貼付装置、放射線像変換パネルの製造方法、および放射線像変換パネル
【課題】放射線像変換パネル部材を精度よく、ダメージを与えないで基板に貼り合わせることが可能な貼付装置および放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線像変換パネル部材１４を基板１６上に貼りあわせる貼付装置１０は、放射線像変換パネル部材１４を吸引力で保持する保持部１２ｂを持つ保持手段を有し、保持手段の保持面が曲面状で、保持手段が転動可能となっている。放射線像変換パネル部材１４を湾曲させた状態で保持しながら、放射線像変換パネル部材１４の一端部を基板１６に接触させた後、放射線像変換パネル部材１４および基板１６のいずれかを移動させて、これらを貼り合わせる。保持手段の保持面の高さは、基板１６の貼り合わせ面と枠との高さの差より大きくしておく。
【解決手段】放射線像変換パネル部材１４を基板１６上に貼りあわせる貼付装置１０は、放射線像変換パネル部材１４を吸引力で保持する保持部１２ｂを持つ保持手段を有し、保持手段の保持面が曲面状で、保持手段が転動可能となっている。放射線像変換パネル部材１４を湾曲させた状態で保持しながら、放射線像変換パネル部材１４の一端部を基板１６に接触させた後、放射線像変換パネル部材１４および基板１６のいずれかを移動させて、これらを貼り合わせる。保持手段の保持面の高さは、基板１６の貼り合わせ面と枠との高さの差より大きくしておく。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、貼付装置、放射線像変換パネルの製造方法、および放射線像変換パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線、γ線、電子線等の放射線や紫外線等により励起すると、近紫外領域から青色領域に発光（瞬時発光）を示す二価ユーロピウム賦活フッ化ハロゲン化バリウム蛍光体（ＢａＦＸ：Ｅｕ２＋，但し、Ｘはフッ素以外のハロゲン原子を表す。）が知られており、Ｘ線撮影等に利用される放射線増感スクリーン用の蛍光体として使用されている。
【０００３】
さらに近年では、蛍光体にＸ線、γ線、電子線等の放射線や紫外線等を照射した後、可視光線から赤外線に及ぶ波長領域の電磁波（励起光）で励起すると、近紫外領域から青色領域に及ぶ波長領域の発光（輝尽発光）を示すことが見出され、このような蛍光体は、放射線撮影において、従来の放射線写真法に代替する放射線像変換技術に有用な蛍光体として、非常に注目されている。
【０００４】
この放射線像変換技術は、支持体上に輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層が設けられた放射線像変換パネル（蓄積性蛍光シート）を利用するものであり、被写体を透過した放射線又は被写体から発せられた放射線をパネル上の輝尽性蛍光体に吸収させた後、輝尽性蛍光体を可視光線から赤外線に及ぶ波長領域より選ばれる電磁波（励起光）を用いて時系列的に励起することによって、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光）として放出させ、光電的に読み取ることにより電気信号を得、得られた電気信号を画像化するものである。
【０００５】
この放射線像変換パネルを用いることにより、従来の放射線写真法に比べ、少ない被爆量で画像形成することが可能となり、また、得られた画像をコンピュータにより画像処理することができるため、さらに情報量の豊富な放射線画像を得ることができるとともに、撮影不良画像の救済も可能となる。
【０００６】
放射線像変換パネルの製造方法としては、種々の方法が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。特許文献１では、蛍光体プレートの平面を保持しながら位置決めを行ない、第１のベースと離れた第２のベース上で平板の位置決めを行ない、封止蛍光体プレート、平板のうち少なくともどちらか一方を他方へ移動させて貼り付けを行なって、放射線像変換パネルを製造する方法が提案されている。また、特許文献２では、蛍光体シートと平板を平行状態に保持し、接触／離反により貼り合せて放射線像変換パネルを製造する方法が提案されている。しかし、これらの方法では、枠構造を有する剛直基板にＩＰを位置精度良く貼り付けることは非常に困難である。
【０００７】
また、特許文献３で提案されている技術は、枠付きＬＣＤパネルへの偏光板貼付け装置の技術であり、段部を有する枠付きＬＣＤパネルの凹部へ偏光板を貼り付ける装置で、半円筒形状のゴムローラを具備する貼付け装置である。しかし、当該装置では、枠構造を有する剛直基板に対して重量があり、傷が付き易いＩＰを保持し、均一に貼り付けることは不可能である。
【特許文献１】特開平１１−２９５８２８号公報
【特許文献２】特開２００５−１６４５１８号公報
【特許文献３】特開平８−２８２９０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明では、上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、放射線像変換パネル部材を精度よく、かつ、ダメージを与えないで基板に貼り合わせることが可能な貼付装置および放射線像変換パネルの製造方法を提供することを目的とする。また、基板上に放射線像変換パネル部材が精度よく、かつ、ダメージが与えられないで製造された放射線像変換パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者等は、下記本発明に想到し、当該課題を解決できることを見出した。すなわち、本発明は、放射線像変換パネル部材を基板上に貼りあわせる貼付装置であって、前記放射線像変換パネル部材を保持する保持手段を有し、当該保持手段の保持面が曲面状となっており、前記保持手段が転動可能となっていることを特徴とする貼付装置である。
【００１０】
本発明の貼付装置には、下記第１〜第７の態様のうち少なくともいずれかの態様が適用されていることが好ましい。
【００１１】
（１）第１の態様は、前記保持手段が前記放射線像変換パネル部材に負圧を生じさせる減圧手段であり、前記保持面の前記放射線像変換パネル部材との摩擦係数が０．１〜０．９である態様である。
（２）第２の態様は、前記基板の周囲に枠が設けられており、前記保持手段の保持面が凸面となっており、当該保持面の高さが、前記枠と前記基板の貼り合わせ面との高さの差より大きい態様である。
（３）第３の態様は、前記保持面に直径０．５〜３．０ｍｍの孔（吸引孔）を有し、当該孔の占める面積が前記保持面の０．１〜１０％である態様である。
（４）第４の態様は、前記保持面と前記基板の貼り合わせ面との相対位置を調整する調整機構を有する態様である。
（５）第５の態様は、前記保持面がゴム材料からなり、その硬度が３０〜９０である態様である。
（６）第６の態様は、前記保持面の表面抵抗の常用対数値（ｌｏｇＳＲ）が１３以下である態様である。
（７）第７の態様は、貼り合わせの際の圧力が２０〜２０００ｋＰａである態様である。
【００１２】
また、本発明は、前記放射線像変換パネル部材を湾曲させた状態で保持しながら、前記放射線像変換パネル部材の一端部を基板に接触させた後、前記放射線像変換パネル部材および基板のいずれかを移動させて、これらを貼り合わせることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。
さらに、本発明は、上記本発明の放射線像変換パネルの製造方法により製造されることを特徴とする放射線像変換パネルである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、放射線像変換パネル部材を精度よく、かつ、ダメージを与えないで基板に貼り合わせることが可能な貼付装置および放射線像変換パネルの製造方法を提供することができる。また、基板上に放射線像変換パネル部材が精度よく、かつ、ダメージが与えられないで製造された放射線像変換パネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［貼付装置および放射線像変換パネルの製造方法］
本発明の貼付装置は、放射線像変換パネル部材を基板上に貼りあわせる装置であって、図１に示すように、当該貼付装置１０は、放射線像変換パネル部材１４を保持する保持手段を有する。当該保持手段は、例えば、ドラム１２ａと保持面を形成する保持部１２ｂとを備える。そして、保持面は、曲面状（例えば、曲率半径：Ｒ（φ）＝２０〜３００ｃｍ）となっており、保持手段におけるドラム１２ａは矢印Ａ方向に転動可能となっている。なお、ドラム１２ａを転動させずに基板１６を矢印Ｂ方向に移動させ、これに従動させる形で、ドラム１２ａを転動（回転）させてもよい。
【００１５】
ドラム１２ａや基板１６を移動させる場合、保持面と基板の貼り合わせ面との相対位置を調整する調整機構を有することが好ましい。具体的には、マイクロメータにより基板搬送モータを制御して上記相対位置を調整することが好ましい。また、マイクロメータにより相対基板位置を調整しても良いし、ステッピングモータのパルス数を制御して上記相対位置を調整しても良い。
【００１６】
保持手段による放射線像変換パネル部材１４の保持方法としては、例えば、保持面に静電気をかけて静電力により当該部材を保持する方法；保持面に粘着剤を塗布してその粘着力により当該部材を保持する方法；放射線像変換パネル部材に負圧を生じさせる減圧手段を設け、吸引力により当該部材を保持する方法；が挙げられる。これらの方法のなかでも、保持面への放射線像変換パネル部材の保持や基板への貼り合わせといった、保持・剥離の制御性を考慮して、減圧手段を設け、吸引力により当該部材を保持する方法を採用することが好ましい。
【００１７】
減圧手段としては、図１に示すように、保持部に孔として吸引孔１２ｃを複数設けて、不図示のポンプにより矢印Ｘ方向に減圧し、放射線像変換パネル部材１４に負圧を生じさせて、これを保持することが好ましい。負圧は、３０〜１００ｋＰａであることが好ましい。また、吸引孔１２ｃは、少なくとも、放射線像変換パネル部材１４の四隅にあることが好ましい。孔の直径は０．５〜３．０ｍｍが好ましく、さらには１．０〜２．０ｍｍの範囲がより好ましい。孔が占める面積は保持面に対し、０．１〜１０％である事が好ましく、より好ましくは０．５〜５％の範囲である。このような範囲とすることで、放射線像変換パネル部材などの被保持部材に損傷を与えることなく良好にこれを保持することができる。
【００１８】
当該装置を使用して、放射線像変換パネルを製造する場合は、まず、放射線像変換パネル部材１４を湾曲させた状態で保持部１２ｂの保持面に保持しながら、この放射線像変換パネル部材１４の一端部を基板１６の枠内端部に接触させる。このとき、予め粘着層１８を基板１６の貼り合わせ面に形成しておくことが好ましい。その後、放射線像変換パネル部材１４および基板１６のいずれかを矢印Ａまたは矢印Ｂ方向に移動させて、これらを貼り合わせて放射線像変換パネルを製造する。
【００１９】
粘着層１８が形成されている場合は、その粘着力により放射線像変換パネル部材１４が保持面から剥離されて基板１６上に貼り合わされるが、確実に基板１６上に貼り合わせるために、貼り合わせ処理と共に負圧を小さくする等の保持力を低下させる処理を施すことが好ましい。
【００２０】
保持面の放射線像変換パネル部材１４との摩擦係数が０．１〜０．９であることが好ましく、０．５〜０．７であることがより好ましい。摩擦係数が０．１未満であると、保持面から放射線像変換パネル部材１４が滑りやすくなることがある。摩擦係数が０．９を超えると、放射線像変換パネル部材１４にシワが発生しやすくなることがある。
【００２１】
ここで、放射線像変換パネル部材１４とは、該部材の周囲に基板１６の枠が設けられる前のものをいい、当該部材だけでも放射線像変換パネルとして利用することができる。放射線像変換パネル部材１４の製造方法については後述する。
【００２２】
また、上記枠は、パネルの画像領域の保護、取り扱い、パネルの強度確保等のために設けられるものであり、基板の周囲に設けられている。枠は基板と同じ材質のものを使用してもよいが、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ＰＥ（ポリエチレン）等の樹脂などで構成される。
【００２３】
図１に示すように、保持手段の保持面は凸面となっているが、当該保持面の高さ（ｈ１）は、枠と基板の貼り合わせ面との高さの差（ｈ２）より大きいことが好ましく、「ｈ１−ｈ２」が０．５〜１０ｍｍであることが好ましい。「ｈ１＞ｈ２」であることで、枠とパネル部材もしくは貼付装置が干渉せず、精度良い貼付を行うことができる。
【００２４】
保持部１２ｂ（特に保持面）はゴム材料からなり、その硬度（ＪＩＳ Ｎｏ．Ｋ６３０１）が３０〜９０であることが好ましい。具体的には、表面層がシリコーンゴムシート（Ａ，Ｓラバー（宮川ロール） 硬度５０ 体積抵抗 １０１０Ω／ｃｍ ＰＥＴとの静止摩擦係数０．６５）、ニトリルゴム（ＪＳＲ−ＮＢＲ（ＪＲＳ製） 硬度５０ １０９Ω／ｃｍ 静止摩擦係数０．７や、Ｈｙｃａｒ（ＢＦ Ｇｏｏｄｒｉｃｈ社製）、Ｃｈｅｍｉｇｕｍ（Ｅｌｉｏｋｅｍ社製）、ポリサー（ランクセス社製））を使用することが好ましい。
【００２５】
保持面の表面抵抗の常用対数値（ｌｏｇＳＲ）が１３以下であることが好ましく、９〜１３であることがより好ましい。「ｌｏｇＳＲ」が１３を超えると、帯電によるごみの付着量が多くなることがある。表面抵抗の測定法は、体積固有抵抗（Ω／ｃｍ ２５℃でＡＳＴＭ Ｄ２５７により測定することができる。
【００２６】
貼り合わせの際の圧力は２０〜２０００ｋＰａであることが好ましく、４０〜２００ｋＰａであることがより好ましい。２０〜２０００ｋＰａであることで、パネル、枠に悪い影響を与えること無く、均一に精度良く貼り合わせることができる。
【００２７】
［放射線像変換パネル］
本発明の放射線像変換パネルは、上記本発明の製造方法により製造される。当該放射線像変換パネルとなる前の放射線像変換パネル部材の好ましい態様は、以下の通りである。
【００２８】
（１）保護層表面のユニバーサル硬度が５５Ｎ／ｍｍ２以上である。
（２）放射線像変換パネルの長さ２０ｃｍに対する撓み量が２０ｍｍ未満である。
（３）蛍光体層が蓄積性蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなり、該蓄積性蛍光体粒子の充填率が６５容量％以上である。
（４）結合剤と蓄積性蛍光体粒子の重量混合比（前者／後者）が１／２５以下である。
（５）蛍光体層の層厚が２５０μｍ以上である。
（６）蛍光体層の保護層とは反対側の表面に光反射層が設けられていて、蓄積性蛍光体粒子の発光ピーク波長における該光反射層の反射率が７０％以上である。
【００２９】
以下に、本発明の放射線像変換パネルについて、図面を参照しながら詳細に述べる。
【００３０】
図２は、本発明の放射線像変換パネルの基本的な構成の例を概略的に示す断面図である。放射線像変換パネル２０は、順に支持体２２、蛍光体層２４、および保護層２６から構成される。
【００３１】
本発明において、保護層２６の表面のユニバーサル硬度は５３Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、７０Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましい。ここで、ユニバーサル硬度は、ＤＩＮ５０３５９、ＩＳＯ１４５７７に準処した硬度ＨＵを意味し、負荷した荷重Ｆとくぼみの表面積Ａ（ｈ）との商として定義される。具体的には、保護層表面を微小硬度計（フィッシャースコープＨ１００Ｃ）を用いて、ビッカース圧子、荷重Ｆ１００ｍＮ、荷重アプリケーション時間５０秒の条件にて測定して得られた値（押し込み深さｈ）と、負荷荷重Ｆとから、下記（１）式により求められる値である（くぼみの表面積Ａ（ｈ）は、押し込み深さｈから（２）式により算出される）。
【００３２】
ＨＵ ＝ Ｆ／Ａ（ｈ） ＝ Ｆ／｛２６．４３×ｈ２｝ …（１）
【００３３】
Ａ（ｈ） ＝ ４×ｓｉｎ（α／２）／ｃｏｓ２（α／２） × ｈ２ …（２）
（α：１３６゜）
【００３４】
また、保護層２６は、その表面粗さが０．１０乃至０．５０μｍの範囲にある。好ましくは、表面粗さは０．１２乃至０．３０μｍの範囲にある。ここで、表面粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定された表面粗さＲａ（算術平均粗さ）であり、粗さ曲線からその平均線の方向の基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し平均して得られる値である。
【００３５】
さらに、保護層２６は、その層厚が１乃至４０μｍの範囲にあることが好ましく２乃至２０μｍの範囲にあることがより好ましい。
【００３６】
上述したように、保護層２６の表面硬度、表面粗さおよび層厚をそれぞれ特定の範囲内とすることにより、保護層表面に傷がつきにくくなり、また傷がついたとしても目立ちにくくなり、よって耐傷性を顕著に高めることができる。特に、放射線画像の高い画質を維持しながら、耐傷性を向上させることができる。
【００３７】
さらに、耐傷性の点から、放射線像変換パネルは、その端部から長さ２０ｃｍの部分を支持して端部を撓ませたときに、支持部からの鉛直方向の長さで表した撓み量が２０ｍｍ未満であることが好ましい。好ましくは、撓み量は１０ｍｍ以下である。撓み量は、例えば支持体２２の裏面に硬い第二の支持体を設けることにより小さくすることができる。このようにパネルの撓み量を小さくして柔軟性を低くすることによって、パネルの取扱いが容易になり、結果としてパネル表面の耐傷性を高めることができる。
【００３８】
蛍光体層２４は、一般には蓄積性蛍光体を含む層であり、通常は蓄積性蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる層である。画質の点から、蛍光体層中の蛍光体粒子の充填率は６５容量％以上であることが好ましく、特に好ましくは７０容量％以上である。同様に画質の点から、結合剤と蛍光体粒子の重量混合比（前者／後者）は１／２５以下であることが好ましく、そして蛍光体層２４の層厚は２５０μｍ以上であることが好ましい。これらにより、Ｘ線等の放射線に対する吸収率を高めることができる。
【００３９】
画質の点から更に、蛍光体層２４の片面には光反射層が設けられていることが好ましい。光反射層は、蓄積性蛍光体粒子の発光ピーク波長における反射率が７０％以上であることが好ましい。これにより、発光光の取出し効率を高めることができる。
【００４０】
なお、本発明の放射線像変換パネルにおいて、保護層２６は、単層である必要はなく、二層以上の層から構成されていてもよい。
【００４１】
本発明の放射線像変換パネルは、例えば以下のようにして製造することができる。まず、支持体は通常、柔軟な樹脂材料からなる厚みが５０μｍ乃至１ｍｍのシートあるいはフィルムを使用する。支持体は透明であってもよく、あるいは支持体に、励起光もしくは発光光を反射させるための光反射性材料（例、アルミナ粒子、二酸化チタン粒子、硫酸バリウム粒子）を充填してもよく、あるいは空隙を設けてもよい。または、支持体に励起光もしくは発光光を吸収させるため光吸収性材料（例、カーボンブラック）を充填してもよい。支持体の形成に用いることのできる樹脂材料の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂などの各種樹脂材料を挙げることができる。さらに、画像の鮮鋭度を高める目的で、支持体の蛍光体層が形成される側の表面（支持体表面に下塗層、光反射層あるいは光吸収層等の補助層が設けられる場合には、それら補助層の表面であってもよい）には微小な凹凸が形成されていてもよい。必要に応じて、支持体は金属シート、セラミックシート、ガラスシートなどであってもよい。
【００４２】
支持体の片面（蛍光体層または光反射層が設けられる側とは反対側の表面）には、前述したようにパネルの柔軟性を低くするために、カーボンシートなど硬くて軽量の材料からなる第二の支持体が設けられてもよい。
【００４３】
支持体上には、光反射性物質と結合剤とからなる光反射層が設けられてもよい。光反射性物質の例としては、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＢａＳＯ４、ＳｉＯ２、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＣａＣＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、２ＰｂＣＯ３・Ｐｂ（ＯＨ）２、ＰｂＦ２、ＢｉＦ３、Ｙ２Ｏ３、ＹＯＣｌ、ＭＩＩＦＸ（ＭＩＩはＢａ、Ｓｒ及びＣａのうちの少なくとも一種であり、ＸはＣｌ及びＢｒのうちの少なくとも一種である）、リトボン（ＢａＳＯ４＋ＺｎＳ）、ケイ酸マグネシウム、塩基性ケイ硫酸鉛、塩基性リン酸鉛、ケイ酸アルミニウムなどの白色顔料、および中空ポリマーを挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは組み合わせて用いてもよい。これらのうちでも高い屈折率を有する好ましい物質は、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２である。
【００４４】
光反射層は、前述したように蓄積性蛍光体の発光ピーク波長における反射率が７０％以上であることが好ましい。また、励起光に対する散乱長（励起光が一回散乱するまでに直進する平均距離を意味し、散乱長が短いほど光散乱性が高い。散乱長は、光反射層の透過率の測定値から、クベルカ・ムンクの理論に基づく計算方法により決定することができる）が５μｍ以下であることが好ましく、そのためには、光反射性物質の平均粒子径は励起光の波長の１／４乃至２倍の範囲にあることが好ましい。通常使用される励起光の波長は５００〜８００ｎｍの範囲にあるので、光反射性物質の平均粒子径は０．１乃至２．０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００４５】
また、光反射性物質のＢＥＴ比表面積（単位質量当たりの表面積）は、一般には１．５ｍ２／ｇ以上であり、好ましくは２乃至１０ｍ２／ｇの範囲であり、より好ましくは２．５乃至８ｍ２／ｇの範囲にある。光反射性物質の嵩密度（粉体の質量を、粉体を振動によって最密に充填したときの嵩体積で割った値）は、１ｍｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、より好ましくは０．６ｍｇ／ｃｍ３以下である。
【００４６】
光反射層の形成は、上記の微粒子状の光反射性物質を結合剤と共に有機溶剤に分散溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を支持体の表面に均一に塗布し、乾燥することにより行う。塗布液中の結合剤と光反射性物質の比率は、一般に１：１０乃至１：５０（重量比）の範囲にあり、好ましくは１：１０乃至１：２０（重量比）の範囲にある。結合剤および有機溶剤としては、後述する蛍光体層形成用の塗布液に使用できる結合剤および溶剤の中から任意に選択して用いることができる。塗布液には更に、光反射性物質の分散性を高める目的で、アルミニウム系カップリング剤、チタネート系カップリング剤およびシランカップリング剤などの分散剤を添加してもよい。塗布操作は、通常の塗布手段、例えばドクターブレード、ロールコータ、ナイフコータなどを用いる方法により行うことができる。光反射層の層厚は、一般には５乃至１００μｍの範囲にある。
【００４７】
なお、支持体と光反射層との間には、両者の接着性を高めるために、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などからなる接着層が設けられてもよいし、あるいは帯電防止のために、これら樹脂中に導電剤が含有された導電層が設けられてもよい。
【００４８】
支持体（または光反射層）上には、蓄積性蛍光体粒子と結合剤とからなる蛍光体層が設けられる。蓄積性蛍光体としては、波長が４００〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射により、３００〜５００ｎｍの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が好ましい。そのような好ましい輝尽性蛍光体の例としては、ユーロピウム又はセリウムで付活したアルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体（例、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ、およびＢａＦ（Ｂｒ，Ｉ）：Ｅｕ）、およびセリウム付活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体を挙げることができる。
【００４９】
これらのうちでも、基本組成式（Ｉ）「ＭＩＩＦＸ：ｚＬｎ」で代表される希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は特に好ましい。ただし、ＭＩＩはＢａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属を表し、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ、Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素を表す。Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表す。ｚは、０＜ｚ≦０．２の範囲内の数値を表す。
【００５０】
上記基本組成式（Ｉ）中のＭＩＩとしては、Ｂａが半分以上を占めることが好ましい。Ｌｎとしては、特にＥｕ又はＣｅであることが好ましい。また、基本組成式（Ｉ）では表記上Ｆ：Ｘ＝１：１のように見えるが、これはＢａＦＸ型の結晶構造を持つことを示すものであり、最終的な組成物の化学量論的組成を示すものではない。一般に、ＢａＦＸ結晶においてＸ−イオンの空格子点であるＦ＋（Ｘ−）中心が多く生成された状態が、６００〜７００ｎｍの光に対する輝尽効率を高める上で好ましい。このとき、ＦはＸよりもやや過剰にあることが多い。
【００５１】
なお、基本組成式（Ｉ）では省略されているが、必要に応じて下記のような添加物を基本組成式（Ｉ）に加えてもよい。
【００５２】
「ｂＡ， ｗＮＩ， ｘＮＩＩ， ｙＮＩＩＩ」
【００５３】
上記式中、ＡはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２及びＺｒＯ２などの金属酸化物を表す。ＭＩＩＦＸ粒子同士の焼結を防止する上では、一次粒子の平均粒径が０．１μｍ以下の超微粒子でＭＩＩＦＸとの反応性が低いものを用いることが好ましい。ＮＩは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属の化合物を表し、ＮＩＩは、Ｍｇ及び／又はＢｅからなるアルカリ土類金属の化合物を表し、ＮＩＩＩは、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属の化合物を表す。これらの金属化合物としてはハロゲン化物を用いることが好ましいが、それらに限定されるものではない。
【００５４】
また、ｂ、ｗ、ｘ及びｙはそれぞれ、ＭＩＩＦＸのモル数を１としたときの仕込み添加量であり、０≦ｂ≦０．５、０≦ｗ≦２、０≦ｘ≦０．３、０≦ｙ≦０．３の各範囲内の数値を表す。これらの数値は、焼成やその後の洗浄処理によって減量する添加物に関しては最終的な組成物に含まれる元素比を表しているわけではない。また、上記化合物には最終的な組成物において添加されたままの化合物として残留するものもあれば、ＭＩＩＦＸと反応する、あるいは取り込まれてしまうものもある。
【００５５】
その他、上記基本組成式（ＩＩ）には更に必要に応じて、Ｚｎ及びＣｄ化合物；ＴｉＯ２、ＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＴｈＯ２等の金属酸化物；Ｚｒ及びＳｃ化合物；Ｂ化合物；Ａｓ及びＳｉ化合物；テトラフルオロホウ酸化合物；ヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロチタン酸、及びヘキサフルオロジルコニウム酸の１価又は２価の塩からなるヘキサフルオロ化合物；Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉなどの遷移金属の化合物などを添加してもよい。さらに、本発明においては上述した添加物を含む蛍光体に限らず、基本的に希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体とみなされる組成を有するものであれば如何なるものであってもよい。
【００５６】
上記基本組成式（Ｉ）で表される希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は、通常はアスペクト比が１．０乃至５．０の範囲にある。本発明に用いられる蓄積性蛍光体粒子は一般に、アスペクト比が１．０乃至２．０（好ましくは、１．０乃至１．５）の範囲、粒子サイズのメジアン径（Ｄｍ）が２μｍ乃至１０μｍ（好ましくは、２μｍ乃至７μｍ）の範囲、そして粒子サイズ分布の標準偏差をσとしたときのσ／Ｄｍが５０％以下（好ましくは、４０％以下）のものである。また、粒子の形状としては、直方体型、正六面体型、正八面体型、１４面体型、これらの中間多面体型および不定型粉砕粒子などがあるが、それらのうちでは１４面体型が好ましい。
【００５７】
ただし、本発明において蓄積性蛍光体は、上記基本組成式（Ｉ）で表される輝尽性蛍光体に限定されるものではない。
【００５８】
蓄積性蛍光体粒子は、粒状性などの画質の点から、粒子径の異なる二種類以上の蛍光体粒子の混合物であることが好ましい。その場合に、最小の蛍光体粒子の平均粒子径Ｄｍａ（メジアン粒径：蛍光体粒子について粒径と頻度とからなる分布曲線を得たときに累積分布が全体粒子数の５０％を示す粒径（分布の中心値）を意味する）が１．０乃至３．５μｍの範囲にあり、最大の蛍光体粒子の平均粒子径ＤｍｂとＤｍａの比（Ｄｍｂ／Ｄｍａ）が２．０以上であることが好ましい。混合物中における最小の蛍光体粒子の割合は重量比で１０％以上、５０％以下であることが好ましく、最大の蛍光体粒子の割合は重量比で５０％以上、９０％以下であることが好ましい。
【００５９】
蛍光体層の形成は、まず上述した蓄積性蛍光体粒子、好ましくは粒子径の異なる二種類以上の蛍光体粒子の混合物を、結合剤と共に適当な有機溶剤に分散溶解して塗布液を調製する。塗布液中の結合剤と蛍光体の比率は、一般に１：１乃至１：１００（重量比）の範囲にあり、好ましくは１：２５乃至１：５０（重量比）の範囲にある。
【００６０】
蓄積性蛍光体粒子を分散支持する結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴムのような天然高分子物質；および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル（メタ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステル、熱可塑性エラストマーなどのような合成高分子物質を挙げることができる。なお、これらの結合剤は架橋剤によって架橋されたものであってもよい。
【００６１】
塗布液調製用の有機溶剤の例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール等の低級アルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル；そして、それらの混合物を挙げることができる。
【００６２】
塗布液にはさらに、塗布液中における蛍光体の分散性を向上させるための分散剤、形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向上させるための可塑剤、蛍光体層の変色を防止するための黄変防止剤、硬化剤、架橋剤など各種の添加剤が混合されていてもよい。
【００６３】
この塗布液を次に、支持体の表面に前記の塗布手段を用いて均一に塗布して塗膜を形成する。この塗膜を乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによっても異なるが、一般には２０μｍ乃至１ｍｍの範囲にあり、好ましくは２５０乃至５００μｍの範囲にある。
【００６４】
蛍光体層には更にカレンダー処理などの圧縮処理を施してもよく、これにより、蛍光体層中の蓄積性蛍光体粒子の充填率をより一層高めて６５容量％以上とすることができる。
【００６５】
蛍光体層は、必ずしも一層である必要はなく、二層以上で構成されていてもよく、その場合には各層の蛍光体の種類や粒子径、結合剤と蛍光体との混合比を任意に変えて、用途に応じて蛍光体層の発光特性および放射線や励起光に対する吸収・散乱特性を変更することができる。また、必ずしも蛍光体層を支持体（または光反射層）上に直接形成する必要はなく、別に用意した基板（仮支持体）上に蛍光体層を形成した後、蛍光体層を基板から引き剥がし、支持体上に接着剤などを用いて接着してもよい。
【００６６】
蓄積性蛍光体層の表面には、放射線像変換パネルの搬送および取扱い上の便宜や特性変化の回避のために、保護層が設けられる。本発明において保護層は、前述したように、表面のユニバーサル硬度が５３Ｎ／ｍｍ２以上であり、表面粗さが０．１０乃至０．５０μｍの範囲にあるものである。また、保護層は、励起光の入射や発光光の出射に殆ど影響を与えないように、透明であることが望ましく、また外部から与えられる物理的衝撃や化学的影響から放射線像変換パネルを充分に保護することができるように、化学的に安定で防湿性が高く、かつ高い物理的強度を持つことが望ましい。
【００６７】
保護層としては、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート、有機溶媒可溶性フッ素系樹脂などのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、あるいはポリエチレンテレフタレートなどの有機高分子フィルムからなる保護層形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したものなどが用いられる。また、保護層中には酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、アルミナ等の光散乱性微粒子、パーフルオロオレフィン樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末等の滑り剤、およびポリイソシアネート等の架橋剤など各種の添加剤が分散含有されていてもよい。保護層の層厚は、一般に１乃至４０μｍの範囲にあり、好ましくは２乃至２０μｍの範囲にある。
【００６８】
保護層は二層以上から構成されていてもよく、例えば上記の層の表面に更に、耐汚染性および表面硬度を高めるためにフッ素樹脂塗布層が設けられてもよい。フッ素樹脂塗布層は、フッ素樹脂を有機溶媒に溶解（または分散）させて調製したフッ素樹脂溶液を上記層の表面に塗布し、乾燥することにより形成することができる。フッ素樹脂は単独で使用してもよいが、通常はフッ素樹脂と膜形成性の高い樹脂との混合物として使用する。また、ポリシロキサン骨格を持つオリゴマーあるいはパーフルオロアルキル基を持つオリゴマーを併用することもできる。フッ素樹脂塗布層には、干渉むらを低減させて更に放射線画像の画質を向上させるために、微粒子フィラーを充填することもできる。フッ素樹脂塗布層の層厚は通常は０．５μｍ乃至２０μｍの範囲にある。フッ素樹脂塗布層の形成に際しては、架橋剤、硬膜剤、黄変防止剤などのような添加成分を用いることができる。特に架橋剤の添加は、フッ素樹脂塗布層の耐久性の向上に有利である。
【００６９】
保護層の表面には、エンボスロール等を用いて温度および圧力を掛けながら表面処理を施すことが望ましい。これにより、保護層表面に微小の凹凸を設けて所望の表面粗さとすることができる。
【００７０】
上述のようにして本発明の放射線像変換パネルが得られるが、本発明のパネルの構成は、公知の各種のバリエーションを含むものであってもよい。例えば、放射線画像の鮮鋭度を向上させることを目的として、上記の少なくともいずれかの層を、励起光を吸収し発光光は吸収しないような着色剤によって着色してもよい。あるいは、更にＸ線などの放射線を吸収して紫外乃至可視領域に瞬時発光を示す蛍光体（放射線吸収用蛍光体）を含有する層を設けてもよい。そのような蛍光体の例としては、ＬｎＴａＯ４：（Ｎｂ，Ｇｄ）系、Ｌｎ２ＳｉＯ５：Ｃｅ系、ＬｎＯＸ：Ｔｍ系（Ｌｎは希土類元素である）、ＣｓＸ系（Ｘはハロゲンである）、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｐｒ，Ｃｅ、ＺｎＷＯ４、ＬｕＡｌＯ３：Ｃｅ、Ｇｄ３Ｇａ５Ｏ１２：Ｃｒ，Ｃｅ、ＨｆＯ２等を挙げることができる。
【実施例１】
【００７１】
（放射線像変換パネル部材の作製）
（１）蛍光体シートの作製：
蛍光体：１４面体型ＢａＦ（Ｂｒ０．８５Ｉ０．１５）：Ｅｕ２＋蛍光体粒子
平均粒子径Ｄｍ：７．２μｍ １７５ｇ
平均粒子径Ｄｍ：２．４μｍ ７５ｇ
結合剤：ＨＤＩ系ポリウレタンエラストマー（パンデックスＴ−５２６５Ｈ［固形］、大日本インキ化学工業（株）製） ７．１ｇ
架橋剤：ＨＤＩ系ポリイソシアネート（コロネートＨＸ［固形分１００％］、日本ポリウレタン工業（株）製） ０．９０ｇ
黄変防止剤：エポキシ樹脂（エピコート＃１００１［固形］、油化シェルエポキシ（株）製） ２．０ｇ
着色剤：群青（ＳＭ−１、第一化成工業（株）製） ０．０２２ｇ
【００７２】
上記組成の材料をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）とともに撹拌容器に投入し、容器の周囲に冷却水を流しながら回転速度２５００ｒｐｍ（周速度約１８ｍ／秒）で２時間撹拌を行って、蛍光体粒子を分散させ、粘度３．０Ｐａ・ｓ（２５℃）の塗布液（結合剤／蛍光体の重量比：１／２５）を調製した。この塗布液を、シリコーン系離型剤が塗布されたポリエチレンテレフタレートシート（仮支持体、厚み：１９０μｍ）の表面に、ドクターブレードを用いて４００ｍｍの幅で塗布し乾燥したのち仮支持体から引き剥がして、蛍光体シートを作製した。
【００７３】
（２）導電層の形成：
導電剤：ＳｎＯ２（Ｓｂドープ）針状微粒子（長軸：０．２〜２μｍ、短軸：０．０１〜０．０２μｍ、ＦＳ−１０Ｐ、石原産業（株）製）のＭＥＫ分散体（固形分３０重量％） ５０ｇ
樹脂：飽和ポリエステル樹脂（バイロン３００、東洋紡（株）製） ６ｇ
硬化剤：ポリイソシアネート（オレスターＮＰ３８−７０Ｓ［固形分７０％］、三井化学（株）製） ２ｇ
【００７４】
上記組成の材料をＭＥＫに加え、混合分散して粘度０．０２〜０．０５Ｐａ・ｓの塗布液を調製した。この塗布液をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）シート（第一支持体、厚み：１８８μｍ、ヘイズ度：約２７、ルミラーＳ−１０、東レ（株）製）の表面に、ドクターブレードを用いて塗布し乾燥して、導電層（層厚：２μｍ）を形成した。
【００７５】
（３）光反射層の形成：
光反射性物質：高純度アルミナ微粒子（平均粒子径：０．４μｍ、ＵＡ−５１０５、昭和電工（株）製） ４４４ｇ
結合剤：軟質アクリル樹脂（クリスコートＰ−１０１８ＧＳ［２０％トルエン溶液］、大日本インキ化学工業（株）製） １００ｇ
着色剤：群青（ＳＭ−０３Ｓ、第一化成工業（株）製） ２．２ｇ
【００７６】
上記組成の材料をＭＥＫに加え、混合分散して粘度２〜３Ｐａ・ｓの塗布液を調製した。この塗布液を導電層の表面にドクターブレードを用いて塗布し乾燥して、光反射層（層厚：約１００μｍ）を形成した。前記蛍光体粒子の発光ピーク波長（４００ｎｍ）における光反射層の反射率は９８％であった。
【００７７】
（４）蛍光体層の付設：
第一支持体の光反射層表面に、上記蛍光体シートを塗布形成時の裏面（仮支持体側）が接するようにして重ね、これをカレンダー機（金属ロール、ロール径：２００μｍ）を用いて熱圧縮した。これにより、蛍光体層は光反射層に完全に融着した。
【００７８】
（５）保護層の形成：
高分子物質：フルオロオレフィン・ビニルエーテル共重合体（ルミフロンＬＦ５０４Ｘ［３０％キシレン溶液］、旭硝子（株）製） ９２．５ｇ
架橋剤：ポリイソシアネート（スミジュールＮ３５００［不揮発分１００％］、住友バイエルウレタン（株）製） ５．０ｇ
滑り剤：アルコール変性シリコーン（Ｘ−２２−２８０９［不揮発分６６％、キシレン含有ペースト］、信越化学（株）製） ０．５ｇ
フィラー：メラミン−ホルムアルデヒド微粒子（平均粒子径：０．６μｍ、エポスターＳ６、（株）日本触媒製） ６．５ｇ
カップリング剤：アセトアルコキシアルミニウムイソプロピレート（プレンアクトＡＬ−Ｍ、味の素（株）製） ０．１ｇ
触媒：ジブチルチンジラウレート（ＫＳ１２６０、共同薬品（株）製） ０．３５ｍｇ
【００７９】
上記組成の材料をＭＥＫに加え、混合溶解、分散して塗布液を調製した。この塗布液をＰＥＴフィルム（厚み：６μｍ、ルミラー６Ｃ−Ｆ５３、東レ（株）製）の表面に塗布し乾燥して、塗布層（層厚：２μｍ）を形成した。ＰＥＴフィルムの塗布層とは反対側に、飽和ポリエステル樹脂（バイロン３０ＳＳ、東洋紡（株）製）の溶液を塗布し乾燥して、接着層を設けた。このＰＥＴフィルムを接着層を介して、蛍光体層の表面にラミネートロールを用いて接着して、二層構成の保護層（層厚：８μｍ）を設けた。
【００８０】
保護層の表面を、微小の凹凸を有するロールを用いて温度５０℃で圧力を掛けながら表面処理してエンボスパターンを付け、表面粗さＲａを０．２０μｍとした。
【００８１】
（６）縁貼り（枠）の形成：
得られた積層体を４３０ｍｍ×３５４ｍｍのサイズに裁断した後、積層体の周囲側面にフッ素含有樹脂溶液を１ｍｍ厚で塗布し乾燥して、縁貼りを設け、放射線像変換パネル部材を作製した。
【００８２】
（放射線像変換パネルの製造）
（１）材料の準備：
高さ１．５ｍｍの枠（幅５ｍｍ）が４辺に形成されている平面基板（枠内寸法３５５×４３１ｍｍ）と、上記放射線増変換パネル部材、両面接着シート（３Ｍ（スリーエム）社製４５９７ＦＬ、寸法３５３ｍｍ×４２９ｍｍ）を用意した。
【００８３】
（２）両面接着シートの平面基板への貼付け：
貼付装置としては図１に示す構成の装置を使用した。具体的には、ゴム硬度５０、厚さ８ｍｍのＮＢＲゴムシート（硬度５０、１０９〜１０１０Ω／ｃｍ ＰＥＴとの静止摩擦係数０．６）を剛直な７００ｍｍφ円筒曲面に貼り付け、表面（保持面）の寸法が３５４ｍｍ×４３０ｍｍであり、端面は円筒面と垂直となるよう加工されたものを用意した。吸着孔は径１．５ｍｍφのものをゴム貼付部表面に、幅方向に６ｍｍ間隔で６０個、前後（動作）方向に４ｍｍ間隔で３行の孔を空け、左記を１パターンとして前後（動作）方向に１０ｍｍの間隔を置いて２パターン作成、さらにそれらを１セットとしてゴム貼付前後端部、及び中央に全３セット作成した。真空ポンプ（ＯＲＩＯＮ ＤＲＹ−ＰＵＭＰ ＫＲＸ３−ＳＳ−４００２−Ｇ１）を用いて調整弁にて７０ｋＰａでエア吸引可能としている。
【００８４】
ＮＢＲゴムシート表面の埃を完全に除去し、両面接着シート（４５９７ＦＬ）をＮＢＲゴムシート表面の中央に貼り付け、エア吸引により吸着させた。両面接着シートの表面側離型フィルムを剥がして、接着面を露出させた。
【００８５】
枠が形成された平面基板の枠内面が平面となる様な台上に固定し、基板表面の埃を完全に除去した。その後、全体として両面接着シートが平面基板枠内の中央に貼られる様に、保持面の一端の直線部を先頭部として基板枠内にマイクロメータ及び、基板搬送モータ設定により位置合せを行い２０ｋｇｆの初期荷重で押し付け、その後連続して５０ｋｇｆの荷重で均一に押し付けた。その後、同荷重を保ちながらドラムを回転させ、さらにその回転外周速度と同期させた速度（５０ｍｍ／ｓ）で平面基板を平行移動して、ＮＢＲゴムシート表面の両面接着層表面が基板と順次密着された。その際、密着された部分のエア吸引は速やかに終了されながら実施された。
【００８６】
ドラムの回転と平面基板との平行移動は接着層がすべて基板に密着されるまで続けられる事で、両面接着シートは基板枠内中央に完全密着された。目視で貼り付けられた両面接着シートを観察するとゴミ、気泡は見られなかった。
【００８７】
（３）放射線変換パネル部材の平面基板への貼付け：
次に両面接着シートの代わりに放射線変換パネルの読取面側をＮＢＲゴムシート表面に吸着させ、同様に貼り合わせて、放射線像変換パネルを製造した。
【００８８】
なお、貼合せ直前に基板の両面接着シートの離型フィルムは剥がされた状態とした。目視で貼り付けられた放射線像変換パネルを観察すると、基板枠内中央に貼付けられており、剥がれ、浮き上がり、表面の傷はなく、放射線像変換パネル部材にダメージは見られなかった。
【００８９】
上記（１）〜（３）の処理を行って、さらに３つの放射線像変換パネルを作製し、貼付け位置のズレを基板枠内側とＩＰ端部の間隔を４辺各々ノギスで測定した。上記いずれの放射線像変換パネルについてもズレはすべての箇所において０．５ｍｍ以内であった。
以上から、放射線像変換パネル部材を精度よく、かつ、ダメージを与えないで基板に貼り合わせることが可能であることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の貼付装置の要部を説明する概略説明図である。
【図２】放射線変換パネル部材の層構成を例示する概略断面図である。
【符号の説明】
【００９１】
１０・・・貼付装置
１２ａ・・・ドラム
１２ｂ・・・保持部
１２ｃ・・・吸引孔
１４・・・放射線像変換パネル部材
１６・・・基板
１８・・・粘着層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、貼付装置、放射線像変換パネルの製造方法、および放射線像変換パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線、γ線、電子線等の放射線や紫外線等により励起すると、近紫外領域から青色領域に発光（瞬時発光）を示す二価ユーロピウム賦活フッ化ハロゲン化バリウム蛍光体（ＢａＦＸ：Ｅｕ２＋，但し、Ｘはフッ素以外のハロゲン原子を表す。）が知られており、Ｘ線撮影等に利用される放射線増感スクリーン用の蛍光体として使用されている。
【０００３】
さらに近年では、蛍光体にＸ線、γ線、電子線等の放射線や紫外線等を照射した後、可視光線から赤外線に及ぶ波長領域の電磁波（励起光）で励起すると、近紫外領域から青色領域に及ぶ波長領域の発光（輝尽発光）を示すことが見出され、このような蛍光体は、放射線撮影において、従来の放射線写真法に代替する放射線像変換技術に有用な蛍光体として、非常に注目されている。
【０００４】
この放射線像変換技術は、支持体上に輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層が設けられた放射線像変換パネル（蓄積性蛍光シート）を利用するものであり、被写体を透過した放射線又は被写体から発せられた放射線をパネル上の輝尽性蛍光体に吸収させた後、輝尽性蛍光体を可視光線から赤外線に及ぶ波長領域より選ばれる電磁波（励起光）を用いて時系列的に励起することによって、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光）として放出させ、光電的に読み取ることにより電気信号を得、得られた電気信号を画像化するものである。
【０００５】
この放射線像変換パネルを用いることにより、従来の放射線写真法に比べ、少ない被爆量で画像形成することが可能となり、また、得られた画像をコンピュータにより画像処理することができるため、さらに情報量の豊富な放射線画像を得ることができるとともに、撮影不良画像の救済も可能となる。
【０００６】
放射線像変換パネルの製造方法としては、種々の方法が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。特許文献１では、蛍光体プレートの平面を保持しながら位置決めを行ない、第１のベースと離れた第２のベース上で平板の位置決めを行ない、封止蛍光体プレート、平板のうち少なくともどちらか一方を他方へ移動させて貼り付けを行なって、放射線像変換パネルを製造する方法が提案されている。また、特許文献２では、蛍光体シートと平板を平行状態に保持し、接触／離反により貼り合せて放射線像変換パネルを製造する方法が提案されている。しかし、これらの方法では、枠構造を有する剛直基板にＩＰを位置精度良く貼り付けることは非常に困難である。
【０００７】
また、特許文献３で提案されている技術は、枠付きＬＣＤパネルへの偏光板貼付け装置の技術であり、段部を有する枠付きＬＣＤパネルの凹部へ偏光板を貼り付ける装置で、半円筒形状のゴムローラを具備する貼付け装置である。しかし、当該装置では、枠構造を有する剛直基板に対して重量があり、傷が付き易いＩＰを保持し、均一に貼り付けることは不可能である。
【特許文献１】特開平１１−２９５８２８号公報
【特許文献２】特開２００５−１６４５１８号公報
【特許文献３】特開平８−２８２９０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明では、上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、放射線像変換パネル部材を精度よく、かつ、ダメージを与えないで基板に貼り合わせることが可能な貼付装置および放射線像変換パネルの製造方法を提供することを目的とする。また、基板上に放射線像変換パネル部材が精度よく、かつ、ダメージが与えられないで製造された放射線像変換パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者等は、下記本発明に想到し、当該課題を解決できることを見出した。すなわち、本発明は、放射線像変換パネル部材を基板上に貼りあわせる貼付装置であって、前記放射線像変換パネル部材を保持する保持手段を有し、当該保持手段の保持面が曲面状となっており、前記保持手段が転動可能となっていることを特徴とする貼付装置である。
【００１０】
本発明の貼付装置には、下記第１〜第７の態様のうち少なくともいずれかの態様が適用されていることが好ましい。
【００１１】
（１）第１の態様は、前記保持手段が前記放射線像変換パネル部材に負圧を生じさせる減圧手段であり、前記保持面の前記放射線像変換パネル部材との摩擦係数が０．１〜０．９である態様である。
（２）第２の態様は、前記基板の周囲に枠が設けられており、前記保持手段の保持面が凸面となっており、当該保持面の高さが、前記枠と前記基板の貼り合わせ面との高さの差より大きい態様である。
（３）第３の態様は、前記保持面に直径０．５〜３．０ｍｍの孔（吸引孔）を有し、当該孔の占める面積が前記保持面の０．１〜１０％である態様である。
（４）第４の態様は、前記保持面と前記基板の貼り合わせ面との相対位置を調整する調整機構を有する態様である。
（５）第５の態様は、前記保持面がゴム材料からなり、その硬度が３０〜９０である態様である。
（６）第６の態様は、前記保持面の表面抵抗の常用対数値（ｌｏｇＳＲ）が１３以下である態様である。
（７）第７の態様は、貼り合わせの際の圧力が２０〜２０００ｋＰａである態様である。
【００１２】
また、本発明は、前記放射線像変換パネル部材を湾曲させた状態で保持しながら、前記放射線像変換パネル部材の一端部を基板に接触させた後、前記放射線像変換パネル部材および基板のいずれかを移動させて、これらを貼り合わせることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。
さらに、本発明は、上記本発明の放射線像変換パネルの製造方法により製造されることを特徴とする放射線像変換パネルである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、放射線像変換パネル部材を精度よく、かつ、ダメージを与えないで基板に貼り合わせることが可能な貼付装置および放射線像変換パネルの製造方法を提供することができる。また、基板上に放射線像変換パネル部材が精度よく、かつ、ダメージが与えられないで製造された放射線像変換パネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［貼付装置および放射線像変換パネルの製造方法］
本発明の貼付装置は、放射線像変換パネル部材を基板上に貼りあわせる装置であって、図１に示すように、当該貼付装置１０は、放射線像変換パネル部材１４を保持する保持手段を有する。当該保持手段は、例えば、ドラム１２ａと保持面を形成する保持部１２ｂとを備える。そして、保持面は、曲面状（例えば、曲率半径：Ｒ（φ）＝２０〜３００ｃｍ）となっており、保持手段におけるドラム１２ａは矢印Ａ方向に転動可能となっている。なお、ドラム１２ａを転動させずに基板１６を矢印Ｂ方向に移動させ、これに従動させる形で、ドラム１２ａを転動（回転）させてもよい。
【００１５】
ドラム１２ａや基板１６を移動させる場合、保持面と基板の貼り合わせ面との相対位置を調整する調整機構を有することが好ましい。具体的には、マイクロメータにより基板搬送モータを制御して上記相対位置を調整することが好ましい。また、マイクロメータにより相対基板位置を調整しても良いし、ステッピングモータのパルス数を制御して上記相対位置を調整しても良い。
【００１６】
保持手段による放射線像変換パネル部材１４の保持方法としては、例えば、保持面に静電気をかけて静電力により当該部材を保持する方法；保持面に粘着剤を塗布してその粘着力により当該部材を保持する方法；放射線像変換パネル部材に負圧を生じさせる減圧手段を設け、吸引力により当該部材を保持する方法；が挙げられる。これらの方法のなかでも、保持面への放射線像変換パネル部材の保持や基板への貼り合わせといった、保持・剥離の制御性を考慮して、減圧手段を設け、吸引力により当該部材を保持する方法を採用することが好ましい。
【００１７】
減圧手段としては、図１に示すように、保持部に孔として吸引孔１２ｃを複数設けて、不図示のポンプにより矢印Ｘ方向に減圧し、放射線像変換パネル部材１４に負圧を生じさせて、これを保持することが好ましい。負圧は、３０〜１００ｋＰａであることが好ましい。また、吸引孔１２ｃは、少なくとも、放射線像変換パネル部材１４の四隅にあることが好ましい。孔の直径は０．５〜３．０ｍｍが好ましく、さらには１．０〜２．０ｍｍの範囲がより好ましい。孔が占める面積は保持面に対し、０．１〜１０％である事が好ましく、より好ましくは０．５〜５％の範囲である。このような範囲とすることで、放射線像変換パネル部材などの被保持部材に損傷を与えることなく良好にこれを保持することができる。
【００１８】
当該装置を使用して、放射線像変換パネルを製造する場合は、まず、放射線像変換パネル部材１４を湾曲させた状態で保持部１２ｂの保持面に保持しながら、この放射線像変換パネル部材１４の一端部を基板１６の枠内端部に接触させる。このとき、予め粘着層１８を基板１６の貼り合わせ面に形成しておくことが好ましい。その後、放射線像変換パネル部材１４および基板１６のいずれかを矢印Ａまたは矢印Ｂ方向に移動させて、これらを貼り合わせて放射線像変換パネルを製造する。
【００１９】
粘着層１８が形成されている場合は、その粘着力により放射線像変換パネル部材１４が保持面から剥離されて基板１６上に貼り合わされるが、確実に基板１６上に貼り合わせるために、貼り合わせ処理と共に負圧を小さくする等の保持力を低下させる処理を施すことが好ましい。
【００２０】
保持面の放射線像変換パネル部材１４との摩擦係数が０．１〜０．９であることが好ましく、０．５〜０．７であることがより好ましい。摩擦係数が０．１未満であると、保持面から放射線像変換パネル部材１４が滑りやすくなることがある。摩擦係数が０．９を超えると、放射線像変換パネル部材１４にシワが発生しやすくなることがある。
【００２１】
ここで、放射線像変換パネル部材１４とは、該部材の周囲に基板１６の枠が設けられる前のものをいい、当該部材だけでも放射線像変換パネルとして利用することができる。放射線像変換パネル部材１４の製造方法については後述する。
【００２２】
また、上記枠は、パネルの画像領域の保護、取り扱い、パネルの強度確保等のために設けられるものであり、基板の周囲に設けられている。枠は基板と同じ材質のものを使用してもよいが、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ＰＥ（ポリエチレン）等の樹脂などで構成される。
【００２３】
図１に示すように、保持手段の保持面は凸面となっているが、当該保持面の高さ（ｈ１）は、枠と基板の貼り合わせ面との高さの差（ｈ２）より大きいことが好ましく、「ｈ１−ｈ２」が０．５〜１０ｍｍであることが好ましい。「ｈ１＞ｈ２」であることで、枠とパネル部材もしくは貼付装置が干渉せず、精度良い貼付を行うことができる。
【００２４】
保持部１２ｂ（特に保持面）はゴム材料からなり、その硬度（ＪＩＳ Ｎｏ．Ｋ６３０１）が３０〜９０であることが好ましい。具体的には、表面層がシリコーンゴムシート（Ａ，Ｓラバー（宮川ロール） 硬度５０ 体積抵抗 １０１０Ω／ｃｍ ＰＥＴとの静止摩擦係数０．６５）、ニトリルゴム（ＪＳＲ−ＮＢＲ（ＪＲＳ製） 硬度５０ １０９Ω／ｃｍ 静止摩擦係数０．７や、Ｈｙｃａｒ（ＢＦ Ｇｏｏｄｒｉｃｈ社製）、Ｃｈｅｍｉｇｕｍ（Ｅｌｉｏｋｅｍ社製）、ポリサー（ランクセス社製））を使用することが好ましい。
【００２５】
保持面の表面抵抗の常用対数値（ｌｏｇＳＲ）が１３以下であることが好ましく、９〜１３であることがより好ましい。「ｌｏｇＳＲ」が１３を超えると、帯電によるごみの付着量が多くなることがある。表面抵抗の測定法は、体積固有抵抗（Ω／ｃｍ ２５℃でＡＳＴＭ Ｄ２５７により測定することができる。
【００２６】
貼り合わせの際の圧力は２０〜２０００ｋＰａであることが好ましく、４０〜２００ｋＰａであることがより好ましい。２０〜２０００ｋＰａであることで、パネル、枠に悪い影響を与えること無く、均一に精度良く貼り合わせることができる。
【００２７】
［放射線像変換パネル］
本発明の放射線像変換パネルは、上記本発明の製造方法により製造される。当該放射線像変換パネルとなる前の放射線像変換パネル部材の好ましい態様は、以下の通りである。
【００２８】
（１）保護層表面のユニバーサル硬度が５５Ｎ／ｍｍ２以上である。
（２）放射線像変換パネルの長さ２０ｃｍに対する撓み量が２０ｍｍ未満である。
（３）蛍光体層が蓄積性蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなり、該蓄積性蛍光体粒子の充填率が６５容量％以上である。
（４）結合剤と蓄積性蛍光体粒子の重量混合比（前者／後者）が１／２５以下である。
（５）蛍光体層の層厚が２５０μｍ以上である。
（６）蛍光体層の保護層とは反対側の表面に光反射層が設けられていて、蓄積性蛍光体粒子の発光ピーク波長における該光反射層の反射率が７０％以上である。
【００２９】
以下に、本発明の放射線像変換パネルについて、図面を参照しながら詳細に述べる。
【００３０】
図２は、本発明の放射線像変換パネルの基本的な構成の例を概略的に示す断面図である。放射線像変換パネル２０は、順に支持体２２、蛍光体層２４、および保護層２６から構成される。
【００３１】
本発明において、保護層２６の表面のユニバーサル硬度は５３Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、７０Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましい。ここで、ユニバーサル硬度は、ＤＩＮ５０３５９、ＩＳＯ１４５７７に準処した硬度ＨＵを意味し、負荷した荷重Ｆとくぼみの表面積Ａ（ｈ）との商として定義される。具体的には、保護層表面を微小硬度計（フィッシャースコープＨ１００Ｃ）を用いて、ビッカース圧子、荷重Ｆ１００ｍＮ、荷重アプリケーション時間５０秒の条件にて測定して得られた値（押し込み深さｈ）と、負荷荷重Ｆとから、下記（１）式により求められる値である（くぼみの表面積Ａ（ｈ）は、押し込み深さｈから（２）式により算出される）。
【００３２】
ＨＵ ＝ Ｆ／Ａ（ｈ） ＝ Ｆ／｛２６．４３×ｈ２｝ …（１）
【００３３】
Ａ（ｈ） ＝ ４×ｓｉｎ（α／２）／ｃｏｓ２（α／２） × ｈ２ …（２）
（α：１３６゜）
【００３４】
また、保護層２６は、その表面粗さが０．１０乃至０．５０μｍの範囲にある。好ましくは、表面粗さは０．１２乃至０．３０μｍの範囲にある。ここで、表面粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定された表面粗さＲａ（算術平均粗さ）であり、粗さ曲線からその平均線の方向の基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し平均して得られる値である。
【００３５】
さらに、保護層２６は、その層厚が１乃至４０μｍの範囲にあることが好ましく２乃至２０μｍの範囲にあることがより好ましい。
【００３６】
上述したように、保護層２６の表面硬度、表面粗さおよび層厚をそれぞれ特定の範囲内とすることにより、保護層表面に傷がつきにくくなり、また傷がついたとしても目立ちにくくなり、よって耐傷性を顕著に高めることができる。特に、放射線画像の高い画質を維持しながら、耐傷性を向上させることができる。
【００３７】
さらに、耐傷性の点から、放射線像変換パネルは、その端部から長さ２０ｃｍの部分を支持して端部を撓ませたときに、支持部からの鉛直方向の長さで表した撓み量が２０ｍｍ未満であることが好ましい。好ましくは、撓み量は１０ｍｍ以下である。撓み量は、例えば支持体２２の裏面に硬い第二の支持体を設けることにより小さくすることができる。このようにパネルの撓み量を小さくして柔軟性を低くすることによって、パネルの取扱いが容易になり、結果としてパネル表面の耐傷性を高めることができる。
【００３８】
蛍光体層２４は、一般には蓄積性蛍光体を含む層であり、通常は蓄積性蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる層である。画質の点から、蛍光体層中の蛍光体粒子の充填率は６５容量％以上であることが好ましく、特に好ましくは７０容量％以上である。同様に画質の点から、結合剤と蛍光体粒子の重量混合比（前者／後者）は１／２５以下であることが好ましく、そして蛍光体層２４の層厚は２５０μｍ以上であることが好ましい。これらにより、Ｘ線等の放射線に対する吸収率を高めることができる。
【００３９】
画質の点から更に、蛍光体層２４の片面には光反射層が設けられていることが好ましい。光反射層は、蓄積性蛍光体粒子の発光ピーク波長における反射率が７０％以上であることが好ましい。これにより、発光光の取出し効率を高めることができる。
【００４０】
なお、本発明の放射線像変換パネルにおいて、保護層２６は、単層である必要はなく、二層以上の層から構成されていてもよい。
【００４１】
本発明の放射線像変換パネルは、例えば以下のようにして製造することができる。まず、支持体は通常、柔軟な樹脂材料からなる厚みが５０μｍ乃至１ｍｍのシートあるいはフィルムを使用する。支持体は透明であってもよく、あるいは支持体に、励起光もしくは発光光を反射させるための光反射性材料（例、アルミナ粒子、二酸化チタン粒子、硫酸バリウム粒子）を充填してもよく、あるいは空隙を設けてもよい。または、支持体に励起光もしくは発光光を吸収させるため光吸収性材料（例、カーボンブラック）を充填してもよい。支持体の形成に用いることのできる樹脂材料の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂などの各種樹脂材料を挙げることができる。さらに、画像の鮮鋭度を高める目的で、支持体の蛍光体層が形成される側の表面（支持体表面に下塗層、光反射層あるいは光吸収層等の補助層が設けられる場合には、それら補助層の表面であってもよい）には微小な凹凸が形成されていてもよい。必要に応じて、支持体は金属シート、セラミックシート、ガラスシートなどであってもよい。
【００４２】
支持体の片面（蛍光体層または光反射層が設けられる側とは反対側の表面）には、前述したようにパネルの柔軟性を低くするために、カーボンシートなど硬くて軽量の材料からなる第二の支持体が設けられてもよい。
【００４３】
支持体上には、光反射性物質と結合剤とからなる光反射層が設けられてもよい。光反射性物質の例としては、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＢａＳＯ４、ＳｉＯ２、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＣａＣＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、２ＰｂＣＯ３・Ｐｂ（ＯＨ）２、ＰｂＦ２、ＢｉＦ３、Ｙ２Ｏ３、ＹＯＣｌ、ＭＩＩＦＸ（ＭＩＩはＢａ、Ｓｒ及びＣａのうちの少なくとも一種であり、ＸはＣｌ及びＢｒのうちの少なくとも一種である）、リトボン（ＢａＳＯ４＋ＺｎＳ）、ケイ酸マグネシウム、塩基性ケイ硫酸鉛、塩基性リン酸鉛、ケイ酸アルミニウムなどの白色顔料、および中空ポリマーを挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは組み合わせて用いてもよい。これらのうちでも高い屈折率を有する好ましい物質は、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２である。
【００４４】
光反射層は、前述したように蓄積性蛍光体の発光ピーク波長における反射率が７０％以上であることが好ましい。また、励起光に対する散乱長（励起光が一回散乱するまでに直進する平均距離を意味し、散乱長が短いほど光散乱性が高い。散乱長は、光反射層の透過率の測定値から、クベルカ・ムンクの理論に基づく計算方法により決定することができる）が５μｍ以下であることが好ましく、そのためには、光反射性物質の平均粒子径は励起光の波長の１／４乃至２倍の範囲にあることが好ましい。通常使用される励起光の波長は５００〜８００ｎｍの範囲にあるので、光反射性物質の平均粒子径は０．１乃至２．０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００４５】
また、光反射性物質のＢＥＴ比表面積（単位質量当たりの表面積）は、一般には１．５ｍ２／ｇ以上であり、好ましくは２乃至１０ｍ２／ｇの範囲であり、より好ましくは２．５乃至８ｍ２／ｇの範囲にある。光反射性物質の嵩密度（粉体の質量を、粉体を振動によって最密に充填したときの嵩体積で割った値）は、１ｍｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、より好ましくは０．６ｍｇ／ｃｍ３以下である。
【００４６】
光反射層の形成は、上記の微粒子状の光反射性物質を結合剤と共に有機溶剤に分散溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を支持体の表面に均一に塗布し、乾燥することにより行う。塗布液中の結合剤と光反射性物質の比率は、一般に１：１０乃至１：５０（重量比）の範囲にあり、好ましくは１：１０乃至１：２０（重量比）の範囲にある。結合剤および有機溶剤としては、後述する蛍光体層形成用の塗布液に使用できる結合剤および溶剤の中から任意に選択して用いることができる。塗布液には更に、光反射性物質の分散性を高める目的で、アルミニウム系カップリング剤、チタネート系カップリング剤およびシランカップリング剤などの分散剤を添加してもよい。塗布操作は、通常の塗布手段、例えばドクターブレード、ロールコータ、ナイフコータなどを用いる方法により行うことができる。光反射層の層厚は、一般には５乃至１００μｍの範囲にある。
【００４７】
なお、支持体と光反射層との間には、両者の接着性を高めるために、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などからなる接着層が設けられてもよいし、あるいは帯電防止のために、これら樹脂中に導電剤が含有された導電層が設けられてもよい。
【００４８】
支持体（または光反射層）上には、蓄積性蛍光体粒子と結合剤とからなる蛍光体層が設けられる。蓄積性蛍光体としては、波長が４００〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射により、３００〜５００ｎｍの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が好ましい。そのような好ましい輝尽性蛍光体の例としては、ユーロピウム又はセリウムで付活したアルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体（例、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ、およびＢａＦ（Ｂｒ，Ｉ）：Ｅｕ）、およびセリウム付活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体を挙げることができる。
【００４９】
これらのうちでも、基本組成式（Ｉ）「ＭＩＩＦＸ：ｚＬｎ」で代表される希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は特に好ましい。ただし、ＭＩＩはＢａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属を表し、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ、Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素を表す。Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表す。ｚは、０＜ｚ≦０．２の範囲内の数値を表す。
【００５０】
上記基本組成式（Ｉ）中のＭＩＩとしては、Ｂａが半分以上を占めることが好ましい。Ｌｎとしては、特にＥｕ又はＣｅであることが好ましい。また、基本組成式（Ｉ）では表記上Ｆ：Ｘ＝１：１のように見えるが、これはＢａＦＸ型の結晶構造を持つことを示すものであり、最終的な組成物の化学量論的組成を示すものではない。一般に、ＢａＦＸ結晶においてＸ−イオンの空格子点であるＦ＋（Ｘ−）中心が多く生成された状態が、６００〜７００ｎｍの光に対する輝尽効率を高める上で好ましい。このとき、ＦはＸよりもやや過剰にあることが多い。
【００５１】
なお、基本組成式（Ｉ）では省略されているが、必要に応じて下記のような添加物を基本組成式（Ｉ）に加えてもよい。
【００５２】
「ｂＡ， ｗＮＩ， ｘＮＩＩ， ｙＮＩＩＩ」
【００５３】
上記式中、ＡはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２及びＺｒＯ２などの金属酸化物を表す。ＭＩＩＦＸ粒子同士の焼結を防止する上では、一次粒子の平均粒径が０．１μｍ以下の超微粒子でＭＩＩＦＸとの反応性が低いものを用いることが好ましい。ＮＩは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属の化合物を表し、ＮＩＩは、Ｍｇ及び／又はＢｅからなるアルカリ土類金属の化合物を表し、ＮＩＩＩは、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属の化合物を表す。これらの金属化合物としてはハロゲン化物を用いることが好ましいが、それらに限定されるものではない。
【００５４】
また、ｂ、ｗ、ｘ及びｙはそれぞれ、ＭＩＩＦＸのモル数を１としたときの仕込み添加量であり、０≦ｂ≦０．５、０≦ｗ≦２、０≦ｘ≦０．３、０≦ｙ≦０．３の各範囲内の数値を表す。これらの数値は、焼成やその後の洗浄処理によって減量する添加物に関しては最終的な組成物に含まれる元素比を表しているわけではない。また、上記化合物には最終的な組成物において添加されたままの化合物として残留するものもあれば、ＭＩＩＦＸと反応する、あるいは取り込まれてしまうものもある。
【００５５】
その他、上記基本組成式（ＩＩ）には更に必要に応じて、Ｚｎ及びＣｄ化合物；ＴｉＯ２、ＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＴｈＯ２等の金属酸化物；Ｚｒ及びＳｃ化合物；Ｂ化合物；Ａｓ及びＳｉ化合物；テトラフルオロホウ酸化合物；ヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロチタン酸、及びヘキサフルオロジルコニウム酸の１価又は２価の塩からなるヘキサフルオロ化合物；Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉなどの遷移金属の化合物などを添加してもよい。さらに、本発明においては上述した添加物を含む蛍光体に限らず、基本的に希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体とみなされる組成を有するものであれば如何なるものであってもよい。
【００５６】
上記基本組成式（Ｉ）で表される希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は、通常はアスペクト比が１．０乃至５．０の範囲にある。本発明に用いられる蓄積性蛍光体粒子は一般に、アスペクト比が１．０乃至２．０（好ましくは、１．０乃至１．５）の範囲、粒子サイズのメジアン径（Ｄｍ）が２μｍ乃至１０μｍ（好ましくは、２μｍ乃至７μｍ）の範囲、そして粒子サイズ分布の標準偏差をσとしたときのσ／Ｄｍが５０％以下（好ましくは、４０％以下）のものである。また、粒子の形状としては、直方体型、正六面体型、正八面体型、１４面体型、これらの中間多面体型および不定型粉砕粒子などがあるが、それらのうちでは１４面体型が好ましい。
【００５７】
ただし、本発明において蓄積性蛍光体は、上記基本組成式（Ｉ）で表される輝尽性蛍光体に限定されるものではない。
【００５８】
蓄積性蛍光体粒子は、粒状性などの画質の点から、粒子径の異なる二種類以上の蛍光体粒子の混合物であることが好ましい。その場合に、最小の蛍光体粒子の平均粒子径Ｄｍａ（メジアン粒径：蛍光体粒子について粒径と頻度とからなる分布曲線を得たときに累積分布が全体粒子数の５０％を示す粒径（分布の中心値）を意味する）が１．０乃至３．５μｍの範囲にあり、最大の蛍光体粒子の平均粒子径ＤｍｂとＤｍａの比（Ｄｍｂ／Ｄｍａ）が２．０以上であることが好ましい。混合物中における最小の蛍光体粒子の割合は重量比で１０％以上、５０％以下であることが好ましく、最大の蛍光体粒子の割合は重量比で５０％以上、９０％以下であることが好ましい。
【００５９】
蛍光体層の形成は、まず上述した蓄積性蛍光体粒子、好ましくは粒子径の異なる二種類以上の蛍光体粒子の混合物を、結合剤と共に適当な有機溶剤に分散溶解して塗布液を調製する。塗布液中の結合剤と蛍光体の比率は、一般に１：１乃至１：１００（重量比）の範囲にあり、好ましくは１：２５乃至１：５０（重量比）の範囲にある。
【００６０】
蓄積性蛍光体粒子を分散支持する結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴムのような天然高分子物質；および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル（メタ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステル、熱可塑性エラストマーなどのような合成高分子物質を挙げることができる。なお、これらの結合剤は架橋剤によって架橋されたものであってもよい。
【００６１】
塗布液調製用の有機溶剤の例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール等の低級アルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル；そして、それらの混合物を挙げることができる。
【００６２】
塗布液にはさらに、塗布液中における蛍光体の分散性を向上させるための分散剤、形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向上させるための可塑剤、蛍光体層の変色を防止するための黄変防止剤、硬化剤、架橋剤など各種の添加剤が混合されていてもよい。
【００６３】
この塗布液を次に、支持体の表面に前記の塗布手段を用いて均一に塗布して塗膜を形成する。この塗膜を乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによっても異なるが、一般には２０μｍ乃至１ｍｍの範囲にあり、好ましくは２５０乃至５００μｍの範囲にある。
【００６４】
蛍光体層には更にカレンダー処理などの圧縮処理を施してもよく、これにより、蛍光体層中の蓄積性蛍光体粒子の充填率をより一層高めて６５容量％以上とすることができる。
【００６５】
蛍光体層は、必ずしも一層である必要はなく、二層以上で構成されていてもよく、その場合には各層の蛍光体の種類や粒子径、結合剤と蛍光体との混合比を任意に変えて、用途に応じて蛍光体層の発光特性および放射線や励起光に対する吸収・散乱特性を変更することができる。また、必ずしも蛍光体層を支持体（または光反射層）上に直接形成する必要はなく、別に用意した基板（仮支持体）上に蛍光体層を形成した後、蛍光体層を基板から引き剥がし、支持体上に接着剤などを用いて接着してもよい。
【００６６】
蓄積性蛍光体層の表面には、放射線像変換パネルの搬送および取扱い上の便宜や特性変化の回避のために、保護層が設けられる。本発明において保護層は、前述したように、表面のユニバーサル硬度が５３Ｎ／ｍｍ２以上であり、表面粗さが０．１０乃至０．５０μｍの範囲にあるものである。また、保護層は、励起光の入射や発光光の出射に殆ど影響を与えないように、透明であることが望ましく、また外部から与えられる物理的衝撃や化学的影響から放射線像変換パネルを充分に保護することができるように、化学的に安定で防湿性が高く、かつ高い物理的強度を持つことが望ましい。
【００６７】
保護層としては、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート、有機溶媒可溶性フッ素系樹脂などのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、あるいはポリエチレンテレフタレートなどの有機高分子フィルムからなる保護層形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したものなどが用いられる。また、保護層中には酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、アルミナ等の光散乱性微粒子、パーフルオロオレフィン樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末等の滑り剤、およびポリイソシアネート等の架橋剤など各種の添加剤が分散含有されていてもよい。保護層の層厚は、一般に１乃至４０μｍの範囲にあり、好ましくは２乃至２０μｍの範囲にある。
【００６８】
保護層は二層以上から構成されていてもよく、例えば上記の層の表面に更に、耐汚染性および表面硬度を高めるためにフッ素樹脂塗布層が設けられてもよい。フッ素樹脂塗布層は、フッ素樹脂を有機溶媒に溶解（または分散）させて調製したフッ素樹脂溶液を上記層の表面に塗布し、乾燥することにより形成することができる。フッ素樹脂は単独で使用してもよいが、通常はフッ素樹脂と膜形成性の高い樹脂との混合物として使用する。また、ポリシロキサン骨格を持つオリゴマーあるいはパーフルオロアルキル基を持つオリゴマーを併用することもできる。フッ素樹脂塗布層には、干渉むらを低減させて更に放射線画像の画質を向上させるために、微粒子フィラーを充填することもできる。フッ素樹脂塗布層の層厚は通常は０．５μｍ乃至２０μｍの範囲にある。フッ素樹脂塗布層の形成に際しては、架橋剤、硬膜剤、黄変防止剤などのような添加成分を用いることができる。特に架橋剤の添加は、フッ素樹脂塗布層の耐久性の向上に有利である。
【００６９】
保護層の表面には、エンボスロール等を用いて温度および圧力を掛けながら表面処理を施すことが望ましい。これにより、保護層表面に微小の凹凸を設けて所望の表面粗さとすることができる。
【００７０】
上述のようにして本発明の放射線像変換パネルが得られるが、本発明のパネルの構成は、公知の各種のバリエーションを含むものであってもよい。例えば、放射線画像の鮮鋭度を向上させることを目的として、上記の少なくともいずれかの層を、励起光を吸収し発光光は吸収しないような着色剤によって着色してもよい。あるいは、更にＸ線などの放射線を吸収して紫外乃至可視領域に瞬時発光を示す蛍光体（放射線吸収用蛍光体）を含有する層を設けてもよい。そのような蛍光体の例としては、ＬｎＴａＯ４：（Ｎｂ，Ｇｄ）系、Ｌｎ２ＳｉＯ５：Ｃｅ系、ＬｎＯＸ：Ｔｍ系（Ｌｎは希土類元素である）、ＣｓＸ系（Ｘはハロゲンである）、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｐｒ，Ｃｅ、ＺｎＷＯ４、ＬｕＡｌＯ３：Ｃｅ、Ｇｄ３Ｇａ５Ｏ１２：Ｃｒ，Ｃｅ、ＨｆＯ２等を挙げることができる。
【実施例１】
【００７１】
（放射線像変換パネル部材の作製）
（１）蛍光体シートの作製：
蛍光体：１４面体型ＢａＦ（Ｂｒ０．８５Ｉ０．１５）：Ｅｕ２＋蛍光体粒子
平均粒子径Ｄｍ：７．２μｍ １７５ｇ
平均粒子径Ｄｍ：２．４μｍ ７５ｇ
結合剤：ＨＤＩ系ポリウレタンエラストマー（パンデックスＴ−５２６５Ｈ［固形］、大日本インキ化学工業（株）製） ７．１ｇ
架橋剤：ＨＤＩ系ポリイソシアネート（コロネートＨＸ［固形分１００％］、日本ポリウレタン工業（株）製） ０．９０ｇ
黄変防止剤：エポキシ樹脂（エピコート＃１００１［固形］、油化シェルエポキシ（株）製） ２．０ｇ
着色剤：群青（ＳＭ−１、第一化成工業（株）製） ０．０２２ｇ
【００７２】
上記組成の材料をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）とともに撹拌容器に投入し、容器の周囲に冷却水を流しながら回転速度２５００ｒｐｍ（周速度約１８ｍ／秒）で２時間撹拌を行って、蛍光体粒子を分散させ、粘度３．０Ｐａ・ｓ（２５℃）の塗布液（結合剤／蛍光体の重量比：１／２５）を調製した。この塗布液を、シリコーン系離型剤が塗布されたポリエチレンテレフタレートシート（仮支持体、厚み：１９０μｍ）の表面に、ドクターブレードを用いて４００ｍｍの幅で塗布し乾燥したのち仮支持体から引き剥がして、蛍光体シートを作製した。
【００７３】
（２）導電層の形成：
導電剤：ＳｎＯ２（Ｓｂドープ）針状微粒子（長軸：０．２〜２μｍ、短軸：０．０１〜０．０２μｍ、ＦＳ−１０Ｐ、石原産業（株）製）のＭＥＫ分散体（固形分３０重量％） ５０ｇ
樹脂：飽和ポリエステル樹脂（バイロン３００、東洋紡（株）製） ６ｇ
硬化剤：ポリイソシアネート（オレスターＮＰ３８−７０Ｓ［固形分７０％］、三井化学（株）製） ２ｇ
【００７４】
上記組成の材料をＭＥＫに加え、混合分散して粘度０．０２〜０．０５Ｐａ・ｓの塗布液を調製した。この塗布液をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）シート（第一支持体、厚み：１８８μｍ、ヘイズ度：約２７、ルミラーＳ−１０、東レ（株）製）の表面に、ドクターブレードを用いて塗布し乾燥して、導電層（層厚：２μｍ）を形成した。
【００７５】
（３）光反射層の形成：
光反射性物質：高純度アルミナ微粒子（平均粒子径：０．４μｍ、ＵＡ−５１０５、昭和電工（株）製） ４４４ｇ
結合剤：軟質アクリル樹脂（クリスコートＰ−１０１８ＧＳ［２０％トルエン溶液］、大日本インキ化学工業（株）製） １００ｇ
着色剤：群青（ＳＭ−０３Ｓ、第一化成工業（株）製） ２．２ｇ
【００７６】
上記組成の材料をＭＥＫに加え、混合分散して粘度２〜３Ｐａ・ｓの塗布液を調製した。この塗布液を導電層の表面にドクターブレードを用いて塗布し乾燥して、光反射層（層厚：約１００μｍ）を形成した。前記蛍光体粒子の発光ピーク波長（４００ｎｍ）における光反射層の反射率は９８％であった。
【００７７】
（４）蛍光体層の付設：
第一支持体の光反射層表面に、上記蛍光体シートを塗布形成時の裏面（仮支持体側）が接するようにして重ね、これをカレンダー機（金属ロール、ロール径：２００μｍ）を用いて熱圧縮した。これにより、蛍光体層は光反射層に完全に融着した。
【００７８】
（５）保護層の形成：
高分子物質：フルオロオレフィン・ビニルエーテル共重合体（ルミフロンＬＦ５０４Ｘ［３０％キシレン溶液］、旭硝子（株）製） ９２．５ｇ
架橋剤：ポリイソシアネート（スミジュールＮ３５００［不揮発分１００％］、住友バイエルウレタン（株）製） ５．０ｇ
滑り剤：アルコール変性シリコーン（Ｘ−２２−２８０９［不揮発分６６％、キシレン含有ペースト］、信越化学（株）製） ０．５ｇ
フィラー：メラミン−ホルムアルデヒド微粒子（平均粒子径：０．６μｍ、エポスターＳ６、（株）日本触媒製） ６．５ｇ
カップリング剤：アセトアルコキシアルミニウムイソプロピレート（プレンアクトＡＬ−Ｍ、味の素（株）製） ０．１ｇ
触媒：ジブチルチンジラウレート（ＫＳ１２６０、共同薬品（株）製） ０．３５ｍｇ
【００７９】
上記組成の材料をＭＥＫに加え、混合溶解、分散して塗布液を調製した。この塗布液をＰＥＴフィルム（厚み：６μｍ、ルミラー６Ｃ−Ｆ５３、東レ（株）製）の表面に塗布し乾燥して、塗布層（層厚：２μｍ）を形成した。ＰＥＴフィルムの塗布層とは反対側に、飽和ポリエステル樹脂（バイロン３０ＳＳ、東洋紡（株）製）の溶液を塗布し乾燥して、接着層を設けた。このＰＥＴフィルムを接着層を介して、蛍光体層の表面にラミネートロールを用いて接着して、二層構成の保護層（層厚：８μｍ）を設けた。
【００８０】
保護層の表面を、微小の凹凸を有するロールを用いて温度５０℃で圧力を掛けながら表面処理してエンボスパターンを付け、表面粗さＲａを０．２０μｍとした。
【００８１】
（６）縁貼り（枠）の形成：
得られた積層体を４３０ｍｍ×３５４ｍｍのサイズに裁断した後、積層体の周囲側面にフッ素含有樹脂溶液を１ｍｍ厚で塗布し乾燥して、縁貼りを設け、放射線像変換パネル部材を作製した。
【００８２】
（放射線像変換パネルの製造）
（１）材料の準備：
高さ１．５ｍｍの枠（幅５ｍｍ）が４辺に形成されている平面基板（枠内寸法３５５×４３１ｍｍ）と、上記放射線増変換パネル部材、両面接着シート（３Ｍ（スリーエム）社製４５９７ＦＬ、寸法３５３ｍｍ×４２９ｍｍ）を用意した。
【００８３】
（２）両面接着シートの平面基板への貼付け：
貼付装置としては図１に示す構成の装置を使用した。具体的には、ゴム硬度５０、厚さ８ｍｍのＮＢＲゴムシート（硬度５０、１０９〜１０１０Ω／ｃｍ ＰＥＴとの静止摩擦係数０．６）を剛直な７００ｍｍφ円筒曲面に貼り付け、表面（保持面）の寸法が３５４ｍｍ×４３０ｍｍであり、端面は円筒面と垂直となるよう加工されたものを用意した。吸着孔は径１．５ｍｍφのものをゴム貼付部表面に、幅方向に６ｍｍ間隔で６０個、前後（動作）方向に４ｍｍ間隔で３行の孔を空け、左記を１パターンとして前後（動作）方向に１０ｍｍの間隔を置いて２パターン作成、さらにそれらを１セットとしてゴム貼付前後端部、及び中央に全３セット作成した。真空ポンプ（ＯＲＩＯＮ ＤＲＹ−ＰＵＭＰ ＫＲＸ３−ＳＳ−４００２−Ｇ１）を用いて調整弁にて７０ｋＰａでエア吸引可能としている。
【００８４】
ＮＢＲゴムシート表面の埃を完全に除去し、両面接着シート（４５９７ＦＬ）をＮＢＲゴムシート表面の中央に貼り付け、エア吸引により吸着させた。両面接着シートの表面側離型フィルムを剥がして、接着面を露出させた。
【００８５】
枠が形成された平面基板の枠内面が平面となる様な台上に固定し、基板表面の埃を完全に除去した。その後、全体として両面接着シートが平面基板枠内の中央に貼られる様に、保持面の一端の直線部を先頭部として基板枠内にマイクロメータ及び、基板搬送モータ設定により位置合せを行い２０ｋｇｆの初期荷重で押し付け、その後連続して５０ｋｇｆの荷重で均一に押し付けた。その後、同荷重を保ちながらドラムを回転させ、さらにその回転外周速度と同期させた速度（５０ｍｍ／ｓ）で平面基板を平行移動して、ＮＢＲゴムシート表面の両面接着層表面が基板と順次密着された。その際、密着された部分のエア吸引は速やかに終了されながら実施された。
【００８６】
ドラムの回転と平面基板との平行移動は接着層がすべて基板に密着されるまで続けられる事で、両面接着シートは基板枠内中央に完全密着された。目視で貼り付けられた両面接着シートを観察するとゴミ、気泡は見られなかった。
【００８７】
（３）放射線変換パネル部材の平面基板への貼付け：
次に両面接着シートの代わりに放射線変換パネルの読取面側をＮＢＲゴムシート表面に吸着させ、同様に貼り合わせて、放射線像変換パネルを製造した。
【００８８】
なお、貼合せ直前に基板の両面接着シートの離型フィルムは剥がされた状態とした。目視で貼り付けられた放射線像変換パネルを観察すると、基板枠内中央に貼付けられており、剥がれ、浮き上がり、表面の傷はなく、放射線像変換パネル部材にダメージは見られなかった。
【００８９】
上記（１）〜（３）の処理を行って、さらに３つの放射線像変換パネルを作製し、貼付け位置のズレを基板枠内側とＩＰ端部の間隔を４辺各々ノギスで測定した。上記いずれの放射線像変換パネルについてもズレはすべての箇所において０．５ｍｍ以内であった。
以上から、放射線像変換パネル部材を精度よく、かつ、ダメージを与えないで基板に貼り合わせることが可能であることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の貼付装置の要部を説明する概略説明図である。
【図２】放射線変換パネル部材の層構成を例示する概略断面図である。
【符号の説明】
【００９１】
１０・・・貼付装置
１２ａ・・・ドラム
１２ｂ・・・保持部
１２ｃ・・・吸引孔
１４・・・放射線像変換パネル部材
１６・・・基板
１８・・・粘着層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線像変換パネル部材を基板上に貼りあわせる貼付装置であって、
前記放射線像変換パネル部材を保持する保持手段を有し、当該保持手段の保持面が曲面状となっており、前記保持手段が転動可能となっていることを特徴とする貼付装置。
【請求項２】
前記保持手段が前記放射線像変換パネル部材に負圧を生じさせる減圧手段であり、前記保持面の前記放射線像変換パネル部材との摩擦係数が０．１〜０．９であることを特徴とする請求項１に記載の貼付装置。
【請求項３】
前記保持面に直径０．５〜３．０ｍｍの孔を有し、当該孔の占める面積が前記保持面の０．１〜１０％であることを特徴とする請求項２に記載の貼付装置
【請求項４】
前記基板の周囲に枠が設けられており、前記保持手段の保持面が凸面となっており、当該保持面の高さが、前記枠と前記基板の貼り合わせ面との高さの差より大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の貼付装置。
【請求項５】
前記保持面と前記基板の貼り合わせ面との相対位置を調整する調整機構を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の貼付装置。
【請求項６】
前記保持面がゴム材料からなり、その硬度が３０〜９０であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の貼付装置。
【請求項７】
前記保持面の表面抵抗の常用対数値（ｌｏｇＳＲ）が１３以下であることを特徴とする請求項６に記載の貼付装置。
【請求項８】
貼り合わせの際の圧力が２０〜２０００ｋＰａであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の貼付装置。
【請求項９】
前記放射線像変換パネル部材を湾曲させた状態で保持しながら、前記放射線像変換パネル部材の一端部を基板に接触させた後、前記放射線像変換パネル部材および基板のいずれかを移動させて、これらを貼り合わせることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の放射線像変換パネルの製造方法により製造されることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項１】
放射線像変換パネル部材を基板上に貼りあわせる貼付装置であって、
前記放射線像変換パネル部材を保持する保持手段を有し、当該保持手段の保持面が曲面状となっており、前記保持手段が転動可能となっていることを特徴とする貼付装置。
【請求項２】
前記保持手段が前記放射線像変換パネル部材に負圧を生じさせる減圧手段であり、前記保持面の前記放射線像変換パネル部材との摩擦係数が０．１〜０．９であることを特徴とする請求項１に記載の貼付装置。
【請求項３】
前記保持面に直径０．５〜３．０ｍｍの孔を有し、当該孔の占める面積が前記保持面の０．１〜１０％であることを特徴とする請求項２に記載の貼付装置
【請求項４】
前記基板の周囲に枠が設けられており、前記保持手段の保持面が凸面となっており、当該保持面の高さが、前記枠と前記基板の貼り合わせ面との高さの差より大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の貼付装置。
【請求項５】
前記保持面と前記基板の貼り合わせ面との相対位置を調整する調整機構を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の貼付装置。
【請求項６】
前記保持面がゴム材料からなり、その硬度が３０〜９０であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の貼付装置。
【請求項７】
前記保持面の表面抵抗の常用対数値（ｌｏｇＳＲ）が１３以下であることを特徴とする請求項６に記載の貼付装置。
【請求項８】
貼り合わせの際の圧力が２０〜２０００ｋＰａであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の貼付装置。
【請求項９】
前記放射線像変換パネル部材を湾曲させた状態で保持しながら、前記放射線像変換パネル部材の一端部を基板に接触させた後、前記放射線像変換パネル部材および基板のいずれかを移動させて、これらを貼り合わせることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の放射線像変換パネルの製造方法により製造されることを特徴とする放射線像変換パネル。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００８−８６８２（Ｐ２００８−８６８２Ａ）
【公開日】平成２０年１月１７日（２００８．１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１７７１３３（Ｐ２００６−１７７１３３）
【出願日】平成１８年６月２７日（２００６．６．２７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１月１７日（２００８．１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年６月２７日（２００６．６．２７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]