銀鏡薄膜形成設備
【課題】 被処理物の形状により製品品質が低下することを抑止する。
【解決手段】 被処理物２の表面に銀鏡処理を施すための薬液を被処理物２に向けて噴出する薬液噴出手段３Ａ、３Ｂと、被処理物２を回転させる回転手段５とを設けてある銀鏡薄膜形成設備において、薬液噴出手段３Ａ、３Ｂによる薬液噴出で被処理物に付着する薬液を回転手段５による被処理物回転での遠心作用により被処理物２から飛散させる構成にするとともに、この飛散薬液の飛散域Ｐ１に位置して飛散薬液を受け止める薬液受止体１０Ａを設け、この薬液受止体１０Ａを、飛散薬液を受け止める作用位置と被処理物２の経路及びその経路の直上方から外れた待避位置とに切替移動させる受止体移動手段１０を設ける。
【解決手段】 被処理物２の表面に銀鏡処理を施すための薬液を被処理物２に向けて噴出する薬液噴出手段３Ａ、３Ｂと、被処理物２を回転させる回転手段５とを設けてある銀鏡薄膜形成設備において、薬液噴出手段３Ａ、３Ｂによる薬液噴出で被処理物に付着する薬液を回転手段５による被処理物回転での遠心作用により被処理物２から飛散させる構成にするとともに、この飛散薬液の飛散域Ｐ１に位置して飛散薬液を受け止める薬液受止体１０Ａを設け、この薬液受止体１０Ａを、飛散薬液を受け止める作用位置と被処理物２の経路及びその経路の直上方から外れた待避位置とに切替移動させる受止体移動手段１０を設ける。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、銀鏡薄膜形成設備に関し、より詳しくは、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液を被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段と、被処理物を回転させる回転手段とを設けてある銀鏡薄膜形成設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の銀鏡薄膜形成設備は、アンモニア性銀塩水溶液などに含まれる銀イオンが還元されて析出した銀を被処理物の表面に付着させて被処理物の表面に銀鏡薄膜を形成し、これにより、被処理物に金属光沢を付与するものであるが、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液として、例えば、活性剤水溶液、アンモニア性硝酸銀水溶液やアンモニア性炭酸銀水溶液などのアンモニア性銀塩水溶液、苛性ソーダ水溶液とブドウ糖や果糖などの炭水化物系の還元剤水溶液との混合液、被処理物を洗浄する洗浄液などの薬液が被処理物に順次噴出される。
【０００３】
ところで、従来、この種の設備では、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成して、この作業域どうしを仕切る上下動可能な仕切板を設けるとともに、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液を作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段としての噴出ノズルと、作業域内で被処理物を回転させる回転手段とを設け、その回転手段による被処理物の回転により噴出ノズルに対する被処理物の対向面を入れ替えることで、被処理物の各面に対しもれ無く薬液が噴出されるようにしていた。
（下記特許文献１参照）
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１５２８２７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の如き従来の設備では、被処理物の回転により被処理物の各面に薬液が噴出されるようにしているものの、被処理物の形状によっては噴出された薬液が被処理物表面の窪みなどに溜まる薬液溜まりが発生してしまい、例えば、この薬液溜まりが次工程で噴出される薬液の被処理物表面への均一な付着の妨げとなったり、或いは、混合により銀鏡反応を発現する複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる場合には、被処理物における薬液溜まりの生じる部位とそれ以外の部位とで被処理物への析出銀付着量が変化したりするなどのことが生じ、それらのことで、被処理物の表面に形成される銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じて製品品質の低下を招くことがある問題があった。
【０００６】
この実情に鑑み、本発明の主たる課題は、合理的な改良により上記の如き問題を効果的に解消する点にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１特徴構成は銀鏡薄膜形成設備に係り、その特徴は、
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液を被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段と、被処理物を回転させる回転手段とを設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する薬液を前記回転手段による被処理物回転での遠心作用により被処理物から飛散させる構成にするとともに、
この飛散薬液の飛散域に位置して飛散薬液を受け止める薬液受止体を設け、この薬液受止体を、飛散薬液を受け止める作用位置と被処理物の移動経路及びその経路の直上方から外れた待避位置とに切替移動させる受止体移動手段を設けてある点にある。
【０００８】
つまり、上記第１特徴構成であれば、薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する薬液を回転手段による被処理物回転での遠心作用により被処理物から飛散させるから、薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物の表面に薬液溜まりが生じることを抑止することができて、前述の如き薬液溜まりに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に抑止することができる。
【０００９】
しかも、被処理物回転による遠心作用により被処理物から飛散する飛散薬液を薬液受止体により受け止めるから、その飛散薬液が噴出対象の被処理物とは異なる別の被処理物に付着したり、外部へ漏出したりするなどの不具合も抑止することができる。
【００１０】
また、上述の如く被処理物からの飛散薬液を薬液受止体により受け止めるのに伴い、例えば、その薬液受止体による飛散薬液の受け止めにより薬液受止体に付着した薬液が被処理物を移動させるときに移動中の被処理物に上方から落下付着することが原因で、銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じることも考えられるが、被処理物を移動させる際には、受止体移動手段により飛散薬液を受け止める作用位置から被処理物の移動経路及びその経路の直上方から外れた待避位置に薬液受止体を切替移動させることができるから、薬液受止体への付着薬液が移動中の被処理物に対し上方から落下付着することを防止することができ、これにより、薬液受止体に付着した飛散薬液の被処理物への落下付着に原因する上記の如き不具合も確実に防止することができる。
【００１１】
すなわち、薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する薬液を被処理物から飛散させることで、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を抑止することができるとともに、その飛散薬液が被処理物に再度付着することに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良も抑止することができ、これらのことにより、製品品質を大幅に向上することができるとともに、製品の歩留まりも大幅に向上することができる。
【００１２】
本発明の第２特徴構成は、第１特徴構成の実施に好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記薬液噴出手段は、混合により銀鏡反応を発現する複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で噴出する構成にするとともに、
前記回転手段は、前記薬液噴出手段による被処理物に向けた薬液噴出に並行して被処理物を回転させる構成にしてある点にある。
【００１３】
つまり、混合により銀鏡反応を発現する複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる場合には、被処理物の表面に分散して付着した反応済み薬液が、後続の未反応薬液と混合することで、その後続未反応薬液の濃度が不確定に変化したり、また、被処理物の表面に分散して付着した反応済み薬液が、反応による析出銀と被処理物の表面との間に介在したりするなどのことが生じ、そのことで、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良が顕著に現れてしまう。
【００１４】
これに対し、上記第２特徴構成であれば、薬液噴出手段による被処理物に向けた薬液噴出で被処理物の表面に付着した反応済み薬液を薬液噴出に並行して被処理物から飛散させることができるから、被処理物に付着した反応済み薬液を被処理物への付着から時間遅れの少ない状態で被処理物から飛散させることができて、上記の如き反応済み薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に抑止することができる。
【００１５】
本発明の第３特徴構成は、第１又は第２特徴構成の実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域どうしを仕切る仕切体を設けるとともに、
前記薬液受止体は、前記仕切体の内側で、且つ、前記作業域に対して被処理物を出し入れする出入口部の上方を前記作用位置とする構成にしてある点にある。
【００１６】
つまり、上記第３特徴構成であれば、作業域どうしを仕切る仕切体により作業域間での噴出薬液や域内空気などの混和を抑止することができて、作業域内での作業精度を高く保つことができるとともに、作用位置にある薬液受止体により仕切体の内側面における出入口部の上方に位置する部分に噴出薬液が付着するのを抑止することができるから、仕切体への付着薬液が出入口部を通過中の被処理物に対し上方から落下付着することが原因で、銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じることも抑止することができる。
【００１７】
本発明の第４特徴構成は、第１又は第２特徴構成の実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記薬液受止体は、それが前記作用位置にあるとき、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域どうしを仕切る構成にしてある点にある。
【００１８】
つまり、上記第４特徴構成であれば、被処理物からの飛散薬液を受け止める薬液受止体を、単なる飛散薬液の受け止めにとどまらず作業域どうしを仕切る仕切体として兼用利用するから、設備の簡素化を図りメンテナンス面で有利な設備とすることができながらも、その仕切り機能により作業域間での噴出薬液や域内空気などの混和を抑止することができて、作業域内での作業精度を高く保つことができる。
【００１９】
本発明の第５特徴構成は、第４特徴構成の実施に好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記薬液受止体は、それが前記作用位置にあるとき、仕切体により仕切られた前記作業域どうしの被処理物出入口部を閉塞する構成にしてある点にある。
【００２０】
つまり、上記第５特徴構成であれば、薬液受止体を作業域どうしの被処理物出入口部を開閉する扉に兼用する状態で、その薬液受止体と仕切体とにより作業域どうしを仕切ることになるから、例えば、薬液受止体単独で作業域どうしを仕切る場合に比して、薬液受止体を小さなものとすることができ、これにより、薬液受止体を切替移動させる薬液受止体移動手段の駆動動力の縮小化を図ることができて、コスト面で有利な設備とすることができる。なお、このコスト面での効果は、作業域どうしの仕切り面積が広い場合に特に有効である。
【００２１】
本発明の第６特徴構成は、第１〜第５特徴構成のいずれかの実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
複数の前記作業域に対し前記薬液受止体を夫々設ける構成にするとともに、
前記受止体移動手段は、複数の前記薬液受止体を共通駆動手段により切替移動させる構成にしてある点にある。
【００２２】
つまり、上記第６特徴構成であれば、薬液受止体ごとに駆動手段を設ける場合に比して、設備の簡素化を図ることができて、メンテナンス面で一層有利な設備とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は、銀鏡薄膜形成設備の全体構成を示し、この設備では、例えば、セラミック、金属、合成樹脂などを材料とした被処理物の表面に銀鏡薄膜を形成する銀鏡処理を実施する。１はトンネル状の銀鏡処理ブースであり、この銀鏡処理ブース１は、被処理物２に向けて活性剤Ｅを噴出することで被処理物２に活性処理を施す活性化室Ｕ１、活性処理後の被処理物２を静置する静置室Ｕ２、静置後の被処理物２に向けて洗浄液Ｄを噴出することで被処理物２に付着した余剰活性剤Ｅを除去する活性剤洗浄室Ｕ３、静置に続き洗浄した被処理物２に向けて混合により銀鏡反応を発現する薬液Ａ（例えば、アンモニア性銀塩水溶液）、薬液Ｂ（例えば、苛性ソーダ水溶液と還元剤水溶液との混合液）を噴出することで被処理物２に銀鏡処理を施す銀鏡室Ｕ４、銀鏡処理後の被処理物２に向けて洗浄液Ｃを噴出することで被処理物２に付着した余剰薬液Ａ、Ｂを除去する銀鏡薬液洗浄室Ｕ５、銀鏡処理に続き洗浄した被処理物２に向けて水切用空気Ａ１を噴出することで被処理物２に付着した洗浄液Ｃを吹き飛ばす水切室Ｕ６を、その順に被処理物搬送方向の上手側から並べて配置した構成にしてある。
【００２４】
前記活性化室Ｕ１、活性剤洗浄室Ｕ３、銀鏡室Ｕ４、銀鏡薬液洗浄室Ｕ５の各々には、銀鏡処理ブース１外に配置された薬液Ａ〜Ｅごとの圧送タンクＴａ〜ＴｅからポンプＰにより薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅを通じて個別に導かれた所定薬液を被処理物２の上方から被処理物２に向けて噴出する薬液噴出ユニット３Ａを配設するとともに、同様にして導かれた所定薬液を被処理物２の側方から被処理物２に向けて噴出する補助薬液噴出ユニット３Ｂ（図２、図３を参照のこと）を配設してある。また、水切室Ｕ６には、銀鏡処理ブース１外に配置された空調機ＳＡ１で新鮮空気Ａｏを温湿度調整して生成したのちにファンｄにより空気供給路ＲＡ１を通じて導かれた水切用空気Ａ１を被処理物２の上方から被処理物２に向けて噴出する空気噴出具４を配設してある。
【００２５】
６は、被処理物２を載置する略円盤形状の載置台Ｔを活性化室Ｕ１に給送する被処理物供給部、７は水切室Ｕ６から載置台Ｔを受ける被処理物受け部である。また、８は複数の載置台Ｔを被処理物供給部６から各室Ｕ１〜Ｕ６を経て被処理物受け部７まで順次に搬送する搬送手段である。
【００２６】
５は、各室Ｕ１〜Ｕ６の各々に配設された回転手段としての回転支持装置であり、この回転支持装置５は、搬送手段８により室内に搬送された載置台Ｔを支持するとともに、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２への薬液噴出に並行して載置台Ｔとともに被処理物２を縦軸芯Ｘ周りで適宜回転させ、これにより、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる薬液噴出で被処理物２に付着する各薬液Ａ〜Ｅを被処理物２の回転での遠心作用により被処理物２から飛散させるものである。
【００２７】
９は、室天井部から垂下して各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域どうしを仕切ることで隣接室間での噴出薬液や室内空気Ａｕの混和を阻止する仕切体としての透光性の仕切壁であり、各室Ｕ１〜Ｕ６どうしの間、被処理物供給部６と活性化室Ｕ１との間、水切室Ｕ６と被処理物受け部７との間に夫々配設してある。
【００２８】
１０Ａは、（図２、図３を参照）各室Ｕ１〜Ｕ６において被処理物２から飛散する飛散薬液の飛散域Ｐ１に位置して飛散薬液を受け止める薬液受止体としての薬液受止板であり、１０は、薬液受止板１０Ａを被処理物２からの飛散薬液を受け止める作用位置と後述する待避位置とに切替移動させる受止体移動手段である。この薬液受止板１０Ａは、各室Ｕ１〜Ｕ６において仕切壁９の下に形成される被処理物出し入れ用の室出入口部を開閉する仕切扉として兼用され、受止体移動手段１０による薬液受止板１０Ａの作用位置と待避位置との切替移動により室出入口部を開閉する。
【００２９】
つまり、この銀鏡薄膜形成設備は、受止体移動手段１０との連携下で搬送手段８により複数の被処理物２を各室Ｕ１〜Ｕ６に順次に搬送するとともに、各室Ｕ１〜Ｕ６において搬送手段８との連携下で回転支持装置５により被処理物２を適宜回転させながら各処理を実行することで、被処理物２の表面に銀鏡薄膜を形成する銀鏡処理を複数の被処理物２に対し順次、自動的に実施する構成にしてある。なお、銀鏡処理ブース１内で噴出された各薬液Ａ〜Ｅは、銀鏡処理ブース１下部の薬液ごとの専用回収槽１５に貯留されたのち、専用排液通路１６を通じて廃棄又は再利用される。
【００３０】
１１は、予め記憶させた設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物受け部６に装備した検出手段としての被処理物検出器１７による被処理物２の形状種や素材種などの種別の検出に基づいて、後述する各制御を行う制御盤である。
【００３１】
ＳＡ２は、空気供給部から供給された新鮮空気Ａｏの温度及び湿度を調整して換気用空気Ａ２を生成する空調機であり、１３は、ファンｄにより空調機ＳＡ２から空気供給路ＲＡ２を通じて各室Ｕ１〜Ｕ６の室天井部に導かれた換気用空気Ａ２を室天井部のほぼ全面から室内に下向き層流状に噴出するエアチャンバである。また、１４は、各室Ｕ１〜Ｕ６の室内空気Ａｕを下方から排出するとともに、その排出空気をファンｄにより排気路１４ａを通じて外部に排出する排出口であり、空調機ＳＡ２により各室Ｕ１〜Ｕ６における室内空気Ａｕの温度及び湿度を調整するとともに、エアチャンバ１３からの空気吹き出しと室内空気Ａｕの下方への排出とで発生する層流状の下向き室内気流及び重力により室内におけるミスト状の浮遊薬液（すなわち、噴出に伴いミスト化した薬液や後述する被処理物２の回転による被処理物２からの離脱飛散に伴いミスト化した薬液など）を室内から効率良く排出する。
【００３２】
図２〜図５は銀鏡室Ｕ４を示し、これに代表するように、前記回転支持装置５は、室内の平面視中央部において上向きに突出する縦ケース部と、その縦ケース部の下端部からブース横側方に延びる横ケース部とからなる正面視Ｌ字状の載置台支持ケース５Ａを備えており、縦ケース部の上端には、載置台Ｔの中央部に形成した嵌合孔ｔに対し下方から嵌入させる位置決め手段としての嵌入凸部５ｅを設けた載置台受座５ｄを縦軸芯Ｘ周りで回転自在に設けてある。
【００３３】
また、載置台支持ケース５Ａには、ブース外側面部に設置したモータ５Ｂの回転力を載置台受座５ｄに伝達する回転シャフト５ａ、５ｃ、べベルギア５ｂを内装してあり、嵌入凸部５ｅを嵌合孔ｔに嵌入させて載置台Ｔを載置台受座５ｄに受け止め支持させた状態において、モータ５Ｂの回転により載置台受座５ｄを回転させることで載置台Ｔをそれに載置の被処理物２とともに縦軸芯Ｘ周りで回転させる構成にしてある。
【００３４】
前記回転モータ５Ｂは、活性化室Ｕ１、洗浄室Ｕ３、Ｕ５、及び、水切室Ｕ６においては、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２に向けた薬液噴出で被処理物２に付着した薬液を遠心作用により被処理物２から飛散させる比較的低い各々所定の回転速度（例えば、３０回転／分程度）で被処理物２を回転させるように速度調整され、また、銀鏡室Ｕ４においては、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２に向けた薬液噴出に並行して、その薬液噴出で被処理物２に付着した反応済み薬液を遠心作用により付着してからの時間遅れの少ない状態で被処理物２から離脱飛散させる比較的高い回転速度（例えば、１２０回転／分程度）で被処理物２を回転させるように速度調整される。
【００３５】
なお、静置室Ｕ２においては、載置台Ｔを回転させることなく、その載置台Ｔに載置の被処理物２を静置する。
【００３６】
前記薬液噴出ユニット３Ａは、略下向き四つ又形状の支持部材３ａにおける下方先端部の夫々に薬液噴出ガン３ｂを被処理物搬送方向に駆動揺動させる状態に取り付けるとともに、駆動チェーン３ｃを介して支持部材３ａの上部に連結した駆動モータ３ｄの正逆回転により被処理物搬送方向に対して直交する横方向（以下、搬送直交方向と称することがある。）で往復移動する構成にしてあり、これら揺動動作及び往復移動により被処理物２に対して噴出角度、噴出位置を変更しながら均一に各薬液Ａ〜Ｅを噴出するようにしてある。
【００３７】
また、前記補助薬液噴出ユニット３Ｂは、室内壁部に配設された略横向き二又形状の支持部の先端に一対の薬液噴出ガン３ｂを取り付けて構成し、この補助薬液噴出ユニット３Ｂにより被処理物２の側面にも各薬液Ａ〜Ｅを噴出するようにしてある。
【００３８】
薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂの薬液噴出ガン３ｂには、図示しないが、対応の各薬液Ａ〜Ｅを各別に供給する薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅと空気供給路ＲＡ３とを接続してあり、空調機ＳＡ３で温湿度調整した新鮮空気Ａｏを薬液噴出用空気Ａ３として空気供給路ＲＡ３を通じ薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅからの各薬液Ａ〜Ｅとともに薬液噴出ガン３ｂに個別に供給するようにしてある。
【００３９】
すなわち、空気供給路ＲＡ３を通じて薬液噴出ガン３ｂに供給した薬液噴出用空気Ａ３を薬液噴出ガン３ｂから各薬液Ａ〜Ｅとともに被処理物２に向けて噴出させ、これにより、各薬液Ａ〜Ｅを噴霧状態（すなわち、スプレー状態）で被処理物２に向けて噴出させる。
【００４０】
銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂは、図６に示すように、一対の薬液噴出ガン３ｂを一セットとして、一方の薬液噴出ガン３ｂに薬液Ａ供給用の薬液供給路Ｒａを接続し、他方の薬液噴出ガン３ｂに薬液Ｂ供給用の薬液供給路Ｒｂを接続してあり、その一セットの薬液噴出ガン３ｂを、それらの先端部どうしが近づく側に夫々所定角度に傾けて配置することで、一方の薬液噴出ガン３ｂから噴出される薬液Ａと他方の薬液噴出ガン３ｂから噴出される薬液Ｂとが被処理物２の近傍から被処理物２の表面に至る重複領域Ｐ２で混合して銀鏡反応を発現する構成にしてある。
【００４１】
つまり、この銀鏡薄膜形成設備では、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる薬液噴出で被処理物２に付着する薬液を前述の被処理物２の回転での遠心作用により被処理物２から飛散させることによって、被処理物２の形状によって被処理物２の表面に薬液溜まりなどが生じることを抑止して、その薬液溜まりに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に抑止し、そして、特に銀鏡室Ｕ４においては、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂから被処理物２に向けて噴出された薬液Ａ、Ｂが被処理物２への到達直後又は到達過程である重複領域Ｐ２で銀鏡反応を発現するため、この銀鏡反応による析出銀と反応済み薬液との両方が被処理物２の表面に分散して付着することになるが、その付着反応済み薬液を被処理物２から素早く離脱飛散させることによって、その付着反応済み薬液が後続の未反応薬液Ａ、Ｂと混合して、その後続未反応薬液Ａ、Ｂの濃度が不確定に変化したり、また、付着反応済み薬液が後続薬液Ａ、Ｂの反応による析出銀と被処理物２の表面との間に介在したりするなどのことに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止する。
【００４２】
また、図６に示す銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂに代表するように、薬液噴出ガン３ｂにおける薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅの接続部から薬液吐出口３ｅに至る薬液通路には、その先端の薬液吐出口３ｅに極力近付けて、薬液通路開閉用の開閉弁３ｆを設けてあり、これにより、開閉弁３ｆを開いた薬液噴出状態から開閉弁３ｆを閉じて薬液噴出を停止したときの薬液吐出口３ｅからの薬液落下を防止して、薬液噴出後の被処理物２に薬液吐出口３ｅからの落下薬液が付着することによる製品の品質低下を防止するようにしてある。
【００４３】
さらにまた、銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂは、図３に示す如く、回転支持装置５による被処理物２の回転で被処理物２の周りに形成される反応済み薬液飛散域Ｐ１の上方位置に配置することで、この飛散域Ｐ１から外れた位置から薬液Ａ、Ｂを噴出するようにしてあり、これにより、これら薬液噴出ガン３ｂから噴出された薬液Ａ、Ｂと飛散域Ｐ１内を飛散する反応済み薬液との衝突の確率を低減するようにしてある。
【００４４】
前記空気供給路ＲＡ２の銀鏡室Ｕ４に対する分流路部分には、銀鏡室Ｕ４に供給する換気用空気Ａ２の温湿度を個別に調整する空調機１８を介装してあり、具体的には、この空調機１８は、銀鏡室Ｕ４内に配設した温湿度検出器１９により検出される銀鏡室Ｕ４の室内温度及び室内湿度に基づき銀鏡室Ｕ４に対する換気用空気Ａ２の温湿度を個別に調整することで、銀鏡室Ｕ４の室内温度又は室内湿度を設定値に調整する構成にしてある。
【００４５】
これに対し、前記制御盤１１は、前記の設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温湿度に自動的に変更するようにしてある。
【００４６】
また、銀鏡室Ｕ４で用いる銀鏡処理用薬液Ａ、Ｂの圧送タンクＴａ、Ｔｂには、それら圧送タンクＴａ、Ｔｂ内の薬液Ａ、Ｂの温度（つまり、銀鏡室Ｕ４において薬液噴出ガン３ｂから噴出する薬液Ａ、Ｂの温度）を設定値に調整する薬液温度制御器Ｓ１、Ｓ２を設け、これに対し、前記制御部１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、薬液Ａ、Ｂの温度の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４において薬液噴出ガン３ｂから噴出する薬液Ａ、Ｂの温度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温度に自動的に変更するようにしてある。
【００４７】
さらに、前記空気供給路ＲＡ３の銀鏡室Ｕ４に対する分流路部分には、銀鏡室Ｕ４に供給する薬液噴出用空気Ａ３の温湿度を設定値に調整する空調機２０を介装し、これに対し、前記制御盤１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４に供給する薬液噴出用空気Ａ３の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４において噴出する薬液噴出用空気Ａ３の温湿度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温湿度に自動的に変更するようにしてある。
【００４８】
そしてまた、制御盤１１は、前記の設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の回転モータ５Ｂの回転速度を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４における被処理物２の回転速度を被処理物２夫々の種別に応じて、適度な反応時間を確保しながら反応済み薬液を極力効果的に離脱飛散させ得る最適の回転速度に自動的に変更するようにしてある。
【００４９】
加えて、制御盤１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の回転モータ５Ｂの回転方向、及び、回転方向の経時的切り替えパターンを自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４における被処理物２の回転方向、及び、回転方向の経時的切り替えパターンを被処理物２夫々の種別に応じて、被処理物２から反応済み薬液を効果的かつ確実に離脱飛散させ得る最適なものに自動的に変更するようにしてある。
【００５０】
すなわち、この銀鏡薄膜形成設備では、設定生産スケジュール、又は、被処理物検出器１７からの被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４内に搬送された被処理物２の種別に応じ、被処理物２の回転速度、被処理物２の回転方向及び回転方向の経時的切り替えパターンを被処理物２夫々に応じた最適なものに自動変更するとともに、薬液噴出用空気Ａ３の温湿度、銀鏡処理用の薬液Ａ、Ｂの温度、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度を被処理物２夫々に応じた好適なものに自動変更することで、複数の被処理物２を順次、自動的に処理する場合において、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を一層効果的かつ確実に防止する。
【００５１】
前記薬液受止板１０Ａは、図３に示す如く、被処理物２から飛散する飛散薬液の飛散域Ｐ１に位置する前述の作用位置において、被処理物２の搬送方向視で隣室から見て被処理物２及びその周囲を十分に覆い隠し、かつ、上縁部が仕切壁９の下縁部とラップする横寸法Ｌ１と縦寸法Ｌ２とを有するもの（本例では、被処理物２とそれを載置する載置台Ｔとの横方向における最大直径Ｒよりも大なる横寸法Ｌ１で、かつ、仕切壁９の下縁部から載置台Ｔの下端までの長さＬよりも大なる縦寸法Ｌ２）にしてあり、前記室出入口部を閉塞する状態で、被処理物２から飛散する薬液（銀鏡室Ｕ４においては、反応済み薬液）を受け止め、特に、隣室側の被処理物２に向かう飛散薬液を確実に受け止めるようにしてある。
【００５２】
前記受止体移動手段１０は、図２〜図５に示す如く、被処理物受け部７付近に配設のエアシリンダ１０Ｃに連結された各室Ｕ１〜Ｕ６に対する共通回動シャフト１０Ｂに、各室Ｕ１〜Ｕ６に対する前記薬液受止板１０Ａを取り付けて構成してあり、搬送手段８との連携下で共通駆動手段としてのエアシリンダ１０Ｃにより共通回動シャフト１０Ｂをシャフト軸芯周り約９０度の範囲で回動操作することで、薬液受止板１０Ａを共通回動シャフト１０Ｂのシャフト軸芯周りで揺動させて、図３、図５に示す前記作用位置（前記室出入口部を閉じた状態）と図２、図４に示す待避位置（前記室出入口部を開いた状態）とに切替移動させる構成にしてある。そして、待避位置においては、薬液受止板１０Ａが被処理物２の移動経路及びその経路の直上方から外れた位置に、詳しくは、搬送手段８による被処理物搬送により被処理物２が通過する前記移動経路としての被処理物通過域、及び、室内において被処理物通過域の直上方に形成される移動経路直上域ｈから側方に外れた位置に位置するようにしてある。
【００５３】
つまり、この受止体移動手段１０により薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂからの薬液噴出の際、薬液受止板１０Ａを前記作用位置に位置させておくことで、室出入口部を通じた作業域間での噴出薬液及び域内空気Ａｕの混和を抑止するとともに、回転支持装置５による回転遠心力で被処理物２から飛散する薬液（銀鏡室Ｕ４においては、反応済み薬液）が隣室まで飛散するのを効果的に抑止し、これにより、飛散薬液が隣室内の被処理物２などに付着するなどの不具合を抑止する。
【００５４】
また、被処理物２を搬送するときには、薬液受止板１０Ａを移動経路及び移動経路直上域ｈから側方に外れた退避位置に位置させることで、回転遠心力により被処理物２から離脱飛散して作用位置の薬液受止板１０Ａに付着した薬液が室出入口部を通過する被処理物２に落下付着することを防止し、飛散薬液の落下付着に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良も効果的かつ確実に防止する。
【００５５】
前記搬送手段８は、図７、図８に示す如く、載置台Ｔを被処理物搬送方向の上手室における回転支持装置５の載置台受座５ｄから下手側隣接室における回転支持装置５の載置台受座５ｄまで略水平に移送する移送装置８Ａと、この移送装置８Ａを昇降させることで、各室Ｕ１〜Ｕ６における回転支持装置５の載置台受座５ｄに対して載置台Ｔを離着座させる昇降装置８Ｂとから構成してあり、昇降装置８Ｂによる移送装置８Ａの上昇により載置台Ｔを載置台受座５ｄから上方に離座させる上昇工程と、離座させた載置台Ｔを移送装置８Ａにより下手側隣接室へ移送する往動工程（図７（イ）〜（ロ）参照）と、昇降装置８Ｂによる移送装置８Ａの下降により載置台Ｔを下手側隣接室の載置台受座５ｄに着座させる下降工程（図８（イ）〜（ロ）参照）と、載置台Ｔを下手側隣接室に残して下降状態の移送装置８Ａを上手側に戻す復動工程とを、その順に繰り返すことで載置台Ｔ及びそれに載置の被処理物２を搬送方向下手側へ順次送るようにしてある。
【００５６】
前記移送装置８Ａは、搬送対象の載置台Ｔを載置支持する一対の搬送レール８ａをブース長手方向にわたらせた状態で複数のレール受け部材８ｂにより被処理物搬送方向に摺動自在に支持するとともに、この搬送レール８ａを被処理物搬送方向で押し引き操作するレール駆動部８ｃをレール受け部材８ｂの下部に固定して構成してあり、このレール駆動部８ｃによる押し引き操作により搬送レール８ａを被処理物搬送方向で往復摺動させることで、その往動をもって前記往動工程を行い、また、その復動をもって前記復動工程を行うようにしてある。
【００５７】
前記レール駆動部８ｃは、ボールネジ８ｅを回転自在な状態でレール受け部材８ｂに対し連結固定するとともに、そのボールネジ８ｅに螺合させたスライダ８ｆの上端を搬送レール８ａに連結して構成してあり、搬送レール８ａの押し引き操作としては、駆動モータ８ｄによるボールネジ８ｅの正逆回転駆動によりスライダ８ｆを被処理物搬送方向で往復移動させることで、搬送レール８ａを図７（イ）の状態と図７（ロ）の状態とに亘って室間隔で往復移動させる構成にしてある。
【００５８】
前記昇降装置８Ｂは、一対の長尺角棒状の支持フレーム８ｇを被処理物供給部６と被処理物受け部７とにわたらせて固設し、この支持フレーム８ｇを基台として、エアシリンダ８ｈによる共通操作棒８ｉの押し引き操作により移送装置８Ａのレール受け部材８ｂを昇降させるリンクユニット８Ｄを２室ごとに１個の間隔で複数個設けて構成してある。
【００５９】
前記リンクユニット８Ｄは、上端を前記レール受け部材８ｂに枢支連結した第１リンク部材８ｊと、上端を第１リンク部材８ｊの中央部に枢支連結するとともに、下端を支持フレーム８ｇに枢支連結した第２リンク部材８ｋとを備え、これら第１、第２リンク部材８ｊ、８ｋは、レール受け部材８ｂと第１リンク部材８ｊとの枢支点が側面視で支持フレーム８ｇと第２リンク部材８ｋとの枢支点の直上方に位置する状態に組み付けてある。
【００６０】
また、第１リンク部材８ｊの下端には、支持フレーム８ｇ上を被処理物搬送方向に転動させる転輪８ｍを取り付けてあり、各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを前記共通操作棒８ｉに対し枢着することで、エアシリンダ８ｈによる共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを支持フレーム８ｇ上で同調させて転動させる構成にしてある。
【００６１】
つまり、共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを第２リンク部材８ｋ側に寄せて、各第１リンク部材８ｊの傾き角度をＫ２からＫ１にする（図８（イ）（ロ）参照）ことで、レール受け部材８ｂを上昇させて搬送レール８ａを上昇させる前記上昇工程を行い、また、共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを第２リンク部材から離れる側に寄せて、各第１リンク部材８ｊの傾き角度をＫ１からＫ２にすることで、レール受け部材８ｂを下降させて搬送レール８ａを下降させる前記下降工程を行うようにしてある。
【００６２】
なお、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂは、被処理物２の表面に銀鏡処理を施すための薬液Ａ〜Ｅを被処理物２に向けて噴出する薬液噴出手段に相当し、各室Ｕ１〜Ｕ６は、被処理物２の表面に銀鏡処理を施すための作業域に相当する。
【００６３】
［別実施形態］
次に本発明の別実施形態を列記する。
前述の実施形態では、各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域どうしを仕切る仕切体を設けるとともに、その仕切壁９の下に形成される室出入口部を薬液受止体で仕切ることで、仕切体と薬液受止体とにより室どうしを仕切る構成にしていたが、仕切壁９を設けずに薬液受止体１０Ａにより各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域から室出入口部に亘る部分どうしを仕切る、或いは、室どうしを完全に仕切るなど、薬液受止体を仕切体として兼用する構成にしてもよい。
【００６４】
前述の実施形態では、各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域どうしを仕切る仕切壁９を設けるとともに、その仕切壁９の下に形成される室出入口部を薬液受止板１０Ａの作用位置とする構成にしていたが、仕切壁９の内側における室出入口部の上方部分を薬液受止板１０Ａの作用位置とする構成にして、薬液受止体１０Ａにより仕切壁９の内側面における室出入口部の上方に位置する部分に噴出薬液や飛散薬液が付着するのを抑止するようにしてもよい。
【００６５】
前述の実施形態では、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２への薬液噴出に並行して被処理物２を回転させる構成にしていたが、例えば、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２への薬液噴出後に被処理物２を回転させる構成にしてもよい。
【００６６】
前述の実施形態では、被処理物２の移動経路及びその移動経路の直上方から側方に外れた位置を薬液受止板１０Ａの待避位置としていたが、被処理物２の移動経路及びその移動経路の直上方から下方に外れた位置を薬液受止板１０Ａの待避位置としてもよく、また、被処理物２の移動経路及びその移動経路の直上方を蓋する別部材を配設して、その別部材の上方位置を薬液受止板１０Ａの待避位置としてもよい。
【００６７】
前述の実施形態では、被処理物２から飛散する飛散薬液を受け止める薬液受止体として板状形状の薬液受止板１０Ａを例に示したが、薬液受止体の形状はドーム型形状や箱型形状やリング型形状など種々の形状であってもよい。
【００６８】
また、薬液受止体の形状をドーム型形状、箱型形状、リング型形状などの形状とする場合において、薬液受止体が被処理物２を囲う位置を作用位置とし、被処理物２を囲う状態を脱する位置を待避位置とする構成にして、被処理物２の移動経路を適宜設定できるようにしてもよい。
【００６９】
前述の実施形態では、銀鏡処理ブース１と、銀鏡処理ブース１の天井部から垂下する仕切壁９とを設け、その仕切壁９の下方に形成される室出入口部を薬液受止体としての薬液受止板１０Ａにより仕切ることで、被処理物２の表面に銀鏡処理するための作業域としての各室Ｕ１〜Ｕ６を形成していたが、薬液受止体の形状をドーム型形状、箱型形状にするとともに、薬液受止体が被処理物２を囲う位置を前記作用位置とする構成にして、その作用位置において薬液受止体単独で作業域を形成するようにしてもよい。
【００７０】
前述の実施形態では、活性化室Ｕ１、活性剤洗浄室Ｕ２、銀鏡室Ｕ４、銀鏡薬液洗浄室Ｕ５の夫々を１室づつ設けていたが、これらの室を必要に応じて分割してもよい。
【００７１】
また、上述の如く室を分割した場合において、分割した室の前段と後段とで、回転支持装置５による回転速度や回転方向、回転方向の切り替えパターンを必要に応じ変更してもよく、また、薬噴出手段から噴出される薬液Ａ〜Ｅの濃度や噴出量、銀鏡処理用薬液Ａ、Ｂの混合比率などを必要に応じ変更してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】銀鏡薄膜形成設備の全体構成を示す説明図
【図２】被処理物搬送時における銀鏡室の被処理物搬送直交方向断面図
【図３】薬液噴出時における銀鏡室の被処理物搬送直交方向断面図
【図４】被処理物搬送時における銀鏡室の被処理物搬送方向断面図
【図５】薬液噴出時における銀鏡室の被処理物搬送方向断面図
【図６】混合により銀鏡反応を発現する薬液の噴出状態を示す説明図
【図７】搬送装置の説明図
【図８】搬送装置の説明図
【符号の説明】
【００７３】
２ 被処理物
３Ａ 薬液噴出手段（薬液噴出ユニット）
３Ｂ 薬液噴出手段（補助薬液噴出ユニット）
５ 回転手段（回転支持装置）
９ 仕切体（仕切壁）
１０ 受止体移動手段
１０Ａ 薬液受止体（薬液受止板）
１０Ｃ 共通駆動手段（エアシリンダ）
Ａ〜Ｅ 薬液
Ｐ１ 飛散域
Ｕ１〜Ｕ６ 作業域（活性室、静置室、活性剤洗浄室、銀鏡室、銀鏡薬液洗浄室、水切室）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、銀鏡薄膜形成設備に関し、より詳しくは、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液を被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段と、被処理物を回転させる回転手段とを設けてある銀鏡薄膜形成設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の銀鏡薄膜形成設備は、アンモニア性銀塩水溶液などに含まれる銀イオンが還元されて析出した銀を被処理物の表面に付着させて被処理物の表面に銀鏡薄膜を形成し、これにより、被処理物に金属光沢を付与するものであるが、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液として、例えば、活性剤水溶液、アンモニア性硝酸銀水溶液やアンモニア性炭酸銀水溶液などのアンモニア性銀塩水溶液、苛性ソーダ水溶液とブドウ糖や果糖などの炭水化物系の還元剤水溶液との混合液、被処理物を洗浄する洗浄液などの薬液が被処理物に順次噴出される。
【０００３】
ところで、従来、この種の設備では、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成して、この作業域どうしを仕切る上下動可能な仕切板を設けるとともに、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液を作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段としての噴出ノズルと、作業域内で被処理物を回転させる回転手段とを設け、その回転手段による被処理物の回転により噴出ノズルに対する被処理物の対向面を入れ替えることで、被処理物の各面に対しもれ無く薬液が噴出されるようにしていた。
（下記特許文献１参照）
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１５２８２７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の如き従来の設備では、被処理物の回転により被処理物の各面に薬液が噴出されるようにしているものの、被処理物の形状によっては噴出された薬液が被処理物表面の窪みなどに溜まる薬液溜まりが発生してしまい、例えば、この薬液溜まりが次工程で噴出される薬液の被処理物表面への均一な付着の妨げとなったり、或いは、混合により銀鏡反応を発現する複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる場合には、被処理物における薬液溜まりの生じる部位とそれ以外の部位とで被処理物への析出銀付着量が変化したりするなどのことが生じ、それらのことで、被処理物の表面に形成される銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じて製品品質の低下を招くことがある問題があった。
【０００６】
この実情に鑑み、本発明の主たる課題は、合理的な改良により上記の如き問題を効果的に解消する点にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１特徴構成は銀鏡薄膜形成設備に係り、その特徴は、
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液を被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段と、被処理物を回転させる回転手段とを設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する薬液を前記回転手段による被処理物回転での遠心作用により被処理物から飛散させる構成にするとともに、
この飛散薬液の飛散域に位置して飛散薬液を受け止める薬液受止体を設け、この薬液受止体を、飛散薬液を受け止める作用位置と被処理物の移動経路及びその経路の直上方から外れた待避位置とに切替移動させる受止体移動手段を設けてある点にある。
【０００８】
つまり、上記第１特徴構成であれば、薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する薬液を回転手段による被処理物回転での遠心作用により被処理物から飛散させるから、薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物の表面に薬液溜まりが生じることを抑止することができて、前述の如き薬液溜まりに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に抑止することができる。
【０００９】
しかも、被処理物回転による遠心作用により被処理物から飛散する飛散薬液を薬液受止体により受け止めるから、その飛散薬液が噴出対象の被処理物とは異なる別の被処理物に付着したり、外部へ漏出したりするなどの不具合も抑止することができる。
【００１０】
また、上述の如く被処理物からの飛散薬液を薬液受止体により受け止めるのに伴い、例えば、その薬液受止体による飛散薬液の受け止めにより薬液受止体に付着した薬液が被処理物を移動させるときに移動中の被処理物に上方から落下付着することが原因で、銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じることも考えられるが、被処理物を移動させる際には、受止体移動手段により飛散薬液を受け止める作用位置から被処理物の移動経路及びその経路の直上方から外れた待避位置に薬液受止体を切替移動させることができるから、薬液受止体への付着薬液が移動中の被処理物に対し上方から落下付着することを防止することができ、これにより、薬液受止体に付着した飛散薬液の被処理物への落下付着に原因する上記の如き不具合も確実に防止することができる。
【００１１】
すなわち、薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する薬液を被処理物から飛散させることで、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を抑止することができるとともに、その飛散薬液が被処理物に再度付着することに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良も抑止することができ、これらのことにより、製品品質を大幅に向上することができるとともに、製品の歩留まりも大幅に向上することができる。
【００１２】
本発明の第２特徴構成は、第１特徴構成の実施に好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記薬液噴出手段は、混合により銀鏡反応を発現する複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で噴出する構成にするとともに、
前記回転手段は、前記薬液噴出手段による被処理物に向けた薬液噴出に並行して被処理物を回転させる構成にしてある点にある。
【００１３】
つまり、混合により銀鏡反応を発現する複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる場合には、被処理物の表面に分散して付着した反応済み薬液が、後続の未反応薬液と混合することで、その後続未反応薬液の濃度が不確定に変化したり、また、被処理物の表面に分散して付着した反応済み薬液が、反応による析出銀と被処理物の表面との間に介在したりするなどのことが生じ、そのことで、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良が顕著に現れてしまう。
【００１４】
これに対し、上記第２特徴構成であれば、薬液噴出手段による被処理物に向けた薬液噴出で被処理物の表面に付着した反応済み薬液を薬液噴出に並行して被処理物から飛散させることができるから、被処理物に付着した反応済み薬液を被処理物への付着から時間遅れの少ない状態で被処理物から飛散させることができて、上記の如き反応済み薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に抑止することができる。
【００１５】
本発明の第３特徴構成は、第１又は第２特徴構成の実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域どうしを仕切る仕切体を設けるとともに、
前記薬液受止体は、前記仕切体の内側で、且つ、前記作業域に対して被処理物を出し入れする出入口部の上方を前記作用位置とする構成にしてある点にある。
【００１６】
つまり、上記第３特徴構成であれば、作業域どうしを仕切る仕切体により作業域間での噴出薬液や域内空気などの混和を抑止することができて、作業域内での作業精度を高く保つことができるとともに、作用位置にある薬液受止体により仕切体の内側面における出入口部の上方に位置する部分に噴出薬液が付着するのを抑止することができるから、仕切体への付着薬液が出入口部を通過中の被処理物に対し上方から落下付着することが原因で、銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じることも抑止することができる。
【００１７】
本発明の第４特徴構成は、第１又は第２特徴構成の実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記薬液受止体は、それが前記作用位置にあるとき、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域どうしを仕切る構成にしてある点にある。
【００１８】
つまり、上記第４特徴構成であれば、被処理物からの飛散薬液を受け止める薬液受止体を、単なる飛散薬液の受け止めにとどまらず作業域どうしを仕切る仕切体として兼用利用するから、設備の簡素化を図りメンテナンス面で有利な設備とすることができながらも、その仕切り機能により作業域間での噴出薬液や域内空気などの混和を抑止することができて、作業域内での作業精度を高く保つことができる。
【００１９】
本発明の第５特徴構成は、第４特徴構成の実施に好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記薬液受止体は、それが前記作用位置にあるとき、仕切体により仕切られた前記作業域どうしの被処理物出入口部を閉塞する構成にしてある点にある。
【００２０】
つまり、上記第５特徴構成であれば、薬液受止体を作業域どうしの被処理物出入口部を開閉する扉に兼用する状態で、その薬液受止体と仕切体とにより作業域どうしを仕切ることになるから、例えば、薬液受止体単独で作業域どうしを仕切る場合に比して、薬液受止体を小さなものとすることができ、これにより、薬液受止体を切替移動させる薬液受止体移動手段の駆動動力の縮小化を図ることができて、コスト面で有利な設備とすることができる。なお、このコスト面での効果は、作業域どうしの仕切り面積が広い場合に特に有効である。
【００２１】
本発明の第６特徴構成は、第１〜第５特徴構成のいずれかの実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
複数の前記作業域に対し前記薬液受止体を夫々設ける構成にするとともに、
前記受止体移動手段は、複数の前記薬液受止体を共通駆動手段により切替移動させる構成にしてある点にある。
【００２２】
つまり、上記第６特徴構成であれば、薬液受止体ごとに駆動手段を設ける場合に比して、設備の簡素化を図ることができて、メンテナンス面で一層有利な設備とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は、銀鏡薄膜形成設備の全体構成を示し、この設備では、例えば、セラミック、金属、合成樹脂などを材料とした被処理物の表面に銀鏡薄膜を形成する銀鏡処理を実施する。１はトンネル状の銀鏡処理ブースであり、この銀鏡処理ブース１は、被処理物２に向けて活性剤Ｅを噴出することで被処理物２に活性処理を施す活性化室Ｕ１、活性処理後の被処理物２を静置する静置室Ｕ２、静置後の被処理物２に向けて洗浄液Ｄを噴出することで被処理物２に付着した余剰活性剤Ｅを除去する活性剤洗浄室Ｕ３、静置に続き洗浄した被処理物２に向けて混合により銀鏡反応を発現する薬液Ａ（例えば、アンモニア性銀塩水溶液）、薬液Ｂ（例えば、苛性ソーダ水溶液と還元剤水溶液との混合液）を噴出することで被処理物２に銀鏡処理を施す銀鏡室Ｕ４、銀鏡処理後の被処理物２に向けて洗浄液Ｃを噴出することで被処理物２に付着した余剰薬液Ａ、Ｂを除去する銀鏡薬液洗浄室Ｕ５、銀鏡処理に続き洗浄した被処理物２に向けて水切用空気Ａ１を噴出することで被処理物２に付着した洗浄液Ｃを吹き飛ばす水切室Ｕ６を、その順に被処理物搬送方向の上手側から並べて配置した構成にしてある。
【００２４】
前記活性化室Ｕ１、活性剤洗浄室Ｕ３、銀鏡室Ｕ４、銀鏡薬液洗浄室Ｕ５の各々には、銀鏡処理ブース１外に配置された薬液Ａ〜Ｅごとの圧送タンクＴａ〜ＴｅからポンプＰにより薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅを通じて個別に導かれた所定薬液を被処理物２の上方から被処理物２に向けて噴出する薬液噴出ユニット３Ａを配設するとともに、同様にして導かれた所定薬液を被処理物２の側方から被処理物２に向けて噴出する補助薬液噴出ユニット３Ｂ（図２、図３を参照のこと）を配設してある。また、水切室Ｕ６には、銀鏡処理ブース１外に配置された空調機ＳＡ１で新鮮空気Ａｏを温湿度調整して生成したのちにファンｄにより空気供給路ＲＡ１を通じて導かれた水切用空気Ａ１を被処理物２の上方から被処理物２に向けて噴出する空気噴出具４を配設してある。
【００２５】
６は、被処理物２を載置する略円盤形状の載置台Ｔを活性化室Ｕ１に給送する被処理物供給部、７は水切室Ｕ６から載置台Ｔを受ける被処理物受け部である。また、８は複数の載置台Ｔを被処理物供給部６から各室Ｕ１〜Ｕ６を経て被処理物受け部７まで順次に搬送する搬送手段である。
【００２６】
５は、各室Ｕ１〜Ｕ６の各々に配設された回転手段としての回転支持装置であり、この回転支持装置５は、搬送手段８により室内に搬送された載置台Ｔを支持するとともに、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２への薬液噴出に並行して載置台Ｔとともに被処理物２を縦軸芯Ｘ周りで適宜回転させ、これにより、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる薬液噴出で被処理物２に付着する各薬液Ａ〜Ｅを被処理物２の回転での遠心作用により被処理物２から飛散させるものである。
【００２７】
９は、室天井部から垂下して各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域どうしを仕切ることで隣接室間での噴出薬液や室内空気Ａｕの混和を阻止する仕切体としての透光性の仕切壁であり、各室Ｕ１〜Ｕ６どうしの間、被処理物供給部６と活性化室Ｕ１との間、水切室Ｕ６と被処理物受け部７との間に夫々配設してある。
【００２８】
１０Ａは、（図２、図３を参照）各室Ｕ１〜Ｕ６において被処理物２から飛散する飛散薬液の飛散域Ｐ１に位置して飛散薬液を受け止める薬液受止体としての薬液受止板であり、１０は、薬液受止板１０Ａを被処理物２からの飛散薬液を受け止める作用位置と後述する待避位置とに切替移動させる受止体移動手段である。この薬液受止板１０Ａは、各室Ｕ１〜Ｕ６において仕切壁９の下に形成される被処理物出し入れ用の室出入口部を開閉する仕切扉として兼用され、受止体移動手段１０による薬液受止板１０Ａの作用位置と待避位置との切替移動により室出入口部を開閉する。
【００２９】
つまり、この銀鏡薄膜形成設備は、受止体移動手段１０との連携下で搬送手段８により複数の被処理物２を各室Ｕ１〜Ｕ６に順次に搬送するとともに、各室Ｕ１〜Ｕ６において搬送手段８との連携下で回転支持装置５により被処理物２を適宜回転させながら各処理を実行することで、被処理物２の表面に銀鏡薄膜を形成する銀鏡処理を複数の被処理物２に対し順次、自動的に実施する構成にしてある。なお、銀鏡処理ブース１内で噴出された各薬液Ａ〜Ｅは、銀鏡処理ブース１下部の薬液ごとの専用回収槽１５に貯留されたのち、専用排液通路１６を通じて廃棄又は再利用される。
【００３０】
１１は、予め記憶させた設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物受け部６に装備した検出手段としての被処理物検出器１７による被処理物２の形状種や素材種などの種別の検出に基づいて、後述する各制御を行う制御盤である。
【００３１】
ＳＡ２は、空気供給部から供給された新鮮空気Ａｏの温度及び湿度を調整して換気用空気Ａ２を生成する空調機であり、１３は、ファンｄにより空調機ＳＡ２から空気供給路ＲＡ２を通じて各室Ｕ１〜Ｕ６の室天井部に導かれた換気用空気Ａ２を室天井部のほぼ全面から室内に下向き層流状に噴出するエアチャンバである。また、１４は、各室Ｕ１〜Ｕ６の室内空気Ａｕを下方から排出するとともに、その排出空気をファンｄにより排気路１４ａを通じて外部に排出する排出口であり、空調機ＳＡ２により各室Ｕ１〜Ｕ６における室内空気Ａｕの温度及び湿度を調整するとともに、エアチャンバ１３からの空気吹き出しと室内空気Ａｕの下方への排出とで発生する層流状の下向き室内気流及び重力により室内におけるミスト状の浮遊薬液（すなわち、噴出に伴いミスト化した薬液や後述する被処理物２の回転による被処理物２からの離脱飛散に伴いミスト化した薬液など）を室内から効率良く排出する。
【００３２】
図２〜図５は銀鏡室Ｕ４を示し、これに代表するように、前記回転支持装置５は、室内の平面視中央部において上向きに突出する縦ケース部と、その縦ケース部の下端部からブース横側方に延びる横ケース部とからなる正面視Ｌ字状の載置台支持ケース５Ａを備えており、縦ケース部の上端には、載置台Ｔの中央部に形成した嵌合孔ｔに対し下方から嵌入させる位置決め手段としての嵌入凸部５ｅを設けた載置台受座５ｄを縦軸芯Ｘ周りで回転自在に設けてある。
【００３３】
また、載置台支持ケース５Ａには、ブース外側面部に設置したモータ５Ｂの回転力を載置台受座５ｄに伝達する回転シャフト５ａ、５ｃ、べベルギア５ｂを内装してあり、嵌入凸部５ｅを嵌合孔ｔに嵌入させて載置台Ｔを載置台受座５ｄに受け止め支持させた状態において、モータ５Ｂの回転により載置台受座５ｄを回転させることで載置台Ｔをそれに載置の被処理物２とともに縦軸芯Ｘ周りで回転させる構成にしてある。
【００３４】
前記回転モータ５Ｂは、活性化室Ｕ１、洗浄室Ｕ３、Ｕ５、及び、水切室Ｕ６においては、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２に向けた薬液噴出で被処理物２に付着した薬液を遠心作用により被処理物２から飛散させる比較的低い各々所定の回転速度（例えば、３０回転／分程度）で被処理物２を回転させるように速度調整され、また、銀鏡室Ｕ４においては、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２に向けた薬液噴出に並行して、その薬液噴出で被処理物２に付着した反応済み薬液を遠心作用により付着してからの時間遅れの少ない状態で被処理物２から離脱飛散させる比較的高い回転速度（例えば、１２０回転／分程度）で被処理物２を回転させるように速度調整される。
【００３５】
なお、静置室Ｕ２においては、載置台Ｔを回転させることなく、その載置台Ｔに載置の被処理物２を静置する。
【００３６】
前記薬液噴出ユニット３Ａは、略下向き四つ又形状の支持部材３ａにおける下方先端部の夫々に薬液噴出ガン３ｂを被処理物搬送方向に駆動揺動させる状態に取り付けるとともに、駆動チェーン３ｃを介して支持部材３ａの上部に連結した駆動モータ３ｄの正逆回転により被処理物搬送方向に対して直交する横方向（以下、搬送直交方向と称することがある。）で往復移動する構成にしてあり、これら揺動動作及び往復移動により被処理物２に対して噴出角度、噴出位置を変更しながら均一に各薬液Ａ〜Ｅを噴出するようにしてある。
【００３７】
また、前記補助薬液噴出ユニット３Ｂは、室内壁部に配設された略横向き二又形状の支持部の先端に一対の薬液噴出ガン３ｂを取り付けて構成し、この補助薬液噴出ユニット３Ｂにより被処理物２の側面にも各薬液Ａ〜Ｅを噴出するようにしてある。
【００３８】
薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂの薬液噴出ガン３ｂには、図示しないが、対応の各薬液Ａ〜Ｅを各別に供給する薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅと空気供給路ＲＡ３とを接続してあり、空調機ＳＡ３で温湿度調整した新鮮空気Ａｏを薬液噴出用空気Ａ３として空気供給路ＲＡ３を通じ薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅからの各薬液Ａ〜Ｅとともに薬液噴出ガン３ｂに個別に供給するようにしてある。
【００３９】
すなわち、空気供給路ＲＡ３を通じて薬液噴出ガン３ｂに供給した薬液噴出用空気Ａ３を薬液噴出ガン３ｂから各薬液Ａ〜Ｅとともに被処理物２に向けて噴出させ、これにより、各薬液Ａ〜Ｅを噴霧状態（すなわち、スプレー状態）で被処理物２に向けて噴出させる。
【００４０】
銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂは、図６に示すように、一対の薬液噴出ガン３ｂを一セットとして、一方の薬液噴出ガン３ｂに薬液Ａ供給用の薬液供給路Ｒａを接続し、他方の薬液噴出ガン３ｂに薬液Ｂ供給用の薬液供給路Ｒｂを接続してあり、その一セットの薬液噴出ガン３ｂを、それらの先端部どうしが近づく側に夫々所定角度に傾けて配置することで、一方の薬液噴出ガン３ｂから噴出される薬液Ａと他方の薬液噴出ガン３ｂから噴出される薬液Ｂとが被処理物２の近傍から被処理物２の表面に至る重複領域Ｐ２で混合して銀鏡反応を発現する構成にしてある。
【００４１】
つまり、この銀鏡薄膜形成設備では、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる薬液噴出で被処理物２に付着する薬液を前述の被処理物２の回転での遠心作用により被処理物２から飛散させることによって、被処理物２の形状によって被処理物２の表面に薬液溜まりなどが生じることを抑止して、その薬液溜まりに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に抑止し、そして、特に銀鏡室Ｕ４においては、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂから被処理物２に向けて噴出された薬液Ａ、Ｂが被処理物２への到達直後又は到達過程である重複領域Ｐ２で銀鏡反応を発現するため、この銀鏡反応による析出銀と反応済み薬液との両方が被処理物２の表面に分散して付着することになるが、その付着反応済み薬液を被処理物２から素早く離脱飛散させることによって、その付着反応済み薬液が後続の未反応薬液Ａ、Ｂと混合して、その後続未反応薬液Ａ、Ｂの濃度が不確定に変化したり、また、付着反応済み薬液が後続薬液Ａ、Ｂの反応による析出銀と被処理物２の表面との間に介在したりするなどのことに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止する。
【００４２】
また、図６に示す銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂに代表するように、薬液噴出ガン３ｂにおける薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅの接続部から薬液吐出口３ｅに至る薬液通路には、その先端の薬液吐出口３ｅに極力近付けて、薬液通路開閉用の開閉弁３ｆを設けてあり、これにより、開閉弁３ｆを開いた薬液噴出状態から開閉弁３ｆを閉じて薬液噴出を停止したときの薬液吐出口３ｅからの薬液落下を防止して、薬液噴出後の被処理物２に薬液吐出口３ｅからの落下薬液が付着することによる製品の品質低下を防止するようにしてある。
【００４３】
さらにまた、銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂは、図３に示す如く、回転支持装置５による被処理物２の回転で被処理物２の周りに形成される反応済み薬液飛散域Ｐ１の上方位置に配置することで、この飛散域Ｐ１から外れた位置から薬液Ａ、Ｂを噴出するようにしてあり、これにより、これら薬液噴出ガン３ｂから噴出された薬液Ａ、Ｂと飛散域Ｐ１内を飛散する反応済み薬液との衝突の確率を低減するようにしてある。
【００４４】
前記空気供給路ＲＡ２の銀鏡室Ｕ４に対する分流路部分には、銀鏡室Ｕ４に供給する換気用空気Ａ２の温湿度を個別に調整する空調機１８を介装してあり、具体的には、この空調機１８は、銀鏡室Ｕ４内に配設した温湿度検出器１９により検出される銀鏡室Ｕ４の室内温度及び室内湿度に基づき銀鏡室Ｕ４に対する換気用空気Ａ２の温湿度を個別に調整することで、銀鏡室Ｕ４の室内温度又は室内湿度を設定値に調整する構成にしてある。
【００４５】
これに対し、前記制御盤１１は、前記の設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温湿度に自動的に変更するようにしてある。
【００４６】
また、銀鏡室Ｕ４で用いる銀鏡処理用薬液Ａ、Ｂの圧送タンクＴａ、Ｔｂには、それら圧送タンクＴａ、Ｔｂ内の薬液Ａ、Ｂの温度（つまり、銀鏡室Ｕ４において薬液噴出ガン３ｂから噴出する薬液Ａ、Ｂの温度）を設定値に調整する薬液温度制御器Ｓ１、Ｓ２を設け、これに対し、前記制御部１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、薬液Ａ、Ｂの温度の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４において薬液噴出ガン３ｂから噴出する薬液Ａ、Ｂの温度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温度に自動的に変更するようにしてある。
【００４７】
さらに、前記空気供給路ＲＡ３の銀鏡室Ｕ４に対する分流路部分には、銀鏡室Ｕ４に供給する薬液噴出用空気Ａ３の温湿度を設定値に調整する空調機２０を介装し、これに対し、前記制御盤１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４に供給する薬液噴出用空気Ａ３の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４において噴出する薬液噴出用空気Ａ３の温湿度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温湿度に自動的に変更するようにしてある。
【００４８】
そしてまた、制御盤１１は、前記の設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の回転モータ５Ｂの回転速度を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４における被処理物２の回転速度を被処理物２夫々の種別に応じて、適度な反応時間を確保しながら反応済み薬液を極力効果的に離脱飛散させ得る最適の回転速度に自動的に変更するようにしてある。
【００４９】
加えて、制御盤１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の回転モータ５Ｂの回転方向、及び、回転方向の経時的切り替えパターンを自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４における被処理物２の回転方向、及び、回転方向の経時的切り替えパターンを被処理物２夫々の種別に応じて、被処理物２から反応済み薬液を効果的かつ確実に離脱飛散させ得る最適なものに自動的に変更するようにしてある。
【００５０】
すなわち、この銀鏡薄膜形成設備では、設定生産スケジュール、又は、被処理物検出器１７からの被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４内に搬送された被処理物２の種別に応じ、被処理物２の回転速度、被処理物２の回転方向及び回転方向の経時的切り替えパターンを被処理物２夫々に応じた最適なものに自動変更するとともに、薬液噴出用空気Ａ３の温湿度、銀鏡処理用の薬液Ａ、Ｂの温度、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度を被処理物２夫々に応じた好適なものに自動変更することで、複数の被処理物２を順次、自動的に処理する場合において、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を一層効果的かつ確実に防止する。
【００５１】
前記薬液受止板１０Ａは、図３に示す如く、被処理物２から飛散する飛散薬液の飛散域Ｐ１に位置する前述の作用位置において、被処理物２の搬送方向視で隣室から見て被処理物２及びその周囲を十分に覆い隠し、かつ、上縁部が仕切壁９の下縁部とラップする横寸法Ｌ１と縦寸法Ｌ２とを有するもの（本例では、被処理物２とそれを載置する載置台Ｔとの横方向における最大直径Ｒよりも大なる横寸法Ｌ１で、かつ、仕切壁９の下縁部から載置台Ｔの下端までの長さＬよりも大なる縦寸法Ｌ２）にしてあり、前記室出入口部を閉塞する状態で、被処理物２から飛散する薬液（銀鏡室Ｕ４においては、反応済み薬液）を受け止め、特に、隣室側の被処理物２に向かう飛散薬液を確実に受け止めるようにしてある。
【００５２】
前記受止体移動手段１０は、図２〜図５に示す如く、被処理物受け部７付近に配設のエアシリンダ１０Ｃに連結された各室Ｕ１〜Ｕ６に対する共通回動シャフト１０Ｂに、各室Ｕ１〜Ｕ６に対する前記薬液受止板１０Ａを取り付けて構成してあり、搬送手段８との連携下で共通駆動手段としてのエアシリンダ１０Ｃにより共通回動シャフト１０Ｂをシャフト軸芯周り約９０度の範囲で回動操作することで、薬液受止板１０Ａを共通回動シャフト１０Ｂのシャフト軸芯周りで揺動させて、図３、図５に示す前記作用位置（前記室出入口部を閉じた状態）と図２、図４に示す待避位置（前記室出入口部を開いた状態）とに切替移動させる構成にしてある。そして、待避位置においては、薬液受止板１０Ａが被処理物２の移動経路及びその経路の直上方から外れた位置に、詳しくは、搬送手段８による被処理物搬送により被処理物２が通過する前記移動経路としての被処理物通過域、及び、室内において被処理物通過域の直上方に形成される移動経路直上域ｈから側方に外れた位置に位置するようにしてある。
【００５３】
つまり、この受止体移動手段１０により薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂからの薬液噴出の際、薬液受止板１０Ａを前記作用位置に位置させておくことで、室出入口部を通じた作業域間での噴出薬液及び域内空気Ａｕの混和を抑止するとともに、回転支持装置５による回転遠心力で被処理物２から飛散する薬液（銀鏡室Ｕ４においては、反応済み薬液）が隣室まで飛散するのを効果的に抑止し、これにより、飛散薬液が隣室内の被処理物２などに付着するなどの不具合を抑止する。
【００５４】
また、被処理物２を搬送するときには、薬液受止板１０Ａを移動経路及び移動経路直上域ｈから側方に外れた退避位置に位置させることで、回転遠心力により被処理物２から離脱飛散して作用位置の薬液受止板１０Ａに付着した薬液が室出入口部を通過する被処理物２に落下付着することを防止し、飛散薬液の落下付着に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良も効果的かつ確実に防止する。
【００５５】
前記搬送手段８は、図７、図８に示す如く、載置台Ｔを被処理物搬送方向の上手室における回転支持装置５の載置台受座５ｄから下手側隣接室における回転支持装置５の載置台受座５ｄまで略水平に移送する移送装置８Ａと、この移送装置８Ａを昇降させることで、各室Ｕ１〜Ｕ６における回転支持装置５の載置台受座５ｄに対して載置台Ｔを離着座させる昇降装置８Ｂとから構成してあり、昇降装置８Ｂによる移送装置８Ａの上昇により載置台Ｔを載置台受座５ｄから上方に離座させる上昇工程と、離座させた載置台Ｔを移送装置８Ａにより下手側隣接室へ移送する往動工程（図７（イ）〜（ロ）参照）と、昇降装置８Ｂによる移送装置８Ａの下降により載置台Ｔを下手側隣接室の載置台受座５ｄに着座させる下降工程（図８（イ）〜（ロ）参照）と、載置台Ｔを下手側隣接室に残して下降状態の移送装置８Ａを上手側に戻す復動工程とを、その順に繰り返すことで載置台Ｔ及びそれに載置の被処理物２を搬送方向下手側へ順次送るようにしてある。
【００５６】
前記移送装置８Ａは、搬送対象の載置台Ｔを載置支持する一対の搬送レール８ａをブース長手方向にわたらせた状態で複数のレール受け部材８ｂにより被処理物搬送方向に摺動自在に支持するとともに、この搬送レール８ａを被処理物搬送方向で押し引き操作するレール駆動部８ｃをレール受け部材８ｂの下部に固定して構成してあり、このレール駆動部８ｃによる押し引き操作により搬送レール８ａを被処理物搬送方向で往復摺動させることで、その往動をもって前記往動工程を行い、また、その復動をもって前記復動工程を行うようにしてある。
【００５７】
前記レール駆動部８ｃは、ボールネジ８ｅを回転自在な状態でレール受け部材８ｂに対し連結固定するとともに、そのボールネジ８ｅに螺合させたスライダ８ｆの上端を搬送レール８ａに連結して構成してあり、搬送レール８ａの押し引き操作としては、駆動モータ８ｄによるボールネジ８ｅの正逆回転駆動によりスライダ８ｆを被処理物搬送方向で往復移動させることで、搬送レール８ａを図７（イ）の状態と図７（ロ）の状態とに亘って室間隔で往復移動させる構成にしてある。
【００５８】
前記昇降装置８Ｂは、一対の長尺角棒状の支持フレーム８ｇを被処理物供給部６と被処理物受け部７とにわたらせて固設し、この支持フレーム８ｇを基台として、エアシリンダ８ｈによる共通操作棒８ｉの押し引き操作により移送装置８Ａのレール受け部材８ｂを昇降させるリンクユニット８Ｄを２室ごとに１個の間隔で複数個設けて構成してある。
【００５９】
前記リンクユニット８Ｄは、上端を前記レール受け部材８ｂに枢支連結した第１リンク部材８ｊと、上端を第１リンク部材８ｊの中央部に枢支連結するとともに、下端を支持フレーム８ｇに枢支連結した第２リンク部材８ｋとを備え、これら第１、第２リンク部材８ｊ、８ｋは、レール受け部材８ｂと第１リンク部材８ｊとの枢支点が側面視で支持フレーム８ｇと第２リンク部材８ｋとの枢支点の直上方に位置する状態に組み付けてある。
【００６０】
また、第１リンク部材８ｊの下端には、支持フレーム８ｇ上を被処理物搬送方向に転動させる転輪８ｍを取り付けてあり、各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを前記共通操作棒８ｉに対し枢着することで、エアシリンダ８ｈによる共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを支持フレーム８ｇ上で同調させて転動させる構成にしてある。
【００６１】
つまり、共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを第２リンク部材８ｋ側に寄せて、各第１リンク部材８ｊの傾き角度をＫ２からＫ１にする（図８（イ）（ロ）参照）ことで、レール受け部材８ｂを上昇させて搬送レール８ａを上昇させる前記上昇工程を行い、また、共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを第２リンク部材から離れる側に寄せて、各第１リンク部材８ｊの傾き角度をＫ１からＫ２にすることで、レール受け部材８ｂを下降させて搬送レール８ａを下降させる前記下降工程を行うようにしてある。
【００６２】
なお、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂは、被処理物２の表面に銀鏡処理を施すための薬液Ａ〜Ｅを被処理物２に向けて噴出する薬液噴出手段に相当し、各室Ｕ１〜Ｕ６は、被処理物２の表面に銀鏡処理を施すための作業域に相当する。
【００６３】
［別実施形態］
次に本発明の別実施形態を列記する。
前述の実施形態では、各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域どうしを仕切る仕切体を設けるとともに、その仕切壁９の下に形成される室出入口部を薬液受止体で仕切ることで、仕切体と薬液受止体とにより室どうしを仕切る構成にしていたが、仕切壁９を設けずに薬液受止体１０Ａにより各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域から室出入口部に亘る部分どうしを仕切る、或いは、室どうしを完全に仕切るなど、薬液受止体を仕切体として兼用する構成にしてもよい。
【００６４】
前述の実施形態では、各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域どうしを仕切る仕切壁９を設けるとともに、その仕切壁９の下に形成される室出入口部を薬液受止板１０Ａの作用位置とする構成にしていたが、仕切壁９の内側における室出入口部の上方部分を薬液受止板１０Ａの作用位置とする構成にして、薬液受止体１０Ａにより仕切壁９の内側面における室出入口部の上方に位置する部分に噴出薬液や飛散薬液が付着するのを抑止するようにしてもよい。
【００６５】
前述の実施形態では、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２への薬液噴出に並行して被処理物２を回転させる構成にしていたが、例えば、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２への薬液噴出後に被処理物２を回転させる構成にしてもよい。
【００６６】
前述の実施形態では、被処理物２の移動経路及びその移動経路の直上方から側方に外れた位置を薬液受止板１０Ａの待避位置としていたが、被処理物２の移動経路及びその移動経路の直上方から下方に外れた位置を薬液受止板１０Ａの待避位置としてもよく、また、被処理物２の移動経路及びその移動経路の直上方を蓋する別部材を配設して、その別部材の上方位置を薬液受止板１０Ａの待避位置としてもよい。
【００６７】
前述の実施形態では、被処理物２から飛散する飛散薬液を受け止める薬液受止体として板状形状の薬液受止板１０Ａを例に示したが、薬液受止体の形状はドーム型形状や箱型形状やリング型形状など種々の形状であってもよい。
【００６８】
また、薬液受止体の形状をドーム型形状、箱型形状、リング型形状などの形状とする場合において、薬液受止体が被処理物２を囲う位置を作用位置とし、被処理物２を囲う状態を脱する位置を待避位置とする構成にして、被処理物２の移動経路を適宜設定できるようにしてもよい。
【００６９】
前述の実施形態では、銀鏡処理ブース１と、銀鏡処理ブース１の天井部から垂下する仕切壁９とを設け、その仕切壁９の下方に形成される室出入口部を薬液受止体としての薬液受止板１０Ａにより仕切ることで、被処理物２の表面に銀鏡処理するための作業域としての各室Ｕ１〜Ｕ６を形成していたが、薬液受止体の形状をドーム型形状、箱型形状にするとともに、薬液受止体が被処理物２を囲う位置を前記作用位置とする構成にして、その作用位置において薬液受止体単独で作業域を形成するようにしてもよい。
【００７０】
前述の実施形態では、活性化室Ｕ１、活性剤洗浄室Ｕ２、銀鏡室Ｕ４、銀鏡薬液洗浄室Ｕ５の夫々を１室づつ設けていたが、これらの室を必要に応じて分割してもよい。
【００７１】
また、上述の如く室を分割した場合において、分割した室の前段と後段とで、回転支持装置５による回転速度や回転方向、回転方向の切り替えパターンを必要に応じ変更してもよく、また、薬噴出手段から噴出される薬液Ａ〜Ｅの濃度や噴出量、銀鏡処理用薬液Ａ、Ｂの混合比率などを必要に応じ変更してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】銀鏡薄膜形成設備の全体構成を示す説明図
【図２】被処理物搬送時における銀鏡室の被処理物搬送直交方向断面図
【図３】薬液噴出時における銀鏡室の被処理物搬送直交方向断面図
【図４】被処理物搬送時における銀鏡室の被処理物搬送方向断面図
【図５】薬液噴出時における銀鏡室の被処理物搬送方向断面図
【図６】混合により銀鏡反応を発現する薬液の噴出状態を示す説明図
【図７】搬送装置の説明図
【図８】搬送装置の説明図
【符号の説明】
【００７３】
２ 被処理物
３Ａ 薬液噴出手段（薬液噴出ユニット）
３Ｂ 薬液噴出手段（補助薬液噴出ユニット）
５ 回転手段（回転支持装置）
９ 仕切体（仕切壁）
１０ 受止体移動手段
１０Ａ 薬液受止体（薬液受止板）
１０Ｃ 共通駆動手段（エアシリンダ）
Ａ〜Ｅ 薬液
Ｐ１ 飛散域
Ｕ１〜Ｕ６ 作業域（活性室、静置室、活性剤洗浄室、銀鏡室、銀鏡薬液洗浄室、水切室）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液を被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段と、被処理物を回転させる回転手段とを設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する薬液を前記回転手段による被処理物回転での遠心作用により被処理物から飛散させる構成にするとともに、
この飛散薬液の飛散域に位置して飛散薬液を受け止める薬液受止体を設け、この薬液受止体を、飛散薬液を受け止める作用位置と被処理物の移動経路及びその経路の直上方から外れた待避位置とに切替移動させる受止体移動手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備。
【請求項２】
前記薬液噴出手段は、混合により銀鏡反応を発現する複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で噴出する構成にするとともに、
前記回転手段は、前記薬液噴出手段による被処理物に向けた薬液噴出に並行して被処理物を回転させる構成にしてある請求項１記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項３】
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域どうしを仕切る仕切体を設けるとともに、
前記薬液受止体は、前記仕切体の内側で、且つ、前記作業域に対して被処理物を出し入れする出入口部の上方を前記作用位置とする構成にしてある請求項１又は２記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項４】
前記薬液受止体は、それが前記作用位置にあるとき、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域どうしを仕切る構成にしてある請求項１又は２記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項５】
前記薬液受止体は、それが前記作用位置にあるとき、仕切体により仕切られた前記作業域どうしの被処理物出入口部を閉塞する構成にしてある請求項４記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項６】
複数の前記作業域に対し前記薬液受止体を夫々設ける構成にするとともに、
前記受止体移動手段は、複数の前記薬液受止体を共通駆動手段により切替移動させる構成にしてある請求項１〜５のいずれか１項に記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項１】
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための薬液を被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段と、被処理物を回転させる回転手段とを設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する薬液を前記回転手段による被処理物回転での遠心作用により被処理物から飛散させる構成にするとともに、
この飛散薬液の飛散域に位置して飛散薬液を受け止める薬液受止体を設け、この薬液受止体を、飛散薬液を受け止める作用位置と被処理物の移動経路及びその経路の直上方から外れた待避位置とに切替移動させる受止体移動手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備。
【請求項２】
前記薬液噴出手段は、混合により銀鏡反応を発現する複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で噴出する構成にするとともに、
前記回転手段は、前記薬液噴出手段による被処理物に向けた薬液噴出に並行して被処理物を回転させる構成にしてある請求項１記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項３】
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域どうしを仕切る仕切体を設けるとともに、
前記薬液受止体は、前記仕切体の内側で、且つ、前記作業域に対して被処理物を出し入れする出入口部の上方を前記作用位置とする構成にしてある請求項１又は２記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項４】
前記薬液受止体は、それが前記作用位置にあるとき、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域どうしを仕切る構成にしてある請求項１又は２記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項５】
前記薬液受止体は、それが前記作用位置にあるとき、仕切体により仕切られた前記作業域どうしの被処理物出入口部を閉塞する構成にしてある請求項４記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項６】
複数の前記作業域に対し前記薬液受止体を夫々設ける構成にするとともに、
前記受止体移動手段は、複数の前記薬液受止体を共通駆動手段により切替移動させる構成にしてある請求項１〜５のいずれか１項に記載の銀鏡薄膜形成設備。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００７−２１７７２１（Ｐ２００７−２１７７２１Ａ）
【公開日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３６５４２（Ｐ２００６−３６５４２）
【出願日】平成１８年２月１４日（２００６．２．１４）
【出願人】（０００１４９７９０）株式会社大気社 (136)
【出願人】（５０６０１２５３４）有限会社ジェイ・エー・コーティング (2)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月１４日（２００６．２．１４）
【出願人】（０００１４９７９０）株式会社大気社 (136)
【出願人】（５０６０１２５３４）有限会社ジェイ・エー・コーティング (2)
【Ｆターム（参考）】
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