重合性液晶化合物、組成物およびその重合体
【課題】液晶性および良好な相溶性（miscibility）を有する化合物、ならびに、この化合物を含有し、適切な光学異方性や良好な塗布性等を有する重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される化合物。
【解決手段】式（１）で表される化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格を有する化合物、この化合物を含む重合性液晶組成物、この重合性液晶組成物から得られるポリマーフィルム、異方性ポリマーおよびそれらの用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、重合性を持つ液晶性化合物が、反射型偏光板、位相差板などの光学異方性（複屈折）を示す成形体に活用されている。この化合物は液晶状態で光学異方性を示し、重合することでその配向が固定される。
この重合体の固定された配向状態としては、ホモジニアス（水平配向）、チルト（傾斜配向）、ホメオトロピック（垂直配向）およびツイスト（ねじれ配向）等を挙げることができる。
【０００３】
ホモジニアス配向を有する重合体は、例えば、１／２波長板、１／４波長板、または他の光学機能を有するフィルムと組み合わせることで、複合位相差板、円偏光板として使用することができる（特許文献１参照）。
【０００４】
ホメオトロピック配向を有する重合体は、光軸の方向がｎz方向にあり、光軸方向の屈折率がその直交する方向の屈折率より大きいため、屈折率楕円体では、ポジティブＣ−プレートに分類される。このポジティブＣ−プレートは、他の光学機能を有するフィルムと組み合わせることによって、水平配向した液晶モードいわゆるＩＰＳ（In-Plane Switching）モード等の光学補償、例えば偏光板の視野角特性の改善に応用できる（非特許文献１〜３、特許文献２〜３を参照）。
【０００５】
このような重合体の機能を改良するために、種々の重合性化合物が開発されている。しかし、１つの重合性化合物では充分な機能を満たさないことが多い。そこで、幾つかの重合性化合物を混合することで組成物を調製し、この組成物を重合させるという試みがなされている（特許文献４〜５参照）。
【０００６】
光学異方性を示す成形体を製造する場合、重合前の液晶組成物は、通常室温で行われる重合工程中で液晶状態を保たねばならない。そのため、液晶組成物に使用する重合性化合物は、他の液晶性化合物と良好な相溶性を持たねばならない。しかしながら、一般に、重合性基を持つ化合物は、重合性基の嵩高さのために、液晶温度範囲が狭く、他の液晶性化合物との相溶性が低い。
【０００７】
また、液晶性化合物の光学異方性値（Δｎ）は、透過光の波長に対して一定の値を示さず（波長分散）、短波長側でより大きな値を示す。成形体を反射型偏光板、位相差板などの光学補償板に利用する際、この特性は好ましくない。
【０００８】
そのため、光学異方性が小さく、更に液晶温度範囲が広く、他の液晶性化合物との相溶性がよく、重合速度、重合度、重合体の透明性、機械的強度、塗布性、溶解度、結晶化度、収縮性、透水度、吸水性、ガス透過性、融点、ガラス転移点、透明点、耐熱性、耐薬品性などを満足する化合物が望まれている。
【０００９】
これまでに本発明者らは、室温下でも液晶相を安定して維持でき、均一な配向性を示す重合性液晶組成物を見出している（特許文献６参照）。しかしながら、これらの組成物では、光学特性、特に光学異方性を小さくする必要がある場合に、組成比を変更していくと、液晶相を維持できなくなる場合があった。また、光学異方性を制御するために、メソゲンの短軸方向に芳香環を持つ化合物（トリプチセン環を有する化合物）を用いることが提案されていたが、組成物中に該化合物を多量に添加した場合に結晶化が進行してしまうことがあり、光学異方性の制御に課題があった（特許文献７参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００２−３７２６２３号公報
【特許文献２】ＷＯ０５／３８５１７Ａ１パンフレット
【特許文献３】ＵＳ２００６／１８２９００号公報
【特許文献４】特開２００６−３０７１５０号公報
【特許文献５】特開２００４−２３１６３８号公報
【特許文献６】特開２００７−１６２１３号公報
【特許文献７】特開２００６−１１１５７１号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】M.S.Park et al, IDW '04 FMC8-4
【非特許文献２】M.Nakata et al, SID '06 P-58
【非特許文献３】K.J.Kim et al, SID '06 Digest p.1158-1161
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、液晶性を有するとともに、他の液晶性化合物および有機溶媒に対する良好な相溶性（miscibility）を有する化合物、ならびに、この化合物を含有し、適切な光学異方性や良好な塗布性等を有する重合性液晶組成物を提供することを課題とする。また、重合性液晶組成物の重合によって、光学異方性、透明性、化学的安定性、耐熱性、硬度、寸法安定性、接着性、密着性および機械的強度等に優れる重合体およびその特性を利用した用途を提供することも課題とする。更に、この重合体を含む位相差フィルム、光学補償フィルム、反射フィルムを提供し、これらのフィルムを含む液晶表示装置を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格を有する重合性の液晶化合物が、室温を中心とした広範囲な液晶相発現温度領域を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶媒に対する溶解性が良く、さらに重合性液晶組成物の成分として用いるとき、光学異方体の配向均一性が確保でき、光学異方性の制御にも有効であり、特に、液晶性を維持しながら、光学異方性を任意に調整することが可能であり、この重合性液晶組成物から得られる重合体は、ラビング等の機械的な表面処理、光配向処理、または化学的な表面処理を行った支持基板上へ塗布した場合に均一に配向が制御された異方性ポリマーを形成することができることを見出し本発明に至った。
【００１４】
本発明の化合物は次の［１］に示される。
［１］ 式（１）で表される化合物。
【００１５】
【化１】
【００１６】
（式（１）中、Ｒ1は式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルであり、１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ1は−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｚ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｑ1は単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍは１〜５の整数であり；
Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
【化２】
[式（２−１）〜（２−６）中、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【発明の効果】
【００１７】
本発明の化合物は、重合性基と１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格とを有し、液晶相を有するとともに、他の液晶性化合物および有機溶媒に対する良好な相溶性（miscibility）を有する。また、本発明の化合物を含有する重合性液晶組成物は光学異方性の制御が容易で適切な光学異方性値を有し、良好な塗布性等をも有する。本発明の組成物の重合によって得られる異方性ポリマーおよびポリマーフィルムは、光学異方性、透明性、化学的安定性、耐熱性、硬度、寸法安定性、接着性、密着性および機械的強度等の特性に優れる。従って、本発明の重合体は、位相差膜、偏光素子、円偏光素子、楕円偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜および液晶配向膜等の用途に適している。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施例５の異方性ポリマーのレタデーション測定結果
【図２】実施例６の異方性ポリマーのレタデーション測定結果
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明に係る重合性液晶化合物、この化合物を含有する重合性液晶組成物、この組成物から得られる重合体およびその用途について、詳細に説明する。なお、本明細書における用語の使い方は、以下のとおりである。
【００２０】
「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を有する化合物および液晶相を有さないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。なお、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を有する化合物のことを特に「液晶性を有する化合物」と言い、液晶相を有しない化合物のことを「液晶性を有しない化合物」と言う。
【００２１】
「化合物（１）」は、式（１）で表わされる化合物を意味する。また、式（１）で表わされる化合物の少なくとも１つを意味することもある。「組成物（１）」は少なくとも１つの化合物（１）を含有する組成物を意味する。「重合体（１）」は、化合物（１）または組成物（１）を重合させることによって得られる重合体を意味する。
【００２２】
化学構造式を説明する際に用いる用語「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを意味する。そして、例えば、「任意のＡはＢ、ＣまたはＤで置き換えられてもよい」という表現は、任意のＡがＢで置き換えられる場合、任意のＡがＣで置き換えられる場合および任意のＡがＤで置き換えられる場合に加えて、任意のＡがＢ〜Ｄの少なくとも２つで置き換えられる場合をも含むことを意味する。但し、連続する複数の−ＣＨ2−が同じ基で置き換えられることを含まない。
【００２３】
本発明は上記の［１］と下記の［２］〜［３１］とで構成される。
［２］ ［１］に記載の式（１）において、ｍが１〜３の整数である、［１］に記載の化合物。
［３］ ［１］に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい、［１］または［２］に記載の化合物。
【００２４】
［４］ ［１］に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよい、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２５】
［５］ ［１］に記載の式（１）において、Ｚ2が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２６】
［６］ ［１］に記載の式（１）において、Ｚ2が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−である、［１］〜［５］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２７】
［７］ ［１］に記載の式（１）において、Ｒ1が式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基であり；Ｑ1が炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２８】
［８］ ［１］に記載の式（１）において、Ｒ1が式（２−１）で表される重合性の基である、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の化合物。
［９］ ［１］に記載の式（１）において、Ｒ1が水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；Ｑ1が単結合である、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２９】
［１０］ ［１］に記載の式（１）において、ｍが２である、［１］〜［９］のいずれか１項に記載の化合物。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する重合性液晶組成物。
【００３０】
［１２］ 式（１）で表される化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの重合性化合物とを含有する重合性液晶組成物。
【００３１】
【化３】
（式（１）中、Ｒ1は式（２−１）で表される重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルであり、１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ1は−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｚ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｑ1は単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍは１〜５の整数であり；
Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
【００３２】
【化４】
（式（２−１）中、Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
【００３３】
【化５】
（式（Ｍ１）および（Ｍ２）中、Ｒ2は独立して式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基であり；
Ｒ3は独立して式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、トリプチセン−１，４−ジイルまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ3は独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2ＯＣＯ−、−（ＣＨ2）2−または−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−であり；
Ｑ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｎは１〜５の整数であり；
ｘは０または１である。）
【００３４】
【化６】
（式（２−１）〜（２−６）中、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
【００３５】
［１３］ ［１２］に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ2が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｑ1が単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｍが１〜３であり、
［１２］に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、
Ｒ3が独立して式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ3が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；
Ｑ2が独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｎが２または３の整数である、
［１２］に記載の重合性液晶組成物。
【００３６】
［１４］ ［１２］に記載の式（１）において、
Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよく；
Ｚ2が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−であり；
Ｑ1が独立して炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｍが２であり、
［１２］に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、
Ｒ3は独立して独立して式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、−ＣＮ、フッ素または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ3が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；
Ｑ2が独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｎが２または３である、
［１２］または［１３］に記載の重合性液晶組成物。
【００３７】
［１５］ ［１２］に記載の式（１）で表わされる化合物と、［１２］に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との合計量１００重量％に対し、［１２］に記載の式（１）で表される化合物の含有量が１〜９０重量％であり、
［１２］に記載の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が１０〜９９重量％である、［１２］〜［１４］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３８】
［１６］ ［１２］に記載の式（１）で表わされる化合物と、［１２］に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との合計量１００重量％に対し、［１２］に記載の式（１）で表される化合物の含有量が３〜８５重量％であり、
［１２］に記載の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が１５〜９７重量％である、［１２］〜［１４］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３９】
［１７］ ［１２］に記載の式（１）で表される化合物以外の液晶性を有しない重合性化合物をさらに含有する、［１１］〜［１６］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
［１８］ 非重合性の液晶性化合物をさらに含有する、［１１］〜［１７］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００４０】
［１９］ 重合性の光学活性化合物をさらに含有する、［１１］〜［１８］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
［２０］ 非重合性の光学活性化合物をさらに含有する、［１１］〜［１９］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００４１】
［２１］ ［１１］〜［２０］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られるポリマーフィルム。
［２２］ ［１１］〜［２０］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られる異方性ポリマー。
【００４２】
［２３］ 重合性液晶組成物の配向形態がホモジニアス配向、チルト配向、ツイスト配向、ホメオトロピック配向のいずれか１つである、［２２］に記載の異方性ポリマー。
［２４］ 重合性液晶組成物の配向形態をラビング処理、光配向処理、イオンビーム処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか１つの方法により制御する、［２２］または［２３］に記載の異方性ポリマー。
【００４３】
［２５］ ガラス基板またはプラスチック基板からなる支持基材と、［２２］〜［２４］のいずれか１項に記載の異方性ポリマーとを有する積層体。
［２６］ ［２２］〜［２４］のいずれか１項に記載の異方性ポリマーおよび／または［２５］に記載の積層体を有する光学補償フィルム。
【００４４】
［２７］ ［２２］〜［２４］のいずれか１項に記載の異方性ポリマーおよび／または［２５］に記載の積層体を有する反射フィルム。
［２８］ ［２６］に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示素子。
［２９］ ［２７］に記載の反射フィルムを有する液晶表示素子。
［３０］ ［２６］に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示装置。
［３１］ ［２７］に記載の反射フィルムを有する液晶表示素装置。
【００４５】
≪化合物（１）≫
上記化合物（１）は重合性の液晶性化合物である。
【００４６】
上記式（１）におけるＲ1は、上記式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である。
上記Ｒ1は、上記式（２−１）で表わされる重合性の基であることが好ましい。
【００４７】
上記式（２−１）〜（２−６）におけるＲaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルであり、水素が好ましい。
【００４８】
上記式（１）におけるＡ1は、独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルである。この１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、そして１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい。
【００４９】
Ａ1の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい。そして、Ａ1のより好ましい例は１，４−シクロヘキシレン、および任意の水素が塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。
【００５０】
上記式（１）におけるＺ1は、−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−である。Ｚ1の好ましい例は−ＣＯ−または−ＣＯＣＨ2−である。
【００５１】
上記式（１）におけるＺ2は、独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンである。そして、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。Ｚ2の好ましい例は単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましい例は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−および−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−である。
【００５２】
上記式（１）におけるＱ1は、独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンである。このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。Ｑ1の好ましい例は、上記Ｒ1が重合性の基である場合には、任意の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい、炭素数１〜１０のアルキレンであり、上記Ｒ1が水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である場合には、単結合である。
【００５３】
上記式（１）におけるｍは独立して１〜５の整数である。ｍは１〜３の整数であることが好ましく、ｍは２であることがより好ましい。
【００５４】
本発明の化合物（１）は、高い重合反応性を有する。化合物（１）は、１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格を有することから、光学異方性が小さく、溶解性に優れた化合物となる傾向がある。化合物（１）は、液晶骨格を有するので、他の液晶性化合物や重合性化合物等と容易に相溶して均一になりやすく、液晶相を維持しやすい。なお、化合物（１）は、不斉炭素を有する場合には光学活性を有することになる。
【００５５】
化合物（１）の末端基、環および結合基を適宜選択することによって、光学異方性や、溶剤等への溶解性等の物性を任意に調整することが可能である。末端基Ｒ1、環Ａ1ならびに結合基Ｚ1およびＺ2の種類が、化合物（１）の物性に与える効果を以下に説明する。
【００５６】
末端基Ｒ1が炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシである場合は、融点や溶剤への溶解性に影響があり、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である場合には、融点や溶剤への溶解性、他の化合物との相溶性等の特性にも影響を与えるようである。
【００５７】
環Ａ1が、１，４−フェニレン、任意の水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイルまたはピリダジン−３，６−ジイルである場合、光学異方性が大きい化合物となる傾向がある。環Ａ1が、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルである場合、光学異方性が小さい化合物となる傾向がある。複数の環Ａ1のうち少なくとも２つの環が１，４−シクロヘキシレンである場合、透明点が高く、光学異方性が小さく、粘度が小さい化合物となる傾向がある。少なくとも１つの環が１，４−フェニレンである場合、光学異方性が比較的大きく、配向秩序パラメーター（orientational order parameter）が大きい化合物となる傾向がある。少なくとも２つの環が１，４−フェニレンである場合、光学異方性が大きく、液晶相の温度範囲が広く、透明点が高い化合物となる傾向がある。
【００５８】
結合基Ｚ1が、−ＣＯ−である場合、透明点が低い化合物となる傾向がある。結合基Ｚ1が、−ＣＯＣＨ2−である場合、光学異方性が小さく、液晶相の温度範囲が広くなる傾向がある。
【００５９】
結合基Ｚ2が、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である場合、粘度が小さい化合物となる傾向がある。結合基Ｚ2が、単結合、−（ＣＨ2）2−、−ＯＣＦ2−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−（ＣＨ2）4−の場合、粘度がより小さい化合物となる傾向がある。結合基Ｚ2が、−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＦ＝ＣＦ−の場合、液晶相の温度範囲が広く、弾性定数比が大きい化合物となる傾向がある。結合基Ｚ2が−Ｃ≡Ｃ−の場合、光学異方性が大きい化合物となる傾向がある。
【００６０】
ｍが２以下の場合、粘度が低い化合物となる傾向があり、ｍが２以上の場合、透明点が高い化合物となる傾向がある。
【００６１】
化合物（１）は、光学活性であってもよいし、光学的に不活性でもよい。光学活性な場合における不斉炭素の立体配置はＲでもＳでもよい。不斉炭素を有する場合は相溶性がよい化合物となる傾向がある。
【００６２】
以上のように、末端基、環および結合基の種類や、環の数を適宜選択することにより目的の物性を有する化合物を得ることができる。
【００６３】
化合物（１）は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、および、新実験化学講座（丸善）等の成書に記載されている。
【００６４】
化合物（１）の合成方法の一例について、結合基Ｚ2の合成方法別に分けて、下記スキーム１〜１４で説明する。さらに、化合物（１）の合成方法の一例について、結合基Ｚ1の合成方法別に分けて、下記スキーム１５で説明する。これらのスキームにおいて、ＭＳＧ1は少なくとも１つの環を有する１価の有機基であり、ＭＳＧ2は１価の有機基である。複数のＭＳＧ1（またはＭＳＧ2）は同一でも異なってもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｐ）および（１ａ）〜（１ｄ）は、本発明の化合物（１）に相当する。これらの方法は、光学活性な化合物（１）および光学的に不活性な化合物（１）に適用できる。また、これらの方法はＱ1を合成する際にも応用することができる。
なお、下記スキーム中、Ｈａｌとは、ハロゲン原子を示す。
【００６５】
＜スキーム１＞ Ｚ2が単結合である化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｓ２）とを、炭酸塩水溶液中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で反応させることにより化合物（１Ａ）を合成できる。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（Ｓ３）とｎ−ブチルリチウムとを反応させ、次いで塩化亜鉛を反応させた後、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で、化合物（Ｓ２）とさらに反応させることによっても合成できる。
【００６６】
【化７】
【００６７】
＜スキーム２＞ Ｚ2が−ＣＨ＝ＣＨ−である化合物
下記に示すように、公知の方法で合成されるホスホニウム塩（Ｓ５）にカリウムｔ−ブトキシドなどの塩基を添加して合成したリンイリドと、アルデヒド（Ｓ４）とを反応させることにより化合物（１Ｂ）を合成できる。反応条件や基質によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
【００６８】
【化８】
【００６９】
＜スキーム３＞ Ｚ2が−（ＣＨ2）2−である化合物
下記に示すように、化合物（１Ｂ）をパラジウム炭素などの触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｃ）を合成できる。
【００７０】
【化９】
【００７１】
＜スキーム４＞ Ｚ2が−（ＣＦ2）2−である化合物
下記に示すように、J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414 に記載された方法に従い、四フッ化硫黄などのフッ素化触媒の存在下でジケトン（Ｓ６）をフッ素化することにより、−（ＣＦ2）2−を有する化合物（１Ｄ）を合成できる。
【００７２】
【化１０】
【００７３】
＜スキーム５＞ Ｚ2が−（ＣＨ2）4−である化合物
下記に示すように、スキーム２の方法に従って、ホスホニウム塩（Ｓ５）の代わりにホスホニウム塩（Ｓ７）を用いて−（ＣＨ2）2−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を合成し、これを接触水素化することにより化合物（１Ｅ）を合成できる。
【００７４】
【化１１】
【００７５】
＜スキーム６＞ Ｚ2が−ＣＨ2Ｏ−または−ＯＣＨ2−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ４）を水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で還元して化合物（Ｓ８）を得る。これを臭化水素酸等でハロゲン化して化合物（Ｓ９）を得る。次いで、炭酸カリウム等の存在下で、化合物（Ｓ９）を化合物（Ｓ１０）と反応させることにより化合物（１Ｆ）を合成できる。この方法によって−ＣＨ2Ｏ−を有する化合物も合成できる。
【００７６】
【化１２】
【００７７】
＜スキーム７＞ Ｚ2が−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−である化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ３）とｎ−ブチルリチウムとを反応させ、次いで二酸化炭素を反応させてカルボン酸（Ｓ１１）を得る。化合物（Ｓ１１）と化合物（Ｓ１０）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｇ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成できる。
また、（Ｓ１１）に塩化チオニルまたはオキザリルクロリドなどを作用させ、酸クロリド化合物を得た後、ピリジンまたはトリエチルアミンなどの塩基存在下で、化合物（Ｓ１０）と反応させることにより化合物（１Ｇ）を合成することもできる。
【００７８】
【化１３】
【００７９】
＜スキーム８＞ Ｚ2が−ＣＦ＝ＣＦ−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ３）とｎ−ブチルリチウムとを反応させた後、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（Ｓ１２）を得る。次いで、化合物（Ｓ２）とｎ−ブチルリチウムとを反応させた後、得られた化合物と化合物（Ｓ１２）とを反応させることにより化合物（１Ｈ）を合成できる。合成条件を選択することで、シス体の化合物（１Ｈ）を合成することもできる。
【００８０】
【化１４】
【００８１】
＜スキーム９＞ Ｚ2が−Ｃ≡Ｃ−である化合物
下記に示すように、ジクロロパラジウムおよびハロゲン化銅の触媒存在下で、化合物（Ｓ１３）を化合物（Ｓ２）と反応させることにより、化合物（１Ｊ）を合成できる。
【００８２】
【化１５】
【００８３】
＜スキーム１０＞ Ｚ2が−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ１３）をｎ−ブチルリチウムでリチオ化した後、二酸化炭素を作用させてカルボン酸（Ｓ１４）を得る。次いで、カルボン酸（Ｓ１４）と化合物（Ｓ１０）とを、ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で脱水させることにより、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｋ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−を有する化合物も合成できる。
また、スキーム７において（Ｓ１１）から（１Ｇ）を合成したように、まず、酸クロリド化合物を合成し、さらに該酸クロリド化合物から化合物（１Ｋ）を合成することもできる。
【００８４】
【化１６】
【００８５】
＜スキーム１１＞ Ｚ2が−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−である化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ１３）とビニルブロミド（Ｓ１５）とのクロスカップリング反応により、−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物（１Ｌ）を合成できる。シス体の化合物（Ｓ１５）を使用すれば、シス体の（１Ｌ）を製造できる。この方法によって、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−を有する化合物も合成できる。
【００８６】
【化１７】
【００８７】
＜スキーム１２＞ Ｚ2が−ＣＦ2Ｏ−または−ＯＣＦ2−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（１Ｇ）をローソン試薬などの硫黄化剤で処理して化合物（Ｓ１６）を得る。次いで、フッ化水素ピリジン錯体およびＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）を用いて化合物（Ｓ１６）をフッ素化することにより、−ＣＦ2Ｏ−を有する化合物（１Ｍ）を合成できる。また、化合物（Ｓ１６）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化することによっても化合物（１Ｍ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＦ2−を有する化合物も合成できる。P. Kirsch et al., Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によって、これらの結合基を有する化合物を合成することも可能である。
【００８８】
【化１８】
【００８９】
＜スキーム１３＞ Ｚ2が−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−または−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ４）をウイティッヒ反応により化合物（Ｓ１７）へ合成する。次いで、化合物（Ｓ１７）と化合物（Ｓ１０）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を有する化合物（１Ｎ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物も合成できる。
【００９０】
【化１９】
【００９１】
＜スキーム１４＞ Ｚ2が−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−である化合物
下記に示すように、化合物（１Ｎ）をパラジウム炭素などの触媒の存在下で水素化することにより、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｐ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−を有する化合物も合成できる。
【００９２】
【化２０】
【００９３】
＜スキーム１５＞
下記に示すように、１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートと化合物（Ｓ１１）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、Ｚ1が−ＣＯ−である化合物（１ａ）を合成できる。
【００９４】
また、スキーム７において（Ｓ１１）から（１Ｇ）を合成したように、まず、酸クロリド化合物を合成し、さらに該酸クロリド化合物から化合物（１ａ）を合成することもできる。
【００９５】
また、１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートと化合物（Ｓ１８）、化合物（Ｓ１７）または化合物（Ｓ１９）とを、それぞれＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で脱水させることにより、Ｚ1が−ＣＯＣＨ2−である化合物（１ｂ）、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−である化合物（１ｃ）または−ＣＯ（ＣＨ2）2−を有する化合物（１ｄ）をそれぞれ合成できる。
【００９６】
【化２１】
【００９７】
上記の方法を適宜組み合わせることにより、本発明の化合物（１）を合成することができるが、上記の方法に必ずしも制限されない。上記のような方法で合成される化合物の例を以下に示す。なお、上記のように合成された化合物の構造は、例えば、プロトンＮＭＲスペクトルにより確認することができる。
【００９８】
【化２２】
【００９９】
【化２３】
【０１００】
【化２４】
【０１０１】
【化２５】
【０１０２】
【化２６】
【０１０３】
≪重合性液晶組成物≫
本発明の重合性液晶組成物には、以下の第１〜３の態様がある。
本発明の重合性液晶組成物の第１の態様は、１つの重合性の液晶性を有する化合物（１）を含有する。第２の態様は、少なくとも２つの化合物（１）を含有する。第３の態様は、上記化合物（１）以外の重合性化合物（以下、その他の重合性化合物ともいう。）、非重合性の液晶性化合物、および／または、光学活性化合物と、少なくとも１つの化合物（１）とを含有する。これら３つの態様の重合性液晶組成物を合わせて組成物（１）とも言う。つまり、組成物（１）は、少なくとも１つの化合物（１）を含有する。本発明の重合性液晶組成物は良好な塗布性等の特性を有する。
【０１０４】
また、本発明の組成物（１）は、重合開始剤、溶剤、界面活性剤、有機ケイ素化合物、連鎖移動剤およびその他の添加剤などを本発明の効果を損なわない範囲でさらに含有してもよい。
【０１０５】
その他の重合性化合物としては、組成物（１）の被膜形成性および組成物（１）から得られる重合体の機械的強度を低下させない化合物が好ましい。この化合物は液晶性を有する化合物と液晶性を有しない化合物とに分類される。
【０１０６】
光学異方性の制御が容易で、良好な塗布性を有する重合性液晶組成物を得、かつ、上記のような本発明の重合体の効果を顕著に発現させるために、組成物（１）中の液晶性を有するその他の重合性化合物の含有量は、上記化合物（１）とその他の重合性化合物との合計量１００重量％に対し、好ましくは１０〜９９重量％、より好ましくは１５〜９７重量％である。液晶性を有するその他の重合性化合物、および液晶性を有しないその他の重合性化合物の量比は、それらの合計量が前記範囲内であれば自由に変更することができ、また、どちらか一方だけを含有していてもよい。
【０１０７】
（液晶性を有するその他の重合性化合物）
液晶性を有するその他の重合性化合物は、組成物の液晶相の温度範囲、光学異方性、塗布性等を調整することができる。このような化合物の例として、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、フマロイルオキシ基、マレイミジル基、オキシラン環およびオキセタン環を有する液晶性を有する化合物であって、上記化合物（１）以外の化合物を挙げることができる。液晶性を有するその他の重合性化合物は、光学活性であっても光学活性でなくてもよい。
【０１０８】
液晶性を有するその他の重合性化合物として好ましい例は、上記式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物である。
【０１０９】
重合性液晶組成物において、上記化合物（１）と、液晶性を有する重合性化合物との合計量１００重量％に対し、上記式（１）で表される化合物の含有量は、好ましくは１〜９０重量％であり、さらに好ましくは３〜８５重量％であり、上記式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が、好ましくは１０〜９９重量％であり、さらに好ましくは１５〜９７重量％である。重合性液晶組成物中の上記各成分の含有量が上記範囲にあると、光学異方性を容易に制御でき、良好な塗布性を有する重合性液晶組成物を得ることができ、かつ、上記のような本発明の重合体の効果を顕著に発現させることができる。
【０１１０】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、Ｒ2は独立して上記式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基である。
【０１１１】
上記式（２−１）〜（２−６）における、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。Ｒaの好ましい例は水素、メチルおよびエチルである。
【０１１２】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＲ3は、独立して上記式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である。Ｒ3の好ましい例は式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3および−ＯＣＦ3である。
【０１１３】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＡ2は、独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、トリプチセン−１，４−ジイルまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい。Ａ2の好ましい例は１，４−シクロヘキシレンおよび１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい。
【０１１４】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＺ3は、独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2ＯＣＯ−、−（ＣＨ2）2−または−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−である。Ｚ3の好ましい例は単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−および−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−である。そして、Ｚ3のより好ましい例は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−および−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−である。
【０１１５】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＱ2は、独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよい。Ｑ2の好ましい例は単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい。そして、Ｑ2のより好ましい例は単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい。
【０１１６】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、ｎは１〜５の整数である。ｎは２または３の整数であることが好ましい。
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、ｘは０または１である。
【０１１７】
化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）は、広い温度範囲の液晶相を示す。
Ｒ3が重合性基である場合は、化合物（Ｍ１）および（Ｍ２）は、構造中に２つ以上の重合性基を有するため、この化合物を含有する重合性液晶組成物を重合してなる重合体は、３次元網目構造を形成することができ、高い機械的強度を有する重合体の形成が可能となる。化合物（Ｍ１）においてＲ3が重合性基でない場合は単官能化合物となり、分子長軸方向において、重合性基の反対側に極性基などの置換基を導入することができるため、液晶状態での配向制御の調整が可能となる。化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）のいずれにおいても、環構造Ａ2が１，４−フェニレンの場合は光学異方性値（Δｎ）の大きい組成物を得ることができ、１，４−シクロヘキシレンの場合は低いΔｎを有する組成物を得ることができる。
【０１１８】
また、本発明の組成物（１）は、上記式（１）において、Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよく；Ｚ2は独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｑ1は単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｍは１〜３である、化合物（１）と、
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、Ｒ3は独立して上記式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；Ａ2は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；Ｚ3は独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；Ｑ2は独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｎは２または３の整数である、化合物（Ｍ１）および／または（Ｍ２）とを含有することが好ましい。
この重合性液晶組成物は、光学異方性の制御が容易であり、他の液晶性化合物および有機溶媒に対する良好な溶解性、液晶性および塗布性を有する傾向にある。
【０１１９】
さらに、本発明の組成物（１）は、上記式（１）において、Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよく；Ｚ2は独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−であり；Ｑ1は独立して炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｍは２である、化合物（１）と、
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、Ｒ3は独立して独立して上記式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、−ＣＮ、フッ素または−ＯＣＦ3であり；Ａ2は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ3は独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；Ｑ2は独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｎは２または３である、化合物（Ｍ１）および／または化合物（Ｍ２）とを含有することが好ましい。
この重合性液晶組成物は、上記組成物（１）に比べ、さらに、光学異方性の制御が容易であり、他の液晶性化合物および有機溶媒に対する良好な溶解性、液晶性および塗布性を有する傾向にある。
【０１２０】
なお、上記モノフルオロ−１，４−フェニレンおよびジフルオロ−１，４−フェニレンにおけるフッ素のフェニレン環への結合位置は、いずれでもよい。
【０１２１】
化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）の好ましい例として、それぞれ以下に示す化合物（Ｍ１−１−１）〜（Ｍ１−２−４０）および化合物（Ｍ２−１−１）〜（Ｍ２−２−７）が挙げられる。
【０１２２】
以下の化合物において、Ｑ2は上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＱ2と同義であり、Ｒ2は独立して次に示す式（２−１−１）、式（２−２）、式（２−３−１）、式（２−４）、式（２−５−１）、式（２−６−１）または式（２−６−２）で表される基である。
【０１２３】
【化２７】
【０１２４】
【化２８】
【０１２５】
【化２９】
【０１２６】
【化３０】
【０１２７】
【化３１】
【０１２８】
【化３２】
【０１２９】
【化３３】
【０１３０】
【化３４】
【０１３１】
【化３５】
【０１３２】
【化３６】
【０１３３】
【化３７】
【０１３４】
上記の化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）のそれぞれの好ましい例において、Ｒ2が式（２−１−１）で示される基であって、Ｑ2が炭素数３〜６のアルキルまたはアルコキシである化合物が好ましい。
【０１３５】
（液晶性を有しないその他の重合性化合物）
液晶性を有しないその他の重合性化合物としては、ビニル誘導体、スチレン誘導体、（メタ）アクリル酸誘導体、オキシラン誘導体、オキセタン誘導体、ソルビン酸誘導体、フマル酸誘導体、イタコン酸誘導体などの化合物であって液晶性を有しないものが挙げられる。「（メタ）アクリル酸誘導体」は、アクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体の総称である。これらの化合物は、重合性液晶組成物の粘度や配向を調整するのに適しており、組成物を塗布する際、塗膜の厚さを均一にする効果が大きい。この液晶性を有しないその他の重合性化合物には、重合性基を１つ有する化合物、重合性基を２つ有する化合物および重合性基を３つ以上有する多官能化合物などがある。重合性基を１つ有する化合物は、粘度や融点等の調整に適している。重合性基を２つ以上有する化合物は、重合体の機械的強度を制御するのに適している。液晶性を有しないその他の重合性化合物は、光学活性であっても光学活性でなくてもよいが、光学活性化合物が好ましい。
【０１３６】
これらの化合物の具体例として、特開２００８−２６６６３２号公報の段落００９７〜０１０１に記載の化合物が挙げられる。
【０１３７】
また、以下のビスフェノール構造を有する重合性化合物を用いてもよい。これらの化合物は、重合性液晶組成物の被膜形成能や配向均一性の補助に適している。
【０１３８】
【化３８】
【０１３９】
【化３９】
【０１４０】
【化４０】
【０１４１】
化合物（Ｎ−１０）〜化合物（Ｎ−１５）は、特開２００７−１６２１３号公報、特開２００８−１３３３４４号公報に合成方法が記載されている。化合物（Ｎ−１）〜（Ｎ−１５）を添加する場合の添加量は、組成物全体（溶剤を除く）に対して、０．１重量％〜２５重量％、好ましくは１重量％〜１５重量％である。また、複数種の化合物を使用してもよい。
【０１４２】
（非重合性の液晶性化合物）
組成物（１）は重合性基を持たない非重合性の液晶性化合物を含有してもよい。このような非重合性の液晶性化合物の例は、液晶性化合物のデータベースであるリクリスト（LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany）に記載されている。化合物（１）は、組成物（１）中の化合物（１）以外の他の成分との良好な相溶性を有する。したがって、組成物（１）は、液晶表示素子に封入される液晶組成物として用いることができる。このような組成物（１）は、二色性色素等の添加物をさらに含有してもよい。光学異方性の制御が容易で、良好な塗布性を有する重合性液晶組成物を得、かつ、上記のような本発明の重合体の効果を顕著に発現させるために、組成物（１）中の非重合性の液晶性化合物の含有量は、上記化合物（１）とその他の重合性化合物の合計量１００重量％に対し、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下である。
【０１４３】
非重合性の液晶化合物としては、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物を上げることが出来る。
【化４１】
［式（Ａ）中、Ｑ2、Ａ2およびｎはそれぞれ前記式（Ｍ１）中のＱ2、Ａ2およびｎと同義であり、ＺAは独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、ＲAは炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である。］
以下に、具体例を示す。
【０１４４】
【化４２】
【０１４５】
【化４３】
【０１４６】
【化４４】
【０１４７】
（光学活性化合物）
組成物（１）は光学活性化合物を含有してもよい。光学活性を有する化合物（１）を適当量含有する組成物、または、光学活性でない化合物（１）に光学活性化合物を適当量添加して得られる組成物は、らせん構造（ツイスト構造）を示し、配向処理した基板上に塗布して重合することによって、らせん構造が固定された位相差フィルムが得られる。得られた重合体の特性は、得られたらせん構造のらせんピッチに依存する。このらせんピッチ長は、光学活性化合物の種類および添加量により調整できる。添加する光学活性化合物は１つでもよいが、らせんピッチの温度依存性を相殺する目的で複数の光学活性化合物を用いてもよい。
【０１４８】
上記光学活性化合物は、らせん構造を誘起し、ベースとなる重合性液晶組成物と適切に混合できれば、いずれの光学活性化合物を用いてもよい。また、重合性化合物でも非重合性化合物のいずれでもよく、目的に応じて最適な化合物を組成物（１）に添加することができる。耐熱性および耐溶媒性を考慮した場合、重合性化合物の方が好適である。上記光学活性を発現する骨格として不斉炭素を１つもしくは複数有するアルキレン、アルケニレンまたは、以下の構造を有するものなどがある。光学活性化合物の添加量は、組成物全体（溶媒を除く）に対して、通常０．０１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％である。
【０１４９】
【化４５】
【０１５０】
上記式中、Ｍｅはメチルであり、＊が付与された炭素は不斉炭素である。）
【０１５１】
さらに、上記光学活性化合物の中でも、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）が大きいものは、らせんピッチを短くする上で好適である。ねじり力の大きな化合物の代表例は、ＧＢ２２９８２０２号公報、ＤＥ１０２２１７５１号公報に開示されている。
【０１５２】
以下に重合性の光学活性化合物の具体例を示す。これらの具体例において、ｎおよびｍはそれぞれ２〜１２の整数である。
【０１５３】
【化４６】
【０１５４】
【化４７】
【０１５５】
【化４８】
【０１５６】
上記式中、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5およびＲ6は独立してフェニル、炭素数１〜６のアルキルまたはトリフルオロメチルである。
【０１５７】
【化４９】
【０１５８】
上記式中、−ＣＯＯ−Ｃｈｏｌは下記のコレステロールエステル基を意味する。
【０１５９】
【化５０】
【０１６０】
【化５１】
【０１６１】
【化５２】
【０１６２】
【化５３】
【０１６３】
【化５４】
【０１６４】
【化５５】
【０１６５】
上記式中、tＢｕはターシャリブチルを示す
【０１６６】
【化５６】
【０１６７】
【化５７】
【０１６８】
以下に非重合性の光学活性化合物の具体例を示す。これらの具体例において、Ｒ7は独立して水素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜６のアルキル、炭素数１〜６のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である。
【０１６９】
【化５８】
【０１７０】
【化５９】
【０１７１】
【化６０】
【０１７２】
上記式中、−ＣＯＯ−Ｃｈｏｌは下記のコレステロールエステル基を意味する。
【０１７３】
【化６１】
【０１７４】
【化６２】
【０１７５】
（重合開始剤）
組成物（１）は重合開始剤を含有してもよい。重合開始剤は重合の種類により選択できる。重合開始剤は、１種類で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。好ましい重合開始剤を以下に示す。
【０１７６】
光ラジカル重合開始剤の例として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ダロキュアー１１７３）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（イルガキュアー６５１）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガキュアー１８４）、イルガキュアー１２７、イルガキュアー５００（イルガキュアー１８４とベンゾフェノンの混合物）、イルガキュアー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー３７９、イルガキュアー７５４、イルガキュアー１３００、イルガキュアー８１９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５０、イルガキュアー１８７０、ダロキュアー４２６５、ダロキュアーＭＢＦ、ダロキュアーＴＰＯ、イルガキュアー７８４、イルガキュアー７５４、イルガキュアーＯＸＥ０１、およびイルガキュアーＯＸＥ０２が挙げられる。上記のダロキュアーおよびイルガキュアーはどちらもチバ・ジャパン（株）から販売されている商品の名称である。これらに公知の増感剤（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチル−４ジメチルアミノベンゾエート（ダロキュアーＥＤＢ）および２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート（ダロキュアーＥＨＡ）など）を添加してもよい。
【０１７７】
光ラジカル重合開始剤のその他の例として、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物およびベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物が挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
【０１７８】
熱によるラジカル重合に用いられる開始剤の好ましい例として、過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリーブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ターシャリーブチルパーオキシピバレート、ジターシャリーブチルパーオキシド、ターシャリーブチルパーオキシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、３，３’−ビスメトキシカルボニル−４，４’−ビス−ターシャリーブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、３，４’−ビスメトキシカルボニル−４，３’−ビス−ターシャリーブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、４，４’−ビスメトキシカルボニル−３，３’−ビス−ターシャリーブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、アゾビスイソブチロニトリルおよびアゾビスシクロヘキサンカルボニトリルが挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
【０１７９】
アゾ系の市販の開始剤の例として、和光純薬工業（株）製のＶ−７０、Ｖ−６５、Ｖ−６０、Ｖ−５９、Ｖ−４０，Ｖ−３０、Ｖ−５０１、Ｖ−６０１、ＶＥ−０７３、ＶＡ−０８０、ＶＡ−０８６、ＶＦ−０９６、ＶＡｍ−１１０、ＶＡｍ−１１１、ＶＡ−０４４、ＶＡ−０４６Ｂ、ＶＡ−０６０、ＶＡ−０６１、Ｖ−５０、ＶＡ−０５７、ＶＡ−０６７、ＶＲ−１１０、ＶＰＥ−０２０１、ＶＰＥ−０４０１、ＶＰＥ−０６０１およびＶＰＳ−１００１が挙げられる。
【０１８０】
光カチオン重合用の好ましい開始剤は、ジアリールヨードニウム塩（以下「ＤＡＳ」と略す）、トリアリールスルホニウム塩（以下「ＴＡＳ」と略す）などである。
ＤＡＳの例として、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネートおよびビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートが挙げられる。ＤＡＳと光増感剤とを組み合わせることも好ましい。このような光増感剤の例として、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセンおよびルブレンが挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
【０１８１】
ＴＡＳの例として、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネートおよび４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネートが挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
【０１８２】
光カチオン重合に用いる市販の開始剤の例として、みどり化学（株）製「ＤＴＳ−１０２」、ＵＣＣ社製「サイラキューアーＵＶＩ−６９９０」、「サイラキュアーＵＶＩ−６９７４」、「サイラキュアーＵＶＩ−６９９２」、旭電化（株）製「アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５２、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２」、ローディア社製「ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０７４」、チバ・ジャパン（株）製「イルガキュアー２５０」およびＧＥシリコンズ社製「ＵＶ−９３８０Ｃ」が挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。また、総説エポキシ樹脂（エポキシ樹脂技術協会編）に記載されているアミン系硬化剤なども必要とされる特性に応じて添加することができる。
【０１８３】
熱によるカチオン重合開始剤の具体的な商品名の例として、三新化学工業（株）の製品のサンエイド（主剤） ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−１６０、ＳＩ−１８０およびサンエイド（助剤）ＳＩが挙げられる。これらは光ラジカル開始剤および光カチオン重合開始剤と併用、または光ラジカル開始剤と併用してもよい。
【０１８４】
（溶剤）
組成物（１）はそのまま基板面に塗布することもある。しかしながら、通常は塗布を容易にするために、溶剤を用いて重合性液晶組成物を希釈するか、または溶剤に重合性液晶組成物の各成分を溶解して、重合性液晶組成物と溶剤とからなる重合性液晶組成物の溶液が調製され、この溶液が用いられる。この溶剤は単独でも使用できるし、２つ以上を混合して使用してもよい。溶剤の例として、エステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤および脂環式炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤およびアセテート系溶剤が挙げられる。
【０１８５】
エステル系溶剤の好ましい例として、酢酸アルキル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチルおよび酢酸イソペンチル）、トリフルオロ酢酸エチル、プロピオン酸アルキル（例：プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピルおよびプロピオン酸ブチル）、酪酸アルキル（例：酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イソブチルおよび酪酸プロピル）、マロン酸ジアルキル（例：マロン酸ジエチル）、グリコール酸アルキル（例：グリコール酸メチルおよびグリコール酸エチル）、乳酸アルキル（例：乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸イソプロピル、乳酸n-プロピル、乳酸ブチルおよび乳酸エチルヘキシル）、モノアセチン、γ−ブチロラクトンならびにγ−バレロラクトンが挙げられる。
【０１８６】
アミド系溶剤の好ましい例として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。
【０１８７】
アルコール系溶剤の好ましい例として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ブタノール、２−エチルブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、１−ドデカノール、エチルヘキサノール、３、５、５−トリメチルヘキサノール、ｎ−アミルアルコール、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−３−メトキシブタノール、シクロヘキサノールおよびメチルシクロヘキサノールが挙げられる。
【０１８８】
エーテル系溶剤の好ましい例として、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ビス（２−プロピル）エーテル、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ターピニルメチルエーテル、ジヒドロターピニルメチルエーテル、１，８−シネオール、１，４−シネオールおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が挙げられる。
【０１８９】
グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の好ましい例として、エチレングリコールモノアルキルエーテル（例：エチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテル）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテル）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：プロピレングリコールモノブチルエーテル）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル）、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、およびジエチレングリコールメチルエチルエーテルが挙げられる。
【０１９０】
芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例として、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ｉ−プロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベンゼン、ｎ−ブチルベンゼン、アニソール、ｐ−サイメン、リモネン、ターピノーレンおよびテトラリンが挙げられる。
ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例としてクロロベンゼンが挙げられる。
【０１９１】
脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例として、ヘキサンおよびヘプタンが挙げられる。
ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例として、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレンおよびテトラクロロエチレンが挙げられる。
脂環式炭化水素系溶剤の好ましい例として、シクロヘキサンおよびデカリンが挙げられる。
【０１９２】
ケトン系溶剤の好ましい例として、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジヒドロカルボン、メントン、ピペリテノンおよびメチルプロピルケトンが挙げられる。
【０１９３】
アセテート系溶剤の好ましい例として、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸メチル、α-タ−ピニルアセテート、ペリリルアセテート、３−オクチルアセテート、２−オクチルアセテート、ミルテニルアセテート、イソボニルアセテート、ジヒドロターピニルアセテート、ジヒドロカルビルアセテート、カルビルアセテートおよび１−メトキシ−２−プロピルアセテートが挙げられる。
【０１９４】
重合性液晶化合物の溶解性の観点からは、アミド系溶剤、芳香族炭化水素系、ケトン系溶剤の使用が好ましく、溶剤の沸点を考慮すると、これら溶剤とエステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤およびグリコールモノアルキルエーテル系溶剤との併用も好ましい。溶剤の選択に関して特に制限はないが、支持基材としてプラスチック基板を用いる場合は、基板の変形を防ぐために乾燥温度を低くすること、および溶剤が基板を侵食しないようにする必要がある。このような場合に好ましく用いられる溶剤として、芳香族炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、アセテート系溶剤およびグリコールモノアルキルエーテル系溶剤が挙げられる。
【０１９５】
重合性液晶組成物の溶液における溶剤の割合は、この溶液の全重量を基準として５０〜９５％である。この範囲の下限は重合性液晶化合物の溶解性およびこの溶液を塗布する際のその最適粘度を考慮した数値である。そしてその上限は、溶剤コストおよび溶剤を蒸発させる際の時間や熱量といった経済的観点を考慮した数値である。この割合の好ましい範囲は６０〜９０％であり、より好ましい範囲は７０〜８５％である。
【０１９６】
（界面活性剤）
本発明の重合性液晶組成物は界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤は、組成物を支持基板などに均一な膜厚で塗布するのを容易にし、液晶相の配向を制御するといった効果も有する。好ましい界面活性剤としては、例えば、陽イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤および非イオン性界面活性剤が挙げられるが、より好ましい界面活性剤は非イオン性界面活性剤である。非イオン性界面活性剤の好ましい例として、シリコーン系、フッ素系および炭化水素系等の非イオン性界面活性剤が挙げられる。このうち、シリコーン系の非イオン性界面活性剤の例として、変性シリコーンを主成分とした共栄社化学（株）製のポリフローＡＴＦ―２、グラノール１００、グラノール１１５、グラノール４００、グラノール４１０、グラノール４３５、グラノール４４０、グラノール４５０、グラノールＢ−１４８４、ポリフローＫＬ−２５０、ポリフローＫＬ−２６０、ポリフローＫＬ−２７０、ポリフローＫＬ−２８０、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−３５００、ＢＹＫ−３５１０およびＢＹＫ−３５７０が挙げられる。
【０１９７】
フッ素系の非イオン性界面活性剤の例として、ＢＹＫ−３４０、フタージェント２５１、フタージェント２２１ＭＨ、フタージェント２５０、ＦＴＸ−２１５Ｍ、ＦＴＸ−２１８Ｍ、ＦＴＸ−２３３Ｍ、ＦＴＸ−２４５Ｍ、ＦＴＸ−２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、フタージェント２２２Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０６Ｄ、フタージェント２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−７２０Ｃ、ＦＴＸ−７４０Ｃ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＫＢ−Ｌ８２、ＫＢ−Ｌ８５、ＫＢ−Ｌ９７、ＫＢ−Ｌ１０９、ＫＢ−Ｌ１１０、ＫＢ−Ｆ２Ｌ、ＫＢ−Ｆ２Ｍ、ＫＢ−Ｆ２Ｓ、ＫＢ−Ｆ３ＭおよびＫＢ−ＦａＭが挙げられる。
【０１９８】
炭化水素系の非イオン性界面活性剤の例として、アクリル系ポリマーを主成分としたポリフローＮｏ．３、ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ、ポリフローＮｏ．５４Ｎ、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．７７、ポリフローＮｏ．８５ＨＦ、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２およびＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００が挙げられる。
【０１９９】
なお、上記のポリフローおよびグラノールはどちらも共栄社化学（株）から販売されている商品の名称である。ＢＹＫはビックケミー・ジャパン（株）から販売されている商品の名称である。フタージェント、ＦＴＸおよびＫＢは（株）ネオスから販売されている商品の名称である。界面活性剤の量は、界面活性剤の種類、組成物の組成比などにより異なるが、組成物（１）全体（溶媒を除く）の重量に対して０．０１重量％〜３重量％、好ましくは０．０３〜２重量％の範囲である。
【０２００】
（有機ケイ素化合物）
組成物（１）は、配向性を制御するために、有機ケイ素化合物を含有してもよい。具体例としては、アミン系の３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、３−アミノプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アミノプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｎ-（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ-（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ-（６−アミノヘキシル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、およびケチミン系の３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１、３ジメチル−ブチリデン）が挙げられる。支持基材との密着性を制御するために、上記以外の有機ケイ素化合物を含有してもよい。具体例としては、ビニルトリアルコキシシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、３−クロロトリアルコキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび３−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランが挙げられる。別の例としては、これらの化合物において、３つのアルコキシ基の１つがメチルに置き換えられたジアルコキシメチルシランが挙げられる。有機ケイ素化合物の量は、有機ケイ素化合物の種類、組成物の組成比などにより異なるが、組成物（１）全体（溶媒を除く）の重量に対して１〜３０重量％、好ましくは３〜１５重量％の範囲である。
【０２０１】
（連鎖移動剤）
組成物（１）には１種または２種以上の連鎖移動剤を加えて重合体の機械特性を制御することが可能である。連鎖移動剤を用いることによりポリマー鎖の長さを制御することができる。これらの長さを同時に制御することもできる。連鎖移動剤の量を増大させると、ポリマー鎖の長さは減少する。好ましい連鎖移動剤は、チオール化合物である。単官能性チオールの例として、ドデカンチオールおよび２−エチルへキシル−（３−メルカプトプロピオネート）が挙げられる。多官能性チオールの例として、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン（カレンズＭＴ ＢＤ１）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（カレンズＭＴ ＰＥ１）、および１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（カレンズＭＴ ＮＲ１）が挙げられる。「カレンズ」は昭和電工株式会社の商品名である。
【０２０２】
（その他の添加剤）
その他の添加剤としては、重合防止剤、酸素阻害剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤およびアミン系硬化剤などを挙げることができる。
【０２０３】
組成物（１）には、保存時の重合開始を防止するために重合防止剤を添加することができる。公知の重合防止剤を使用できるが、その好ましい例として、２，５−ジ（ｔ−ブチル）ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ハイドロキノン、メチルブルー、ジフェニルピクリン酸ヒドラジド（ＤＰＰＨ）、ベンゾチアジン、４−ニトロソジメチルアニリン（ＮＩＤＩ）およびｏ−ヒドロキシベンゾフェノンが挙げられる。
【０２０４】
組成物（１）には、保存性を向上させるために、酸素阻害剤を添加することもできる。組成物内で発生するラジカルは保存環境中の酸素と反応し、パーオキサイドラジカルを与え、重合性化合物との好ましくない反応が促進される。これを防ぐ目的で酸素阻害剤を添加することが好ましい。酸素阻害剤の例はリン酸エステル類である。
【０２０５】
重合性液晶組成物の耐候性を更に向上させるために、紫外線吸収剤、光安定剤（ラジカル捕捉剤）、酸化防止剤等を添加してもよい。紫外線吸収剤の例として、チヌビンＰＳ、チヌビンＰ、チヌビン９９−２、チヌビン１０９、チヌビン２１３、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２８、チヌビン３２９、チヌビン３８４−２、チヌビン５７１、チヌビン９００、チヌビン９２８、チヌビン１１３０、チヌビン４００、チヌビン４０５、チヌビン４６０、チヌビン４７９、チヌビン５２３６、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３４、アデカスタブＬＡ−３６、アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブ１４１３およびアデカスタブＬＡ−５１が挙げられる。「チヌビン」はチバ・ジャパン（株）の商品名であり、「アデカスタブ」は旭電化（株）の商品名である。
【０２０６】
光安定剤の例として、チヌビン１１１ＦＤＬ、チヌビン１２３、チヌビン１４４、チヌビン１５２、チヌビン２９２、チヌビン６２２、チヌビン７７０、チヌビン７６５、チヌビン７８０、チヌビン９０５、チヌビン５１００、チヌビン５０５０、チヌビン５０６０、チヌビン５１５１、キマソーブ１１９ＦＬ、キマソーブ９４４ＦＬ、キマソーブ９４４ＬＤ、アデカスタブＬＡ−５２、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７、サイテック社製のサイアソーブＵＶ−３３４６、およびグッドリッチ社製のグッドライトＵＶ−３０３４が挙げられる。「キマソーブ」はチバ・ジャパン（株）の商品名である。
【０２０７】
酸化防止剤の例として、旭電化社製のアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、住友化学（株）製のスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、スミライザーＧＡ−８０、並びにチバ・ジャパン（株）製のＩｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４およびＩｒｇａｎｏｘ２４５が挙げられる。
【０２０８】
また、組成物（１）には、総説エポキシ樹脂（エポキシ樹脂技術協会編）に記載されているアミン系硬化剤なども必要とされる特性に応じて添加することができる。
【０２０９】
（重合体）
以下の説明では、重合性液晶組成物の配向を制御して重合することによって得られる重合体を異方性ポリマーと称する。また、配向を制御しないで重合して得られた重合体をポリマーフィルムと称する。異方性ポリマーは、次のようにして形成することができる。まず、重合性液晶組成物の溶液を配向処理した支持基材上に塗布し、これを乾燥させて塗膜を形成させる。つぎに、その塗膜に光照射、あるいは加熱して重合性液晶組成物を重合させ、塗膜中の組成物が液晶状態で形成するネマチック配向を固定化する。
【０２１０】
重合性液晶組成物の配向形態は、組成物に含有する各成分の種類および量などを適宜変更することで、目的に応じた配向形態を有する重合性液晶組成物および重合体を得ることができるが、本発明の重合性液晶組成物は、ホモジニアス配向、チルト配向、ツイスト配向、ホメオトロピック配向のいずれか１つを有することが好ましい。このような配向形態を有する重合性液晶組成物を重合して得られる異方性ポリマーおよび積層体は、液晶表示素子や液晶表示装置に用いられる光学補償フィルムや反射フィルムとして好適に用いることができる。
【０２１１】
なお、本発明において単に「積層体」と言うときは、上記支持基材とその上に形成された異方性ポリマーとを有するものを言う。
【０２１２】
使用できる支持基材は、ガラス基板およびプラスチック基板などである。プラスチック基板の例として、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロースおよびその部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂ならびにシクロオレフィン系樹脂からなるプラスチックフィルムが挙げられる。
【０２１３】
シクロオレフィン系樹脂としてノルボルネン系樹脂およびジシクロペンタジエン系樹脂等が挙げられるが、これらに限定される訳ではない。これらの中で、不飽和結合を有さないか、または不飽和結合が水素添加されたものが好適に用いられる。例えば、１種または２種以上のノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体の水素添加物、１種または２種以上のノルボルネン系モノマーの付加（共）重合体、ノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマー（エチレン、α−オレフィン等）との付加共重合体、ノルボルネン系モノマーとシクロオレフィン系モノマー（シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエン等）との付加共重合体、及び、これらの変性物が挙げられ、具体例として、ＺＥＯＮＥＸ、ＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン社製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）、ＴＯＰＡＳ（チコナ社製）、ＡＰＥＬ（三井化学社製）、エスシーナ（積水化学工業社製）およびＯＰＴＯＲＥＺ（日立化成社製）等が挙げられる。
【０２１４】
これらのプラスチック基板は、一軸延伸フィルムであってもよく、二軸延伸フィルムであってもよい。これらのプラスチック基板は、その表面を、例えば、親水化処理、あるいは疎水化処理したものであってもよい。親水化処理の方法は特に制限はないが、コロナ処理、プラズマ処理およびイオンビーム処理などが好ましく、さらに好ましい方法は、コロナ処理またはプラズマ処理であり、特に好ましい方法はプラズマ処理である。プラズマ処理は、特に制限されないが、特開２００２−２２６６１６号公報および特開２００２−１２１６４８号公報などに記載されている方法を用いても良い。これらの親水化処理は、重合性液晶組成物をホメオトロピック配向に制御する場合に用いることもできる。
【０２１５】
また、得られる異方性ポリマーとプラスチック基板との密着性を改良するために、プラスチック基板上にアンカーコート層を形成させてもよい。このようなアンカーコート層は異方性ポリマーとプラスチック基板の密着性を高めるものであれば、無機系、有機系のいずれの材料であっても何ら問題はない。また、プラスチック基板は積層フィルムであってもよい。これらプラスチック基板に代えて、表面にスリット状の溝をつけたアルミニウム、鉄および銅などの金属基板や、表面をスリット状にエッチング加工したアルカリガラス、ホウ珪酸ガラスおよびフリントガラスなどのガラス基板などを用いることもできる。
【０２１６】
支持基材として、ガラス基板を用いる場合には、その表面を上記プラスチックフィルムで被覆したものであってもよく、得られる異方性ポリマーとガラス基板との密着性を改良するためにアンカーコート層を形成させてもよい。
【０２１７】
これらのガラス基板、プラスチック基板等の支持基材には、重合性液晶組成物の塗膜形成に先立って、ラビング等による物理的、機械的な表面処理を行うことが好ましい。ラビング処理には、通常はレーヨン、綿、ポリアミドなどの素材からなるラビング布を金属ロールなどに捲き付け、支持基材、プラスチックフィルム被膜またはアンカーコート層に接した状態でロールを回転させながら移動させる方法、ロールを固定したまま支持基材側を移動させる方法などが採用され、どのような方法を選んでもよい。ラビング処理は支持基材に直接施されていてもよく、またはプラスチックフィルム被膜またはアンカーコート層に施されてもよい。
【０２１８】
なお、支持基材の種類によっては、その表面を事前にコロナ処理やプラズマ処理を行い、塗布性を向上させる場合がある。その際には、ラビング処理前に行うとよい。また、上記のラビング処理の代わりに偏光ＵＶを用いた光配向処理を行ってもよく、各種の光配向膜材料が適用できる。
【０２１９】
本発明の重合性液晶組成物の溶液を塗工するときには、塗布後に溶剤を除去して、支持基材上に均一な膜厚の重合性液晶組成物の層（以下、「重合性液晶層」とも言う。）を形成させる。
【０２２０】
重合性液晶組成物またはその溶液を塗工する際、均一な膜厚を得るための塗布方法の例として、スピンコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、メニスカスコート法およびダイコート法が挙げられる。
【０２２１】
溶剤除去の条件は特に限定されない。溶剤がおおむね除去され、重合性液晶組成物の塗膜の流動性がなくなるまで乾燥すればよい。室温での風乾、ホットプレートでの乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなどを利用して溶剤を除去することができる。重合性液晶組成物に用いる化合物の種類と組成比によっては、塗膜を乾燥する過程で、塗膜中の重合性液晶組成物のネマチック配向が完了していることがある。従って、この場合には、乾燥工程を経た塗膜は、後述する熱処理工程を経由することなく、重合工程に供することができる。
【０２２２】
塗膜を熱処理する際の温度および時間、光照射に用いられる光の波長、光源から照射する光の量などは、重合性液晶組成物に用いる化合物の種類と組成比、光重合開始剤の添加の有無やその添加量などによって、好ましい範囲が異なる。従って、以下に説明する塗膜の熱処理の温度および時間、光照射に用いられる光の波長、および光源から照射する光の量についての条件は、あくまでもおよその範囲を示すものである。
【０２２３】
塗膜の熱処理は、溶剤が除去され、重合性液晶の均一配向性が得られる条件で行うことが好ましい。重合性液晶組成物の液晶相転移点以上で行ってもよい。熱処理方法の一例としては、前記重合性液晶組成物がネマチック液晶相を示す温度まで塗膜を加温して、塗膜中の重合性液晶組成物にネマチック配向を形成させる方法が挙げられる。また、重合性液晶組成物がネマチック液晶相を示す温度範囲内で、塗膜の温度を変化させることによってネマチック配向を形成させてもよい。この方法は、該温度範囲の高温域まで塗膜を加温することによって塗膜中にネマチック配向を概ね完成させ、次いで温度を下げることによってさらに秩序だった配向にする。
【０２２４】
これらの熱処理方法における熱処理温度は室温〜１２０℃である。この温度の好ましい範囲は室温〜１００℃であり、より好ましい範囲は室温〜９０℃、さらに好ましい範囲は室温〜８５℃である。熱処理時間は５秒〜２時間である。この時間の好ましい範囲は１０秒〜４０分であり、より好ましい範囲は２０秒〜２０分である。重合性液晶層の温度を所定の温度まで上昇させるためには、熱処理時間を５秒以上にすることが好ましい。異方性ポリマーの生産性を低下させないためには、熱処理時間を２時間以内にすることが好ましい。このようにして本発明の積層体が得られ、該積層体から支持基材を除去することで、異方性ポリマーを得ることができる。
【０２２５】
重合性液晶層中に形成された重合性液晶化合物のネマチック配向状態は、この重合性液晶組成物を光照射、あるいは加熱により重合することで固定化される。光照射の方法は特に限定されなく、組成物に応じた方法を用いればよく、電子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）などを利用することができる。通常は、紫外線または可視光線を用いればよい。波長の範囲は１５０〜５００ｎｍである。好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、より好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源の例として、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）が挙げられる。光源の好ましい例として、メタルハライドランプやキセノンランプ、超高圧水銀ランプおよび高圧水銀ランプが挙げられる。光源と重合性液晶層との間にフィルターなどを設置して特定の波長領域のみを通すことにより、照射光源の波長領域を選択してもよい。光源から照射する光量は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2である。光量の好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であり、より好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。光照射時の温度条件は、上記の熱処理温度と同様に設定されることが好ましい。また、重合環境の雰囲気は窒素雰囲気、不活性ガス雰囲気、空気雰囲気のいずれでも良いが、窒素雰囲気あるいは不活性ガス雰囲気が硬化性を向上させる観点から好ましい。
【０２２６】
加熱による重合では、熱重合開始剤の重合開始温度に応じて加熱温度を調整するとよい。乾燥工程で熱重合反応が開始することを避けるために、熱重合開始剤の半減期温度と乾燥工程の温度差はなるべく大きくするとよい。また、熱重合時にラジカルを発生する熱重合開始剤を用いるときは、窒素雰囲気あるいは不活性ガス雰囲気で加熱を行うなどして、酸素による重合阻害を低減させる方法が硬化性を向上させる観点から好ましい。
【０２２７】
本発明の重合性液晶組成物を光や熱などにより重合させた異方性ポリマーを様々な光学素子に用いる場合、または液晶表示装置に用いる光学補償素子として適用する場合には、厚み方向におけるチルト角の分布の制御が重要となる。
【０２２８】
チルト角を制御する方法の一つとして、重合性液晶組成物に用いる液晶性を有する化合物の種類や組成比などを調整する方法が挙げられる。また、この重合性液晶化合物に界面活性剤を添加することによって、チルト角を制御することができる。異方性ポリマーのチルト角は、重合性液晶組成物中の溶剤の種類や溶質濃度、界面活性剤の種類や添加量などによっても制御することができる。支持基材、プラスチックフィルム被膜およびアンカーコート層の種類やラビング条件、重合性液晶組成物の塗膜の乾燥条件や熱処理条件などによっても、異方性ポリマーのチルト角を制御することができる。さらに、配向後の光重合工程での照射雰囲気や照射時の温度なども異方性ポリマーのチルト角に影響を与える。即ち、異方性ポリマーの製造プロセスにおけるほとんど全ての条件が多少なりともチルト角に影響を与えると考えてよい。従って、重合性液晶性組成物の最適化と共に、異方性ポリマーの製造プロセスの諸条件を適宜選択することにより、目的に応じたチルト角にすることができる。
【０２２９】
異方性ポリマーの好ましいヘイズ値は１．５％以下であり、好ましい透過率は８０％以上である。より好ましいヘイズ値は１．０％以下であり、より好ましい透過率は９５％以上である。透過率については、可視光領域でこれらの条件を満たすことが好ましい。
【０２３０】
異方性ポリマーおよび積層体は、液晶表示素子（特に、アクティブマトリックス型およびパッシブマトリックス型の液晶表示素子）および液晶表示装置に適用する光学補償フィルムおよび反射フィルムとして有効である。異方性ポリマーおよび積層体を光学補償膜として使用するのに適している液晶表示素子の型の例として、ＩＰＳ型（イン・プレーン・スイッチング）、光学的にアイソトロピックな相における切換を有するディスプレイ（例えばＷＯ０２／９３２４４に記載）、ＴＮ型（ツイステッド・ネマティック）、ＳＴＮ型（スーパー・ツイステッド・ネマティック）、ＥＣＢ型（電気的に制御された複屈折）、ＤＡＰ型（整列相の変形効果）、ＣＳＨ型（カラー・スーパー・ホメオトロピック）、ＶＡ（垂直配向）、ＶＡＮ／ＶＡＣ型（垂直配向したネマチック／コレステリック）、ＭＶＡ（多ドメイン垂直配向）もしくはＰＶＡ（パターン化された垂直配向）、ＯＣＢ型（光学的に補償された複屈折）、Ｒ−ＯＣＢ（反射性ＯＣＢ）、ＨＡＮ（複合配向ネマティック）、ＯＭＩ型（光学モード干渉）およびＳＢＥ型（超複屈折効果）が挙げられる。さらにゲスト−ホスト型、強誘電性型、反強誘電性型などの表示素子用の位相レターダーとして、この異方性ポリマーを使用することもできる。好ましいのは、アクティブマトリックス型のディスプレイにおけるＴＮ型、ＳＴＮ型、ＶＡ型およびＩＰＳ型である。なお、異方性ポリマーに求められるチルト角の厚み方向の分布や厚みなどのパラメーターの最適値は、補償すべき液晶表示素子の種類とその光学パラメーターに強く依存するので、素子の種類によって異なる。
【０２３１】
異方性ポリマーは、偏光板などと一体化した光学素子としても使用することができ、この場合は液晶セルの外側に配置する。一方、光学補償素子としての異方性ポリマーは、セルに充填された液晶への不純物の溶出がないかまたは少ないので、液晶セルの内部に配置することも可能である。例えば、特開２００６−２８５０１４号公報に開示されている方法を応用すれば、カラーフィルター上に本発明の重合性液晶層を形成することでカラーフィルターの機能を更に向上させることが可能となる。
【０２３２】
化合物（１）が光学活性を有するとき、異方性ポリマーは固定化されたらせん構造（helical structure）を有する。化合物（１）が光学的に不活性であるときには、この組成物（１）に光学活性化合物を添加することによって、固定化されたらせん構造を有する重合体（１）を得ることができる。
【０２３３】
分子配列およびらせん構造の両方が固定化された重合体（１）は、位相差膜、偏光素子、円偏光素子、楕円偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜、液晶配向膜等の用途に適している。
【０２３４】
分子配列が固定化された重合体（１）は、位相差膜、円偏光素子、楕円偏光素子、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜、液晶配向膜の用途に適している。らせん構造が固定化された重合体（１）は、反射防止膜、色補償膜等に適している。分子配列およびらせん構造の両方が固定化されていない重合体（１）は、反射防止膜、液晶配向膜等に適している。また、いずれの場合においても、接着剤、機械的異方性を持つ合成高分子、化粧品、装飾品、非線型光学材料および情報記憶材料等としても利用できる。分子配列の固定化や、らせん構造の固定化には前記の熱重合や光重合が適している。
【０２３５】
上記のような光学異方性を有する重合体（１）の特性である可視光の選択反射は、らせん構造が入射光に作用し、円偏光や楕円偏光を反射させるものである。選択反射特性はλ＝ｎ・Pitch（λは選択反射中心波長、ｎは平均屈折率、Pitchはらせんピッチ）で表されるため、ｎまたはPitchによりλおよびその帯域（Δλ）を適宜調整することができる。色純度を良くするにはΔλを小さくすればよいし、広帯域の反射を所望する際にはΔλを大きくすればよい。さらにこの選択反射は重合体の厚みの影響も大きく受ける。色純度を保つためには、厚みが小さくなりすぎないようにしなければならない。配向の均一性を保つためには、厚みが大きくなりすぎないようにしなければならない。また、目的とする素子に応じたレタデーションや異方性ポリマーの複屈折率によって適当な厚さが異なる。従って、その範囲を厳密に決定することはできないが、０．０５〜５０μｍが好ましく、０．５〜２０μｍがより好ましく、１〜１０μｍがさらに好ましい。
【０２３６】
らせんピッチを可視光よりさらに短くすることで、W. H. de Jeu, Physical Properties of Liquid Crystalline Materials, Gordon and Breach, New York（1980）に記載のネガティブ型Ｃプレート（Negative C plate）を調製できる。らせんピッチを短くするためには、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）の大きな光学活性化合物を用い、さらにその添加量を増やすことで達成できる。具体的にはλを３５０ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下とすることで、ネガティブ型Ｃプレートを調製できる。このネガティブ型Ｃプレートは液晶表示素子のうちＶＡＮ型、ＶＡＣ型、ＯＣＢ型等の表示素子に適した光学補償膜となる。
【０２３７】
らせんピッチを可視光より長くすることで特開２００４−３３３６７１号公報に記載されているような反射波長領域を近赤外（波長８００〜２５００ｎｍ）に設定した反射フィルムに用いることができる。らせんピッチを長くするためには、ねじり力の小さな光学活性化合物を用いたり、光学活性化合物の添加量を減らすことで達成できる。
【０２３８】
重合体（１）は、溶媒に溶かしてフィルム等に加工することができる。この場合、２種の重合体を混合して加工してもよい。フィルム等に加工する際には、積層させてもよい。好ましい溶媒としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、テトラヒドロフラン、クロロホルム、１，４−ジオキサン、ビス（メトキシエチル）エーテル、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸エチル、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、メチルエチルケトンおよびシクロペンタノン、シクロヘキサノンが挙げられる。これらの溶媒は、アセトン、ベンゼン、トルエン、ヘプタンおよび塩化メチレンなどの一般的な有機溶媒と混合して用いてもよい。
【実施例】
【０２３９】
以下、実施例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により制限されない。化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル、質量スペクトルで確認した。相転移温度の単位は℃であり、Ｃは結晶を、Ｎはネマチック相を、ＳＢはスメクチックＢ相を、Ｉは等方性液体相を示す。以下に、物性値の測定法を示す。
【０２４０】
＜重合条件＞
窒素雰囲気下または大気中において、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて３０ｍＷ／ｃｍ2（３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間照射した。
【０２４１】
＜ラビング処理済み配向膜付きガラス基板の作成＞
厚さ１．１ ｍ ｍ のガラス基板に、配向剤（チッソ（株）製、商品名：リクソンアライナー ＰＩＡ−５３７０）をスピンコートし、溶媒を乾燥後、２３０℃で３０分間焼成したものをラビング処理した。
【０２４２】
＜液晶配向状態の確認＞
異方性ポリマー付基板を偏光顕微鏡観察し、配向欠陥の有無を確認した。
【０２４３】
＜偏光解析装置による測定＞
シンテック（株）製のＯＰＴＩＰＲＯ偏光解析装置を用い、異方性ポリマー付基板に波長が５５０ｎｍの光を照射した。この光の入射角度をフィルム面に対して９０度から減少させながらレタデーションを測定した。レタデーション（retardation；位相遅れ）はΔｎ×ｄで表される。記号Δｎは光学異方性値であり、記号ｄは重合体フィルムの厚さである。
【０２４４】
＜膜厚測定＞
異方性ポリマー付き基板の異方性ポリマーの層を削りだして、その段差を微細形状測定装置（ＫＬＡ ＴＥＮＣＯＲ（株）製 アルファステップＩＱ）を用いて測定した。
【０２４５】
＜光学異方性値（Δｎ）の評価＞
ホモジニアス配向を有する異方性ポリマーについて求めたレタデーションと膜厚値から、Δｎ＝レタデーション／膜厚として算出した。
【０２４６】
［実施例１］
下記に示す化合物（１−１−１０）を以下のようにして合成した。
【０２４７】
【化６３】
【０２４８】
１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート５２ｍｍｏｌ、４'−ペンチルビシクロヘキサン−４−カルボン酸５２ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）１０ｍｍｏｌを、ジクロロメタン１００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）５７ｍｍｏｌのジクロロメタン溶液５０ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、上記化合物（１−１−１０）１８ｍｍｏｌを得た。
【０２４９】
得られた化合物（１−１−１０）の相転移温度およびＮＭＲ分析値は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ６１ Ｉ
【０２５０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；δｐｐｍ）：６．４１（ｄ，１Ｈ），６．１８−６．０９（ｍ，１Ｈ），５．８３（ｄ，１Ｈ），３．９９（ｄ，２Ｈ），３．８９（ｄ，２Ｈ），２．３４−２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１３−２．０１（ｍ，２Ｈ），１．９１−１．５６（ｍ，１２Ｈ），１．３３−０．７７（ｍ，２６Ｈ）．
【０２５１】
［実施例２］
下記に示す化合物（１−１−１２）を以下のようにして合成した。
【０２５２】
【化６４】
【０２５３】
１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート５２ｍｍｏｌ、２−（４'−ペンチルビシクロヘキサン）−４−イルカルボン酸５２ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）１０ｍｍｏｌを、ジクロロメタン１００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）５７ｍｍｏｌのジクロロメタン溶液５０ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、上記化合物（１−１−１２）１５ｍｍｏｌを得た。
【０２５４】
得られた化合物（１−１−１２）の相転移温度およびＮＭＲ分析値は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ７２（ＳＢ ６３） Ｉ
【０２５５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；δｐｐｍ）：６．４１（ｄ，１Ｈ），６．１７−６．０９（ｍ，１Ｈ），５．８３（ｄ，１Ｈ），３．９９（ｄ，２Ｈ），３．８９（ｄ，２Ｈ），２．１７（ｄ，２Ｈ），１．８７−１．５６（ｍ，１５Ｈ），１．３３−０．７７（ｍ，２６Ｈ）．
【０２５６】
［実施例３］
下記に示す化合物（１−２−６）を以下のようにして合成した。
【０２５７】
【化６５】
【０２５８】
１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート１０７ｍｍｏｌおよびトリエチルアミン１６０ｍｍｏｌを、トルエン１５０ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、テレフタル酸クロライド５２ｍｍｏｌのトルエン溶液７０ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、上記化合物（１−２−６）３１ｍｍｏｌを得た。
【０２５９】
得られた化合物（１−２−６）の相転移温度およびＮＭＲ分析値は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ １５６ Ｉ
【０２６０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；δｐｐｍ）：７．８２（Ｓ，４Ｈ），６．４４（ｄ，２Ｈ），６．２０−６．０９（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄ，２Ｈ），３．９８（ｄ，４Ｈ），３．９０（ｄ，４Ｈ），２．０８−１．９９（ｍ，４Ｈ），１．７４−１．３９（ｍ，１０Ｈ），１．１０−０．９７（ｍ，６Ｈ）．
【０２６１】
［実施例４］
下記に示す化合物（１−２−１２）を以下のようにして合成した。
【０２６２】
【化６６】
【０２６３】
１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート１０７ｍｍｏｌ、トランス−シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸５２ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）２１ｍｍｏｌを、ジクロロメタン３００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）１１８ｍｍｏｌのジクロロメタン溶液６０ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、上記化合物（１−２−１２）２２ｍｍｏｌを得た。
【０２６４】
得られた化合物（１−２−１２）の相転移温度およびＮＭＲ分析値は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ １０４ Ｉ
【０２６５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；δｐｐｍ）：６．４２（ｄ，２Ｈ），６．１９−６．０９（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄ，２Ｈ），３．９９（ｄ，４Ｈ），３．９０（ｄ，４Ｈ），２．３４−２．２５（ｍ，２Ｈ），２．０５（ｄ，４Ｈ），１．９０−１．７７（ｍ，７Ｈ），１．７４−１．３９（ｍ，１０Ｈ），１．１０−０．９７（ｍ，７Ｈ）．
【０２６６】
実施例５，６で使用した化合物を以下に示す。
【０２６７】
【化６７】
【０２６８】
化合物（Ｍ１−１−１０−１）はMakromol. Chem., 190, 2255-2268 (1989) に記載の方法で合成した。
化合物（Ｍ１−２−３７−１）および化合物（Ｍ１−２−４０−１）はＷＯ９７／３４８６２号パンフレットに記載の方法で合成した。
【０２６９】
化合物（Ｍ１−１−２５−１）は、以下のように合成した。
【０２７０】
【化６８】
【０２７１】
化合物（ｅｘ−１）７４ｍｍｏｌ、３',６'-ジヒドロキシベンゾノルボルネン３５ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）２１ｍｍｏｌを、ジクロロメタン２００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）７４ｍｍｏｌのジクロロメタン溶液１００ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、化合物（Ｍ１−１−２５−１）１５ｍｍｏｌを得た。
【０２７２】
得られた化合物（Ｍ１−１−２５−１）の相転移温度は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ７７ Ｉ
【０２７３】
［実施例５］
化合物（１−１−１２）：化合物（Ｍ１−１−１０−１）：化合物（Ｍ１−１−２５−１）＝２５：２５：５０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ（Ａ）とする。このＭＩＸ（Ａ）の重量１に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、および重量比０．０６の重合開始剤イルガキュアー９０７（チバ・ジャパン製）を添加した。この組成物にシクロペンタノン／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）＝７／３（重量比）を加えて、溶剤の割合が７０重量％である重合性液晶組成物（１）を得た。得られた重合性液晶組成物（１）は、相分離等せず均一に混合していた。
【０２７４】
次に、重合性液晶組成物（１）を、ラビング処理済配向膜付きガラス基板上へスピンコートにより塗布した。この時、塗布性は良好であった。
この基板を８０℃で３分間加熱、室温で３分間冷却し、溶剤が除去した重合性液晶層を空気中で紫外線により重合させて、液晶の配向状態を固定させた異方性ポリマーを得た。この異方性ポリマーを偏光顕微鏡観察したところ、配向欠陥はなく、均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１のような結果であり、ホモジニアス配向であった。フィルム面に対して９０度のレタデーション測定値は１３８ｎｍであり、膜厚は１２６０ｎｍであったことからΔｎは０．１１と算出された。
【０２７５】
［実施例６］
化合物（１−１−１２）：化合物（Ｍ１−２−３７−１）：化合物（Ｍ１−２−４０−１）＝３３：３３：３４の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ（Ｂ）とする。このＭＩＸ（Ｂ）の重量１に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、および重量比０．０６の重合開始剤イルガキュアー９０７（チバ・ジャパン製）を添加した。この組成物にシクロヘキサノン／ＰＧＭＥＡ＝９／１（重量比）を加えて、溶剤の割合が７５重量％である重合性液晶組成物（２）得た。得られた重合性液晶組成物（２）は、相分離等せず均一に混合していた。
【０２７６】
支持基材をラビング処理を行っていない配向膜付ガラス基板としたこと以外は、実施例５に記載の方法で異方性ポリマーを得た。この時、塗布性は良好であった。
この異方性ポリマーを偏光顕微鏡観察したところ、配向欠陥はなく均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図２のような結果であり、ホメオトロピック配向であった。
【０２７７】
［比較例１］
化合物（Ｍ１−２−３７−１）：化合物（Ｍ１−２−４０−１）＝５０：５０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ（Ｃ）とする。このＭＩＸ（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例５と同様にして異方性ポリマーの作成を試みたが、結晶化が進行し、評価が困難であった。
【０２７８】
上記の実施例および比較例の結果から、室温における結晶化の進行を１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格を有する重合性化合物を混合物中に導入することで防ぐことが可能となり、また、本発明の重合性液晶組成物から得られる異方性ポリマーは液晶の配向を維持しながら、Δｎを制御することが可能となることが分かった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格を有する化合物、この化合物を含む重合性液晶組成物、この重合性液晶組成物から得られるポリマーフィルム、異方性ポリマーおよびそれらの用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、重合性を持つ液晶性化合物が、反射型偏光板、位相差板などの光学異方性（複屈折）を示す成形体に活用されている。この化合物は液晶状態で光学異方性を示し、重合することでその配向が固定される。
この重合体の固定された配向状態としては、ホモジニアス（水平配向）、チルト（傾斜配向）、ホメオトロピック（垂直配向）およびツイスト（ねじれ配向）等を挙げることができる。
【０００３】
ホモジニアス配向を有する重合体は、例えば、１／２波長板、１／４波長板、または他の光学機能を有するフィルムと組み合わせることで、複合位相差板、円偏光板として使用することができる（特許文献１参照）。
【０００４】
ホメオトロピック配向を有する重合体は、光軸の方向がｎz方向にあり、光軸方向の屈折率がその直交する方向の屈折率より大きいため、屈折率楕円体では、ポジティブＣ−プレートに分類される。このポジティブＣ−プレートは、他の光学機能を有するフィルムと組み合わせることによって、水平配向した液晶モードいわゆるＩＰＳ（In-Plane Switching）モード等の光学補償、例えば偏光板の視野角特性の改善に応用できる（非特許文献１〜３、特許文献２〜３を参照）。
【０００５】
このような重合体の機能を改良するために、種々の重合性化合物が開発されている。しかし、１つの重合性化合物では充分な機能を満たさないことが多い。そこで、幾つかの重合性化合物を混合することで組成物を調製し、この組成物を重合させるという試みがなされている（特許文献４〜５参照）。
【０００６】
光学異方性を示す成形体を製造する場合、重合前の液晶組成物は、通常室温で行われる重合工程中で液晶状態を保たねばならない。そのため、液晶組成物に使用する重合性化合物は、他の液晶性化合物と良好な相溶性を持たねばならない。しかしながら、一般に、重合性基を持つ化合物は、重合性基の嵩高さのために、液晶温度範囲が狭く、他の液晶性化合物との相溶性が低い。
【０００７】
また、液晶性化合物の光学異方性値（Δｎ）は、透過光の波長に対して一定の値を示さず（波長分散）、短波長側でより大きな値を示す。成形体を反射型偏光板、位相差板などの光学補償板に利用する際、この特性は好ましくない。
【０００８】
そのため、光学異方性が小さく、更に液晶温度範囲が広く、他の液晶性化合物との相溶性がよく、重合速度、重合度、重合体の透明性、機械的強度、塗布性、溶解度、結晶化度、収縮性、透水度、吸水性、ガス透過性、融点、ガラス転移点、透明点、耐熱性、耐薬品性などを満足する化合物が望まれている。
【０００９】
これまでに本発明者らは、室温下でも液晶相を安定して維持でき、均一な配向性を示す重合性液晶組成物を見出している（特許文献６参照）。しかしながら、これらの組成物では、光学特性、特に光学異方性を小さくする必要がある場合に、組成比を変更していくと、液晶相を維持できなくなる場合があった。また、光学異方性を制御するために、メソゲンの短軸方向に芳香環を持つ化合物（トリプチセン環を有する化合物）を用いることが提案されていたが、組成物中に該化合物を多量に添加した場合に結晶化が進行してしまうことがあり、光学異方性の制御に課題があった（特許文献７参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００２−３７２６２３号公報
【特許文献２】ＷＯ０５／３８５１７Ａ１パンフレット
【特許文献３】ＵＳ２００６／１８２９００号公報
【特許文献４】特開２００６−３０７１５０号公報
【特許文献５】特開２００４−２３１６３８号公報
【特許文献６】特開２００７−１６２１３号公報
【特許文献７】特開２００６−１１１５７１号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】M.S.Park et al, IDW '04 FMC8-4
【非特許文献２】M.Nakata et al, SID '06 P-58
【非特許文献３】K.J.Kim et al, SID '06 Digest p.1158-1161
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、液晶性を有するとともに、他の液晶性化合物および有機溶媒に対する良好な相溶性（miscibility）を有する化合物、ならびに、この化合物を含有し、適切な光学異方性や良好な塗布性等を有する重合性液晶組成物を提供することを課題とする。また、重合性液晶組成物の重合によって、光学異方性、透明性、化学的安定性、耐熱性、硬度、寸法安定性、接着性、密着性および機械的強度等に優れる重合体およびその特性を利用した用途を提供することも課題とする。更に、この重合体を含む位相差フィルム、光学補償フィルム、反射フィルムを提供し、これらのフィルムを含む液晶表示装置を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格を有する重合性の液晶化合物が、室温を中心とした広範囲な液晶相発現温度領域を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶媒に対する溶解性が良く、さらに重合性液晶組成物の成分として用いるとき、光学異方体の配向均一性が確保でき、光学異方性の制御にも有効であり、特に、液晶性を維持しながら、光学異方性を任意に調整することが可能であり、この重合性液晶組成物から得られる重合体は、ラビング等の機械的な表面処理、光配向処理、または化学的な表面処理を行った支持基板上へ塗布した場合に均一に配向が制御された異方性ポリマーを形成することができることを見出し本発明に至った。
【００１４】
本発明の化合物は次の［１］に示される。
［１］ 式（１）で表される化合物。
【００１５】
【化１】
【００１６】
（式（１）中、Ｒ1は式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルであり、１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ1は−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｚ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｑ1は単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍは１〜５の整数であり；
Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
【化２】
[式（２−１）〜（２−６）中、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【発明の効果】
【００１７】
本発明の化合物は、重合性基と１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格とを有し、液晶相を有するとともに、他の液晶性化合物および有機溶媒に対する良好な相溶性（miscibility）を有する。また、本発明の化合物を含有する重合性液晶組成物は光学異方性の制御が容易で適切な光学異方性値を有し、良好な塗布性等をも有する。本発明の組成物の重合によって得られる異方性ポリマーおよびポリマーフィルムは、光学異方性、透明性、化学的安定性、耐熱性、硬度、寸法安定性、接着性、密着性および機械的強度等の特性に優れる。従って、本発明の重合体は、位相差膜、偏光素子、円偏光素子、楕円偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜および液晶配向膜等の用途に適している。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施例５の異方性ポリマーのレタデーション測定結果
【図２】実施例６の異方性ポリマーのレタデーション測定結果
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明に係る重合性液晶化合物、この化合物を含有する重合性液晶組成物、この組成物から得られる重合体およびその用途について、詳細に説明する。なお、本明細書における用語の使い方は、以下のとおりである。
【００２０】
「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を有する化合物および液晶相を有さないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。なお、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を有する化合物のことを特に「液晶性を有する化合物」と言い、液晶相を有しない化合物のことを「液晶性を有しない化合物」と言う。
【００２１】
「化合物（１）」は、式（１）で表わされる化合物を意味する。また、式（１）で表わされる化合物の少なくとも１つを意味することもある。「組成物（１）」は少なくとも１つの化合物（１）を含有する組成物を意味する。「重合体（１）」は、化合物（１）または組成物（１）を重合させることによって得られる重合体を意味する。
【００２２】
化学構造式を説明する際に用いる用語「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを意味する。そして、例えば、「任意のＡはＢ、ＣまたはＤで置き換えられてもよい」という表現は、任意のＡがＢで置き換えられる場合、任意のＡがＣで置き換えられる場合および任意のＡがＤで置き換えられる場合に加えて、任意のＡがＢ〜Ｄの少なくとも２つで置き換えられる場合をも含むことを意味する。但し、連続する複数の−ＣＨ2−が同じ基で置き換えられることを含まない。
【００２３】
本発明は上記の［１］と下記の［２］〜［３１］とで構成される。
［２］ ［１］に記載の式（１）において、ｍが１〜３の整数である、［１］に記載の化合物。
［３］ ［１］に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい、［１］または［２］に記載の化合物。
【００２４】
［４］ ［１］に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよい、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２５】
［５］ ［１］に記載の式（１）において、Ｚ2が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２６】
［６］ ［１］に記載の式（１）において、Ｚ2が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−である、［１］〜［５］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２７】
［７］ ［１］に記載の式（１）において、Ｒ1が式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基であり；Ｑ1が炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２８】
［８］ ［１］に記載の式（１）において、Ｒ1が式（２−１）で表される重合性の基である、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の化合物。
［９］ ［１］に記載の式（１）において、Ｒ1が水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；Ｑ1が単結合である、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の化合物。
【００２９】
［１０］ ［１］に記載の式（１）において、ｍが２である、［１］〜［９］のいずれか１項に記載の化合物。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する重合性液晶組成物。
【００３０】
［１２］ 式（１）で表される化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの重合性化合物とを含有する重合性液晶組成物。
【００３１】
【化３】
（式（１）中、Ｒ1は式（２−１）で表される重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルであり、１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ1は−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｚ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｑ1は単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍは１〜５の整数であり；
Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
【００３２】
【化４】
（式（２−１）中、Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
【００３３】
【化５】
（式（Ｍ１）および（Ｍ２）中、Ｒ2は独立して式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基であり；
Ｒ3は独立して式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、トリプチセン−１，４−ジイルまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ3は独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2ＯＣＯ−、−（ＣＨ2）2−または−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−であり；
Ｑ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｎは１〜５の整数であり；
ｘは０または１である。）
【００３４】
【化６】
（式（２−１）〜（２−６）中、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
【００３５】
［１３］ ［１２］に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ2が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｑ1が単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｍが１〜３であり、
［１２］に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、
Ｒ3が独立して式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ3が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；
Ｑ2が独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｎが２または３の整数である、
［１２］に記載の重合性液晶組成物。
【００３６】
［１４］ ［１２］に記載の式（１）において、
Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよく；
Ｚ2が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−であり；
Ｑ1が独立して炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｍが２であり、
［１２］に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、
Ｒ3は独立して独立して式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、−ＣＮ、フッ素または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ3が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；
Ｑ2が独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｎが２または３である、
［１２］または［１３］に記載の重合性液晶組成物。
【００３７】
［１５］ ［１２］に記載の式（１）で表わされる化合物と、［１２］に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との合計量１００重量％に対し、［１２］に記載の式（１）で表される化合物の含有量が１〜９０重量％であり、
［１２］に記載の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が１０〜９９重量％である、［１２］〜［１４］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３８】
［１６］ ［１２］に記載の式（１）で表わされる化合物と、［１２］に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との合計量１００重量％に対し、［１２］に記載の式（１）で表される化合物の含有量が３〜８５重量％であり、
［１２］に記載の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が１５〜９７重量％である、［１２］〜［１４］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３９】
［１７］ ［１２］に記載の式（１）で表される化合物以外の液晶性を有しない重合性化合物をさらに含有する、［１１］〜［１６］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
［１８］ 非重合性の液晶性化合物をさらに含有する、［１１］〜［１７］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００４０】
［１９］ 重合性の光学活性化合物をさらに含有する、［１１］〜［１８］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
［２０］ 非重合性の光学活性化合物をさらに含有する、［１１］〜［１９］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００４１】
［２１］ ［１１］〜［２０］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られるポリマーフィルム。
［２２］ ［１１］〜［２０］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られる異方性ポリマー。
【００４２】
［２３］ 重合性液晶組成物の配向形態がホモジニアス配向、チルト配向、ツイスト配向、ホメオトロピック配向のいずれか１つである、［２２］に記載の異方性ポリマー。
［２４］ 重合性液晶組成物の配向形態をラビング処理、光配向処理、イオンビーム処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか１つの方法により制御する、［２２］または［２３］に記載の異方性ポリマー。
【００４３】
［２５］ ガラス基板またはプラスチック基板からなる支持基材と、［２２］〜［２４］のいずれか１項に記載の異方性ポリマーとを有する積層体。
［２６］ ［２２］〜［２４］のいずれか１項に記載の異方性ポリマーおよび／または［２５］に記載の積層体を有する光学補償フィルム。
【００４４】
［２７］ ［２２］〜［２４］のいずれか１項に記載の異方性ポリマーおよび／または［２５］に記載の積層体を有する反射フィルム。
［２８］ ［２６］に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示素子。
［２９］ ［２７］に記載の反射フィルムを有する液晶表示素子。
［３０］ ［２６］に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示装置。
［３１］ ［２７］に記載の反射フィルムを有する液晶表示素装置。
【００４５】
≪化合物（１）≫
上記化合物（１）は重合性の液晶性化合物である。
【００４６】
上記式（１）におけるＲ1は、上記式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である。
上記Ｒ1は、上記式（２−１）で表わされる重合性の基であることが好ましい。
【００４７】
上記式（２−１）〜（２−６）におけるＲaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルであり、水素が好ましい。
【００４８】
上記式（１）におけるＡ1は、独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルである。この１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、そして１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい。
【００４９】
Ａ1の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい。そして、Ａ1のより好ましい例は１，４−シクロヘキシレン、および任意の水素が塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。
【００５０】
上記式（１）におけるＺ1は、−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−である。Ｚ1の好ましい例は−ＣＯ−または−ＣＯＣＨ2−である。
【００５１】
上記式（１）におけるＺ2は、独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンである。そして、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。Ｚ2の好ましい例は単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましい例は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−および−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−である。
【００５２】
上記式（１）におけるＱ1は、独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンである。このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。Ｑ1の好ましい例は、上記Ｒ1が重合性の基である場合には、任意の−ＣＨ2−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい、炭素数１〜１０のアルキレンであり、上記Ｒ1が水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である場合には、単結合である。
【００５３】
上記式（１）におけるｍは独立して１〜５の整数である。ｍは１〜３の整数であることが好ましく、ｍは２であることがより好ましい。
【００５４】
本発明の化合物（１）は、高い重合反応性を有する。化合物（１）は、１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格を有することから、光学異方性が小さく、溶解性に優れた化合物となる傾向がある。化合物（１）は、液晶骨格を有するので、他の液晶性化合物や重合性化合物等と容易に相溶して均一になりやすく、液晶相を維持しやすい。なお、化合物（１）は、不斉炭素を有する場合には光学活性を有することになる。
【００５５】
化合物（１）の末端基、環および結合基を適宜選択することによって、光学異方性や、溶剤等への溶解性等の物性を任意に調整することが可能である。末端基Ｒ1、環Ａ1ならびに結合基Ｚ1およびＺ2の種類が、化合物（１）の物性に与える効果を以下に説明する。
【００５６】
末端基Ｒ1が炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシである場合は、融点や溶剤への溶解性に影響があり、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である場合には、融点や溶剤への溶解性、他の化合物との相溶性等の特性にも影響を与えるようである。
【００５７】
環Ａ1が、１，４−フェニレン、任意の水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイルまたはピリダジン−３，６−ジイルである場合、光学異方性が大きい化合物となる傾向がある。環Ａ1が、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルである場合、光学異方性が小さい化合物となる傾向がある。複数の環Ａ1のうち少なくとも２つの環が１，４−シクロヘキシレンである場合、透明点が高く、光学異方性が小さく、粘度が小さい化合物となる傾向がある。少なくとも１つの環が１，４−フェニレンである場合、光学異方性が比較的大きく、配向秩序パラメーター（orientational order parameter）が大きい化合物となる傾向がある。少なくとも２つの環が１，４−フェニレンである場合、光学異方性が大きく、液晶相の温度範囲が広く、透明点が高い化合物となる傾向がある。
【００５８】
結合基Ｚ1が、−ＣＯ−である場合、透明点が低い化合物となる傾向がある。結合基Ｚ1が、−ＣＯＣＨ2−である場合、光学異方性が小さく、液晶相の温度範囲が広くなる傾向がある。
【００５９】
結合基Ｚ2が、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である場合、粘度が小さい化合物となる傾向がある。結合基Ｚ2が、単結合、−（ＣＨ2）2−、−ＯＣＦ2−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−（ＣＨ2）4−の場合、粘度がより小さい化合物となる傾向がある。結合基Ｚ2が、−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＦ＝ＣＦ−の場合、液晶相の温度範囲が広く、弾性定数比が大きい化合物となる傾向がある。結合基Ｚ2が−Ｃ≡Ｃ−の場合、光学異方性が大きい化合物となる傾向がある。
【００６０】
ｍが２以下の場合、粘度が低い化合物となる傾向があり、ｍが２以上の場合、透明点が高い化合物となる傾向がある。
【００６１】
化合物（１）は、光学活性であってもよいし、光学的に不活性でもよい。光学活性な場合における不斉炭素の立体配置はＲでもＳでもよい。不斉炭素を有する場合は相溶性がよい化合物となる傾向がある。
【００６２】
以上のように、末端基、環および結合基の種類や、環の数を適宜選択することにより目的の物性を有する化合物を得ることができる。
【００６３】
化合物（１）は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、および、新実験化学講座（丸善）等の成書に記載されている。
【００６４】
化合物（１）の合成方法の一例について、結合基Ｚ2の合成方法別に分けて、下記スキーム１〜１４で説明する。さらに、化合物（１）の合成方法の一例について、結合基Ｚ1の合成方法別に分けて、下記スキーム１５で説明する。これらのスキームにおいて、ＭＳＧ1は少なくとも１つの環を有する１価の有機基であり、ＭＳＧ2は１価の有機基である。複数のＭＳＧ1（またはＭＳＧ2）は同一でも異なってもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｐ）および（１ａ）〜（１ｄ）は、本発明の化合物（１）に相当する。これらの方法は、光学活性な化合物（１）および光学的に不活性な化合物（１）に適用できる。また、これらの方法はＱ1を合成する際にも応用することができる。
なお、下記スキーム中、Ｈａｌとは、ハロゲン原子を示す。
【００６５】
＜スキーム１＞ Ｚ2が単結合である化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｓ２）とを、炭酸塩水溶液中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で反応させることにより化合物（１Ａ）を合成できる。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（Ｓ３）とｎ−ブチルリチウムとを反応させ、次いで塩化亜鉛を反応させた後、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で、化合物（Ｓ２）とさらに反応させることによっても合成できる。
【００６６】
【化７】
【００６７】
＜スキーム２＞ Ｚ2が−ＣＨ＝ＣＨ−である化合物
下記に示すように、公知の方法で合成されるホスホニウム塩（Ｓ５）にカリウムｔ−ブトキシドなどの塩基を添加して合成したリンイリドと、アルデヒド（Ｓ４）とを反応させることにより化合物（１Ｂ）を合成できる。反応条件や基質によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
【００６８】
【化８】
【００６９】
＜スキーム３＞ Ｚ2が−（ＣＨ2）2−である化合物
下記に示すように、化合物（１Ｂ）をパラジウム炭素などの触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｃ）を合成できる。
【００７０】
【化９】
【００７１】
＜スキーム４＞ Ｚ2が−（ＣＦ2）2−である化合物
下記に示すように、J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414 に記載された方法に従い、四フッ化硫黄などのフッ素化触媒の存在下でジケトン（Ｓ６）をフッ素化することにより、−（ＣＦ2）2−を有する化合物（１Ｄ）を合成できる。
【００７２】
【化１０】
【００７３】
＜スキーム５＞ Ｚ2が−（ＣＨ2）4−である化合物
下記に示すように、スキーム２の方法に従って、ホスホニウム塩（Ｓ５）の代わりにホスホニウム塩（Ｓ７）を用いて−（ＣＨ2）2−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を合成し、これを接触水素化することにより化合物（１Ｅ）を合成できる。
【００７４】
【化１１】
【００７５】
＜スキーム６＞ Ｚ2が−ＣＨ2Ｏ−または−ＯＣＨ2−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ４）を水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で還元して化合物（Ｓ８）を得る。これを臭化水素酸等でハロゲン化して化合物（Ｓ９）を得る。次いで、炭酸カリウム等の存在下で、化合物（Ｓ９）を化合物（Ｓ１０）と反応させることにより化合物（１Ｆ）を合成できる。この方法によって−ＣＨ2Ｏ−を有する化合物も合成できる。
【００７６】
【化１２】
【００７７】
＜スキーム７＞ Ｚ2が−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−である化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ３）とｎ−ブチルリチウムとを反応させ、次いで二酸化炭素を反応させてカルボン酸（Ｓ１１）を得る。化合物（Ｓ１１）と化合物（Ｓ１０）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｇ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成できる。
また、（Ｓ１１）に塩化チオニルまたはオキザリルクロリドなどを作用させ、酸クロリド化合物を得た後、ピリジンまたはトリエチルアミンなどの塩基存在下で、化合物（Ｓ１０）と反応させることにより化合物（１Ｇ）を合成することもできる。
【００７８】
【化１３】
【００７９】
＜スキーム８＞ Ｚ2が−ＣＦ＝ＣＦ−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ３）とｎ−ブチルリチウムとを反応させた後、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（Ｓ１２）を得る。次いで、化合物（Ｓ２）とｎ−ブチルリチウムとを反応させた後、得られた化合物と化合物（Ｓ１２）とを反応させることにより化合物（１Ｈ）を合成できる。合成条件を選択することで、シス体の化合物（１Ｈ）を合成することもできる。
【００８０】
【化１４】
【００８１】
＜スキーム９＞ Ｚ2が−Ｃ≡Ｃ−である化合物
下記に示すように、ジクロロパラジウムおよびハロゲン化銅の触媒存在下で、化合物（Ｓ１３）を化合物（Ｓ２）と反応させることにより、化合物（１Ｊ）を合成できる。
【００８２】
【化１５】
【００８３】
＜スキーム１０＞ Ｚ2が−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ１３）をｎ−ブチルリチウムでリチオ化した後、二酸化炭素を作用させてカルボン酸（Ｓ１４）を得る。次いで、カルボン酸（Ｓ１４）と化合物（Ｓ１０）とを、ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で脱水させることにより、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｋ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−を有する化合物も合成できる。
また、スキーム７において（Ｓ１１）から（１Ｇ）を合成したように、まず、酸クロリド化合物を合成し、さらに該酸クロリド化合物から化合物（１Ｋ）を合成することもできる。
【００８４】
【化１６】
【００８５】
＜スキーム１１＞ Ｚ2が−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−である化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ１３）とビニルブロミド（Ｓ１５）とのクロスカップリング反応により、−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物（１Ｌ）を合成できる。シス体の化合物（Ｓ１５）を使用すれば、シス体の（１Ｌ）を製造できる。この方法によって、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−を有する化合物も合成できる。
【００８６】
【化１７】
【００８７】
＜スキーム１２＞ Ｚ2が−ＣＦ2Ｏ−または−ＯＣＦ2−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（１Ｇ）をローソン試薬などの硫黄化剤で処理して化合物（Ｓ１６）を得る。次いで、フッ化水素ピリジン錯体およびＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）を用いて化合物（Ｓ１６）をフッ素化することにより、−ＣＦ2Ｏ−を有する化合物（１Ｍ）を合成できる。また、化合物（Ｓ１６）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化することによっても化合物（１Ｍ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＦ2−を有する化合物も合成できる。P. Kirsch et al., Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によって、これらの結合基を有する化合物を合成することも可能である。
【００８８】
【化１８】
【００８９】
＜スキーム１３＞ Ｚ2が−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−または−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−である化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ４）をウイティッヒ反応により化合物（Ｓ１７）へ合成する。次いで、化合物（Ｓ１７）と化合物（Ｓ１０）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を有する化合物（１Ｎ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物も合成できる。
【００９０】
【化１９】
【００９１】
＜スキーム１４＞ Ｚ2が−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−である化合物
下記に示すように、化合物（１Ｎ）をパラジウム炭素などの触媒の存在下で水素化することにより、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｐ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−を有する化合物も合成できる。
【００９２】
【化２０】
【００９３】
＜スキーム１５＞
下記に示すように、１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートと化合物（Ｓ１１）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、Ｚ1が−ＣＯ−である化合物（１ａ）を合成できる。
【００９４】
また、スキーム７において（Ｓ１１）から（１Ｇ）を合成したように、まず、酸クロリド化合物を合成し、さらに該酸クロリド化合物から化合物（１ａ）を合成することもできる。
【００９５】
また、１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートと化合物（Ｓ１８）、化合物（Ｓ１７）または化合物（Ｓ１９）とを、それぞれＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で脱水させることにより、Ｚ1が−ＣＯＣＨ2−である化合物（１ｂ）、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−である化合物（１ｃ）または−ＣＯ（ＣＨ2）2−を有する化合物（１ｄ）をそれぞれ合成できる。
【００９６】
【化２１】
【００９７】
上記の方法を適宜組み合わせることにより、本発明の化合物（１）を合成することができるが、上記の方法に必ずしも制限されない。上記のような方法で合成される化合物の例を以下に示す。なお、上記のように合成された化合物の構造は、例えば、プロトンＮＭＲスペクトルにより確認することができる。
【００９８】
【化２２】
【００９９】
【化２３】
【０１００】
【化２４】
【０１０１】
【化２５】
【０１０２】
【化２６】
【０１０３】
≪重合性液晶組成物≫
本発明の重合性液晶組成物には、以下の第１〜３の態様がある。
本発明の重合性液晶組成物の第１の態様は、１つの重合性の液晶性を有する化合物（１）を含有する。第２の態様は、少なくとも２つの化合物（１）を含有する。第３の態様は、上記化合物（１）以外の重合性化合物（以下、その他の重合性化合物ともいう。）、非重合性の液晶性化合物、および／または、光学活性化合物と、少なくとも１つの化合物（１）とを含有する。これら３つの態様の重合性液晶組成物を合わせて組成物（１）とも言う。つまり、組成物（１）は、少なくとも１つの化合物（１）を含有する。本発明の重合性液晶組成物は良好な塗布性等の特性を有する。
【０１０４】
また、本発明の組成物（１）は、重合開始剤、溶剤、界面活性剤、有機ケイ素化合物、連鎖移動剤およびその他の添加剤などを本発明の効果を損なわない範囲でさらに含有してもよい。
【０１０５】
その他の重合性化合物としては、組成物（１）の被膜形成性および組成物（１）から得られる重合体の機械的強度を低下させない化合物が好ましい。この化合物は液晶性を有する化合物と液晶性を有しない化合物とに分類される。
【０１０６】
光学異方性の制御が容易で、良好な塗布性を有する重合性液晶組成物を得、かつ、上記のような本発明の重合体の効果を顕著に発現させるために、組成物（１）中の液晶性を有するその他の重合性化合物の含有量は、上記化合物（１）とその他の重合性化合物との合計量１００重量％に対し、好ましくは１０〜９９重量％、より好ましくは１５〜９７重量％である。液晶性を有するその他の重合性化合物、および液晶性を有しないその他の重合性化合物の量比は、それらの合計量が前記範囲内であれば自由に変更することができ、また、どちらか一方だけを含有していてもよい。
【０１０７】
（液晶性を有するその他の重合性化合物）
液晶性を有するその他の重合性化合物は、組成物の液晶相の温度範囲、光学異方性、塗布性等を調整することができる。このような化合物の例として、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、フマロイルオキシ基、マレイミジル基、オキシラン環およびオキセタン環を有する液晶性を有する化合物であって、上記化合物（１）以外の化合物を挙げることができる。液晶性を有するその他の重合性化合物は、光学活性であっても光学活性でなくてもよい。
【０１０８】
液晶性を有するその他の重合性化合物として好ましい例は、上記式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物である。
【０１０９】
重合性液晶組成物において、上記化合物（１）と、液晶性を有する重合性化合物との合計量１００重量％に対し、上記式（１）で表される化合物の含有量は、好ましくは１〜９０重量％であり、さらに好ましくは３〜８５重量％であり、上記式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が、好ましくは１０〜９９重量％であり、さらに好ましくは１５〜９７重量％である。重合性液晶組成物中の上記各成分の含有量が上記範囲にあると、光学異方性を容易に制御でき、良好な塗布性を有する重合性液晶組成物を得ることができ、かつ、上記のような本発明の重合体の効果を顕著に発現させることができる。
【０１１０】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、Ｒ2は独立して上記式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基である。
【０１１１】
上記式（２−１）〜（２−６）における、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。Ｒaの好ましい例は水素、メチルおよびエチルである。
【０１１２】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＲ3は、独立して上記式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である。Ｒ3の好ましい例は式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3および−ＯＣＦ3である。
【０１１３】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＡ2は、独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、トリプチセン−１，４−ジイルまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい。Ａ2の好ましい例は１，４−シクロヘキシレンおよび１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい。
【０１１４】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＺ3は、独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2ＯＣＯ−、−（ＣＨ2）2−または−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−である。Ｚ3の好ましい例は単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−および−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−である。そして、Ｚ3のより好ましい例は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−および−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−である。
【０１１５】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＱ2は、独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよい。Ｑ2の好ましい例は単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい。そして、Ｑ2のより好ましい例は単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい。
【０１１６】
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、ｎは１〜５の整数である。ｎは２または３の整数であることが好ましい。
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、ｘは０または１である。
【０１１７】
化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）は、広い温度範囲の液晶相を示す。
Ｒ3が重合性基である場合は、化合物（Ｍ１）および（Ｍ２）は、構造中に２つ以上の重合性基を有するため、この化合物を含有する重合性液晶組成物を重合してなる重合体は、３次元網目構造を形成することができ、高い機械的強度を有する重合体の形成が可能となる。化合物（Ｍ１）においてＲ3が重合性基でない場合は単官能化合物となり、分子長軸方向において、重合性基の反対側に極性基などの置換基を導入することができるため、液晶状態での配向制御の調整が可能となる。化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）のいずれにおいても、環構造Ａ2が１，４−フェニレンの場合は光学異方性値（Δｎ）の大きい組成物を得ることができ、１，４−シクロヘキシレンの場合は低いΔｎを有する組成物を得ることができる。
【０１１８】
また、本発明の組成物（１）は、上記式（１）において、Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよく；Ｚ2は独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｑ1は単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｍは１〜３である、化合物（１）と、
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、Ｒ3は独立して上記式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；Ａ2は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；Ｚ3は独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；Ｑ2は独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｎは２または３の整数である、化合物（Ｍ１）および／または（Ｍ２）とを含有することが好ましい。
この重合性液晶組成物は、光学異方性の制御が容易であり、他の液晶性化合物および有機溶媒に対する良好な溶解性、液晶性および塗布性を有する傾向にある。
【０１１９】
さらに、本発明の組成物（１）は、上記式（１）において、Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよく；Ｚ2は独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−であり；Ｑ1は独立して炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｍは２である、化合物（１）と、
上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、Ｒ3は独立して独立して上記式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、−ＣＮ、フッ素または−ＯＣＦ3であり；Ａ2は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ3は独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；Ｑ2は独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｎは２または３である、化合物（Ｍ１）および／または化合物（Ｍ２）とを含有することが好ましい。
この重合性液晶組成物は、上記組成物（１）に比べ、さらに、光学異方性の制御が容易であり、他の液晶性化合物および有機溶媒に対する良好な溶解性、液晶性および塗布性を有する傾向にある。
【０１２０】
なお、上記モノフルオロ−１，４−フェニレンおよびジフルオロ−１，４−フェニレンにおけるフッ素のフェニレン環への結合位置は、いずれでもよい。
【０１２１】
化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）の好ましい例として、それぞれ以下に示す化合物（Ｍ１−１−１）〜（Ｍ１−２−４０）および化合物（Ｍ２−１−１）〜（Ｍ２−２−７）が挙げられる。
【０１２２】
以下の化合物において、Ｑ2は上記式（Ｍ１）および（Ｍ２）におけるＱ2と同義であり、Ｒ2は独立して次に示す式（２−１−１）、式（２−２）、式（２−３−１）、式（２−４）、式（２−５−１）、式（２−６−１）または式（２−６−２）で表される基である。
【０１２３】
【化２７】
【０１２４】
【化２８】
【０１２５】
【化２９】
【０１２６】
【化３０】
【０１２７】
【化３１】
【０１２８】
【化３２】
【０１２９】
【化３３】
【０１３０】
【化３４】
【０１３１】
【化３５】
【０１３２】
【化３６】
【０１３３】
【化３７】
【０１３４】
上記の化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）のそれぞれの好ましい例において、Ｒ2が式（２−１−１）で示される基であって、Ｑ2が炭素数３〜６のアルキルまたはアルコキシである化合物が好ましい。
【０１３５】
（液晶性を有しないその他の重合性化合物）
液晶性を有しないその他の重合性化合物としては、ビニル誘導体、スチレン誘導体、（メタ）アクリル酸誘導体、オキシラン誘導体、オキセタン誘導体、ソルビン酸誘導体、フマル酸誘導体、イタコン酸誘導体などの化合物であって液晶性を有しないものが挙げられる。「（メタ）アクリル酸誘導体」は、アクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体の総称である。これらの化合物は、重合性液晶組成物の粘度や配向を調整するのに適しており、組成物を塗布する際、塗膜の厚さを均一にする効果が大きい。この液晶性を有しないその他の重合性化合物には、重合性基を１つ有する化合物、重合性基を２つ有する化合物および重合性基を３つ以上有する多官能化合物などがある。重合性基を１つ有する化合物は、粘度や融点等の調整に適している。重合性基を２つ以上有する化合物は、重合体の機械的強度を制御するのに適している。液晶性を有しないその他の重合性化合物は、光学活性であっても光学活性でなくてもよいが、光学活性化合物が好ましい。
【０１３６】
これらの化合物の具体例として、特開２００８−２６６６３２号公報の段落００９７〜０１０１に記載の化合物が挙げられる。
【０１３７】
また、以下のビスフェノール構造を有する重合性化合物を用いてもよい。これらの化合物は、重合性液晶組成物の被膜形成能や配向均一性の補助に適している。
【０１３８】
【化３８】
【０１３９】
【化３９】
【０１４０】
【化４０】
【０１４１】
化合物（Ｎ−１０）〜化合物（Ｎ−１５）は、特開２００７−１６２１３号公報、特開２００８−１３３３４４号公報に合成方法が記載されている。化合物（Ｎ−１）〜（Ｎ−１５）を添加する場合の添加量は、組成物全体（溶剤を除く）に対して、０．１重量％〜２５重量％、好ましくは１重量％〜１５重量％である。また、複数種の化合物を使用してもよい。
【０１４２】
（非重合性の液晶性化合物）
組成物（１）は重合性基を持たない非重合性の液晶性化合物を含有してもよい。このような非重合性の液晶性化合物の例は、液晶性化合物のデータベースであるリクリスト（LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany）に記載されている。化合物（１）は、組成物（１）中の化合物（１）以外の他の成分との良好な相溶性を有する。したがって、組成物（１）は、液晶表示素子に封入される液晶組成物として用いることができる。このような組成物（１）は、二色性色素等の添加物をさらに含有してもよい。光学異方性の制御が容易で、良好な塗布性を有する重合性液晶組成物を得、かつ、上記のような本発明の重合体の効果を顕著に発現させるために、組成物（１）中の非重合性の液晶性化合物の含有量は、上記化合物（１）とその他の重合性化合物の合計量１００重量％に対し、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下である。
【０１４３】
非重合性の液晶化合物としては、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物を上げることが出来る。
【化４１】
［式（Ａ）中、Ｑ2、Ａ2およびｎはそれぞれ前記式（Ｍ１）中のＱ2、Ａ2およびｎと同義であり、ＺAは独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、ＲAは炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である。］
以下に、具体例を示す。
【０１４４】
【化４２】
【０１４５】
【化４３】
【０１４６】
【化４４】
【０１４７】
（光学活性化合物）
組成物（１）は光学活性化合物を含有してもよい。光学活性を有する化合物（１）を適当量含有する組成物、または、光学活性でない化合物（１）に光学活性化合物を適当量添加して得られる組成物は、らせん構造（ツイスト構造）を示し、配向処理した基板上に塗布して重合することによって、らせん構造が固定された位相差フィルムが得られる。得られた重合体の特性は、得られたらせん構造のらせんピッチに依存する。このらせんピッチ長は、光学活性化合物の種類および添加量により調整できる。添加する光学活性化合物は１つでもよいが、らせんピッチの温度依存性を相殺する目的で複数の光学活性化合物を用いてもよい。
【０１４８】
上記光学活性化合物は、らせん構造を誘起し、ベースとなる重合性液晶組成物と適切に混合できれば、いずれの光学活性化合物を用いてもよい。また、重合性化合物でも非重合性化合物のいずれでもよく、目的に応じて最適な化合物を組成物（１）に添加することができる。耐熱性および耐溶媒性を考慮した場合、重合性化合物の方が好適である。上記光学活性を発現する骨格として不斉炭素を１つもしくは複数有するアルキレン、アルケニレンまたは、以下の構造を有するものなどがある。光学活性化合物の添加量は、組成物全体（溶媒を除く）に対して、通常０．０１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％である。
【０１４９】
【化４５】
【０１５０】
上記式中、Ｍｅはメチルであり、＊が付与された炭素は不斉炭素である。）
【０１５１】
さらに、上記光学活性化合物の中でも、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）が大きいものは、らせんピッチを短くする上で好適である。ねじり力の大きな化合物の代表例は、ＧＢ２２９８２０２号公報、ＤＥ１０２２１７５１号公報に開示されている。
【０１５２】
以下に重合性の光学活性化合物の具体例を示す。これらの具体例において、ｎおよびｍはそれぞれ２〜１２の整数である。
【０１５３】
【化４６】
【０１５４】
【化４７】
【０１５５】
【化４８】
【０１５６】
上記式中、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5およびＲ6は独立してフェニル、炭素数１〜６のアルキルまたはトリフルオロメチルである。
【０１５７】
【化４９】
【０１５８】
上記式中、−ＣＯＯ−Ｃｈｏｌは下記のコレステロールエステル基を意味する。
【０１５９】
【化５０】
【０１６０】
【化５１】
【０１６１】
【化５２】
【０１６２】
【化５３】
【０１６３】
【化５４】
【０１６４】
【化５５】
【０１６５】
上記式中、tＢｕはターシャリブチルを示す
【０１６６】
【化５６】
【０１６７】
【化５７】
【０１６８】
以下に非重合性の光学活性化合物の具体例を示す。これらの具体例において、Ｒ7は独立して水素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜６のアルキル、炭素数１〜６のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3である。
【０１６９】
【化５８】
【０１７０】
【化５９】
【０１７１】
【化６０】
【０１７２】
上記式中、−ＣＯＯ−Ｃｈｏｌは下記のコレステロールエステル基を意味する。
【０１７３】
【化６１】
【０１７４】
【化６２】
【０１７５】
（重合開始剤）
組成物（１）は重合開始剤を含有してもよい。重合開始剤は重合の種類により選択できる。重合開始剤は、１種類で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。好ましい重合開始剤を以下に示す。
【０１７６】
光ラジカル重合開始剤の例として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ダロキュアー１１７３）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（イルガキュアー６５１）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガキュアー１８４）、イルガキュアー１２７、イルガキュアー５００（イルガキュアー１８４とベンゾフェノンの混合物）、イルガキュアー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー３７９、イルガキュアー７５４、イルガキュアー１３００、イルガキュアー８１９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５０、イルガキュアー１８７０、ダロキュアー４２６５、ダロキュアーＭＢＦ、ダロキュアーＴＰＯ、イルガキュアー７８４、イルガキュアー７５４、イルガキュアーＯＸＥ０１、およびイルガキュアーＯＸＥ０２が挙げられる。上記のダロキュアーおよびイルガキュアーはどちらもチバ・ジャパン（株）から販売されている商品の名称である。これらに公知の増感剤（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチル−４ジメチルアミノベンゾエート（ダロキュアーＥＤＢ）および２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート（ダロキュアーＥＨＡ）など）を添加してもよい。
【０１７７】
光ラジカル重合開始剤のその他の例として、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物およびベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物が挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
【０１７８】
熱によるラジカル重合に用いられる開始剤の好ましい例として、過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリーブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ターシャリーブチルパーオキシピバレート、ジターシャリーブチルパーオキシド、ターシャリーブチルパーオキシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、３，３’−ビスメトキシカルボニル−４，４’−ビス−ターシャリーブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、３，４’−ビスメトキシカルボニル−４，３’−ビス−ターシャリーブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、４，４’−ビスメトキシカルボニル−３，３’−ビス−ターシャリーブチルペルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、アゾビスイソブチロニトリルおよびアゾビスシクロヘキサンカルボニトリルが挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
【０１７９】
アゾ系の市販の開始剤の例として、和光純薬工業（株）製のＶ−７０、Ｖ−６５、Ｖ−６０、Ｖ−５９、Ｖ−４０，Ｖ−３０、Ｖ−５０１、Ｖ−６０１、ＶＥ−０７３、ＶＡ−０８０、ＶＡ−０８６、ＶＦ−０９６、ＶＡｍ−１１０、ＶＡｍ−１１１、ＶＡ−０４４、ＶＡ−０４６Ｂ、ＶＡ−０６０、ＶＡ−０６１、Ｖ−５０、ＶＡ−０５７、ＶＡ−０６７、ＶＲ−１１０、ＶＰＥ−０２０１、ＶＰＥ−０４０１、ＶＰＥ−０６０１およびＶＰＳ−１００１が挙げられる。
【０１８０】
光カチオン重合用の好ましい開始剤は、ジアリールヨードニウム塩（以下「ＤＡＳ」と略す）、トリアリールスルホニウム塩（以下「ＴＡＳ」と略す）などである。
ＤＡＳの例として、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネートおよびビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートが挙げられる。ＤＡＳと光増感剤とを組み合わせることも好ましい。このような光増感剤の例として、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセンおよびルブレンが挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
【０１８１】
ＴＡＳの例として、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネートおよび４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネートが挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
【０１８２】
光カチオン重合に用いる市販の開始剤の例として、みどり化学（株）製「ＤＴＳ−１０２」、ＵＣＣ社製「サイラキューアーＵＶＩ−６９９０」、「サイラキュアーＵＶＩ−６９７４」、「サイラキュアーＵＶＩ−６９９２」、旭電化（株）製「アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５２、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２」、ローディア社製「ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０７４」、チバ・ジャパン（株）製「イルガキュアー２５０」およびＧＥシリコンズ社製「ＵＶ−９３８０Ｃ」が挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。また、総説エポキシ樹脂（エポキシ樹脂技術協会編）に記載されているアミン系硬化剤なども必要とされる特性に応じて添加することができる。
【０１８３】
熱によるカチオン重合開始剤の具体的な商品名の例として、三新化学工業（株）の製品のサンエイド（主剤） ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−１６０、ＳＩ−１８０およびサンエイド（助剤）ＳＩが挙げられる。これらは光ラジカル開始剤および光カチオン重合開始剤と併用、または光ラジカル開始剤と併用してもよい。
【０１８４】
（溶剤）
組成物（１）はそのまま基板面に塗布することもある。しかしながら、通常は塗布を容易にするために、溶剤を用いて重合性液晶組成物を希釈するか、または溶剤に重合性液晶組成物の各成分を溶解して、重合性液晶組成物と溶剤とからなる重合性液晶組成物の溶液が調製され、この溶液が用いられる。この溶剤は単独でも使用できるし、２つ以上を混合して使用してもよい。溶剤の例として、エステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤および脂環式炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤およびアセテート系溶剤が挙げられる。
【０１８５】
エステル系溶剤の好ましい例として、酢酸アルキル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチルおよび酢酸イソペンチル）、トリフルオロ酢酸エチル、プロピオン酸アルキル（例：プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピルおよびプロピオン酸ブチル）、酪酸アルキル（例：酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イソブチルおよび酪酸プロピル）、マロン酸ジアルキル（例：マロン酸ジエチル）、グリコール酸アルキル（例：グリコール酸メチルおよびグリコール酸エチル）、乳酸アルキル（例：乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸イソプロピル、乳酸n-プロピル、乳酸ブチルおよび乳酸エチルヘキシル）、モノアセチン、γ−ブチロラクトンならびにγ−バレロラクトンが挙げられる。
【０１８６】
アミド系溶剤の好ましい例として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。
【０１８７】
アルコール系溶剤の好ましい例として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ブタノール、２−エチルブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、１−ドデカノール、エチルヘキサノール、３、５、５−トリメチルヘキサノール、ｎ−アミルアルコール、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−３−メトキシブタノール、シクロヘキサノールおよびメチルシクロヘキサノールが挙げられる。
【０１８８】
エーテル系溶剤の好ましい例として、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ビス（２−プロピル）エーテル、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ターピニルメチルエーテル、ジヒドロターピニルメチルエーテル、１，８−シネオール、１，４−シネオールおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が挙げられる。
【０１８９】
グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の好ましい例として、エチレングリコールモノアルキルエーテル（例：エチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテル）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテル）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：プロピレングリコールモノブチルエーテル）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル）、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、およびジエチレングリコールメチルエチルエーテルが挙げられる。
【０１９０】
芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例として、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ｉ−プロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベンゼン、ｎ−ブチルベンゼン、アニソール、ｐ−サイメン、リモネン、ターピノーレンおよびテトラリンが挙げられる。
ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例としてクロロベンゼンが挙げられる。
【０１９１】
脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例として、ヘキサンおよびヘプタンが挙げられる。
ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例として、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレンおよびテトラクロロエチレンが挙げられる。
脂環式炭化水素系溶剤の好ましい例として、シクロヘキサンおよびデカリンが挙げられる。
【０１９２】
ケトン系溶剤の好ましい例として、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジヒドロカルボン、メントン、ピペリテノンおよびメチルプロピルケトンが挙げられる。
【０１９３】
アセテート系溶剤の好ましい例として、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸メチル、α-タ−ピニルアセテート、ペリリルアセテート、３−オクチルアセテート、２−オクチルアセテート、ミルテニルアセテート、イソボニルアセテート、ジヒドロターピニルアセテート、ジヒドロカルビルアセテート、カルビルアセテートおよび１−メトキシ−２−プロピルアセテートが挙げられる。
【０１９４】
重合性液晶化合物の溶解性の観点からは、アミド系溶剤、芳香族炭化水素系、ケトン系溶剤の使用が好ましく、溶剤の沸点を考慮すると、これら溶剤とエステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤およびグリコールモノアルキルエーテル系溶剤との併用も好ましい。溶剤の選択に関して特に制限はないが、支持基材としてプラスチック基板を用いる場合は、基板の変形を防ぐために乾燥温度を低くすること、および溶剤が基板を侵食しないようにする必要がある。このような場合に好ましく用いられる溶剤として、芳香族炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、アセテート系溶剤およびグリコールモノアルキルエーテル系溶剤が挙げられる。
【０１９５】
重合性液晶組成物の溶液における溶剤の割合は、この溶液の全重量を基準として５０〜９５％である。この範囲の下限は重合性液晶化合物の溶解性およびこの溶液を塗布する際のその最適粘度を考慮した数値である。そしてその上限は、溶剤コストおよび溶剤を蒸発させる際の時間や熱量といった経済的観点を考慮した数値である。この割合の好ましい範囲は６０〜９０％であり、より好ましい範囲は７０〜８５％である。
【０１９６】
（界面活性剤）
本発明の重合性液晶組成物は界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤は、組成物を支持基板などに均一な膜厚で塗布するのを容易にし、液晶相の配向を制御するといった効果も有する。好ましい界面活性剤としては、例えば、陽イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤および非イオン性界面活性剤が挙げられるが、より好ましい界面活性剤は非イオン性界面活性剤である。非イオン性界面活性剤の好ましい例として、シリコーン系、フッ素系および炭化水素系等の非イオン性界面活性剤が挙げられる。このうち、シリコーン系の非イオン性界面活性剤の例として、変性シリコーンを主成分とした共栄社化学（株）製のポリフローＡＴＦ―２、グラノール１００、グラノール１１５、グラノール４００、グラノール４１０、グラノール４３５、グラノール４４０、グラノール４５０、グラノールＢ−１４８４、ポリフローＫＬ−２５０、ポリフローＫＬ−２６０、ポリフローＫＬ−２７０、ポリフローＫＬ−２８０、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−３５００、ＢＹＫ−３５１０およびＢＹＫ−３５７０が挙げられる。
【０１９７】
フッ素系の非イオン性界面活性剤の例として、ＢＹＫ−３４０、フタージェント２５１、フタージェント２２１ＭＨ、フタージェント２５０、ＦＴＸ−２１５Ｍ、ＦＴＸ−２１８Ｍ、ＦＴＸ−２３３Ｍ、ＦＴＸ−２４５Ｍ、ＦＴＸ−２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、フタージェント２２２Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０６Ｄ、フタージェント２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−７２０Ｃ、ＦＴＸ−７４０Ｃ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＫＢ−Ｌ８２、ＫＢ−Ｌ８５、ＫＢ−Ｌ９７、ＫＢ−Ｌ１０９、ＫＢ−Ｌ１１０、ＫＢ−Ｆ２Ｌ、ＫＢ−Ｆ２Ｍ、ＫＢ−Ｆ２Ｓ、ＫＢ−Ｆ３ＭおよびＫＢ−ＦａＭが挙げられる。
【０１９８】
炭化水素系の非イオン性界面活性剤の例として、アクリル系ポリマーを主成分としたポリフローＮｏ．３、ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ、ポリフローＮｏ．５４Ｎ、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．７７、ポリフローＮｏ．８５ＨＦ、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２およびＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００が挙げられる。
【０１９９】
なお、上記のポリフローおよびグラノールはどちらも共栄社化学（株）から販売されている商品の名称である。ＢＹＫはビックケミー・ジャパン（株）から販売されている商品の名称である。フタージェント、ＦＴＸおよびＫＢは（株）ネオスから販売されている商品の名称である。界面活性剤の量は、界面活性剤の種類、組成物の組成比などにより異なるが、組成物（１）全体（溶媒を除く）の重量に対して０．０１重量％〜３重量％、好ましくは０．０３〜２重量％の範囲である。
【０２００】
（有機ケイ素化合物）
組成物（１）は、配向性を制御するために、有機ケイ素化合物を含有してもよい。具体例としては、アミン系の３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、３−アミノプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アミノプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｎ-（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ-（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ-（６−アミノヘキシル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、およびケチミン系の３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１、３ジメチル−ブチリデン）が挙げられる。支持基材との密着性を制御するために、上記以外の有機ケイ素化合物を含有してもよい。具体例としては、ビニルトリアルコキシシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、３−クロロトリアルコキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび３−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランが挙げられる。別の例としては、これらの化合物において、３つのアルコキシ基の１つがメチルに置き換えられたジアルコキシメチルシランが挙げられる。有機ケイ素化合物の量は、有機ケイ素化合物の種類、組成物の組成比などにより異なるが、組成物（１）全体（溶媒を除く）の重量に対して１〜３０重量％、好ましくは３〜１５重量％の範囲である。
【０２０１】
（連鎖移動剤）
組成物（１）には１種または２種以上の連鎖移動剤を加えて重合体の機械特性を制御することが可能である。連鎖移動剤を用いることによりポリマー鎖の長さを制御することができる。これらの長さを同時に制御することもできる。連鎖移動剤の量を増大させると、ポリマー鎖の長さは減少する。好ましい連鎖移動剤は、チオール化合物である。単官能性チオールの例として、ドデカンチオールおよび２−エチルへキシル−（３−メルカプトプロピオネート）が挙げられる。多官能性チオールの例として、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン（カレンズＭＴ ＢＤ１）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（カレンズＭＴ ＰＥ１）、および１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（カレンズＭＴ ＮＲ１）が挙げられる。「カレンズ」は昭和電工株式会社の商品名である。
【０２０２】
（その他の添加剤）
その他の添加剤としては、重合防止剤、酸素阻害剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤およびアミン系硬化剤などを挙げることができる。
【０２０３】
組成物（１）には、保存時の重合開始を防止するために重合防止剤を添加することができる。公知の重合防止剤を使用できるが、その好ましい例として、２，５−ジ（ｔ−ブチル）ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ハイドロキノン、メチルブルー、ジフェニルピクリン酸ヒドラジド（ＤＰＰＨ）、ベンゾチアジン、４−ニトロソジメチルアニリン（ＮＩＤＩ）およびｏ−ヒドロキシベンゾフェノンが挙げられる。
【０２０４】
組成物（１）には、保存性を向上させるために、酸素阻害剤を添加することもできる。組成物内で発生するラジカルは保存環境中の酸素と反応し、パーオキサイドラジカルを与え、重合性化合物との好ましくない反応が促進される。これを防ぐ目的で酸素阻害剤を添加することが好ましい。酸素阻害剤の例はリン酸エステル類である。
【０２０５】
重合性液晶組成物の耐候性を更に向上させるために、紫外線吸収剤、光安定剤（ラジカル捕捉剤）、酸化防止剤等を添加してもよい。紫外線吸収剤の例として、チヌビンＰＳ、チヌビンＰ、チヌビン９９−２、チヌビン１０９、チヌビン２１３、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２８、チヌビン３２９、チヌビン３８４−２、チヌビン５７１、チヌビン９００、チヌビン９２８、チヌビン１１３０、チヌビン４００、チヌビン４０５、チヌビン４６０、チヌビン４７９、チヌビン５２３６、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３４、アデカスタブＬＡ−３６、アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブ１４１３およびアデカスタブＬＡ−５１が挙げられる。「チヌビン」はチバ・ジャパン（株）の商品名であり、「アデカスタブ」は旭電化（株）の商品名である。
【０２０６】
光安定剤の例として、チヌビン１１１ＦＤＬ、チヌビン１２３、チヌビン１４４、チヌビン１５２、チヌビン２９２、チヌビン６２２、チヌビン７７０、チヌビン７６５、チヌビン７８０、チヌビン９０５、チヌビン５１００、チヌビン５０５０、チヌビン５０６０、チヌビン５１５１、キマソーブ１１９ＦＬ、キマソーブ９４４ＦＬ、キマソーブ９４４ＬＤ、アデカスタブＬＡ−５２、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７、サイテック社製のサイアソーブＵＶ−３３４６、およびグッドリッチ社製のグッドライトＵＶ−３０３４が挙げられる。「キマソーブ」はチバ・ジャパン（株）の商品名である。
【０２０７】
酸化防止剤の例として、旭電化社製のアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、住友化学（株）製のスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、スミライザーＧＡ−８０、並びにチバ・ジャパン（株）製のＩｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４およびＩｒｇａｎｏｘ２４５が挙げられる。
【０２０８】
また、組成物（１）には、総説エポキシ樹脂（エポキシ樹脂技術協会編）に記載されているアミン系硬化剤なども必要とされる特性に応じて添加することができる。
【０２０９】
（重合体）
以下の説明では、重合性液晶組成物の配向を制御して重合することによって得られる重合体を異方性ポリマーと称する。また、配向を制御しないで重合して得られた重合体をポリマーフィルムと称する。異方性ポリマーは、次のようにして形成することができる。まず、重合性液晶組成物の溶液を配向処理した支持基材上に塗布し、これを乾燥させて塗膜を形成させる。つぎに、その塗膜に光照射、あるいは加熱して重合性液晶組成物を重合させ、塗膜中の組成物が液晶状態で形成するネマチック配向を固定化する。
【０２１０】
重合性液晶組成物の配向形態は、組成物に含有する各成分の種類および量などを適宜変更することで、目的に応じた配向形態を有する重合性液晶組成物および重合体を得ることができるが、本発明の重合性液晶組成物は、ホモジニアス配向、チルト配向、ツイスト配向、ホメオトロピック配向のいずれか１つを有することが好ましい。このような配向形態を有する重合性液晶組成物を重合して得られる異方性ポリマーおよび積層体は、液晶表示素子や液晶表示装置に用いられる光学補償フィルムや反射フィルムとして好適に用いることができる。
【０２１１】
なお、本発明において単に「積層体」と言うときは、上記支持基材とその上に形成された異方性ポリマーとを有するものを言う。
【０２１２】
使用できる支持基材は、ガラス基板およびプラスチック基板などである。プラスチック基板の例として、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロースおよびその部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂ならびにシクロオレフィン系樹脂からなるプラスチックフィルムが挙げられる。
【０２１３】
シクロオレフィン系樹脂としてノルボルネン系樹脂およびジシクロペンタジエン系樹脂等が挙げられるが、これらに限定される訳ではない。これらの中で、不飽和結合を有さないか、または不飽和結合が水素添加されたものが好適に用いられる。例えば、１種または２種以上のノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体の水素添加物、１種または２種以上のノルボルネン系モノマーの付加（共）重合体、ノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマー（エチレン、α−オレフィン等）との付加共重合体、ノルボルネン系モノマーとシクロオレフィン系モノマー（シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエン等）との付加共重合体、及び、これらの変性物が挙げられ、具体例として、ＺＥＯＮＥＸ、ＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン社製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）、ＴＯＰＡＳ（チコナ社製）、ＡＰＥＬ（三井化学社製）、エスシーナ（積水化学工業社製）およびＯＰＴＯＲＥＺ（日立化成社製）等が挙げられる。
【０２１４】
これらのプラスチック基板は、一軸延伸フィルムであってもよく、二軸延伸フィルムであってもよい。これらのプラスチック基板は、その表面を、例えば、親水化処理、あるいは疎水化処理したものであってもよい。親水化処理の方法は特に制限はないが、コロナ処理、プラズマ処理およびイオンビーム処理などが好ましく、さらに好ましい方法は、コロナ処理またはプラズマ処理であり、特に好ましい方法はプラズマ処理である。プラズマ処理は、特に制限されないが、特開２００２−２２６６１６号公報および特開２００２−１２１６４８号公報などに記載されている方法を用いても良い。これらの親水化処理は、重合性液晶組成物をホメオトロピック配向に制御する場合に用いることもできる。
【０２１５】
また、得られる異方性ポリマーとプラスチック基板との密着性を改良するために、プラスチック基板上にアンカーコート層を形成させてもよい。このようなアンカーコート層は異方性ポリマーとプラスチック基板の密着性を高めるものであれば、無機系、有機系のいずれの材料であっても何ら問題はない。また、プラスチック基板は積層フィルムであってもよい。これらプラスチック基板に代えて、表面にスリット状の溝をつけたアルミニウム、鉄および銅などの金属基板や、表面をスリット状にエッチング加工したアルカリガラス、ホウ珪酸ガラスおよびフリントガラスなどのガラス基板などを用いることもできる。
【０２１６】
支持基材として、ガラス基板を用いる場合には、その表面を上記プラスチックフィルムで被覆したものであってもよく、得られる異方性ポリマーとガラス基板との密着性を改良するためにアンカーコート層を形成させてもよい。
【０２１７】
これらのガラス基板、プラスチック基板等の支持基材には、重合性液晶組成物の塗膜形成に先立って、ラビング等による物理的、機械的な表面処理を行うことが好ましい。ラビング処理には、通常はレーヨン、綿、ポリアミドなどの素材からなるラビング布を金属ロールなどに捲き付け、支持基材、プラスチックフィルム被膜またはアンカーコート層に接した状態でロールを回転させながら移動させる方法、ロールを固定したまま支持基材側を移動させる方法などが採用され、どのような方法を選んでもよい。ラビング処理は支持基材に直接施されていてもよく、またはプラスチックフィルム被膜またはアンカーコート層に施されてもよい。
【０２１８】
なお、支持基材の種類によっては、その表面を事前にコロナ処理やプラズマ処理を行い、塗布性を向上させる場合がある。その際には、ラビング処理前に行うとよい。また、上記のラビング処理の代わりに偏光ＵＶを用いた光配向処理を行ってもよく、各種の光配向膜材料が適用できる。
【０２１９】
本発明の重合性液晶組成物の溶液を塗工するときには、塗布後に溶剤を除去して、支持基材上に均一な膜厚の重合性液晶組成物の層（以下、「重合性液晶層」とも言う。）を形成させる。
【０２２０】
重合性液晶組成物またはその溶液を塗工する際、均一な膜厚を得るための塗布方法の例として、スピンコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、メニスカスコート法およびダイコート法が挙げられる。
【０２２１】
溶剤除去の条件は特に限定されない。溶剤がおおむね除去され、重合性液晶組成物の塗膜の流動性がなくなるまで乾燥すればよい。室温での風乾、ホットプレートでの乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなどを利用して溶剤を除去することができる。重合性液晶組成物に用いる化合物の種類と組成比によっては、塗膜を乾燥する過程で、塗膜中の重合性液晶組成物のネマチック配向が完了していることがある。従って、この場合には、乾燥工程を経た塗膜は、後述する熱処理工程を経由することなく、重合工程に供することができる。
【０２２２】
塗膜を熱処理する際の温度および時間、光照射に用いられる光の波長、光源から照射する光の量などは、重合性液晶組成物に用いる化合物の種類と組成比、光重合開始剤の添加の有無やその添加量などによって、好ましい範囲が異なる。従って、以下に説明する塗膜の熱処理の温度および時間、光照射に用いられる光の波長、および光源から照射する光の量についての条件は、あくまでもおよその範囲を示すものである。
【０２２３】
塗膜の熱処理は、溶剤が除去され、重合性液晶の均一配向性が得られる条件で行うことが好ましい。重合性液晶組成物の液晶相転移点以上で行ってもよい。熱処理方法の一例としては、前記重合性液晶組成物がネマチック液晶相を示す温度まで塗膜を加温して、塗膜中の重合性液晶組成物にネマチック配向を形成させる方法が挙げられる。また、重合性液晶組成物がネマチック液晶相を示す温度範囲内で、塗膜の温度を変化させることによってネマチック配向を形成させてもよい。この方法は、該温度範囲の高温域まで塗膜を加温することによって塗膜中にネマチック配向を概ね完成させ、次いで温度を下げることによってさらに秩序だった配向にする。
【０２２４】
これらの熱処理方法における熱処理温度は室温〜１２０℃である。この温度の好ましい範囲は室温〜１００℃であり、より好ましい範囲は室温〜９０℃、さらに好ましい範囲は室温〜８５℃である。熱処理時間は５秒〜２時間である。この時間の好ましい範囲は１０秒〜４０分であり、より好ましい範囲は２０秒〜２０分である。重合性液晶層の温度を所定の温度まで上昇させるためには、熱処理時間を５秒以上にすることが好ましい。異方性ポリマーの生産性を低下させないためには、熱処理時間を２時間以内にすることが好ましい。このようにして本発明の積層体が得られ、該積層体から支持基材を除去することで、異方性ポリマーを得ることができる。
【０２２５】
重合性液晶層中に形成された重合性液晶化合物のネマチック配向状態は、この重合性液晶組成物を光照射、あるいは加熱により重合することで固定化される。光照射の方法は特に限定されなく、組成物に応じた方法を用いればよく、電子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）などを利用することができる。通常は、紫外線または可視光線を用いればよい。波長の範囲は１５０〜５００ｎｍである。好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、より好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源の例として、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）が挙げられる。光源の好ましい例として、メタルハライドランプやキセノンランプ、超高圧水銀ランプおよび高圧水銀ランプが挙げられる。光源と重合性液晶層との間にフィルターなどを設置して特定の波長領域のみを通すことにより、照射光源の波長領域を選択してもよい。光源から照射する光量は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2である。光量の好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であり、より好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。光照射時の温度条件は、上記の熱処理温度と同様に設定されることが好ましい。また、重合環境の雰囲気は窒素雰囲気、不活性ガス雰囲気、空気雰囲気のいずれでも良いが、窒素雰囲気あるいは不活性ガス雰囲気が硬化性を向上させる観点から好ましい。
【０２２６】
加熱による重合では、熱重合開始剤の重合開始温度に応じて加熱温度を調整するとよい。乾燥工程で熱重合反応が開始することを避けるために、熱重合開始剤の半減期温度と乾燥工程の温度差はなるべく大きくするとよい。また、熱重合時にラジカルを発生する熱重合開始剤を用いるときは、窒素雰囲気あるいは不活性ガス雰囲気で加熱を行うなどして、酸素による重合阻害を低減させる方法が硬化性を向上させる観点から好ましい。
【０２２７】
本発明の重合性液晶組成物を光や熱などにより重合させた異方性ポリマーを様々な光学素子に用いる場合、または液晶表示装置に用いる光学補償素子として適用する場合には、厚み方向におけるチルト角の分布の制御が重要となる。
【０２２８】
チルト角を制御する方法の一つとして、重合性液晶組成物に用いる液晶性を有する化合物の種類や組成比などを調整する方法が挙げられる。また、この重合性液晶化合物に界面活性剤を添加することによって、チルト角を制御することができる。異方性ポリマーのチルト角は、重合性液晶組成物中の溶剤の種類や溶質濃度、界面活性剤の種類や添加量などによっても制御することができる。支持基材、プラスチックフィルム被膜およびアンカーコート層の種類やラビング条件、重合性液晶組成物の塗膜の乾燥条件や熱処理条件などによっても、異方性ポリマーのチルト角を制御することができる。さらに、配向後の光重合工程での照射雰囲気や照射時の温度なども異方性ポリマーのチルト角に影響を与える。即ち、異方性ポリマーの製造プロセスにおけるほとんど全ての条件が多少なりともチルト角に影響を与えると考えてよい。従って、重合性液晶性組成物の最適化と共に、異方性ポリマーの製造プロセスの諸条件を適宜選択することにより、目的に応じたチルト角にすることができる。
【０２２９】
異方性ポリマーの好ましいヘイズ値は１．５％以下であり、好ましい透過率は８０％以上である。より好ましいヘイズ値は１．０％以下であり、より好ましい透過率は９５％以上である。透過率については、可視光領域でこれらの条件を満たすことが好ましい。
【０２３０】
異方性ポリマーおよび積層体は、液晶表示素子（特に、アクティブマトリックス型およびパッシブマトリックス型の液晶表示素子）および液晶表示装置に適用する光学補償フィルムおよび反射フィルムとして有効である。異方性ポリマーおよび積層体を光学補償膜として使用するのに適している液晶表示素子の型の例として、ＩＰＳ型（イン・プレーン・スイッチング）、光学的にアイソトロピックな相における切換を有するディスプレイ（例えばＷＯ０２／９３２４４に記載）、ＴＮ型（ツイステッド・ネマティック）、ＳＴＮ型（スーパー・ツイステッド・ネマティック）、ＥＣＢ型（電気的に制御された複屈折）、ＤＡＰ型（整列相の変形効果）、ＣＳＨ型（カラー・スーパー・ホメオトロピック）、ＶＡ（垂直配向）、ＶＡＮ／ＶＡＣ型（垂直配向したネマチック／コレステリック）、ＭＶＡ（多ドメイン垂直配向）もしくはＰＶＡ（パターン化された垂直配向）、ＯＣＢ型（光学的に補償された複屈折）、Ｒ−ＯＣＢ（反射性ＯＣＢ）、ＨＡＮ（複合配向ネマティック）、ＯＭＩ型（光学モード干渉）およびＳＢＥ型（超複屈折効果）が挙げられる。さらにゲスト−ホスト型、強誘電性型、反強誘電性型などの表示素子用の位相レターダーとして、この異方性ポリマーを使用することもできる。好ましいのは、アクティブマトリックス型のディスプレイにおけるＴＮ型、ＳＴＮ型、ＶＡ型およびＩＰＳ型である。なお、異方性ポリマーに求められるチルト角の厚み方向の分布や厚みなどのパラメーターの最適値は、補償すべき液晶表示素子の種類とその光学パラメーターに強く依存するので、素子の種類によって異なる。
【０２３１】
異方性ポリマーは、偏光板などと一体化した光学素子としても使用することができ、この場合は液晶セルの外側に配置する。一方、光学補償素子としての異方性ポリマーは、セルに充填された液晶への不純物の溶出がないかまたは少ないので、液晶セルの内部に配置することも可能である。例えば、特開２００６−２８５０１４号公報に開示されている方法を応用すれば、カラーフィルター上に本発明の重合性液晶層を形成することでカラーフィルターの機能を更に向上させることが可能となる。
【０２３２】
化合物（１）が光学活性を有するとき、異方性ポリマーは固定化されたらせん構造（helical structure）を有する。化合物（１）が光学的に不活性であるときには、この組成物（１）に光学活性化合物を添加することによって、固定化されたらせん構造を有する重合体（１）を得ることができる。
【０２３３】
分子配列およびらせん構造の両方が固定化された重合体（１）は、位相差膜、偏光素子、円偏光素子、楕円偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜、液晶配向膜等の用途に適している。
【０２３４】
分子配列が固定化された重合体（１）は、位相差膜、円偏光素子、楕円偏光素子、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜、液晶配向膜の用途に適している。らせん構造が固定化された重合体（１）は、反射防止膜、色補償膜等に適している。分子配列およびらせん構造の両方が固定化されていない重合体（１）は、反射防止膜、液晶配向膜等に適している。また、いずれの場合においても、接着剤、機械的異方性を持つ合成高分子、化粧品、装飾品、非線型光学材料および情報記憶材料等としても利用できる。分子配列の固定化や、らせん構造の固定化には前記の熱重合や光重合が適している。
【０２３５】
上記のような光学異方性を有する重合体（１）の特性である可視光の選択反射は、らせん構造が入射光に作用し、円偏光や楕円偏光を反射させるものである。選択反射特性はλ＝ｎ・Pitch（λは選択反射中心波長、ｎは平均屈折率、Pitchはらせんピッチ）で表されるため、ｎまたはPitchによりλおよびその帯域（Δλ）を適宜調整することができる。色純度を良くするにはΔλを小さくすればよいし、広帯域の反射を所望する際にはΔλを大きくすればよい。さらにこの選択反射は重合体の厚みの影響も大きく受ける。色純度を保つためには、厚みが小さくなりすぎないようにしなければならない。配向の均一性を保つためには、厚みが大きくなりすぎないようにしなければならない。また、目的とする素子に応じたレタデーションや異方性ポリマーの複屈折率によって適当な厚さが異なる。従って、その範囲を厳密に決定することはできないが、０．０５〜５０μｍが好ましく、０．５〜２０μｍがより好ましく、１〜１０μｍがさらに好ましい。
【０２３６】
らせんピッチを可視光よりさらに短くすることで、W. H. de Jeu, Physical Properties of Liquid Crystalline Materials, Gordon and Breach, New York（1980）に記載のネガティブ型Ｃプレート（Negative C plate）を調製できる。らせんピッチを短くするためには、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）の大きな光学活性化合物を用い、さらにその添加量を増やすことで達成できる。具体的にはλを３５０ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下とすることで、ネガティブ型Ｃプレートを調製できる。このネガティブ型Ｃプレートは液晶表示素子のうちＶＡＮ型、ＶＡＣ型、ＯＣＢ型等の表示素子に適した光学補償膜となる。
【０２３７】
らせんピッチを可視光より長くすることで特開２００４−３３３６７１号公報に記載されているような反射波長領域を近赤外（波長８００〜２５００ｎｍ）に設定した反射フィルムに用いることができる。らせんピッチを長くするためには、ねじり力の小さな光学活性化合物を用いたり、光学活性化合物の添加量を減らすことで達成できる。
【０２３８】
重合体（１）は、溶媒に溶かしてフィルム等に加工することができる。この場合、２種の重合体を混合して加工してもよい。フィルム等に加工する際には、積層させてもよい。好ましい溶媒としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、テトラヒドロフラン、クロロホルム、１，４−ジオキサン、ビス（メトキシエチル）エーテル、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸エチル、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、メチルエチルケトンおよびシクロペンタノン、シクロヘキサノンが挙げられる。これらの溶媒は、アセトン、ベンゼン、トルエン、ヘプタンおよび塩化メチレンなどの一般的な有機溶媒と混合して用いてもよい。
【実施例】
【０２３９】
以下、実施例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により制限されない。化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル、質量スペクトルで確認した。相転移温度の単位は℃であり、Ｃは結晶を、Ｎはネマチック相を、ＳＢはスメクチックＢ相を、Ｉは等方性液体相を示す。以下に、物性値の測定法を示す。
【０２４０】
＜重合条件＞
窒素雰囲気下または大気中において、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて３０ｍＷ／ｃｍ2（３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間照射した。
【０２４１】
＜ラビング処理済み配向膜付きガラス基板の作成＞
厚さ１．１ ｍ ｍ のガラス基板に、配向剤（チッソ（株）製、商品名：リクソンアライナー ＰＩＡ−５３７０）をスピンコートし、溶媒を乾燥後、２３０℃で３０分間焼成したものをラビング処理した。
【０２４２】
＜液晶配向状態の確認＞
異方性ポリマー付基板を偏光顕微鏡観察し、配向欠陥の有無を確認した。
【０２４３】
＜偏光解析装置による測定＞
シンテック（株）製のＯＰＴＩＰＲＯ偏光解析装置を用い、異方性ポリマー付基板に波長が５５０ｎｍの光を照射した。この光の入射角度をフィルム面に対して９０度から減少させながらレタデーションを測定した。レタデーション（retardation；位相遅れ）はΔｎ×ｄで表される。記号Δｎは光学異方性値であり、記号ｄは重合体フィルムの厚さである。
【０２４４】
＜膜厚測定＞
異方性ポリマー付き基板の異方性ポリマーの層を削りだして、その段差を微細形状測定装置（ＫＬＡ ＴＥＮＣＯＲ（株）製 アルファステップＩＱ）を用いて測定した。
【０２４５】
＜光学異方性値（Δｎ）の評価＞
ホモジニアス配向を有する異方性ポリマーについて求めたレタデーションと膜厚値から、Δｎ＝レタデーション／膜厚として算出した。
【０２４６】
［実施例１］
下記に示す化合物（１−１−１０）を以下のようにして合成した。
【０２４７】
【化６３】
【０２４８】
１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート５２ｍｍｏｌ、４'−ペンチルビシクロヘキサン−４−カルボン酸５２ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）１０ｍｍｏｌを、ジクロロメタン１００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）５７ｍｍｏｌのジクロロメタン溶液５０ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、上記化合物（１−１−１０）１８ｍｍｏｌを得た。
【０２４９】
得られた化合物（１−１−１０）の相転移温度およびＮＭＲ分析値は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ６１ Ｉ
【０２５０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；δｐｐｍ）：６．４１（ｄ，１Ｈ），６．１８−６．０９（ｍ，１Ｈ），５．８３（ｄ，１Ｈ），３．９９（ｄ，２Ｈ），３．８９（ｄ，２Ｈ），２．３４−２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１３−２．０１（ｍ，２Ｈ），１．９１−１．５６（ｍ，１２Ｈ），１．３３−０．７７（ｍ，２６Ｈ）．
【０２５１】
［実施例２］
下記に示す化合物（１−１−１２）を以下のようにして合成した。
【０２５２】
【化６４】
【０２５３】
１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート５２ｍｍｏｌ、２−（４'−ペンチルビシクロヘキサン）−４−イルカルボン酸５２ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）１０ｍｍｏｌを、ジクロロメタン１００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）５７ｍｍｏｌのジクロロメタン溶液５０ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、上記化合物（１−１−１２）１５ｍｍｏｌを得た。
【０２５４】
得られた化合物（１−１−１２）の相転移温度およびＮＭＲ分析値は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ７２（ＳＢ ６３） Ｉ
【０２５５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；δｐｐｍ）：６．４１（ｄ，１Ｈ），６．１７−６．０９（ｍ，１Ｈ），５．８３（ｄ，１Ｈ），３．９９（ｄ，２Ｈ），３．８９（ｄ，２Ｈ），２．１７（ｄ，２Ｈ），１．８７−１．５６（ｍ，１５Ｈ），１．３３−０．７７（ｍ，２６Ｈ）．
【０２５６】
［実施例３］
下記に示す化合物（１−２−６）を以下のようにして合成した。
【０２５７】
【化６５】
【０２５８】
１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート１０７ｍｍｏｌおよびトリエチルアミン１６０ｍｍｏｌを、トルエン１５０ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、テレフタル酸クロライド５２ｍｍｏｌのトルエン溶液７０ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、上記化合物（１−２−６）３１ｍｍｏｌを得た。
【０２５９】
得られた化合物（１−２−６）の相転移温度およびＮＭＲ分析値は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ １５６ Ｉ
【０２６０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；δｐｐｍ）：７．８２（Ｓ，４Ｈ），６．４４（ｄ，２Ｈ），６．２０−６．０９（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄ，２Ｈ），３．９８（ｄ，４Ｈ），３．９０（ｄ，４Ｈ），２．０８−１．９９（ｍ，４Ｈ），１．７４−１．３９（ｍ，１０Ｈ），１．１０−０．９７（ｍ，６Ｈ）．
【０２６１】
［実施例４］
下記に示す化合物（１−２−１２）を以下のようにして合成した。
【０２６２】
【化６６】
【０２６３】
１,４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート１０７ｍｍｏｌ、トランス−シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸５２ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）２１ｍｍｏｌを、ジクロロメタン３００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）１１８ｍｍｏｌのジクロロメタン溶液６０ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、上記化合物（１−２−１２）２２ｍｍｏｌを得た。
【０２６４】
得られた化合物（１−２−１２）の相転移温度およびＮＭＲ分析値は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ １０４ Ｉ
【０２６５】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3；δｐｐｍ）：６．４２（ｄ，２Ｈ），６．１９−６．０９（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄ，２Ｈ），３．９９（ｄ，４Ｈ），３．９０（ｄ，４Ｈ），２．３４−２．２５（ｍ，２Ｈ），２．０５（ｄ，４Ｈ），１．９０−１．７７（ｍ，７Ｈ），１．７４−１．３９（ｍ，１０Ｈ），１．１０−０．９７（ｍ，７Ｈ）．
【０２６６】
実施例５，６で使用した化合物を以下に示す。
【０２６７】
【化６７】
【０２６８】
化合物（Ｍ１−１−１０−１）はMakromol. Chem., 190, 2255-2268 (1989) に記載の方法で合成した。
化合物（Ｍ１−２−３７−１）および化合物（Ｍ１−２−４０−１）はＷＯ９７／３４８６２号パンフレットに記載の方法で合成した。
【０２６９】
化合物（Ｍ１−１−２５−１）は、以下のように合成した。
【０２７０】
【化６８】
【０２７１】
化合物（ｅｘ−１）７４ｍｍｏｌ、３',６'-ジヒドロキシベンゾノルボルネン３５ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）２１ｍｍｏｌを、ジクロロメタン２００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）７４ｍｍｏｌのジクロロメタン溶液１００ｍＬを滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールで再結晶することにより、化合物（Ｍ１−１−２５−１）１５ｍｍｏｌを得た。
【０２７２】
得られた化合物（Ｍ１−１−２５−１）の相転移温度は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ７７ Ｉ
【０２７３】
［実施例５］
化合物（１−１−１２）：化合物（Ｍ１−１−１０−１）：化合物（Ｍ１−１−２５−１）＝２５：２５：５０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ（Ａ）とする。このＭＩＸ（Ａ）の重量１に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、および重量比０．０６の重合開始剤イルガキュアー９０７（チバ・ジャパン製）を添加した。この組成物にシクロペンタノン／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）＝７／３（重量比）を加えて、溶剤の割合が７０重量％である重合性液晶組成物（１）を得た。得られた重合性液晶組成物（１）は、相分離等せず均一に混合していた。
【０２７４】
次に、重合性液晶組成物（１）を、ラビング処理済配向膜付きガラス基板上へスピンコートにより塗布した。この時、塗布性は良好であった。
この基板を８０℃で３分間加熱、室温で３分間冷却し、溶剤が除去した重合性液晶層を空気中で紫外線により重合させて、液晶の配向状態を固定させた異方性ポリマーを得た。この異方性ポリマーを偏光顕微鏡観察したところ、配向欠陥はなく、均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１のような結果であり、ホモジニアス配向であった。フィルム面に対して９０度のレタデーション測定値は１３８ｎｍであり、膜厚は１２６０ｎｍであったことからΔｎは０．１１と算出された。
【０２７５】
［実施例６］
化合物（１−１−１２）：化合物（Ｍ１−２−３７−１）：化合物（Ｍ１−２−４０−１）＝３３：３３：３４の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ（Ｂ）とする。このＭＩＸ（Ｂ）の重量１に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、および重量比０．０６の重合開始剤イルガキュアー９０７（チバ・ジャパン製）を添加した。この組成物にシクロヘキサノン／ＰＧＭＥＡ＝９／１（重量比）を加えて、溶剤の割合が７５重量％である重合性液晶組成物（２）得た。得られた重合性液晶組成物（２）は、相分離等せず均一に混合していた。
【０２７６】
支持基材をラビング処理を行っていない配向膜付ガラス基板としたこと以外は、実施例５に記載の方法で異方性ポリマーを得た。この時、塗布性は良好であった。
この異方性ポリマーを偏光顕微鏡観察したところ、配向欠陥はなく均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図２のような結果であり、ホメオトロピック配向であった。
【０２７７】
［比較例１］
化合物（Ｍ１−２−３７−１）：化合物（Ｍ１−２−４０−１）＝５０：５０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ（Ｃ）とする。このＭＩＸ（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例５と同様にして異方性ポリマーの作成を試みたが、結晶化が進行し、評価が困難であった。
【０２７８】
上記の実施例および比較例の結果から、室温における結晶化の進行を１，４−ジメチレンシクロヘキサン骨格を有する重合性化合物を混合物中に導入することで防ぐことが可能となり、また、本発明の重合性液晶組成物から得られる異方性ポリマーは液晶の配向を維持しながら、Δｎを制御することが可能となることが分かった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される化合物。
【化１】
[式（１）中、Ｒ1は式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルであり、１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ1は−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｚ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｑ1は単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍは１〜５の整数であり；
Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【化２】
[式（２−１）〜（２−６）中、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【請求項２】
請求項１に記載の式（１）において、ｍが１〜３の整数である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい、請求項１または請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
請求項１に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよい、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】
請求項１に記載の式（１）において、Ｚ2が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
請求項１に記載の式（１）において、Ｚ2が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】
請求項１に記載の式（１）において、Ｒ1が式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基であり；Ｑ1が炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項８】
請求項１に記載の式（１）において、Ｒ1が式（２−１）で表される重合性の基である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１に記載の式（１）において、Ｒ1が水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；Ｑ1が単結合である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１０】
請求項１に記載の式（１）において、ｍが２である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する重合性液晶組成物。
【請求項１２】
式（１）で表される化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの重合性化合物とを含有する重合性液晶組成物。
【化３】
[式（１）中、Ｒ1は式（２−１）で表される重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルであり、１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ1は−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｚ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｑ1は単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍは１〜５の整数であり；
Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【化４】
[式（２−１）中、Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【化５】
[式（Ｍ１）および（Ｍ２）中、Ｒ2は独立して式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基であり；
Ｒ3は独立して式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、トリプチセン−１，４−ジイルまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ3は独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2ＯＣＯ−、−（ＣＨ2）2−または−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−であり；
Ｑ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｎは１〜５の整数であり；
ｘは０または１である。]
【化６】
[式（２−１）〜（２−６）中、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【請求項１３】
請求項１２に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ2が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｑ1が単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｍが１〜３であり、
請求項１２に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、
Ｒ3が独立して式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ3が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；
Ｑ2が独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｎが２または３の整数である、
請求項１２に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１４】
請求項１２に記載の式（１）において、
Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよく；
Ｚ2が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−であり；
Ｑ1が独立して炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｍが２であり、
請求項１２に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、
Ｒ3が独立して独立して式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、−ＣＮ、フッ素または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ3が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；
Ｑ2が独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｎが２または３である、
請求項１２または請求項１３に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１５】
請求項１２に記載の式（１）で表わされる化合物と、請求項１２に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との合計量１００重量％に対し、請求項１２に記載の式（１）で表される化合物の含有量が１〜９０重量％であり、
請求項１２に記載の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が１０〜９９重量％である、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１６】
請求項１２に記載の式（１）で表わされる化合物と、請求項１２に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との合計量１００重量％に対し、請求項１２に記載の式（１）で表される化合物の含有量が３〜８５重量％であり、
請求項１２に記載の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が１５〜９７重量％である、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１７】
請求項１２に記載の式（１）で表される化合物以外の液晶性を有しない重合性化合物をさらに含有する、請求項１１〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１８】
非重合性の液晶性化合物をさらに含有する、請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１９】
重合性の光学活性化合物をさらに含有する、請求項１１〜１８のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２０】
非重合性の光学活性化合物をさらに含有する、請求項１１〜１９のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２１】
請求項１１〜２０のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られるポリマーフィルム。
【請求項２２】
請求項１１〜２０のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られる異方性ポリマー。
【請求項２３】
重合性液晶組成物の配向形態がホモジニアス配向、チルト配向、ツイスト配向、ホメオトロピック配向のいずれか１つである、請求項２２に記載の異方性ポリマー。
【請求項２４】
重合性液晶組成物の配向形態をラビング処理、光配向処理、イオンビーム処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか１つの方法により制御する、請求項２２または請求項２３に記載の異方性ポリマー。
【請求項２５】
ガラス基板またはプラスチック基板からなる支持基材と、請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の異方性ポリマーとを有する積層体。
【請求項２６】
請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の異方性ポリマーおよび／または請求項２５に記載の積層体を有する光学補償フィルム。
【請求項２７】
請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の異方性ポリマーおよび／または請求項２５に記載の積層体を有する反射フィルム。
【請求項２８】
請求項２６に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示素子。
【請求項２９】
請求項２７に記載の反射フィルムを有する液晶表示素子。
【請求項３０】
請求項２６に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示装置。
【請求項３１】
請求項２７に記載の反射フィルムを有する液晶表示素装置。
【請求項１】
式（１）で表される化合物。
【化１】
[式（１）中、Ｒ1は式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルであり、１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ1は−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｚ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｑ1は単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍは１〜５の整数であり；
Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【化２】
[式（２−１）〜（２−６）中、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【請求項２】
請求項１に記載の式（１）において、ｍが１〜３の整数である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい、請求項１または請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
請求項１に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよい、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】
請求項１に記載の式（１）において、Ｚ2が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
請求項１に記載の式（１）において、Ｚ2が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】
請求項１に記載の式（１）において、Ｒ1が式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表わされる重合性の基であり；Ｑ1が炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項８】
請求項１に記載の式（１）において、Ｒ1が式（２−１）で表される重合性の基である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１に記載の式（１）において、Ｒ1が水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；Ｑ1が単結合である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１０】
請求項１に記載の式（１）において、ｍが２である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する重合性液晶組成物。
【請求項１２】
式（１）で表される化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの重合性化合物とを含有する重合性液晶組成物。
【化３】
[式（１）中、Ｒ1は式（２−１）で表される重合性の基、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ1は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイルであり、１，４−シクロヘキシレンにおける１つまたは隣接しない２つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける１つまたは２つの−ＣＨ＝は−Ｎ＝で置き換えられてもよく、１，４−フェニレンにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ1は−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ2−、−ＣＯ（ＣＨ2）2−または−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｚ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｑ1は単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍは１〜５の整数であり；
Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【化４】
[式（２−１）中、Ｒaは水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【化５】
[式（Ｍ１）および（Ｍ２）中、Ｒ2は独立して式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基であり；
Ｒ3は独立して式（２−１）〜（２−６）のいずれかで表される重合性の基、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、トリプチセン−１，４−ジイルまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおける任意の水素はハロゲン、−ＣＮ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ3は独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2ＯＣＯ−、−（ＣＨ2）2−または−Ｏ（ＣＨ2）2Ｏ−であり；
Ｑ2は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｎは１〜５の整数であり；
ｘは０または１である。]
【化６】
[式（２−１）〜（２−６）中、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。]
【請求項１３】
請求項１２に記載の式（１）において、Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ2が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｑ1が単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｍが１〜３であり、
請求項１２に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、
Ｒ3が独立して式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ3または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは１，４−フェニレンノルボルネンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＮ、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ3が独立して単結合、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；
Ｑ2が独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｎが２または３の整数である、
請求項１２に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１４】
請求項１２に記載の式（１）において、
Ａ1が独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、１，４−フェニレンにおける任意の水素は塩素、フッ素、−ＣＨ3、−ＯＣＨ3または−ＣＦ3で置き換えられてもよく；
Ｚ2が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−であり；
Ｑ1が独立して炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｍが２であり、
請求項１２に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）において、
Ｒ3が独立して独立して式（２−１）で表される重合性の基、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、−ＣＮ、フッ素または−ＯＣＦ3であり；
Ａ2が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ3が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ2）2ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ2）2−であり；
Ｑ2が独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける環に最も近い−ＣＨ2−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；
ｎが２または３である、
請求項１２または請求項１３に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１５】
請求項１２に記載の式（１）で表わされる化合物と、請求項１２に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との合計量１００重量％に対し、請求項１２に記載の式（１）で表される化合物の含有量が１〜９０重量％であり、
請求項１２に記載の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が１０〜９９重量％である、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１６】
請求項１２に記載の式（１）で表わされる化合物と、請求項１２に記載の式（Ｍ１）および（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との合計量１００重量％に対し、請求項１２に記載の式（１）で表される化合物の含有量が３〜８５重量％であり、
請求項１２に記載の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の含有量が１５〜９７重量％である、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１７】
請求項１２に記載の式（１）で表される化合物以外の液晶性を有しない重合性化合物をさらに含有する、請求項１１〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１８】
非重合性の液晶性化合物をさらに含有する、請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１９】
重合性の光学活性化合物をさらに含有する、請求項１１〜１８のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２０】
非重合性の光学活性化合物をさらに含有する、請求項１１〜１９のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２１】
請求項１１〜２０のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られるポリマーフィルム。
【請求項２２】
請求項１１〜２０のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られる異方性ポリマー。
【請求項２３】
重合性液晶組成物の配向形態がホモジニアス配向、チルト配向、ツイスト配向、ホメオトロピック配向のいずれか１つである、請求項２２に記載の異方性ポリマー。
【請求項２４】
重合性液晶組成物の配向形態をラビング処理、光配向処理、イオンビーム処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか１つの方法により制御する、請求項２２または請求項２３に記載の異方性ポリマー。
【請求項２５】
ガラス基板またはプラスチック基板からなる支持基材と、請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の異方性ポリマーとを有する積層体。
【請求項２６】
請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の異方性ポリマーおよび／または請求項２５に記載の積層体を有する光学補償フィルム。
【請求項２７】
請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の異方性ポリマーおよび／または請求項２５に記載の積層体を有する反射フィルム。
【請求項２８】
請求項２６に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示素子。
【請求項２９】
請求項２７に記載の反射フィルムを有する液晶表示素子。
【請求項３０】
請求項２６に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示装置。
【請求項３１】
請求項２７に記載の反射フィルムを有する液晶表示素装置。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１１−２４６３６５（Ｐ２０１１−２４６３６５Ａ）
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１１９２７４（Ｐ２０１０−１１９２７４）
【出願日】平成２２年５月２５日（２０１０．５．２５）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【出願人】（５９６０３２１００）ＪＮＣ石油化学株式会社 (309)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月２５日（２０１０．５．２５）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【出願人】（５９６０３２１００）ＪＮＣ石油化学株式会社 (309)
【Ｆターム（参考）】
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