説明

赤外線吸収式ガス分析計

【課題】赤外線スペクトル吸収に伴うガス圧変動を利用した赤外線吸収式ガス分析計において、SOの検出目的に使用するフローセンサのNi素子の腐食を防止し、フローセンサの耐用期間を伸ばすことを目的とする。
【解決手段】Ni素子の正常部側面には表面のみにNiSOが付着し、腐食部には深部までNiSが生成していると推定される。よって、NiがSOで硫化されてNiSが生成されるとNiが深部まで腐食して断線するが、Niが硫化してもNiSOとして表面のみに止まり深部まで進行しなければ、断線の問題は生じない。また、Niは100℃以下では、NiSOとして存在し、100℃以上でNiSが生成することが分かった。そこで、フローセンサの抵抗金属箔の温度を100℃以下にすることにより、NiSの生成を防ぐことができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、赤外活性な被測定成分ガスの赤外線スペクトル吸収に伴うガス圧変動を利用して特定ガス種の濃度を計測する赤外線吸収式ガス分析計に関する。
【従来の技術】
【0002】
ガス成分の定量分析に用いるフローセンサは、抵抗の温度係数の大きい感温抵抗金属箔をガスフロー中に前後して配置し、それらの感温抵抗金属箔をブリッジ接続しそれら金属箔の抵抗変化からフロー中のガス成分の定量分析を行う。従来の非分散赤外分析計に用いられているフローセンサはセンサチップの裏表両面に、抵抗の温度係数の大きい櫛型抵抗体をガスフロー中に配置し、流れから熱を授受することにより生じる裏表両面の櫛型抵抗体の抵抗値のずれをブリッジ回路により検出することによりその流れを検知し、フロー中のガス成分の定量分析を行う。櫛型抵抗体には特許文献1に示すように抵抗の温度係数の大きな金属であるニッケル(Ni)などが使用される。
【0003】
そして、フローセンサは、アルミ等の金属製の室内に設置され、室内は前室と後室に分かれているが、いずれの室内にも被測定成分ガスが充填されている。例えば、二酸化硫黄(SO)の検出を行う場合は、SOを充填するが、この場合は、SOを100%充填するよりも、アルゴン(Ar)等の不活性ガスで希釈した方が検出感度が向上するため、充填ガスはSOとAr等の混合ガスである。
【0004】
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2003‐097988号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
赤外線吸収式ガス分析計をSOの検出目的に使用する場合、検出器の室内にはSOが封入されるが、この場合に、フローセンサの素子として温度による抵抗変化の大きいNiを用いたとき、SOとNiが反応し、Niが腐食して、フローセンサ素子が数年で断線する問題が生じる。この場合、Niを金メッキ加工してNiの表面を金属で覆い耐食性を高めることも考えられるが、コストアップになる。そこで、本発明は、フローセンサにNi素子を用いた赤外線吸収式ガス分析計において、コストアップをしない簡易な構成によって、フローセンサのNi素子の腐食を防止し、フローセンサの耐用期間を伸ばすことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記の課題を解決するために、本発明は、赤外光を発する光源と、試料ガスを導入する測定セルと、測定セルを通過した赤外光の強度を検出する検出部とを備え、検出部はフローセンサを備えSOが封入されたものであり、フローセンサの櫛型抵抗体の材料はNiである赤外線吸収式ガス分析計において、櫛型抵抗体の温度をNiとSOが反応して硫化ニッケル(NiS)が生成しない温度にすることを特長とする。
【0008】
フローセンサの櫛型抵抗体のNiが検出部に封入されたSOによって硫化されNiSが生成すると、櫛型抵抗体の断線が生じるが、NiがSOによって硫化されてNiSが生成するのは特定温度以上の場合である。すなわち、当該特定温度以下の場合は表面のNiは硫酸ニッケル(NiSO)として存在するため深部まで反応が進まず、特定温度以上になってNiSが生成すると深部まで反応が進むことから、櫛型抵抗体の温度を特定温度以下に保てば、NiSによる硫化腐食を防ぐことができる。
【0009】
また、櫛型抵抗体の温度がNiSが生成しない温度になるように、櫛型抵抗体に印加する電圧を設定することができる。櫛型抵抗体の温度は、櫛型抵抗体に印加する電圧が高くなると、櫛型抵抗体の温度が上昇することから、櫛型抵抗体に印加する電圧をNiSが生成しない低い電圧にすることで、NiSによる硫化腐食を防ぐことができる。
【0010】
さらには、櫛型抵抗体の温度がNiSが生成しない温度になるようにするための構成として、櫛型抵抗体と、電圧源と、固定抵抗とを接続してブリッジ回路を形成し、NiSが生成しない温度になるように電圧源の電圧値及び固定抵抗の抵抗値に選択することができる。櫛型抵抗体の温度は、櫛型抵抗体に印加する電圧が高くなると、櫛型抵抗体の温度が上昇することから、櫛型抵抗体の温度がNiSが生成しない温度になるように櫛型抵抗体に印加する電圧を設定すべきであるが、電圧の設定には次の方法がある。赤外線吸収式ガス分析計の信号処理部は、2つの櫛型抵抗体と2つの固定抵抗を組み合わせてブリッジ回路を形成するが、当該ブリッジ回路に供給する電圧源の電圧を変化させれば、これに伴い櫛型抵抗体に印加される電圧も変化するため、電圧源の電圧値を特定値に設定することができる。あるいは、電圧源の電圧値はそのままでも、固定抵抗の抵抗値を変化させることで、固定抵抗に加わる電圧値が変化し、櫛型抵抗に加わる電圧値が変化するため固定抵抗の抵抗値を特定値に設定することも可能である。
【0011】
そして、Ni、SO、Arを含む系の合計のギブスエネルギーが最小となる条件を熱力学計算プログラムで計算することにより、NiがSOによって硫化されてNiSが生成するのはおおよそ100度以上であることが求まることから、櫛型抵抗体はNiSが生成しないおおよそ100度以下の温度にするとよい。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、フローセンサ素子の材料をNiから変更することなく、当該素子の温度をおおよそ100度以下にすることで、フローセンサ素子の腐食による破断を防ぎ、フローセンサの耐用期間を伸ばすことができる。また、フローセンサ素子の温度を調節するためには、フローセンサ素子に加わる電圧を調節すると簡易に温度を調節する事ができ、その際はブリッジ回路の電源電圧値又は固定抵抗値を調節すると従来から用いてきた部品でフローセンサ素子の温度調節をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】本発明を適用する赤外線吸収式ガス分析計の概略構成図。
【図2】本発明を適用する赤外線吸収式ガス分析計の検出部の概略構成図。
【図3】本発明を適用するフローセンサの正面概略図。
【図4】本発明を適用するフローセンサの側面概略図。
【図5】本発明を適用するフローセンサのブリッジ回路の概略図。
【図6】腐食部の組成測定結果。
【発明を実施するための形態】
【0014】
検出器としてフローセンサを搭載したシングルビーム式赤外線吸収式ガス分析計の構成を図1に示す。図に示すようにこの種の赤外線吸収式ガス分析計は、一般に、赤外光を発生するための光源部1、被測定ガス(試料ガス)が導入されるセル部2、セル部2を通過した赤外光の強度を計測することで最終的に試料濃度を計測するディテクター部3の3ユニットから構成されている。光源部1は、赤外光の発生を担い、赤外光を発生させるための発生源であるヒーター4と、赤外光を断続してセル部2およびディテクター部3に入射させるためのチョッパー5とから構成されている。
【0015】
チョッパー5は、例えば、光源4からの光の通過を許容するように、一部を切り欠いた切り欠き部が形成された2枚羽根の回転円板6とこの回転円板6を回転駆動するモータ7とで構成されており、回転円板6をモータ7で回転させることで、回転円板6の非切り欠き部(遮光部)が光源4の前に位置している際には光源4からの赤外光を遮光し、切り欠き部が光源4の前に位置している際には光源4からの赤外光が通過し、セル部2に照射される。
【0016】
セル部2は、試料ガスが導入される部位であって、パイプ8の前後を赤外線が広いスペクトル域で透過可能な赤外線透過性ガラスやフッ化カルシウム(CaF
等の窓板9で封止し、パイプ8側面などに一端からもう一端へガスが流せるようガスの導出入孔10を備え、また、その内面は赤外光を効率よく反射するために、鏡面仕上げや金などのコーティングが施されている。
【0017】
ディテクター部3は、図2に示すように、通常、アルミなどの金属製の前室となる前部ブロック11と後室となる後部ブロック12で構成されている。説明の便宜上、前部ブロック11と後部ブロック12と呼ぶが、両ブロックは後に接合一体化される。前部ブロック11と後部ブロック12は、赤外線吸収式ガス分析計の原理上、検出部は被測定成分ガス(試料ガス)が導入されたセルを透過してきた測定すべき赤外光を入射させるため、また、内封された受感ガスを昇圧させるための前後2室を形成するため、そして、前後室を連通する連通路内に前後室の圧力差を検出するフローセンサ等のセンサを配置するために用いられる。
【0018】
前後部ブロック11、12には同一径の貫通孔が形成されおり、前部ブロック11の貫通孔の両端と、後部ブロック12の前部ブロック11との接合面の反対側の貫通孔の一端が赤外光を透過する窓板13で封止されており、前部ブロック11の貫通孔を封止する後部ブロック12に面する窓板14が隔壁となって前室15と後室16の2室とされる。
【0019】
また、前部ブロック11と後部ブロック12には、両ブロックを接合一体化した際に接続されて連通路17を形成するトンネル18、19が形成されており、前部ブロック11に形成されたトンネル18は前室15からトンネル19に繋がっており、前室15に繋がる細穴部にセンサ20を配置できるスペースが設けられている。
【0020】
さらに、これら2室15、16には、赤外線ガス分析計の被測定対象となる、例えば、二酸化炭素(CO)等の化学種のみ、あるいは、この化学種をAr、ヘリウム(He)
等の不活性ガスで希釈されたガスが充填(内封)されている。また、連通路17に配置されるセンサ20としては、前後室の圧力差を検出できるものであればどのようなものでもよいが、センサが、前後室の圧力差で連通路17内の内封ガスの流れを検出するフローセンサである場合には、一般に、小型で高精度な薄膜技術で製作された薄膜型熱線式フローセンサが使用されている。
【0021】
赤外線ガス分析計に用いるフローセンサは、図3および図4に示すように、構成されている。フローセンサは、抵抗の温度係数の大きい感温抵抗金属箔をガスフロー中に前後して配置し、それらの感温抵抗金属箔をブリッジ接続しそれら金属箔の抵抗変化からフロー中のガス成分の定量分析を行う。
【0022】
フローセンサ構成は、中央にガス流通孔21を持つスペーサ22の表裏両面に、抵抗金属箔23、24を配置し、熱絶縁板25、26で挟むことにより、これら抵抗金属箔23、24を固定する。熱絶縁板25、26にも、同様なガス流通孔27、28が設けられている。抵抗金属箔23、24には、直列に連なっている櫛型抵抗体29、30が形成されており、この櫛型抵抗体29、30の部分がガス流通孔21、27、28において露出している。抵抗金属箔23、24の両端のパッドにはワイヤ31、32、33、34が接続されるが、これらを外部に導くために横穴35、36、37、38が熱絶縁板25、26に設けられる。
【0023】
抵抗金属箔23、24としては、抵抗の温度係数の大きな金属であるNiなどが使用される。熱絶縁板25、26およびスペーサ22にはガラスやセラミックなどが使用される。
【0024】
このような構成で、光源部1から発した赤外光は、セル部2を通過してディテクター部3に入射する。この時、セル内部に被測定成分ガスが存在すると、セル内のガス濃度に応じて、入射した赤外光の一部がセル内のガスに吸収され、残りの赤外光はディテクター部3に入射する。ディテクター部3の前室15の正面から入射した赤外光は、前室15および後室16で吸収されるが、その多くは前室15で吸収される。吸収された光エネルギーは分子の並進運動に変換されることになり、前後室15、16間に圧力差が発生し、これによって両室を連通する連通路17内に内封ガスの流れが生る。このガス流の流速は、ディテクター部3への入射光強度に依存するので、前後室15、16の連通路17内に配置された薄膜型熱線式フローセンサ20の熱線抵抗素子の抵抗値の変化として計測することで、ディテクター部3への入射前後の赤外光強度、すなわち、セル中の被測定成分ガス濃度を計測することができる。
【0025】
ここで、SOの検出を行う場合、前室15、後室16には、SOが充填されるが、この場合にフローセンサの抵抗金属箔23、24の材料としてNiを用いると、SOによってNiが硫化され腐食してNiSが生成し、硫化の度合いが進むと抵抗金属箔23、24が断線する問題が生じる場合がある。そのため、通電中に断線した素子の腐食部分の1molあたりの成分構成を電子線マイクロアナライザ装置(EPMA)により測定してみたところ、図6のように、正常部側面の硫黄(S)と酸素(O)の比は約1:4であることからNiの表面にNiSOが付着していると推定され、腐食部分はSの割合が正常部側面の割合と比較して高いことからNiSであることが推定される。よって、NiがSOで硫化されてNiSが生成されると深部までNiが腐食して断線するが、NiがSOと反応してもNiSOとして表面のみに止まれば断線の問題は生じないといえる。
【0026】
そこで、NiSとNiSOが生成する条件を調べるために、Ni、SO、Arを含む系の合計のギブスエネルギーが最小となる条件を計算したところ、100℃以下では、NiSOが生成し、100℃以上でNiSが生成することが分かった。そのため、櫛型抵抗体29、30の温度を100℃以下にすることにより、NiSの生成を防ぐことができる。
【0027】
図5に示す櫛型抵抗体29、30が接続されたブリッジ回路を用いて櫛型抵抗体29、30の温度を100℃以下にする構成を説明する。櫛型抵抗体29、30の温度を100℃以下に調節するためには、櫛型抵抗体29、30における発熱量を抑える必要がある。ここで、発熱量K(J)は、電力P(W)、時間t(秒)とすると、K=P・tとなり、電力P(W)は、電流I(A)、電圧E(V)、抵抗R(Ω)とすると、P=I・E=E/Rとなるため、櫛型抵抗体29、30の発熱量を調節するためには、櫛型抵抗体29、30に加わる電圧を調節する必要がある。そのためには、電圧源40の印加電圧を調節するか、ブリッジ回路の固定抵抗41,42の抵抗値を特定値に調節する必要がある。電圧源40の電圧値を低くすると、櫛型抵抗体29、30、固定抵抗41,42のそれぞれの抵抗における印加電圧が小さくなるので、櫛形抵抗体における発熱量が減少する。また、電圧源40の電圧値を調節しなくても、固定抵抗41、42の値を大きくすれば、固定抵抗における電圧降下が大きくなるので、櫛形抵抗体における電圧降下が減少し櫛形抵抗体における発熱量が減少する。よって、電圧源40又は固定抵抗41、42の値を調節することで、櫛型抵抗体29、30における発熱量を減らし、櫛型抵抗体29、30の温度を100℃以下に調節することができる。
【0028】
また、抵抗Rは、長さl(m)、断面積A(m)、体積抵抗率ρ(Ω・m)とすると、R=ρ・l/Aとなり、金属の電気抵抗は温度により上昇することが知られており、特定温度における体積抵抗率も既知である(例えば、Niの100℃における体積抵抗率は10.3であることが知られている)。そのため、櫛型抵抗体29、30の長さや断面積を調節して抵抗を調節することによっても、櫛型抵抗体29、30における発熱量を調節することができる。
【0029】
このように、櫛型抵抗体29、30における電圧を低減することにより、櫛型抵抗体29、30の温度を100℃以下に低減することができるが、電圧を低減すると、フローセンサの感度が低下するため、フローセンサの感度を考慮した場合、電圧を必要以上に下げることは性能上好ましくない。そのため、当該温度が100℃以下を満たす最大の電圧値に調節することが、NiSが生成しない条件においてフローセンサの感度が最大になる条件となる。
【0030】
以上のようにして櫛型抵抗体29、30の温度を100度以下にすることで、Niの腐食による櫛型抵抗体29、30の破断を防ぎ、フローセンサの耐用期間を伸ばすことができる。
【符号の説明】
【0031】
1 光源部
2 セル部
3 ディテクター部
4 ヒーター
5 チョッパー
6 回転円板
7 モータ
8 パイプ
9 窓板
10 ガスの導出入孔
11 前部ブロック
12 後部ブロック
13 窓板
14 窓板
15 前室
16 後室
17 連通路
18、19 トンネル
20 センサ
21、27、28 ガス流通孔
22 スペーサ
23、24 抵抗金属箔
25、26 熱絶縁板
29、30 櫛型抵抗体
31、32、33、34 ワイヤ
35、36、37、38 横穴
40 電圧源
41、42 固定抵抗

【特許請求の範囲】
【請求項1】
赤外光を発する光源と、試料ガスを導入する測定セルと、測定セルを通過した赤外光の強度を検出する検出部とを備え、前記検出部はフローセンサを備え二酸化硫黄が封入されたものであり、前記フローセンサの櫛型抵抗体の材料はニッケルである赤外線吸収式ガス分析計において、櫛型抵抗体の温度を前記ニッケルと前記二酸化硫黄が反応して硫化ニッケルが生成しない温度にすることを特徴とする赤外線吸収式ガス分析計。
【請求項2】
前記硫化ニッケルが生成しない温度に、前記櫛型抵抗体に印加する電圧を設定することを特徴とする請求項1に記載された赤外線吸収式ガス分析計。
【請求項3】
前記櫛型抵抗体と、電圧源と、固定抵抗とを接続してブリッジ回路を形成し、前記硫化ニッケルが生成しない温度に電圧源の電圧値及び前記固定抵抗の抵抗値を選択したことを特徴とする請求項2に記載された赤外線吸収式ガス分析計。
【請求項4】
前記硫化ニッケルが生成しない温度は摂氏100度以下であることを特徴とする請求項1、2又は3に記載された赤外線吸収式ガス分析計。



【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2012−63248(P2012−63248A)
【公開日】平成24年3月29日(2012.3.29)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−207668(P2010−207668)
【出願日】平成22年9月16日(2010.9.16)
【出願人】(000001993)株式会社島津製作所 (3,708)
【Fターム(参考)】