鉛の電解方法（２）
【課題】非鉄製錬、基板や電子部品などリサイクル原料の溶融炉、および産業廃棄物を溶融処理する乾式炉より発生する乾式煙灰中に含まれている鉛の電解による回収方法において、高Bi品位のアノードを用いて電解する場合でも高純度の鉛を回収することができる鉛の電解方法を提供する。
【解決手段】Ｂｉ品位が５から３０ｍａｓｓ％の高不純物Ｐｂアノードを用い、平滑剤を含むスルファミン酸浴を電解液として、電流密度を５０A/m２以下にすることにより高純度の鉛を回収する鉛の電解方法。
【解決手段】Ｂｉ品位が５から３０ｍａｓｓ％の高不純物Ｐｂアノードを用い、平滑剤を含むスルファミン酸浴を電解液として、電流密度を５０A/m２以下にすることにより高純度の鉛を回収する鉛の電解方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非鉄製錬、基盤や電子部品などリサイクル原料の溶融炉、及び産業廃棄物を溶融処理する乾式炉より発生する乾式煙灰中に含まれているPbを回収する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
非鉄製錬、基盤や電子部品などリサイクル原料の溶融炉、及び産業廃棄物を溶融処理する乾式炉より非鉄製錬の乾式煙灰中に含まれているPbを回収するため、煙灰を硫酸浸出し、硫酸鉛にした後、電気炉で溶融還元を行う。溶融還元により分離されたメタルをソーダ処理し、その後、メタルをアノード鋳造した後、特許文献1においては、スルファミン酸浴中にて電解精製することでPbを回収している。
【０００３】
特許文献１において、原料中のBi品位が高い原料を処理した場合、電気鉛中のBi品位が高くなる。そのため、再度、Bi品位が高い電気鉛をアノードとして鋳造後、電解精製によりBiを除去する必要がある。
【特許文献１】整理番号T21-0201 鉛の電解方法 特許出願人：日鉱金属株式会社
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の技術に対して、高Bi品位のアノードに対しても高純度の鉛を回収することができる鉛の電解方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、上記の課題を解決するため以下の発明を成した。
（１）Bi品位５から30mass％の高不純物アノードを用いた、スルファミン酸浴での電解精製において、電流密度を５０A/m２以下にすることにより高純度の鉛を回収する特徴とする鉛の電解方法。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、
（１）高Bi品位の鉛アノードから効率よく、Bi品位が、５massppm以下の極めて低い高純度の鉛を回収することができることを特徴とする鉛の電解方法を見出した。
【０００７】
（２）電着面が、平滑な電着が容易に得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に本発明をさらに詳細に説明する。
原料は、本発明の鉛含有物は、鉛 70〜99mass％、錫 0.04mass％、ビスマス５〜30mass％含有する。ビスマスが、アノード中に５から３０mass％と高くなると電着した電気鉛中のビスマスの汚染が多くなるためである。
例えば、上記鉛含有物を、アノード鋳造をし、そのアノードを用いて電解精製を行う。アノードのサイズとしては、カソードのサイズに比べ小さくすることで、エッジ効果を防ぐことができ、平滑で良好な電着鉛を回収することができる。
【０００９】
電解液として、スルファミン酸の濃度は、20〜100g/L、鉛濃度は、20〜100g/Lが最適である。
更に平滑剤としては、ノイゲン BN-1390及び又はノイゲン BN-2560を1〜10mg/Lにすることで、平滑で良好な電着鉛を回収することができる。
【００１０】
次に電流密度とカソード中のBi品位の関係を確認した結果、図1に示す通り、電流密度50A/m2以下であればＢｉ品位が、5massppm以下の低Bi品位であると共に平滑な電着鉛を回収することができる。
【実施例】
【００１１】
（実施例１） 低Bi品位の電着鉛を回収する方法
電解液の組成として、鉛濃度：80g/L、スルファミン酸濃度：20g/Lに調整した溶液に平滑剤としてノイゲンBN-1390を10mg/Lを添加する。
高Bi品位の鉛アノードと鉛の種板または、ステンレス板をカソードとして、交互に電槽に装入する。
カソードの大きさは、アノードに対して、20〜30mm程度大きくした方が、エッジ部への電流集中を緩和することができ、最適である。
電極装入後、電槽内に電解液を補充し、電解液の電槽内滞留時間が1時間程度になるように給液することで、電槽内の濃度分布を均等にする。
電解液の液温を、20〜30℃に調整後、電流密度50A/m2で通電することで、Ｂｉ品位が、5mass ppm以下の低Bi品位の電着鉛を回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明における一態様である電流密度と電着鉛中のBi品位（単位：massppm）の関係
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非鉄製錬、基盤や電子部品などリサイクル原料の溶融炉、及び産業廃棄物を溶融処理する乾式炉より発生する乾式煙灰中に含まれているPbを回収する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
非鉄製錬、基盤や電子部品などリサイクル原料の溶融炉、及び産業廃棄物を溶融処理する乾式炉より非鉄製錬の乾式煙灰中に含まれているPbを回収するため、煙灰を硫酸浸出し、硫酸鉛にした後、電気炉で溶融還元を行う。溶融還元により分離されたメタルをソーダ処理し、その後、メタルをアノード鋳造した後、特許文献1においては、スルファミン酸浴中にて電解精製することでPbを回収している。
【０００３】
特許文献１において、原料中のBi品位が高い原料を処理した場合、電気鉛中のBi品位が高くなる。そのため、再度、Bi品位が高い電気鉛をアノードとして鋳造後、電解精製によりBiを除去する必要がある。
【特許文献１】整理番号T21-0201 鉛の電解方法 特許出願人：日鉱金属株式会社
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の技術に対して、高Bi品位のアノードに対しても高純度の鉛を回収することができる鉛の電解方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、上記の課題を解決するため以下の発明を成した。
（１）Bi品位５から30mass％の高不純物アノードを用いた、スルファミン酸浴での電解精製において、電流密度を５０A/m２以下にすることにより高純度の鉛を回収する特徴とする鉛の電解方法。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、
（１）高Bi品位の鉛アノードから効率よく、Bi品位が、５massppm以下の極めて低い高純度の鉛を回収することができることを特徴とする鉛の電解方法を見出した。
【０００７】
（２）電着面が、平滑な電着が容易に得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に本発明をさらに詳細に説明する。
原料は、本発明の鉛含有物は、鉛 70〜99mass％、錫 0.04mass％、ビスマス５〜30mass％含有する。ビスマスが、アノード中に５から３０mass％と高くなると電着した電気鉛中のビスマスの汚染が多くなるためである。
例えば、上記鉛含有物を、アノード鋳造をし、そのアノードを用いて電解精製を行う。アノードのサイズとしては、カソードのサイズに比べ小さくすることで、エッジ効果を防ぐことができ、平滑で良好な電着鉛を回収することができる。
【０００９】
電解液として、スルファミン酸の濃度は、20〜100g/L、鉛濃度は、20〜100g/Lが最適である。
更に平滑剤としては、ノイゲン BN-1390及び又はノイゲン BN-2560を1〜10mg/Lにすることで、平滑で良好な電着鉛を回収することができる。
【００１０】
次に電流密度とカソード中のBi品位の関係を確認した結果、図1に示す通り、電流密度50A/m2以下であればＢｉ品位が、5massppm以下の低Bi品位であると共に平滑な電着鉛を回収することができる。
【実施例】
【００１１】
（実施例１） 低Bi品位の電着鉛を回収する方法
電解液の組成として、鉛濃度：80g/L、スルファミン酸濃度：20g/Lに調整した溶液に平滑剤としてノイゲンBN-1390を10mg/Lを添加する。
高Bi品位の鉛アノードと鉛の種板または、ステンレス板をカソードとして、交互に電槽に装入する。
カソードの大きさは、アノードに対して、20〜30mm程度大きくした方が、エッジ部への電流集中を緩和することができ、最適である。
電極装入後、電槽内に電解液を補充し、電解液の電槽内滞留時間が1時間程度になるように給液することで、電槽内の濃度分布を均等にする。
電解液の液温を、20〜30℃に調整後、電流密度50A/m2で通電することで、Ｂｉ品位が、5mass ppm以下の低Bi品位の電着鉛を回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明における一態様である電流密度と電着鉛中のBi品位（単位：massppm）の関係
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Bi品位５から30mass％の高不純物アノードを用いた、スルファミン酸浴での電解精製において、電流密度を５０A/m２以下にすることにより高純度の鉛を回収することを特徴とする鉛の電解方法。
【請求項１】
Bi品位５から30mass％の高不純物アノードを用いた、スルファミン酸浴での電解精製において、電流密度を５０A/m２以下にすることにより高純度の鉛を回収することを特徴とする鉛の電解方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１０−２２２６２５（Ｐ２０１０−２２２６２５Ａ）
【公開日】平成２２年１０月７日（２０１０．１０．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−６９９４５（Ｐ２００９−６９９４５）
【出願日】平成２１年３月２３日（２００９．３．２３）
【出願人】（５９１００７８６０）日鉱金属株式会社 (545)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月７日（２０１０．１０．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月２３日（２００９．３．２３）
【出願人】（５９１００７８６０）日鉱金属株式会社 (545)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]