記録媒体
【課題】基板上に堆積されたガーネットフェライト層の高温アニーリング時の熱応力によるクラック発生を抑えること
【解決手段】ガーネットフェライト層の基板上への堆積後に、フォトリソグラフィー法等により適切な大きさの単位要素からなるパターンを形成する。高温のアニーリング後の熱応力によるクラックのない優れた垂直異方性を持つ記録層が得られる。
【解決手段】ガーネットフェライト層の基板上への堆積後に、フォトリソグラフィー法等により適切な大きさの単位要素からなるパターンを形成する。高温のアニーリング後の熱応力によるクラックのない優れた垂直異方性を持つ記録層が得られる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光磁気(MO)記録媒体、ライトワンス(write once: WORM)及び読み出し専用(ROM)光学記録媒体等の記録媒体に関する。本発明は、特に、結晶化処理の間に見られる熱応力によるクラックの発生を抑えるために記録層を複数の単位要素の集合体とした記録媒体に関する。
【背景技術】
【0002】
ROM媒体ではビット情報(データ)は媒体製造段階でディスク内にマークとして永久的に埋め込まれる。WORMではデータが一度書込まれるとそれは消すことができない。この場合、ROMとは異なり書込み操作はユーザーによって行われる。ビット情報は反射率の変化により検知される。
【0003】
WORM及びROM媒体は、共に、その構成材料として各種の有機・無機物質が使われ(WORM及び/又はROM用の染料や金属)ているが、これらは光、特に波長の短い光の照射に対して非常に敏感である。そこで媒体に求められている寿命を確保する上でこれらの物質には保護層が必要である。
【0004】
一方、市場に出されている従来の光磁気(MO)記録媒体では記録層は主に薄い金属薄膜からなる。データは光ビームを使って記録層上の微細なスポットの透過率または反射率などの光学特性を変えながらビット情報として記録層に記録される。通常、金属薄膜の材料としては、TbFeCo等のような希土類金属の非結晶性合金が使われる。この合金は一般的に高い吸収係数(>105cm−1)を持つのでデータの記録に好ましい材料である。しかし、このような合金で作られた薄膜は酸化その他の要因により劣化しやすい傾向を持つ。そこで、やはり、プラスチック層などを使って密封し保護する必要がある。
【0005】
ところで、ガーネットフェライト、すなわちガーネット型の結晶構造を有するフェライトを使用した記録媒体は、上述したようなMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体に比べると酸化やその他のエージング現象に対して非常に優れた安定性を示す。また、特に青のスペクトル域において非常に興味深い磁気特性(保磁力が高い)と光磁気特性(ファラデー回転が大きい)を示す。さらに、ガーネットフェライトは青のスペクトル域で吸収率が高いのでライトワンス記録が可能となる。また、結晶性、非結晶性どちらの場合でもガーネットフェライトの透過率は高いので透過式(transmissive)記憶システムに使うこともできる。
【0006】
現在、表面記録システムの分野では、記録媒体及びドライブシステムの両面から、短波長の光を用いて記録容量を高めるための開発が進められているが、こうしたシステムにおいては、光学法則により基板を通しての記録はもはや不可能であり、しかも、記録媒体表面と光学ヘッド間の距離はわずか数ナノメーターとなっている。したがって、このようなシステムでは記録媒体上に保護層を設けることはもはやできないので、耐食性に優れた材質の開発が必要となっている。一般的に酸化物は表面記録システムに適しているが、特に、ガーネットフェライトの場合は耐食性が高く保護層が不要となるので、高密度のMO媒体、WORM及びROM媒体用の材料として非常に有用と思われる(特開2000−76716号公報)。
【0007】
しかし、ガーネットフェライトを用いた記録媒体は製造面で次のような問題を有する。すなわち、ガーネットフェライトの特徴である高いファラデー回転と高い保磁力を確保するためには、ガーネットフェライト層は600℃以上の高温で結晶化されなければならない。ところで、このような高温で使われるのに適した特殊な基板、特にガラス基板は、通常、ガーネットフェライト層とは異なる膨張係数を有する。したがって、ガーネットフェライト層を備えた基板が600℃以上の高温から室温に冷却される間に機械応力がガーネットフェライト層と基板との間に生じる。そして、この応力は大きく、一方で、ガーネットフェライトの弾性は小さいので、クラックがガーネットフェライト層上に発生してしまう。このクラックの幅はガーネットフェライトの結晶粒程の大きさ、時にはそれより大きいものとなるので光学的に検知可能となってしまい、MO読み出しプロセスにおいて媒体ノイズが非常に大きくなる結果となる。このような理由により、MO記録媒体等の記録媒体への応用においてガーネットフェライトの優れた特性を利用することが難しくなっていた。
【0008】
ところで、スパッタリングされて基板上に形成されたガーネットフェライト層は通常非結晶性で、可視スペクトル全域の吸収率が比較的高いためその色は黒っぽい。しかし、600又は700℃以上の温度下での結晶化工程の後、層の色は茶色または黄色がかった色に変化する。スパッタリング後の層にハイパワー(約10mW)のレーザースポットを数ナノ秒当て加熱するとこうした色の変化が引き起こせる。このサーモライティングプロセスはWORM又はROM媒体等における消去できないビット記録に用いることができる。こうして記録されたものは、層上において書込みが行われた域とそれ以外の域間に光学吸収率の差が出るため後で光学的に検知可能となる。しかし、ビット書込み時にクラックが発生したり結晶化が適切にコントロールできないことがあるため、読み出し時のノイズは一般的に大きなものとなる。
【特許文献1】特開2000−76716号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
このように、ガーネットフェライトには興味深い光磁気特性や光学特性があるが、クラックの発生を防ぎまた結晶化プロセスの適切なコントロールを行なうことが不可欠であるために、それをMO、WORM及び/又はROM媒体に応用することは困難であった。
【0010】
クラックの発生を避け、ノイズレベルを下げるためにこれまで行われてきた試みとしては、非磁気結晶性ガーネットフェライト層上にビスマス置換ガーネットフェライト層を堆積させたもの(二重層構造ディスク)、或いは、ガラス基板上に複層のガーネットを堆積させたものがあった。その他の試みとしては、GGG基板などの結晶性ガーネットフェライトを使うもの、或いは、記録層に似た格子定数を持つ酸化物を使うものがある。なお、基板の熱膨張係数を記録層のそれに合せるという方法もある。しかしこれらの方法はどれも満足の行くCNRを達成できず、低コスト、量産化という目標も満足できない。
【0011】
本発明は、結晶性ガーネットフェライト層を記録層として用いるMO媒体または非結晶性ガーネットフェライト層を感度層として用いるWORM及びROM媒体において、該ガーネットフェライト層の結晶化プロセスにおけるクラック発生を防止することができる記録媒体を提供するものである。
【0012】
また、本発明の目的は、光磁気(MO)記録媒体、並びに、WORM及びROM媒体の両方について、ガーネットフェライト層を使う従来の記録方式で達成できるものより優れたS/N比、C/N比を持つ記録媒体を提供することである。
【0013】
さらに、本発明の他の目的は、高解像度、高記録密度、高S/N比及びC/N比を達成し、更に簡単にコントロールできる磁気特性を有するガーネットフェライト層を含んだ記録層を備えた新規且つ有用な記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0014】
本発明の目的は、基板上に記録層を備えた、MO、WORM及びROM媒体等の記録媒体において、当該記録層の結晶粒子または結晶子の大きさとほぼ等しい大きさの単位要素からなる非連続パターンを当該記録層に形成すること(アニーリングのある場合及びない場合の両方含めて)により達成される。
【0015】
すなわち、本発明の記録媒体は、基板、及び、データが記録される少なくとも1つの記録層を含む記録媒体であって、該記録層表面上に複数のガーネットフェライトの単位要素からなる非連続パターンが形成されており、且つ、該単位要素の大きさが該記録層の結晶粒子または結晶子の大きさとほぼ等しいことを特徴とする。ここで、「単位要素」なる用語は、記録層の構成単位となる微少な物体を指し、本発明ではガーネットフェライトからなる。また、「非連続パターン」なる用語は、前記「単位要素」の非連続配置によって形成される模様を指す。記録層は基板に隣接して設けることが好ましい。
【0016】
前記非連続パターンは互いに同一の表面形状を有する複数の単位要素から形成されてもよく、また、互いに異なる表面形状を有する複数の単位要素から形成されてもよい。「表面形状」なる用語は、ここでは、単位要素の複数の外形表面のうち、記録層の表面に現れる面の形状を指す。例えば、円柱状の単位要素を、その母線が記録層表面に対して垂直になるように配列した場合は、当該単位要素の「表面形状」は円形である。前記表面形状は、円形、楕円形、環形、ストライプ(帯状)、及び、三角形、正方形、長方形等の多角形から選択されることが好ましい。
【0017】
また、前記非連続パターンは、記録媒体の回転及び/又は移動方向に沿って、及び/又は、記録媒体の回転及び/又は移動方向と垂直な方向に沿って形成されていることができる。例えば、記録媒体が円形表面を有するディスク状の場合は、当該ディスクの円周方向及び/又は半径方向に沿って形成されることが好ましい。
【0018】
前記単位要素の表面形状の面積は、単位要素並びに基板の厚み及び熱膨張係数によって決定されることが好ましい。基板及び単位要素の厚みが一定の場合は、基板の熱膨張係数(αs)とガーネットフェライトからなる当該単位要素の熱膨張係数(αf)の差(Δα=αs−αf)が大きいほど、前記表面形状の面積を小さくすることが好ましい。例えば、300nmの厚みの記録層を構成する前記単位構成要素の当該記録層表面に現れる表面形状が方形の場合は、当該方形表面の面積は5×10μm2以下であることが好ましい。
【0019】
本発明の記録媒体では、前記基板が少なくとも1つの溝を有してもよい。そして、その場合は、前記溝内にのみ前記記録層を存在させることもできる。前記溝の幅は少なくとも一部が10μm以下であることが好ましい。一方、基板上に溝がない場合は、前記単位要素の記録層表面上に現れる表面形状の少なくとも一部の幅を10μm以下とすることが好ましい。なお、前記記録層の厚みは40〜1000nmの範囲内とすることが好ましい。
【0020】
本発明の記録媒体は、反射層及び/又は透明層を更に備えることができる。前記反射層及び/又は透明層は前記基板と前記記録層の間に位置してもよく、また、前記記録層が前記基板と前記反射層及び/又は透明層の間に位置するようにしてもよい。
【0021】
反射層及び透明層の両者を併用する場合は、基板上に、
反射層、記録層及び透明層の順で、
反射層、透明層及び記録層の順で、
記録層、透明層及び反射層の順で、又は、
透明層、記録層及び反射層の順でこれらの層を積層することができる。なお、本発明の記録媒体は、複数の記録層と、複数の反射層又は透明層とからなる積層体を備えてもよい。
【0022】
本発明の記録媒体は、上記のような、複数のガーネットフェライトの単位要素からなる非連続のパターンを有する記録層を基板上に形成後、500〜700℃、好ましくは600〜650℃で熱処理を行うことによって製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0023】
ガーネットフェライト層と基板との積層体を備えた記録媒体の場合、ガーネットフェライト層と基板の熱膨張係数が異なるため、ガーネットフェライト層を高温でアニーリング処理した後に、両者の間に機械応力が生じるが、本発明では、ガーネットフェライト層と基板との接触面積が低減するのでこの応力を小さくすることができる。実際には、記録層を構成するガーネットフェライトを分割して複数の単位要素とした上で不連続に配置することによって各単位要素の基板との接触面積を低減できる。
【0024】
この場合、具体的には、単位要素の基板との接触面の少なくとも1つの寸法を10μm以下、より好ましくは1μm以下とする方がよい。また、記録層厚、すなわちガーネットフェライトの単位要素の厚みが1μm以下の場合には、単位要素の基板との接触面の少なくとも1つの寸法を500nm以下とすることが好ましい。接触面の形状(記録層の単位要素の表面形状)は例えば正方形、長方形等の多角形、円形又は楕円形のドット又はピット、或いは、環形又はストライプとすることができる。これらの表面形状を有する単位要素の集合からなる非連続パターンの形状としては、直線状(帯状)、曲線状、凹凸状又は同心円状が挙げられる。これらの単位要素は、クラック発生の防止ばかりでなく、WORM媒体及びMO記録媒体の双方において、フォーマット情報を書き込むために使用することもできる。
【0025】
以下、本発明をMO媒体を例に挙げて説明する。まず、基板上への非結晶ガーネットフェライト層の形成方法について説明する。
【0026】
非結晶ガーネットフェライト層形成方法:
薄膜作成に通常用いられる方法(RF又はダイオードスパッタリング、化学蒸着、ゾル−ゲル法等)のいずれかを用いて「非結晶性ガーネットフェライト」膜を基板上に堆積させることができる。「非結晶性ガーネットフェライト」とは混合酸化物を意味し、これは約650℃のアニーリングにより純粋な結晶性ガーネットフェライトとなる。
【0027】
このような混合酸化物は例えばガーネットフェライトターゲットのRFスパッタリングにより得ることができる。膜の厚みは1μm以下、10nm以上であり、好ましくは、500nm以下、50nm以上である。
【0028】
基板は非結晶性又は結晶性のどちらでもよく、酸化物(SiO2、Al2O3、スピネルフェライト等)、金属(Al、Ti、Ni等)又はSiとすることができる。好ましくは、基板は、500℃以上でも安定な透明ガラス基板から選択される。
【0029】
本発明の記録層における非連続パターンは、具体的には、以下の複数の方法のいずれかでガーネットフェライト層に形成することができる。
【0030】
1番目の方法:
予め溝を形成しておいた(グルーブ付き)基板上に上記の方法によって非結晶性ガーネットフェライトを堆積し、アニーリングによってナノ単位の結晶から成るガーネットフェライト層とする。この場合、ガーネットフェライト膜を非連続性のものにするために、基板の溝の深さはガーネットフェライト膜厚より大きいものとする。溝の深さはガーネットフェライト膜の厚さより1.1から1.5倍大きくすることが好ましい。予め基板に形成される溝の高さをガーネットフェライト膜の厚みより高くしておけば、ガーネットフェライトのサイズが基板の溝によって制限されて、小さい単位要素となり、クラックの形成が回避される。また、この方法では媒体表面を無駄にすること無く高密度記録を実現可能である。
【0031】
アニーリングは従来のジュール効果炉又はランプ炉で行うことができる。ランプ炉ではプロセス時間がわずか数秒のフラッシュアニーリングが可能である。従来の炉を使うと30分から5時間、好ましくは2時間が必要である。垂直磁気異方性、高保磁力(>1500 Oe、好ましくは、>2000 Oe)、及び、高いファラデー回転(>2deg/μm、好ましくは、>10deg/μm)を備えた結晶性ガーネットフェライト層を得るためには、熱処理は500℃以上700℃以下、好ましくは600〜650℃、で行わなければならない。
【0032】
2番目の方法:
基板上に上記の方法によって非結晶性ガーネットフェライト膜を堆積した後に、古典的なフォトリソグラフィー法によって非結晶性ガーネットフェライト膜に溝を形成し、当該膜を単位要素に分割し、非連続パターンを形成する。フォトリソグラフィー法は以下の5つのステップに分けられる。
−ガーネットフェライト膜を光重合性(2P)ラッカーで被覆する。
−ディスクフォーマットの画像であるマスクを通して2Pラッカーを光照射するか、又は、マスタリングマシーンによって光照射する(量産にはマスクを使う照射の方が適切である)。
−2Pラッカーを化学的に除去する。つまり、2Pラッカーがポジ型であれば照射された部分が溶解除去され、2Pラッカーがネガ型であればマスクされた部分が溶解除去され、その部分のガーネットフェライト膜は未保護状態になる。
−適切な酸性溶液を使って前のステップで未保護状態なった部分からガーネットフェライト膜を化学的に溶解するか、またはイオンあるいは電子エッチングによりその部分のガーネットフェライト膜を除去する。
−残っている2Pラッカーを有機溶剤で除去する。
【0033】
こうして得られた非連続パターン状の非結晶性ガーネットフェライト膜は既述した方法のいずれかによってアニーリングされる。小さい結晶子(約10〜50nm)を持ち、強い垂直磁気異方性、高い保磁力、高いファラデー回転を有する結晶化ガーネットフェライト層が得られる。
【0034】
なお、ガーネットフェライト層自体にパターンが形成されると記録に利用できる表面積は媒体の総面積より小さくなる。また、パターン形成を上述のフォトリソグラフィー法により行った場合には、ガーネットフェライト層の平坦度はフォトリソグラフィー法で使われるエッチングプロセスにより改善される。
【0035】
3番目の方法:
ガーネットフェライト層に非連続パターンを作り出す方法として、上述した2つの方法の他に、既にパターンを有する基板上の他の層の表面にガーネットフェライト、すなわち記録層を堆積させる方法がある。MO媒体構造では、通常、MO信号を高めるための誘電層又は透明層、並びに反射層、或いは、透明層又は反射層からなる積層体等の他のいくつかの層が使用されているが、これらの全ての層がこの方法において使用可能である。なお、記録層は、積層体(透明層/ガーネットフェライト層、又は、ガーネットフェライト層/反射層)で構成されるか、またはガーネットフェライト層の結晶化プロセスを促進させるためにPCT/JP99/04674に提案されているスピネル層等の吸収層と共に構成されることができる。
【0036】
この方法では、非連続パターンは他の層のパターンを使ってガーネットフェライト層に間接的に形成される。他の層に非連続パターンを形成するために、予め溝が形成された基板を使うこともできる。この場合、ガーネットフェライト層を非連続性のものにするために、他の層の溝の深さはガーネットフェライト層厚より大きいものとすべきである。溝の深さをガーネットフェライト層の厚さより1.1から1.5倍大きくすることが好ましい。このようにすると媒体表面を無駄にすること無く高密度記録を実現できるようになる。
【0037】
本発明は以下のような利点を有する。すなわち、記録媒体上の記録層となるガーネットフェライト層のパターン次第で、1つの媒体で、読み出しのみが可能であるか、或いは、再書き込みも可能であるようなミックス媒体を実現することが可能である。さらに、記録層を構成する単位要素の他に、従来の光学記録のように、溝(以下、「グルーブ」と称することもある)と溝間の突条(以下、「ランド」と称することもある)を用いてサーボトラッキングを行うこともできる。
【0038】
本発明では、高いS/N、すなわち低ノイズは以下の作用・効果によって達成される。
−熱ストレスにより引き起こされる欠陥の発生が回避される。
−多結晶性ガーネットの境界効果(boundary effect)が低減する。
−孤立した記録域を使うことによってクロストーク(crosstalk)やジター(jitter)が低減する。
また、本発明では、ガーネットフェライト結晶の粒子サイズの単位要素からなる非連続パターンを使用することにより、高磁気及び光磁気特性を保持した状態で、あたかも「単結晶」のようなガーネットフェライトに記録を行うことができるので、S/N比を更に改善することができる。
【0039】
また、本発明では、ガーネットフェライトの高い化学安定性を利用しているので、記録層に保護層は不要である。従って、読み取りヘッドなどの光ピックアップ機構を記録層に非常に近付けることが可能となり、解像度と媒体容量が高められる。
【0040】
なお、パターン化されたガーネットフェライト層の上に薄い透明層を堆積させて有効ファラデー回転を向上させ、及び/又は、クラック形成の低減を助けることができる。従って、表面またはニアフィールド記録がまだ可能である一方で、記録層は記録媒体上のほこりや傷による影響を受けなくなる。この透明層は媒体の平坦度を改善するものともなる。反射層が基板と記録層の間にある構造でも同じような結果が得られる。この場合、反射層がたとえ金属タイプの材料で作られていても、該反射層のためのコーティング層などのような保護手段は必要でない。
【0041】
本発明では、トライボロジー(tribology)性能を高めるために、上述の層構造上に薄い炭素のような層または澗滑層(水素化炭素、パーフルオロカーボン)を堆積することができる。これは透過式記録モード、反射記録モードのどちらにおいても媒体の読み/書き性能に影響を与えることはない。
【0042】
次に、本発明のライトワンス(WORM)及びROM媒体への応用について言及する。
【0043】
非連続パターン化された非結晶性ガーネットフェライト層を有するライトワンス媒体も、あらかじめ溝が形成された基板又は当該基板上の他の層を用いて、或いは、MO媒体について既述したマスクを用いるフォトリソグラフィ法によって作製できる。この場合、溝の深さはガーネットフェライト層厚よりも大きくすることが好ましい。また、ROM媒体も、上述のパターン化MO媒体の製造の場合と同じように、フォトリソグラフィー法を用いて作製できる。これらの媒体にはアニーリングは不要である。これらの場合、ガーネットフェライト記録層は、WORM及びROMに通常使われる有機材料より高い安定性を提供する。
【0044】
WORMでは、情報はハイパワーのレーザービーム(約10mW)でビットを書込む部分を結晶化させる方法を使ってユーザーにより書込むことが可能である。記録層は微小な単位要素の非連続パターンとなっているので結晶化のコントロールがより適切に行なえるようになりクロストークやジターが防止できる。また、ROM読み出し及びWORMの書き込みプロセスの両方が、非連続パターンが形成されたガーネットフェライト層を使うと単一の媒体で実現可能となる。
【実施例】
【0045】
以下、図を参照しつつ、本発明の製造例及び実施例を詳細に説明する。ただし、これらの製造例及び実施例は本発明の範囲を制限するものではない。なお、図中、同じ数字は同じものを意味する。図は視覚的な理解を与えるためのものであって、パターンの大きさ、媒体の厚みやその他のいくつかの特徴は正確な比率で表現されていない。
【0046】
製造例1a及び1b:
石英ガラス基板上にガーネットフェライト単層から成る記録層を有する記録媒体を作製した。パターンが形成された製造例1a及び1bの製造工程は以下のとおりである:
両方の例において、非結晶性の高温耐性基板(熱膨張係数がほぼ0.55.10−6゜K−1に近いSumiquartz SK1310ガラス)上にRFマグネトロンスパッタリングにより、Bi1.89Dy0.82Ga1.11Fe4.18O12の記録層を堆積した。
【0047】
スパッタリング条件は次のとおりである。
−ターゲット:Bi1.89Dy0.82Ga1.11Fe4.18O12
−ガス:アルゴン
−圧力:2Pa
−パワー:0.78W/cm2
−ガーネットフェライト厚:300nm
堆積された状態の薄膜は非結晶性であった。
【0048】
次に、以下の4つの異なる寸法(表面積)の方形の表面形状を有する単位要素からなるパターンを作製した。
−26 × 10μm2
−13 × 10μm2
−6 × 10μm2
−2 × 10μm2
このパターンはフォトリソトグラフィー法にて形成された。このプロセスは、ガーネットフェライト層上にポジ型レジスト膜を形成し、上記と同一の4つの単位要素のパターンを有するマスクを通してUVランプで露光し、そして、レジストを現像する工程を含む。現像工程では、レジスト膜に保護されていない部分を酸性溶液で除去して、ガーネットフェライト層上に非連続パターンが作り出された。製造例1aでは20%HNO3+5%HClの混合物からなる酸の水溶液が使用され、製造例1bではHF(5%)水溶液が使われた。ガーネットフェライト層に非連続パターン形成を行なった後、残っていたフォトレジストをアセトンなどの有機溶剤で除去した。ガーネットフェライトに結晶性を与え、光磁気特性を高めるために、非連続パターンが形成されたガーネットフェライト層を抵抗炉内で650℃で1時間アニーリングした。
【0049】
単位要素のうち、表面形状の寸法(面積)の大きいもの(26×10μm2と13×10μm2)では光学顕微鏡と原子力顕微鏡(AFM)検査の両方によってクラックが検知された。一方、パターンが小さいもの(6 ×10μm2と2 ×10μm2)ではAFM観察の結果、製造例1b、1bで得られたサンプルの両方の表面にクラックは検知されなかった。
【0050】
製造例2:
パターン形成プロセスの別の比較を製造例2として行った。ここで使用されたガーネットフェライト、基板、スパッタリング条件は上記の場合と同じで、記録層の単位要素の表面形状は2×10μm2の方形に統一した。フォトリソグラフィープロセスも製造例1a及び1bの場合と同じであった。ただし、フォトレジスト膜の非保護領域を介してのガーネットフェライトの除去は圧力2Pa、パワー0.12W/cm2でアルゴンプラズマ内でのドライエッチングにより行った。1時間にわたる650℃でのアニーリング後、AFMにより表面観察を行なったところ単位要素表面上にはクラックは見られなかった。
【0051】
この製造例2では、波長440nmでの、記録層表面に対して垂直に測定した残留ファラデー回転はほぼ7.7deg/μmであった。光磁気ヒステリシスの角形比は1に近い値になり、これは非連続のパターンが形成されていないガーネットフェライト記録層を有するサンプルと同じであった。したがって、本発明は優れた磁気特性および光磁気特性を維持しつつ、クラック発生を抑える点で効果的である。
【0052】
以下、本発明の記録媒体の幾つかの実施例を説明する。
【0053】
実施例1:
図1aとdは、それぞれ、記録層、すなわちガーネットフェライト層1を有する、MO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、それぞれ「実施例1a」及び「実施例1d」というが両者を併せて実施例1と称する場合もある)を上から見た図であり、図1bはそれらの断面図である。図から明らかなように、実施例1aの記録層は、フォトリソグラフィーにより媒体の円周方向に沿って同心円状に形成された複数の環形の単位要素からなり、媒体の半径方向に非連続である。一方、実施例1dの記録層は媒体の略円周方向に沿って渦巻き状に形成された一条の単位要素からなるが、やはり媒体の半径方向に非連続である。すなわち、実施例1の記録層のパターンは、媒体の半径方向に規則的に設けられたランド及びグルーブからなり、ガーネットフェライト層1はそれ自体でランドを構成し、隣接するガーネットフェライト層1の間にグルーブが形成されている。1つのトラックはグルーブ−ランド−グルーブの組合わせで構成されている。
【0054】
実施例1におけるトラックのピッチ(隣接するトラック間の距離)は1.20μmとすることができるが、短波長の光学記録用の光学ディスク仕様に適するようにさらに小さくする方が好ましい(650nmの波長には通常0.74μm)。なお、ガーネットフェライト層1の厚みは、通常の光学媒体用としては、λ/4n[nは基板2の屈折率であり、λは使用波長を示す]とすることができる。
【0055】
実施例1では、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2の上に堆積されている。記録層は一般式BixR3−x+uMyFe5−y+vO12(0≦x≦3、0≦y≦5、−3≦v≦3、−3≦u≦3)で表わされるガーネットフェライトであり、RはDyを含む希土類元素の1つで、Mは鉄と交換可能な3価の金属である。基板2には、通常、石英ガラス又はパイレックス(登録商標)などの耐熱性ガラスが使われ、ガーネットフェライト層のストレス異方性に適合するように、熱膨張係数の小さいものがより好ましい。
【0056】
この単純な媒体構造は、光学または光磁気ヘッドと媒体間の距離が100nm以下と小さい透過式読み出し光学システムおよび表面記録システムに適したものである。これは高解像度の高密度媒体(副波長データマークの付いたもの)になりうる。なお、記録媒体が回転せずに直線的に移動する機構又はラミネートされたピエゾデバイス等の循環振動機構上に取付けられる場合には、パターンを構成する単位要素をその直線方向または循環振動方向に沿って形成することができる。
【0057】
本発明の記録層のパターンを構成する単位要素は擬連続又は非連続的、及び/又は、規則的又は不規則的に配列することができる。図1cに単位要素の表面形状の他の幾つかの例を示す。図1に示すように、ガーネットフェライト層1のパターンは、正方形、長方形等の多角形、及び、ストライプ状の他に、円形、環形等の表面形状の単位要素から構成することができる。なお、図1cは可能な単位要素の表面形状の全てを示しているわけではなく、単位要素の表面形状はこれらに限らない。
【0058】
これらの単位要素は、例えば、同一の表面形状を有する組を集合させてほぼ連続的なランドとグルーブからなるパターン(図1c)とすることができるが、ランド−グルーブ形式のパターン以外にも、図2aのように、微小な単位要素の配列(アレイ)からなるパターンを構成することもできる。
【0059】
また、各単位要素の表面形状は均一にする必要はない。たとえば図2bに示すように各単位要素の形状を不均一とし、半径及び/又は円周方向において周期的又は非周期的なパターンを形成するようにしてもよい。この目的は、データ記録に使用できる層表面を広げて高密度化及び大容量化を図り、また、適切なトラッキングサーボシステムが作り出せるようにすることである。図1及び2に示す実施例1のどの場合も、媒体の透過率又は反射率がランドからグルーブにかけて、或いは、単位要素の存在する領域から存在しない領域にかけて変化するので、グルーブ又は単位要素は記録媒体上の光学ヘッドのサーボコントロールにも使用することができる。
【0060】
実施例1の製造工程は製造例1と2で説明したものと同様である。図2a及び2bの例ではガーネットフェライト層1がRFスパッタリングにより石英ガラス基板2の上に堆積された。 Bi1.89Dy0.82Ga1.11Fe4.18O12ターゲットのスパッタリングにより、Bi1.89Dy0.82Ga1.11Fe4.18O12層が得られた。両方の例においてガーネットフェライト層1の厚みは300nmであった。従来のフォトリソグラフィープロセスにより非結晶性の層にパターン形成を行なった。10*2μm2のガーネットフェライトの粗度は約lnmでこれはパターンが形成されていない媒体の場合とほぼ同じであった。
【0061】
図2の例では、非結晶性ガーネットフェライト層1は製造例1で説明した条件でアニーリングされた。AFM表面観察によると単位要素の表面形状の寸法が約6×10μm2と2×10μm2の場合に熱処理後のガーネットフェライト層1の表面にはクラックは検知されなかった。これと対照的に、パターン形成がされていない層および上記サイズより大きな表面形状を有する単位要素にはクラックがはっきりと検知された。
【0062】
一般に、単位要素の表面形状の大きさがどの程度だったらクラックの発生を抑えられるかということは、記録層および基板の熱膨張係数、また、基板の厚みに対する記録層の厚みなどといった要因により左右される。基板と層の間に見られる熱膨張係数の差(△α=αs−αf)が大きければ大きいほど、一定の厚みに関しての単位要素の表面形状の面積は小さくする必要がある。実施例1の場合、ガーネットフェライト層1の厚みは、充分なMO特性と磁気特性を得るには1〜40μmが好ましい。しかし、短波長の光を使用する場合には結晶化したガーネットフェライト層による吸収を考慮して層厚は500nm以下とする方が好ましい。
【0063】
図3a及びbは、実施例1aの光磁気ヒステリシスループ(図3a)を、パターンが形成されていない層(アニーリングは実施例1と同じ条件)に見られる光磁気ヒステリシスループ(図3b)と比較するためのものである。図3aの光磁気ヒステリシスループの平方(角形)比(残留光磁気ファラデー回転/飽和光磁気ファラデー回転)は約0.9で、これはパターン形成されていないガーネットフェライト層で得られる値とほぼ同じである(従来のMO記録用の材料で得られる値とも同じである)。
【0064】
このように、クラックのない記録層であればノイズの低い光磁気記録媒体を製造することができ、MO媒体のS/Nが高くなる。更に、単位要素の大きさを結晶粒子または結晶子の大きさ(通常70nm)にほぼ等しくできれば、層の多結晶状態の部分によって生じるノイズも抑えることができるようになる。短波長におけるBi-ガーネットフェライト層の高いファラデー回転と本発明によるノイズ低減を利用すれば、ガラス基板上にガーネットフェライト層を用いる光磁気媒体で現在実現できるS/N(488nmで45dB)よりも高い値が達成できるようになる。
【0065】
更に、本発明は、基板の種類に関係無く、基板上の記録層、すなわち磁気層、光学層、または光磁気層などに、広く適用することができる。以下の実施例ではどの場合にも「単位要素」及び「パターン」という語は実施例1で説明したあらゆる種類の単位要素及びパターンを指すものとして使われている。
【0066】
実施例2:
図4は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを有するガーネットフェライト層1、を備えたMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例2」という)の断面図を示している。図4a及びbでは、パターン化されたガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2の上に堆積され、反射層3で被覆されている。一方、図4c及びdでは、図4a及びbと異なり、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2上に堆積された、パターン化された反射層3の上に積層されている。記録と読み出しプロセスは、図4a及びbの場合には下から石英ガラス基板2を通過するレーザーの直接照射により行われる一方で、図4c及びdの場合には、上から記録層上に向けてのレーザー照射によるものとなる。どちらの場合もガーネットフェライト層1のパターンは製造例1及び2で説明したのと同じように作製される。どちらの場合もガーネットフェライト記録層1又は反射層3に作製された単位要素のパターンにより光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0067】
石英ガラス基板2とガーネットフェライト層1の間に金属の反射層3が挟まれている場合にはガーネットフェライトが非常に優れた耐食性を持つため反射層3のための保護層をガーネットフェライト層1上に作製する必要はない。このような構造では光学又は光磁気ヘッドと記録媒体との距離がわずか(例えば100nm以下)となる表面記録も可能となる。こうして、高解像度と媒体の高密度化(副波長データマーク)が達成できるようになる。反射層3の材料としてはアルミニウム、チタン、パラジウム、プラチナ、金、クロム、銀等の金属、或いは、それらの合金又は磁気合金などが用いられる。反射層3の厚みは40nm以上が好ましい。特に図4a及びbの場合には、本発明の利点を得るために反射層3の厚みを記録層1の厚みより大きいものにすべきである。ただし、どの場合も、透過式読み出し光学システムで使用する場合は、レーザービームに対して半透通性を保持するために反射層3の厚みを40nm以下にすべきである。
【0068】
実施例3:
図5は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを有するガーネットフェライト層1、を備えたMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例3」という)の他の例の断面図を示している。図5aではガーネットフェライト層1は、予め所定の幅と深さを有するグルーブ2b及びランド2aが形成された石英ガラス基板2の表面上に形成されている。媒体の円周方向に沿ったグルーブ2bの幅と深さは従来のWORM媒体の場合と同じであり、1つのトラックはグルーブ−ランド−グルーブの組合わせからなる。トラックのピッチ(隣接するトラックとの距離)は1.20μmとすることができるが、短波長の光学記録用の光学ディスク仕様(通常、650nmの波長に対して0.74μm)に適するようにこれより短くする方が好ましい。このようなグルーブの存在により本発明の利点を得ることができる。図5aでは、ガーネットフェライト層1は研摩、選択的反応性イオンエッチング、リフトオフなどによってランド2a上のガーネットフェライト層が除去されグルーブ2b上の層のみが残留している。
【0069】
一方、図5bでは、ガーネットフェライト層1が基板2のランド2aとグルーブ2bの両方の上に形成されているという点で図5aとは異なる。図5bの場合は、本発明による利点を生かそうとするのであったらガーネットフェライト層1の厚みをグルーブ2bの深さに等しくするかまたはそれより薄くする必要があり、通常の光学媒体ではその値はλ/4nとなる(nは基板4の屈折率、λは使用波長である)。この媒体構造は透過性読み出し光学システムと表面記録システムに適したものとなる。グルーブ2bからランド2aにかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。記録媒体がディスク状で電気又は超音波モーターなどの回転機構の上に取付けられて回転する場合には、ランド2a及びグルーブ2bは媒体の円周方向に沿って形成することができる。一方、記録媒体が回転せずに直線超音波モーターまたはラミネートされたピエゾデバイスなどの直線動作機構や循環振動機構の上に取付けられている場合にはランド2a及びグルーブ2bはそれらの直線方向または循環振動方向に沿って形成することができる。なお、ランド2a及び/又はグルーブ2aは、記録媒体の回転又は移動方向、及び/又は、記録媒体の回転又は移動方向と垂直な方向に沿って連続して設けられている必要はなく、非連続でもよい。
【0070】
実施例4:
図6は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを有するガーネットフェライト層1、を備えたMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例4」という)の他の例の断面図を示している。図6ではガーネットフェライト層1は予めランド2a及びグルーブ2bを設けた石英ガラス基板2の上に堆積され、それは反射層3により被覆されている。図6a及びbではガーネットフェライト層1は研摩、選択的反応性イオンエッチング、リフトオフなどによってランド2a上の層が除去されグルーブ2b上の層のみとなっている。一方、図6cのものは、ガーネットフェライト層1が基板2のランド2aとグルーブ2bの両方の上に形成されているという点で図6a及びbとは異なる。図6cの場合は、本発明の利点を生かそうとするのであったら、ガーネットフェライト層1の厚みをグルーブ2bの深さに等しくするかまたはそれより小さくする必要があり、通常の光学媒体ではその値はλ/4nである(ここでnは基板4の屈折率、λは使用波長である)。この媒体構造は透過性読み出し光学システムと表面記録システムに適したものとなる。しかし、反射層3の厚みが40nm以下でありレーザー光に対して半透過性である場合は透過式読み出しも可能である。実施例4では、グルーブ2bからランド2aにかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。記録媒体がディスク状で電気または超音波モーターなどの回転機構の上に取付けられて回転する場合にはランド2a及びグルーブ2bは媒体の円周方向に沿って形成することができる。一方、記録媒体が回転せずに直線超音波モーターまたはラミネートされたピエゾデバイスなどの直線動作機構や循環振動機構の上に取付けられている場合にはランド2a及びグルーブ2bはそれらの直線方向または循環振動方向に沿って形成することができる。なお、ランド2a及び/又はグルーブ2aは、記録媒体の回転又は移動方向、及び/又は、記録媒体の回転又は移動方向と垂直な方向に沿って連続している必要はなく、非連続でもよい。
【0071】
実施例5:
図7は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを形成するガーネットフェライト層1を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例5」という)の他の例の断面図を示している。図7a及びbでは、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2の上に形成され、それが透明層4で被覆されている。一方、図7c、d及びeでは、ガーネットフェライト層1がガラス基板2上の透明層4の上に堆積されているという点で図7a及びbとは異なる。しかし、どちらもガーネットフェライト層1のパターンは製造例1及び2と同じ方法で作製されている。図7eの場合、本発明の利点を維持するのであれば、透明層4の厚みはガーネットフェライト層1の厚みより大きくする必要がある。
【0072】
透明層4は誘電体(Si3N4など)、酸化物(Al2O3、ZrO2、SiO2など)、または透明ポリマーであってもよい。また、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。この媒体構造は透過式読み出し光学システム及び表面記録システムに適したものとなる。単位要素のある領域から単位要素のない領域にかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0073】
更に、透明層4はニアフィールドまたは表面記録能力を犠牲にすることなく図7a及びbにおいて記録データ層の保護層の役目を果たすものとなる。その上、熱膨張係数(CTE)がガーネットフェライトより低い物質、たとえばSiO2などを透明層4としてガーネットフェライト層1を被覆するとアニーリング時のクラック発生も抑えられる。
【0074】
この被覆による効果はアニーリング中のガーネットフェライト層の膨張を制限するというもので、言い換えれば、上部にこのような透明層が付いている時の方がガーネットフェライト層の有効CTEは小さくなる。また、SiO2などの透明層4は非結晶性でありわずかではあるが表面の粗さを改善する働きもする。更に、ガーネットフェライトは磁気ひずみのある物質であるから、上部の透明層4でガーネットフェライト層1内での応力を変えることによって、層の磁気特性を修正したり制御したりできるようになる。
【0075】
実施例6:
図8は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを形成するガーネットフェライト層1、を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例6」という)の他の例の断面図を示している。図8a及びbでは、ガーネットフェライト層は研摩、選択的反応性イオンエッチング、リフトオフなどによってランド2a上のものが除去されグルーブ2b上のもののみとなっている。一方、図8cは、ガーネットフェライト層1が、基板2のランド2aとグルーブ2bの両方の上に形成されているという点で図8a及びbとは異なる。図8a及びbの場合、本発明の利点を生かそうとするのであったらガーネットフェライト層1の厚みをグルーブ2bの深さに等しくするかまたはそれより薄くする必要があり、通常の光学媒体ではその値はλ/4nとなる(nは基板4の屈折率、λは使用波長である)。
【0076】
透明層4の材質は誘電体(Si3N4など)、酸化物(Al2O3、ZrO2、SiO2など)、または透明ポリマーであってもよい。また、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。この媒体構造は透過式読み出し光学システムと表面記録システムに適したものとなる。グルーブ2bからランド2aにかけて反射率または透過率が変化するので、これを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0077】
更に、透明層4はニアフィールドまたは表面記録機能を犠牲にすることなく記録データ層の保護層の役目を果たすものとなる。また、熱膨張係数(CTE)がガーネットフェライトより低い物質、たとえばSiO2などを透明層4としてガーネットフェライト層1を被覆するとアニーリング時のクラック発生が抑えられる。
【0078】
この被覆による効果はアニーリング中のガーネット層の膨張を抑えるというもので、言い換えれば上部にこのような透明層が付いている時の方がガーネット層の有効CTEは小さくなる。またSiO2などの透明層4は非結晶性であり、わずかではあるが表面の粗さを改善する働きもする。さらに、ガーネットフェライトは磁気ひずみのある物質であるから、透明層4によってガーネットフェライト層1内の応力を変えることによって、層の磁気特性を修正したり制御したりできるようになる。
【0079】
実施例7:
図9は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンで構成されたガーネットフェライト層1、を有するMO、WORM及びROM媒体(以下、「実施例7」という)の他の例の断面図を示している。図9a、c、d、e、fではガーネットフェライト層1が透明層4の上に形成されており、透明層4はがガーネットフェライト層1及び反射層3に挟まれている。反射層3は石英ガラス基板2の上に形成されている。一方、図9b及びgは、ガーネットフェライト層1が反射層3と透明層6に挟まれている点で図9a、c、d、e、fとは異なる。しかし、どちらもガーネットフェライト層1のパターンは製造例1及び2と同じ方法で作製されている。
【0080】
図9eでは、本発明の利点を維持するのであれば透明層4の厚みはガーネットフェライト層1の厚みより大きくしておく必要がある。図9d及びeの例は媒体上のデータ記録に使用できる表面に全く無駄がないということから最も好ましい。また、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。この媒体構造は反射式読み出し光学システム及び表面記録システムに適したものとなる。ただし、どの場合も、透過式読み出し光学装置に使用する時はレーザービームに対して半透過性となるように反射層3の厚さを40nm以下にすべきである。単位要素のパターンのある領域からない領域にかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0081】
実施例8:
図10は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンで構成されたガーネットフェライト層1、を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例8」という)の他の例の断面図を示している。図10a、b、fでは、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2の上に堆積され、透明層4で被覆されている。透明層4は反射層3で被覆されている。
【0082】
一方、図10c、d、e、gでは、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2上に堆積された透明層4上に積層され、それが反射層3で被覆されているという点で図10a、b、fとは異なる。しかしどちらもガーネットフェライト層1のパターンは製造例1及び2と同じ方法で作製することができる。本発明の利点を維持するのであれば、図10eでは、透明層4の厚みはガーネットフェライト層1の厚みより大きくすべきである。また、図10aでは透明層4と反射層3を合せた厚みをガーネットフェライト層1の厚みより大きくすべきである。図10eの例は媒体表面のデータ記録に使用できる表面に全く無駄がないということから最も好ましいものとなる。また、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。
【0083】
この媒体構造は反射性読み出し光学システムに適したものとなる。しかしながら、どの場合でも、透過式読み出し光学装置に使用する時はレーザービームに対して半透過性となるように反射層3の厚さを40nm以下にすべきである。単位要素パターンのある領域からない領域にかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0084】
実施例9:
図11は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンで構成されたガーネットフェライト層1、を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例9」という)の他の例の断面図を示している。図11a及びbでは、ガーネットフェライト層1は研摩、選択的反応性イオンエッチング、リフトオフなどによってランド2a上の層が除去され、グルーブ2b上のみに層が存在している。一方、図11cでは、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2のランド2aとグルーブ2bの両方の上に形成されているという点で図11a及びbとは異なる。
【0085】
図11cの場合に本発明の利点を生かそうとするのであったら、ガーネットフェライト層1の厚みをグルーブ2bの深さに等しくするかまたはそれより小さくする必要があり、通常の光学媒体ではその値はλ/4n(nは基板2の屈折率、λは使用波長)である。この媒体構造は、反射式読み出し光学系及び表面記録システムに適している。さらに、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。ただし、透過式読み出し光学装置に使用する時は、レーザービームに対して半透過性となるように反射層3の厚さを40nm以下にすべきである。単位要素のパターンのある領域からない領域にかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0086】
実施例10:
図12は、多層記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンで構成されたガーネットフェライト層及び透明層の積層体、を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例10」という)の断面図を示している。図12aでは、パターン形成されたガーネットフェライト層と透明層がランダムにまたは交互に重なり合った多層記録層7が石英ガラス基板2上に堆積されており、多層記録層7では透明層が最上部に位置している。一方、図12bでは、パターン形成されたガーネットフェライト層と透明層がランダムまたは交互に重なり合ってできた多層記録層7が石英ガラス基板2上に堆積されており、多層記録層7ではガーネットフェライト層が最上部に位置している。
【0087】
また、図12cでは、ガーネットフェライト層と透明層がランダムまたは交互に重なり合ってできた多層層記録層7が石英ガラス基板2上に堆積され、それが更に反射層3で被覆されている。そして、図12dでは、多層記録層7が反射層3の上に堆積されており、パターンは反射層3に形成されている。実施例10は、製造例1及び2と同じ方法で製造することができる。多層記録層7の厚みは40から1000nmが好ましい。40nm以下になると充分な磁気特性が得られなくなり、一方で、1000nm以上だと記録層の透明度が落ちるからである。
【図面の簡単な説明】
【0088】
【図1】図1a及び1dは実施例1の上面図である。図1bは実施例1の断面図である。図1cは単位要素の表面形状の例を示す上面図である。
【図2】図2a及び2bは、それぞれ、基板上の周期的及び非周期的なパターンを有するガーネットフェライトを示す拡大AFM像である。図2aは25×10μm2の表面形状を各々が有する単位要素を示す。
【図3】図3aは本発明の記録媒体の光磁気ヒステリシス(650℃のアニーリング後)であり、図3bはパターン形成されていない記録媒体で測定された光磁気ヒステリシス(650℃のアニーリング後)。
【図4】実施例2の断面図である。
【図5】実施例3の断面図である。
【図6】実施例4の断面図である。
【図7】実施例5の断面図である。
【図8】実施例6の断面図である。
【図9】実施例7の断面図である。
【図10】実施例8の断面図である。
【図11】実施例9の断面図である。
【図12】実施例10の断面図である。
【符号の説明】
【0089】
1 ガーネットフェライト層
2 石英ガラス基板
2aランド
2bグルーブ
3 反射層
4 透明層
7 多層記録層
【技術分野】
【0001】
本発明は、光磁気(MO)記録媒体、ライトワンス(write once: WORM)及び読み出し専用(ROM)光学記録媒体等の記録媒体に関する。本発明は、特に、結晶化処理の間に見られる熱応力によるクラックの発生を抑えるために記録層を複数の単位要素の集合体とした記録媒体に関する。
【背景技術】
【0002】
ROM媒体ではビット情報(データ)は媒体製造段階でディスク内にマークとして永久的に埋め込まれる。WORMではデータが一度書込まれるとそれは消すことができない。この場合、ROMとは異なり書込み操作はユーザーによって行われる。ビット情報は反射率の変化により検知される。
【0003】
WORM及びROM媒体は、共に、その構成材料として各種の有機・無機物質が使われ(WORM及び/又はROM用の染料や金属)ているが、これらは光、特に波長の短い光の照射に対して非常に敏感である。そこで媒体に求められている寿命を確保する上でこれらの物質には保護層が必要である。
【0004】
一方、市場に出されている従来の光磁気(MO)記録媒体では記録層は主に薄い金属薄膜からなる。データは光ビームを使って記録層上の微細なスポットの透過率または反射率などの光学特性を変えながらビット情報として記録層に記録される。通常、金属薄膜の材料としては、TbFeCo等のような希土類金属の非結晶性合金が使われる。この合金は一般的に高い吸収係数(>105cm−1)を持つのでデータの記録に好ましい材料である。しかし、このような合金で作られた薄膜は酸化その他の要因により劣化しやすい傾向を持つ。そこで、やはり、プラスチック層などを使って密封し保護する必要がある。
【0005】
ところで、ガーネットフェライト、すなわちガーネット型の結晶構造を有するフェライトを使用した記録媒体は、上述したようなMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体に比べると酸化やその他のエージング現象に対して非常に優れた安定性を示す。また、特に青のスペクトル域において非常に興味深い磁気特性(保磁力が高い)と光磁気特性(ファラデー回転が大きい)を示す。さらに、ガーネットフェライトは青のスペクトル域で吸収率が高いのでライトワンス記録が可能となる。また、結晶性、非結晶性どちらの場合でもガーネットフェライトの透過率は高いので透過式(transmissive)記憶システムに使うこともできる。
【0006】
現在、表面記録システムの分野では、記録媒体及びドライブシステムの両面から、短波長の光を用いて記録容量を高めるための開発が進められているが、こうしたシステムにおいては、光学法則により基板を通しての記録はもはや不可能であり、しかも、記録媒体表面と光学ヘッド間の距離はわずか数ナノメーターとなっている。したがって、このようなシステムでは記録媒体上に保護層を設けることはもはやできないので、耐食性に優れた材質の開発が必要となっている。一般的に酸化物は表面記録システムに適しているが、特に、ガーネットフェライトの場合は耐食性が高く保護層が不要となるので、高密度のMO媒体、WORM及びROM媒体用の材料として非常に有用と思われる(特開2000−76716号公報)。
【0007】
しかし、ガーネットフェライトを用いた記録媒体は製造面で次のような問題を有する。すなわち、ガーネットフェライトの特徴である高いファラデー回転と高い保磁力を確保するためには、ガーネットフェライト層は600℃以上の高温で結晶化されなければならない。ところで、このような高温で使われるのに適した特殊な基板、特にガラス基板は、通常、ガーネットフェライト層とは異なる膨張係数を有する。したがって、ガーネットフェライト層を備えた基板が600℃以上の高温から室温に冷却される間に機械応力がガーネットフェライト層と基板との間に生じる。そして、この応力は大きく、一方で、ガーネットフェライトの弾性は小さいので、クラックがガーネットフェライト層上に発生してしまう。このクラックの幅はガーネットフェライトの結晶粒程の大きさ、時にはそれより大きいものとなるので光学的に検知可能となってしまい、MO読み出しプロセスにおいて媒体ノイズが非常に大きくなる結果となる。このような理由により、MO記録媒体等の記録媒体への応用においてガーネットフェライトの優れた特性を利用することが難しくなっていた。
【0008】
ところで、スパッタリングされて基板上に形成されたガーネットフェライト層は通常非結晶性で、可視スペクトル全域の吸収率が比較的高いためその色は黒っぽい。しかし、600又は700℃以上の温度下での結晶化工程の後、層の色は茶色または黄色がかった色に変化する。スパッタリング後の層にハイパワー(約10mW)のレーザースポットを数ナノ秒当て加熱するとこうした色の変化が引き起こせる。このサーモライティングプロセスはWORM又はROM媒体等における消去できないビット記録に用いることができる。こうして記録されたものは、層上において書込みが行われた域とそれ以外の域間に光学吸収率の差が出るため後で光学的に検知可能となる。しかし、ビット書込み時にクラックが発生したり結晶化が適切にコントロールできないことがあるため、読み出し時のノイズは一般的に大きなものとなる。
【特許文献1】特開2000−76716号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
このように、ガーネットフェライトには興味深い光磁気特性や光学特性があるが、クラックの発生を防ぎまた結晶化プロセスの適切なコントロールを行なうことが不可欠であるために、それをMO、WORM及び/又はROM媒体に応用することは困難であった。
【0010】
クラックの発生を避け、ノイズレベルを下げるためにこれまで行われてきた試みとしては、非磁気結晶性ガーネットフェライト層上にビスマス置換ガーネットフェライト層を堆積させたもの(二重層構造ディスク)、或いは、ガラス基板上に複層のガーネットを堆積させたものがあった。その他の試みとしては、GGG基板などの結晶性ガーネットフェライトを使うもの、或いは、記録層に似た格子定数を持つ酸化物を使うものがある。なお、基板の熱膨張係数を記録層のそれに合せるという方法もある。しかしこれらの方法はどれも満足の行くCNRを達成できず、低コスト、量産化という目標も満足できない。
【0011】
本発明は、結晶性ガーネットフェライト層を記録層として用いるMO媒体または非結晶性ガーネットフェライト層を感度層として用いるWORM及びROM媒体において、該ガーネットフェライト層の結晶化プロセスにおけるクラック発生を防止することができる記録媒体を提供するものである。
【0012】
また、本発明の目的は、光磁気(MO)記録媒体、並びに、WORM及びROM媒体の両方について、ガーネットフェライト層を使う従来の記録方式で達成できるものより優れたS/N比、C/N比を持つ記録媒体を提供することである。
【0013】
さらに、本発明の他の目的は、高解像度、高記録密度、高S/N比及びC/N比を達成し、更に簡単にコントロールできる磁気特性を有するガーネットフェライト層を含んだ記録層を備えた新規且つ有用な記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0014】
本発明の目的は、基板上に記録層を備えた、MO、WORM及びROM媒体等の記録媒体において、当該記録層の結晶粒子または結晶子の大きさとほぼ等しい大きさの単位要素からなる非連続パターンを当該記録層に形成すること(アニーリングのある場合及びない場合の両方含めて)により達成される。
【0015】
すなわち、本発明の記録媒体は、基板、及び、データが記録される少なくとも1つの記録層を含む記録媒体であって、該記録層表面上に複数のガーネットフェライトの単位要素からなる非連続パターンが形成されており、且つ、該単位要素の大きさが該記録層の結晶粒子または結晶子の大きさとほぼ等しいことを特徴とする。ここで、「単位要素」なる用語は、記録層の構成単位となる微少な物体を指し、本発明ではガーネットフェライトからなる。また、「非連続パターン」なる用語は、前記「単位要素」の非連続配置によって形成される模様を指す。記録層は基板に隣接して設けることが好ましい。
【0016】
前記非連続パターンは互いに同一の表面形状を有する複数の単位要素から形成されてもよく、また、互いに異なる表面形状を有する複数の単位要素から形成されてもよい。「表面形状」なる用語は、ここでは、単位要素の複数の外形表面のうち、記録層の表面に現れる面の形状を指す。例えば、円柱状の単位要素を、その母線が記録層表面に対して垂直になるように配列した場合は、当該単位要素の「表面形状」は円形である。前記表面形状は、円形、楕円形、環形、ストライプ(帯状)、及び、三角形、正方形、長方形等の多角形から選択されることが好ましい。
【0017】
また、前記非連続パターンは、記録媒体の回転及び/又は移動方向に沿って、及び/又は、記録媒体の回転及び/又は移動方向と垂直な方向に沿って形成されていることができる。例えば、記録媒体が円形表面を有するディスク状の場合は、当該ディスクの円周方向及び/又は半径方向に沿って形成されることが好ましい。
【0018】
前記単位要素の表面形状の面積は、単位要素並びに基板の厚み及び熱膨張係数によって決定されることが好ましい。基板及び単位要素の厚みが一定の場合は、基板の熱膨張係数(αs)とガーネットフェライトからなる当該単位要素の熱膨張係数(αf)の差(Δα=αs−αf)が大きいほど、前記表面形状の面積を小さくすることが好ましい。例えば、300nmの厚みの記録層を構成する前記単位構成要素の当該記録層表面に現れる表面形状が方形の場合は、当該方形表面の面積は5×10μm2以下であることが好ましい。
【0019】
本発明の記録媒体では、前記基板が少なくとも1つの溝を有してもよい。そして、その場合は、前記溝内にのみ前記記録層を存在させることもできる。前記溝の幅は少なくとも一部が10μm以下であることが好ましい。一方、基板上に溝がない場合は、前記単位要素の記録層表面上に現れる表面形状の少なくとも一部の幅を10μm以下とすることが好ましい。なお、前記記録層の厚みは40〜1000nmの範囲内とすることが好ましい。
【0020】
本発明の記録媒体は、反射層及び/又は透明層を更に備えることができる。前記反射層及び/又は透明層は前記基板と前記記録層の間に位置してもよく、また、前記記録層が前記基板と前記反射層及び/又は透明層の間に位置するようにしてもよい。
【0021】
反射層及び透明層の両者を併用する場合は、基板上に、
反射層、記録層及び透明層の順で、
反射層、透明層及び記録層の順で、
記録層、透明層及び反射層の順で、又は、
透明層、記録層及び反射層の順でこれらの層を積層することができる。なお、本発明の記録媒体は、複数の記録層と、複数の反射層又は透明層とからなる積層体を備えてもよい。
【0022】
本発明の記録媒体は、上記のような、複数のガーネットフェライトの単位要素からなる非連続のパターンを有する記録層を基板上に形成後、500〜700℃、好ましくは600〜650℃で熱処理を行うことによって製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0023】
ガーネットフェライト層と基板との積層体を備えた記録媒体の場合、ガーネットフェライト層と基板の熱膨張係数が異なるため、ガーネットフェライト層を高温でアニーリング処理した後に、両者の間に機械応力が生じるが、本発明では、ガーネットフェライト層と基板との接触面積が低減するのでこの応力を小さくすることができる。実際には、記録層を構成するガーネットフェライトを分割して複数の単位要素とした上で不連続に配置することによって各単位要素の基板との接触面積を低減できる。
【0024】
この場合、具体的には、単位要素の基板との接触面の少なくとも1つの寸法を10μm以下、より好ましくは1μm以下とする方がよい。また、記録層厚、すなわちガーネットフェライトの単位要素の厚みが1μm以下の場合には、単位要素の基板との接触面の少なくとも1つの寸法を500nm以下とすることが好ましい。接触面の形状(記録層の単位要素の表面形状)は例えば正方形、長方形等の多角形、円形又は楕円形のドット又はピット、或いは、環形又はストライプとすることができる。これらの表面形状を有する単位要素の集合からなる非連続パターンの形状としては、直線状(帯状)、曲線状、凹凸状又は同心円状が挙げられる。これらの単位要素は、クラック発生の防止ばかりでなく、WORM媒体及びMO記録媒体の双方において、フォーマット情報を書き込むために使用することもできる。
【0025】
以下、本発明をMO媒体を例に挙げて説明する。まず、基板上への非結晶ガーネットフェライト層の形成方法について説明する。
【0026】
非結晶ガーネットフェライト層形成方法:
薄膜作成に通常用いられる方法(RF又はダイオードスパッタリング、化学蒸着、ゾル−ゲル法等)のいずれかを用いて「非結晶性ガーネットフェライト」膜を基板上に堆積させることができる。「非結晶性ガーネットフェライト」とは混合酸化物を意味し、これは約650℃のアニーリングにより純粋な結晶性ガーネットフェライトとなる。
【0027】
このような混合酸化物は例えばガーネットフェライトターゲットのRFスパッタリングにより得ることができる。膜の厚みは1μm以下、10nm以上であり、好ましくは、500nm以下、50nm以上である。
【0028】
基板は非結晶性又は結晶性のどちらでもよく、酸化物(SiO2、Al2O3、スピネルフェライト等)、金属(Al、Ti、Ni等)又はSiとすることができる。好ましくは、基板は、500℃以上でも安定な透明ガラス基板から選択される。
【0029】
本発明の記録層における非連続パターンは、具体的には、以下の複数の方法のいずれかでガーネットフェライト層に形成することができる。
【0030】
1番目の方法:
予め溝を形成しておいた(グルーブ付き)基板上に上記の方法によって非結晶性ガーネットフェライトを堆積し、アニーリングによってナノ単位の結晶から成るガーネットフェライト層とする。この場合、ガーネットフェライト膜を非連続性のものにするために、基板の溝の深さはガーネットフェライト膜厚より大きいものとする。溝の深さはガーネットフェライト膜の厚さより1.1から1.5倍大きくすることが好ましい。予め基板に形成される溝の高さをガーネットフェライト膜の厚みより高くしておけば、ガーネットフェライトのサイズが基板の溝によって制限されて、小さい単位要素となり、クラックの形成が回避される。また、この方法では媒体表面を無駄にすること無く高密度記録を実現可能である。
【0031】
アニーリングは従来のジュール効果炉又はランプ炉で行うことができる。ランプ炉ではプロセス時間がわずか数秒のフラッシュアニーリングが可能である。従来の炉を使うと30分から5時間、好ましくは2時間が必要である。垂直磁気異方性、高保磁力(>1500 Oe、好ましくは、>2000 Oe)、及び、高いファラデー回転(>2deg/μm、好ましくは、>10deg/μm)を備えた結晶性ガーネットフェライト層を得るためには、熱処理は500℃以上700℃以下、好ましくは600〜650℃、で行わなければならない。
【0032】
2番目の方法:
基板上に上記の方法によって非結晶性ガーネットフェライト膜を堆積した後に、古典的なフォトリソグラフィー法によって非結晶性ガーネットフェライト膜に溝を形成し、当該膜を単位要素に分割し、非連続パターンを形成する。フォトリソグラフィー法は以下の5つのステップに分けられる。
−ガーネットフェライト膜を光重合性(2P)ラッカーで被覆する。
−ディスクフォーマットの画像であるマスクを通して2Pラッカーを光照射するか、又は、マスタリングマシーンによって光照射する(量産にはマスクを使う照射の方が適切である)。
−2Pラッカーを化学的に除去する。つまり、2Pラッカーがポジ型であれば照射された部分が溶解除去され、2Pラッカーがネガ型であればマスクされた部分が溶解除去され、その部分のガーネットフェライト膜は未保護状態になる。
−適切な酸性溶液を使って前のステップで未保護状態なった部分からガーネットフェライト膜を化学的に溶解するか、またはイオンあるいは電子エッチングによりその部分のガーネットフェライト膜を除去する。
−残っている2Pラッカーを有機溶剤で除去する。
【0033】
こうして得られた非連続パターン状の非結晶性ガーネットフェライト膜は既述した方法のいずれかによってアニーリングされる。小さい結晶子(約10〜50nm)を持ち、強い垂直磁気異方性、高い保磁力、高いファラデー回転を有する結晶化ガーネットフェライト層が得られる。
【0034】
なお、ガーネットフェライト層自体にパターンが形成されると記録に利用できる表面積は媒体の総面積より小さくなる。また、パターン形成を上述のフォトリソグラフィー法により行った場合には、ガーネットフェライト層の平坦度はフォトリソグラフィー法で使われるエッチングプロセスにより改善される。
【0035】
3番目の方法:
ガーネットフェライト層に非連続パターンを作り出す方法として、上述した2つの方法の他に、既にパターンを有する基板上の他の層の表面にガーネットフェライト、すなわち記録層を堆積させる方法がある。MO媒体構造では、通常、MO信号を高めるための誘電層又は透明層、並びに反射層、或いは、透明層又は反射層からなる積層体等の他のいくつかの層が使用されているが、これらの全ての層がこの方法において使用可能である。なお、記録層は、積層体(透明層/ガーネットフェライト層、又は、ガーネットフェライト層/反射層)で構成されるか、またはガーネットフェライト層の結晶化プロセスを促進させるためにPCT/JP99/04674に提案されているスピネル層等の吸収層と共に構成されることができる。
【0036】
この方法では、非連続パターンは他の層のパターンを使ってガーネットフェライト層に間接的に形成される。他の層に非連続パターンを形成するために、予め溝が形成された基板を使うこともできる。この場合、ガーネットフェライト層を非連続性のものにするために、他の層の溝の深さはガーネットフェライト層厚より大きいものとすべきである。溝の深さをガーネットフェライト層の厚さより1.1から1.5倍大きくすることが好ましい。このようにすると媒体表面を無駄にすること無く高密度記録を実現できるようになる。
【0037】
本発明は以下のような利点を有する。すなわち、記録媒体上の記録層となるガーネットフェライト層のパターン次第で、1つの媒体で、読み出しのみが可能であるか、或いは、再書き込みも可能であるようなミックス媒体を実現することが可能である。さらに、記録層を構成する単位要素の他に、従来の光学記録のように、溝(以下、「グルーブ」と称することもある)と溝間の突条(以下、「ランド」と称することもある)を用いてサーボトラッキングを行うこともできる。
【0038】
本発明では、高いS/N、すなわち低ノイズは以下の作用・効果によって達成される。
−熱ストレスにより引き起こされる欠陥の発生が回避される。
−多結晶性ガーネットの境界効果(boundary effect)が低減する。
−孤立した記録域を使うことによってクロストーク(crosstalk)やジター(jitter)が低減する。
また、本発明では、ガーネットフェライト結晶の粒子サイズの単位要素からなる非連続パターンを使用することにより、高磁気及び光磁気特性を保持した状態で、あたかも「単結晶」のようなガーネットフェライトに記録を行うことができるので、S/N比を更に改善することができる。
【0039】
また、本発明では、ガーネットフェライトの高い化学安定性を利用しているので、記録層に保護層は不要である。従って、読み取りヘッドなどの光ピックアップ機構を記録層に非常に近付けることが可能となり、解像度と媒体容量が高められる。
【0040】
なお、パターン化されたガーネットフェライト層の上に薄い透明層を堆積させて有効ファラデー回転を向上させ、及び/又は、クラック形成の低減を助けることができる。従って、表面またはニアフィールド記録がまだ可能である一方で、記録層は記録媒体上のほこりや傷による影響を受けなくなる。この透明層は媒体の平坦度を改善するものともなる。反射層が基板と記録層の間にある構造でも同じような結果が得られる。この場合、反射層がたとえ金属タイプの材料で作られていても、該反射層のためのコーティング層などのような保護手段は必要でない。
【0041】
本発明では、トライボロジー(tribology)性能を高めるために、上述の層構造上に薄い炭素のような層または澗滑層(水素化炭素、パーフルオロカーボン)を堆積することができる。これは透過式記録モード、反射記録モードのどちらにおいても媒体の読み/書き性能に影響を与えることはない。
【0042】
次に、本発明のライトワンス(WORM)及びROM媒体への応用について言及する。
【0043】
非連続パターン化された非結晶性ガーネットフェライト層を有するライトワンス媒体も、あらかじめ溝が形成された基板又は当該基板上の他の層を用いて、或いは、MO媒体について既述したマスクを用いるフォトリソグラフィ法によって作製できる。この場合、溝の深さはガーネットフェライト層厚よりも大きくすることが好ましい。また、ROM媒体も、上述のパターン化MO媒体の製造の場合と同じように、フォトリソグラフィー法を用いて作製できる。これらの媒体にはアニーリングは不要である。これらの場合、ガーネットフェライト記録層は、WORM及びROMに通常使われる有機材料より高い安定性を提供する。
【0044】
WORMでは、情報はハイパワーのレーザービーム(約10mW)でビットを書込む部分を結晶化させる方法を使ってユーザーにより書込むことが可能である。記録層は微小な単位要素の非連続パターンとなっているので結晶化のコントロールがより適切に行なえるようになりクロストークやジターが防止できる。また、ROM読み出し及びWORMの書き込みプロセスの両方が、非連続パターンが形成されたガーネットフェライト層を使うと単一の媒体で実現可能となる。
【実施例】
【0045】
以下、図を参照しつつ、本発明の製造例及び実施例を詳細に説明する。ただし、これらの製造例及び実施例は本発明の範囲を制限するものではない。なお、図中、同じ数字は同じものを意味する。図は視覚的な理解を与えるためのものであって、パターンの大きさ、媒体の厚みやその他のいくつかの特徴は正確な比率で表現されていない。
【0046】
製造例1a及び1b:
石英ガラス基板上にガーネットフェライト単層から成る記録層を有する記録媒体を作製した。パターンが形成された製造例1a及び1bの製造工程は以下のとおりである:
両方の例において、非結晶性の高温耐性基板(熱膨張係数がほぼ0.55.10−6゜K−1に近いSumiquartz SK1310ガラス)上にRFマグネトロンスパッタリングにより、Bi1.89Dy0.82Ga1.11Fe4.18O12の記録層を堆積した。
【0047】
スパッタリング条件は次のとおりである。
−ターゲット:Bi1.89Dy0.82Ga1.11Fe4.18O12
−ガス:アルゴン
−圧力:2Pa
−パワー:0.78W/cm2
−ガーネットフェライト厚:300nm
堆積された状態の薄膜は非結晶性であった。
【0048】
次に、以下の4つの異なる寸法(表面積)の方形の表面形状を有する単位要素からなるパターンを作製した。
−26 × 10μm2
−13 × 10μm2
−6 × 10μm2
−2 × 10μm2
このパターンはフォトリソトグラフィー法にて形成された。このプロセスは、ガーネットフェライト層上にポジ型レジスト膜を形成し、上記と同一の4つの単位要素のパターンを有するマスクを通してUVランプで露光し、そして、レジストを現像する工程を含む。現像工程では、レジスト膜に保護されていない部分を酸性溶液で除去して、ガーネットフェライト層上に非連続パターンが作り出された。製造例1aでは20%HNO3+5%HClの混合物からなる酸の水溶液が使用され、製造例1bではHF(5%)水溶液が使われた。ガーネットフェライト層に非連続パターン形成を行なった後、残っていたフォトレジストをアセトンなどの有機溶剤で除去した。ガーネットフェライトに結晶性を与え、光磁気特性を高めるために、非連続パターンが形成されたガーネットフェライト層を抵抗炉内で650℃で1時間アニーリングした。
【0049】
単位要素のうち、表面形状の寸法(面積)の大きいもの(26×10μm2と13×10μm2)では光学顕微鏡と原子力顕微鏡(AFM)検査の両方によってクラックが検知された。一方、パターンが小さいもの(6 ×10μm2と2 ×10μm2)ではAFM観察の結果、製造例1b、1bで得られたサンプルの両方の表面にクラックは検知されなかった。
【0050】
製造例2:
パターン形成プロセスの別の比較を製造例2として行った。ここで使用されたガーネットフェライト、基板、スパッタリング条件は上記の場合と同じで、記録層の単位要素の表面形状は2×10μm2の方形に統一した。フォトリソグラフィープロセスも製造例1a及び1bの場合と同じであった。ただし、フォトレジスト膜の非保護領域を介してのガーネットフェライトの除去は圧力2Pa、パワー0.12W/cm2でアルゴンプラズマ内でのドライエッチングにより行った。1時間にわたる650℃でのアニーリング後、AFMにより表面観察を行なったところ単位要素表面上にはクラックは見られなかった。
【0051】
この製造例2では、波長440nmでの、記録層表面に対して垂直に測定した残留ファラデー回転はほぼ7.7deg/μmであった。光磁気ヒステリシスの角形比は1に近い値になり、これは非連続のパターンが形成されていないガーネットフェライト記録層を有するサンプルと同じであった。したがって、本発明は優れた磁気特性および光磁気特性を維持しつつ、クラック発生を抑える点で効果的である。
【0052】
以下、本発明の記録媒体の幾つかの実施例を説明する。
【0053】
実施例1:
図1aとdは、それぞれ、記録層、すなわちガーネットフェライト層1を有する、MO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、それぞれ「実施例1a」及び「実施例1d」というが両者を併せて実施例1と称する場合もある)を上から見た図であり、図1bはそれらの断面図である。図から明らかなように、実施例1aの記録層は、フォトリソグラフィーにより媒体の円周方向に沿って同心円状に形成された複数の環形の単位要素からなり、媒体の半径方向に非連続である。一方、実施例1dの記録層は媒体の略円周方向に沿って渦巻き状に形成された一条の単位要素からなるが、やはり媒体の半径方向に非連続である。すなわち、実施例1の記録層のパターンは、媒体の半径方向に規則的に設けられたランド及びグルーブからなり、ガーネットフェライト層1はそれ自体でランドを構成し、隣接するガーネットフェライト層1の間にグルーブが形成されている。1つのトラックはグルーブ−ランド−グルーブの組合わせで構成されている。
【0054】
実施例1におけるトラックのピッチ(隣接するトラック間の距離)は1.20μmとすることができるが、短波長の光学記録用の光学ディスク仕様に適するようにさらに小さくする方が好ましい(650nmの波長には通常0.74μm)。なお、ガーネットフェライト層1の厚みは、通常の光学媒体用としては、λ/4n[nは基板2の屈折率であり、λは使用波長を示す]とすることができる。
【0055】
実施例1では、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2の上に堆積されている。記録層は一般式BixR3−x+uMyFe5−y+vO12(0≦x≦3、0≦y≦5、−3≦v≦3、−3≦u≦3)で表わされるガーネットフェライトであり、RはDyを含む希土類元素の1つで、Mは鉄と交換可能な3価の金属である。基板2には、通常、石英ガラス又はパイレックス(登録商標)などの耐熱性ガラスが使われ、ガーネットフェライト層のストレス異方性に適合するように、熱膨張係数の小さいものがより好ましい。
【0056】
この単純な媒体構造は、光学または光磁気ヘッドと媒体間の距離が100nm以下と小さい透過式読み出し光学システムおよび表面記録システムに適したものである。これは高解像度の高密度媒体(副波長データマークの付いたもの)になりうる。なお、記録媒体が回転せずに直線的に移動する機構又はラミネートされたピエゾデバイス等の循環振動機構上に取付けられる場合には、パターンを構成する単位要素をその直線方向または循環振動方向に沿って形成することができる。
【0057】
本発明の記録層のパターンを構成する単位要素は擬連続又は非連続的、及び/又は、規則的又は不規則的に配列することができる。図1cに単位要素の表面形状の他の幾つかの例を示す。図1に示すように、ガーネットフェライト層1のパターンは、正方形、長方形等の多角形、及び、ストライプ状の他に、円形、環形等の表面形状の単位要素から構成することができる。なお、図1cは可能な単位要素の表面形状の全てを示しているわけではなく、単位要素の表面形状はこれらに限らない。
【0058】
これらの単位要素は、例えば、同一の表面形状を有する組を集合させてほぼ連続的なランドとグルーブからなるパターン(図1c)とすることができるが、ランド−グルーブ形式のパターン以外にも、図2aのように、微小な単位要素の配列(アレイ)からなるパターンを構成することもできる。
【0059】
また、各単位要素の表面形状は均一にする必要はない。たとえば図2bに示すように各単位要素の形状を不均一とし、半径及び/又は円周方向において周期的又は非周期的なパターンを形成するようにしてもよい。この目的は、データ記録に使用できる層表面を広げて高密度化及び大容量化を図り、また、適切なトラッキングサーボシステムが作り出せるようにすることである。図1及び2に示す実施例1のどの場合も、媒体の透過率又は反射率がランドからグルーブにかけて、或いは、単位要素の存在する領域から存在しない領域にかけて変化するので、グルーブ又は単位要素は記録媒体上の光学ヘッドのサーボコントロールにも使用することができる。
【0060】
実施例1の製造工程は製造例1と2で説明したものと同様である。図2a及び2bの例ではガーネットフェライト層1がRFスパッタリングにより石英ガラス基板2の上に堆積された。 Bi1.89Dy0.82Ga1.11Fe4.18O12ターゲットのスパッタリングにより、Bi1.89Dy0.82Ga1.11Fe4.18O12層が得られた。両方の例においてガーネットフェライト層1の厚みは300nmであった。従来のフォトリソグラフィープロセスにより非結晶性の層にパターン形成を行なった。10*2μm2のガーネットフェライトの粗度は約lnmでこれはパターンが形成されていない媒体の場合とほぼ同じであった。
【0061】
図2の例では、非結晶性ガーネットフェライト層1は製造例1で説明した条件でアニーリングされた。AFM表面観察によると単位要素の表面形状の寸法が約6×10μm2と2×10μm2の場合に熱処理後のガーネットフェライト層1の表面にはクラックは検知されなかった。これと対照的に、パターン形成がされていない層および上記サイズより大きな表面形状を有する単位要素にはクラックがはっきりと検知された。
【0062】
一般に、単位要素の表面形状の大きさがどの程度だったらクラックの発生を抑えられるかということは、記録層および基板の熱膨張係数、また、基板の厚みに対する記録層の厚みなどといった要因により左右される。基板と層の間に見られる熱膨張係数の差(△α=αs−αf)が大きければ大きいほど、一定の厚みに関しての単位要素の表面形状の面積は小さくする必要がある。実施例1の場合、ガーネットフェライト層1の厚みは、充分なMO特性と磁気特性を得るには1〜40μmが好ましい。しかし、短波長の光を使用する場合には結晶化したガーネットフェライト層による吸収を考慮して層厚は500nm以下とする方が好ましい。
【0063】
図3a及びbは、実施例1aの光磁気ヒステリシスループ(図3a)を、パターンが形成されていない層(アニーリングは実施例1と同じ条件)に見られる光磁気ヒステリシスループ(図3b)と比較するためのものである。図3aの光磁気ヒステリシスループの平方(角形)比(残留光磁気ファラデー回転/飽和光磁気ファラデー回転)は約0.9で、これはパターン形成されていないガーネットフェライト層で得られる値とほぼ同じである(従来のMO記録用の材料で得られる値とも同じである)。
【0064】
このように、クラックのない記録層であればノイズの低い光磁気記録媒体を製造することができ、MO媒体のS/Nが高くなる。更に、単位要素の大きさを結晶粒子または結晶子の大きさ(通常70nm)にほぼ等しくできれば、層の多結晶状態の部分によって生じるノイズも抑えることができるようになる。短波長におけるBi-ガーネットフェライト層の高いファラデー回転と本発明によるノイズ低減を利用すれば、ガラス基板上にガーネットフェライト層を用いる光磁気媒体で現在実現できるS/N(488nmで45dB)よりも高い値が達成できるようになる。
【0065】
更に、本発明は、基板の種類に関係無く、基板上の記録層、すなわち磁気層、光学層、または光磁気層などに、広く適用することができる。以下の実施例ではどの場合にも「単位要素」及び「パターン」という語は実施例1で説明したあらゆる種類の単位要素及びパターンを指すものとして使われている。
【0066】
実施例2:
図4は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを有するガーネットフェライト層1、を備えたMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例2」という)の断面図を示している。図4a及びbでは、パターン化されたガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2の上に堆積され、反射層3で被覆されている。一方、図4c及びdでは、図4a及びbと異なり、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2上に堆積された、パターン化された反射層3の上に積層されている。記録と読み出しプロセスは、図4a及びbの場合には下から石英ガラス基板2を通過するレーザーの直接照射により行われる一方で、図4c及びdの場合には、上から記録層上に向けてのレーザー照射によるものとなる。どちらの場合もガーネットフェライト層1のパターンは製造例1及び2で説明したのと同じように作製される。どちらの場合もガーネットフェライト記録層1又は反射層3に作製された単位要素のパターンにより光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0067】
石英ガラス基板2とガーネットフェライト層1の間に金属の反射層3が挟まれている場合にはガーネットフェライトが非常に優れた耐食性を持つため反射層3のための保護層をガーネットフェライト層1上に作製する必要はない。このような構造では光学又は光磁気ヘッドと記録媒体との距離がわずか(例えば100nm以下)となる表面記録も可能となる。こうして、高解像度と媒体の高密度化(副波長データマーク)が達成できるようになる。反射層3の材料としてはアルミニウム、チタン、パラジウム、プラチナ、金、クロム、銀等の金属、或いは、それらの合金又は磁気合金などが用いられる。反射層3の厚みは40nm以上が好ましい。特に図4a及びbの場合には、本発明の利点を得るために反射層3の厚みを記録層1の厚みより大きいものにすべきである。ただし、どの場合も、透過式読み出し光学システムで使用する場合は、レーザービームに対して半透通性を保持するために反射層3の厚みを40nm以下にすべきである。
【0068】
実施例3:
図5は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを有するガーネットフェライト層1、を備えたMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例3」という)の他の例の断面図を示している。図5aではガーネットフェライト層1は、予め所定の幅と深さを有するグルーブ2b及びランド2aが形成された石英ガラス基板2の表面上に形成されている。媒体の円周方向に沿ったグルーブ2bの幅と深さは従来のWORM媒体の場合と同じであり、1つのトラックはグルーブ−ランド−グルーブの組合わせからなる。トラックのピッチ(隣接するトラックとの距離)は1.20μmとすることができるが、短波長の光学記録用の光学ディスク仕様(通常、650nmの波長に対して0.74μm)に適するようにこれより短くする方が好ましい。このようなグルーブの存在により本発明の利点を得ることができる。図5aでは、ガーネットフェライト層1は研摩、選択的反応性イオンエッチング、リフトオフなどによってランド2a上のガーネットフェライト層が除去されグルーブ2b上の層のみが残留している。
【0069】
一方、図5bでは、ガーネットフェライト層1が基板2のランド2aとグルーブ2bの両方の上に形成されているという点で図5aとは異なる。図5bの場合は、本発明による利点を生かそうとするのであったらガーネットフェライト層1の厚みをグルーブ2bの深さに等しくするかまたはそれより薄くする必要があり、通常の光学媒体ではその値はλ/4nとなる(nは基板4の屈折率、λは使用波長である)。この媒体構造は透過性読み出し光学システムと表面記録システムに適したものとなる。グルーブ2bからランド2aにかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。記録媒体がディスク状で電気又は超音波モーターなどの回転機構の上に取付けられて回転する場合には、ランド2a及びグルーブ2bは媒体の円周方向に沿って形成することができる。一方、記録媒体が回転せずに直線超音波モーターまたはラミネートされたピエゾデバイスなどの直線動作機構や循環振動機構の上に取付けられている場合にはランド2a及びグルーブ2bはそれらの直線方向または循環振動方向に沿って形成することができる。なお、ランド2a及び/又はグルーブ2aは、記録媒体の回転又は移動方向、及び/又は、記録媒体の回転又は移動方向と垂直な方向に沿って連続して設けられている必要はなく、非連続でもよい。
【0070】
実施例4:
図6は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを有するガーネットフェライト層1、を備えたMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例4」という)の他の例の断面図を示している。図6ではガーネットフェライト層1は予めランド2a及びグルーブ2bを設けた石英ガラス基板2の上に堆積され、それは反射層3により被覆されている。図6a及びbではガーネットフェライト層1は研摩、選択的反応性イオンエッチング、リフトオフなどによってランド2a上の層が除去されグルーブ2b上の層のみとなっている。一方、図6cのものは、ガーネットフェライト層1が基板2のランド2aとグルーブ2bの両方の上に形成されているという点で図6a及びbとは異なる。図6cの場合は、本発明の利点を生かそうとするのであったら、ガーネットフェライト層1の厚みをグルーブ2bの深さに等しくするかまたはそれより小さくする必要があり、通常の光学媒体ではその値はλ/4nである(ここでnは基板4の屈折率、λは使用波長である)。この媒体構造は透過性読み出し光学システムと表面記録システムに適したものとなる。しかし、反射層3の厚みが40nm以下でありレーザー光に対して半透過性である場合は透過式読み出しも可能である。実施例4では、グルーブ2bからランド2aにかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。記録媒体がディスク状で電気または超音波モーターなどの回転機構の上に取付けられて回転する場合にはランド2a及びグルーブ2bは媒体の円周方向に沿って形成することができる。一方、記録媒体が回転せずに直線超音波モーターまたはラミネートされたピエゾデバイスなどの直線動作機構や循環振動機構の上に取付けられている場合にはランド2a及びグルーブ2bはそれらの直線方向または循環振動方向に沿って形成することができる。なお、ランド2a及び/又はグルーブ2aは、記録媒体の回転又は移動方向、及び/又は、記録媒体の回転又は移動方向と垂直な方向に沿って連続している必要はなく、非連続でもよい。
【0071】
実施例5:
図7は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを形成するガーネットフェライト層1を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例5」という)の他の例の断面図を示している。図7a及びbでは、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2の上に形成され、それが透明層4で被覆されている。一方、図7c、d及びeでは、ガーネットフェライト層1がガラス基板2上の透明層4の上に堆積されているという点で図7a及びbとは異なる。しかし、どちらもガーネットフェライト層1のパターンは製造例1及び2と同じ方法で作製されている。図7eの場合、本発明の利点を維持するのであれば、透明層4の厚みはガーネットフェライト層1の厚みより大きくする必要がある。
【0072】
透明層4は誘電体(Si3N4など)、酸化物(Al2O3、ZrO2、SiO2など)、または透明ポリマーであってもよい。また、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。この媒体構造は透過式読み出し光学システム及び表面記録システムに適したものとなる。単位要素のある領域から単位要素のない領域にかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0073】
更に、透明層4はニアフィールドまたは表面記録能力を犠牲にすることなく図7a及びbにおいて記録データ層の保護層の役目を果たすものとなる。その上、熱膨張係数(CTE)がガーネットフェライトより低い物質、たとえばSiO2などを透明層4としてガーネットフェライト層1を被覆するとアニーリング時のクラック発生も抑えられる。
【0074】
この被覆による効果はアニーリング中のガーネットフェライト層の膨張を制限するというもので、言い換えれば、上部にこのような透明層が付いている時の方がガーネットフェライト層の有効CTEは小さくなる。また、SiO2などの透明層4は非結晶性でありわずかではあるが表面の粗さを改善する働きもする。更に、ガーネットフェライトは磁気ひずみのある物質であるから、上部の透明層4でガーネットフェライト層1内での応力を変えることによって、層の磁気特性を修正したり制御したりできるようになる。
【0075】
実施例6:
図8は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンを形成するガーネットフェライト層1、を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例6」という)の他の例の断面図を示している。図8a及びbでは、ガーネットフェライト層は研摩、選択的反応性イオンエッチング、リフトオフなどによってランド2a上のものが除去されグルーブ2b上のもののみとなっている。一方、図8cは、ガーネットフェライト層1が、基板2のランド2aとグルーブ2bの両方の上に形成されているという点で図8a及びbとは異なる。図8a及びbの場合、本発明の利点を生かそうとするのであったらガーネットフェライト層1の厚みをグルーブ2bの深さに等しくするかまたはそれより薄くする必要があり、通常の光学媒体ではその値はλ/4nとなる(nは基板4の屈折率、λは使用波長である)。
【0076】
透明層4の材質は誘電体(Si3N4など)、酸化物(Al2O3、ZrO2、SiO2など)、または透明ポリマーであってもよい。また、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。この媒体構造は透過式読み出し光学システムと表面記録システムに適したものとなる。グルーブ2bからランド2aにかけて反射率または透過率が変化するので、これを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0077】
更に、透明層4はニアフィールドまたは表面記録機能を犠牲にすることなく記録データ層の保護層の役目を果たすものとなる。また、熱膨張係数(CTE)がガーネットフェライトより低い物質、たとえばSiO2などを透明層4としてガーネットフェライト層1を被覆するとアニーリング時のクラック発生が抑えられる。
【0078】
この被覆による効果はアニーリング中のガーネット層の膨張を抑えるというもので、言い換えれば上部にこのような透明層が付いている時の方がガーネット層の有効CTEは小さくなる。またSiO2などの透明層4は非結晶性であり、わずかではあるが表面の粗さを改善する働きもする。さらに、ガーネットフェライトは磁気ひずみのある物質であるから、透明層4によってガーネットフェライト層1内の応力を変えることによって、層の磁気特性を修正したり制御したりできるようになる。
【0079】
実施例7:
図9は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンで構成されたガーネットフェライト層1、を有するMO、WORM及びROM媒体(以下、「実施例7」という)の他の例の断面図を示している。図9a、c、d、e、fではガーネットフェライト層1が透明層4の上に形成されており、透明層4はがガーネットフェライト層1及び反射層3に挟まれている。反射層3は石英ガラス基板2の上に形成されている。一方、図9b及びgは、ガーネットフェライト層1が反射層3と透明層6に挟まれている点で図9a、c、d、e、fとは異なる。しかし、どちらもガーネットフェライト層1のパターンは製造例1及び2と同じ方法で作製されている。
【0080】
図9eでは、本発明の利点を維持するのであれば透明層4の厚みはガーネットフェライト層1の厚みより大きくしておく必要がある。図9d及びeの例は媒体上のデータ記録に使用できる表面に全く無駄がないということから最も好ましい。また、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。この媒体構造は反射式読み出し光学システム及び表面記録システムに適したものとなる。ただし、どの場合も、透過式読み出し光学装置に使用する時はレーザービームに対して半透過性となるように反射層3の厚さを40nm以下にすべきである。単位要素のパターンのある領域からない領域にかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0081】
実施例8:
図10は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンで構成されたガーネットフェライト層1、を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例8」という)の他の例の断面図を示している。図10a、b、fでは、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2の上に堆積され、透明層4で被覆されている。透明層4は反射層3で被覆されている。
【0082】
一方、図10c、d、e、gでは、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2上に堆積された透明層4上に積層され、それが反射層3で被覆されているという点で図10a、b、fとは異なる。しかしどちらもガーネットフェライト層1のパターンは製造例1及び2と同じ方法で作製することができる。本発明の利点を維持するのであれば、図10eでは、透明層4の厚みはガーネットフェライト層1の厚みより大きくすべきである。また、図10aでは透明層4と反射層3を合せた厚みをガーネットフェライト層1の厚みより大きくすべきである。図10eの例は媒体表面のデータ記録に使用できる表面に全く無駄がないということから最も好ましいものとなる。また、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。
【0083】
この媒体構造は反射性読み出し光学システムに適したものとなる。しかしながら、どの場合でも、透過式読み出し光学装置に使用する時はレーザービームに対して半透過性となるように反射層3の厚さを40nm以下にすべきである。単位要素パターンのある領域からない領域にかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0084】
実施例9:
図11は、記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンで構成されたガーネットフェライト層1、を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例9」という)の他の例の断面図を示している。図11a及びbでは、ガーネットフェライト層1は研摩、選択的反応性イオンエッチング、リフトオフなどによってランド2a上の層が除去され、グルーブ2b上のみに層が存在している。一方、図11cでは、ガーネットフェライト層1が石英ガラス基板2のランド2aとグルーブ2bの両方の上に形成されているという点で図11a及びbとは異なる。
【0085】
図11cの場合に本発明の利点を生かそうとするのであったら、ガーネットフェライト層1の厚みをグルーブ2bの深さに等しくするかまたはそれより小さくする必要があり、通常の光学媒体ではその値はλ/4n(nは基板2の屈折率、λは使用波長)である。この媒体構造は、反射式読み出し光学系及び表面記録システムに適している。さらに、透明層4は有効ファラデー回転を増幅する働きをする。ただし、透過式読み出し光学装置に使用する時は、レーザービームに対して半透過性となるように反射層3の厚さを40nm以下にすべきである。単位要素のパターンのある領域からない領域にかけて反射率または透過率が変化するのでこれを使って光学ヘッドのサーボコントロールが可能となる。
【0086】
実施例10:
図12は、多層記録層、すなわち実施例1で説明した単位要素のパターンで構成されたガーネットフェライト層及び透明層の積層体、を有するMO、WORM及びROM媒体等の記録媒体(以下、「実施例10」という)の断面図を示している。図12aでは、パターン形成されたガーネットフェライト層と透明層がランダムにまたは交互に重なり合った多層記録層7が石英ガラス基板2上に堆積されており、多層記録層7では透明層が最上部に位置している。一方、図12bでは、パターン形成されたガーネットフェライト層と透明層がランダムまたは交互に重なり合ってできた多層記録層7が石英ガラス基板2上に堆積されており、多層記録層7ではガーネットフェライト層が最上部に位置している。
【0087】
また、図12cでは、ガーネットフェライト層と透明層がランダムまたは交互に重なり合ってできた多層層記録層7が石英ガラス基板2上に堆積され、それが更に反射層3で被覆されている。そして、図12dでは、多層記録層7が反射層3の上に堆積されており、パターンは反射層3に形成されている。実施例10は、製造例1及び2と同じ方法で製造することができる。多層記録層7の厚みは40から1000nmが好ましい。40nm以下になると充分な磁気特性が得られなくなり、一方で、1000nm以上だと記録層の透明度が落ちるからである。
【図面の簡単な説明】
【0088】
【図1】図1a及び1dは実施例1の上面図である。図1bは実施例1の断面図である。図1cは単位要素の表面形状の例を示す上面図である。
【図2】図2a及び2bは、それぞれ、基板上の周期的及び非周期的なパターンを有するガーネットフェライトを示す拡大AFM像である。図2aは25×10μm2の表面形状を各々が有する単位要素を示す。
【図3】図3aは本発明の記録媒体の光磁気ヒステリシス(650℃のアニーリング後)であり、図3bはパターン形成されていない記録媒体で測定された光磁気ヒステリシス(650℃のアニーリング後)。
【図4】実施例2の断面図である。
【図5】実施例3の断面図である。
【図6】実施例4の断面図である。
【図7】実施例5の断面図である。
【図8】実施例6の断面図である。
【図9】実施例7の断面図である。
【図10】実施例8の断面図である。
【図11】実施例9の断面図である。
【図12】実施例10の断面図である。
【符号の説明】
【0089】
1 ガーネットフェライト層
2 石英ガラス基板
2aランド
2bグルーブ
3 反射層
4 透明層
7 多層記録層
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板及び少なくとも1つの記録層を含む記録媒体であって、複数のガーネットフェライトの単位要素からなる非連続パターンが該記録層表面上に形成されており、前記単位要素の大きさが、結晶粒子または結晶子の大きさとほぼ等しいことを特徴とする記録媒体。
【請求項2】
前記非連続パターンが、同一の表面形状を有する単位要素から形成されていることを特徴とする請求項1記載の記録媒体。
【請求項3】
前記非連続パターンが、異なる表面形状を有する単位要素から形成されていることを特徴とする請求項1記載の記録媒体。
【請求項4】
前記表面形状が、円形、楕円形、環形、多角形及びストライプからなる群から選択されることを特徴とする請求項2又は3記載の記録媒体。
【請求項5】
前記非連続パターンが、記録媒体の回転又は移動方向に沿って、及び/又は、記録媒体の回転又は移動方向と垂直な方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項6】
前記表面形状の面積が、前記単位要素及び前記基板の厚み及び熱膨張係数によって決定されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項7】
前記基板が少なくとも1つの溝を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項8】
前記溝内にのみ前記記録層が存在することを特徴とする請求項7記載の記録媒体。
【請求項9】
前記溝及び/又は前記表面形状の、少なくとも一部の幅が10μm以下であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項10】
前記記録層の厚みが40〜1000nmの範囲内であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項11】
反射層及び/又は透明層を更に含むことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項記載の記録媒体。
【請求項12】
前記反射層及び/又は透明層が前記基板と前記記録層の間に位置することを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項13】
前記記録層が前記基板と前記反射層及び/又は透明層の間に位置することを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項14】
前記基板上に、順に、反射層、記録層及び透明層が積層していることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項15】
前記基板上に、順に、反射層、透明層及び記録層が積層していることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項16】
前記基板上に、順に、記録層、透明層及び反射層が積層していることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項17】
前記基板上に、順に、透明層、記録層及び反射層が積層していることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項18】
複数の前記記録層と、複数の反射層又は透明層との積層体を含むことを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項1】
基板及び少なくとも1つの記録層を含む記録媒体であって、複数のガーネットフェライトの単位要素からなる非連続パターンが該記録層表面上に形成されており、前記単位要素の大きさが、結晶粒子または結晶子の大きさとほぼ等しいことを特徴とする記録媒体。
【請求項2】
前記非連続パターンが、同一の表面形状を有する単位要素から形成されていることを特徴とする請求項1記載の記録媒体。
【請求項3】
前記非連続パターンが、異なる表面形状を有する単位要素から形成されていることを特徴とする請求項1記載の記録媒体。
【請求項4】
前記表面形状が、円形、楕円形、環形、多角形及びストライプからなる群から選択されることを特徴とする請求項2又は3記載の記録媒体。
【請求項5】
前記非連続パターンが、記録媒体の回転又は移動方向に沿って、及び/又は、記録媒体の回転又は移動方向と垂直な方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項6】
前記表面形状の面積が、前記単位要素及び前記基板の厚み及び熱膨張係数によって決定されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項7】
前記基板が少なくとも1つの溝を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項8】
前記溝内にのみ前記記録層が存在することを特徴とする請求項7記載の記録媒体。
【請求項9】
前記溝及び/又は前記表面形状の、少なくとも一部の幅が10μm以下であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項10】
前記記録層の厚みが40〜1000nmの範囲内であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の記録媒体。
【請求項11】
反射層及び/又は透明層を更に含むことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項記載の記録媒体。
【請求項12】
前記反射層及び/又は透明層が前記基板と前記記録層の間に位置することを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項13】
前記記録層が前記基板と前記反射層及び/又は透明層の間に位置することを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項14】
前記基板上に、順に、反射層、記録層及び透明層が積層していることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項15】
前記基板上に、順に、反射層、透明層及び記録層が積層していることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項16】
前記基板上に、順に、記録層、透明層及び反射層が積層していることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項17】
前記基板上に、順に、透明層、記録層及び反射層が積層していることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【請求項18】
複数の前記記録層と、複数の反射層又は透明層との積層体を含むことを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
【図1】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図2】
【公開番号】特開2006−309941(P2006−309941A)
【公開日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−184898(P2006−184898)
【出願日】平成18年7月4日(2006.7.4)
【分割の表示】特願2000−278742(P2000−278742)の分割
【原出願日】平成12年9月13日(2000.9.13)
【出願人】(000004226)日本電信電話株式会社 (13,992)
【出願人】(500174661)サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・レシェルシュ・サイエンティフィーク−セ・エン・エール・エス− (54)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成18年11月9日(2006.11.9)
【国際特許分類】
【出願日】平成18年7月4日(2006.7.4)
【分割の表示】特願2000−278742(P2000−278742)の分割
【原出願日】平成12年9月13日(2000.9.13)
【出願人】(000004226)日本電信電話株式会社 (13,992)
【出願人】(500174661)サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・レシェルシュ・サイエンティフィーク−セ・エン・エール・エス− (54)
【Fターム(参考)】
[ Back to top ]