説明

遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置及び方法

【課題】遠心分離原理によってガスハイドレートを連続的に製造して脱水するための装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガス供給源;水供給源;及び前記ガス供給源及び前記水供給源からガスと水がそれぞれ供給され、前記供給されたガスと水が内部で反応する反応器;を含み、前記反応器内には遠心分離器と水車が位置し、前記反応器内で前記供給されたガスと水が反応してガスハイドレートスラリーが生成され、前記生成されたガスハイドレートスラリーは前記水車によって前記遠心分離器に供給され、前記遠心分離器は前記ガスハイドレートスラリーと反応しなかった水を細かく砕いて飛散させることで、効率的な追加反応を誘導することができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は遠心分離原理によってガスハイドレートを連続的に製造して脱水するための装置及び方法に係り、より詳しくはガス供給源;水供給源;及び前記ガス供給源及び前記水供給源からガスと水がそれぞれ供給され、前記供給されたガスと水が内部で反応する反応器を含み、前記反応器内には遠心分離器と水車が位置し、前記反応器内で前記供給されたガスと水が反応してガスハイドレートスラリーを生成し、前記生成されたガスハイドレートスラリーは前記水車を通じて前記遠心分離器に供給され、そして前記遠心分離器は前記ガスハイドレートスラリーを脱水するようになった、ガスハイドレートの連続製造装置及び脱水装置、並びにその方法に関する。
【0002】
さらに詳しくは、前記遠心分離器はスクリュー及び多数の開口部を含み、遠心力によって脱水作用をし、これと同時に開口部の外部に飛散した水はさらに反応して効率よくハイドレートを製造するので、水とガスが反応してガスハイドレートスラリーを製造するとともに同一空間内で脱水作用をして高密度ガスハイドレートを連続的に製造する装置と方法に関する。
【背景技術】
【0003】
クラスレートハイドレート(clathrate hydrate)またはガスハイドレート(gas hydrate)とは、水素結合によって固体状格子(hydrogen−bonded solid lattice)をなすホスト(host)分子及びこの内部に捕集されるゲスト分子の2成分でなり、水分子が水素結合によって形成する3次元格子構造にメタン、エタン、二酸化炭素などの低分子が化学的結合をなさなくて物理的に捕獲して形成された結晶性化合物をいう。
【0004】
ガスハイドレートは1810年イギリスのHumphry Davy卿によって初めて発見された。彼はイギリスの王立協会を対象とするBakerian Lectureで塩素と水を反応させるとき、氷に似ている形態の化合物が生ずるが、その温度が0℃より高いということを発表した。1823年Michael Faradayが10個の水分子に対して1個の塩素分子が反応してガスハイドレートを生成することを最初に明かした。それから現在に至るまでガスハイドレートは相変化物質(phase change material、PCM)の1種として学問的研究が続いている。主要研究内容としては相平衡と生成/解離の条件、結晶構造、多結晶の共存現象、空洞内の競争的組成変化などをあげることができ、以外にも多様な微視的または巨視的側面での細密な研究が進んでいる。
【0005】
ガスハイドレートに捕獲可能なゲスト分子は現在まで約130余種が知られており、その例としてCH、C、C、CO、H、SFなどがある。また、ガスハイドレート結晶構造は水素結合でなった水分子によって形成された多面体の空洞(cavity)で構成されており、ガス分子の種類と生成条件によって体心立方構造I(body−centered cubic structure I、sI)、ダイヤモンド型立方構造II(diamond cubic structure II、sII)と六方構造H(hexagonal structure H、sH)の結晶構造でなっている。sIとsIIは客体分子の大きさによって決まり、sHにおいては客体分子の大きさと形態が重要な要素となる。
【0006】
深海と永久凍土地域に自然的に存在するガスハイドレートのゲスト分子は大部分メタンであり、このようなメタンは燃焼の際に二酸化炭素(CO)の発生が少なくて環境に優しい清浄エネルギー源として脚光を浴びている。具体的に、ガスハイドレートは既存の化石燃料を取り替えることができるエネルギー源として利用可能であり、ハイドレート構造を用いる天然ガス固体化貯蔵及び輸送に使用でき、温暖化防止のためのCOの隔離/貯蔵に使用でき、ガスまたは水溶液の分離技術を用いて、特に海水の淡水化装置としても使用可能であるので、その活用度は非常に高い。
【0007】
ガスハイドレートは石油または天然ガス貯留層及び石炭層と隣接した地域、あるいは低温高圧の深海堆積層、特に大陸斜面で多く発見される。また、人為的にガスハイドレートを製造することもでき、これまで知られた従来のガスハイドレート製造装置は一般的に図1に示すような形態を持つ。
【0008】
図1は従来技術による一般的なガスハイドレート製造装置10を示す。
【0009】
従来技術によるガスハイドレートの製造装置10は、給水部1と、ガス供給部2と、前記給水部1から供給された水と前記ガス供給部2から供給されたガスが反応する反応器3と、反応器で生成されたガスハイドレートを外部に吐き出す吐出器5とからなる。水とガスの反応速度を高めるために撹拌器4を採択する場合もある。
【0010】
より具体的に、文献らに公開された従来のガスハイドレート製造装置は次のようである。
【0011】
特許文献1〜3はガスハイドレートを生成させる装置または方法を開始する。前記特許文献1〜3は、共通して、ガスを供給する段階と;水を供給する段階と;ガスと水の反応でガス水和物粒子を生成する段階と;これを集塊化(agglomerating)する段階とを含むが、一部の特許はガスを再循環させる段階、温度を低める段階などをさらに含む。
【0012】
特許文献4は水噴霧式のハイドレート製造方法を開始する。すなわち、水供給部から反応器に水を供給するとき、水微粒子を噴霧して気体との接触面積を増やすことでガスと水の反応速度を高める方法を開始する。
【0013】
特許文献5は水とガスを混合、溶解し、混合及び溶解された反応水を一定管路を通じて流動させ、前記管路を冷却させる追加の構成要素によってガスハイドレートを製造する方法及び装置を開始する。
【0014】
特許文献6は、水とガスが反応する反応器に鉛直するように設置された回転駆動軸と;前記回転駆動軸の中心から放射状に一定間隔で離隔して位置するブレードで、水とガスが反応した反応水の水面がブレードに含まれるように位置させて回転させることができるブレードと;これによって回転駆動軸の周りにスラリーが集まると、これを反応器の下部に吐き出す取出管とを含むガスハイドレート連続製造装置を開始する。
【0015】
特許文献7は、温度と気圧の作用によって反応用水とガスが反応してガスハイドレートを生成するか分解させる反応チャンバーと;前記反応チャンバー内の反応用水の温度を一定水準に維持させる恒温維持水槽とを含むガスハイドレート生成及び分解装置を開始する。
【0016】
ただ、このような従来技術によるガスハイドレート製造装置は次のような問題点を共通して持つ。
【0017】
従来技術によるガスハイドレート製造装置はガスハイドレートを連続して製造することが難しい。特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、及び特許文献7によるガスハイドレート製造装置の場合、実験室で多数のガスハイドレートを製造することができるが、ガスと水が反応した反応水からガスハイドレートを抽出する過程についての具体的な考察または暗示が少ないかまったくないため、ガスハイドレートを製造する時間、製造に所要電力などが過多にかかり、これによって連続して製造することが不可能なものに違いない。
【0018】
また、従来技術によるガスハイドレート製造装置は、ガスハイドレート製造段階が長くて複雑である。特許文献5は連続式製造装置を開始しているが、反応水のスラリーからガスハイドレートを抽出する過程が複雑であり、段階ごとにいずれも温度と圧力を一定に維持しなければならないため、実在の連続式製造に制限要素が多く、すべての段階及び装置ごとに温度と圧力を一定に維持することがやはり容易でない。
【0019】
特に、従来の特許らの最も重大な問題点は、ガスと水が反応してガスハイドレートスラリーを製造する段階と脱水する段階が別個に行われるため、同一空間内でのガスハイドレートの製造及び同時脱水が容易でなく、よってガスハイドレート連続生成速度が遅れることである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0020】
【特許文献1】日本登録特許第3173611号公報
【特許文献2】アメリカ登録特許第5,536,893号明細書
【特許文献3】アメリカ登録特許第6,855,852号明細書
【特許文献4】日本登録特許第3517832号公報
【特許文献5】日本登録特許第4045476号公報
【特許文献6】日本登録特許第3891033号公報
【特許文献7】大韓民国登録特許第0786812号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0021】
したがって、本発明は前記のような問題点を解決するためになされたもので、本発明の目的は、ガスハイドレートを連続的に製造するための装置及び方法を提供することにある。
【0022】
特に、水とガスが反応してなるガスハイドレートスラリーは遠心分離による脱水過程を経ることで、反応しなかった水が小開口部によって細かく壊されて反応器の内部で飛散することにより、気体との接触面積が増大し、これによって反応速度が向上し、結果として高密度ガスハイドレートを単純でかつ効率的な方法で連続的に量産するための装置及び方法を提供することにある。
【0023】
また、従来技術に比べ、水とガスが反応してガスハイドレートスラリーを作るとともに同一空間内で脱水された高密度のガスハイドレートを連続的に製造するための装置及び方法を提供することにある。
【0024】
また、試料を連続的に生成し、固液分離が可能であり、温度と圧力を自動で調節することができるので、低温及び高圧の条件で連続的な工程が可能である装置及び方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0025】
前記のような目的を達成するために、本発明の一面によれば、遠心分離原理によってガスハイドレートを脱水する装置を提供する。
【0026】
より詳細に、本発明は、ガス供給源;水供給源;及び前記ガス供給源及び前記水供給源からガスと水がそれぞれ供給され、前記供給されたガスと水が内部で反応する反応器;を含み、前記反応器内には遠心分離器と水車が位置し、前記反応器内で前記供給されたガスと水が反応してガスハイドレートスラリーが生成され、前記生成されたガスハイドレートスラリーは前記水車によって前記遠心分離器に供給され、前記遠心分離器は前記ガスハイドレートスラリーを脱水する、遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置を提供する。
【0027】
前記遠心分離器は、円錐形のバスケット;前記バスケットの内部に装着されるスクリーン;及び前記スクリーンの内側に位置するスクリュー;を含み、前記ガスハイドレートスラリーは前記水車によって前記遠心分離器のスクリューの内側に供給され、前記遠心分離器が回転されることにより、前記スクリューの内側に供給されたガスハイドレートスラリーが脱水され、前記脱水されたガスハイドレートは前記反応器の外側に移送され、脱水作用によって排出された水は前記バスケットの外側に飛散して前記反応器内に再投入されることができる。
【0028】
前記水車は回転可能であり、前記水車は開口部及び移送部を含み、前記水車の回転によって前記反応器内の前記ガスハイドレートスラリーが前記水車の開口部を通過し、前記水車の移送部によって汲み上げられて前記遠心分離器に供給されることができる。
【0029】
前記ガスハイドレートの連続製造及び脱水装置はスクリューコンベヤー部をさらに含むことができる。すなわち、前記反応器で脱水されて製造された前記ガスハイドレートが前記スクリューコンベヤー部の一端に供給されてさらに脱水されることができる。
【0030】
前記スクリューコンベヤー部は回転可能なスクリューをさらに含み、前記スクリューの回転によって、前記スクリューコンベヤー部の一端に供給された前記ガスハイドレートがさらに脱水されて前記スクリューコンベヤー部の他端から排出されることができる。
【0031】
前記スクリューコンベヤー部で脱水されて前記他端から排出される前記ガスハイドレートはガスハイドレートタンクに移送されることができる。
【0032】
前記ガスハイドレートタンクには、前記ガスハイドレートタンク内のガスが前記反応器に再供給される再循環配管が連結されることができる。
【0033】
前記一端が前記他端より低いように、前記スクリューコンベヤー部が傾くことができる。
【0034】
前記のような目的を達成するために、本発明の他の面によれば、(a)反応器内に水とガスを供給してガスハイドレートスラリーを生成する段階;(b)前記ガスハイドレートスラリーを水車によって遠心分離器に供給する段階;(c)前記遠心分離器の回転によって前記供給されたガスハイドレートスラリーを脱水させる段階;及び(d)前記脱水されたガスハイドレートを前記反応器の外側に移送させ、脱水作用によって排出された水を前記反応器内に再供給する段階;を含み、前記(a)〜(d)段階を連続的に行う、遠心分離原理によるガスハイドレート連続製造及び脱水方法を提供する。
【0035】
前記(b)段階は、前記水車が回転して前記反応器内の前記ガスハイドレートスラリーを前記水車の移送部に汲み上げて前記遠心分離器に供給する段階であってもよい。
【0036】
前記(b)段階は、前記水車が回転して前記反応器内の前記ガスハイドレートスラリーを前記水車の移送部に汲み上げて前記遠心分離器のスクリューの内側に供給する段階であり、前記(c)段階は、前記遠心分離器の回転によって、前記供給されたガスハイドレートスラリーの水を前記スクリュー及び前記スクリューの外側のスクリーン及びバスケットを通過させて排出させ、前記水が排出されたガスハイドレートスラリーを前記スクリューのみを通過させることで、前記供給されたガスハイドレートスラリーを脱水させる段階であってもよい。
【0037】
前記(d)段階は、前記脱水されたガスハイドレートをスクリューコンベヤー部に移送させ、脱水作用によって排出された水を前記反応器内に再供給する段階であってもよく、前記遠心分離原理によるガスハイドレート連続製造及び脱水方法は、(e)前記スクリューコンベヤー部に供給された前記ガスハイドレートを前記スクリューコンベヤー部の回転によってさらに脱水させる段階をさらに含むことができる。
【発明の効果】
【0038】
本発明によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置は遠心分離原理を用いてより効果的に脱水作用を実施し、製造効率を高めることで、高密度ガスハイドレートを製造することができるとともに同一空間で連続的にガスハイドレートを製造することができる。
【0039】
遠心分離器及び水車を採択することで、よりコンパクトな空間でガスハイドレートの製造及び脱水を同時に実施することにより、高密度ガスハイドレートを生成する時間が短縮され、所要動力が節減される。
【0040】
遠心分離器による1次脱水の後、スクリューコンベヤー部による2次脱水によってより高密度のガスハイドレートを生成することができる。
【0041】
また、反応器内で反応することができなかったガスは再循環配管を通じて反応器に再循環させ、反応することができなかった水は水車を通じて、かつ遠心分離機の高速回転によって多数の開口部を通じて反応器に再供給させることで、ガスハイドレートの製造に必要な水とガスの量が減少し、ガスハイドレート核の形成に必要な追加ガス溶存過程が短縮されるので、反応が促進できる。
【図面の簡単な説明】
【0042】
【図1】従来技術によるガスハイドレート生成装置を概略的に示す概略図である。
【図2】本発明によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置を説明する概略図である。
【図3】本発明によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置の斜視図である。
【図4】同ガスハイドレートの連続製造及び脱水装置の平面図である。
【図5】同ガスハイドレートの連続製造及び脱水装置の正面図である。
【図6】図3のA−A’線についての断面図である。
【図7】図6の“B”部を詳細に示す断面図である。
【図8】本発明による遠心分離器の展開図である。
【図9】本発明による水車の斜視図である。
【図10】本発明によるスクリューコンベヤー部の断面図である。
【図11】本発明によるガスハイドレートの連続製造及び脱水方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0043】
以下、添付図面に基づいて本発明を詳細に説明する。
【0044】
以下で、‘ガス’はガスハイドレートのゲスト分子を意味し、‘水’はホスト分子を意味する。ガスハイドレート生成において、ゲスト分子となることができる分子はCH、C、C、CO、H、SFなどの多数が存在するが、以下ではこのようなゲスト分子をガスと指示する。また、ホスト分子として水(HO)を指示する。
【0045】
また、以下の説明では図面の簡素化のために、バルブの図示及び説明を提供しないが、それぞれの配管及び投入口にはバルブが位置することが好ましい。特に逆流防止のためにチェックバルブが使用されることができる。
【0046】
1.ガスハイドレートの連続製造及び脱水装置の概略的説明
図2を参照して本発明によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置を説明する。
【0047】
ガスハイドレートを製造するために、水とガスが反応器に供給され、反応器はガスハイドレートの生成に適した温度及び圧力に維持されなければならない。
【0048】
本発明によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置は、ガスを供給するガス供給源110、水を供給する水供給源210、供給された水とガスがガスハイドレートに反応する反応器300、反応器内に位置し、ガスハイドレートの脱水作用を引き起こす遠心分離器400、遠心分離器にガスハイドレートスラリーを供給する水車500、及び遠心分離器によって脱水されたガスハイドレートからさらなる脱水を行うスクリューコンベヤー部600を含む。
【0049】
ガス供給源110は、圧縮機120によってバッファータンク130を経て反応器300にガスを供給する。バッファータンク130は、圧縮されたガスを受けて一時貯蔵し、別の制御部(図示せず)は、反応器300の圧力計(図示せず)が測定した圧力によってバルブを自動で調整し、反応器300にガスをさらに供給する必要がある場合、反応器300にガスを供給することができる。
【0050】
バッファータンク130は、反応器300の供給管320に別の配管を介して連結されて、反応器300内にガスを供給する。
【0051】
水供給源210は、ポンプ220によって給水タンク230を経て反応器300に水を供給する。冷却器240が位置することで、反応器300に冷却された水を供給することができる。別の制御部(図示せず)は、反応器300の水位センサー(図示せず)が測定した水量によってバルブを自動で調整し、反応器300に水をさらに供給する必要がある場合、反応器300に水を供給することができる。
【0052】
給水タンク230は反応器300の供給管320に別の配管を介して連結されて、反応器320内に冷却された水を供給する。特に、冷却水は氷のような形態であることもでき、ノズル(図示せず)によって反応器内に氷が飛散して供給されることもできる。氷の形態として水が供給される場合、ガスハイドレートの核化を促進し、温度制御が容易であり、氷の潜熱を活用することができ、水のガス接触時間または滞留時間を延ばしてガスハイドレートをより効率よく製造することができるという利点がある。
【0053】
本発明の一実施例においては、前述したように、水供給源210から水を冷却させて供給するかあるいは氷の形態として供給することもできるが、本発明の好適な他の実施例においては、水供給源210からの水供給に加え、氷を反応器に供給することもできる。製氷機382で製造された氷は噴射ノズル384を通じて反応器の内部に飛散することができる。別の冷却器383が配管の中間に位置することで、冷却に役立てることができる。
【0054】
反応器300で生成されて遠心分離器400によって脱水されたガスハイドレートは第2移送配管462及び第3移送配管663を通じてスクリューコンベヤー部600に供給される。スクリューコンベヤー部600は、スクリューの回転によってガスハイドレートを軸脱水し、さらに脱水されたガスハイドレートはガスハイドレート移送配管665を通じてガスハイドレートタンク690に移送される。
【0055】
一方、スクリューコンベヤー部600の脱水作用によって排出された水は別の脱水配管664を通じて外部に排出されることができる。
【0056】
また、ガスハイドレートタンク690にはガスハイドレート及び反応しなかったガスが満たされることができ、ガスは再循環配管691を通じてバッファータンク130に移動して、ガスハイドレートの生成のためにさらに使用できる。
【0057】
このように反応器300内で反応しなかったガスは再循環配管691を通じて反応器内に再供給することができ、後述するように、反応器300内で反応しなかった水は水車500によってかつ遠心分離機の高速回転による遠心力によって表面積が増大した微粒子形態として反応器300内に飛散して再供給できるので、ガスハイドレート反応を促進させるとともに反応に必要なガスと水の消費を低減することができる。
【0058】
反応器300とスクリューコンベヤー部600は、ガスハイドレートがガスと水に再び解離することを防止するために、低温に維持されなければならなく、このために別の冷却部が存在することが好ましい。
【0059】
本発明の一実施例において、反応器300は冷却用外部ジャケット370a及び内部ジャケット370bを含み、第1冷却水供給源711から第1冷却水配管712a、712bを通じて冷却水がそれぞれ供給されることができる。第1冷却水供給源711の冷却水は第1冷却水ポンプ713によって循環され、外部ジャケット370a及び内部ジャケット370bを循環した冷却水は循環配管715を通じて再循環される。
【0060】
スクリューコンベヤー部600もジャケット671を含み、第2冷却水供給源721から第2冷却水配管722を通じて冷却水が供給できる。第2冷却水供給源721の冷却水は第2冷却水ポンプ723によって循環され、ジャケット671を循環した冷却水は循環配管725を通じて再循環される。
【0061】
本発明の他の実施例においては、スクリューコンベヤー部600の脱水作用によって排出された水が循環配管725に流入して冷却水として再循環されることもできる。
【0062】
2.ガスハイドレートの連続製造及び脱水装置の詳細構造及び作動原理の説明
図3〜図10を参照して本発明による反応器300、遠心分離機400、水車500及びスクリューコンベヤー部600を詳細に説明する。
【0063】
A.反応器300
図3〜図5は本発明による反応器300及びスクリューコンベヤー部600の外観を説明するための斜視図、平面図及び正面図を示す。明瞭な説明のために、ガス供給源110、水供給源210及びそれぞれの配管と、ガスハイドレートタンク690及び冷却水供給源711、712及びそれぞれの配管は図示を省略する。
【0064】
反応器300の外観に、反応器ハウジング310、多数の供給管320及びウィンドウ330が示されている。
【0065】
反応器ハウジング310は、第1ハウジング311及び第2ハウジング312が連結部材313を介して連結されてなる。反応器ハウジング310の形状に制限はないが、水車500の回転などを考慮して円形であることが好ましい。
【0066】
供給管320は反応器300の外部からガス及び水が供給される管であり、使用者の必要に応じて多数の供給管320を取ることができ、その個数及び位置に制限はない。図示の実施例においては、反応器ハウジング310の前後に多数の供給管320が提供される。
【0067】
ウィンドウ330は反応器300の内部の反応を見せるために設けられている。
【0068】
反応器300で生成されて遠心分離器400によって脱水されたガスハイドレートは第2移送配管462と第3移送配管663を通じてスクリューコンベヤー部600に供給される。スクリューコンベヤー部600の外観にハウジング630が示されている。脱水されて製造されたガスハイドレートはガスハイドレート移送配管665を通じて、図面に示さないガスハイドレートタンク690に移動される。
【0069】
一方、本発明の一実施例において、ガスハイドレートの連続製造及び脱水装置は、回転力を提供するための三つの駆動部材、及びその回転速度を調節するための三つの減速器を持つ。
【0070】
すなわち、遠心分離機400に回転力を提供するための駆動部材410及び減速器420と、水車500に回転力を提供するための駆動部材510及び減速器520と、スクリューコンベヤー部600に回転力を提供するための駆動部材610及び減速器620とを含むことができる。
【0071】
駆動部材410、510、610はマグネチックドライブであることが好ましいが、これに制限されない。また、減速器420、520、620はサイクロ減速器であることが好ましいが、これに制限されない。
【0072】
図6は図3のA−A’についての断面図、図7は図6の“B”部を詳細に示す拡大断面図である。図6に基づいて本発明によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置の原理を詳細に説明する。説明のために、図6では水車500の図示を省略し(点線で示す)、水車500は図9を参照して詳細に説明する。
【0073】
水とガスが供給管320を通じて反応器300内に供給される。反応器ハウジング310には外部ジャケット370a及び内部ジャケット370bが位置し、前記ジャケットには冷却水が循環されることにより、使用者はガスハイドレートの生成に適した温度に反応器の温度を維持することができる。また、圧縮機120によって圧縮されたガスが供給されることにより、使用者はガスハイドレートの生成に適した圧力に反応器の圧力を維持することができる。このような維持のために、別の制御部(図示せず)が反応器内部の圧力計及び温度計と連動して冷却水の供給及び圧縮ガスの供給を制御することができる。
【0074】
反応器300の内部に水とガスが投入され、反応器300内部の温度及び圧力がガスハイドレートの生成に適した温度及び圧力に維持されれば、反応器300の内部でガスハイドレート生成反応が起こる。
【0075】
本発明の好適な一実施例においては、反応間反応器300の内部には約1/3の高さまで水が満たされており、ガスハイドレートは水上にスラリー形態として存在することになる。高密度のガスハイドレートを連続的に製造するために、このようなガスハイドレートスラリーを別に分離して脱水する作業が必要であり、このために遠心分離器400及び水車500が回転することになる。
【0076】
B.水車500
図9に基づいて水車500を説明する。
【0077】
水車500は回転のために円筒状に形成されることが好ましい。水車500は、回転によって反応器300の内部に満たされている水とガスハイドレートスラリーが水車500の内側に通過するように、多数の開口部551を含み、さらに水車500の内側に通過した水とガスハイドレートスラリーを汲み上げるために多数の移送部552を含む。
【0078】
移送部552は、水車500の回転方向によって水とガスハイドレートスラリーを汲み上げるために、その断面が“コ”字形であることが好ましい。図9に示す実施例は水車の回転方向が時計方向の場合であり、回転方向によって“コ”字形の開口方向が決定される。
【0079】
また図6を参照する。水車500は遠心分離器400と同心状に構成されることが好ましいが、水車500の回転によってガスハイドレートスラリーと水が遠心分離器400に供給できる限り、必ずしも同心である必要はない。図6〜図9において、反応器300、遠心分離機400及び水車500の中心軸がXで示されている。
【0080】
水車500は駆動部材510によって回転動力を受ける。駆動部材510の回転は減速器520を介して第1ギア531を回転させ、これとかみ合っている第2ギア532が回転する。第2ギア532には水車支持台540が位置し、水車支持台540には図9に示す水車500が支持される。すなわち、第2ギア532の回転によって水車500が回転する。
【0081】
水車500が水車支持台540に支持されるように、別の支持部(図示せず)が水車500に位置することが好ましい。
【0082】
水車500の回転によって、反応器300の下部に満たされている水とガスハイドレートスラリーは水車500の移送部552によって上部に移送され、水車500が続けて回転することにより、移送部552によって汲み上げられた水とガスハイドレートスラリーは自然に収容部560に注ぐ。このために、収容部560は漏斗状であることが好ましいが、これに制限されない。
【0083】
収容部560に注いだ水とガスハイドレートスラリーは第1移送配管461を通じて遠心分離器400に移送される。
【0084】
C.遠心分離機400
図7及び図8に基づいて遠心分離器400の構造及び作動原理を説明する。
【0085】
まず、遠心分離機400の構造を説明する。
【0086】
遠心分離機400は、その外側からバスケット440、スクリーン430及びスクリュー450を含む。バスケット440には多数のバスケット開口部441が位置することができる。また、スクリーン430には多数のスクリーン開口部431が位置し、スクリュー450の上部にはスクリュー開口部451が位置することができる。
【0087】
スクリーン430は脱水性の良い網のような機能をするように多数のスクリーン開口部431を含む。図面には開口部が円形に示されているが、逆三角形またはスリット形であることもできる。このようなスクリーン430は、ガスハイドレートスラリーは通過させなくて水のみを通過させる役目をする。スクリーン430は円錐形に成形されてバスケット440の内側に装着される。
【0088】
バスケット440はスクリーン430が装着される支持部の役目をし、一実施例においては、バスケット440上に多数の開口部441が存在することにより、スクリーン430を通過した水を反応器300の内部に飛散させる。
【0089】
一方、第1移送配管461はガスハイドレートスラリーを遠心分離器400に供給する配管であり、第2移送配管462は遠心分離器400によって脱水されたガスハイドレートをスクリューコンベヤー部600に供給する配管である。
【0090】
つぎに、遠心分離機400の作動原理を説明する。
【0091】
遠心分離機400は駆動部材410及び減速器420によって高速で回転する。この際に、水車500によって汲み上げられたガスハイドレートスラリーが第1移送配管461を通じて移送されてスクリュー450の内側に供給される(a)。スクリュー450の回転によってガスハイドレートスラリーは遠心力を受けてスクリュー開口部451を通じてスクリーン430に噴射される(b)。
【0092】
スクリーン430上に位置する多数のスクリーン開口部431は水は通過させるが固形のガスハイドレートは通過させない。これにより、通過できなかったガスハイドレートは結果として脱水されて第2移送配管462を通じて移動され(c2、c3)、脱水作用によって排出される水はスクリーン開口部431及びバスケット開口部441を通じてバスケット440の外側に、つまり反応器300内に飛散する(c1)。反応器300内に飛散した水はガスハイドレートにさらに反応することになる。
【0093】
脱水されたガスハイドレートは第2移送配管(452)を通じてスクリューコンベヤー部600に移送される。
【0094】
D.スクリューコンベヤー部600
図10に基づいて追加の脱水作用をするスクリューコンベヤー部600を説明する。
【0095】
スクリューコンベヤー部600は、スクリュー640、スクリュー640を取り囲むスクリューハウジング630、スクリューハウジング630の内側または外側を取り囲み、冷却水が循環するスクリューコンベヤー部ジャケット670、スクリュー640の回転動力を提供する駆動部材610、及びスクリューの回転速度を制御する減速器620を含む。
【0096】
遠心分離機400によって1次に脱水されたガスハイドレートが第2移送配管462とこれに連結された第3移送配管663を通じてスクリューコンベヤー部600の一端に流入される。
【0097】
スクリュー640が駆動部材610によって回転されることにより、ガスハイドレートが移動しながら脱水される。この際に、脱水作用によって排出される水は別の脱水配管664を通じてスクリューコンベヤー部600の外側に排出される。重力によって水が円滑に排出されるように、スクリューコンベヤー部600が傾いて設置され、脱水配管664が下側に位置することが好ましい。すなわち、ガスハイドレートが供給されるスクリューコンベヤー部600の一端が下側に傾くことが好ましい。図示の実施例においては、スクリューコンベヤー部600の前記一端が図面の右側端である。
【0098】
一般に、ガスハイドレートは低温で製造され、よって脱水作用によって排出される水は低温水であることができるため、本発明の一実施例においては、前述したように脱水配管664が循環配管725に連結されることにより、脱水作用によって排出される水が冷却水として使用可能である。この場合、スクリューコンベヤー部ジャケット670に循環できる。
【0099】
スクリュー640の回転によって脱水されたガスハイドレートはスクリュー640の回転方向によってスクリューコンベヤー部600の他端に移送され、ガスハイドレート移送配管665を通じてガスハイドレートタンク690に移送される。図示の実施例においては、スクリューコンベヤー部600の前記他端が図面の左側端である。
【0100】
反応器300とスクリューコンベヤー部600とガスハイドレートタンク690は圧力維持のために堅く密封状態で連結されるので、ガスハイドレートタンク690にはガスハイドレートだけでなくガスハイドレートに反応しなかった高圧のガスもともに満たされることができる。これにより、本発明の一実施例においては、前述したようにガスハイドレートタンク690内のガスが再循環配管691を通じてバッファータンク130に排出できる。
【0101】
3.ガスハイドレートの連続製造及び脱水方法の説明
図11に基づいて本発明によるガスハイドレートの連続製造及び脱水方法を説明する。
【0102】
ガス供給源110及び水供給源210からガスと水が反応器300に供給される(S100)。
【0103】
供給ガスは圧縮機120によって加圧されて供給されることができ、供給水は冷却器240によって冷却されて供給されることができる。ガスハイドレートが生成されるのに適した圧力及び温度に反応器300の内部を維持する(S200)。ゲスト分子の種類などによって好ましい圧力及び温度が変わるのはいうまでもない。
【0104】
反応器300の内部には持続的に水が満たされ、その高さは約1/3までが適当であるが、これに制限されない。反応器300の内部で維持される温度及び圧力によってガスハイドレートスラリーが生成され、水車500が回転してガスハイドレートスラリーを遠心分離器400に供給する(S300)。
【0105】
遠心分離機400は回転によってガスハイドレートスラリーを脱水し(S400)、水を反応器300の内部にさらに飛散させ、脱水されたガスハイドレートスラリーはスクリューコンベヤー部600に移送させる(S500)。
【0106】
スクリューコンベヤー部600に移送されたガスハイドレートはスクリュー640の回転によってさらに脱水される(S600)。
【0107】
さらに脱水されたガスハイドレートはガスハイドレートタンク690に移送される(S700)。
【0108】
一方、このような反応によって反応器300内部の圧力が低くなるか水位が低くなると、反応器300の内部に位置する圧力計及び水位センサーがこれを感知し、制御部(図示せず)は水とガスが反応器300にさらに供給されるようにすることができる。これにより、前記S100〜S700段階が繰り返されることにより、ガスハイドレートが連続的に排出される。
【0109】
また、ガスハイドレートタンク690の内部ガス圧が高いと感知されれば、制御部(図示せず)がガスハイドレートタンク690内のガスをバッファータンク130に移送させるようにすることができる。
【0110】
以上説明した内容から、当業者であれば、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で多様な変更及び修正が可能であることが分かるであろう。したがって、本発明の技術的範囲は明細書の詳細な説明に開示された内容に限定されるものではなく特許請求の範囲によって決まるべきであろう。
【産業上の利用可能性】
【0111】
本発明は遠心分離原理によってガスハイドレートを連続的に製造して脱水するための装置及び方法に適用可能である。
【符号の説明】
【0112】
110 ガス供給源
120 圧縮機
130 バッファータンク
210 水供給源
220 ポンプ
230 給水タンク
240 冷却器
300 反応器
310 反応器ハウジング
311 第1ハウジング
312 第2ハウジング
313 連結部材
320 供給管
330 ウィンドウ
370a 内部ジャケット
370b 外部ジャケット
382 氷供給器
383 冷却器
384 噴射ノズル
400 遠心分離機
410、510、610 駆動部材
420、520、620 減速器
430 スクリーン
431 スクリーン開口部
440 バスケット
441 バスケット開口部
450 スクリュー
451 スクリュー開口部
461 第1移送配管
462 第2移送配管
500 水車
531 第1ギア
532 第2ギア
540 水車支持台
551 開口部
552 移送部
560 収容部
600 スクリューコンベヤー部
630 ハウジング
640 スクリュー
663 第3移送配管
665 ガスハイドレート移送配管
670 スクリューコンベヤー部ジャケット
690 ガスハイドレートタンク
691 再循環配管
711 第1冷却水供給源
712a、712b 第1冷却水配管
713 第1冷却水ポンプ
715、725 循環配管
721 第2冷却水供給源
722 第2冷却水配管
723 第2冷却水ポンプ


【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガス供給源;
水供給源;及び
前記ガス供給源及び前記水供給源からガスと水がそれぞれ供給され、前記供給されたガスと水が内部で反応する反応器;を含み、
前記反応器内には遠心分離器と水車が位置し、
前記反応器内で前記供給されたガスと水が反応してガスハイドレートスラリーが生成され、前記生成されたガスハイドレートスラリーは前記水車によって前記遠心分離器に供給され、
前記遠心分離器は前記ガスハイドレートスラリーを脱水することを特徴とする、遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項2】
前記遠心分離器は、
円錐形のバスケット;
前記バスケットの内部に装着されるスクリーン;及び
前記スクリーンの内側に位置するスクリュー;を含み、
前記ガスハイドレートスラリーは前記水車によって前記遠心分離器のスクリューの内側に供給され、
前記遠心分離器が回転されることにより、前記スクリューの内側に供給されたガスハイドレートスラリーが脱水され、前記脱水されたガスハイドレートは前記反応器の外側に移送され、脱水作用によって排出された水は前記バスケットの外側に飛散して前記反応器内に再投入されることを特徴とする、請求項1に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項3】
前記水車は回転可能であり、
前記水車は開口部及び移送部を含み、
前記水車の回転によって前記反応器内の前記ガスハイドレートスラリーが前記水車の開口部を通過し、前記水車の移送部によって汲み上げられて前記遠心分離器に供給されることを特徴とする、請求項1に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項4】
前記ガスハイドレートの連続製造及び脱水装置はスクリューコンベヤー部をさらに含み、
前記反応器で脱水されて製造された前記ガスハイドレートが前記スクリューコンベヤー部の一端に供給されてさらに脱水されることを特徴とする、請求項1に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項5】
前記スクリューコンベヤー部は回転可能なスクリューをさらに含み、
前記スクリューの回転によって、前記スクリューコンベヤー部の一端に供給された前記ガスハイドレートがさらに脱水されて前記スクリューコンベヤー部の他端から排出されることを特徴とする、請求項4に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項6】
前記スクリューコンベヤー部で脱水されて前記他端から排出される前記ガスハイドレートはガスハイドレートタンクに移送されることを特徴とする、請求項5に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項7】
前記ガスハイドレートタンクには、前記ガスハイドレートタンク内のガスが前記反応器に再供給される再循環配管が連結されることを特徴とする、請求項6に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項8】
前記一端が前記他端より低いように、前記スクリューコンベヤー部が傾いていることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか1項に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項9】
前記反応器に氷供給器が連結され、前記反応器内に氷がさらに供給されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項10】
前記反応器内に供給される水がノズルを通じて氷の形態として前記反応器内に飛散することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項11】
前記反応器は内部ジャケット及び外部ジャケットを含み、
前記内部ジャケット及び前記外部ジャケットのそれぞれには冷却水が循環されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置。
【請求項12】
(a)反応器内に水とガスを供給してガスハイドレートスラリーを生成する段階;
(b)前記ガスハイドレートスラリーを水車によって遠心分離器に供給する段階;
(c)前記遠心分離器の回転によって前記供給されたガスハイドレートスラリーを脱水させる段階;及び
(d)前記脱水されたガスハイドレートを前記反応器の外側に移送させ、脱水作用によって排出された水を前記反応器内に再供給する段階;
を含み、
前記(a)〜(d)段階を連続的に行うことを特徴とする、遠心分離原理によるガスハイドレート連続製造及び脱水方法。
【請求項13】
前記(b)段階は、
前記水車が回転して前記反応器内の前記ガスハイドレートスラリーを前記水車の移送部に汲み上げて前記遠心分離器に供給する段階であることを特徴とする、請求項12に記載の遠心分離原理によるガスハイドレート連続製造及び脱水方法。
【請求項14】
前記(b)段階は、
前記水車が回転して前記反応器内の前記ガスハイドレートスラリーを前記水車の移送部に汲み上げて前記遠心分離器のスクリューの内側に供給する段階であり、
前記(c)段階は、
前記遠心分離器の回転によって、前記供給されたガスハイドレートスラリーの水を前記スクリュー及び前記スクリューの外側のスクリーン及びバスケットを通過させて排出させ、前記水が排出されたガスハイドレートスラリーを前記スクリューのみを通過させることで、前記供給されたガスハイドレートスラリーを脱水させる段階であることを特徴とする、請求項12に記載の遠心分離原理によるガスハイドレート連続製造及び脱水方法。
【請求項15】
前記(d)段階は、
前記脱水されたガスハイドレートをスクリューコンベヤー部に移送させ、脱水作用によって排出された水を前記反応器内に再供給する段階であり、
前記遠心分離原理によるガスハイドレート連続製造及び脱水方法は、
(e)前記スクリューコンベヤー部に供給された前記ガスハイドレートを前記スクリューコンベヤー部の回転によってさらに脱水させる段階をさらに含むことを特徴とする、請求項12に記載の遠心分離原理によるガスハイドレート連続製造及び脱水方法。


【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【公開番号】特開2011−231302(P2011−231302A)
【公開日】平成23年11月17日(2011.11.17)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−119461(P2010−119461)
【出願日】平成22年5月25日(2010.5.25)
【出願人】(505214010)コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー (20)
【出願人】(510135739)サムソン ヘヴィー インダストリーズ カンパニー,リミテッド (2)
【氏名又は名称原語表記】SAMSUNG HEAVY INDUSTRIES CO.,LTD.
【住所又は居所原語表記】Geoje Shipyard,Samsung Heavy Industries Co.,Ltd.,530,Jangpyeong−dong,Geoje−si,Gyeongsangnam−do 656−710,Republic of Korea
【出願人】(510135740)ヒョンデ エンジニアリング カンパニー,リミテッド (2)
【氏名又は名称原語表記】HYUNDAI ENGINEERING CO.,LTD.
【住所又は居所原語表記】Hyundai 41 Tower,917−9,Mok−dong,Yangcheon−gu,Seoul 158−050,Republic of Korea
【出願人】(510135751)テウ エンジニアリング アンド コンストラクション カンパニー,リミテッド (2)
【氏名又は名称原語表記】DAEWOO ENGINEERING & CONSTRUCTION CO.,LTD.
【住所又は居所原語表記】57,Sinmunno 1−ga,Jongno−gu,Seoul 110−061,Republic of Korea
【出願人】(510135762)ソン イル カンパニー,リミテッド(エスアイエム) (2)
【氏名又は名称原語表記】SUNG IL CO.,LTD.(SIM)
【住所又は居所原語表記】1587−4,Songjeong−dong,Gangseo−gu,Busan 618−818,Republic of Korea
【Fターム(参考)】