン、ヘキサノフェノン、α−フェニルブチロフェノン、ｐ−モルホリノプロピオフェノン、ジベンゾスベロン、４−モルホリノベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、３−ｏ−モルホリノデオキシベンゾイン、ｐ−ジアセチルベンゼン、４−アミノベンゾフェノン、４’−メトキシアセトフェノン、α−テトラロン、９−アセチルフェナントレン、２−アセチルフェナントレン、１０−チオキサンテンオン、３−アセチルフェナントレン、３−アセチルインドール、９−フルオレノン、１−インダノン、１，３，５−トリアセチルベンゼン、チオキサンテン−９−オン、キサンテン−９−オン、７−Ｈ−ベンズ［ｄｅ］アントラセン−７−オン、ベンゾインテトラヒドロフィラニルエーテル、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−ベンゾフェノン、１’−アセトナフトン、２’−アセトナフトン、アセト−ナフトン及び２，３−ブタンジオン、ベンズ［ａ］アントラセン−７，１２−ジオン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト−フェノン、α−ジエトキシ−アセトフェノン、α−ジブトキシ−アセトフェノン、アントラキノン、イソプロピルチオキサントン又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。例示的なポリマー開始剤は、ポリ（エチレン／一酸化炭素）、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン］、ポリメチルビニルケトン、ポリビニルアリールケトン又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。
【００２７】
別の例示的な光開始剤には、ベンゾフェノン；アントロン；キサントン；Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ Ｃｏｒｐ．のＩｒｇａｃｕｒｅ（商標）シリーズの開始剤、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（商標）６５１）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（商標）１８４）又は２−メチル−ｌ−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モロフォリノプロパン−１−オン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（商標）９０７）、；又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。一般的に、上記光開始剤は、エラストマー層１０４の材料からの移動が少ない。さらに、上記光開始剤は、押出し温度において、低蒸気圧と、エラストマー層１０４のポリマー又はポリマーブレンド中における十分な溶解性とを有し、効率的な架橋を生じさせる。例示的な実施形態では、上記光開始剤の蒸気圧及び溶解性、又はポリマー相溶性は、当該光開始剤を誘導体化して改良することができる。例示的な誘導体化された光開始剤には、例えば、４−フェニルベンゾフェノン、４−アリルオキシベンゾフェノン、４−ドデシルオキシベンゾフェノン又はそれらの任意の組み合わせ等の、ベンゾフェノンのより高分子量の誘導体が含まれる。一例では、上記光開始剤を、エラストマー層１０４の材料のポリマーに共有結合させることができる。
【００２８】
例示的な実施形態では、エラストマー層１０４の材料は、約０．０重量％〜約３．０重量％、例えば、約０．１重量％〜約２．０重量％の光開始剤を含む。
【００２９】
架橋はまた、化学架橋剤、例えば、ペロキシド、アミン、シラン又はそれらの任意の組み合わせにより促進されうる。例示的な実施形態では、エラストマー層１０４の材料は、固体状態のポリマー及び上記架橋剤（例えば、粉末状態）を乾式ブレンドすることにより調製されうる。あるいは、上記材料は、不活性な粉末状支持体中に吸収される液状で、又はコーティングされたペレット等を調製することにより調製されうる。
【００３０】
例示的な熱活性化架橋剤には、熱分解にさらされた場合に、少なくとも１つ及び典型的には２つ又は３つ以上のフリーラジカルを生成し、架橋に影響を与えるフリーラジカル生成化学物質が含まれる。例示的な実施形態では、上記架橋剤は、有機過酸化物、アミン、シラン又はそれらの任意の組み合わせを含む有機架橋剤である。
【００３１】
例示的な有機過酸化物には、２，７−ジメチル−２，７−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）オクタジイン−３，５；２，７−ジメチル−２，７−ジ（パーオキシエチルカーボネート）オクタジイン−３，５；３，６−ジメチル−３，６−ジ（パーオキシエチルカーボネート）オクテン−４；３，６−ジメチル−３，６−（ｔ−ブチルパーオキシ）オクテン−４；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシベンゾエート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシ−ｎ−プロピルカーボネート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシイソブチルカーボネート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシエチルカーボネート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（α−クミルパーオキシ）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシβ−クロロエチルカーボネート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。特定の架橋剤は、Ｌｕｐｅｒｓｏ ｌ１３０の名称の下、Ｅｌｆ Ａｔｏｃｈｅｍから入手できる、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３である。別の例示的な架橋剤は、Ｌｕｐｅｒｏｘ ５００Ｒとして、Ｅｌｆ Ａｔｏｃｈｅｍから入手できる、ジクミルパーオキシドである。特定の実施形態では、上記架橋剤は、上記材料の重量に基づいて、約０．１重量％〜約５．０重量％、例えば、約０．５重量％〜約２．０重量％の量で、上記材料中に存在する。
【００３２】
例示的なシラン架橋剤は、次の一般式：
【化１】
（式中、
Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり；
ｘ及びｙは、０又は１であるが、ｘが１の場合には、ｙは１である；
ｎは、１〜１２、好ましくは、１〜４の整数であり：そして
各Ｒは、独立して、加水分解可能な有機基、例えば、１〜１２個の炭素原子から成るアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ）、アラルオキシ（ａｒａｌｏｘｙ）基（例えば、ベンジルオキシ）、１〜１２個の炭素原子の脂肪族アシルオキシ基（例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロパノイルオキシ）、アミノ若しくは置換されたアミノ基（例えば、アルキルアミノ、アリールアミノ）又は１〜６個の炭素原子を有する低級アルキル基であるが、３個のＲ基のうち１つ以下はアルキルである。）
を有する。
【００３３】
有機過酸化物を使用して、上記シランをポリマーにグラフトすることができる。追加の材料、例えば、熱及び光安定剤、顔料又はそれらの任意の組み合わせがまた、材料中に含まれうる。一般に、上記架橋反応は、グラフトされたシラン基と水との間の反応により生じたものであることができる。水は、大気から又は水浴若しくは「サウナ（ｓａｕｎａ）」からバルクポリマー中に浸透することができる。例示的なシランには、エチレン系不飽和ヒドロカルビル基、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、シクロヘキセニル又はγ−（メタ）アクリルオキシアリル基及び加水分解基、例えば、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルボニルオキシ又はヒドロカルビルアミノ基を含む不飽和シランが含まれる。加水分解基の例には、メトキシ基、エトキシ基、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロプリオニルオキシ（ｐｒｏｐｒｉｏｎｙｌｏｘｙ）基、アルキル基、アリールアミノ基又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。特定のシランは、上記ポリマーにグラフトさせることができる不飽和アルコキシシランである。特に上記シランは、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。
【００３４】
シラン架橋剤の量は、上記ブレンド、シラン、処理条件、グラフト化効率、最終用途及び類似の因子の性質により広く変わることができる。典型的には、少なくとも１００部の樹脂あたり（ｐｈｒ）０．５部、例えば、少なくとも約０．７ｐｈｒを用いる。一般的に、シラン架橋剤の量は、５ｐｈｒを超えることはなく、例えば、約２ｐｈｒ以下である。
【００３５】
別の例示的な実施形態では、アミン架橋剤には、モノアルキル、ドゥアリル（ｄｕａｌｌｙｌ）又はトリアルキルモノアミン（ここで、上記アルキル基は、約２〜約１４個の炭素原子；式Ｎ（Ｒ2）3Ｎのトリアルキレンジアミン；式ＨＮ（Ｒ2）2ＮＨのジアルキレンジアミン；アルキレンジアミン、Ｈ2ＮＲ2ＮＨ2；ジアルキレントリアミン、Ｈ2ＮＲ2ＮＨＲ2ＮＨ2；４〜６個の炭素原子の環式鎖を有する脂肪族アミン；又はそれらの組み合わせを含む）を含むことができる。上記式におけるアルキレン基Ｒ2は、約２〜約１４個の炭素原子を含むことができる。例示的な環式アミンは、ヘテロ原子、例えば、酸素、例えば、Ｎ−アルキルモルホリンを有することができる。別の例示的な環式アミンは、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルシクロヘキシルアミン又はそれらの任意の組み合わせを含む。例示的なアミンは、トリエチルアミン；ジ−ｎ−プロピルアミン；トリ−ｎ−プロピルアミン；ｎ−ブチルアミン；シクロヘキシルアミン；トリエチレンジアミン；エチレンジアミン；プロピレンジアミン；ヘキサメチレンジアミン；Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシルアミン；ピリジン；エチル−ｐ−ジメチルアミンベンゾエート（ＥＤＡＢ）；オクチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート（ＯＤＡＢ）；又はそれらの任意の組み合わせである。例示的な実施形態では、上記材料は、約０．５重量％〜約１０．０重量％のアミンを含む。
【００３６】
特定の例では、Ａｌｂｅｍａｒｌｅ，Ｉｎｃ．から入手できるＦｉｒｓｔＣｕｒｅ ＩＴＸを用いて硬化を向上させる。ＦｉｒｓｔＣｕｒｅ ＩＴＸはまた、アミン共力剤、例えば、エチル−ｐ−ジメチルアミンベンゾエート（ＥＤＡＢ）又はオクチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート（ＯＤＡＢ）と併せて用いることができる。
【００３７】
図１に戻ると、複層フィルム１００は、共押出し、共ラミネーション、押出しラミネーション、予備生成された層のメルトコーティング又は共成形等の方法により形成されうる。特に共押出しは、フィルム又はシートを製造することができる。例えば、各層１０２、１０４及び所望による１０６のシートを、押出し、共押出しダイの中、熱軟化された条件の間、又は事前形成されうる製品を形成するためのダイのアウトレットの後に、一緒に置く。化学系架橋剤が存在する場合に、架橋が起こりうる。あるいは、上記シートを、放射線架橋にさらすことができる。
【００３８】
一度、複層製品を事前形成させると、架橋を実施することができる。一例では、架橋は、層１０２，層１０４及び所望による層１０６の結合に作用することができる。上記架橋は、エラストマー層１０４の機械的性質を変え、そして層１０２、層１０４及び層１０６間の剥離強度を改良することができる。架橋は、層１０２、層１０４及び所望による層１０６を、一緒に置いた際に、高温、例えば、いずれかの成分の融点を超えて、室温で又はその間の任意の温度において実施されうる。
【００３９】
放射線による架橋を具体的に説明するために、フィルムを押出し法により調製する。上記押出し法において、層１０２の材料、層１０４の材料及び所望による層１０６の材料を個別に溶融させ、そして別個に供給するか、又は一緒に溶融させ、共押出しフィードブロック及びダイヘッドに供給する（層１０２，層１０４及び所望による層１０６を含むフィルムが生成する）。例示的なダイは、「コートハンガー」型形態を用いる。例示的な線状のコートハンガーダイヘッドは、Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ Ｄｉｅｓ，Ｉｎｃ．（コネチカット）又はＣｌｏｅｒｅｎ Ｄｉｅ Ｃｏｒｐ．（テキサス）から市販されている。例示的な実施形態では、共押出しされた複層フィルムは、３０：１以下、例えば、２０：１以下の比において延伸される。あるいは、上記押出しされる層を、０．１ＭＰａ〜８０ＭＰａの範囲の圧力で共にプレスすることができる。
【００４０】
一度上記フィルムを形成させたら、放射線架橋をすぐに実施し、そして上記フィルムを巻きとることができる。あるいは、上記フィルムを、未架橋の状態で巻き、後に巻出し、そして放射線架橋にさらすことができる。
【００４１】
上記放射線は、層１０４の架橋性ポリマーに架橋を作り出すために効果的であることができる。層１０４内のポリマー分子の層間架橋により、硬化した組成物が提供され、そして複層フィルム１００の層１０４に構造強度が付与される。さらに、放射線架橋は、フルオロポリマーから構成される最外層１０２とコア層１０４との間の結合を、例えば、中間層架橋により実施することができる。特定の実施形態では、高い耐剥離性を有する一体化された複合体をもたらす硬化されたコア層及び上記層の間の層間架橋結合の組み合わせは、高い耐付着性及び保護表面を有し、最少量の耐付着性材料を導入し、そしてさらに複層フィルム１００の好適な取扱い及び配置のために物理的価値を有する。特定の実施形態では、少なくとも約５、例えば、少なくとも約１０の厚さ比を有するフィルムは、より少ない硬化及び架橋を有する効果的な中間層結合を形成する。
【００４２】
さらに、少なくとも約５、例えば、少なくとも約１０の厚さ比を有する複層フィルムは、より低い絶対剥離強度でさえも、層間剥離に対する剥離性を有する。上記複層フィルムは、例えば、標準的な「Ｔ」−Ｐｅｅｌ状態において室温で試験した場合には、少なくとも約５ｇｍ／ｃｍの幅の剥離強度を示すことができる。特に、厚さ１ミル未満のより薄いフィルムは、少なくとも約５ｇｍ／ｃｍ、例えば、少なくとも約１０ｇｍ／ｃｍ、又は少なくとも約２０ｇｍ／ｃｍの剥離強度を有することができる。別の例では、上記複層フィルムの剥離強度は、少なくとも約３０ｇｍ／ｃｍ、例えば、少なくとも約４０ｇｍ／ｃｍ、少なくとも約４５ｇｍ／ｃｍ、又はさらに少なくとも約５０ｇｍ／ｃｍであることができる。特に、より厚いフィルム、又は広い温度範囲にわたり粘着テープと共に用いられるフィルムは、少なくとも約３０ｇｍ／ｃｍの剥離強度を有することができる。
【００４３】
特定の実施形態では、上記放射線は、１７０ｎｍ〜４００ｎｍ、例えば、約１７０ｎｍ〜２２０ｎｍの波長を有する紫外線であることができる。少なくとも約１２０Ｊ／ｃｍ2の放射線を用いて架橋を実施することができる。
一度形成され、そして硬化されると、上記複層ポリマーフィルムは、望ましい機械的性質を示すことができる。例えば、上記複層ポリマーフィルムは、ＡＳＴＭ Ｄ８８２−０２試験法に基づいて、少なくとも約１２ＭＰａの抗張力を有することができる。例えば、上記複層フィルムは、少なくとも約１５ＭＰａ、例えば、少なくとも約２０ＭＰａの抗張力を有することができる。
【００４４】
別の例示的な実施形態では、上記複層フィルムは、ＡＳＴＭ Ｄ８８２−０２試験法に基づいて、最大所望の抗張力における伸び率を示す。例えば、上記複層フィルムは、少なくとも約１４５％、例えば、少なくとも約１７０％、又は少なくとも約２００％の最大抗張力における、伸び率を示すことができる。
【００４５】
複層フィルムの特定の実施形態は、架橋性及び中間層結合を維持しながら、改良された機械的性質を有利に示す。例えば、複層フィルムの実施形態は、間にある接着層を用いることなく、フルオロポリマーの最外層及びコア層との間の結合並びにコア層内の内部架橋を示すことができる。さらに、上記複層フィルムの実施形態は、低い放射線暴露において、又はより低い剥離強度とともに、有効な界面結合を示すことができる。さらに、実施形態は、望ましい摩擦係数を予想外に示すことができる。
【実施例】
【００４６】
例１
ブレンド化の検討のために、５種のポリマーを選択した。特に、ＥＰＤＭと５種の市販のポリオレフィンのうちの１種とを含むブレンドを生成させた。上記市販のポリオレフィンは、Ｅｑｕｉｓｔａｒ ８５４０，エチレンオクテンコポリマー；Ｅｑｕｉｓｔａｒ ＧＡ−５０２−０２４，ＬＬＤＰＥ；Ｄｏｗ ＤＭＤＡ−８９０４ＮＴ７，ＨＤＰＥ；Ｂａｓｅｌｌ Ｐｒｏ−Ｆａｘ，ＳＲ２７５Ｍ，ランダムポリプロピレンコポリマー；及びＤｏｗ ７Ｃ５０，ブロックＰＰコポリマーである。選択されたＥＰＤＭのグレードは、Ｄｕｐｏｎｔ−Ｄｏｗから入手できる、Ｎｏｒｄｅｌ ４７２５である。ＥＰＤＭ及び少なくとも１種のポリオレフィンを含むブレンドは、Ｄａｉｋｉｎ ＮＰ−１２ＸＦＥＰから形成された最外層を含む複層フィルムのコア層又は中間層として含まれる。当該複層フィルムを共押出しし、そして紫外線放射に暴露し、当該コア層のブレンドを硬化させた。
【００４７】
上記複層フィルムを、厚さ１ミルに共押出し、そしてＦｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｍｏｄｅｌ ＶＰＳ−６システムに包含されるＨ＋バルブによって発生させた紫外線に暴露した。当該試料を、総照射線量１２９Ｊ／ｃｍ2の紫外線に複数回通して暴露させた。上記ブレンドは、光開始剤を含まなかった。
【００４８】
上記ブレンドの相溶性を評価するために、動的機械分析（ＤＭＡ）を用いた。ＤＭＡスキャンのタンデルタピークにより、総合的なブレンドに関するガラス転移温度（Ｔｇ）が提供された。相溶系において、Ｔｇは、２成分ブレンドにおける各成分の相対量に従って動く。すなわち、上記ブレンドに関するＴｇは、上記２成分のガラス転移温度に関する中間値を有し、そしてＴｇ値は、成分の相対量の関係に従って変化する。あるいは、不相溶なブレンドは、少なくとも２種の異なる材料としてふるまい、そして少なくとも２つのタンデルタピークがＤＭＡスキャンに現れる。上述の試料における各ブレンドは、成分ポリマーのガラス転移温度の間に、１つのタンデルタピークを示した。
【００４９】
例２
機械的性質、例えば、試料の抗張力及び最大の抗張力における伸び率（％）を試験した。手順は、ＡＳＴＭ Ｄ８８２−０２に従った。５ｋＮロードセルと共に、２０インチ／分のクロスヘッド速度を用いた。試験前に、上記試料を１２時間、２３℃及び５０相対湿度（ＲＨ）の条件においた。
【００５０】
【表１】
【００５１】
コア層として、１００％Ｎｏｒｄｅｌ ４７２５ ＥＰＤＭを含む比較試料は、１２．５ＭＰａの抗張力を有した。表１において具体的に説明したように、上記各試料は、少なくとも約１２ＭＰａの抗張力を示した。中間又はコア層にブレンドを含む試料の多くは、少なくとも約１５ＭＰａの抗張力を示し、そして特定の試料は、２０ＭＰａを超える抗張力を示した。一般に、コア層のブレンドにポリオレフィンを添加すると、上記コア層内に１００％Ｎｏｒｄｅｌ ４７２５ ＥＰＤＭを含む試料と比較して、上記試料の抗張力が増加した。特定の試料、例えば、直鎖の低密度ポリエチレンブレンドを含むブレンドを含む試料及びエチレンオクテンコポリマーを含むブレンドを含む試料は、約１０％のところにピーク抗張力を示した。他の試料、例えば、高密度ポリエチレンを含むブレンドを含む試料及びポリプロピレンブロックコポリマーを含むブレンドを含む試料は、３０％の量で高い抗張力を示した。
【００５２】
最大抗張力における伸び率（％）をまた評価した。コア層として、１００％Ｎｏｒｄｅｌ ４７２５ ＥＰＤＭを含む比較試料は、１４９％の最大抗張力における伸び率を有した。表２は、上述の試料に関する伸び率（％）を含む。各試料は、少なくとも約１４７％の最大抗張力における伸び率を示した。エチレンオクテンコポリマーブレンドを含む試料は、１０〜２０％エチレンオクテンコポリマーの組成のところにピーク伸び率（％）を示した。他の試料、例えば、ＬＬＤＰブレンドを含む試料及びポリプロピレンランダムコポリマーブレンドを含む試料は、３０％のところで高い伸び率（％）を示した。
【００５３】
【表２】
【００５４】
例３
Ａ：Ｂ：Ａの形態を有する３層フィルム（ここで、Ａ及びＢは、異なる材料から形成される層を表す）を押出した。層Ａは、約２０５℃の融点を有するＤａｉｋｉｎ ＮＰ−１２Ｘ ＦＥＰ３から形成されていた。層Ｂは、約１１５℃の融点を有するＤｕｐｏｎｔ Ｄｏｗから入手できる、ＥＰＤＭ Ｎｏｒｄｅｌ１２４８から形成されていた。共押出しの前に、６０℃において、約８時間、上記材料を事前乾燥した。層Ａの材料を押出しするエクストルーダーの範囲は、２４０℃、２８０℃、２８５℃及び２８５℃にセットした。上記層Ｂの材料を押出しするエクストルーダーの範囲は、１８３℃、２２０℃、２６０℃及び２６６℃にセットした。層Ｂの材料を、２００−メッシュスクリーンにより処理した。フィードブロックを、２８５℃にセットし、ダイを２８７℃にセットし、そしてキャストドラムを、７５℃にセットした。清浄な装置上で、層Ａの材料のエクストルーダーが、ＦＥＰでダイを満たし始めた。一度上記ダイがＦＥＰで満たされたら、層Ｂの材料のエクストルーダーを導入した。
【００５５】
上記フィルムの第１の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約１２％：７７％：１１％の体積比を有していた。総フィルム厚は、３３．６μｍであった。層Ａは、それぞれ約４μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約２５．６μｍの厚さを有していた。厚さ比は、６．４であった。
【００５６】
上記フィルムの第２の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ１２％：７８％：１０％の体積比を有していた。総フィルム厚は、３０．２μｍであった。層Ａは、それぞれ約３．５μｍ及び約３．３μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約２３．４μｍの厚さを有していた。厚さ比は、７．１であった。
【００５７】
上記フィルムの第３の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約７％：８６％：７％の体積比を有していた。総フィルム厚は、３０．７μｍであった。層Ａは、それぞれ約２．０μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約２６．７μｍの厚さを有していた。厚さ比は、１３．３であった。
【００５８】
例４
例３の方法に従って、Ａ：Ｂ：Ａの形態を有する３層フィルムを形成させた。ここで、層Ａは、Ｄａｉｋｉｎ ＮＰ−１２Ｘ ＦＥＰを含み、そして層Ｂは、Ｄｕｐｏｎｔ Ｄｏｗによる、Ｎｏｒｄｅｌ４９２０ ＥＰＤＭを含んでいた。
【００５９】
２つの層Ａの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、２８８℃、２９９℃、３２１℃、３１８℃及び３１８℃にセットした。層Ｂの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、１６０℃、１８８℃、２０４℃、２１５℃、２１５℃及び２１５℃にセットした。層Ｂの材料を、２００−メッシュスクリーンにより処理した。フィードブロックを、２８８℃にセットし、ダイを２９０℃にセットし、そしてキャストドラムを１２１℃にセットし、その一方で、第２の冷却ロールを７４℃にセットした。清浄な装置上で、層Ａの材料のエクストルーダーが、ＦＥＰでダイを満たし始めた。一度、上記ダイがＦＥＰで満たされたら、層Ｂの材料のエクストルーダーを導入した。エクストルーダーの回転速度を、所望のスキン及びコア層厚さを与えるように調整した。
【００６０】
上記フィルムの試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約５％：９０％：５％の体積比を有していた。総フィルム厚は、１０５．６μｍであった。層Ａは、それぞれ約５．５μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約９４．６μｍの厚さを有していた。厚さ比は、１７．２であった。１５インチ／分において、Ｈ＋６００ｗ／ｉｎバルブから紫外線に暴露させた後、当該試料は、４５ｇ／ｉｎの剥離強度を示した。
【００６１】
例５
例３の方法に従って、Ａ：Ｂ：Ａの形態を有する３層フィルムを形成させた。ここで、層Ａは、Ｄａｉｋｉｎ ＮＰ−１２Ｘ ＦＥＰを含み、そして層Ｂは、Ｄｕｐｏｎｔ Ｄｏｗによる、Ｎｏｒｄｅｌ４８２０ ＥＰＤＭを含んでいた。
【００６２】
２つの層Ａの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、２８８℃、２９８℃、３２１℃、３１８℃及び３１８℃にセットした。層Ｂの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、１６０℃、１８８℃、２０４℃、２１５℃、２１５℃及び２１５℃にセットした。層Ｂの材料を、２００−メッシュスクリーンにより処理した。フィードブロックを、２９３℃にセットし、ダイを、２９０℃にセットし、そしてキャストドラムを９３℃にセットし、その一方で、第２の冷却ロールを７４℃にセットした。清浄な装置上で、層Ａの材料のエクストルーダーが、ＦＥＰでダイを満たし始めた。一度、上記ダイがＦＥＰで満たされたら、層Ｂの材料のエクストルーダーを導入した。エクストルーダーの回転速度を、所望のスキン及びコア層厚さを与えるように調整した。
【００６３】
上記フィルムの第１の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約４％：９２％：４％の体積比を有していた。総フィルム厚は、５１．０μｍであった。層Ａは、それぞれ約５．０μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約１１０．０μｍの厚さを有していた。厚さ比は、２４．０であった。
【００６４】
上記フィルムの第２の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約２％：９６％：２％の体積比を有していた。総フィルム厚は、１２０μｍであった。層Ａは、それぞれ約２．５μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約１１５μｍの厚さを有していた。厚さ比は、４６であった。
【００６５】
例６
例３の方法に従って、Ａ：Ｂ：Ａの形態を有する３層フィルムを形成させた。ここで、層Ａは、Ｄａｉｋｉｎ ＮＰ−１２Ｘ ＦＥＰを含み、そして層Ｂは、Ｄｕｐｏｎｔ Ｄｏｗによる、Ｎｏｒｄｅｌ４８２０ ＥＰＤＭを含んでいた。
【００６６】
２つの層Ａの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、２６０℃、２９９℃、３２１℃、３２１℃及び３１５℃にセットした。層Ｂの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、１００℃、１３０℃、１７０℃、２００℃、２１５℃及び２１５℃にセットした。層Ｂの材料を、２００−メッシュスクリーンにより処理した。フィードブロックを、２８０℃にセットし、ダイを２８０℃にセットし、そしてキャストドラムを１３５℃にセットし、その一方で、第２の冷却ロールを７９℃にセットした。清浄な装置上で、層Ａの材料のエクストルーダーが、ＦＥＰでダイを満たし始めた。一度、上記ダイがＦＥＰで満たされたら、層Ｂの材料のエクストルーダーを導入した。エクストルーダーの回転速度を、所望のスキン及びコア層厚さを与えるように調整した。上記装置は、６０インチ幅を超えるウェブを製造する、フルスケールの複層製造ラインであった。
【００６７】
上記フィルムの試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約４％：９２％：４％の体積比を有していた。総フィルム厚は、５４μｍであった。層Ａは、それぞれ約１．２５μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約５１．５μｍの厚さを有していた。厚さ比は、４１．２であった。スキン層は、厚みが薄い場合であっても、途切れのないことは明確であった。６０インチ幅のウェブ全体にわたる精密な検査の下、ＥＰＤＭが暴露されるべきどちらのＦＥＰスキン表面にも、ギャップ又はラインが観察されなかった。従って、上記材料は、剥離フィルムとして機能性を有することは明らかである。上記極めて良好な厚さのスキン層を、製造スケールの装置内で実施することができることは驚くべきことである。
【００６８】
上述の主題は、具体例であるとみなされるべきであり、そして限定的なものではなく、そして添付の特許請求の範囲は、本発明の真の範囲内である全ての改良、強化及び他の実施形態を覆うことを目的とする。従って、法律により許容される最大範囲まで、本発明の範囲は、次の特許請求の範囲及びそれらの均等物の最大の許容される解釈により決定され、そして上述の詳細な説明により、制限又は限定されるべきではない。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
添付の図面を参照することにより、本開示を、より良好に理解することができ、そして非常に多くの特徴及び優位性が、当業者に明白となる。
【図１】図１は、例示的な複層フィルムの具体的な説明を含む。
【技術分野】
【０００１】
この公表は、一般に、複層剥離フィルム及び当該フィルムを製造するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
製造業者は、化学及び環境に対するダメージに抵抗性を有する表面を作るためのポリマーを探索し続けている。さらに、製造業者は、他の表面との付着に抵抗性を有する表面を形成する、剥離特性を有するフィルムを探索している。特定の用途では、上記ポリマーから形成されたフィルムは、飛行機及び列車のカーゴホルダ、ビニル側線表面処理、光電池の保護カバー及び剥離フィルムとして用いられている。上記ポリマーの例には、低表面エネルギーポリマーが含まれる。低表面エネルギーポリマー、例えば、フルオロポリマーは、化学物質、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）への暴露により生じたダメージに対する抵抗性を示し、耐汚染性を有し、環境条件への暴露により生じたダメージに対する抵抗性を実証し、そして典型的には剥離表面を形成する。
【０００３】
上記低表面エネルギーポリマーが必要とされるが、上記ポリマーは、高価な傾向にある。さらに、上記ポリマーは、低い湿潤特性及び剥離フィルムを形成する所与のそれらの傾向を示し、他のポリマー基材との付着性に乏しい。特定のフルオロポリマー、例えば、ＰＶＤＦでは、製造業者は、適合性を有しない基材にフルオロポリマー層を付着するために、アクリルポリマー又はカルボン酸変性ポリオレフィンを含む接着層に注目し始めている。しかし、アクリルポリマーは、環境ストレス、例えば、紫外線暴露及び高温に対する耐性が弱いのが一般的である。フルオロポリマー層フィルムと下にある基材との間の結合が、経時的に弱まる場合がある。さらに、下にある基材及びフルオロポリマー層の機械的性質の間のミスマッチは、継続する機械的応力と共に上記層と上記基材との間の接触を弱くし、上記フルオロポリマー層と上記下にあるフィルム層との間の結合の剥離強度の低下と、分解の可能性が生ずる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
改良した複層フィルム及び上記複層フィルムを製造するための方法が、望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
特定の実施形態では、複層フィルムは、硬化性エラストマーを含む第１の層と、上記第１の層と直接結合し且つ接している第２の層とを含む。上記第２の層は、フルオロポリマーを含み且つ５．０μｍ未満の厚さを有する。上記複層フィルムは、少なくとも約５の厚さ比を有する。上記厚さ比は、上記第１の層の厚さの、上記第２の層の厚さに対する比である。上記複層フィルムは、平行且つ平面の対向する主要な表面を一般的に有する。
【０００６】
別の例示的な実施形態では、複層フィルムは、ジエンエラストマーを含む第１の層を含む。上記第１の層は、第１及び第２の対向する主要な表面を有する。上記複層フィルムはまた、第１の層の主要表面と直接結合し且つ直接接している第２の層を含む。上記第２の層は、フルオロポリマーを含む。上記第１の層の厚さの上記第２の層に対する厚さ比は、少なくとも約５である。上記複層フィルムは、上記第１の層の第２の主要な表面と直接結合し且つ直接接している第３の層をさらに含む。上記第３の層は、フルオロポリマーを含む。
【０００７】
さらに例示的な実施形態では、複層フィルムを形成する方法は、硬化性エラストマーを含む第１の層を押出す段階、上記第１の層と接している第２の層を押出し、未硬化の複層フィルムを形成する段階、そして当該未硬化の複層フィルムを硬化させる段階を含む。上記第２の層は、フルオロポリマーを含む。上記第１の層の厚さの、上記第２の層の厚さに対する厚さ比は、少なくとも約５である。
【０００８】
特定の実施形態では、複層フィルムは、第１の層及び第２の層を含む。上記第１の層は、硬化性エラストマーを含むことができる。例えば、上記硬化性エラストマーは、ジエンエラストマーを含むことができる。上記第２の層は、低表面エネルギーポリマーを含む。例えば、上記低表面エネルギーポリマーは、フルオロポリマーを含むことができる。上記第２の層は、上記第１の層と直接結合し且つ直接接している。上記第１の層の厚さの、上記第２の層の厚さに対する厚さ比は、少なくとも約５であることができる。例示的な実施形態では、上記複層フィルムはまた、上記第１の層と直接結合し且つ直接接している第３の層を含む。上記第３の層は、例えば、低表面エネルギーポリマーを含むことができる。特定の例では、上記第２及び第３の層は、上記複層フィルムの対向する最外層を形成する。さらに、上記層は、一般的に平行且つ平面の対向する主要な表面を形成することができる。
【０００９】
例示的な実施形態では、上記複層フィルムは、第１の層を押出すこと及び第２の層を押出すことにより形成されうる。上記第１の層の厚さの、上記第２の層の厚さに対する厚さ比は、少なくとも約５である。ある例では、上記第１の層は、ジエンエラストマー等の硬化性エラストマーを含む。上記第２の層は、低表面エネルギーポリマーを含む。例示的な実施形態では、上記第１の層及び第２の層は、お互いに直接接触するように共押出される。さらに、上記第１の層は、例えば、架橋により硬化されうる。例えば、上記複層フィルムは、ｅ−ビーム放射線又は紫外線等の電磁線に暴露されうる。あるいは、水活性化架橋剤（ｗａｔｅｒ ａｃｔｉｖａｔｅｄ ｃｒｏｓｓｌｉｎｋｉｎｇ ａｇｅｎｔ）が、上記第１の層の硬化性エラストマーを硬化するために用いられうる。
【００１０】
図１において具体的に説明するように、複層フィルム１００は、最外面１１２を形成する層１０２を含むことができる。層１０２は、層１０４の主要な面１０８に沿って、層１０４と結合することができる。例示的な実施形態では、複層フィルム１００は、層１０２及び層１０４等の２つの層を含む。あるいは、複層フィルム１００は、３層等の、２層又は３層以上の層を含むことができる。例えば、第３の層１０６は、層１０４の第２の主要な面１１０と結合することができる。第２の主要な面１１０は、例えば、主要な面１０８と対向する主要な表面である。上記例では、第３の層１０６は、最外面１１２と対向する、最外面１１４を形成することができる。さらに別の実施形態では、層１０４は、複数のコア又は中間層から構成されうる。
【００１１】
一般に、中間層１０４は、最外層１０２又は所望による最外層１０６よりも厚い。例えば、最外層、例えば、層１０２及び所望による層１０６は、複層フィルム１００の約２０体積％以下を構成することができる。例えば、層１０２は、複層フィルム１００の約１５体積％以下、例えば、複層フィルム１００の約１０体積％以下を構成することができる。特定の例では、最外層１０２及び所望による最外層１０６は、それぞれ複層フィルムの５体積％以下、例えば、３体積％以下、２体積％以下若しくは１体積％以下又はそれ未満を構成することができる。
【００１２】
さらなる例では、最外層１０２及び所望による最外層１０６は、約５．０μｍ未満の厚さを有することができる。例えば、上記厚さは、約４．５μｍ以下、例えば、約３．５μｍ以下、約２．５μｍ以下又は約１．３μｍ以下であることができる。中間層１０４は、複層フィルム１００の少なくとも約６０体積％、例えば、複層フィルム１００の少なくとも約７０体積％又は複層フィルム１００の少なくとも約８０体積％を構成することができる。特定の例では、中間層１０４は、上記複層フィルムの少なくとも約９０体積％、例えば、少なくとも約９５体積％又は少なくとも約９７体積％を構成する。さらなる例では、中間層１０４は、少なくとも約１２．０μｍ、例えば、少なくとも約２５．０μｍ、少なくとも約５０．０μｍ、少なくとも約１００．００μｍ又は少なくとも約２００．０μｍの厚さを有することができる。
【００１３】
特定の実施形態では、最外層１０４の厚さの、中間層１０２の厚さに対する比として規定される厚さ比は、少なくとも約５である。例えば、上記厚さ比は、少なくとも約１０、例えば、少なくとも約２０、少なくとも約５０又は少なくとも約１００であることができる。
複層フィルム１００の総フィルム厚は、少なくとも約１３μｍであることができる。例えば、複層フィルム１００は、少なくとも約２５μｍ、例えば、少なくとも約５０μｍ、少なくとも約１００μｍ、少なくとも約２００μｍ若しくは少なくとも約２５０μｍ又はそれ超の総厚さを有する。
【００１４】
例示的な実施形態では、上記層１０２は、低表面エネルギーポリマーから構成される材料を含む。例えば、低表面エネルギーポリマーは、低表面エネルギー表面を形成する傾向を有するポリマーであることができる。一例では、低表面エネルギーポリマーは、フルオロポリマーを含む。さらなる例では、上記フルオロポリマーは、パーフルオロ化ポリマーであることができる。例示的なフルオロポリマーは、ホモポリマー、コポリマー、ターポリマー又はモノマー、例えば、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、ビニリデン、フッ化ビニル、パーフルオロプロピルビニルエーテル、パーフルオロメチルビニルエーテル若しくはそれらの任意の組み合わせから生成されるポリマーブレンドから構成されることができる。例示的なフルオロポリマーには、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロプロピルビニルエーテルとのコポリマー（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロメチルビニルエーテルとのコポリマー（ＭＦＡ）、エチレンとテトラフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオリド（ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン及びビニリデンフルオリドを含むターポリマー（ＴＨＶ）又はそれらの任意の混合物又はそれらの任意のアロイが含まれる。例えば、上記フルオロポリマーは、ＦＥＰを含むことができる。さらなる例では、上記フルオロポリマーは、ＰＶＤＦを含むことができる。例示的な実施形態では、上記フルオロポリマーは、ｅ−ビーム等の放射線により架橋することができる、ポリマーであることができる。例示的な架橋性フルオロポリマーは、ＥＴＦＥ、ＴＨＶ、ＰＶＤＦ又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。ＴＨＶ樹脂は、Ｄｙｎｅｏｎ ３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，Ｍｉｎｎから入手することができる。ＥＣＴＦＥポリマーは、Ａｕｓｉｍｏｎｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（イタリア）から、Ｈａｌａｒの商品名で入手できる。本明細書で用いられる他のフルオロポリマーは、Ｄａｉｋｉｎ（日本）及びＤｕＰｏｎｔ（米国）から入手することができる。特に、ＦＥＰフルオロポリマーは、Ｄａｉｋｉｎ（例えば、ＮＰ−１２Ｘ）から市販されている。
【００１５】
例示的な実施形態では、層１０４は、エラストマー材料から構成される材料を含む。特定の実施形態では、上記エラストマー材料は、硬化性エラストマーを含む。硬化性エラストマーの例には、シリコーンエラストマー、架橋性フルオロポリマー、ジエンエラストマー又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。特定の例では、上記層１０４は、ジエンエラストマーを含むことができる。別の例では、上記エラストマー材料には、ジエンエラストマーとポリオレフィンとのブレンドが含まれる。典型的には、上記ジエンエラストマーは、少なくとも１種のジエンモノマーから構成されるコポリマーである。例えば、上記ジエンエラストマーは、エチレン、プロピレン及びジエンモノマーのコポリマー（ＥＰＤＭ）であることができる。
【００１６】
例示的なジエンモノマーには、共役ジエン、例えば、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等；５〜約２５個の炭素原子を含む非共役ジエン、例えば、１，４−ペンタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，５−ヘキサジエン、２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン、１，４−オクタジエン等；環式ジエン、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン等；ビニル環式エン（ｖｉｎｙｌ ｃｙｃｌｉｃ ｅｎｅ）、例えば、１−ビニル−１−シクロペンテン、１−ビニル−１−シクロヘキセン等；アルキルビシクロノナジエン、例えば、３−メチルビシクロ−（４，２，ｌ）−ノナ−３，７−ジエン等；インデン、例えば、メチルテトラヒドロインデン等；アルケニルノルボルネン、例えば、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−ブチリデン−２−ノルボルネン、２−メタリル−５−ノルボルネン、２−イソプロペニル−５−ノルボルネン、５−（１，５−ヘキサジエニル）−２−ノルボルネン、５−（３，７−オクタジエニル）−２−ノルボルネン等；トリシクロジエン、例えば、３−メチルトリシクロ（５，２，ｌ，０2，６）−デカ−３，８−ジエン等；又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。
【００１７】
特定の実施形態では、上記ジエンには、非共役ジエンが含まれる。別の実施形態では、上記ジエンエラストマーには、アルケニルノルボルネンが含まれる。上記ジエンエラストマーには、例えば、ポリマーの約６３重量％〜約９５重量％のエチレン、約５重量％〜約３７重量％のプロピレン、及び上記ジエンエラストマーの総重量に基づいて、約０．２重量％〜約１５重量％のジエンモノマーが含まれうる。特定の例では、エチレン含有率は、約７０重量％〜約９０重量％であり、プロピレン含有率は、約１７重量％〜約３１重量％であり、そしてジエンモノマーの含有率は、ジエンモノマーの約２重量％〜約１０重量％である。上記ジエンエラストマーは、少なくとも約２０、例えば、約２５〜約１５０のムーニー粘度を典型的には有する（ＭＬ １＋８、１２５℃）。
【００１８】
例示的な実施形態では、上記ジエンエラストマーは、トルエン１デシリットル当たり、０．１グラムのジエンポリマーの溶液として、２５℃において測定された、少なくとも約１、例えば、約１．３〜約３の希釈溶液粘度（ＤＳＶ）を有する。架橋する前に、上記ジエンエラストマーは、約８００ｐｓｉ〜約１，８００ｐｓｉ、例えば、約９００ｐｓｉ〜約１，６００ｐｓｉの未加工の（ｇｒｅｅｎ）抗張力を有することができる。架橋していないジエンエラストマーは、少なくとも約６００％の破断点伸びを有することができる。一般に、上記ジエンエラストマーは、少量のジエンモノマー、例えば、ジシクロペンタジエン、エチルノルボルネン、メチルノルボルネン、非共役ヘキサジエン等を含み、そして約５０，０００〜約１００，０００の数平均分子量を典型的には有する。例示的なジエンエラストマーは、Ｄｏｗ Ｄｕｐｏｎｔから、Ｎｏｒｄｅｌの商品名で市販されている。
【００１９】
上記硬化性エラストマーが、ジエンエラストマーとポリオレフィンとのブレンドを含む場合には、上記ポリオレフィンのブレンドには、ホモポリマー、コポリマー、ターポリマー、合金又はモノマー、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、メチルペンテン、オクテン若しくはそれらの任意の組み合わせから構成されるそれらの任意の組み合わせが含まれる。例示的なポリオレフィンには、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、超低密度ポリエチレン、エチレンプロピレンコポリマー、エチレンブテンコポリマー、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリブテン、ポリペンテン、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＲ）、エチレンオクテンコポリマー又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。特定の例では、上記ポリオレフィンには、高密度ポリエチレンが含まれる。別の例では、上記ポリオレフィンには、ポリプロピレンが含まれる。さらなる例では、上記ポリオレフィンには、エチレンオクテンコポリマーが含まれる。
【００２０】
特定の実施形態では、上記ポリオレフィンは、変性ポリオレフィン、例えば、カルボキシル基変性ポリオレフィンではなく、そして特にエチレンビニルアセテートではない。さらに、上記ポリオレフィンは、ジエンモノマーから形成されない。特定の例では、上記ポリオレフィンは、結晶化度を有する。例えば、上記ポリオレフィンは、少なくとも約３５％の結晶化度を有することができる。特定の例では、上記ポリオレフィンは、少なくとも約５０％、例えば、少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％の結晶化度を有することができる。特定の例では、上記ポリオレフィンは、高結晶化度ポリオレフィンであることができる。あるいは、上記ポリオレフィンは、３５％以下の結晶化度を有する低結晶化度ポリオレフィンであることができる。低結晶化度ポリオレフィンは、剥離フィルムの順応性を強化するか又は透明度を改良することができる。例示的な市販のポリオレフィンには、Ｅｑｕｉｓｔａｒ８５４０、エチレンオクテンコポリマー；Ｅｑｕｉｓｔａｒ ＧＡ−５０２−０２４、ＬＬＤＰＥ；Ｄｏｗ ＤＭＤＡ−８９０４ＮＴ７、ＨＤＰＥ；Ｂａｓｅｌｌ Ｐｒｏ−Ｆａｘ ＳＲ２７５Ｍ、ランダムポリプロピレンコポリマー；Ｄｏｗ ７Ｃ５０、ブロックＰＰコポリマー；又はＤｕｐｏｎｔ Ｄｏｗから、商品名Ｅｎｇａｇｅの下でかつて市販されていた製品が含まれる。
【００２１】
ある例では、上記ブレンドには、約４０重量％以下のポリオレフィン、例えば、約３０重量％以下のポリオレフィンが含まれる。例えば、上記ブレンドは、約２０重量％以下、例えば、１０重量％以下のポリオレフィンを含むことができる。特定の例では、上記ブレンドは、約５重量％〜約３０重量％、例えば、約１０重量％〜約３０重量％、約１０重量％〜約２５重量％、又は約１０重量％〜約２０重量％を含む。
【００２２】
一般に、上記ブレンドは、ポリマー成分間の相溶性を示す。ＤＭＡ分析は、相溶性の証拠を提供することができる。ＤＭＡ分析は、適合性を示す、ブレンドの主要成分のガラス転移温度間の、単一のタンデルタピークを示すことができる。あるいは、相溶しないブレンドは、１つ超のタンデルタピークを示すことができる。一例では、上記ブレンドは、単一のタンデルタピークを示すことができる。特に、上記単一のタンデルタピークは、上記ポリオレフィンのガラス転移温度と上記ジエンエラストマーのガラス転移温度との間であることができる。
【００２３】
一般に、硬化性エラストマーは、架橋により硬化されうる。特定の例では、硬化性エラストマーは、放射線、例えば、Ｘ線、ガンマ放射線、紫外線、可視光線、電子線（ｅ−ビーム）又はそれらの任意の組み合わせにより架橋性となりうる。特定の例では、上記放射線は、化学線であることができる。紫外線（ＵＶ）放射線は、１７０ｎｍ〜４００ｎｍ、例えば、１７０ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲の波長又は複数の波長における放射線を含むことができる。電離放射線は、イオンを発生させることができる高エネルギー放射線を含み、そして電子線（ｅ−ビーム）放射線、ガンマ放射線及びＸ線を含む。特定の例では、ｅ−ビーム電離放射線は、ファンデグラフ発電機、電子加速器又はＸ線により発生した電子線を含む。別の実施形態では、上記硬化性エラストマーは、熱的方法により、架橋性となることができる。さらなる例では、上記硬化性エラストマーは、化学反応、例えば、シラン架橋剤と水との間の反応により架橋性となることができる。
【００２４】
例示的な実施形態では、中間層１０４の材料は、架橋剤、光開始剤、充填剤、可塑剤又はそれらの任意の組み合わせをさらに含むことができる。あるいは、上記ブレンドは、架橋剤、光開始剤、充填剤又は可塑剤を含まなくともよい。特に、上記ブレンドは、光開始剤又は架橋剤を含まなくともよい。
【００２５】
架橋を促進するために、上記エラストマー層１０４の材料は、開始剤を含むことができる。例えば、上記エラストマー層１０４の材料は、開始剤又は増感（ｓｅｎｓｉｂｉｌｉｚｅｒ）組成物を含むことができる。例えば、紫外線が、照射の形態として企図された場合又はｅ−ビーム放射線が照射として企図された場合、上記材料は、架橋効率、すなわち単位放射線量あたりの架橋度を増すために、光開始剤を含むことができる。
【００２６】
例示的な光開始剤には、ベンゾフェノン、オルト−及びパラ−メトキシベンゾフェノン、ジメチルベンゾフェノン、ジメトキシベンゾフェノン、ジフェノキシベンゾフェノン、アセトフェノン、ｏ−メトキシアセトフェノン、アセナフテンキノン、メチルエチルケトン、バレロフェノン、ヘキサノフェノン、α−フェニルブチロフェノン、ｐ−モルホリノプロピオフェノン、ジベンゾスベロン、４−モルホリノベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、３−ｏ−モルホリノデオキシベンゾイン、ｐ−ジアセチルベンゼン、４−アミノベンゾフェノン、４’−メトキシアセトフェノン、α−テトラロン、９−アセチルフェナントレン、２−アセチルフェナントレン、１０−チオキサンテンオン、３−アセチルフェナントレン、３−アセチルインドール、９−フルオレノン、１−インダノン、１，３，５−トリアセチルベンゼン、チオキサンテン−９−オン、キサンテン−９−オン、７−Ｈ−ベンズ［ｄｅ］アントラセン−７−オン、ベンゾインテトラヒドロフィラニルエーテル、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−ベンゾフェノン、１’−アセトナフトン、２’−アセトナフトン、アセト−ナフトン及び２，３−ブタンジオン、ベンズ［ａ］アントラセン−７，１２−ジオン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト−フェノン、α−ジエトキシ−アセトフェノン、α−ジブトキシ−アセトフェノン、アントラキノン、イソプロピルチオキサントン又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。例示的なポリマー開始剤は、ポリ（エチレン／一酸化炭素）、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン］、ポリメチルビニルケトン、ポリビニルアリールケトン又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。
【００２７】
別の例示的な光開始剤には、ベンゾフェノン；アントロン；キサントン；Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ Ｃｏｒｐ．のＩｒｇａｃｕｒｅ（商標）シリーズの開始剤、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（商標）６５１）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（商標）１８４）又は２−メチル−ｌ−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モロフォリノプロパン−１−オン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（商標）９０７）、；又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。一般的に、上記光開始剤は、エラストマー層１０４の材料からの移動が少ない。さらに、上記光開始剤は、押出し温度において、低蒸気圧と、エラストマー層１０４のポリマー又はポリマーブレンド中における十分な溶解性とを有し、効率的な架橋を生じさせる。例示的な実施形態では、上記光開始剤の蒸気圧及び溶解性、又はポリマー相溶性は、当該光開始剤を誘導体化して改良することができる。例示的な誘導体化された光開始剤には、例えば、４−フェニルベンゾフェノン、４−アリルオキシベンゾフェノン、４−ドデシルオキシベンゾフェノン又はそれらの任意の組み合わせ等の、ベンゾフェノンのより高分子量の誘導体が含まれる。一例では、上記光開始剤を、エラストマー層１０４の材料のポリマーに共有結合させることができる。
【００２８】
例示的な実施形態では、エラストマー層１０４の材料は、約０．０重量％〜約３．０重量％、例えば、約０．１重量％〜約２．０重量％の光開始剤を含む。
【００２９】
架橋はまた、化学架橋剤、例えば、ペロキシド、アミン、シラン又はそれらの任意の組み合わせにより促進されうる。例示的な実施形態では、エラストマー層１０４の材料は、固体状態のポリマー及び上記架橋剤（例えば、粉末状態）を乾式ブレンドすることにより調製されうる。あるいは、上記材料は、不活性な粉末状支持体中に吸収される液状で、又はコーティングされたペレット等を調製することにより調製されうる。
【００３０】
例示的な熱活性化架橋剤には、熱分解にさらされた場合に、少なくとも１つ及び典型的には２つ又は３つ以上のフリーラジカルを生成し、架橋に影響を与えるフリーラジカル生成化学物質が含まれる。例示的な実施形態では、上記架橋剤は、有機過酸化物、アミン、シラン又はそれらの任意の組み合わせを含む有機架橋剤である。
【００３１】
例示的な有機過酸化物には、２，７−ジメチル−２，７−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）オクタジイン−３，５；２，７−ジメチル−２，７−ジ（パーオキシエチルカーボネート）オクタジイン−３，５；３，６−ジメチル−３，６−ジ（パーオキシエチルカーボネート）オクテン−４；３，６−ジメチル−３，６−（ｔ−ブチルパーオキシ）オクテン−４；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシベンゾエート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシ−ｎ−プロピルカーボネート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシイソブチルカーボネート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシエチルカーボネート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（α−クミルパーオキシ）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシβ−クロロエチルカーボネート）ヘキシン−３；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。特定の架橋剤は、Ｌｕｐｅｒｓｏ ｌ１３０の名称の下、Ｅｌｆ Ａｔｏｃｈｅｍから入手できる、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３である。別の例示的な架橋剤は、Ｌｕｐｅｒｏｘ ５００Ｒとして、Ｅｌｆ Ａｔｏｃｈｅｍから入手できる、ジクミルパーオキシドである。特定の実施形態では、上記架橋剤は、上記材料の重量に基づいて、約０．１重量％〜約５．０重量％、例えば、約０．５重量％〜約２．０重量％の量で、上記材料中に存在する。
【００３２】
例示的なシラン架橋剤は、次の一般式：
【化１】
（式中、
Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり；
ｘ及びｙは、０又は１であるが、ｘが１の場合には、ｙは１である；
ｎは、１〜１２、好ましくは、１〜４の整数であり：そして
各Ｒは、独立して、加水分解可能な有機基、例えば、１〜１２個の炭素原子から成るアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ）、アラルオキシ（ａｒａｌｏｘｙ）基（例えば、ベンジルオキシ）、１〜１２個の炭素原子の脂肪族アシルオキシ基（例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロパノイルオキシ）、アミノ若しくは置換されたアミノ基（例えば、アルキルアミノ、アリールアミノ）又は１〜６個の炭素原子を有する低級アルキル基であるが、３個のＲ基のうち１つ以下はアルキルである。）
を有する。
【００３３】
有機過酸化物を使用して、上記シランをポリマーにグラフトすることができる。追加の材料、例えば、熱及び光安定剤、顔料又はそれらの任意の組み合わせがまた、材料中に含まれうる。一般に、上記架橋反応は、グラフトされたシラン基と水との間の反応により生じたものであることができる。水は、大気から又は水浴若しくは「サウナ（ｓａｕｎａ）」からバルクポリマー中に浸透することができる。例示的なシランには、エチレン系不飽和ヒドロカルビル基、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、シクロヘキセニル又はγ−（メタ）アクリルオキシアリル基及び加水分解基、例えば、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルボニルオキシ又はヒドロカルビルアミノ基を含む不飽和シランが含まれる。加水分解基の例には、メトキシ基、エトキシ基、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロプリオニルオキシ（ｐｒｏｐｒｉｏｎｙｌｏｘｙ）基、アルキル基、アリールアミノ基又はそれらの任意の組み合わせが含まれる。特定のシランは、上記ポリマーにグラフトさせることができる不飽和アルコキシシランである。特に上記シランは、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン又はそれらの任意の組み合わせを含むことができる。
【００３４】
シラン架橋剤の量は、上記ブレンド、シラン、処理条件、グラフト化効率、最終用途及び類似の因子の性質により広く変わることができる。典型的には、少なくとも１００部の樹脂あたり（ｐｈｒ）０．５部、例えば、少なくとも約０．７ｐｈｒを用いる。一般的に、シラン架橋剤の量は、５ｐｈｒを超えることはなく、例えば、約２ｐｈｒ以下である。
【００３５】
別の例示的な実施形態では、アミン架橋剤には、モノアルキル、ドゥアリル（ｄｕａｌｌｙｌ）又はトリアルキルモノアミン（ここで、上記アルキル基は、約２〜約１４個の炭素原子；式Ｎ（Ｒ2）3Ｎのトリアルキレンジアミン；式ＨＮ（Ｒ2）2ＮＨのジアルキレンジアミン；アルキレンジアミン、Ｈ2ＮＲ2ＮＨ2；ジアルキレントリアミン、Ｈ2ＮＲ2ＮＨＲ2ＮＨ2；４〜６個の炭素原子の環式鎖を有する脂肪族アミン；又はそれらの組み合わせを含む）を含むことができる。上記式におけるアルキレン基Ｒ2は、約２〜約１４個の炭素原子を含むことができる。例示的な環式アミンは、ヘテロ原子、例えば、酸素、例えば、Ｎ−アルキルモルホリンを有することができる。別の例示的な環式アミンは、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルシクロヘキシルアミン又はそれらの任意の組み合わせを含む。例示的なアミンは、トリエチルアミン；ジ−ｎ−プロピルアミン；トリ−ｎ−プロピルアミン；ｎ−ブチルアミン；シクロヘキシルアミン；トリエチレンジアミン；エチレンジアミン；プロピレンジアミン；ヘキサメチレンジアミン；Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシルアミン；ピリジン；エチル−ｐ−ジメチルアミンベンゾエート（ＥＤＡＢ）；オクチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート（ＯＤＡＢ）；又はそれらの任意の組み合わせである。例示的な実施形態では、上記材料は、約０．５重量％〜約１０．０重量％のアミンを含む。
【００３６】
特定の例では、Ａｌｂｅｍａｒｌｅ，Ｉｎｃ．から入手できるＦｉｒｓｔＣｕｒｅ ＩＴＸを用いて硬化を向上させる。ＦｉｒｓｔＣｕｒｅ ＩＴＸはまた、アミン共力剤、例えば、エチル−ｐ−ジメチルアミンベンゾエート（ＥＤＡＢ）又はオクチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート（ＯＤＡＢ）と併せて用いることができる。
【００３７】
図１に戻ると、複層フィルム１００は、共押出し、共ラミネーション、押出しラミネーション、予備生成された層のメルトコーティング又は共成形等の方法により形成されうる。特に共押出しは、フィルム又はシートを製造することができる。例えば、各層１０２、１０４及び所望による１０６のシートを、押出し、共押出しダイの中、熱軟化された条件の間、又は事前形成されうる製品を形成するためのダイのアウトレットの後に、一緒に置く。化学系架橋剤が存在する場合に、架橋が起こりうる。あるいは、上記シートを、放射線架橋にさらすことができる。
【００３８】
一度、複層製品を事前形成させると、架橋を実施することができる。一例では、架橋は、層１０２，層１０４及び所望による層１０６の結合に作用することができる。上記架橋は、エラストマー層１０４の機械的性質を変え、そして層１０２、層１０４及び層１０６間の剥離強度を改良することができる。架橋は、層１０２、層１０４及び所望による層１０６を、一緒に置いた際に、高温、例えば、いずれかの成分の融点を超えて、室温で又はその間の任意の温度において実施されうる。
【００３９】
放射線による架橋を具体的に説明するために、フィルムを押出し法により調製する。上記押出し法において、層１０２の材料、層１０４の材料及び所望による層１０６の材料を個別に溶融させ、そして別個に供給するか、又は一緒に溶融させ、共押出しフィードブロック及びダイヘッドに供給する（層１０２，層１０４及び所望による層１０６を含むフィルムが生成する）。例示的なダイは、「コートハンガー」型形態を用いる。例示的な線状のコートハンガーダイヘッドは、Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ Ｄｉｅｓ，Ｉｎｃ．（コネチカット）又はＣｌｏｅｒｅｎ Ｄｉｅ Ｃｏｒｐ．（テキサス）から市販されている。例示的な実施形態では、共押出しされた複層フィルムは、３０：１以下、例えば、２０：１以下の比において延伸される。あるいは、上記押出しされる層を、０．１ＭＰａ〜８０ＭＰａの範囲の圧力で共にプレスすることができる。
【００４０】
一度上記フィルムを形成させたら、放射線架橋をすぐに実施し、そして上記フィルムを巻きとることができる。あるいは、上記フィルムを、未架橋の状態で巻き、後に巻出し、そして放射線架橋にさらすことができる。
【００４１】
上記放射線は、層１０４の架橋性ポリマーに架橋を作り出すために効果的であることができる。層１０４内のポリマー分子の層間架橋により、硬化した組成物が提供され、そして複層フィルム１００の層１０４に構造強度が付与される。さらに、放射線架橋は、フルオロポリマーから構成される最外層１０２とコア層１０４との間の結合を、例えば、中間層架橋により実施することができる。特定の実施形態では、高い耐剥離性を有する一体化された複合体をもたらす硬化されたコア層及び上記層の間の層間架橋結合の組み合わせは、高い耐付着性及び保護表面を有し、最少量の耐付着性材料を導入し、そしてさらに複層フィルム１００の好適な取扱い及び配置のために物理的価値を有する。特定の実施形態では、少なくとも約５、例えば、少なくとも約１０の厚さ比を有するフィルムは、より少ない硬化及び架橋を有する効果的な中間層結合を形成する。
【００４２】
さらに、少なくとも約５、例えば、少なくとも約１０の厚さ比を有する複層フィルムは、より低い絶対剥離強度でさえも、層間剥離に対する剥離性を有する。上記複層フィルムは、例えば、標準的な「Ｔ」−Ｐｅｅｌ状態において室温で試験した場合には、少なくとも約５ｇｍ／ｃｍの幅の剥離強度を示すことができる。特に、厚さ１ミル未満のより薄いフィルムは、少なくとも約５ｇｍ／ｃｍ、例えば、少なくとも約１０ｇｍ／ｃｍ、又は少なくとも約２０ｇｍ／ｃｍの剥離強度を有することができる。別の例では、上記複層フィルムの剥離強度は、少なくとも約３０ｇｍ／ｃｍ、例えば、少なくとも約４０ｇｍ／ｃｍ、少なくとも約４５ｇｍ／ｃｍ、又はさらに少なくとも約５０ｇｍ／ｃｍであることができる。特に、より厚いフィルム、又は広い温度範囲にわたり粘着テープと共に用いられるフィルムは、少なくとも約３０ｇｍ／ｃｍの剥離強度を有することができる。
【００４３】
特定の実施形態では、上記放射線は、１７０ｎｍ〜４００ｎｍ、例えば、約１７０ｎｍ〜２２０ｎｍの波長を有する紫外線であることができる。少なくとも約１２０Ｊ／ｃｍ2の放射線を用いて架橋を実施することができる。
一度形成され、そして硬化されると、上記複層ポリマーフィルムは、望ましい機械的性質を示すことができる。例えば、上記複層ポリマーフィルムは、ＡＳＴＭ Ｄ８８２−０２試験法に基づいて、少なくとも約１２ＭＰａの抗張力を有することができる。例えば、上記複層フィルムは、少なくとも約１５ＭＰａ、例えば、少なくとも約２０ＭＰａの抗張力を有することができる。
【００４４】
別の例示的な実施形態では、上記複層フィルムは、ＡＳＴＭ Ｄ８８２−０２試験法に基づいて、最大所望の抗張力における伸び率を示す。例えば、上記複層フィルムは、少なくとも約１４５％、例えば、少なくとも約１７０％、又は少なくとも約２００％の最大抗張力における、伸び率を示すことができる。
【００４５】
複層フィルムの特定の実施形態は、架橋性及び中間層結合を維持しながら、改良された機械的性質を有利に示す。例えば、複層フィルムの実施形態は、間にある接着層を用いることなく、フルオロポリマーの最外層及びコア層との間の結合並びにコア層内の内部架橋を示すことができる。さらに、上記複層フィルムの実施形態は、低い放射線暴露において、又はより低い剥離強度とともに、有効な界面結合を示すことができる。さらに、実施形態は、望ましい摩擦係数を予想外に示すことができる。
【実施例】
【００４６】
例１
ブレンド化の検討のために、５種のポリマーを選択した。特に、ＥＰＤＭと５種の市販のポリオレフィンのうちの１種とを含むブレンドを生成させた。上記市販のポリオレフィンは、Ｅｑｕｉｓｔａｒ ８５４０，エチレンオクテンコポリマー；Ｅｑｕｉｓｔａｒ ＧＡ−５０２−０２４，ＬＬＤＰＥ；Ｄｏｗ ＤＭＤＡ−８９０４ＮＴ７，ＨＤＰＥ；Ｂａｓｅｌｌ Ｐｒｏ−Ｆａｘ，ＳＲ２７５Ｍ，ランダムポリプロピレンコポリマー；及びＤｏｗ ７Ｃ５０，ブロックＰＰコポリマーである。選択されたＥＰＤＭのグレードは、Ｄｕｐｏｎｔ−Ｄｏｗから入手できる、Ｎｏｒｄｅｌ ４７２５である。ＥＰＤＭ及び少なくとも１種のポリオレフィンを含むブレンドは、Ｄａｉｋｉｎ ＮＰ−１２ＸＦＥＰから形成された最外層を含む複層フィルムのコア層又は中間層として含まれる。当該複層フィルムを共押出しし、そして紫外線放射に暴露し、当該コア層のブレンドを硬化させた。
【００４７】
上記複層フィルムを、厚さ１ミルに共押出し、そしてＦｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｍｏｄｅｌ ＶＰＳ−６システムに包含されるＨ＋バルブによって発生させた紫外線に暴露した。当該試料を、総照射線量１２９Ｊ／ｃｍ2の紫外線に複数回通して暴露させた。上記ブレンドは、光開始剤を含まなかった。
【００４８】
上記ブレンドの相溶性を評価するために、動的機械分析（ＤＭＡ）を用いた。ＤＭＡスキャンのタンデルタピークにより、総合的なブレンドに関するガラス転移温度（Ｔｇ）が提供された。相溶系において、Ｔｇは、２成分ブレンドにおける各成分の相対量に従って動く。すなわち、上記ブレンドに関するＴｇは、上記２成分のガラス転移温度に関する中間値を有し、そしてＴｇ値は、成分の相対量の関係に従って変化する。あるいは、不相溶なブレンドは、少なくとも２種の異なる材料としてふるまい、そして少なくとも２つのタンデルタピークがＤＭＡスキャンに現れる。上述の試料における各ブレンドは、成分ポリマーのガラス転移温度の間に、１つのタンデルタピークを示した。
【００４９】
例２
機械的性質、例えば、試料の抗張力及び最大の抗張力における伸び率（％）を試験した。手順は、ＡＳＴＭ Ｄ８８２−０２に従った。５ｋＮロードセルと共に、２０インチ／分のクロスヘッド速度を用いた。試験前に、上記試料を１２時間、２３℃及び５０相対湿度（ＲＨ）の条件においた。
【００５０】
【表１】
【００５１】
コア層として、１００％Ｎｏｒｄｅｌ ４７２５ ＥＰＤＭを含む比較試料は、１２．５ＭＰａの抗張力を有した。表１において具体的に説明したように、上記各試料は、少なくとも約１２ＭＰａの抗張力を示した。中間又はコア層にブレンドを含む試料の多くは、少なくとも約１５ＭＰａの抗張力を示し、そして特定の試料は、２０ＭＰａを超える抗張力を示した。一般に、コア層のブレンドにポリオレフィンを添加すると、上記コア層内に１００％Ｎｏｒｄｅｌ ４７２５ ＥＰＤＭを含む試料と比較して、上記試料の抗張力が増加した。特定の試料、例えば、直鎖の低密度ポリエチレンブレンドを含むブレンドを含む試料及びエチレンオクテンコポリマーを含むブレンドを含む試料は、約１０％のところにピーク抗張力を示した。他の試料、例えば、高密度ポリエチレンを含むブレンドを含む試料及びポリプロピレンブロックコポリマーを含むブレンドを含む試料は、３０％の量で高い抗張力を示した。
【００５２】
最大抗張力における伸び率（％）をまた評価した。コア層として、１００％Ｎｏｒｄｅｌ ４７２５ ＥＰＤＭを含む比較試料は、１４９％の最大抗張力における伸び率を有した。表２は、上述の試料に関する伸び率（％）を含む。各試料は、少なくとも約１４７％の最大抗張力における伸び率を示した。エチレンオクテンコポリマーブレンドを含む試料は、１０〜２０％エチレンオクテンコポリマーの組成のところにピーク伸び率（％）を示した。他の試料、例えば、ＬＬＤＰブレンドを含む試料及びポリプロピレンランダムコポリマーブレンドを含む試料は、３０％のところで高い伸び率（％）を示した。
【００５３】
【表２】
【００５４】
例３
Ａ：Ｂ：Ａの形態を有する３層フィルム（ここで、Ａ及びＢは、異なる材料から形成される層を表す）を押出した。層Ａは、約２０５℃の融点を有するＤａｉｋｉｎ ＮＰ−１２Ｘ ＦＥＰ３から形成されていた。層Ｂは、約１１５℃の融点を有するＤｕｐｏｎｔ Ｄｏｗから入手できる、ＥＰＤＭ Ｎｏｒｄｅｌ１２４８から形成されていた。共押出しの前に、６０℃において、約８時間、上記材料を事前乾燥した。層Ａの材料を押出しするエクストルーダーの範囲は、２４０℃、２８０℃、２８５℃及び２８５℃にセットした。上記層Ｂの材料を押出しするエクストルーダーの範囲は、１８３℃、２２０℃、２６０℃及び２６６℃にセットした。層Ｂの材料を、２００−メッシュスクリーンにより処理した。フィードブロックを、２８５℃にセットし、ダイを２８７℃にセットし、そしてキャストドラムを、７５℃にセットした。清浄な装置上で、層Ａの材料のエクストルーダーが、ＦＥＰでダイを満たし始めた。一度上記ダイがＦＥＰで満たされたら、層Ｂの材料のエクストルーダーを導入した。
【００５５】
上記フィルムの第１の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約１２％：７７％：１１％の体積比を有していた。総フィルム厚は、３３．６μｍであった。層Ａは、それぞれ約４μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約２５．６μｍの厚さを有していた。厚さ比は、６．４であった。
【００５６】
上記フィルムの第２の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ１２％：７８％：１０％の体積比を有していた。総フィルム厚は、３０．２μｍであった。層Ａは、それぞれ約３．５μｍ及び約３．３μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約２３．４μｍの厚さを有していた。厚さ比は、７．１であった。
【００５７】
上記フィルムの第３の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約７％：８６％：７％の体積比を有していた。総フィルム厚は、３０．７μｍであった。層Ａは、それぞれ約２．０μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約２６．７μｍの厚さを有していた。厚さ比は、１３．３であった。
【００５８】
例４
例３の方法に従って、Ａ：Ｂ：Ａの形態を有する３層フィルムを形成させた。ここで、層Ａは、Ｄａｉｋｉｎ ＮＰ−１２Ｘ ＦＥＰを含み、そして層Ｂは、Ｄｕｐｏｎｔ Ｄｏｗによる、Ｎｏｒｄｅｌ４９２０ ＥＰＤＭを含んでいた。
【００５９】
２つの層Ａの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、２８８℃、２９９℃、３２１℃、３１８℃及び３１８℃にセットした。層Ｂの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、１６０℃、１８８℃、２０４℃、２１５℃、２１５℃及び２１５℃にセットした。層Ｂの材料を、２００−メッシュスクリーンにより処理した。フィードブロックを、２８８℃にセットし、ダイを２９０℃にセットし、そしてキャストドラムを１２１℃にセットし、その一方で、第２の冷却ロールを７４℃にセットした。清浄な装置上で、層Ａの材料のエクストルーダーが、ＦＥＰでダイを満たし始めた。一度、上記ダイがＦＥＰで満たされたら、層Ｂの材料のエクストルーダーを導入した。エクストルーダーの回転速度を、所望のスキン及びコア層厚さを与えるように調整した。
【００６０】
上記フィルムの試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約５％：９０％：５％の体積比を有していた。総フィルム厚は、１０５．６μｍであった。層Ａは、それぞれ約５．５μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約９４．６μｍの厚さを有していた。厚さ比は、１７．２であった。１５インチ／分において、Ｈ＋６００ｗ／ｉｎバルブから紫外線に暴露させた後、当該試料は、４５ｇ／ｉｎの剥離強度を示した。
【００６１】
例５
例３の方法に従って、Ａ：Ｂ：Ａの形態を有する３層フィルムを形成させた。ここで、層Ａは、Ｄａｉｋｉｎ ＮＰ−１２Ｘ ＦＥＰを含み、そして層Ｂは、Ｄｕｐｏｎｔ Ｄｏｗによる、Ｎｏｒｄｅｌ４８２０ ＥＰＤＭを含んでいた。
【００６２】
２つの層Ａの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、２８８℃、２９８℃、３２１℃、３１８℃及び３１８℃にセットした。層Ｂの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、１６０℃、１８８℃、２０４℃、２１５℃、２１５℃及び２１５℃にセットした。層Ｂの材料を、２００−メッシュスクリーンにより処理した。フィードブロックを、２９３℃にセットし、ダイを、２９０℃にセットし、そしてキャストドラムを９３℃にセットし、その一方で、第２の冷却ロールを７４℃にセットした。清浄な装置上で、層Ａの材料のエクストルーダーが、ＦＥＰでダイを満たし始めた。一度、上記ダイがＦＥＰで満たされたら、層Ｂの材料のエクストルーダーを導入した。エクストルーダーの回転速度を、所望のスキン及びコア層厚さを与えるように調整した。
【００６３】
上記フィルムの第１の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約４％：９２％：４％の体積比を有していた。総フィルム厚は、５１．０μｍであった。層Ａは、それぞれ約５．０μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約１１０．０μｍの厚さを有していた。厚さ比は、２４．０であった。
【００６４】
上記フィルムの第２の試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約２％：９６％：２％の体積比を有していた。総フィルム厚は、１２０μｍであった。層Ａは、それぞれ約２．５μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約１１５μｍの厚さを有していた。厚さ比は、４６であった。
【００６５】
例６
例３の方法に従って、Ａ：Ｂ：Ａの形態を有する３層フィルムを形成させた。ここで、層Ａは、Ｄａｉｋｉｎ ＮＰ−１２Ｘ ＦＥＰを含み、そして層Ｂは、Ｄｕｐｏｎｔ Ｄｏｗによる、Ｎｏｒｄｅｌ４８２０ ＥＰＤＭを含んでいた。
【００６６】
２つの層Ａの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、２６０℃、２９９℃、３２１℃、３２１℃及び３１５℃にセットした。層Ｂの材料を押出しするエクストルーダーの範囲を、１００℃、１３０℃、１７０℃、２００℃、２１５℃及び２１５℃にセットした。層Ｂの材料を、２００−メッシュスクリーンにより処理した。フィードブロックを、２８０℃にセットし、ダイを２８０℃にセットし、そしてキャストドラムを１３５℃にセットし、その一方で、第２の冷却ロールを７９℃にセットした。清浄な装置上で、層Ａの材料のエクストルーダーが、ＦＥＰでダイを満たし始めた。一度、上記ダイがＦＥＰで満たされたら、層Ｂの材料のエクストルーダーを導入した。エクストルーダーの回転速度を、所望のスキン及びコア層厚さを与えるように調整した。上記装置は、６０インチ幅を超えるウェブを製造する、フルスケールの複層製造ラインであった。
【００６７】
上記フィルムの試料は、層Ａ：Ｂ：Ａに関して、それぞれ約４％：９２％：４％の体積比を有していた。総フィルム厚は、５４μｍであった。層Ａは、それぞれ約１．２５μｍの厚さを有し、そして層Ｂは、約５１．５μｍの厚さを有していた。厚さ比は、４１．２であった。スキン層は、厚みが薄い場合であっても、途切れのないことは明確であった。６０インチ幅のウェブ全体にわたる精密な検査の下、ＥＰＤＭが暴露されるべきどちらのＦＥＰスキン表面にも、ギャップ又はラインが観察されなかった。従って、上記材料は、剥離フィルムとして機能性を有することは明らかである。上記極めて良好な厚さのスキン層を、製造スケールの装置内で実施することができることは驚くべきことである。
【００６８】
上述の主題は、具体例であるとみなされるべきであり、そして限定的なものではなく、そして添付の特許請求の範囲は、本発明の真の範囲内である全ての改良、強化及び他の実施形態を覆うことを目的とする。従って、法律により許容される最大範囲まで、本発明の範囲は、次の特許請求の範囲及びそれらの均等物の最大の許容される解釈により決定され、そして上述の詳細な説明により、制限又は限定されるべきではない。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
添付の図面を参照することにより、本開示を、より良好に理解することができ、そして非常に多くの特徴及び優位性が、当業者に明白となる。
【図１】図１は、例示的な複層フィルムの具体的な説明を含む。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性エラストマーを含む第１の層；
前記第１の層と直接結合し且つ直接接している第２の層、当該第２の層は、フルオロポリマーを含み且つ５．０μｍ未満の厚さを有する：
を含む複層フィルムであって、
前記複層フィルムが、少なくとも約５の厚さ比を有し、当該厚さ比は、前記第１の層の厚さの、前記第２の層に対する比であり：そして
前記複層フィルムが、概して、複数の平行且つ平面の対向する主要な表面を有する、
前記複層フィルム。
【請求項２】
前記厚さ比が、少なくとも約１０である、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項３】
前記厚さ比が、少なくとも約２０である、請求項２に記載の複層フィルム。
【請求項４】
前記厚さ比が、少なくとも約１００である、請求項３に記載の複層フィルム。
【請求項５】
前記第２の層の厚さが、約４．５μｍ以下である、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項６】
前記第２の層の厚さが、約３．５μｍ以下である、請求項５に記載の複層フィルム。
【請求項７】
前記第２の層の厚さが、約２．５μｍ以下である、請求項６に記載の複層フィルム。
【請求項８】
前記第２の層の厚さが、約１．３μｍ以下である、請求項７に記載の複層フィルム。
【請求項９】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約１２．０μｍである、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項１０】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約２５．０μｍである、請求項９に記載の複層フィルム。
【請求項１１】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約２００．０μｍである、請求項１０に記載の複層フィルム。
【請求項１２】
前記複層フィルムが、少なくとも約２５．０μｍの総フィルム厚を有する、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項１３】
前記総フィルム厚が、少なくとも約１００μｍである、請求項１２に記載の複層フィルム。
【請求項１４】
前記総フィルム厚が、少なくとも約２００μｍである、請求項１３に記載の複層フィルム。
【請求項１５】
前記複層フィルムが、少なくとも約５ｇ／ｃｍの、前記第１の層と第２の層との間の剥離強度を示す、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項１６】
前記複層フィルムが、少なくとも約３０ｇ／ｃｍの、前記第１の層と第２の層との間の剥離強度を示す、請求項１５に記載の複層フィルム。
【請求項１７】
前記複層フィルムが、少なくとも約４５ｇ／ｃｍの、前記第１の層と第２の層との間の剥離強度を示す、請求項１６に記載の複層フィルム。
【請求項１８】
前記硬化性エラストマーが、ジエンエラストマーを含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項１９】
前記ジエンエラストマーが、エチレンプロピレンジエンエラストマー（ＥＰＤＭ）を含む、請求項１８に記載の複層フィルム。
【請求項２０】
前記硬化性エラストマーが、ジエンエラストマーとポリオレフィンとのブレンドを含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２１】
前記フルオロポリマーが、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロプロピルビニルエーテルとのコポリマー（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロメチルビニルエーテルとのコポリマー（ＭＦＡ）、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）、エチレンクロロトリフルオロエチレンコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオリド（ＰＶＤＦ）及びテトラフルオロエチレンヘキサフルオロプロピレンビニリデンフルオリドターポリマー（ＴＨＶ）から成る群から選択される、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２２】
前記フルオロポリマーが、パーフルオロ化ポリオレフィンを含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２３】
前記フルオロポリマーが、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）を含む、請求項２２に記載の複層フィルム。
【請求項２４】
前記硬化性エラストマーが、化学線による硬化性を有する、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２５】
前記化学線が、紫外線を含む、請求項２４に記載の複層フィルム。
【請求項２６】
前記第１の層が、開始剤を含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２７】
前記開始剤が、光開始剤である、請求項２６に記載の複層フィルム。
【請求項２８】
前記第２の層と対向する主要な表面上に、前記第１の層と直接結合し且つ直接接しているフルオロポリマーを含む第３の層をさらに含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２９】
ジエンエラストマーを含む第１の層、当該第１の層は、第１及び第２の対向する主要な表面を有する；
前記第１の層の第１の主要な表面と直接結合し且つ直接接している第２の層、当該第２の層は、フルオロポリマーを含み、ここで、前記第１の層の厚さの、前記第２の層の厚さに対する厚さ比が、少なくとも約５である；及び
前記第１の層の第２の主要な表面と直接結合し且つ直接接している第３の層、当該第３の層は、フルオロポリマーを含む：
を含む複層フィルム。
【請求項３０】
前記厚さ比が、少なくとも約１０である、請求項２９に記載の複層フィルム。
【請求項３１】
前記厚さ比が、少なくとも約２０である、請求項３０に記載の複層フィルム。
【請求項３２】
前記厚さ比が、少なくとも約１００である、請求項３２に記載の複層フィルム。
【請求項３３】
前記第２の層の厚さが、約４．５μｍ以上である、請求項２９に記載の複層フィルム。
【請求項３４】
前記第２の層の厚さが、約３．５μｍ以上である、請求項３３に記載の複層フィルム。
【請求項３５】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約１２．０μｍである、請求項２９に記載の複層フィルム。
【請求項３６】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約２５．０μｍである、請求項３５に記載の複層フィルム。
【請求項３７】
前記フルオロポリマーが、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、トラフルオロエチレンとパーフルオロプロピルビニルエーテルとのコポリマー（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロメチルビニルエーテルとのコポリマー（ＭＦＡ）、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）、エチレンクロロトリフルオロエチレンコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオリド（ＰＶＤＦ）及びテトラフルオロエチレンヘキサフルオロプロピレンビニリデンフルオリドターポリマー（ＴＨＶ）から成る群から選択される、請求項２９に記載の複層フィルム。
【請求項３８】
複層フィルムを形成する方法であって、
次の段階；
硬化性エラストマーを含む第１の層を押出す段階；
未硬化の複層フィルムを形成するために、前記第１の層と接触させて第２の層を押出す段階、当該第２の層はフルオロポリマーを含み、前記第１の層の厚さの、前記第２の層の厚さに対する厚さ比が、少なくとも約５である；そして
前記未硬化の複層フィルムを硬化させる段階：
を含む方法。
【請求項３９】
前記未硬化の複層フィルムを、３０：１以下の延伸比まで延伸することをさらに含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記未硬化の複層フィルムを硬化させる段階が、前記未硬化の複層フィルムを照射することを含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
前記未硬化の複層フィルムを照射することが、紫外線を用いて照射することを含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記厚さ比が、少なくとも約１０である、請求項３８に記載の方法。
【請求項４３】
前記厚さ比が、少なくとも約２０である、請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記厚さ比が、少なくとも約１００である、請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記複層フィルムを硬化させる段階が、前記複層フィルムを、少なくとも一面から紫外線に暴露させることを含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４６】
前記複層フィルムを硬化させる段階が、前記複層フィルムを、二面から紫外線に暴露させることを含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４７】
前記複層フィルムを紫外線に暴露し、ＥＰＤＭ層を所望の架橋密度の水準まで架橋させる、請求項３８に記載の方法。
【請求項４８】
硬化した複層フィルムが、少なくとも２つの接している層の間に、少なくとも１０ｇｍ／ｃｍの中間層剥離強度を有する、請求項３８に記載の方法。
【請求項４９】
前記硬化した複層フィルムが、少なくとも４５ｇｍ／ｃｍの中間層剥離強度を有する、請求項４８に記載の方法。
【請求項１】
硬化性エラストマーを含む第１の層；
前記第１の層と直接結合し且つ直接接している第２の層、当該第２の層は、フルオロポリマーを含み且つ５．０μｍ未満の厚さを有する：
を含む複層フィルムであって、
前記複層フィルムが、少なくとも約５の厚さ比を有し、当該厚さ比は、前記第１の層の厚さの、前記第２の層に対する比であり：そして
前記複層フィルムが、概して、複数の平行且つ平面の対向する主要な表面を有する、
前記複層フィルム。
【請求項２】
前記厚さ比が、少なくとも約１０である、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項３】
前記厚さ比が、少なくとも約２０である、請求項２に記載の複層フィルム。
【請求項４】
前記厚さ比が、少なくとも約１００である、請求項３に記載の複層フィルム。
【請求項５】
前記第２の層の厚さが、約４．５μｍ以下である、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項６】
前記第２の層の厚さが、約３．５μｍ以下である、請求項５に記載の複層フィルム。
【請求項７】
前記第２の層の厚さが、約２．５μｍ以下である、請求項６に記載の複層フィルム。
【請求項８】
前記第２の層の厚さが、約１．３μｍ以下である、請求項７に記載の複層フィルム。
【請求項９】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約１２．０μｍである、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項１０】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約２５．０μｍである、請求項９に記載の複層フィルム。
【請求項１１】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約２００．０μｍである、請求項１０に記載の複層フィルム。
【請求項１２】
前記複層フィルムが、少なくとも約２５．０μｍの総フィルム厚を有する、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項１３】
前記総フィルム厚が、少なくとも約１００μｍである、請求項１２に記載の複層フィルム。
【請求項１４】
前記総フィルム厚が、少なくとも約２００μｍである、請求項１３に記載の複層フィルム。
【請求項１５】
前記複層フィルムが、少なくとも約５ｇ／ｃｍの、前記第１の層と第２の層との間の剥離強度を示す、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項１６】
前記複層フィルムが、少なくとも約３０ｇ／ｃｍの、前記第１の層と第２の層との間の剥離強度を示す、請求項１５に記載の複層フィルム。
【請求項１７】
前記複層フィルムが、少なくとも約４５ｇ／ｃｍの、前記第１の層と第２の層との間の剥離強度を示す、請求項１６に記載の複層フィルム。
【請求項１８】
前記硬化性エラストマーが、ジエンエラストマーを含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項１９】
前記ジエンエラストマーが、エチレンプロピレンジエンエラストマー（ＥＰＤＭ）を含む、請求項１８に記載の複層フィルム。
【請求項２０】
前記硬化性エラストマーが、ジエンエラストマーとポリオレフィンとのブレンドを含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２１】
前記フルオロポリマーが、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロプロピルビニルエーテルとのコポリマー（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロメチルビニルエーテルとのコポリマー（ＭＦＡ）、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）、エチレンクロロトリフルオロエチレンコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオリド（ＰＶＤＦ）及びテトラフルオロエチレンヘキサフルオロプロピレンビニリデンフルオリドターポリマー（ＴＨＶ）から成る群から選択される、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２２】
前記フルオロポリマーが、パーフルオロ化ポリオレフィンを含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２３】
前記フルオロポリマーが、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）を含む、請求項２２に記載の複層フィルム。
【請求項２４】
前記硬化性エラストマーが、化学線による硬化性を有する、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２５】
前記化学線が、紫外線を含む、請求項２４に記載の複層フィルム。
【請求項２６】
前記第１の層が、開始剤を含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２７】
前記開始剤が、光開始剤である、請求項２６に記載の複層フィルム。
【請求項２８】
前記第２の層と対向する主要な表面上に、前記第１の層と直接結合し且つ直接接しているフルオロポリマーを含む第３の層をさらに含む、請求項１に記載の複層フィルム。
【請求項２９】
ジエンエラストマーを含む第１の層、当該第１の層は、第１及び第２の対向する主要な表面を有する；
前記第１の層の第１の主要な表面と直接結合し且つ直接接している第２の層、当該第２の層は、フルオロポリマーを含み、ここで、前記第１の層の厚さの、前記第２の層の厚さに対する厚さ比が、少なくとも約５である；及び
前記第１の層の第２の主要な表面と直接結合し且つ直接接している第３の層、当該第３の層は、フルオロポリマーを含む：
を含む複層フィルム。
【請求項３０】
前記厚さ比が、少なくとも約１０である、請求項２９に記載の複層フィルム。
【請求項３１】
前記厚さ比が、少なくとも約２０である、請求項３０に記載の複層フィルム。
【請求項３２】
前記厚さ比が、少なくとも約１００である、請求項３２に記載の複層フィルム。
【請求項３３】
前記第２の層の厚さが、約４．５μｍ以上である、請求項２９に記載の複層フィルム。
【請求項３４】
前記第２の層の厚さが、約３．５μｍ以上である、請求項３３に記載の複層フィルム。
【請求項３５】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約１２．０μｍである、請求項２９に記載の複層フィルム。
【請求項３６】
前記第１の層の厚さが、少なくとも約２５．０μｍである、請求項３５に記載の複層フィルム。
【請求項３７】
前記フルオロポリマーが、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、トラフルオロエチレンとパーフルオロプロピルビニルエーテルとのコポリマー（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロメチルビニルエーテルとのコポリマー（ＭＦＡ）、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）、エチレンクロロトリフルオロエチレンコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオリド（ＰＶＤＦ）及びテトラフルオロエチレンヘキサフルオロプロピレンビニリデンフルオリドターポリマー（ＴＨＶ）から成る群から選択される、請求項２９に記載の複層フィルム。
【請求項３８】
複層フィルムを形成する方法であって、
次の段階；
硬化性エラストマーを含む第１の層を押出す段階；
未硬化の複層フィルムを形成するために、前記第１の層と接触させて第２の層を押出す段階、当該第２の層はフルオロポリマーを含み、前記第１の層の厚さの、前記第２の層の厚さに対する厚さ比が、少なくとも約５である；そして
前記未硬化の複層フィルムを硬化させる段階：
を含む方法。
【請求項３９】
前記未硬化の複層フィルムを、３０：１以下の延伸比まで延伸することをさらに含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記未硬化の複層フィルムを硬化させる段階が、前記未硬化の複層フィルムを照射することを含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
前記未硬化の複層フィルムを照射することが、紫外線を用いて照射することを含む、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記厚さ比が、少なくとも約１０である、請求項３８に記載の方法。
【請求項４３】
前記厚さ比が、少なくとも約２０である、請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記厚さ比が、少なくとも約１００である、請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記複層フィルムを硬化させる段階が、前記複層フィルムを、少なくとも一面から紫外線に暴露させることを含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４６】
前記複層フィルムを硬化させる段階が、前記複層フィルムを、二面から紫外線に暴露させることを含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４７】
前記複層フィルムを紫外線に暴露し、ＥＰＤＭ層を所望の架橋密度の水準まで架橋させる、請求項３８に記載の方法。
【請求項４８】
硬化した複層フィルムが、少なくとも２つの接している層の間に、少なくとも１０ｇｍ／ｃｍの中間層剥離強度を有する、請求項３８に記載の方法。
【請求項４９】
前記硬化した複層フィルムが、少なくとも４５ｇｍ／ｃｍの中間層剥離強度を有する、請求項４８に記載の方法。
【図１】
【公表番号】特表２００９−５２８１９４（Ｐ２００９−５２８１９４Ａ）
【公表日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５５７３１６（Ｐ２００８−５５７３１６）
【出願日】平成１９年２月２３日（２００７．２．２３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００７／００４８５１
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１００７３２
【国際公開日】平成１９年９月７日（２００７．９．７）
【出願人】（５００１４９２２３）サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション (64)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月２３日（２００７．２．２３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００７／００４８５１
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１００７３２
【国際公開日】平成１９年９月７日（２００７．９．７）
【出願人】（５００１４９２２３）サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション (64)
【Ｆターム（参考）】
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