重合性液晶化合物ならびにその重合体
【課題】広範囲な液晶相を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶媒に対する溶解度が高く、空気中においても熱及び光により重合することが出来る重合性液晶化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表される重合性液晶化合物。Ａ１及びＡ２は環状基であり、Ｚ１は結合基であり、ｍは０〜５の整数であり、Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり、Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、などであり、Ｑ２はＰ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合である。
【解決手段】式（１）で表される重合性液晶化合物。Ａ１及びＡ２は環状基であり、Ｚ１は結合基であり、ｍは０〜５の整数であり、Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり、Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、などであり、Ｑ２はＰ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シクロヘキセンオキシド部位を重合性基として有する液晶化合物、その重合体、および光学異方性を有するフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、偏光板、位相差板などの光学異方性体に重合性の液晶化合物が利用されている。この化合物が液晶状態において光学異方性を示し、重合によりこの状態の液晶分子が固定化されるためである。光学異方性を有する重合体に必要な光学的特性は目的によって異なるので、目的にあった特性を有する化合物が必要である。このような目的に使用される化合物は、前記の光学異方性に加えて重合体に関する特性も重要である。この重合性液晶化合物（組成物）およびその重合体に必要な特性は、相溶性、溶解度、透明点、塗布性、重合速度、透明性、融点、結晶化度、ガラス転移点、収縮性、透水度、吸水度、機械的強度、耐薬品性、耐熱性などである。
【０００３】
重合性液晶化合物の中でも、重合性基としてアクリロイルオキシ基を有する化合物はこのような目的に広く用いられる（特許文献１および２）。これらのアクリレートは反応性が高く、また得られる重合体の透明性が高い。しかしながら、重合様式がラジカル重合反応であるため、不活性ガス中で反応を行うことや、紫外線照射エネルギーを多くすることなどが必要である。そのため、空気中での硬化による作業性の向上や、さらには重合体の耐熱性、収縮性、接着性、密着性、機械的強度等の特性の改良も求められている。また重合性液晶化合物（組成物）は、塗工性を調節する目的で有機溶剤を加えたインキとして使用することができる。光学異方性を有するフィルムを製造するには、重合性液晶化合物（組成物）、光重合開始剤、界面活性剤などを有機溶剤に溶解させて粘度、レベリング性などを調整したインキを調製する。このインキを配向処理した透明基板フィルムに塗工し、溶剤を乾燥させ、重合性液晶化合物（組成物）を配向させる。次に紫外線照射または熱により重合させ、配向状態を固定化させる。この工程で使用する有機溶剤には、環境への負荷や、安全性（変異原性、毒性）の観点からプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）などが好ましい。しかし、非特許文献１および２に開示された化合物は、適切な濃度のインキを調製するのに、このような溶剤に対する溶解度が高くない。なお、特許文献３〜６の請求項には本発明の化合物と類似の化合物が開示されているが、これらの文献のいずれにも本発明の化合物とその効果を具体的に示す記述はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１７９１０号公報
【特許文献２】特開平９−３１６０３２号公報
【特許文献３】特開２００８−２３９５６７号公報
【特許文献４】特開２００８−１１０９４８号公報
【特許文献５】特開２００８−２３９５６９号公報
【特許文献６】特開２０１０−０８３７８１号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Polymer Chemistry, 1993, 31(9), 2249-60.
【非特許文献２】Polymer, 1994, 35(3), 622-9.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の第１の目的は、室温を中心とした広い温度範囲の液晶相を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶媒に対する溶解度が高く、空気中においても熱および光により重合することが出来る重合性液晶化合物を提供することである。第２の目的は、透明性、機械的強度、収縮性、透水度、吸水度、融点、ガラス転移点、透明点、耐薬品性、耐熱性などのうち、複数の優れた特性を有する光学異方性を示す重合体を提供することである。第３の目的は、この光学異方性を示す重合体を含有する液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の重合性の液晶化合物は次の［１］項に示される。
［１］ 式（１）で表される重合性液晶化合物：
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；
この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは０〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、塩素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合である。
（ここに、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明の重合性液晶化合物は、室温を中心とした広範囲な液晶相を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶媒に対する溶解度が高く、室温で重合する、空気中でも重合する、熱により重合する、重合しやすい、化学的に安定である、無色である、などの特性において複数の特性を充足する。特にインキとして使用する時に安全性の高い溶剤への溶解度に優れている点が挙げられる。また、この重合性液晶化合物を原料として用いて得られる重合体は、適切な光学異方性を有する、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、無色透明である、耐熱性が高い、耐候性に優れる、光弾性が小さい、などの特性において複数の特性を充足する。従って、本発明の重合体は、例えば、液晶表示素子の構成要素である位相差板、偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、輝度向上フィルム、視野角補償膜に利用することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
最初に本発明で用いる用語について説明する。用語「液晶性」の意味は、液晶相を有することだけに限定されない。それ自体は液晶相を持たなくても、他の液晶化合物と混合したときに、液晶組成物の成分として使用できる特性も、液晶性の意味に含まれる。式（１）で表わされる重合性液晶化合物を化合物（１）と表記することがある。他の式で表される化合物についても同様に略称することがある。化学式の記号について説明する際に用いる用語「任意の」は、「元素（または官能基）の位置だけでなくその数においても自由に選択できること」を意味する。そして例えば、「任意のＡがＢ、Ｃ、ＤまたはＥで置き換えられてもよい」という表現は、１つのＡはＢ，ＣおよびＤのいずれか１つで置き換えられてもよく、Ａの任意の２つは、Ｂ、ＣまたはＤの２つで置き換えられてもよく、そしてＡの任意の２つは、ＢとＣ、ＢとＤ、またはＣとＤで置き換えられてもよい。任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよいとするとき、結果として結合基−Ｏ−Ｏ−が生じるような置き換えは含まれない。なお、実施例においては、電子天秤の表示データを質量単位であるｇ（グラム）を用いて示した。重量％や重量部はこのような数値に基づくデータである。
【００１０】
本発明は上記の［１］項と下記の［２］〜［２９］項とで構成される。
［２］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１１】
［３］ Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；そして、ｍが１〜３の整数である、［１］項または［２］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１２】
［４］ Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２である、［１］項または［２］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１３】
［５］ Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１４】
［６］ Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１５】
［７］ 式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１６】
［８］ Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは１〜３の整数であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１７】
［９］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１８】
［１０］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよい炭素数２〜１４のアルキレンである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１９】
［１１］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；Ｑ２が任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；式（２−２）におけるＲａが水素である、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２０】
［１２］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−３）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−３）におけるＲａが水素である、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２１】
［１３］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−４）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−４）におけるＲａがメチルまたはエチルである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２２】
［１４］ 式（１）で表される重合性液晶化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる少なくとも１つの化合物とを含有する重合性液晶組成物：
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは０〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合であり：
ここに、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｎは０〜５の整数であり；ｎが２以上であるとき、環Ａ４の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｑ３およびＱ４は独立して炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒはフッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｐ３およびＰ４は独立して式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり、式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。
【００２３】
［１５］ 式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍが１〜３の整数であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−であり；ｎが１〜３の整数であり；Ｑ３およびＱ４が独立して炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性化合物の割合が５〜９５重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性化合物の群から選ばれる化合物の割合が５〜９５重量％である、［１４］項に記載の重合性液晶組成物。
【００２４】
［１６］ 式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｎが１または２であり；Ｑ３およびＱ４が独立して炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が１０〜９０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が１０〜９０重量％である、［１４］項に記載の重合性液晶組成物。
【００２５】
［１７］ 式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が３０〜８０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が２０〜7０重量％である、［１５］〜［１６］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２６】
［１８］ 式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が４０〜７０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が３０〜６０重量％である、［１４］〜［１６］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２７】
［１９］ 他の重合性液晶化合物をさらに含有する［１４］〜［１８］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２８】
［２０］ 重合性の光学活性化合物をさらに含有する［１４］〜［１９］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２９】
［２１］ 非重合性の液晶性化合物をさらに含有する［１４］〜［２０］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３０】
［２２］ 非重合性の光学活性化合物をさらに含有する［１４］〜［２１］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３１】
［２３］ ［１］〜［１３］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを重合させて得られる重合体を含有する、光学異方性を有するフィルム。
【００３２】
［２４］ ［１４］〜［２２］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方性を有するフィルム。
【００３３】
［２５］ Ａプレートの光学特性を有する、［２３］項または［２４］項に記載の光学異方性を有するフィルム。
【００３４】
［２６］ Ｃプレートの光学特性を有する、［２３］項または［２４］項に記載の光学異方性を有するフィルム。
【００３５】
［２７］ ネガティブＣプレートの光学特性を有する、［２３］項または［２４］項に記載の光学異方性を有するフィルム。
【００３６】
［２８］ Ｏプレートの光学特性を有する、［２３］項または［２４］項に記載の光学異方性を有するフィルム。
【００３７】
［２９］ ［２３］〜［２８］のいずれか１項に記載の光学異方性を有するフィルムを含有する液晶表示素子。
【００３８】
本発明の化合物（１）は、通常使用される条件下において物理的および化学的に極めて安定であり、極性溶剤への溶解度が高いことを特徴とする。本発明の化合物を構成する環、結合基、側鎖を適切に選ぶことによって、光学異方性（Δｎ）や粘度の高低などの調整が適宜できる。本発明の化合物を構成する原子がその同位体であっても同様の特性を示すので好ましく用いることができる。
【００３９】
化合物（１）は重合様式がカチオン重合反応であるため空気中硬化が容易である。単官能性化合物は置換基の選択自由度が高いので、組成物の光学特性および溶剤への溶解度を制御することが出来る。また、２官能性化合物は単官能性化合物に比べてその重合体は、強固なクロスリンク構造が得られることから、耐熱性がより高く、吸水性、透水性およびガス透過性がより低く、機械的強度（特に硬度）がより高い。さらにシクロヘキセンオキシド部位を重合性基に有する化合物はエポキシ化合物に比べ安全性溶媒への溶解度が高いという特徴を有する。安全性溶媒については、例えばＰＧＭＥＡ（ポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート）があるが、これに限定されるものではない。
【００４０】
本発明の重合性液晶化合物は、式（１）で表される。
【００４１】
Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルである。そして、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい。好ましいＡ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい。さらに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであることがより好ましく、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよい。Ａ１およびＡ２の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２−メチル−１，４−フェニレン、３−メチル−１，４−フェニレン、および２，３−ジメチル−１，４−フェニレンである。
Ａ１およびＡ２が共に１，４−フェニレンの場合、融点が高く、透明点が高くなり液晶相の温度領域が広くなる傾向があり、Ａ１およびＡ２の少なくとも一方が１，４−シクロへキシレンの場合、液晶相の温度領域は狭くなる傾向があるが、光学異方性が小さくなる傾向がある。
【００４２】
結合基Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−である。Ｚ１が単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−（ＣＨ２）４−である場合、化合物（１）の粘度が小さくなる傾向がある。Ｚ１が−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＦ＝ＣＦ−である場合、化合物（１）の液晶相の温度範囲が広く、弾性定数比が大きくなる傾向がある。そして、Ｚ１が−Ｃ≡Ｃ−である場合、化合物（１）を重合させて得られるフィルムの光学異方性が大きくなる傾向がある。
【００４３】
ｍは０〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数である。そして、特に好ましいｍは１または２である。ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよい。
【００４４】
Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基である。Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり、式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であることが好ましい。
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲaは、独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルであり、独立して水素、メチルまたはエチルであることが好ましい。Ｐ１およびＰ２が共に式（２−１）で表される重合性基であるとき、化合物（１）の有機溶剤への溶解度が高くなり、化合物（１）を重合させる場合の重合速度に優れる傾向がある。Ｐ２が式（２−３）であるとき化合物（１）を重合させて得られるフィルムの硬度に優れる傾向がある。Ｐ２が式（２−４）で表される重合性基であるとき、化合物（１）は有機溶剤への溶解度に優れ、融点や透明点が下がる傾向がある。
【００４５】
Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。Ｑ１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであることが好ましく、このとき、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。そして、Ｑ１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよい炭素数２〜１４のアルキレンであることがより好ましい。なお、Ｑ１がアルキレンであるとき、分岐のアルキレンよりも直鎖のアルキレンの方が好ましい。
【００４６】
Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合である。Ｑ２は、Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであることが好ましく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであることがより好ましい。Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は前記のようにＱ１と同じように定義される基である。Ｑ１およびＱ２のアルキレンの鎖長が長いと、化合物（１）は広い液晶温度領域を示す傾向があり、アルキレン中に酸素を導入すると、極性溶剤への溶解度がよくなる傾向がある。Ｑ１が−ＣＯＯ−であるとき、化合物（１）は高い液晶温度領域を示す傾向がある。
【００４７】
以上のように、重合性基、環および結合基の種類や、環の数を適宜選択することにより目的の物性を有する化合物（１）を得ることができる。化合物（１）は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）等の成書に記載されている。以下に示すスキームにおいて、特に説明していない記号の意味は前記の通りである。
【００４８】
結合基Ｚ１の合成について、スキーム１〜１３で説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ1およびＭＳＧ2は少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。複数のＭＳＧ1（またはＭＳＧ2）は同一でも異なってもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｌ）は、本発明の化合物（１）に相当する。
【００４９】
＜スキーム１＞ 結合基Ｚ１が単結合の化合物
下記に示すように、アリールホウ酸（Ｓ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｓ２）とを、炭酸塩水溶液中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で反応させることにより化合物（１Ａ）を合成できる。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（Ｓ３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させた後、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で化合物（Ｓ２）とさらに反応させることによっても合成できる。
【００５０】
＜スキーム２＞ 結合基Ｚ１が−ＣＨ＝ＣＨ−の化合物
下記に示すように、公知の方法で合成されるホスホニウム塩（Ｓ５）にカリウムｔ−ブトキシドなどの塩基を添加して発生させたリンイリドを、アルデヒド（Ｓ４）に反応させることにより化合物（１Ｂ）を合成できる。反応条件や基質によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
【００５１】
＜スキーム３＞ 結合基Ｚ１が−ＣＨ２ＣＨ２−の化合物
下記に示すように、化合物（１Ｂ）をパラジウム炭素などの触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｃ）を合成できる。
【００５２】
＜スキーム４＞ 結合基Ｚ１が−ＣＦ２ＣＦ２−の化合物
下記に示すように、J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414 に記載された方法に従い、フッ化水素触媒の存在下、ジケトン（Ｓ６）を四フッ化硫黄でフッ素化することにより、−（ＣＦ2）2−を有する化合物（１Ｄ）を合成できる。
【００５３】
＜スキーム５＞ 結合基Ｚ１が−（ＣＨ２）４−の化合物
下記に示すように、スキーム２の方法に従って、ホスホニウム塩（Ｓ５）の代わりにホスホニウム塩（Ｓ７）を用いて−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を合成し、これを接触水素化することにより化合物（１Ｅ）を合成できる。
【００５４】
＜スキーム６＞ 結合基Ｚ１が−ＣＨ２Ｏ−または−ＯＣＨ２−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ４）を水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で還元して化合物（Ｓ８）を得る。これを臭化水素酸等でハロゲン化して化合物（Ｓ９）を得る。次いで、炭酸カリウム等の存在下で、化合物（Ｓ９）を化合物（Ｓ１０）と反応させることにより化合物（１Ｆ）を合成できる。この方法によって−ＣＨ２Ｏ−を有する化合物も合成できる。
【００５５】
＜スキーム７＞ 結合基Ｚ１が−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−の化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで二酸化炭素を反応させてカルボン酸（Ｓ１１）を得る。化合物（Ｓ１１）とフェノール（Ｓ１０）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｇ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成できる。また、（Ｓ１１）に塩化チオニルまたはオキザリルクロリドなどを作用させ、酸クロリド化合物に誘導し、ピリジンまたはトリエチルアミンなどの塩基存在下、（Ｓ１０）を作用させることにより（１Ｇ）を合成することもできる。
【００５６】
＜スキーム８＞ 結合基Ｚ１が−ＣＦ＝ＣＦ−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（Ｓ１２）を得る。次いで、化合物（Ｓ２）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、化合物（Ｓ１２）と反応させことにより化合物（１Ｈ）を合成できる。反応条件を選択することで、シス体の化合物（１Ｈ）を製造することもできる。
【００５７】
＜スキーム９＞ 結合基Ｚ１が−Ｃ≡Ｃ−の化合物
下記に示すように、ジクロロパラジウムおよびハロゲン化銅の触媒存在下、化合物（Ｓ１２）を化合物（Ｓ２）と反応させることにより、化合物（１Ｉ）を合成できる。
【００５８】
＜スキーム１０＞ 結合基Ｚ１が−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ１２）をｎ−ブチルリチウムでリチオ化した後、二酸化炭素を作用させてカルボン酸（Ｓ１３）を得る。次いで、カルボン酸（Ｓ１３）とフェノール（Ｓ１０）とを、ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で脱水させることにより、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−を有する化合物（Ｊ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−を有する化合物も合成できる。また、スキーム７において（Ｓ１１）から（１Ｇ）に誘導したように、酸クロリド化合物経由で（１Ｊ）を合成することもできる。
【００５９】
＜スキーム１１＞ 結合基Ｚ１が−ＣＦ2Ｏ−または−ＯＣＦ2−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（１Ｇ）をローソン試薬などの硫黄化剤で処理して化合物（Ｓ１４）を得る。次いで、フッ化水素ピリジン錯体およびＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）を用いて化合物（Ｓ１４）をフッ素化することにより、−ＣＦ2Ｏ−を有する化合物（１Ｋ）を合成できる。また、化合物（Ｓ１４）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化することによっても化合物（１Ｋ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＦ2−を有する化合物も合成できる。P. Kirsch et al., Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によって、これらの結合基を生成させることも可能である。
【００６０】
【００６１】
重合性基の導入方法において、スキーム１２および１３で説明する。これらのスキームにおいて、ＭＳＧは少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。複数のＭＳＧは同一でも異なってもよい。Ｙは炭素数１〜２１のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素がフッ素または塩素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。そして、Ｐは前記の式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基である。化合物（１Ｌ）は、本発明の化合物（１）に相当する。
【００６２】
＜スキーム１２＞ 重合性基から導入する場合
下記に示すように、ジオール（Ｔ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｔ２）とを水素化ナトリウムなどの塩基を用いて反応させることによりモノエーテル体（Ｔ３）を合成する。これをｐ−トルエンスルホン酸クロライド等でトシル化し（Ｔ４）を得る。次いで炭酸カリウム等の塩基を用いトシレート（Ｔ４）と（Ｓ１０）とを反応させることにより化合物（１Ｌ）を合成できる。この化合物は、公知の方法で合成される化合物（Ｔ５）と重合性基のアルコール体（Ｔ６）とを水酸化ナトリウムなどの塩基を用いて反応させることによりモノエーテル体（Ｔ７）を得、次いで炭酸カリウム等の塩基を用いてモノエーテル誘導体（Ｔ７）と（Ｓ１０）とを反応させることによっても合成できる。
【００６３】
【００６４】
＜スキーム１３＞ 重合性基を後から導入する場合
下記に示すように、（Ｓ１０）と公知の方法で合成される化合物（Ｔ８）とを炭酸カリウムなどの塩基を用いて反応させることにより、モノエーテル体（Ｔ９）を合成できる。次いでモノエーテル体（Ｔ９）と（Ｔ２）とを水酸化ナトリウムなどの塩基を用いて反応させることにより化合物（１Ｌ）を合成できる。
【００６５】
化合物（１）は、上記の方法を適宜組み合わせることにより合成することができるが、上記の方法に必ずしも制限されない。上記のような方法で合成される化合物の例を以下に示す。なお、上記のようにして合成された化合物の構造は、例えば、プロトンＮＭＲスペクトルにより確認することができる。
【００６６】
【００６７】
【００６８】
【００６９】
【００７０】
【００７１】
【００７２】
【００７３】
【００７４】
【００７５】
【００７６】
【００７７】
【００７８】
【００７９】
【００８０】
【００８１】
【００８２】
【００８３】
【００８４】
次に、本発明の重合性液晶組成物について説明する。本発明の組成物は化合物（１）の少なくとも１つを含有する。また、本発明の組成物は化合物（１）の少なくとも１つと化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物を含有してもよい。化合物（Ｍ１）は、広い液晶相発現性を示すとともに、構造中に２つの重合性基を有するため、３次元網目構造を形成することができ、高い機械的強度を有する重合体の形成が可能となる。化合物（Ｍ２）は１つの重合性基を有し、分子長軸方向において、この重合性基の反対側に極性基などの置換基を有するので、液晶状態での配向制御の調整が可能となる。化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）のいずれにおいても、環Ａ３が１，４−フェニレンの場合は高い光学異方性（Δｎ）を有する組成物を、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルの場合はさらに高い光学異方性（Δｎ）を有する組成物を、１，４−シクロヘキシレンの場合は低い光学異方性（Δｎ）を有する組成物を調製することができる。
【００８５】
化合物（Ｍ１）および（Ｍ２）の好ましい例として、それぞれ以下に示す化合物が挙げられる。
【００８６】
【００８７】
【００８８】
【００８９】
【００９０】
【００９１】
これらの化合物において、Ｑ３およびＱ４は前記の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）中のＱ３およびＱ４と同義であり、Ｐ３およびＰ４は独立して前記の式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される基である。
【００９２】
以下の説明においては、化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）を総称して化合物（Ｍ）と表記する。本発明の重合性液晶組成物は、化合物（１）の少なくとも１つを含有する。また、本発明の重合性液晶組成物は、化合物（１）の少なくとも１つと化合物（Ｍ）の少なくとも１つとを含有してもよい。本発明の重合性液晶組成物における化合物（１）の好ましい含有割合は、化合物（１）と化合物（Ｍ）の合計量を基準として５〜９５重量％である。より好ましい割合は１０〜９０重量％であり、さらに好ましい割合は３０〜８０重量％であり、特に好ましい割合は４０〜７０重量％である。化合物（Ｍ）の好ましい含有割合は、化合物（１）と化合物（Ｍ）の合計量を基準として５〜９５重量％である。より好ましい割合は１０〜９０重量％であり、さらに好ましい割合は２０〜７０重量％であり、特に好ましい割合は３０〜６０重量％である。本発明の重合性液晶組成物は、重合性化合物として化合物（１）と化合物（Ｍ）とを含むが、その他の重合性化合物をさらに含んでもよい。この重合性液晶組成物は、非重合性化合物、添加物、溶剤などを含んでもよい。非重合性化合物の例は、液晶性化合物のデータベースであるリクリスト（LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany）に記載されている化合物である。添加物の例は、非イオン性界面活性剤、光カチオン重合開始剤、光ラジカル重合開始剤、熱硬化剤、光増感剤などである。
【００９３】
本発明の重合性液晶組成物は重合性基を持たない非重合性の液晶性化合物を含有してもよい。このような非重合性の液晶性化合物の例は、液晶性化合物のデータベースであるリクリスト（LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany）に記載されている。このような重合性液晶組成物は、二色性色素等の添加物をさらに含有してもよい。光学異方性の制御が容易で、良好な塗布性を有する重合性液晶組成物を得、かつ、本発明の重合体の効果を顕著に発現させるために、重合性液晶組成物中の非重合性の液晶性化合物の含有量は、化合物（１）とその他の重合性化合物の合計量１００重量％に対し、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下である。
【００９４】
非重合性の液晶化合物としては、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物を上げることが出来る。
［式（Ａ）中、Ａ４およびｎはそれぞれ前記式（Ｍ１）中のＡ４およびｎと同義であり、ＺＡは独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、ＲＡは炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３である。］
以下に、具体例を示す。
【００９５】
【００９６】
【００９７】
【００９８】
皮膜形成性、機械的強度などを調整する目的で非液晶性の重合性化合物を添加することができる。好ましい非液晶の重合性化合物の例は、（メタ）アクリレート化合物、ビニル化合物、スチレン化合物、ビニルエーテル化合物、アリルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物である。
【００９９】
非液晶性の重合性化合物の好ましい例は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル、２，２−ジメチルブタン酸ビニル、２，２−ジメチルペンタン酸ビニル、２−メチル−２−ブタン酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、２−エチル−２−メチルブタン酸ビニル、Ｎ−ビニルアセトアミド、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸ビニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸ビニル、安息香酸ビニル、スチレン、ｏ−、ｍ−またはｐ−クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン、テトラフルオロエチレン、およびヘキサフルオロプロペンであり、さらに、エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセリンモノアリルエーテル、およびアリルグリシジルエーテルである。組成物の粘度調整あるいは硬化収縮を小さくする目的で３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、ジ（１−エチル（３−オキセタニル））メチルエーテル、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタンなどを添加してもよい。
【０１００】
重合体の被膜形成能をより高めるために、多官能アクリレートを組成物に添加することができる。好ましい多官能アクリレートは、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ付加トリアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、トリスアクリロキシエチルフォスフェート、ビスフェノールＡ ＥＯ付加ジアクリレート、ビスフェノールＡグリシジルジアクリレート（大阪有機化学株式会社製、商品名：ビスコート７００）、およびポリエチレングリコールジアクリレートである。
【０１０１】
重合体の被膜形成能をより高めるために、多官能カチオン重合基を有する化合物を組成物に添加することもできる。好ましい化合物の例として下記の化合物（５−１）〜（５−９）も挙げることができる。これらの化合物は本発明の重合性液晶組成物に添加して粘度の調整、配向の調整、または重合体の硬度をより大きくするために用いられることがある。
【０１０２】
【０１０３】
【０１０４】
これらの化合物において、Ｑ５は独立して炭素数２〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素がフッ素または塩素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、Ｐ５は独立して前記の式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される基である。
【０１０５】
重合性化合物のその他の例としては、重合性基を１つ有するエポキシ系化合物、および重合性基を２つ以上有するエポキシ系化合物もある。組成物に添加してよいエポキシ系化合物として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂等の２価のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン− フェノール変性型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等の３ 価以上のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ 型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪酸系エポキシ樹脂、脂環式系エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。またこれらのエポキシ系化合物は単独で用いてもよく、２種以上を混合してもよい。
【０１０６】
エポキシ系化合物の具体的な例は、炭素数２〜２５のアルキルモノグリシジルエーテル（例えば、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル）、ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ドデカンジオールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、レゾルシングリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、テトラフルオロプロピルグリシジルエーテル、オクタフルオロプロピルグリシジルエーテル、ドデカフルオロペンチルグリシジルエーテル、スチレンオキシド、１，７−オクタジエンジエポキシド、リモネンジエポキシド、リモネンモノオキシド、α−ピネンエポキシド、β−ピネンエポキシド、シクロヘキセンエポキシドシクロオクテンエポキシド、ビニルシクロヘキセンオキシド、ブトキシポリエチレングリコールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキセニルエチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、１−エポキシエチル−３，４−エポキシシクロヘキサン、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシド、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、フタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、トリス（２，３−エポキシプロピル）イソシアヌレート、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、ジ（１−エチル（３−オキセタニル））メチルエーテル、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタンである。さらに、上記のエポキシ系化合物の他に、エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエーテルなどのビニル系化合物も挙げることができる。
【０１０７】
非イオン性界面活性剤の好ましい例はフッ素系の非イオン性界面活性剤、シリコーン系の非イオン性界面活性剤および炭化水素系の非イオン性界面活性剤である。フッ素系の非イオン性界面活性剤の例は、ＢＹＫ−３４０、フタージェント２５１、フタージェント２２１ＭＨ、フタージェント２５０、ＦＴＸ−２１５Ｍ、ＦＴＸ−２１８Ｍ、ＦＴＸ−２３３Ｍ、ＦＴＸ−２４５Ｍ、ＦＴＸ−２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、フタージェント２２２Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０６Ｄ、フタージェント２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−７２０Ｃ、ＦＴＸ−７４０Ｃ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＫＢ−Ｌ８２、ＫＢ−Ｌ８５、ＫＢ−Ｌ９７、ＫＢ−Ｌ１０９、ＫＢ−Ｌ１１０、ＫＢ−Ｆ２Ｌ、ＫＢ−Ｆ２Ｍ、ＫＢ−Ｆ２Ｓ、ＫＢ−Ｆ３Ｍ、およびＫＢ−ＦａＭである。
【０１０８】
シリコーン系の非イオン性界面活性剤の例は、ポリフローＡＴＦ―２、グラノール１００、グラノール１１５、グラノール４００、グラノール４１０、グラノール４３５、グラノール４４０、グラノール４５０、グラノールＢ−１４８４、ポリフローＫＬ−２５０、ポリフローＫＬ−２６０、ポリフローＫＬ−２７０、ポリフローＫＬ−２８０、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−３５００、ＢＹＫ−３５１０、およびＢＹＫ−３５７０である。炭化水素系の非イオン性界面活性剤の例は、アクリル系ポリマーを主成分としたポリフローＮｏ．３、ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ、ポリフローＮｏ．５４Ｎ、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．７７、ポリフローＮｏ．８５ＨＦ、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２、およびＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００である。
【０１０９】
なお、上記のポリフローおよびグラノールはどちらも共栄社化学（株）から販売されている商品の名称である。ＢＹＫはビックケミー・ジャパン（株）から販売されている商品の名称である。フタージェント、ＦＴＸおよびＫＢは（株）ネオスから販売されている商品の名称である。
界面活性剤は、前記以外のタイプの界面活性剤を必要に応じて使用してもよい。具体的には、ポリエーテル系化合物、アクリル酸共重合物系化合物、チタネート系化合物、イミダゾリン、４級アンモニウム塩、アルキルアミンオキシド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族または芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物、ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等の種々の化合物を用いることができる。これらの界面活性剤は、組成物を支持基板などに塗布するのを容易にするなどの効果を有する。
【０１１０】
本発明の組成物には光カチオン重合開始剤を添加してよい。光カチオン重合開始剤には、ジアリールヨードニウム塩（以下ＤＡＳと略す）、トリアリールスルホニウム塩（以下ＴＡＳと略す）などがあげられる。ＤＡＳとしては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートがあげられる。
【０１１１】
ＤＡＳには、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセン、ルブレンなどの光増感剤を添加することで高感度化することもできる。
【０１１２】
ＴＡＳとしては、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０１１３】
光カチオン重合開始剤の具体的な商品名として、ＵＣＣの製品のサイラキュアーＵＶＩ−６９９０、サイラキュアーＵＶＩ−６９７４およびサイラキュアーＵＶＩ−６９９２、旭電化工業（株）の製品のアデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５２、ＳＰ−１７０およびＳＰ−１７２、ローディア（株）の製品のPHOTOINITIATOR２０７４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）の製品のイルガキュアー２５０、ＧＥシリコンズの製品のＵＶ−９３８０Ｃ、サンアプロ（株）の製品のＨＳシリーズ、ＣＰＩシリーズの他、みどり化学（株）のＴＰＳシリーズ、ＴＡＺシリーズ、ＤＰＩシリーズ、ＢＰＩシリーズ、ＭＤＳシリーズ、ＤＴＳシリーズ、ＳＩシリーズ、ＰＩシリーズ、ＮＤＩシリーズ、ＰＡＩシリーズ、ＮＡＩシリーズ、ＮＩシリーズ、ＤＡＭシリーズ、ＭＢＺシリーズ、ＰＹＲシリーズ、ＤＮＢシリーズ、ＮＢシリーズ等を挙げることができる。
【０１１４】
本発明の組成物は光カチオン重合開始剤と組み合わせ、光ラジカル重合開始剤を添加してハイブリッド硬化することもできる。光ラジカル重合開始剤の例は、チバ・スペシャリティー・ケミカル（株）の製品のうちから、ダロキュアー１１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン）、イルガキュアー１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、イルガキュアー６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン）、イルガキュアー５００、イルガキュアー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー１３００、イルガキュアー８１９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５０、ダロキュアー４２６５、イルガキュアー７８４である。
【０１１５】
光ラジカル重合開始剤のその他の例は、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物、ベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物である。
本発明では、熱重合開始剤を添加してもよい。具体的な商品名の例は、三新化学工業（株）の製品のサンエイド（主剤） ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−１６０、ＳＩ−１８０、およびサンエイド（助剤）ＳＩである。これらは光ラジカル開始剤および光カチオン重合開始剤と共に使用してもよく、あるいは光ラジカル開始剤と共に使用してもよい。
【０１１６】
本発明の重合性液晶組成物は、熱硬化剤を含有しても良い。熱硬化剤としてはアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、などを有する酸性あるいは塩基性の化合物、フェノール部位を有する化合物または酸無水物部位を有する化合物などである。より好ましくは、アミノ基を有する塩基性の化合物、フェノールを有する化合物および酸無水物を有する化合物である。これらは、光カチオン重合開始剤または光ラジカル開始剤と共に使用してもよい。
【０１１７】
アミノ基を有する熱硬化剤の例は、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ｍ−キシレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、２−メチルペンタメチレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、イソフォロンジアミン、１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ノルボルネンジアミン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、ラロミン、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォン、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン、ポリシクロヘキシルポリアミン混合物、Ｎ−アミノエチルピペラジンである。
【０１１８】
フェノール基を有する熱硬化剤の例は、フェノールノボラック、キシリレンノボラック、ビスフェノールＡノボラック、トリフェニルメタンノボラック、ビフェニルノボラック、ジシクロペンタジエンフェノールノボラック、テルペンフェノールノボラックである。
【０１１９】
酸無水物を有する熱硬化剤の例は、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、水素化メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、ドデセニル無水コハク酸、脂肪族二塩基酸ポリ無水物、クロレンド酸無水物である。
【０１２０】
本発明の重合性液晶組成物は、光増感剤を含有してもよい。光増感剤の例はチオキサントン誘導体、アントラキノン誘導体およびナフトキノン誘導体であり、好ましい例は次に示す化合物（Ｚ−１）〜化合物（Ｚ−６）である。特に好ましい光増感剤は化合物（Ｚ−１）および化合物（Ｚ−２）である。光増感剤は１種類で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。
ここに、ＲＺは独立して炭素数１〜１０の直鎖状のアルキルである。
【０１２１】
化合物（Ｚ−１）においてＲＺがｎ−ブチルである化合物は、川崎化成工業（株）のANTHRACURE UVS-1331として入手できる。化合物（Ｚ−２）は川崎化成工業（株）のANTHRACURE ET-2111として入手できる。化合物（Ｚ−３）はLambsonのSpeedcure CTXとして入手できる。化合物（Ｚ−４）はシェル化学（株）のQuantacure ITXとして入手できる。化合物（Ｚ−５）は日本化薬（株）のKAYACURE DETX-Sとして入手できる。化合物（Ｚ−６）はLambsonのSpeedcure CPTXとして入手できる。
【０１２２】
ＤＡＳと光増感剤を組み合わせて用いることにより、光に対する感度が向上する。ＤＡＳと光増感剤の好ましい混合比は、ＤＡＳ１００重量部に対して光増感剤１０〜２００重量部である。さらに好ましい混合比はＤＡＳ１００重量部に対して光増感剤２０〜１００重量部である。重合性液晶組成物の耐候性を更に向上させるために、紫外線吸収剤、光安定剤（ラジカル捕捉剤）および酸化防止剤等を添加してもよい。紫外線吸収剤の例は、チヌビンＰＳ、チヌビンＰ、チヌビン９９−２、チヌビン１０９、チヌビン２１３、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２８、チヌビン３２９、チヌビン３８４−２、チヌビン５７１、チヌビン９００、チヌビン９２８、チヌビン１１３０、チヌビン４００、チヌビン４０５、チヌビン４６０、チヌビン４７９、チヌビン５２３６、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３４、アデカスタブＬＡ−３６、アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブ１４１３、およびアデカスタブＬＡ−５１である。「チヌビン」はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の商品名であり、「アデカスタブ」は旭電化（株）の商品名である。
【０１２３】
光安定剤の例は、チヌビン１１１ＦＤＬ、チヌビン１２３、チヌビン１４４、チヌビン１５２、チヌビン２９２、チヌビン６２２、チヌビン７７０、チヌビン７６５、チヌビン７８０、チヌビン９０５、チヌビン５１００、チヌビン５０５０、５０６０、チヌビン５１５１、キマソーブ１１９ＦＬ、キマソーブ９４４ＦＬ、キマソーブ９４４ＬＤ、アデカスタブＬＡ−５２、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７、サイテック社製のサイアソーブＵＶ−３３４６、およびグッドリッチ社のグッドライトＵＶ−３０３４である。「キマソーブ」はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の商品名である。
【０１２４】
酸化防止剤の例は、旭電化社製のアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、住友化学（株）から販売されているスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、およびスミライザーＧＡ−８０、並びにチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）から販売されているＩｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、およびＩｒｇａｎｏｘ２４５である。これらの市販品を用いてもよい。
【０１２５】
本発明の組成物は、光による塩基増殖反応を利用して硬化させることもできる（K.Arimitsu, M.Miyamoto, K.Ichimura, Angew. Chem. Int. Ed, 2000, 39, 3425）。
【０１２６】
本発明の重合性液晶組成物は、前記のように溶剤を含有してもよい。通常は、上記で説明した各成分を溶剤に溶解させて重合性液晶組成物を調製する。塗布を容易にするために、この重合性液晶組成物をさらに溶剤で希釈して、重合性液晶組成物の粘度を調整してもよい。溶剤は単独でも使用できるし、２つ以上を混合して使用してもよい。溶剤の例はエステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤および脂環式炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、およびアセテート系溶剤である。
【０１２７】
エステル系溶剤の好ましい例は、酢酸アルキル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチルおよび酢酸イソペンチル）、トリフルオロ酢酸エチル、プロピオン酸アルキル（例：プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピルおよびプロピオン酸ブチル）、酪酸アルキル（例：酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イソブチルおよび酪酸プロピル）、マロン酸ジアルキル（例：マロン酸ジエチル）、グリコール酸アルキル（例：グリコール酸メチルおよびグリコール酸エチル）、乳酸アルキル（例：乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸イソプロピル、乳酸n-プロピル、乳酸ブチルおよび乳酸エチルヘキシル）、モノアセチン、γ−ブチロラクトンおよびγ−バレロラクトンである。
【０１２８】
アミド系溶剤の好ましい例は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびジメチルイミダゾリジノンである。
【０１２９】
アルコール系溶剤の好ましい例は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ブタノール、２−エチルブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、１−ドデカノール、エチルヘキサノール、３、５、５−トリメチルヘキサノール、ｎ−アミルアルコール、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−３−メトキシブタノール、シクロヘキサノールおよびメチルシクロヘキサノールである。
【０１３０】
エーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ビス（２−プロピル）エーテル、１，４−ジオキサンおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
【０１３１】
グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノアルキルエーテル（例：エチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテル）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテル）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：プロピレングリコールモノブチルエーテル）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル）、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、およびジエチレングリコールメチルエチルエーテルである。
【０１３２】
芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ｉ−プロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベンゼン、ｎ−ブチルベンゼン、およびテトラリンである。ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例はクロロベンゼンである。脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ヘキサンおよびヘプタンである。ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレンおよびテトラクロロエチレンである。脂環式炭化水素系溶剤の好ましい例は、シクロヘキサンおよびデカリンである。
【０１３３】
ケトン系溶剤の好ましい例は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、およびメチルプロピルケトンである。
【０１３４】
アセテート系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸メチル、および１−メトキシ−２−プロピルアセテートである。このような溶剤の中でも、安全性の高い有機溶剤への溶解度が高いことは非常に重要である。この溶剤の例は、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、２−へプタノン、酢酸ブチル、３-メトキシプロピオン酸メチル、３-エトキシプロピオン酸メチル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートである。
【０１３５】
重合性液晶化合物の溶解度の観点からは、アミド系溶剤、芳香族炭化水素系、ケトン系溶剤の使用が好ましく、溶剤の沸点を考慮すると、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤が好ましい。溶剤の選択に関して特に制限はないが、支持基材としてプラスチック基板を用いる場合は、基板の変形を防ぐために乾燥温度を低くすること、および溶剤が基板を侵食しないようにする必要がある。このような場合に好ましく用いられる溶剤の例は、芳香族炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、アセテート系溶剤、およびグリコールモノアルキルエーテル系溶剤である。また、これら溶剤の中でも、安全性の高い有機溶剤への溶解度が高いことは非常に重要である。安全性の高い有機溶剤の例は、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、２−へプタノン、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートである。
【０１３６】
本発明の重合性液晶組成物における溶剤の割合は０〜９５重量％であるが、重合性液晶化合物の相溶性およびこの溶液を塗布する際のその最適粘度を考慮し、さらに溶剤コストおよび溶剤を蒸発させる際の時間や熱量といった経済的観点を考慮すると、４０〜９５重量％であることが好ましい。より好ましい割合は４５〜９０％であり、さらに好ましい割合は５０〜８５％である。
【０１３７】
本発明の重合性液晶組成物において、液晶分子の配向を決定する因子は、１）組成物に含有される化合物の種類、２）支持基板の種類、３）配向処理の方法、などである。好ましい配向処理の方法は酸化ケイ素を斜方蒸着させる、スリット状にエッチング加工する、などの方法である。特に好ましい配向処理の方法はレーヨン布などで一方向にこする（ラビング）である。ラビング処理においては、支持基板を直接的にラビングしてもよい。支持基板をポリイミド、ポリビニルアルコールなどの薄膜でコーティングし、この薄膜をラビングしてもよい。ラビング処理をしなくても、良好な配向を与える特殊な薄膜も知られている。あるいは側鎖型の液晶ポリマーを支持基板にコーティングしてもよい。
【０１３８】
液晶分子における配向の分類は、ホモジニアス（homogenerous；平行）、ホメオトロピック（homeotropic；垂直）、ハイブリッド（hybrid）などである。ホモジニアスは、配向ベクトルが基板に平行で、かつ一方向にある状態をいう。ホメオトロピックは、配向ベクトルが基板に垂直である状態をいう。ハイブリッドは、配向ベクトルが基板から離れるにつれて、平行から垂直に立ちあがっている状態をいう。これらの配向は、ネマチック相などを有する組成物で観察される。
【０１３９】
液晶分子の配向状態を固定化することで、さまざまな光学特性を有するフィルムが得られる。このフィルムは厚さ方向にｚ軸、フィルム面上で直交方向にｘ軸とｙ軸をとり、ｘ軸方向、ｙ軸方向、ｚ軸方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした３次元の屈折率を表す屈折率楕円体として光学異方性を表現できる。ホモジニアス配向を有する重合体は、光軸の方向がｎｘ方向にあり、光軸方向の屈折率がその直交する方向の屈折率より大きいため、３次元屈折率の関係をｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚと表すことが出来るＡプレートに分類される。ホメオトロピック配向を有する重合体は、光軸の方向がｎｚ方向にあり、光軸方向の屈折率がその直交する方向の屈折率より大きいため、３次元屈折率の関係をｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚと表すことが出来るＣプレートに分類される。ハイブリッド配向を有する重合体は、Ｏプレートの光学特性を有する。例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）モードの素子における視野角補償板に応用できる。
【０１４０】
本発明の重合性液晶組成物は光学活性化合物を含有してもよい。光学活性化合物を適当量添加して得られた組成物を、配向処理した基板上に塗布して重合することによって、らせん構造（ツイスト構造）を示す位相差板が得られる。化合物（１）の重合によって、このらせん構造が固定される。得られた光学異方性を有する成形体の特性は、らせん構造のらせんピッチに依存する。このらせんピッチ長は、光学活性化合物の種類および添加量により調整できる。添加する光学活性化合物は１つでもよいが、らせんピッチの温度依存性を相殺する目的で複数の光学活性化合物を用いてもよい。
【０１４１】
上記のような光学異方性を有する成形体の特性である可視光の選択反射は、らせん構造が入射光に作用し、円偏光や楕円偏光を反射させるものである。選択反射特性はλ＝ｎ・Pitch（λは選択反射中心波長、ｎは光学異方性を有する成形体の平均屈折率、Pitchはらせんピッチ）で表されるため、ｎまたはPitchによりλおよびその帯域（Δλ）を適宜調整することができる。らせんのピッチが光の波長の１／ｎであれば、その波長を有する光のうち、らせんの向きに応じて左右いずれかの円偏光をブラッグの法則に従い選択的に反射することができる。これは、例えば、円偏光分離機能素子として使用できる。らせんの向きは光学活性化合物の立体配置に依存する。光学性化合物の立体配置を適時選択することで所望のらせん方向を誘起できる。例えば特開平６−２８１８１４公報に開示された方法に従えば、らせんピッチが光学異方性を有する成形体の厚さ方向に連続的に変化する成形体が得られ、ピッチに応じた波長領域の光を反射することができる。そして、色純度を良くするにはΔλを小さくすればよいし、広帯域の反射を所望する際にはΔλを大きくすればよい。さらにこの選択反射はセル厚の影響も大きく受ける。色純度を保つためには、セル厚が小さくなりすぎないようにしなければならない。配向の均一性を保つためには、セル厚が大きくなりすぎないようにしなければならない。したがって、適度なセル厚の調整が必要であり、０．５〜２５μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
【０１４２】
らせんピッチを可視光よりさらに短くすることで、W. H. de Jeu, Physical Properties of Liquid Crystalline Materials, Gordon and Breach, New York（1980）に記載のネガティブ型Ｃプレート（Ｃ−ｐｌａｔｅ）を調製できる。らせんピッチを短くするためには、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）の大きな光学活性化合物を用い、さらにその添加量を増やすことで達成できる。具体的にはλを３５０ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下とすることで、ネガティブ型Ｃプレートを調製できる。このネガティブ型Ｃプレートは液晶表示素子のうちＶＡＮ型、ＶＡＣ型、ＯＣＢ型等の表示素子に適した光学補償膜となる。
【０１４３】
上記光学活性化合物は、らせん構造を誘起し、ベースとなる重合性液晶組成物と適切に混合できれば、いずれの光学活性化合物を用いてもよい。また、重合性化合物でも非重合性化合物のいずれでもよく、目的に応じて最適な化合物を添加することができる。耐熱性および耐溶媒性を考慮した場合、重合性化合物の方が好適である。光学活性を発現する骨格として不斉炭素を１つもしくは複数有するアルキレン、アルケニレンまたは、以下の部分構造を有するものなどがある。
さらに上記光学活性化合物の中でも、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）が大きいものは、らせんピッチを短くする上では好適である。ねじり力の大きな化合物の代表例が、ＧＢ２２９８２０２号公報、ＤＥ１０２２１７５１号公報で開示されている。
【０１４４】
下記に光学活性を有する重合性化合物のより好ましい例を挙げる。しかし、これに限定されるものではない。
【０１４５】
【０１４６】
これらの化合物において、Ｑ６は独立して炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、Ｐ６は独立して前記の式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される基である。
【０１４７】
次に、本発明の組成物の重合条件について説明する。本発明の重合性液晶組成物を重合させることによって重合体が得られる。優れた配向の重合体を得るときは、熱重合よりも光重合触媒を用いた重合が好ましい。組成物が液晶である条件下で、重合を行わせるのが容易だからである。
【０１４８】
光重合に用いられる好ましい光の種類は、紫外線、可視光線、赤外線などである。電子線、Ｘ線などの電磁波を用いてもよい。通常は、紫外線または可視光線が好ましい。好ましい波長の範囲は１５０〜５００ｎｍである。さらに好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、最も好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源は、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などである。好ましい光源は超高圧水銀ランプである。光源からの光はそのまま組成物に照射してもよい。フィルターによって選択した特定の波長（または特定の波長領域）を組成物に照射してもよい。好ましい照射エネルギー密度は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2である。さらに好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2である。特に好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。好ましい照度は０．１〜５０００ｍＷ/ｃｍ２である。さらに好ましい照度は１〜２０００ｍＷ/ｃｍ２である。組成物が液晶相を有するように、光を照射するときの温度を設定する。好ましい照射温度は１００℃以下である。１００℃以上の温度では熱による重合が起こりうるので、良好な配向が得られないときがある。
【０１４９】
次に、本発明の重合体について説明する。
化合物（１）を重合させることにより重合体が得られる。化合物（１）の１つのみを重合させると、単独重合体が得られる。この重合体は１つの構成単位からなる。少なくとも２つの化合物（１）を含有する組成物を重合させると、共重合体が得られる。この共重合体は少なくとも２つの構成単位を有する。本発明の目的とする光学異方性を有するフィルムの製造には、配向した液晶状態での重合が望ましいので、光カチオン重合法がとくに好ましい重合法である。化合物（１）を重合させることにより得られる重合体は、無色透明である、光弾性（photoelasticity）が小さい、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、耐熱性が大きい、耐候性が大きい、などの特性において、複数の特性を充足する。
【０１５０】
この重合体の用途は次のとおりである。この重合体は、光学異方性を有する成形体として使用できる。この重合体の用途の例は、位相差板（１／２波長板、１／４波長板など）、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜などの光学フィルムである。ホモジニアス、ハイブリット、ホメオトロピック、ツイストなどの配向を有する重合体は、位相差板、偏光素子、液晶配向膜、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜、などに利用できる。このような重合体は、液晶表示素子の位相差板や視野角補償膜などに、光学補償を目的として用いられる。産業上の重要な用途の例は、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＴＮモード、ＭＶＡモードなどの液晶表示素子における視野角補償である。
【０１５１】
この重合体の応用用途には以下のようなものがある。
この重合体は、高熱伝導性エポキシ樹脂、接着剤、強度、弾性率、のび率などの機械的性質の異方性を持つ合成高分子、化粧品、装飾品、非線形光学材料および情報記憶材料などにも利用できる。これらの用途では熱可塑性樹脂が利用できる。この熱可塑性樹脂は分岐の進んでいない線状の高分子であり、単官能性化合物を主体とする本発明の液晶組成物を重合することにより得られる。これらの重量平均分子量は５００〜１，０００，０００であり、好ましくは１，０００〜５００，０００、より好ましくは５，０００〜１００，０００である。
【０１５２】
重合体の用途の一例である位相差板は偏光の状態を変換する機能を有する。１／２波長機能板は、直線偏光の振動方向を９０度回転させる機能を有する。ｄ＝λ／２×Δｎの式を満たすように組成物を支持基板上に塗布する。ここで、ｄは組成物の厚さ、λは波長、Δｎは光学異方性である。この組成物の配向させたあと、光重合させることによって１／２波長機能板が得られる。一方、１／４波長機能板は、直線偏光を円偏光に、または円偏光を直線偏光に変換する機能を有する。この場合には、ｄ＝λ／４×Δｎの条件を満たすように組成物の塗膜を調製すればよい。重合体の厚さ（ｄ）は次のように調整される。組成物を溶剤で希釈したあと、支持基板上に塗布する方法では、組成物の濃度、塗布する方法、塗布する条件などを適切に選択することによって、目的とする厚さの塗膜を得ることができる。液晶セルを利用する方法も好ましい。液晶セルはポリイミドなどの配向膜を有しているので都合がよい。この液晶セルに組成物を注入する場合には、液晶セルの間隔によって塗膜の厚さを調整することができる。
【０１５３】
光重合と熱重合とを組み合わせることで、パターン化された位相差板を提供することも出来る。重合性液晶組成物を支持基板上に塗布し、配向させたのち、フォトマスクを介して光を照射することで、照射部分のみを光重合させる。次いで、この重合体を加熱することにより、未硬化部分は配向性の乱れや等方相への転移による光学異方性の低下や欠如を引き起こす。未硬化部分は熱重合させることでパターン化された位相差板を調製することができる。
【０１５４】
重合体の形状は、フィルム、板、粒、粉末などである。重合体は成形されてもよい。フィルムの重合体を得るには、支持基板が一般的に用いられる。支持基板の上に組成物を塗布し、液晶相を有している塗膜（paint film）を重合させるとフィルムが得られる。好ましい重合体の厚さは、重合体の光学異方性の値および用途に依存する。重合体の好ましい厚さは０．０５〜５０μｍの範囲である。さらに好ましい厚さは０．１〜２０μｍの範囲である。特に好ましい厚さは０．５〜１０μｍの範囲である。これらの重合体のヘイズ値（haze value；曇り度）は、概して１．５％以下である。これらの重合体の透過率は、可視光領域において一般的に８０％以上である。このような重合体は液晶表示素子に用いる光学異方性の薄膜として適している。
【０１５５】
支持基板の例は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣと表記することがある）、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリエステル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートである。商品名の例は、ＪＳＲ（株）の「アートン」、日本ゼオン（株）の「ゼオネックス」および「ゼオノア」、三井化学（株）の「アペル」である。支持基板は一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルムなどである。好ましい支持基板はトリアセチルセルロースフィルムである。このフィルムを前処理することなくそのまま用いてもよい。このフィルムは、必要に応じて、ケン化処理、コロナ放電処理、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などの表面処理を行ってもよい。その他の例は、アルミニウム、鉄、銅などの金属製の支持基板、アルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスなどのガラス製の支持基板などである。
【０１５６】
支持基板上の塗膜は、組成物をそのまま塗布することによって調製される。塗膜は、組成物を適切な溶剤に溶かして塗布したあと、溶剤を除去することによっても調製される。塗布の方法は、スピンコート、ロールコート、カーテンコート、フローコート、プリント、マイクログラビアコート、グラビアコート、ワイヤーバーコート、デップコート、スプレーコート、メニスカスコート、流延成膜法などである。
【実施例】
【０１５７】
実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により制限されない。化合物の構造は核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル、質量スペクトルなどで確認した。相転移温度の単位は℃であり、Ｃは結晶を、Ｉは等方性液体相を示す。括弧内はモノトロピックの液晶相を示す。なお、実施例においては、容量の単位であるリットルを記号Ｌで表記した。以下に、物性値の測定方法を示す。
【０１５８】
＜化合物の構造確認＞
５００MHｚのプロトンNMR（ブルカー：DRX-500）の測定により合成した化合物の構造を確認した。記載した数値はｐｐｍを表し、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｍはマルチプレットを表す。
【０１５９】
＜相転移温度＞
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、３℃／分の速度で昇温した。液晶相が別の液晶相に転移する温度を測定した。Ｃは結晶、Ｎはネマチック相、Ｉは等方性液体を意味する。透明点（ＮＩ点）は、ネマチック相の上限温度またはネマチック相から等方性液体への転移温度である。「Ｃ ５０ Ｎ ６３ Ｉ」は、５０℃で結晶からネマチック相に転移し、６３℃でネマチック相から等方性液体へ転移したことを示す。
【０１６０】
＜液晶分子の配向＞
重合体フィルム（液晶配向フィルム）は、ラビング処理したポリイミド配向膜付きガラス基板上に調製した。重合体の配向は、透過光強度の角度依存性に基づいて、次に示す方法により目視で決定した。
（１）目視による観察方法
クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に重合体フィルムを狭持して、フィルム面に垂直方向（傾き角は０度）から光を照射した。照射の傾き角を０度から例えば５０度に増大させながら透過光の変化を観察した。照射を傾ける方向は、ラビングの方向（液晶分子の長軸方向）に一致させた。垂直方向からの透過光が最大であるとき、配向はホモジニアスであると判断した。ホモジニアス配向では、液晶分子の配向ベクトルがガラス基板と平行であるからであり、この重合体フィルムはＡ−プレートとして機能する。一方、垂直方向からの透過光が最小であり、傾き角を増大させるにつれて透過光が増大するとき、配向はホメオトロピックであると判断した。ホメオトロピック配向では液晶分子の配向ベクトルがガラス基板に垂直であるからであり、この重合体フィルムはＣ−プレートとして機能する。
（２）偏光解析装置による測定
シンテック（株）製のＯＰＴＩＰＲＯ偏光解析装置を用いた。重合体フィルムに波長が５５０ｎｍの光を照射した。この光の入射角度をフィルム面に対して９０度から減少させながらレタデーション（Δｎ×ｄ）を測定した。
【０１６１】
＜光カチオン重合＞
光カチオン重合による重合熱は光化学反応熱熱量計ＰＤＣ１２１（Seiko Instruments Inc.）を用いて、アルミパン上のサンプルに紫外線を照射し、乾燥空気流下、２５℃で測定した。
【実施例１】
【０１６２】
＜化合物（１−１−２０）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、トルエン（３０ｍｌ）、水（３０ｍｌ）の混合物に水酸化ナトリウム（１１．１ｇ）を加え室温で攪拌する。シクロヘキセンメタノール（６．２ｇ）、１，４−ジブロモブタン（１８．０ｇ）、およびテトラブチルアンモニウムブロミド（１．８ｇ）を添加し３時間加熱還流下攪拌した。有機層を分離し、得られた有機層を飽和重曹水および１０％食塩水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン）によって精製し、無色の液体［Ｈ１］（５．９ｇ）を得た。
【０１６３】
化合物［Ｈ１］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：５．６７（ｓ，２Ｈ），３．４７−３．４２（ｍ，４Ｈ），３．３３−３．２５（ｍ，２Ｈ），２．１５−２．０２（ｍ，３Ｈ），２．００−１．６８（ｍ，７Ｈ），１．３２−１．２２（ｍ，１Ｈ）．
【０１６４】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１］（５．９ｇ）、４−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル（４．０ｇ）、水酸化カリウム（１．５ｇ）、ＤＭＦ（６０ｍｌ）の混合物を８０℃で６時間加熱下攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去した。ろ液にトルエン（１００ｍｌ）、水（１００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、溶剤を減圧留去した。次いで残渣にメタノール（２０ｍｌ）、水（２０ｍｌ）および水酸化カリウム（１．５ｇ）を加え３時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去し、３Ｎ塩酸水（１００ｍｌ）、トルエン（１００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を水で洗浄し、溶剤を減圧留去した。再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ２］（２．６ｇ）を得た。
【０１６５】
化合物［Ｈ２］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．０５（ｄ，２Ｈ），６．９３（ｄ，２Ｈ），５．６７（ｓ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．３５−３．２７（ｍ，２Ｈ），２．１５−２．０３（ｍ，３Ｈ），１．９５−１．６８（ｍ，７Ｈ），１．３３−１．２３（ｍ，１Ｈ）．
【０１６６】
（第５段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（２．６ｇ）、メチルヒドロキノン（０．５ｇ）、ＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）（０．２ｇ）、ジクロロメタン（３０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）（１．９ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ３］（２．３ｇ）を得た。
【０１６７】
化合物［Ｈ３］の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ７２ Ｎ ９８ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１６（ｄ，２Ｈ），８．１４（ｄ，２Ｈ），７．１７（ｄ，１Ｈ），７．１３（ｄ，１Ｈ），７．１０−７．０６（ｍ，１Ｈ），６．９９（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），５．６８（ｓ，２Ｈ），４．１２−４．０７（ｍ，４Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３６−３．２９（ｍ，４Ｈ），２．２５（ｓ，３Ｈ），２．１５−２．０２（ｍ，６Ｈ），１．９６−１．７０（ｍ，１６Ｈ），１．３４−１．２４（ｍ，２Ｈ）．
【０１６８】
（最終段階：化合物（１−１−２０）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ３］（２．３ｇ）、ジクロロメタン（２５ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（１．９ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物（１−１−２０）（０．９ｇ）を得た。
【０１６９】
化合物（１−１−２０）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ６２ Ｎ ８５ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１８（ｄ，２Ｈ），８．１４（ｄ，２Ｈ），７．１８（ｄ，１Ｈ），７．１３（ｄ，１Ｈ），７．１０−７．０６（ｍ，１Ｈ），６．９９（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），３．４７（ｔ，４Ｈ），３．２８−３．１３（ｍ，８Ｈ），２．２５（ｓ，３Ｈ），２．２０−１．９７（ｍ，４Ｈ），１．９４−１．７０（ｍ，１０Ｈ），１．６２−１．４０（ｍ，１０Ｈ），１．２０−１．１０（ｍ，１Ｈ），１．０６−０．９６（ｍ，１Ｈ）．
【実施例２】
【０１７０】
＜化合物（１−３−２１）の合成＞
（第１段階）
シクロヘキセンメタノール（２０．０ｇ）、ピリジン（２０ｍｌ）、トルエン（６０ｍｌ）の混合物に室温でｐ−トルエンスルホン酸クロリド（３７．４ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水（４０ｍｌ）を加えて４０℃で３時間加熱攪拌した。有機層を分離し、得られた有機層を１Ｎ塩酸、飽和重曹水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去し、無色の液体［Ｈ４］（４５．２ｇ）を得た。
【０１７１】
【０１７２】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ４］（３０．０ｇ）、４−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル（１８．９ｇ）、水酸化カリウム（７．０ｇ）、メタノール（３００ｍｌ）の混合物を２０時間加熱還流下攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去し、ろ液を減圧下、溶剤を留去した。トルエン（１００ｍｌ）、水（１００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、溶剤を減圧留去した。次いで残渣にメタノール（６０ｍｌ）、水（６０ｍｌ）および水酸化カリウム（７．６ｇ）を加え３時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去し、残渣を３Ｎ塩酸水（３００ｍｌ）へ入れ析出した化合物［Ｈ５］を減圧ろ過によりろ別し、再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ５］（１８．５ｇ）を得た。
【０１７３】
化合物［Ｈ５］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．０６（ｄ，２Ｈ），６．９４（ｄ，２Ｈ），５．７０（ｓ，２Ｈ），３．９２（ｄ，２Ｈ），２．２４−２．０８（ｍ，４Ｈ），１．９７−１．８４（ｍ，２Ｈ），１．５９−１．５０（m，１Ｈ）．
【０１７４】
（第３段階）
窒素雰囲気下、アリルアルコール（１００．０ｇ）、ＴＨＦ（２４８．３ｇ）の混合物に冷却させながら塩化チオニル（２４５．６ｇ）を加え６０℃で４時間加熱攪拌した。溶剤を減圧留去し、無色の液体を得た。この液体にヒドロキノン（１０．０ｇ）、水酸化カリウム（５．１ｇ）、ヨウ化カリウム（１．０ｇ）、ソルミックス（１００ｍｌ）を加え８時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去して、残渣にトルエン（２００ｍｌ）、１０％塩酸（２００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、溶剤を減圧留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））によって精製して、無色の液体［Ｈ６］（５．１ｇ）を得た。
【０１７５】
化合物［Ｈ６］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．７３（ｓ，４Ｈ），５．９７−５．８７（ｍ，１Ｈ），５．２７（ｄ，１Ｈ），５．１８（ｄ，１Ｈ），４．００（ｄ，２Ｈ），３．８９（ｔ，２Ｈ），１．８８−１．７２（ｍ，４Ｈ）．
【０１７６】
（第４段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ５］（５．０ｇ）、化合物［Ｈ６］（４．８ｇ）、ＤＭＡＰ（０．５ｇ）、ジクロロメタン（５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（４．７ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ７］（６．０ｇ）を得た。
【０１７７】
化合物［Ｈ７］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．１０（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），６．９２（ｄ，２Ｈ），５．９７−５．８７（ｍ，１Ｈ），５．７２（ｓ，２Ｈ），５．２９（ｄ，１Ｈ），５．１９（ｄ，１Ｈ），４．０２−３．９７（ｍ，４Ｈ），３．９３（ｄ，２Ｈ），２．３０−２．１０（ｍ，５Ｈ），１．９８−１．８４（ｍ，５Ｈ），１．８２−１．７４（ｍ，２Ｈ），１．５０−１．４０（ｍ，１Ｈ）．
【０１７８】
（最終段階：化合物（１−３−２１）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ７］（６．０ｇ）、ジクロロメタン（６０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（８．０ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物（１−３−１１）（３．１ｇ）を得た。
【０１７９】
化合物（１−３−２１）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ８６ （ＳｍＡ ２２ Ｎ ７０） Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１２（ｄ，２Ｈ），７．０９（ｄ，２Ｈ），６．９４（ｄ，２Ｈ），６．９２（ｄ，２Ｈ），３．９９（ｔ，２Ｈ），３．９０−３．７９（ｍ，２Ｈ），３．７７−３．７３（ｍ，１Ｈ），３．６３−３．５２（ｍ，２Ｈ），３．４３−３．３７（ｍ，１Ｈ），３．２８−３．２４（ｍ，１Ｈ），３．２３−３．１４（ｍ，３Ｈ），２．８１（ｔ，１Ｈ），２．６４−２．６１（ｍ，１Ｈ），２．３３−２．１８（ｍ，２Ｈ），２．１２−２．０３（ｍ，１Ｈ），１．９８−１．７５（ｍ，６Ｈ），１．７２−１．５２（ｍ，３Ｈ），１．３７−１．２７（ｍ，１Ｈ），１．２２−１．１３（ｍ，１Ｈ）．
【実施例３】
【０１８０】
＜化合物（１−３−７）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、３−シクロヘキセン−１−カルボン酸（５．０ｇ）、化合物［Ｈ６］（８．８ｇ）、ＤＭＡＰ（１．０ｇ）、ジクロロメタン（５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（８．９ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製して、無色の液体［Ｈ８］（１１．５ｇ）を得た。
【０１８１】
化合物［Ｈ８］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．９７（ｄ，２Ｈ），６．８７（ｄ，２Ｈ），５．９３−５．８７（ｍ，１Ｈ），５．７３（ｓ，２Ｈ），５．２８（ｄ，１Ｈ），５．１８（ｄ，１Ｈ），４．０１−３．９４（ｍ，４Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），２．８４−２．７６（ｍ，１Ｈ），２．３９（ｄ，２Ｈ），２．２３−２．１１（ｍ，３Ｈ），１．９１−１．７４（ｍ，５Ｈ）．
【０１８２】
（最終段階：化合物（１−３−７）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ８］（１１．０ｇ）、ジクロロメタン（１１０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（１９．４ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））によって精製して、無色の液体（１−３−７）（３．５ｇ）を得た。
【０１８３】
化合物（１−３−７）のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．９５（ｄ，２Ｈ），６．８７（ｄ，２Ｈ），３．９６（ｔ，２Ｈ），３．７４（ｄ，２Ｈ），３．６２−３．５０（ｍ，２Ｈ），３．４１−３．３６（ｍ，１Ｈ），３．３２−３．１３（ｍ，３Ｈ），２．８３−２．７２（ｍ，２Ｈ），２．６３−２．６０（ｍ，１Ｈ），２．５４−２．２４（ｍ，２Ｈ），２．１５−１．５３（ｍ，８Ｈ）．
【実施例４】
【０１８４】
＜化合物（１−４−２４）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、３−シクロヘキセン−１−カルボン酸（１０．０ｇ）、１−ヒドロキシ−４−プロピルジシクロヘキサン（１２．６ｇ）、ＤＭＡＰ（１．９ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１７．２ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン）によって精製、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／５））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ９］（１４．３ｇ）を得た。
【０１８５】
化合物［Ｈ９］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：５．６７（ｓ，２Ｈ），４．６９−４．６１（ｍ，１Ｈ），２．５５−２．４７（ｍ，１Ｈ），２．２３（ｄ，２Ｈ），２．１２−２．０６（ｍ，２Ｈ），２．０２−１．９４（ｍ，３Ｈ），１．８０−１．６３（ｍ，７Ｈ），１．３５−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．１７−０．７９（ｍ，１４Ｈ）．
【０１８６】
（最終段階：化合物（１−４−２４）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ９］（１４．０ｇ）、ジクロロメタン（１４０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（１２．３ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製し、再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／５））によって精製して、無色結晶の化合物（１−４−２４）（１１．０ｇ）を得た。
【０１８７】
化合物（１−４−２４）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ １２７ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：４．６７−４．５８（ｍ，１Ｈ），３．２５−３．２２（ｍ，１Ｈ），３．１８−３．１３（ｍ，１Ｈ），２．５０−２．４３（ｍ，１Ｈ），２．２７−２．１０（ｍ，２Ｈ），２．０２−１．８８（ｍ，３Ｈ），１．８１−１．５２（ｍ，８Ｈ），１．４８−１．３８（ｍ，１Ｈ），１．３４−１．２３（ｍ，４Ｈ），１．１９−０．７９（ｍ，１４Ｈ）．
【実施例５】
【０１８８】
＜化合物（１−２−７）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（５．０ｇ）、４−シアノフェノール（２．０ｇ）、ＤＭＡＰ（０．４ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（３．６ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１０］（５．２ｇ）を得た。
【０１８９】
化合物［Ｈ１０］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１２（ｄ，２Ｈ），７．７４（ｄ，２Ｈ），７．３５（ｄ，２Ｈ），６．９８（ｄ，２Ｈ），５．６７（ｓ，２Ｈ），４．０９（ｔ，２Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．３６−３．２９（ｍ，２Ｈ），２．１５−２．０３（ｍ，３Ｈ），１．９７−１．７０（ｍ，７Ｈ），１．３３−１．２４（ｍ，１Ｈ）．
【０１９０】
（最終段階：化合物（１−２−７）の合成＞
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１０］（５．０ｇ）、ジクロロメタン（５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（３．６ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製し、再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／５））によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−７）（３．７ｇ）を得た。
【０１９１】
化合物（１−２−７）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ６１ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．７３（ｄ，２Ｈ），７．３５（ｄ，２Ｈ），６．９８（ｄ，２Ｈ），４．０８（ｔ，２Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ），３．２９−３．１４（ｍ，４Ｈ），２．１９−２．１２（ｍ，１Ｈ），２．１０−１．９７（ｍ，１Ｈ），１．９５−１．７０（ｍ，６Ｈ），１．６０−１．４（ｍ，２Ｈ），１．２０−０．９５（ｍ，１Ｈ）．
【実施例６】
【０１９２】
＜化合物（１−１−３）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、ヒドロキノン（５２．９ｇ）、化合物［Ｈ１］（５９．３ｇ）、水酸化ナトリウム（１９．２ｇ）、ＤＭＦ（３００ｍｌ）の混合物を８０℃で６時間加熱下攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去した。ろ液にトルエン（５００ｍｌ）、水（５００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））によって精製して、無色の液体［Ｈ１１］（３９．９ｇ）を得た。
【０１９３】
化合物［Ｈ１１］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．８０−６．７２（ｍ，４Ｈ），５．６６（ｓ，２Ｈ），５．２７（ｓ，１Ｈ），３．９１（ｔ，２Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．３８−３．２９（ｍ，２Ｈ），２．１６−２．０２（ｍ，３Ｈ），１．９７−１．６８（ｍ，７Ｈ），１．３２−１．２１（ｍ，１Ｈ）．
【０１９４】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（２５.０ｇ）、化合物［Ｈ１１］（２０．２ｇ）、ＤＭＡＰ（２．０ｇ）、ジクロロメタン（２５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１７．８ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１２］（３５．４ｇ）を得た。
【０１９５】
化合物［Ｈ１２］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１２（ｄ，２Ｈ），７．０９（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），６．９１（ｄ，２Ｈ），５．６７（ｓ，２Ｈ），４．０８（ｔ，２Ｈ），３．９９（ｔ，２Ｈ），３．５３−３．４７（ｍ，４Ｈ），３．３６−３．２７（ｍ，４Ｈ），２．１７−２．０２（ｍ，６Ｈ），１．９７−１．７０（ｍ，１４Ｈ），１．３４−１．２３（ｍ，２Ｈ）．
【０１９６】
（最終段階：化合物（１−１−３）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１２］（３０．０ｇ）、ジクロロメタン（３００ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（３１．１ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物（１−１−３）（１８．７ｇ）を得た。
【０１９７】
化合物（１−１−３）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ４６ （Ｎ −６） Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．８９（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），６．９１（ｄ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ），３．４９−３．４３（ｍ，４Ｈ），３．２８−３．１３（ｍ，８Ｈ），２．２０−１．７０（ｍ，１５Ｈ），１．６２−１．４０（ｍ，５Ｈ），１．２０−０．９７（ｍ，２Ｈ）．
【実施例７】
【０１９８】
＜化合物（１−２−６）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（２０．０ｇ）、４−メトキシフェノール（８．２ｇ）、ＤＭＡＰ（１．６ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１４．２ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１３］（２３．１ｇ）を得た。
【０１９９】
化合物［Ｈ１３］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．１１（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），６．９４（ｄ，２Ｈ），５．６７（ｓ，２Ｈ），４．０８（ｔ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．３６−３．２９（ｍ，２Ｈ），２．１８−２．０７（ｍ，３Ｈ），１．９６−１．７１（ｍ，７Ｈ），１．３４−１．２５（ｍ，１Ｈ）．
【０２００】
（最終段階：化合物（１−２−６）の合成＞
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１３］（２２．７ｇ）、ジクロロメタン（２３０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（１６．２ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製し、再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／５））によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−６）（１７．９ｇ）を得た。
【０２０１】
化合物（１−２−６）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ６１ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．１１（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），６．９３（ｄ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ），３．８２（ｓ，２Ｈ），３．４５（ｔ，２Ｈ），３．２８−３．１４（ｍ，４Ｈ），２．１８−１．９７（ｍ，２Ｈ），１．９２−１．７２（ｍ，６Ｈ），１．５８−１．４２（ｍ，３Ｈ），１．２２−０．９４（ｍ，１Ｈ）．
【実施例８】
【０２０２】
＜化合物（１−１−４５）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（１０．０ｇ）、メトキシヒドロキノン（２．３ｇ）、ＤＭＡＰ（０．８ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（７．１ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１４］（７．８ｇ）を得た。
【０２０３】
化合物［Ｈ１４］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１５（ｔ，４Ｈ），７．１７（ｄ，１Ｈ），７．０１−６．９６（ｍ，４Ｈ），６．８８（ｄ，１Ｈ），６．８６−６．８２（ｍ，１Ｈ），５．６８（ｓ，４Ｈ），４．１２−４．０７（ｍ，４Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３７−３．２９（ｍ，４Ｈ），２．１６−２．０３（ｍ，６Ｈ），１．９６−１．８６（ｍ，６Ｈ），１．８６−１．７０（ｍ，８Ｈ），１．３４−１．２４（ｍ，２Ｈ）．
【０２０４】
（最終段階：化合物（１−１−４５）の合成＞
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１４］（７．８ｇ）、ジクロロメタン（８０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（６．４ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））によって精製し、減圧乾燥することで、油状物（１−１−４５）（５．２ｇ）を得た。この化合物は室温で液晶状態であった。
【０２０５】
化合物（１−１−４５）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｎ ５５ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１５（ｔ，４Ｈ），７．１７（ｄ，１Ｈ），７．００−６．９５（ｍ，４Ｈ），６．８９（ｄ，１Ｈ），６．８６−６．８２（ｍ，１Ｈ），４．１１−４．０５（ｍ，４Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．４６（ｔ，４Ｈ），３．２９−３．３．１２（ｍ，８Ｈ），２．１９−２．２．１２（ｍ，２Ｈ），２．１１−１．９６（ｍ，２Ｈ），１．９４−１．７０（ｍ，１２Ｈ），１．６１−１．４０（ｍ，４Ｈ），１．２４−１．１０（ｍ，１Ｈ），１．０６−０．９５（ｍ，１Ｈ）．
【実施例９】
【０２０６】
＜化合物（１−１−４６）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（１０．０ｇ）、４，４´−ジヒドロキシビフェニル（３．１ｇ）、ＤＭＡＰ（０．８ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（７．１ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製、および酢酸エチルでの再結晶により精製し、無色結晶の化合物［Ｈ１５］（８．１ｇ）を得た。
【０２０７】
化合物［Ｈ１５］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１７（ｄ，４Ｈ），７．６３（ｄ，４Ｈ），７．２９（ｄ，４Ｈ），６．９９（ｄ，４Ｈ），５．６８（ｓ，４Ｈ），４．０９（ｔ，４Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３７−３．２９（ｍ，４Ｈ），２．１６−２．０３（ｍ，６Ｈ），１．９７−１．８６（ｍ，６Ｈ），１．８６−１．７０（ｍ，８Ｈ），１．３４−１．２４（ｍ，２Ｈ）．
【０２０８】
（最終段階：化合物（１−１−４６）の合成＞
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１５］（７．９ｇ）、ジクロロメタン（８０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（６．１ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝２／１））によって精製し、減圧乾燥することで、無色液体の化合物（１−１−４５）（４．６ｇ）を得た。
【０２０９】
化合物（１−１−４６）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ １１７ Ｎ ２５０ ＜ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１７（ｄ，４Ｈ），７．６３（ｄ，４Ｈ），７．２８（ｄ，４Ｈ），６．９９（ｄ，４Ｈ），４．０８（ｔ，４Ｈ），３．２９−３．１３（ｍ，８Ｈ），２．２０−２．１３（ｍ，２Ｈ），２．１１−１．９７（ｍ，２Ｈ），１．９５−１．６４（ｍ，１２Ｈ），１．６２−１．４０（ｍ，４Ｈ），１．２１−１．１０（ｍ，１Ｈ），１．０６−０．９６（ｍ，１Ｈ）．
【０２１０】
以下の重合性液晶組成物の実施例において使用した、化合物（１）以外の成分である化合物を示す。これらの化合物は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）等の成書に記載されている。
【０２１１】
上記記載の化合物の具体的製造方法について説明する。化合物（Ｍ１−１−１）および化合物（Ｍ１−１−３）は特開２００５−６０３７３号公報に記載されている。化合物（Ｍ１−１−２）は特開２００５−９７２８１号公報に記載されている。化合物（Ｍ１−７−１）はPolymer, 34（8）, 1736-1740 (1993) に記載されている。化合物（Ｍ１−１９−１）および化合物（Ｍ１−１９−２）はMacromolecules, 26, 1244-1247 (1993) に記載されている。化合物（Ｍ２−１３−１）は特開２００５−３２０３１７号公報に記載されている。化合物（６−８−１）は特開２００５−２６３７７８号公報に記載されている。化合物（Ｍ１−７−２）は９−メチル−２，７−ジヒドロキシフルオレンをメチルヒドロキノンに変更することで、化合物（Ｍ１−１−１）と同様の方法で合成できる。化合物（Ｍ１−７−３）はMakromol. Chem., 190, 2255-2268 (1989) に記載されている。
【実施例１０】
【０２１２】
化合物（１−１−２０）／重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を重量比１００／０．０２で混合し、これをシクロペンタノンに溶解させて、化合物濃度が２０重量％の溶液を調製した。この溶液をアルミニウムパンに取り、８０℃に加熱したホットプレート上に３０分間置いて、溶剤を蒸発させた。
次に光化学反応熱熱量計ＰＤＣ１２１（Seiko Instruments Inc.）を用いて、乾燥空気流下、２５℃でアルミパン上のサンプルに紫外線（３６５ｎｍ、１５ｍＷ／ｃｍ２）を照射したところ、大きな発熱ピークと迅速なピークトップへの到達が観察された。
【０２１３】
［比較例１］
化合物（１−１−２０）を化合物（Ｍ１−７−２）に置き換えた以外は実施例１０と同様に測定したところ、ピークトップへの到達が緩慢な発熱ピークを確認した。
【実施例１１】
【０２１４】
化合物（１−２−１４）と化合物（Ｍ１−１９−１）を重量比７０／３０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／ＭＭＰ＝９／１（重量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が３０重量％の組成物を調製した。この組成物を室温で放置したところ、３日以上結晶の析出などは見られなかった。なお、ＰＧＭＥＡは、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートの略号であり、ＭＭＰは、３-メトキシプロピオン酸メチルの略号である。
【０２１５】
［比較例２］
化合物（１−２−１４）を化合物（Ｍ１−７−２）に置き換えた以外は、実施例１１に記載の方法で組成物の調製を行った。この組成物を室温で放置したところ、１時間で結晶の析出が見られた。
【実施例１２】
【０２１６】
化合物（１−１−２０）／化合物（１−２−７）を重量比８０／２０で混合し、これを酢酸ｎ−ブチルに相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００１のシリコーン系の非イオン性界面活性剤ＢＹＫ−３３３（ビックケミー・ジャパン（株）製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液をラビング処理したポリイミド配向膜を有するガラス基板にスピンコーターで塗布した。このガラス基板を７０℃に加熱したホットプレート上に１２０秒間置いて、溶剤を蒸発させた。
次に、大気下、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて、３０ｍＷ／ｃｍ２（中心波長３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間照射して重合させた。得られた薄膜はホモジニアス配向が固定化されており、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１３】
【０２１７】
化合物（１−１−２０）／化合物（Ｍ１−１９−１）／化合物（Ｍ１−１−３）を重量比６０／３０／１０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／シクロペンタノン＝１／１（容量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８（（株）ネオス製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１４】
【０２１８】
化合物（１−３−２１）／化合物（Ｍ１−１９−２）を重量比７０／３０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／ＭＭＰ＝１／１（容量比）に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２の炭化水素系の非イオン性界面活性剤ポリフローＮｏ．７５（共栄社化学（株）製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１５】
【０２１９】
化合物（１−１−２０）／化合物（Ｍ１−７−１）／化合物（Ｍ１−１−３）を重量比８０／１０／１０で混合し、これをシクロペンタノンに相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８、重量比０．０２の重合開始剤ＤＴＳ−１０２（みどり化学製）を添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１６】
【０２２０】
化合物（１−３−２１）／化合物（Ｍ１−１９−１）／化合物（Ｍ２−１３−１）を重量比３５／３０／３５で混合し、これをＰＧＭＥＡ／ＭＭＰ＝９／１（容量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した溶液をガラス基板にスピンコーターで塗布し薄膜を作成した。このガラス基板を７０℃に加熱したホットプレート上に１２０秒間置いて、溶剤を蒸発させた。
次に、大気下、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて、３０ｍＷ／ｃｍ２（中心波長３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間照射して重合させた。得られた薄膜はホモジニアス配向が固定化されており、Ｃプレート光学特性を示した。
【実施例１７】
【０２２１】
化合物（１−１−２０）／化合物（１−３−２１）／化合物（Ｍ１−１−１）／化合物（６−８−１）を重量比６０／１５／１５／１０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／シクロペンタノン＝３／７（容量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、ネガティブＣプレート光学特性を示した。
【実施例１８】
【０２２２】
化合物（１−１−２０）／化合物（Ｍ１−１９−１）／化合物（Ｍ１−１−２）を重量比３０／４０／３０で混合し、これをメチルエチルケトンに相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、可視光選択反射を示した。
【実施例１９】
【０２２３】
化合物（１−４−２４）／化合物（Ｍ１−１−１）／化合物（Ｍ２−１３−１）を重量比１０／７５／１５で混合し、これをトルエンに相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．０２の重合開始剤ＤＴＳ−１０２を添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、Ｏプレート光学特性を示した。
【実施例２０】
【０２２４】
化合物（１−１−４６）／化合物（１−１−３）／化合物（Ｍ１−７−３）／化合物（６−８−１）を重量比４０／２０／３０／１０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／シクロペンタノン＝３／７（容量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．０２の重合開始剤イルガキュアー２５０、重量比０．０２の重合開始剤イルガキュアー１８４、重量比０．０１の光増感剤Ｚ−４、を添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、ネガティブＣプレート光学特性を示した。
【産業上の利用可能性】
【０２２５】
本発明の化合物は、重合性液晶性化合物として使用でき、重合性液晶組成物の成分として使用できる。本発明の重合体は、例えば、液晶表示素子の構成要素である位相差板、偏光素子、選択反射膜、輝度向上フィルムおよび視野角補償膜などに利用することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シクロヘキセンオキシド部位を重合性基として有する液晶化合物、その重合体、および光学異方性を有するフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、偏光板、位相差板などの光学異方性体に重合性の液晶化合物が利用されている。この化合物が液晶状態において光学異方性を示し、重合によりこの状態の液晶分子が固定化されるためである。光学異方性を有する重合体に必要な光学的特性は目的によって異なるので、目的にあった特性を有する化合物が必要である。このような目的に使用される化合物は、前記の光学異方性に加えて重合体に関する特性も重要である。この重合性液晶化合物（組成物）およびその重合体に必要な特性は、相溶性、溶解度、透明点、塗布性、重合速度、透明性、融点、結晶化度、ガラス転移点、収縮性、透水度、吸水度、機械的強度、耐薬品性、耐熱性などである。
【０００３】
重合性液晶化合物の中でも、重合性基としてアクリロイルオキシ基を有する化合物はこのような目的に広く用いられる（特許文献１および２）。これらのアクリレートは反応性が高く、また得られる重合体の透明性が高い。しかしながら、重合様式がラジカル重合反応であるため、不活性ガス中で反応を行うことや、紫外線照射エネルギーを多くすることなどが必要である。そのため、空気中での硬化による作業性の向上や、さらには重合体の耐熱性、収縮性、接着性、密着性、機械的強度等の特性の改良も求められている。また重合性液晶化合物（組成物）は、塗工性を調節する目的で有機溶剤を加えたインキとして使用することができる。光学異方性を有するフィルムを製造するには、重合性液晶化合物（組成物）、光重合開始剤、界面活性剤などを有機溶剤に溶解させて粘度、レベリング性などを調整したインキを調製する。このインキを配向処理した透明基板フィルムに塗工し、溶剤を乾燥させ、重合性液晶化合物（組成物）を配向させる。次に紫外線照射または熱により重合させ、配向状態を固定化させる。この工程で使用する有機溶剤には、環境への負荷や、安全性（変異原性、毒性）の観点からプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）などが好ましい。しかし、非特許文献１および２に開示された化合物は、適切な濃度のインキを調製するのに、このような溶剤に対する溶解度が高くない。なお、特許文献３〜６の請求項には本発明の化合物と類似の化合物が開示されているが、これらの文献のいずれにも本発明の化合物とその効果を具体的に示す記述はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１７９１０号公報
【特許文献２】特開平９−３１６０３２号公報
【特許文献３】特開２００８−２３９５６７号公報
【特許文献４】特開２００８−１１０９４８号公報
【特許文献５】特開２００８−２３９５６９号公報
【特許文献６】特開２０１０−０８３７８１号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Polymer Chemistry, 1993, 31(9), 2249-60.
【非特許文献２】Polymer, 1994, 35(3), 622-9.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の第１の目的は、室温を中心とした広い温度範囲の液晶相を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶媒に対する溶解度が高く、空気中においても熱および光により重合することが出来る重合性液晶化合物を提供することである。第２の目的は、透明性、機械的強度、収縮性、透水度、吸水度、融点、ガラス転移点、透明点、耐薬品性、耐熱性などのうち、複数の優れた特性を有する光学異方性を示す重合体を提供することである。第３の目的は、この光学異方性を示す重合体を含有する液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の重合性の液晶化合物は次の［１］項に示される。
［１］ 式（１）で表される重合性液晶化合物：
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；
この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは０〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、塩素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合である。
（ここに、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明の重合性液晶化合物は、室温を中心とした広範囲な液晶相を有し、他の重合性液晶化合物との優れた相溶性を示し、有機溶媒に対する溶解度が高く、室温で重合する、空気中でも重合する、熱により重合する、重合しやすい、化学的に安定である、無色である、などの特性において複数の特性を充足する。特にインキとして使用する時に安全性の高い溶剤への溶解度に優れている点が挙げられる。また、この重合性液晶化合物を原料として用いて得られる重合体は、適切な光学異方性を有する、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、無色透明である、耐熱性が高い、耐候性に優れる、光弾性が小さい、などの特性において複数の特性を充足する。従って、本発明の重合体は、例えば、液晶表示素子の構成要素である位相差板、偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、輝度向上フィルム、視野角補償膜に利用することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
最初に本発明で用いる用語について説明する。用語「液晶性」の意味は、液晶相を有することだけに限定されない。それ自体は液晶相を持たなくても、他の液晶化合物と混合したときに、液晶組成物の成分として使用できる特性も、液晶性の意味に含まれる。式（１）で表わされる重合性液晶化合物を化合物（１）と表記することがある。他の式で表される化合物についても同様に略称することがある。化学式の記号について説明する際に用いる用語「任意の」は、「元素（または官能基）の位置だけでなくその数においても自由に選択できること」を意味する。そして例えば、「任意のＡがＢ、Ｃ、ＤまたはＥで置き換えられてもよい」という表現は、１つのＡはＢ，ＣおよびＤのいずれか１つで置き換えられてもよく、Ａの任意の２つは、Ｂ、ＣまたはＤの２つで置き換えられてもよく、そしてＡの任意の２つは、ＢとＣ、ＢとＤ、またはＣとＤで置き換えられてもよい。任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよいとするとき、結果として結合基−Ｏ−Ｏ−が生じるような置き換えは含まれない。なお、実施例においては、電子天秤の表示データを質量単位であるｇ（グラム）を用いて示した。重量％や重量部はこのような数値に基づくデータである。
【００１０】
本発明は上記の［１］項と下記の［２］〜［２９］項とで構成される。
［２］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１１】
［３］ Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；そして、ｍが１〜３の整数である、［１］項または［２］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１２】
［４］ Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２である、［１］項または［２］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１３】
［５］ Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１４】
［６］ Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１５】
［７］ 式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【００１６】
［８］ Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは１〜３の整数であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１７】
［９］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１８】
［１０］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよい炭素数２〜１４のアルキレンである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００１９】
［１１］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；Ｑ２が任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；式（２−２）におけるＲａが水素である、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２０】
［１２］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−３）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−３）におけるＲａが水素である、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２１】
［１３］ Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−４）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−４）におけるＲａがメチルまたはエチルである、［１］項に記載の重合性液晶化合物。
【００２２】
［１４］ 式（１）で表される重合性液晶化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる少なくとも１つの化合物とを含有する重合性液晶組成物：
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは０〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合であり：
ここに、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｎは０〜５の整数であり；ｎが２以上であるとき、環Ａ４の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｑ３およびＱ４は独立して炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒはフッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｐ３およびＰ４は独立して式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり、式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。
【００２３】
［１５］ 式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍが１〜３の整数であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−であり；ｎが１〜３の整数であり；Ｑ３およびＱ４が独立して炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性化合物の割合が５〜９５重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性化合物の群から選ばれる化合物の割合が５〜９５重量％である、［１４］項に記載の重合性液晶組成物。
【００２４】
［１６］ 式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｎが１または２であり；Ｑ３およびＱ４が独立して炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が１０〜９０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が１０〜９０重量％である、［１４］項に記載の重合性液晶組成物。
【００２５】
［１７］ 式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が３０〜８０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が２０〜7０重量％である、［１５］〜［１６］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２６】
［１８］ 式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が４０〜７０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が３０〜６０重量％である、［１４］〜［１６］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２７】
［１９］ 他の重合性液晶化合物をさらに含有する［１４］〜［１８］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２８】
［２０］ 重合性の光学活性化合物をさらに含有する［１４］〜［１９］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００２９】
［２１］ 非重合性の液晶性化合物をさらに含有する［１４］〜［２０］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３０】
［２２］ 非重合性の光学活性化合物をさらに含有する［１４］〜［２１］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【００３１】
［２３］ ［１］〜［１３］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを重合させて得られる重合体を含有する、光学異方性を有するフィルム。
【００３２】
［２４］ ［１４］〜［２２］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方性を有するフィルム。
【００３３】
［２５］ Ａプレートの光学特性を有する、［２３］項または［２４］項に記載の光学異方性を有するフィルム。
【００３４】
［２６］ Ｃプレートの光学特性を有する、［２３］項または［２４］項に記載の光学異方性を有するフィルム。
【００３５】
［２７］ ネガティブＣプレートの光学特性を有する、［２３］項または［２４］項に記載の光学異方性を有するフィルム。
【００３６】
［２８］ Ｏプレートの光学特性を有する、［２３］項または［２４］項に記載の光学異方性を有するフィルム。
【００３７】
［２９］ ［２３］〜［２８］のいずれか１項に記載の光学異方性を有するフィルムを含有する液晶表示素子。
【００３８】
本発明の化合物（１）は、通常使用される条件下において物理的および化学的に極めて安定であり、極性溶剤への溶解度が高いことを特徴とする。本発明の化合物を構成する環、結合基、側鎖を適切に選ぶことによって、光学異方性（Δｎ）や粘度の高低などの調整が適宜できる。本発明の化合物を構成する原子がその同位体であっても同様の特性を示すので好ましく用いることができる。
【００３９】
化合物（１）は重合様式がカチオン重合反応であるため空気中硬化が容易である。単官能性化合物は置換基の選択自由度が高いので、組成物の光学特性および溶剤への溶解度を制御することが出来る。また、２官能性化合物は単官能性化合物に比べてその重合体は、強固なクロスリンク構造が得られることから、耐熱性がより高く、吸水性、透水性およびガス透過性がより低く、機械的強度（特に硬度）がより高い。さらにシクロヘキセンオキシド部位を重合性基に有する化合物はエポキシ化合物に比べ安全性溶媒への溶解度が高いという特徴を有する。安全性溶媒については、例えばＰＧＭＥＡ（ポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート）があるが、これに限定されるものではない。
【００４０】
本発明の重合性液晶化合物は、式（１）で表される。
【００４１】
Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルである。そして、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい。好ましいＡ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい。さらに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであることがより好ましく、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよい。Ａ１およびＡ２の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２−メチル−１，４−フェニレン、３−メチル−１，４−フェニレン、および２，３−ジメチル−１，４−フェニレンである。
Ａ１およびＡ２が共に１，４−フェニレンの場合、融点が高く、透明点が高くなり液晶相の温度領域が広くなる傾向があり、Ａ１およびＡ２の少なくとも一方が１，４−シクロへキシレンの場合、液晶相の温度領域は狭くなる傾向があるが、光学異方性が小さくなる傾向がある。
【００４２】
結合基Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−である。Ｚ１が単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−（ＣＨ２）４−である場合、化合物（１）の粘度が小さくなる傾向がある。Ｚ１が−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＦ＝ＣＦ−である場合、化合物（１）の液晶相の温度範囲が広く、弾性定数比が大きくなる傾向がある。そして、Ｚ１が−Ｃ≡Ｃ−である場合、化合物（１）を重合させて得られるフィルムの光学異方性が大きくなる傾向がある。
【００４３】
ｍは０〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数である。そして、特に好ましいｍは１または２である。ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよい。
【００４４】
Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基である。Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり、式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であることが好ましい。
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲaは、独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルであり、独立して水素、メチルまたはエチルであることが好ましい。Ｐ１およびＰ２が共に式（２−１）で表される重合性基であるとき、化合物（１）の有機溶剤への溶解度が高くなり、化合物（１）を重合させる場合の重合速度に優れる傾向がある。Ｐ２が式（２−３）であるとき化合物（１）を重合させて得られるフィルムの硬度に優れる傾向がある。Ｐ２が式（２−４）で表される重合性基であるとき、化合物（１）は有機溶剤への溶解度に優れ、融点や透明点が下がる傾向がある。
【００４５】
Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。Ｑ１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであることが好ましく、このとき、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。そして、Ｑ１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよい炭素数２〜１４のアルキレンであることがより好ましい。なお、Ｑ１がアルキレンであるとき、分岐のアルキレンよりも直鎖のアルキレンの方が好ましい。
【００４６】
Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合である。Ｑ２は、Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよく、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであることが好ましく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであることがより好ましい。Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は前記のようにＱ１と同じように定義される基である。Ｑ１およびＱ２のアルキレンの鎖長が長いと、化合物（１）は広い液晶温度領域を示す傾向があり、アルキレン中に酸素を導入すると、極性溶剤への溶解度がよくなる傾向がある。Ｑ１が−ＣＯＯ−であるとき、化合物（１）は高い液晶温度領域を示す傾向がある。
【００４７】
以上のように、重合性基、環および結合基の種類や、環の数を適宜選択することにより目的の物性を有する化合物（１）を得ることができる。化合物（１）は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）等の成書に記載されている。以下に示すスキームにおいて、特に説明していない記号の意味は前記の通りである。
【００４８】
結合基Ｚ１の合成について、スキーム１〜１３で説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ1およびＭＳＧ2は少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。複数のＭＳＧ1（またはＭＳＧ2）は同一でも異なってもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｌ）は、本発明の化合物（１）に相当する。
【００４９】
＜スキーム１＞ 結合基Ｚ１が単結合の化合物
下記に示すように、アリールホウ酸（Ｓ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｓ２）とを、炭酸塩水溶液中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で反応させることにより化合物（１Ａ）を合成できる。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（Ｓ３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させた後、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で化合物（Ｓ２）とさらに反応させることによっても合成できる。
【００５０】
＜スキーム２＞ 結合基Ｚ１が−ＣＨ＝ＣＨ−の化合物
下記に示すように、公知の方法で合成されるホスホニウム塩（Ｓ５）にカリウムｔ−ブトキシドなどの塩基を添加して発生させたリンイリドを、アルデヒド（Ｓ４）に反応させることにより化合物（１Ｂ）を合成できる。反応条件や基質によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
【００５１】
＜スキーム３＞ 結合基Ｚ１が−ＣＨ２ＣＨ２−の化合物
下記に示すように、化合物（１Ｂ）をパラジウム炭素などの触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｃ）を合成できる。
【００５２】
＜スキーム４＞ 結合基Ｚ１が−ＣＦ２ＣＦ２−の化合物
下記に示すように、J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414 に記載された方法に従い、フッ化水素触媒の存在下、ジケトン（Ｓ６）を四フッ化硫黄でフッ素化することにより、−（ＣＦ2）2−を有する化合物（１Ｄ）を合成できる。
【００５３】
＜スキーム５＞ 結合基Ｚ１が−（ＣＨ２）４−の化合物
下記に示すように、スキーム２の方法に従って、ホスホニウム塩（Ｓ５）の代わりにホスホニウム塩（Ｓ７）を用いて−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を合成し、これを接触水素化することにより化合物（１Ｅ）を合成できる。
【００５４】
＜スキーム６＞ 結合基Ｚ１が−ＣＨ２Ｏ−または−ＯＣＨ２−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ４）を水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で還元して化合物（Ｓ８）を得る。これを臭化水素酸等でハロゲン化して化合物（Ｓ９）を得る。次いで、炭酸カリウム等の存在下で、化合物（Ｓ９）を化合物（Ｓ１０）と反応させることにより化合物（１Ｆ）を合成できる。この方法によって−ＣＨ２Ｏ−を有する化合物も合成できる。
【００５５】
＜スキーム７＞ 結合基Ｚ１が−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−の化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで二酸化炭素を反応させてカルボン酸（Ｓ１１）を得る。化合物（Ｓ１１）とフェノール（Ｓ１０）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｇ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成できる。また、（Ｓ１１）に塩化チオニルまたはオキザリルクロリドなどを作用させ、酸クロリド化合物に誘導し、ピリジンまたはトリエチルアミンなどの塩基存在下、（Ｓ１０）を作用させることにより（１Ｇ）を合成することもできる。
【００５６】
＜スキーム８＞ 結合基Ｚ１が−ＣＦ＝ＣＦ−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（Ｓ１２）を得る。次いで、化合物（Ｓ２）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、化合物（Ｓ１２）と反応させことにより化合物（１Ｈ）を合成できる。反応条件を選択することで、シス体の化合物（１Ｈ）を製造することもできる。
【００５７】
＜スキーム９＞ 結合基Ｚ１が−Ｃ≡Ｃ−の化合物
下記に示すように、ジクロロパラジウムおよびハロゲン化銅の触媒存在下、化合物（Ｓ１２）を化合物（Ｓ２）と反応させることにより、化合物（１Ｉ）を合成できる。
【００５８】
＜スキーム１０＞ 結合基Ｚ１が−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ１２）をｎ−ブチルリチウムでリチオ化した後、二酸化炭素を作用させてカルボン酸（Ｓ１３）を得る。次いで、カルボン酸（Ｓ１３）とフェノール（Ｓ１０）とを、ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で脱水させることにより、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−を有する化合物（Ｊ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−を有する化合物も合成できる。また、スキーム７において（Ｓ１１）から（１Ｇ）に誘導したように、酸クロリド化合物経由で（１Ｊ）を合成することもできる。
【００５９】
＜スキーム１１＞ 結合基Ｚ１が−ＣＦ2Ｏ−または−ＯＣＦ2−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（１Ｇ）をローソン試薬などの硫黄化剤で処理して化合物（Ｓ１４）を得る。次いで、フッ化水素ピリジン錯体およびＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）を用いて化合物（Ｓ１４）をフッ素化することにより、−ＣＦ2Ｏ−を有する化合物（１Ｋ）を合成できる。また、化合物（Ｓ１４）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化することによっても化合物（１Ｋ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＦ2−を有する化合物も合成できる。P. Kirsch et al., Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によって、これらの結合基を生成させることも可能である。
【００６０】
【００６１】
重合性基の導入方法において、スキーム１２および１３で説明する。これらのスキームにおいて、ＭＳＧは少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。複数のＭＳＧは同一でも異なってもよい。Ｙは炭素数１〜２１のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素がフッ素または塩素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。そして、Ｐは前記の式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基である。化合物（１Ｌ）は、本発明の化合物（１）に相当する。
【００６２】
＜スキーム１２＞ 重合性基から導入する場合
下記に示すように、ジオール（Ｔ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｔ２）とを水素化ナトリウムなどの塩基を用いて反応させることによりモノエーテル体（Ｔ３）を合成する。これをｐ−トルエンスルホン酸クロライド等でトシル化し（Ｔ４）を得る。次いで炭酸カリウム等の塩基を用いトシレート（Ｔ４）と（Ｓ１０）とを反応させることにより化合物（１Ｌ）を合成できる。この化合物は、公知の方法で合成される化合物（Ｔ５）と重合性基のアルコール体（Ｔ６）とを水酸化ナトリウムなどの塩基を用いて反応させることによりモノエーテル体（Ｔ７）を得、次いで炭酸カリウム等の塩基を用いてモノエーテル誘導体（Ｔ７）と（Ｓ１０）とを反応させることによっても合成できる。
【００６３】
【００６４】
＜スキーム１３＞ 重合性基を後から導入する場合
下記に示すように、（Ｓ１０）と公知の方法で合成される化合物（Ｔ８）とを炭酸カリウムなどの塩基を用いて反応させることにより、モノエーテル体（Ｔ９）を合成できる。次いでモノエーテル体（Ｔ９）と（Ｔ２）とを水酸化ナトリウムなどの塩基を用いて反応させることにより化合物（１Ｌ）を合成できる。
【００６５】
化合物（１）は、上記の方法を適宜組み合わせることにより合成することができるが、上記の方法に必ずしも制限されない。上記のような方法で合成される化合物の例を以下に示す。なお、上記のようにして合成された化合物の構造は、例えば、プロトンＮＭＲスペクトルにより確認することができる。
【００６６】
【００６７】
【００６８】
【００６９】
【００７０】
【００７１】
【００７２】
【００７３】
【００７４】
【００７５】
【００７６】
【００７７】
【００７８】
【００７９】
【００８０】
【００８１】
【００８２】
【００８３】
【００８４】
次に、本発明の重合性液晶組成物について説明する。本発明の組成物は化合物（１）の少なくとも１つを含有する。また、本発明の組成物は化合物（１）の少なくとも１つと化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物を含有してもよい。化合物（Ｍ１）は、広い液晶相発現性を示すとともに、構造中に２つの重合性基を有するため、３次元網目構造を形成することができ、高い機械的強度を有する重合体の形成が可能となる。化合物（Ｍ２）は１つの重合性基を有し、分子長軸方向において、この重合性基の反対側に極性基などの置換基を有するので、液晶状態での配向制御の調整が可能となる。化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）のいずれにおいても、環Ａ３が１，４−フェニレンの場合は高い光学異方性（Δｎ）を有する組成物を、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルの場合はさらに高い光学異方性（Δｎ）を有する組成物を、１，４−シクロヘキシレンの場合は低い光学異方性（Δｎ）を有する組成物を調製することができる。
【００８５】
化合物（Ｍ１）および（Ｍ２）の好ましい例として、それぞれ以下に示す化合物が挙げられる。
【００８６】
【００８７】
【００８８】
【００８９】
【００９０】
【００９１】
これらの化合物において、Ｑ３およびＱ４は前記の式（Ｍ１）および式（Ｍ２）中のＱ３およびＱ４と同義であり、Ｐ３およびＰ４は独立して前記の式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される基である。
【００９２】
以下の説明においては、化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）を総称して化合物（Ｍ）と表記する。本発明の重合性液晶組成物は、化合物（１）の少なくとも１つを含有する。また、本発明の重合性液晶組成物は、化合物（１）の少なくとも１つと化合物（Ｍ）の少なくとも１つとを含有してもよい。本発明の重合性液晶組成物における化合物（１）の好ましい含有割合は、化合物（１）と化合物（Ｍ）の合計量を基準として５〜９５重量％である。より好ましい割合は１０〜９０重量％であり、さらに好ましい割合は３０〜８０重量％であり、特に好ましい割合は４０〜７０重量％である。化合物（Ｍ）の好ましい含有割合は、化合物（１）と化合物（Ｍ）の合計量を基準として５〜９５重量％である。より好ましい割合は１０〜９０重量％であり、さらに好ましい割合は２０〜７０重量％であり、特に好ましい割合は３０〜６０重量％である。本発明の重合性液晶組成物は、重合性化合物として化合物（１）と化合物（Ｍ）とを含むが、その他の重合性化合物をさらに含んでもよい。この重合性液晶組成物は、非重合性化合物、添加物、溶剤などを含んでもよい。非重合性化合物の例は、液晶性化合物のデータベースであるリクリスト（LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany）に記載されている化合物である。添加物の例は、非イオン性界面活性剤、光カチオン重合開始剤、光ラジカル重合開始剤、熱硬化剤、光増感剤などである。
【００９３】
本発明の重合性液晶組成物は重合性基を持たない非重合性の液晶性化合物を含有してもよい。このような非重合性の液晶性化合物の例は、液晶性化合物のデータベースであるリクリスト（LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany）に記載されている。このような重合性液晶組成物は、二色性色素等の添加物をさらに含有してもよい。光学異方性の制御が容易で、良好な塗布性を有する重合性液晶組成物を得、かつ、本発明の重合体の効果を顕著に発現させるために、重合性液晶組成物中の非重合性の液晶性化合物の含有量は、化合物（１）とその他の重合性化合物の合計量１００重量％に対し、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下である。
【００９４】
非重合性の液晶化合物としては、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物を上げることが出来る。
［式（Ａ）中、Ａ４およびｎはそれぞれ前記式（Ｍ１）中のＡ４およびｎと同義であり、ＺＡは独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、ＲＡは炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３である。］
以下に、具体例を示す。
【００９５】
【００９６】
【００９７】
【００９８】
皮膜形成性、機械的強度などを調整する目的で非液晶性の重合性化合物を添加することができる。好ましい非液晶の重合性化合物の例は、（メタ）アクリレート化合物、ビニル化合物、スチレン化合物、ビニルエーテル化合物、アリルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物である。
【００９９】
非液晶性の重合性化合物の好ましい例は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル、２，２−ジメチルブタン酸ビニル、２，２−ジメチルペンタン酸ビニル、２−メチル−２−ブタン酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、２−エチル−２−メチルブタン酸ビニル、Ｎ−ビニルアセトアミド、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸ビニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸ビニル、安息香酸ビニル、スチレン、ｏ−、ｍ−またはｐ−クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン、テトラフルオロエチレン、およびヘキサフルオロプロペンであり、さらに、エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセリンモノアリルエーテル、およびアリルグリシジルエーテルである。組成物の粘度調整あるいは硬化収縮を小さくする目的で３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、ジ（１−エチル（３−オキセタニル））メチルエーテル、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタンなどを添加してもよい。
【０１００】
重合体の被膜形成能をより高めるために、多官能アクリレートを組成物に添加することができる。好ましい多官能アクリレートは、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ付加トリアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、トリスアクリロキシエチルフォスフェート、ビスフェノールＡ ＥＯ付加ジアクリレート、ビスフェノールＡグリシジルジアクリレート（大阪有機化学株式会社製、商品名：ビスコート７００）、およびポリエチレングリコールジアクリレートである。
【０１０１】
重合体の被膜形成能をより高めるために、多官能カチオン重合基を有する化合物を組成物に添加することもできる。好ましい化合物の例として下記の化合物（５−１）〜（５−９）も挙げることができる。これらの化合物は本発明の重合性液晶組成物に添加して粘度の調整、配向の調整、または重合体の硬度をより大きくするために用いられることがある。
【０１０２】
【０１０３】
【０１０４】
これらの化合物において、Ｑ５は独立して炭素数２〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素がフッ素または塩素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、Ｐ５は独立して前記の式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される基である。
【０１０５】
重合性化合物のその他の例としては、重合性基を１つ有するエポキシ系化合物、および重合性基を２つ以上有するエポキシ系化合物もある。組成物に添加してよいエポキシ系化合物として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂等の２価のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン− フェノール変性型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等の３ 価以上のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ 型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪酸系エポキシ樹脂、脂環式系エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。またこれらのエポキシ系化合物は単独で用いてもよく、２種以上を混合してもよい。
【０１０６】
エポキシ系化合物の具体的な例は、炭素数２〜２５のアルキルモノグリシジルエーテル（例えば、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル）、ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ドデカンジオールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、レゾルシングリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、テトラフルオロプロピルグリシジルエーテル、オクタフルオロプロピルグリシジルエーテル、ドデカフルオロペンチルグリシジルエーテル、スチレンオキシド、１，７−オクタジエンジエポキシド、リモネンジエポキシド、リモネンモノオキシド、α−ピネンエポキシド、β−ピネンエポキシド、シクロヘキセンエポキシドシクロオクテンエポキシド、ビニルシクロヘキセンオキシド、ブトキシポリエチレングリコールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキセニルエチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、１−エポキシエチル−３，４−エポキシシクロヘキサン、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシド、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、フタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、トリス（２，３−エポキシプロピル）イソシアヌレート、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、ジ（１−エチル（３−オキセタニル））メチルエーテル、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタンである。さらに、上記のエポキシ系化合物の他に、エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエーテルなどのビニル系化合物も挙げることができる。
【０１０７】
非イオン性界面活性剤の好ましい例はフッ素系の非イオン性界面活性剤、シリコーン系の非イオン性界面活性剤および炭化水素系の非イオン性界面活性剤である。フッ素系の非イオン性界面活性剤の例は、ＢＹＫ−３４０、フタージェント２５１、フタージェント２２１ＭＨ、フタージェント２５０、ＦＴＸ−２１５Ｍ、ＦＴＸ−２１８Ｍ、ＦＴＸ−２３３Ｍ、ＦＴＸ−２４５Ｍ、ＦＴＸ−２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、フタージェント２２２Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０６Ｄ、フタージェント２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−７２０Ｃ、ＦＴＸ−７４０Ｃ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＫＢ−Ｌ８２、ＫＢ−Ｌ８５、ＫＢ−Ｌ９７、ＫＢ−Ｌ１０９、ＫＢ−Ｌ１１０、ＫＢ−Ｆ２Ｌ、ＫＢ−Ｆ２Ｍ、ＫＢ−Ｆ２Ｓ、ＫＢ−Ｆ３Ｍ、およびＫＢ−ＦａＭである。
【０１０８】
シリコーン系の非イオン性界面活性剤の例は、ポリフローＡＴＦ―２、グラノール１００、グラノール１１５、グラノール４００、グラノール４１０、グラノール４３５、グラノール４４０、グラノール４５０、グラノールＢ−１４８４、ポリフローＫＬ−２５０、ポリフローＫＬ−２６０、ポリフローＫＬ−２７０、ポリフローＫＬ−２８０、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−３５００、ＢＹＫ−３５１０、およびＢＹＫ−３５７０である。炭化水素系の非イオン性界面活性剤の例は、アクリル系ポリマーを主成分としたポリフローＮｏ．３、ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ、ポリフローＮｏ．５４Ｎ、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．７７、ポリフローＮｏ．８５ＨＦ、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２、およびＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００である。
【０１０９】
なお、上記のポリフローおよびグラノールはどちらも共栄社化学（株）から販売されている商品の名称である。ＢＹＫはビックケミー・ジャパン（株）から販売されている商品の名称である。フタージェント、ＦＴＸおよびＫＢは（株）ネオスから販売されている商品の名称である。
界面活性剤は、前記以外のタイプの界面活性剤を必要に応じて使用してもよい。具体的には、ポリエーテル系化合物、アクリル酸共重合物系化合物、チタネート系化合物、イミダゾリン、４級アンモニウム塩、アルキルアミンオキシド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族または芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物、ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等の種々の化合物を用いることができる。これらの界面活性剤は、組成物を支持基板などに塗布するのを容易にするなどの効果を有する。
【０１１０】
本発明の組成物には光カチオン重合開始剤を添加してよい。光カチオン重合開始剤には、ジアリールヨードニウム塩（以下ＤＡＳと略す）、トリアリールスルホニウム塩（以下ＴＡＳと略す）などがあげられる。ＤＡＳとしては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートがあげられる。
【０１１１】
ＤＡＳには、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセン、ルブレンなどの光増感剤を添加することで高感度化することもできる。
【０１１２】
ＴＡＳとしては、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０１１３】
光カチオン重合開始剤の具体的な商品名として、ＵＣＣの製品のサイラキュアーＵＶＩ−６９９０、サイラキュアーＵＶＩ−６９７４およびサイラキュアーＵＶＩ−６９９２、旭電化工業（株）の製品のアデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５２、ＳＰ−１７０およびＳＰ−１７２、ローディア（株）の製品のPHOTOINITIATOR２０７４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）の製品のイルガキュアー２５０、ＧＥシリコンズの製品のＵＶ−９３８０Ｃ、サンアプロ（株）の製品のＨＳシリーズ、ＣＰＩシリーズの他、みどり化学（株）のＴＰＳシリーズ、ＴＡＺシリーズ、ＤＰＩシリーズ、ＢＰＩシリーズ、ＭＤＳシリーズ、ＤＴＳシリーズ、ＳＩシリーズ、ＰＩシリーズ、ＮＤＩシリーズ、ＰＡＩシリーズ、ＮＡＩシリーズ、ＮＩシリーズ、ＤＡＭシリーズ、ＭＢＺシリーズ、ＰＹＲシリーズ、ＤＮＢシリーズ、ＮＢシリーズ等を挙げることができる。
【０１１４】
本発明の組成物は光カチオン重合開始剤と組み合わせ、光ラジカル重合開始剤を添加してハイブリッド硬化することもできる。光ラジカル重合開始剤の例は、チバ・スペシャリティー・ケミカル（株）の製品のうちから、ダロキュアー１１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン）、イルガキュアー１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、イルガキュアー６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン）、イルガキュアー５００、イルガキュアー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー１３００、イルガキュアー８１９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５０、ダロキュアー４２６５、イルガキュアー７８４である。
【０１１５】
光ラジカル重合開始剤のその他の例は、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物、ベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物である。
本発明では、熱重合開始剤を添加してもよい。具体的な商品名の例は、三新化学工業（株）の製品のサンエイド（主剤） ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−１６０、ＳＩ−１８０、およびサンエイド（助剤）ＳＩである。これらは光ラジカル開始剤および光カチオン重合開始剤と共に使用してもよく、あるいは光ラジカル開始剤と共に使用してもよい。
【０１１６】
本発明の重合性液晶組成物は、熱硬化剤を含有しても良い。熱硬化剤としてはアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、などを有する酸性あるいは塩基性の化合物、フェノール部位を有する化合物または酸無水物部位を有する化合物などである。より好ましくは、アミノ基を有する塩基性の化合物、フェノールを有する化合物および酸無水物を有する化合物である。これらは、光カチオン重合開始剤または光ラジカル開始剤と共に使用してもよい。
【０１１７】
アミノ基を有する熱硬化剤の例は、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ｍ−キシレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、２−メチルペンタメチレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、イソフォロンジアミン、１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ノルボルネンジアミン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、ラロミン、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォン、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン、ポリシクロヘキシルポリアミン混合物、Ｎ−アミノエチルピペラジンである。
【０１１８】
フェノール基を有する熱硬化剤の例は、フェノールノボラック、キシリレンノボラック、ビスフェノールＡノボラック、トリフェニルメタンノボラック、ビフェニルノボラック、ジシクロペンタジエンフェノールノボラック、テルペンフェノールノボラックである。
【０１１９】
酸無水物を有する熱硬化剤の例は、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、水素化メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、ドデセニル無水コハク酸、脂肪族二塩基酸ポリ無水物、クロレンド酸無水物である。
【０１２０】
本発明の重合性液晶組成物は、光増感剤を含有してもよい。光増感剤の例はチオキサントン誘導体、アントラキノン誘導体およびナフトキノン誘導体であり、好ましい例は次に示す化合物（Ｚ−１）〜化合物（Ｚ−６）である。特に好ましい光増感剤は化合物（Ｚ−１）および化合物（Ｚ−２）である。光増感剤は１種類で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。
ここに、ＲＺは独立して炭素数１〜１０の直鎖状のアルキルである。
【０１２１】
化合物（Ｚ−１）においてＲＺがｎ−ブチルである化合物は、川崎化成工業（株）のANTHRACURE UVS-1331として入手できる。化合物（Ｚ−２）は川崎化成工業（株）のANTHRACURE ET-2111として入手できる。化合物（Ｚ−３）はLambsonのSpeedcure CTXとして入手できる。化合物（Ｚ−４）はシェル化学（株）のQuantacure ITXとして入手できる。化合物（Ｚ−５）は日本化薬（株）のKAYACURE DETX-Sとして入手できる。化合物（Ｚ−６）はLambsonのSpeedcure CPTXとして入手できる。
【０１２２】
ＤＡＳと光増感剤を組み合わせて用いることにより、光に対する感度が向上する。ＤＡＳと光増感剤の好ましい混合比は、ＤＡＳ１００重量部に対して光増感剤１０〜２００重量部である。さらに好ましい混合比はＤＡＳ１００重量部に対して光増感剤２０〜１００重量部である。重合性液晶組成物の耐候性を更に向上させるために、紫外線吸収剤、光安定剤（ラジカル捕捉剤）および酸化防止剤等を添加してもよい。紫外線吸収剤の例は、チヌビンＰＳ、チヌビンＰ、チヌビン９９−２、チヌビン１０９、チヌビン２１３、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２８、チヌビン３２９、チヌビン３８４−２、チヌビン５７１、チヌビン９００、チヌビン９２８、チヌビン１１３０、チヌビン４００、チヌビン４０５、チヌビン４６０、チヌビン４７９、チヌビン５２３６、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３４、アデカスタブＬＡ−３６、アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブ１４１３、およびアデカスタブＬＡ−５１である。「チヌビン」はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の商品名であり、「アデカスタブ」は旭電化（株）の商品名である。
【０１２３】
光安定剤の例は、チヌビン１１１ＦＤＬ、チヌビン１２３、チヌビン１４４、チヌビン１５２、チヌビン２９２、チヌビン６２２、チヌビン７７０、チヌビン７６５、チヌビン７８０、チヌビン９０５、チヌビン５１００、チヌビン５０５０、５０６０、チヌビン５１５１、キマソーブ１１９ＦＬ、キマソーブ９４４ＦＬ、キマソーブ９４４ＬＤ、アデカスタブＬＡ−５２、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７、サイテック社製のサイアソーブＵＶ−３３４６、およびグッドリッチ社のグッドライトＵＶ−３０３４である。「キマソーブ」はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の商品名である。
【０１２４】
酸化防止剤の例は、旭電化社製のアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、住友化学（株）から販売されているスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、およびスミライザーＧＡ−８０、並びにチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）から販売されているＩｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、およびＩｒｇａｎｏｘ２４５である。これらの市販品を用いてもよい。
【０１２５】
本発明の組成物は、光による塩基増殖反応を利用して硬化させることもできる（K.Arimitsu, M.Miyamoto, K.Ichimura, Angew. Chem. Int. Ed, 2000, 39, 3425）。
【０１２６】
本発明の重合性液晶組成物は、前記のように溶剤を含有してもよい。通常は、上記で説明した各成分を溶剤に溶解させて重合性液晶組成物を調製する。塗布を容易にするために、この重合性液晶組成物をさらに溶剤で希釈して、重合性液晶組成物の粘度を調整してもよい。溶剤は単独でも使用できるし、２つ以上を混合して使用してもよい。溶剤の例はエステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤および脂環式炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、およびアセテート系溶剤である。
【０１２７】
エステル系溶剤の好ましい例は、酢酸アルキル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチルおよび酢酸イソペンチル）、トリフルオロ酢酸エチル、プロピオン酸アルキル（例：プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピルおよびプロピオン酸ブチル）、酪酸アルキル（例：酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イソブチルおよび酪酸プロピル）、マロン酸ジアルキル（例：マロン酸ジエチル）、グリコール酸アルキル（例：グリコール酸メチルおよびグリコール酸エチル）、乳酸アルキル（例：乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸イソプロピル、乳酸n-プロピル、乳酸ブチルおよび乳酸エチルヘキシル）、モノアセチン、γ−ブチロラクトンおよびγ−バレロラクトンである。
【０１２８】
アミド系溶剤の好ましい例は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびジメチルイミダゾリジノンである。
【０１２９】
アルコール系溶剤の好ましい例は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ブタノール、２−エチルブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、１−ドデカノール、エチルヘキサノール、３、５、５−トリメチルヘキサノール、ｎ−アミルアルコール、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−３−メトキシブタノール、シクロヘキサノールおよびメチルシクロヘキサノールである。
【０１３０】
エーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ビス（２−プロピル）エーテル、１，４−ジオキサンおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
【０１３１】
グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノアルキルエーテル（例：エチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテル）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテル）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：プロピレングリコールモノブチルエーテル）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル）、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、およびジエチレングリコールメチルエチルエーテルである。
【０１３２】
芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ｉ−プロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベンゼン、ｎ−ブチルベンゼン、およびテトラリンである。ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例はクロロベンゼンである。脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ヘキサンおよびヘプタンである。ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレンおよびテトラクロロエチレンである。脂環式炭化水素系溶剤の好ましい例は、シクロヘキサンおよびデカリンである。
【０１３３】
ケトン系溶剤の好ましい例は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、およびメチルプロピルケトンである。
【０１３４】
アセテート系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸メチル、および１−メトキシ−２−プロピルアセテートである。このような溶剤の中でも、安全性の高い有機溶剤への溶解度が高いことは非常に重要である。この溶剤の例は、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、２−へプタノン、酢酸ブチル、３-メトキシプロピオン酸メチル、３-エトキシプロピオン酸メチル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートである。
【０１３５】
重合性液晶化合物の溶解度の観点からは、アミド系溶剤、芳香族炭化水素系、ケトン系溶剤の使用が好ましく、溶剤の沸点を考慮すると、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤が好ましい。溶剤の選択に関して特に制限はないが、支持基材としてプラスチック基板を用いる場合は、基板の変形を防ぐために乾燥温度を低くすること、および溶剤が基板を侵食しないようにする必要がある。このような場合に好ましく用いられる溶剤の例は、芳香族炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、アセテート系溶剤、およびグリコールモノアルキルエーテル系溶剤である。また、これら溶剤の中でも、安全性の高い有機溶剤への溶解度が高いことは非常に重要である。安全性の高い有機溶剤の例は、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、２−へプタノン、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、およびプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートである。
【０１３６】
本発明の重合性液晶組成物における溶剤の割合は０〜９５重量％であるが、重合性液晶化合物の相溶性およびこの溶液を塗布する際のその最適粘度を考慮し、さらに溶剤コストおよび溶剤を蒸発させる際の時間や熱量といった経済的観点を考慮すると、４０〜９５重量％であることが好ましい。より好ましい割合は４５〜９０％であり、さらに好ましい割合は５０〜８５％である。
【０１３７】
本発明の重合性液晶組成物において、液晶分子の配向を決定する因子は、１）組成物に含有される化合物の種類、２）支持基板の種類、３）配向処理の方法、などである。好ましい配向処理の方法は酸化ケイ素を斜方蒸着させる、スリット状にエッチング加工する、などの方法である。特に好ましい配向処理の方法はレーヨン布などで一方向にこする（ラビング）である。ラビング処理においては、支持基板を直接的にラビングしてもよい。支持基板をポリイミド、ポリビニルアルコールなどの薄膜でコーティングし、この薄膜をラビングしてもよい。ラビング処理をしなくても、良好な配向を与える特殊な薄膜も知られている。あるいは側鎖型の液晶ポリマーを支持基板にコーティングしてもよい。
【０１３８】
液晶分子における配向の分類は、ホモジニアス（homogenerous；平行）、ホメオトロピック（homeotropic；垂直）、ハイブリッド（hybrid）などである。ホモジニアスは、配向ベクトルが基板に平行で、かつ一方向にある状態をいう。ホメオトロピックは、配向ベクトルが基板に垂直である状態をいう。ハイブリッドは、配向ベクトルが基板から離れるにつれて、平行から垂直に立ちあがっている状態をいう。これらの配向は、ネマチック相などを有する組成物で観察される。
【０１３９】
液晶分子の配向状態を固定化することで、さまざまな光学特性を有するフィルムが得られる。このフィルムは厚さ方向にｚ軸、フィルム面上で直交方向にｘ軸とｙ軸をとり、ｘ軸方向、ｙ軸方向、ｚ軸方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした３次元の屈折率を表す屈折率楕円体として光学異方性を表現できる。ホモジニアス配向を有する重合体は、光軸の方向がｎｘ方向にあり、光軸方向の屈折率がその直交する方向の屈折率より大きいため、３次元屈折率の関係をｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚと表すことが出来るＡプレートに分類される。ホメオトロピック配向を有する重合体は、光軸の方向がｎｚ方向にあり、光軸方向の屈折率がその直交する方向の屈折率より大きいため、３次元屈折率の関係をｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚと表すことが出来るＣプレートに分類される。ハイブリッド配向を有する重合体は、Ｏプレートの光学特性を有する。例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）モードの素子における視野角補償板に応用できる。
【０１４０】
本発明の重合性液晶組成物は光学活性化合物を含有してもよい。光学活性化合物を適当量添加して得られた組成物を、配向処理した基板上に塗布して重合することによって、らせん構造（ツイスト構造）を示す位相差板が得られる。化合物（１）の重合によって、このらせん構造が固定される。得られた光学異方性を有する成形体の特性は、らせん構造のらせんピッチに依存する。このらせんピッチ長は、光学活性化合物の種類および添加量により調整できる。添加する光学活性化合物は１つでもよいが、らせんピッチの温度依存性を相殺する目的で複数の光学活性化合物を用いてもよい。
【０１４１】
上記のような光学異方性を有する成形体の特性である可視光の選択反射は、らせん構造が入射光に作用し、円偏光や楕円偏光を反射させるものである。選択反射特性はλ＝ｎ・Pitch（λは選択反射中心波長、ｎは光学異方性を有する成形体の平均屈折率、Pitchはらせんピッチ）で表されるため、ｎまたはPitchによりλおよびその帯域（Δλ）を適宜調整することができる。らせんのピッチが光の波長の１／ｎであれば、その波長を有する光のうち、らせんの向きに応じて左右いずれかの円偏光をブラッグの法則に従い選択的に反射することができる。これは、例えば、円偏光分離機能素子として使用できる。らせんの向きは光学活性化合物の立体配置に依存する。光学性化合物の立体配置を適時選択することで所望のらせん方向を誘起できる。例えば特開平６−２８１８１４公報に開示された方法に従えば、らせんピッチが光学異方性を有する成形体の厚さ方向に連続的に変化する成形体が得られ、ピッチに応じた波長領域の光を反射することができる。そして、色純度を良くするにはΔλを小さくすればよいし、広帯域の反射を所望する際にはΔλを大きくすればよい。さらにこの選択反射はセル厚の影響も大きく受ける。色純度を保つためには、セル厚が小さくなりすぎないようにしなければならない。配向の均一性を保つためには、セル厚が大きくなりすぎないようにしなければならない。したがって、適度なセル厚の調整が必要であり、０．５〜２５μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
【０１４２】
らせんピッチを可視光よりさらに短くすることで、W. H. de Jeu, Physical Properties of Liquid Crystalline Materials, Gordon and Breach, New York（1980）に記載のネガティブ型Ｃプレート（Ｃ−ｐｌａｔｅ）を調製できる。らせんピッチを短くするためには、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）の大きな光学活性化合物を用い、さらにその添加量を増やすことで達成できる。具体的にはλを３５０ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下とすることで、ネガティブ型Ｃプレートを調製できる。このネガティブ型Ｃプレートは液晶表示素子のうちＶＡＮ型、ＶＡＣ型、ＯＣＢ型等の表示素子に適した光学補償膜となる。
【０１４３】
上記光学活性化合物は、らせん構造を誘起し、ベースとなる重合性液晶組成物と適切に混合できれば、いずれの光学活性化合物を用いてもよい。また、重合性化合物でも非重合性化合物のいずれでもよく、目的に応じて最適な化合物を添加することができる。耐熱性および耐溶媒性を考慮した場合、重合性化合物の方が好適である。光学活性を発現する骨格として不斉炭素を１つもしくは複数有するアルキレン、アルケニレンまたは、以下の部分構造を有するものなどがある。
さらに上記光学活性化合物の中でも、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）が大きいものは、らせんピッチを短くする上では好適である。ねじり力の大きな化合物の代表例が、ＧＢ２２９８２０２号公報、ＤＥ１０２２１７５１号公報で開示されている。
【０１４４】
下記に光学活性を有する重合性化合物のより好ましい例を挙げる。しかし、これに限定されるものではない。
【０１４５】
【０１４６】
これらの化合物において、Ｑ６は独立して炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、Ｐ６は独立して前記の式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される基である。
【０１４７】
次に、本発明の組成物の重合条件について説明する。本発明の重合性液晶組成物を重合させることによって重合体が得られる。優れた配向の重合体を得るときは、熱重合よりも光重合触媒を用いた重合が好ましい。組成物が液晶である条件下で、重合を行わせるのが容易だからである。
【０１４８】
光重合に用いられる好ましい光の種類は、紫外線、可視光線、赤外線などである。電子線、Ｘ線などの電磁波を用いてもよい。通常は、紫外線または可視光線が好ましい。好ましい波長の範囲は１５０〜５００ｎｍである。さらに好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、最も好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源は、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などである。好ましい光源は超高圧水銀ランプである。光源からの光はそのまま組成物に照射してもよい。フィルターによって選択した特定の波長（または特定の波長領域）を組成物に照射してもよい。好ましい照射エネルギー密度は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2である。さらに好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2である。特に好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。好ましい照度は０．１〜５０００ｍＷ/ｃｍ２である。さらに好ましい照度は１〜２０００ｍＷ/ｃｍ２である。組成物が液晶相を有するように、光を照射するときの温度を設定する。好ましい照射温度は１００℃以下である。１００℃以上の温度では熱による重合が起こりうるので、良好な配向が得られないときがある。
【０１４９】
次に、本発明の重合体について説明する。
化合物（１）を重合させることにより重合体が得られる。化合物（１）の１つのみを重合させると、単独重合体が得られる。この重合体は１つの構成単位からなる。少なくとも２つの化合物（１）を含有する組成物を重合させると、共重合体が得られる。この共重合体は少なくとも２つの構成単位を有する。本発明の目的とする光学異方性を有するフィルムの製造には、配向した液晶状態での重合が望ましいので、光カチオン重合法がとくに好ましい重合法である。化合物（１）を重合させることにより得られる重合体は、無色透明である、光弾性（photoelasticity）が小さい、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、耐熱性が大きい、耐候性が大きい、などの特性において、複数の特性を充足する。
【０１５０】
この重合体の用途は次のとおりである。この重合体は、光学異方性を有する成形体として使用できる。この重合体の用途の例は、位相差板（１／２波長板、１／４波長板など）、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜などの光学フィルムである。ホモジニアス、ハイブリット、ホメオトロピック、ツイストなどの配向を有する重合体は、位相差板、偏光素子、液晶配向膜、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜、などに利用できる。このような重合体は、液晶表示素子の位相差板や視野角補償膜などに、光学補償を目的として用いられる。産業上の重要な用途の例は、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＴＮモード、ＭＶＡモードなどの液晶表示素子における視野角補償である。
【０１５１】
この重合体の応用用途には以下のようなものがある。
この重合体は、高熱伝導性エポキシ樹脂、接着剤、強度、弾性率、のび率などの機械的性質の異方性を持つ合成高分子、化粧品、装飾品、非線形光学材料および情報記憶材料などにも利用できる。これらの用途では熱可塑性樹脂が利用できる。この熱可塑性樹脂は分岐の進んでいない線状の高分子であり、単官能性化合物を主体とする本発明の液晶組成物を重合することにより得られる。これらの重量平均分子量は５００〜１，０００，０００であり、好ましくは１，０００〜５００，０００、より好ましくは５，０００〜１００，０００である。
【０１５２】
重合体の用途の一例である位相差板は偏光の状態を変換する機能を有する。１／２波長機能板は、直線偏光の振動方向を９０度回転させる機能を有する。ｄ＝λ／２×Δｎの式を満たすように組成物を支持基板上に塗布する。ここで、ｄは組成物の厚さ、λは波長、Δｎは光学異方性である。この組成物の配向させたあと、光重合させることによって１／２波長機能板が得られる。一方、１／４波長機能板は、直線偏光を円偏光に、または円偏光を直線偏光に変換する機能を有する。この場合には、ｄ＝λ／４×Δｎの条件を満たすように組成物の塗膜を調製すればよい。重合体の厚さ（ｄ）は次のように調整される。組成物を溶剤で希釈したあと、支持基板上に塗布する方法では、組成物の濃度、塗布する方法、塗布する条件などを適切に選択することによって、目的とする厚さの塗膜を得ることができる。液晶セルを利用する方法も好ましい。液晶セルはポリイミドなどの配向膜を有しているので都合がよい。この液晶セルに組成物を注入する場合には、液晶セルの間隔によって塗膜の厚さを調整することができる。
【０１５３】
光重合と熱重合とを組み合わせることで、パターン化された位相差板を提供することも出来る。重合性液晶組成物を支持基板上に塗布し、配向させたのち、フォトマスクを介して光を照射することで、照射部分のみを光重合させる。次いで、この重合体を加熱することにより、未硬化部分は配向性の乱れや等方相への転移による光学異方性の低下や欠如を引き起こす。未硬化部分は熱重合させることでパターン化された位相差板を調製することができる。
【０１５４】
重合体の形状は、フィルム、板、粒、粉末などである。重合体は成形されてもよい。フィルムの重合体を得るには、支持基板が一般的に用いられる。支持基板の上に組成物を塗布し、液晶相を有している塗膜（paint film）を重合させるとフィルムが得られる。好ましい重合体の厚さは、重合体の光学異方性の値および用途に依存する。重合体の好ましい厚さは０．０５〜５０μｍの範囲である。さらに好ましい厚さは０．１〜２０μｍの範囲である。特に好ましい厚さは０．５〜１０μｍの範囲である。これらの重合体のヘイズ値（haze value；曇り度）は、概して１．５％以下である。これらの重合体の透過率は、可視光領域において一般的に８０％以上である。このような重合体は液晶表示素子に用いる光学異方性の薄膜として適している。
【０１５５】
支持基板の例は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣと表記することがある）、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリエステル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートである。商品名の例は、ＪＳＲ（株）の「アートン」、日本ゼオン（株）の「ゼオネックス」および「ゼオノア」、三井化学（株）の「アペル」である。支持基板は一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルムなどである。好ましい支持基板はトリアセチルセルロースフィルムである。このフィルムを前処理することなくそのまま用いてもよい。このフィルムは、必要に応じて、ケン化処理、コロナ放電処理、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などの表面処理を行ってもよい。その他の例は、アルミニウム、鉄、銅などの金属製の支持基板、アルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスなどのガラス製の支持基板などである。
【０１５６】
支持基板上の塗膜は、組成物をそのまま塗布することによって調製される。塗膜は、組成物を適切な溶剤に溶かして塗布したあと、溶剤を除去することによっても調製される。塗布の方法は、スピンコート、ロールコート、カーテンコート、フローコート、プリント、マイクログラビアコート、グラビアコート、ワイヤーバーコート、デップコート、スプレーコート、メニスカスコート、流延成膜法などである。
【実施例】
【０１５７】
実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により制限されない。化合物の構造は核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル、質量スペクトルなどで確認した。相転移温度の単位は℃であり、Ｃは結晶を、Ｉは等方性液体相を示す。括弧内はモノトロピックの液晶相を示す。なお、実施例においては、容量の単位であるリットルを記号Ｌで表記した。以下に、物性値の測定方法を示す。
【０１５８】
＜化合物の構造確認＞
５００MHｚのプロトンNMR（ブルカー：DRX-500）の測定により合成した化合物の構造を確認した。記載した数値はｐｐｍを表し、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｍはマルチプレットを表す。
【０１５９】
＜相転移温度＞
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、３℃／分の速度で昇温した。液晶相が別の液晶相に転移する温度を測定した。Ｃは結晶、Ｎはネマチック相、Ｉは等方性液体を意味する。透明点（ＮＩ点）は、ネマチック相の上限温度またはネマチック相から等方性液体への転移温度である。「Ｃ ５０ Ｎ ６３ Ｉ」は、５０℃で結晶からネマチック相に転移し、６３℃でネマチック相から等方性液体へ転移したことを示す。
【０１６０】
＜液晶分子の配向＞
重合体フィルム（液晶配向フィルム）は、ラビング処理したポリイミド配向膜付きガラス基板上に調製した。重合体の配向は、透過光強度の角度依存性に基づいて、次に示す方法により目視で決定した。
（１）目視による観察方法
クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に重合体フィルムを狭持して、フィルム面に垂直方向（傾き角は０度）から光を照射した。照射の傾き角を０度から例えば５０度に増大させながら透過光の変化を観察した。照射を傾ける方向は、ラビングの方向（液晶分子の長軸方向）に一致させた。垂直方向からの透過光が最大であるとき、配向はホモジニアスであると判断した。ホモジニアス配向では、液晶分子の配向ベクトルがガラス基板と平行であるからであり、この重合体フィルムはＡ−プレートとして機能する。一方、垂直方向からの透過光が最小であり、傾き角を増大させるにつれて透過光が増大するとき、配向はホメオトロピックであると判断した。ホメオトロピック配向では液晶分子の配向ベクトルがガラス基板に垂直であるからであり、この重合体フィルムはＣ−プレートとして機能する。
（２）偏光解析装置による測定
シンテック（株）製のＯＰＴＩＰＲＯ偏光解析装置を用いた。重合体フィルムに波長が５５０ｎｍの光を照射した。この光の入射角度をフィルム面に対して９０度から減少させながらレタデーション（Δｎ×ｄ）を測定した。
【０１６１】
＜光カチオン重合＞
光カチオン重合による重合熱は光化学反応熱熱量計ＰＤＣ１２１（Seiko Instruments Inc.）を用いて、アルミパン上のサンプルに紫外線を照射し、乾燥空気流下、２５℃で測定した。
【実施例１】
【０１６２】
＜化合物（１−１−２０）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、トルエン（３０ｍｌ）、水（３０ｍｌ）の混合物に水酸化ナトリウム（１１．１ｇ）を加え室温で攪拌する。シクロヘキセンメタノール（６．２ｇ）、１，４−ジブロモブタン（１８．０ｇ）、およびテトラブチルアンモニウムブロミド（１．８ｇ）を添加し３時間加熱還流下攪拌した。有機層を分離し、得られた有機層を飽和重曹水および１０％食塩水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン）によって精製し、無色の液体［Ｈ１］（５．９ｇ）を得た。
【０１６３】
化合物［Ｈ１］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：５．６７（ｓ，２Ｈ），３．４７−３．４２（ｍ，４Ｈ），３．３３−３．２５（ｍ，２Ｈ），２．１５−２．０２（ｍ，３Ｈ），２．００−１．６８（ｍ，７Ｈ），１．３２−１．２２（ｍ，１Ｈ）．
【０１６４】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１］（５．９ｇ）、４−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル（４．０ｇ）、水酸化カリウム（１．５ｇ）、ＤＭＦ（６０ｍｌ）の混合物を８０℃で６時間加熱下攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去した。ろ液にトルエン（１００ｍｌ）、水（１００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、溶剤を減圧留去した。次いで残渣にメタノール（２０ｍｌ）、水（２０ｍｌ）および水酸化カリウム（１．５ｇ）を加え３時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去し、３Ｎ塩酸水（１００ｍｌ）、トルエン（１００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を水で洗浄し、溶剤を減圧留去した。再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ２］（２．６ｇ）を得た。
【０１６５】
化合物［Ｈ２］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．０５（ｄ，２Ｈ），６．９３（ｄ，２Ｈ），５．６７（ｓ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．３５−３．２７（ｍ，２Ｈ），２．１５−２．０３（ｍ，３Ｈ），１．９５−１．６８（ｍ，７Ｈ），１．３３−１．２３（ｍ，１Ｈ）．
【０１６６】
（第５段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（２．６ｇ）、メチルヒドロキノン（０．５ｇ）、ＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）（０．２ｇ）、ジクロロメタン（３０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）（１．９ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ３］（２．３ｇ）を得た。
【０１６７】
化合物［Ｈ３］の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ７２ Ｎ ９８ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１６（ｄ，２Ｈ），８．１４（ｄ，２Ｈ），７．１７（ｄ，１Ｈ），７．１３（ｄ，１Ｈ），７．１０−７．０６（ｍ，１Ｈ），６．９９（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），５．６８（ｓ，２Ｈ），４．１２−４．０７（ｍ，４Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３６−３．２９（ｍ，４Ｈ），２．２５（ｓ，３Ｈ），２．１５−２．０２（ｍ，６Ｈ），１．９６−１．７０（ｍ，１６Ｈ），１．３４−１．２４（ｍ，２Ｈ）．
【０１６８】
（最終段階：化合物（１−１−２０）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ３］（２．３ｇ）、ジクロロメタン（２５ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（１．９ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物（１−１−２０）（０．９ｇ）を得た。
【０１６９】
化合物（１−１−２０）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ６２ Ｎ ８５ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１８（ｄ，２Ｈ），８．１４（ｄ，２Ｈ），７．１８（ｄ，１Ｈ），７．１３（ｄ，１Ｈ），７．１０−７．０６（ｍ，１Ｈ），６．９９（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），３．４７（ｔ，４Ｈ），３．２８−３．１３（ｍ，８Ｈ），２．２５（ｓ，３Ｈ），２．２０−１．９７（ｍ，４Ｈ），１．９４−１．７０（ｍ，１０Ｈ），１．６２−１．４０（ｍ，１０Ｈ），１．２０−１．１０（ｍ，１Ｈ），１．０６−０．９６（ｍ，１Ｈ）．
【実施例２】
【０１７０】
＜化合物（１−３−２１）の合成＞
（第１段階）
シクロヘキセンメタノール（２０．０ｇ）、ピリジン（２０ｍｌ）、トルエン（６０ｍｌ）の混合物に室温でｐ−トルエンスルホン酸クロリド（３７．４ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水（４０ｍｌ）を加えて４０℃で３時間加熱攪拌した。有機層を分離し、得られた有機層を１Ｎ塩酸、飽和重曹水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去し、無色の液体［Ｈ４］（４５．２ｇ）を得た。
【０１７１】
【０１７２】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ４］（３０．０ｇ）、４−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル（１８．９ｇ）、水酸化カリウム（７．０ｇ）、メタノール（３００ｍｌ）の混合物を２０時間加熱還流下攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去し、ろ液を減圧下、溶剤を留去した。トルエン（１００ｍｌ）、水（１００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、溶剤を減圧留去した。次いで残渣にメタノール（６０ｍｌ）、水（６０ｍｌ）および水酸化カリウム（７．６ｇ）を加え３時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去し、残渣を３Ｎ塩酸水（３００ｍｌ）へ入れ析出した化合物［Ｈ５］を減圧ろ過によりろ別し、再結晶（エタノール）によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ５］（１８．５ｇ）を得た。
【０１７３】
化合物［Ｈ５］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．０６（ｄ，２Ｈ），６．９４（ｄ，２Ｈ），５．７０（ｓ，２Ｈ），３．９２（ｄ，２Ｈ），２．２４−２．０８（ｍ，４Ｈ），１．９７−１．８４（ｍ，２Ｈ），１．５９−１．５０（m，１Ｈ）．
【０１７４】
（第３段階）
窒素雰囲気下、アリルアルコール（１００．０ｇ）、ＴＨＦ（２４８．３ｇ）の混合物に冷却させながら塩化チオニル（２４５．６ｇ）を加え６０℃で４時間加熱攪拌した。溶剤を減圧留去し、無色の液体を得た。この液体にヒドロキノン（１０．０ｇ）、水酸化カリウム（５．１ｇ）、ヨウ化カリウム（１．０ｇ）、ソルミックス（１００ｍｌ）を加え８時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去して、残渣にトルエン（２００ｍｌ）、１０％塩酸（２００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、溶剤を減圧留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））によって精製して、無色の液体［Ｈ６］（５．１ｇ）を得た。
【０１７５】
化合物［Ｈ６］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．７３（ｓ，４Ｈ），５．９７−５．８７（ｍ，１Ｈ），５．２７（ｄ，１Ｈ），５．１８（ｄ，１Ｈ），４．００（ｄ，２Ｈ），３．８９（ｔ，２Ｈ），１．８８−１．７２（ｍ，４Ｈ）．
【０１７６】
（第４段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ５］（５．０ｇ）、化合物［Ｈ６］（４．８ｇ）、ＤＭＡＰ（０．５ｇ）、ジクロロメタン（５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（４．７ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ７］（６．０ｇ）を得た。
【０１７７】
化合物［Ｈ７］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．１０（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），６．９２（ｄ，２Ｈ），５．９７−５．８７（ｍ，１Ｈ），５．７２（ｓ，２Ｈ），５．２９（ｄ，１Ｈ），５．１９（ｄ，１Ｈ），４．０２−３．９７（ｍ，４Ｈ），３．９３（ｄ，２Ｈ），２．３０−２．１０（ｍ，５Ｈ），１．９８−１．８４（ｍ，５Ｈ），１．８２−１．７４（ｍ，２Ｈ），１．５０−１．４０（ｍ，１Ｈ）．
【０１７８】
（最終段階：化合物（１−３−２１）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ７］（６．０ｇ）、ジクロロメタン（６０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（８．０ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物（１−３−１１）（３．１ｇ）を得た。
【０１７９】
化合物（１−３−２１）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ８６ （ＳｍＡ ２２ Ｎ ７０） Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１２（ｄ，２Ｈ），７．０９（ｄ，２Ｈ），６．９４（ｄ，２Ｈ），６．９２（ｄ，２Ｈ），３．９９（ｔ，２Ｈ），３．９０−３．７９（ｍ，２Ｈ），３．７７−３．７３（ｍ，１Ｈ），３．６３−３．５２（ｍ，２Ｈ），３．４３−３．３７（ｍ，１Ｈ），３．２８−３．２４（ｍ，１Ｈ），３．２３−３．１４（ｍ，３Ｈ），２．８１（ｔ，１Ｈ），２．６４−２．６１（ｍ，１Ｈ），２．３３−２．１８（ｍ，２Ｈ），２．１２−２．０３（ｍ，１Ｈ），１．９８−１．７５（ｍ，６Ｈ），１．７２−１．５２（ｍ，３Ｈ），１．３７−１．２７（ｍ，１Ｈ），１．２２−１．１３（ｍ，１Ｈ）．
【実施例３】
【０１８０】
＜化合物（１−３−７）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、３−シクロヘキセン−１−カルボン酸（５．０ｇ）、化合物［Ｈ６］（８．８ｇ）、ＤＭＡＰ（１．０ｇ）、ジクロロメタン（５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（８．９ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製して、無色の液体［Ｈ８］（１１．５ｇ）を得た。
【０１８１】
化合物［Ｈ８］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．９７（ｄ，２Ｈ），６．８７（ｄ，２Ｈ），５．９３−５．８７（ｍ，１Ｈ），５．７３（ｓ，２Ｈ），５．２８（ｄ，１Ｈ），５．１８（ｄ，１Ｈ），４．０１−３．９４（ｍ，４Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），２．８４−２．７６（ｍ，１Ｈ），２．３９（ｄ，２Ｈ），２．２３−２．１１（ｍ，３Ｈ），１．９１−１．７４（ｍ，５Ｈ）．
【０１８２】
（最終段階：化合物（１−３−７）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ８］（１１．０ｇ）、ジクロロメタン（１１０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（１９．４ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））によって精製して、無色の液体（１−３−７）（３．５ｇ）を得た。
【０１８３】
化合物（１−３−７）のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．９５（ｄ，２Ｈ），６．８７（ｄ，２Ｈ），３．９６（ｔ，２Ｈ），３．７４（ｄ，２Ｈ），３．６２−３．５０（ｍ，２Ｈ），３．４１−３．３６（ｍ，１Ｈ），３．３２−３．１３（ｍ，３Ｈ），２．８３−２．７２（ｍ，２Ｈ），２．６３−２．６０（ｍ，１Ｈ），２．５４−２．２４（ｍ，２Ｈ），２．１５−１．５３（ｍ，８Ｈ）．
【実施例４】
【０１８４】
＜化合物（１−４−２４）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、３−シクロヘキセン−１−カルボン酸（１０．０ｇ）、１−ヒドロキシ−４−プロピルジシクロヘキサン（１２．６ｇ）、ＤＭＡＰ（１．９ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１７．２ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン）によって精製、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／５））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ９］（１４．３ｇ）を得た。
【０１８５】
化合物［Ｈ９］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：５．６７（ｓ，２Ｈ），４．６９−４．６１（ｍ，１Ｈ），２．５５−２．４７（ｍ，１Ｈ），２．２３（ｄ，２Ｈ），２．１２−２．０６（ｍ，２Ｈ），２．０２−１．９４（ｍ，３Ｈ），１．８０−１．６３（ｍ，７Ｈ），１．３５−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．１７−０．７９（ｍ，１４Ｈ）．
【０１８６】
（最終段階：化合物（１−４−２４）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ９］（１４．０ｇ）、ジクロロメタン（１４０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（１２．３ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製し、再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／５））によって精製して、無色結晶の化合物（１−４−２４）（１１．０ｇ）を得た。
【０１８７】
化合物（１−４−２４）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ １２７ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：４．６７−４．５８（ｍ，１Ｈ），３．２５−３．２２（ｍ，１Ｈ），３．１８−３．１３（ｍ，１Ｈ），２．５０−２．４３（ｍ，１Ｈ），２．２７−２．１０（ｍ，２Ｈ），２．０２−１．８８（ｍ，３Ｈ），１．８１−１．５２（ｍ，８Ｈ），１．４８−１．３８（ｍ，１Ｈ），１．３４−１．２３（ｍ，４Ｈ），１．１９−０．７９（ｍ，１４Ｈ）．
【実施例５】
【０１８８】
＜化合物（１−２−７）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（５．０ｇ）、４−シアノフェノール（２．０ｇ）、ＤＭＡＰ（０．４ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（３．６ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１０］（５．２ｇ）を得た。
【０１８９】
化合物［Ｈ１０］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１２（ｄ，２Ｈ），７．７４（ｄ，２Ｈ），７．３５（ｄ，２Ｈ），６．９８（ｄ，２Ｈ），５．６７（ｓ，２Ｈ），４．０９（ｔ，２Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．３６−３．２９（ｍ，２Ｈ），２．１５−２．０３（ｍ，３Ｈ），１．９７−１．７０（ｍ，７Ｈ），１．３３−１．２４（ｍ，１Ｈ）．
【０１９０】
（最終段階：化合物（１−２−７）の合成＞
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１０］（５．０ｇ）、ジクロロメタン（５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（３．６ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製し、再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／５））によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−７）（３．７ｇ）を得た。
【０１９１】
化合物（１−２−７）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ６１ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．７３（ｄ，２Ｈ），７．３５（ｄ，２Ｈ），６．９８（ｄ，２Ｈ），４．０８（ｔ，２Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ），３．２９−３．１４（ｍ，４Ｈ），２．１９−２．１２（ｍ，１Ｈ），２．１０−１．９７（ｍ，１Ｈ），１．９５−１．７０（ｍ，６Ｈ），１．６０−１．４（ｍ，２Ｈ），１．２０−０．９５（ｍ，１Ｈ）．
【実施例６】
【０１９２】
＜化合物（１−１−３）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、ヒドロキノン（５２．９ｇ）、化合物［Ｈ１］（５９．３ｇ）、水酸化ナトリウム（１９．２ｇ）、ＤＭＦ（３００ｍｌ）の混合物を８０℃で６時間加熱下攪拌した。析出した塩を減圧ろ過により除去した。ろ液にトルエン（５００ｍｌ）、水（５００ｍｌ）を加え有機層を分離した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））によって精製して、無色の液体［Ｈ１１］（３９．９ｇ）を得た。
【０１９３】
化合物［Ｈ１１］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：６．８０−６．７２（ｍ，４Ｈ），５．６６（ｓ，２Ｈ），５．２７（ｓ，１Ｈ），３．９１（ｔ，２Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．３８−３．２９（ｍ，２Ｈ），２．１６−２．０２（ｍ，３Ｈ），１．９７−１．６８（ｍ，７Ｈ），１．３２−１．２１（ｍ，１Ｈ）．
【０１９４】
（第２段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（２５.０ｇ）、化合物［Ｈ１１］（２０．２ｇ）、ＤＭＡＰ（２．０ｇ）、ジクロロメタン（２５０ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１７．８ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１２］（３５．４ｇ）を得た。
【０１９５】
化合物［Ｈ１２］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１２（ｄ，２Ｈ），７．０９（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），６．９１（ｄ，２Ｈ），５．６７（ｓ，２Ｈ），４．０８（ｔ，２Ｈ），３．９９（ｔ，２Ｈ），３．５３−３．４７（ｍ，４Ｈ），３．３６−３．２７（ｍ，４Ｈ），２．１７−２．０２（ｍ，６Ｈ），１．９７−１．７０（ｍ，１４Ｈ），１．３４−１．２３（ｍ，２Ｈ）．
【０１９６】
（最終段階：化合物（１−１−３）の合成）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１２］（３０．０ｇ）、ジクロロメタン（３００ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（３１．１ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物（１−１−３）（１８．７ｇ）を得た。
【０１９７】
化合物（１−１−３）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ４６ （Ｎ −６） Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．８９（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），６．９１（ｄ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ），３．４９−３．４３（ｍ，４Ｈ），３．２８−３．１３（ｍ，８Ｈ），２．２０−１．７０（ｍ，１５Ｈ），１．６２−１．４０（ｍ，５Ｈ），１．２０−０．９７（ｍ，２Ｈ）．
【実施例７】
【０１９８】
＜化合物（１−２−６）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（２０．０ｇ）、４−メトキシフェノール（８．２ｇ）、ＤＭＡＰ（１．６ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（１４．２ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１３］（２３．１ｇ）を得た。
【０１９９】
化合物［Ｈ１３］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．１１（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），６．９４（ｄ，２Ｈ），５．６７（ｓ，２Ｈ），４．０８（ｔ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．３６−３．２９（ｍ，２Ｈ），２．１８−２．０７（ｍ，３Ｈ），１．９６−１．７１（ｍ，７Ｈ），１．３４−１．２５（ｍ，１Ｈ）．
【０２００】
（最終段階：化合物（１−２−６）の合成＞
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１３］（２２．７ｇ）、ジクロロメタン（２３０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（１６．２ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製し、再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／５））によって精製して、無色結晶の化合物（１−２−６）（１７．９ｇ）を得た。
【０２０１】
化合物（１−２−６）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ ６１ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１３（ｄ，２Ｈ），７．１１（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），６．９３（ｄ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ），３．８２（ｓ，２Ｈ），３．４５（ｔ，２Ｈ），３．２８−３．１４（ｍ，４Ｈ），２．１８−１．９７（ｍ，２Ｈ），１．９２−１．７２（ｍ，６Ｈ），１．５８−１．４２（ｍ，３Ｈ），１．２２−０．９４（ｍ，１Ｈ）．
【実施例８】
【０２０２】
＜化合物（１−１−４５）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（１０．０ｇ）、メトキシヒドロキノン（２．３ｇ）、ＤＭＡＰ（０．８ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（７．１ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製、および再結晶（トルエン−メタノール混合物（容量比：トルエン／メタノール＝１／１０））によって精製して、無色結晶の化合物［Ｈ１４］（７．８ｇ）を得た。
【０２０３】
化合物［Ｈ１４］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１５（ｔ，４Ｈ），７．１７（ｄ，１Ｈ），７．０１−６．９６（ｍ，４Ｈ），６．８８（ｄ，１Ｈ），６．８６−６．８２（ｍ，１Ｈ），５．６８（ｓ，４Ｈ），４．１２−４．０７（ｍ，４Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３７−３．２９（ｍ，４Ｈ），２．１６−２．０３（ｍ，６Ｈ），１．９６−１．８６（ｍ，６Ｈ），１．８６−１．７０（ｍ，８Ｈ），１．３４−１．２４（ｍ，２Ｈ）．
【０２０４】
（最終段階：化合物（１−１−４５）の合成＞
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１４］（７．８ｇ）、ジクロロメタン（８０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（６．４ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝４／１））によって精製し、減圧乾燥することで、油状物（１−１−４５）（５．２ｇ）を得た。この化合物は室温で液晶状態であった。
【０２０５】
化合物（１−１−４５）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｎ ５５ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１５（ｔ，４Ｈ），７．１７（ｄ，１Ｈ），７．００−６．９５（ｍ，４Ｈ），６．８９（ｄ，１Ｈ），６．８６−６．８２（ｍ，１Ｈ），４．１１−４．０５（ｍ，４Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），３．４６（ｔ，４Ｈ），３．２９−３．３．１２（ｍ，８Ｈ），２．１９−２．２．１２（ｍ，２Ｈ），２．１１−１．９６（ｍ，２Ｈ），１．９４−１．７０（ｍ，１２Ｈ），１．６１−１．４０（ｍ，４Ｈ），１．２４−１．１０（ｍ，１Ｈ），１．０６−０．９５（ｍ，１Ｈ）．
【実施例９】
【０２０６】
＜化合物（１−１−４６）の合成＞
（第１段階）
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ２］（１０．０ｇ）、４，４´−ジヒドロキシビフェニル（３．１ｇ）、ＤＭＡＰ（０．８ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）の混合物に冷却させながらＤＣＣ（７．１ｇ）、を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液に水を加えて有機層を分離し、得られた有機層を２Ｎ塩酸および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝８／１））によって精製、および酢酸エチルでの再結晶により精製し、無色結晶の化合物［Ｈ１５］（８．１ｇ）を得た。
【０２０７】
化合物［Ｈ１５］のＮＭＲ分析値を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１７（ｄ，４Ｈ），７．６３（ｄ，４Ｈ），７．２９（ｄ，４Ｈ），６．９９（ｄ，４Ｈ），５．６８（ｓ，４Ｈ），４．０９（ｔ，４Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３７−３．２９（ｍ，４Ｈ），２．１６−２．０３（ｍ，６Ｈ），１．９７−１．８６（ｍ，６Ｈ），１．８６−１．７０（ｍ，８Ｈ），１．３４−１．２４（ｍ，２Ｈ）．
【０２０８】
（最終段階：化合物（１−１−４６）の合成＞
窒素雰囲気下、化合物［Ｈ１５］（７．９ｇ）、ジクロロメタン（８０ｍｌ）の混合物に冷却させながらｍ−クロロ過安息香酸（６．１ｇ）を加え室温で１６時間攪拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、溶出液：トルエン−酢酸エチル混合物（容量比：トルエン／酢酸エチル＝２／１））によって精製し、減圧乾燥することで、無色液体の化合物（１−１−４５）（４．６ｇ）を得た。
【０２０９】
化合物（１−１−４６）の相転移温度およびＮＭＲ分析値を示す。
Ｃ １１７ Ｎ ２５０ ＜ Ｉ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：８．１７（ｄ，４Ｈ），７．６３（ｄ，４Ｈ），７．２８（ｄ，４Ｈ），６．９９（ｄ，４Ｈ），４．０８（ｔ，４Ｈ），３．２９−３．１３（ｍ，８Ｈ），２．２０−２．１３（ｍ，２Ｈ），２．１１−１．９７（ｍ，２Ｈ），１．９５−１．６４（ｍ，１２Ｈ），１．６２−１．４０（ｍ，４Ｈ），１．２１−１．１０（ｍ，１Ｈ），１．０６−０．９６（ｍ，１Ｈ）．
【０２１０】
以下の重合性液晶組成物の実施例において使用した、化合物（１）以外の成分である化合物を示す。これらの化合物は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）等の成書に記載されている。
【０２１１】
上記記載の化合物の具体的製造方法について説明する。化合物（Ｍ１−１−１）および化合物（Ｍ１−１−３）は特開２００５−６０３７３号公報に記載されている。化合物（Ｍ１−１−２）は特開２００５−９７２８１号公報に記載されている。化合物（Ｍ１−７−１）はPolymer, 34（8）, 1736-1740 (1993) に記載されている。化合物（Ｍ１−１９−１）および化合物（Ｍ１−１９−２）はMacromolecules, 26, 1244-1247 (1993) に記載されている。化合物（Ｍ２−１３−１）は特開２００５−３２０３１７号公報に記載されている。化合物（６−８−１）は特開２００５−２６３７７８号公報に記載されている。化合物（Ｍ１−７−２）は９−メチル−２，７−ジヒドロキシフルオレンをメチルヒドロキノンに変更することで、化合物（Ｍ１−１−１）と同様の方法で合成できる。化合物（Ｍ１−７−３）はMakromol. Chem., 190, 2255-2268 (1989) に記載されている。
【実施例１０】
【０２１２】
化合物（１−１−２０）／重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を重量比１００／０．０２で混合し、これをシクロペンタノンに溶解させて、化合物濃度が２０重量％の溶液を調製した。この溶液をアルミニウムパンに取り、８０℃に加熱したホットプレート上に３０分間置いて、溶剤を蒸発させた。
次に光化学反応熱熱量計ＰＤＣ１２１（Seiko Instruments Inc.）を用いて、乾燥空気流下、２５℃でアルミパン上のサンプルに紫外線（３６５ｎｍ、１５ｍＷ／ｃｍ２）を照射したところ、大きな発熱ピークと迅速なピークトップへの到達が観察された。
【０２１３】
［比較例１］
化合物（１−１−２０）を化合物（Ｍ１−７−２）に置き換えた以外は実施例１０と同様に測定したところ、ピークトップへの到達が緩慢な発熱ピークを確認した。
【実施例１１】
【０２１４】
化合物（１−２−１４）と化合物（Ｍ１−１９−１）を重量比７０／３０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／ＭＭＰ＝９／１（重量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が３０重量％の組成物を調製した。この組成物を室温で放置したところ、３日以上結晶の析出などは見られなかった。なお、ＰＧＭＥＡは、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートの略号であり、ＭＭＰは、３-メトキシプロピオン酸メチルの略号である。
【０２１５】
［比較例２］
化合物（１−２−１４）を化合物（Ｍ１−７−２）に置き換えた以外は、実施例１１に記載の方法で組成物の調製を行った。この組成物を室温で放置したところ、１時間で結晶の析出が見られた。
【実施例１２】
【０２１６】
化合物（１−１−２０）／化合物（１−２−７）を重量比８０／２０で混合し、これを酢酸ｎ−ブチルに相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００１のシリコーン系の非イオン性界面活性剤ＢＹＫ−３３３（ビックケミー・ジャパン（株）製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液をラビング処理したポリイミド配向膜を有するガラス基板にスピンコーターで塗布した。このガラス基板を７０℃に加熱したホットプレート上に１２０秒間置いて、溶剤を蒸発させた。
次に、大気下、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて、３０ｍＷ／ｃｍ２（中心波長３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間照射して重合させた。得られた薄膜はホモジニアス配向が固定化されており、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１３】
【０２１７】
化合物（１−１−２０）／化合物（Ｍ１−１９−１）／化合物（Ｍ１−１−３）を重量比６０／３０／１０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／シクロペンタノン＝１／１（容量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８（（株）ネオス製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１４】
【０２１８】
化合物（１−３−２１）／化合物（Ｍ１−１９−２）を重量比７０／３０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／ＭＭＰ＝１／１（容量比）に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２の炭化水素系の非イオン性界面活性剤ポリフローＮｏ．７５（共栄社化学（株）製）、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１５】
【０２１９】
化合物（１−１−２０）／化合物（Ｍ１−７−１）／化合物（Ｍ１−１−３）を重量比８０／１０／１０で混合し、これをシクロペンタノンに相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８、重量比０．０２の重合開始剤ＤＴＳ−１０２（みどり化学製）を添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、Ａプレート光学特性を示した。
【実施例１６】
【０２２０】
化合物（１−３−２１）／化合物（Ｍ１−１９−１）／化合物（Ｍ２−１３−１）を重量比３５／３０／３５で混合し、これをＰＧＭＥＡ／ＭＭＰ＝９／１（容量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した溶液をガラス基板にスピンコーターで塗布し薄膜を作成した。このガラス基板を７０℃に加熱したホットプレート上に１２０秒間置いて、溶剤を蒸発させた。
次に、大気下、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて、３０ｍＷ／ｃｍ２（中心波長３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間照射して重合させた。得られた薄膜はホモジニアス配向が固定化されており、Ｃプレート光学特性を示した。
【実施例１７】
【０２２１】
化合物（１−１−２０）／化合物（１−３−２１）／化合物（Ｍ１−１−１）／化合物（６−８−１）を重量比６０／１５／１５／１０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／シクロペンタノン＝３／７（容量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、ネガティブＣプレート光学特性を示した。
【実施例１８】
【０２２２】
化合物（１−１−２０）／化合物（Ｍ１−１９−１）／化合物（Ｍ１−１−２）を重量比３０／４０／３０で混合し、これをメチルエチルケトンに相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．００２のフッ素系の非イオン性界面活性剤ＦＴＸ−２１８、重量比０．０２の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐを添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、可視光選択反射を示した。
【実施例１９】
【０２２３】
化合物（１−４−２４）／化合物（Ｍ１−１−１）／化合物（Ｍ２−１３−１）を重量比１０／７５／１５で混合し、これをトルエンに相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．０２の重合開始剤ＤＴＳ−１０２を添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、Ｏプレート光学特性を示した。
【実施例２０】
【０２２４】
化合物（１−１−４６）／化合物（１−１−３）／化合物（Ｍ１−７−３）／化合物（６−８−１）を重量比４０／２０／３０／１０で混合し、これをＰＧＭＥＡ／シクロペンタノン＝３／７（容量比）の混合溶剤に相溶させて、化合物濃度が２０重量％の組成物を調製した。この組成物に対して重量比０．０２の重合開始剤イルガキュアー２５０、重量比０．０２の重合開始剤イルガキュアー１８４、重量比０．０１の光増感剤Ｚ−４、を添加した。この溶液を用い、実施例１２に準じて薄膜を作成したところ、ネガティブＣプレート光学特性を示した。
【産業上の利用可能性】
【０２２５】
本発明の化合物は、重合性液晶性化合物として使用でき、重合性液晶組成物の成分として使用できる。本発明の重合体は、例えば、液晶表示素子の構成要素である位相差板、偏光素子、選択反射膜、輝度向上フィルムおよび視野角補償膜などに利用することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される重合性液晶化合物：
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；
この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは０〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、塩素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合である。
（ここに、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
【請求項２】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項３】
Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；そして、ｍが１〜３の整数である、請求項１または２に記載の重合性液晶化合物。
【請求項４】
Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２である、請求項１または２に記載の重合性液晶化合物。
【請求項５】
Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項６】
Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項７】
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項８】
Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは１〜３の整数であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項９】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１０】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよい炭素数２〜１４のアルキレンである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１１】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；Ｑ２が任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；式（２−２）におけるＲａが水素である、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１２】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−３）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−３）におけるＲａが水素である、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１３】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−４）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−４）におけるＲａがメチルまたはエチルである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１４】
式（１）で表される重合性液晶化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる少なくとも１つの化合物とを含有する重合性液晶組成物：
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは０〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合であり：
ここに、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ≡ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ≡ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｎは０〜５の整数であり；ｎが２以上であるとき、環Ａ４の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｑ３およびＱ４は独立して炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒはフッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｐ３およびＰ４は独立して式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり、式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。
【請求項１５】
式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍが１〜３の整数であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−であり；ｎが１〜３の整数であり；Ｑ３およびＱ４が独立して炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が５〜９５重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が５〜９５重量％である、請求項１４に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１６】
式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｎが１または２であり；Ｑ３およびＱ４が独立して炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が１０〜９０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が１０〜９０重量％である、請求項１４に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１７】
式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される化合物の割合が３０〜８０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が２０〜7０重量％である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１８】
式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が４０〜７０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が３０〜６０重量％である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１９】
他の重合性化合物をさらに含有する請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２０】
重合性の光学活性化合物をさらに含有する請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２１】
非重合性の液晶性化合物をさらに含有する請求項１４〜２０のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２２】
非重合性の光学活性化合物をさらに含有する請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２３】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを重合させて得られる重合体を含有する、光学異方性を有するフィルム。
【請求項２４】
請求項１４〜２２のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方性を有するフィルム。
【請求項２５】
Ａプレートの光学特性を有する、請求項２３または２４に記載の光学異方性を有するフィルム。
【請求項２６】
Ｃプレートの光学特性を有する、請求項２３または２４に記載の光学異方性を有するフィルム。
【請求項２７】
ネガティブＣプレートの光学特性を有する、請求項２３または２４に記載の光学異方性を有するフィルム。
【請求項２８】
Ｏプレートの光学特性を有する、請求項２３または２４に記載の光学異方性を有するフィルム。
【請求項２９】
請求項２３〜２８のいずれか１項に記載の光学異方性を有するフィルムを含有する液晶表示素子。
【請求項１】
式（１）で表される重合性液晶化合物：
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；
この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは０〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、塩素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合である。
（ここに、Ｒaは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。）
【請求項２】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項３】
Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；そして、ｍが１〜３の整数である、請求項１または２に記載の重合性液晶化合物。
【請求項４】
Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２である、請求項１または２に記載の重合性液晶化合物。
【請求項５】
Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項６】
Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項７】
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
【請求項８】
Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは１〜３の整数であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項９】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；
Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；
式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１０】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよい炭素数２〜１４のアルキレンである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１１】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；Ｑ２が任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；式（２−２）におけるＲａが水素である、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１２】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−３）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−３）におけるＲａが水素である、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１３】
Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−４）で表される重合性基であり；Ｑ１およびＱ２が独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−４）におけるＲａがメチルまたはエチルである、請求項１に記載の重合性液晶化合物。
【請求項１４】
式（１）で表される重合性液晶化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる少なくとも１つの化合物とを含有する重合性液晶組成物：
ここに、Ａ１およびＡ２は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルまたはフルオレン−２，７−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍは０〜５の整数であり；ｍが２以上であるとき、環Ａ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ１の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｐ１は式（２−１）で表される重合性基であり；Ｑ１は炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２は式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基、水素、フッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｑ２は、Ｐ２が重合性基であるときＱ１と同じように定義される基であり、Ｐ２が重合性基でないときは単結合であり：
ここに、Ａ３およびＡ４は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり；この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて、任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２は独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ≡ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ≡ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｎは０〜５の整数であり；ｎが２以上であるとき、環Ａ４の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく、Ｚ２の任意の２つは同じであってもよく、または異なってもよく；Ｑ３およびＱ４は独立して炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒはフッ素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、炭素数１〜２０のアルキル、または炭素数１〜２０のアルコキシであり；Ｐ３およびＰ４は独立して式（２−２）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり、式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａは独立して水素、ハロゲン、または炭素数１〜５のアルキルである。
【請求項１５】
式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであり、この１，４−フェニレンおよびフルオレン−２，７−ジイルにおいて任意の水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり；ｍが１〜３の整数であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−であり；ｎが１〜３の整数であり；Ｑ３およびＱ４が独立して炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が５〜９５重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が５〜９５重量％である、請求項１４に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１６】
式（１）において、Ａ１およびＡ２が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素またはメチルで置き換えられてもよく；Ｚ１が単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｍが１または２であり；Ｐ２が式（２−１）〜式（２−４）のいずれか１つで表される重合性基であり；Ｑ１が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または炭素数２〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；Ｐ２が式（２−２）で表される重合性基であるとき、Ｑ２は任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられてもよい炭素数１〜１４のアルキレンであり；Ｐ２が式（２−１）、式（２−３）または式（２−４）で表される重合性基であるとき、Ｑ２はＱ１と同じように定義される基であり；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、Ａ３およびＡ４が独立して１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の１つまたは２つの水素はフッ素、メチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく；Ｚ２が独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；ｎが１または２であり；Ｑ３およびＱ４が独立して炭素数１〜１４のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく；式（２−２）〜式（２−４）におけるＲａが独立して水素、メチルまたはエチルであり：
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が１０〜９０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が１０〜９０重量％である、請求項１４に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１７】
式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される化合物の割合が３０〜８０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が２０〜7０重量％である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１８】
式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の合計量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が４０〜７０重量％であり、式（Ｍ１）および式（Ｍ２）で表される重合性液晶化合物の群から選ばれる化合物の割合が３０〜６０重量％である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項１９】
他の重合性化合物をさらに含有する請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２０】
重合性の光学活性化合物をさらに含有する請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２１】
非重合性の液晶性化合物をさらに含有する請求項１４〜２０のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２２】
非重合性の光学活性化合物をさらに含有する請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項２３】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを重合させて得られる重合体を含有する、光学異方性を有するフィルム。
【請求項２４】
請求項１４〜２２のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方性を有するフィルム。
【請求項２５】
Ａプレートの光学特性を有する、請求項２３または２４に記載の光学異方性を有するフィルム。
【請求項２６】
Ｃプレートの光学特性を有する、請求項２３または２４に記載の光学異方性を有するフィルム。
【請求項２７】
ネガティブＣプレートの光学特性を有する、請求項２３または２４に記載の光学異方性を有するフィルム。
【請求項２８】
Ｏプレートの光学特性を有する、請求項２３または２４に記載の光学異方性を有するフィルム。
【請求項２９】
請求項２３〜２８のいずれか１項に記載の光学異方性を有するフィルムを含有する液晶表示素子。
【公開番号】特開２０１２−１５２６（Ｐ２０１２−１５２６Ａ）
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１９８８１７（Ｐ２０１０−１９８８１７）
【出願日】平成２２年９月６日（２０１０．９．６）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【出願人】（５９６０３２１００）ＪＮＣ石油化学株式会社 (309)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月６日（２０１０．９．６）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【出願人】（５９６０３２１００）ＪＮＣ石油化学株式会社 (309)
【Ｆターム（参考）】
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