関節ポリシダルオキサジアジンの製造に用いられる化合物
【課題】 それらのキラル中心においてラセミ又は鏡像異性体的に富んでいる関節オキサジアジンの製造に用いられる化合物の提供。
【解決手段】 式：
【化１】
の化合物。
【解決手段】 式：
【化１】
の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、関節ポリシダル（ａｒｔｈｒｏｐｏｄｉｃｉｄａｌ）オキサジアジンの製造に用いられる化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
関節ポリシダルオキサジアジンは、特許文献１及び特許文献２中に開示されている。しかしながら、これらの化合物のための製造方法は、経済的な商業的操作のために改善されなければならない。従って、本発明は、好ましい関節ポリシダルオキサジアジンへの好都合なルートを提供する。
【特許文献１】ＷＯ９２／１１２４９パンフレット
【特許文献２】ＷＯ９３／１９０４５パンフレット
【発明の開示】
【０００３】
本発明は、キラル中心＊においてラセミであるか（以下ラセミ的なということもある）又は鏡像異性体に富んでいる（以下鏡像異性体的に富んでいるということもある）式Ｉ
【０００４】
【化１】
【０００５】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物を製造するための方法であって、
（ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ
【０００６】
【化２】
【０００７】
の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ
Ｈ２Ｎ−ＮＨＲ３ ＩＩＩ
の化合物と反応させて、式ＩＶ
【０００８】
【化３】
【０００９】
［式中、
Ｒ３は、保護基ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
の化合物を生成させること、
（ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンと反応させて式Ｖ
【００１０】
【化４】
【００１１】
の化合物を生成させること、
（ｃ）式Ｖの化合物を水素化させて式ＶＩ
【００１２】
【化５】
【００１３】
の化合物を生成させること、そして
（ｄ）式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ
【００１４】
【化６】
【００１５】
の化合物と反応させて、式ＩＩの化合物と実質的に同じ絶対配置を有する式Ｉの化合物を生成させること
を含んで成る方法に関連する。
【００１６】
本発明は、更にまた、ステップａ中の式ＩＩの化合物が所望の式Ｉの化合物と同じ配置を有する、＊において鏡像異性体的に富んでいる、ステップａ〜ｄを含んで成るキラル中心で鏡像異性体的に富んだ式Ｉの化合物を製造するための方法に関連する。
【００１７】
本発明は、更にまた、ステップａ〜ｄ及び更にまた
（ｉ）ルイス酸の存在下でｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物をエチレンと反応させて式ＶＩＩＩ
【００１８】
【化７】
【００１９】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｉ）ＶＩＩＩをペルオキシ酸と反応させて式ＩＸ
【００２０】
【化８】
【００２１】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｉｉ）酸触媒の存在下でＩＸをＣ１〜Ｃ３−アルコールと反応させて式Ｘ
【００２２】
【化９】
【００２３】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｖ）Ｘを塩基と反応させて式ＸＩ
【００２４】
【化１０】
【００２５】
の化合物を製造するステップ、
並びに
（ｖ）キラル塩基の存在下でＸＩをヒドロペルオキシドと反応させて鏡像異性体的に富んだＩＩを製造するステップ
を含んで成り、そしてステップｖからの鏡像異性体的に富んだＩＩはステップａにおいて反応させられ、そして前記式中、Ｒ１及びＲ２は前に定義した通りである
キラル中心＊において鏡像異性体的に富んだ式Ｉの化合物を製造するための方法に関連する。
【００２６】
本発明は、更に個々の方法ステップａ、ｂ、ｃ及びｄに関連し、そしてａ、ｂ；ａ、ｂ、ｃ；ｂ、ｃ；ｂ、ｃ、ｄ；及びｃ、ｄの多段ステップ方法に関連する。
【００２７】
本発明は、更にまた、式ＸＩの化合物から式ＩＩの鏡像異性体を製造するための単一方法ステップｖに、式ＩＩの化合物を製造するための５つのステップｉ〜ｖに、ｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物からの式ＸＩの化合物の製造のための４つのステップｉ〜ｉｖ方法に、式ＩＸの化合物を製造するための２つの方法ステップｉ〜ｉｉ方法に、式ＩＸの化合物を製造するための単一ス方法テップｉｉに、そして式Ｘの化合物を製造するための２つのステップｉｉ〜ｉｉｉ方法に関連する。
【００２８】
本発明は、更にまた、式ＩＩ：
【００２９】
【化１１】
【００３０】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物の（＋）鏡像異性体に関連し、そしてこれらの化合物は実質的に純粋な（＋）鏡像異性体である。
【００３１】
本発明は、更にまた、式ＩＶ、Ｖ及びＶＩ：
【００３２】
【化１２】
【００３３】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルであり、そして
Ｒ４は、ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
のラセミ及び鏡像異性体的に富んだ化合物に関連する。
【００３４】
本発明は、式ＶＩＩ
【００３５】
【化１３】
【００３６】
の化合物に関する。
【００３７】
本発明は、更にまた、式ＩＸ及びＸ
【００３８】
【化１４】
【００３９】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれれ、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物に関連する。
【００４０】
上の定義においては、“ハロゲン化物”という語は、フッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物を意味する。“Ｃ１〜Ｃ３−アルキル”という語は、１、２又は３個の炭素原子を有する直鎖の又は分岐したアルキルを示し、そしてメチル、エチル、ｎ−プロピル又はイソプロピルを意味する。“Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ”という語は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ又はイソプロポキシを意味する。“Ｃ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシ”という語は、部分的に又は全部がフッ素原子によって置換されたメトキシ、エトキシ、ｎ−
プロポキシ又はイソプロポキシを意味し、そして、例えば、ＣＦ３Ｏ及びＣＦ３ＣＨ２Ｏを含む。“Ｃ１〜Ｃ３−アルコール”という語は、メチル、エチル、ｎ−プロピル又はイソプロピルアルコールを意味する。
【００４１】
式ＩＶ、Ｖ及びＶＩの好ましい化合物は、Ｒ２がメチルでありそしてＲ１が塩素、ＣＦ３Ｏ及びＣＦ３ＣＨ２Ｏである化合物である。最も好ましいものは、フェニルメチル［５−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）−１Ｈ−インデン−１−イリデン］ヒドラジンカルボキシレート（ＩＶａと名付ける）、４ａ−メチル２−（フェニルメチル）−７−クロロインデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−２，４ａ（３Ｈ，５Ｈ）−ジカルボキシレート（Ｖａと名付ける）、及びメチル７−クロロ−２，５−ジヒドロインデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）−カルボキシレート（ＶＩａと名付ける）である。
【００４２】
式ＩＩ、ＩＸ及びＸの好ましい化合物は、［式中、Ｒ２がメチルであり、そしてＲ１が塩素、臭素、ＣＦ３Ｏ又はＣＦ３ＣＨ２Ｏである］化合物である。最も好ましいものは、（＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１−オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレート（（＋）Ｈａと名付ける）である。
【００４３】
本発明の一つの面は、典型的には以下のように操作される４つのステップ、ａ〜ｄを含んで成る、式Ｉの化合物を製造するための方法に関連する。
【００４４】
ステップａ）は、ＩＩ（ＷＯ ９２１１２４９中に詳細に述べられているような、置換されたインダノン、例えば５−クロロ−１−インダノンから例えば製造された）を、酸触媒例えばｐ−トルエンスルホン酸、硫酸又は酢酸の存在下で、必要に応じて不活性溶媒例えばメタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン及び類似物の中で、約等モル量のＩＩＩと反応させることによってＩＶを生成させる。典型的な反応条件は、約０．５〜２５時間の間の約４０〜１２０℃、好ましくは６５〜８５℃の温度を含む。化合物ＩＶは、必要に応じて反応混合物の水による希釈の後で、標準的方法例えば濾過によって回収することができる。その代わりに、ＩＶは、溶媒によって抽出し、そして単離なしで次の反応ステップにおいて直接に使用することもできる。
【００４５】
ステップｂ）は、ＩＶを、ルイス酸の存在下で、必要に応じて不活性溶媒例えばジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、α，α，α−トリフルオロトルエン及び類似物の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタン例えばジメトキシメタン又はジエトキシメタンと反応させることによってＶを生成させる。このジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンはモル過剰で良い。ルイス酸はＰ２Ｏ５、ＢＦ３及びＳＯ３を含み、最善の結果のためには、これらは一般的には０．９〜４．０モル当量（Ｖに対して）を必要とし、更にまた含まれるのは、Ｖに対して約０．１〜０．５モル当量で使用することができる金属（殊に、スカンジウム、イッテルビウム、イットリウム及び亜鉛）トリフルオロメタンスルホネートである。このステップのための最も好ましいルイス酸はＰ２Ｏ５及びＳＯ３である。ＳＯ３は、錯体例えばＤＭＦ・ＳＯ３（ＤＭＦはジメチルホルムアミドである）の形でも良い。典型的な反応条件は、約０．５〜４８時間に関して、約２０〜１５０℃、好ましくは５０〜６０℃、及び約１００〜７００ｋＰａ、好ましくは１００〜３００ｋＰａの圧力を含む。犠牲にならないルイス酸例えば希土類トリフルオロメタンスルホネートを用いる時には、反応の間に蒸留によって副生成物Ｃ１〜Ｃ３−アルコールを連続的に除去することが好ましい。化合物Ｖは、標準的方法例えば濾過によって回収することができ、次の反応ステップにおいて精製なしで使用することができる。その代わりに、ルイス酸として金属トリフルオロメタンスルホネートを用いる時には、Ｖは、反応物体を濃縮すること、必要に応じて不活性で水不混和性溶媒例えば酢酸エチルによって希釈するこ
と、水で洗浄して金属トリフルオロメタンスルホネートを除去すること、有機相を濃縮すること、並びに必要に応じて適切な溶媒例えば水性メタノール、ヘキサン及び類似物を添加することによって有機相からＶが結晶化するようにせしめることによって回収することができる。
【００４６】
ステップｃ）は、水素化金属触媒例えばパラジウム、好ましくは物質例えば炭の上に支持されたものの存在下で、不活性溶媒例えば酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン、ジエトキシメタン又はＣ１〜Ｃ３−アルコールの中で、水素ソースからの水素又は好ましくは分子水素それ自体とＶとを反応させることによってＶＩを生成させる。典型的な反応条件は、約３時間に関して、約０〜３０℃、好ましくは約２０℃の温度、及び約１０５〜１４０ｋＰａ、好ましくは３５ｋＰａの圧力を含む。化合物ＶＩは、標準的方法、例えば濾過すること及び後続のバッチへのリサイクルのためにパラジウムを回収すること、有機相を分離すること、溶媒を除去することによって有機相を濃縮すること、及び必要に応じて水性Ｃ１〜Ｃ３−アルコール、アセトニトリル又は脂肪族炭化水素例えばヘキサンを添加することによってＶＩの結晶化を誘発させることによって、溶液から回収することができる。好ましくは化合物ＶＩは、有機相中の溶液からの単離なしで次のステップにおいて使用される。
【００４７】
ステップｄ）は、ＶＩを約モル当量のＶＩＩと、必要に応じて約１．０〜１．５モル当量（ＶＩＩに関して）の酸スカベンジャー例えばトリアルキルアミン、ピリジン又は、好ましくは水性炭酸又は重炭酸ナトリウムの存在下で、不活性溶媒例えばトルエン、キシレン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、ジエトキシメタン及び類似物の中で反応させることによってＩを生成させる。典型的な反応条件は、約０．２〜２時間の間の約０〜３０℃の温度を含む。化合物Ｉは、標準的方法によって、例えば反応混合物を水性酸又は水性塩化ナトリウムで洗浄し、有機相を濃縮し、そして必要に応じてＣ１〜Ｃ３−アルコール、水、アルコール−水混合物又は脂肪族炭化水素例えばヘキサンの添加によって有機相からのＩの結晶化を誘発することによって回収することができる。ステップｃとｄは、Ｖの水素化の間にＶＩＩ及び必要に応じた酸スカベンジャーを添加することによって単一の反応ポット中に合わせることができる。このやり方においては、化合物ＶＩは、それが生成させるとすぐにアシル化されてＩを与える。合わせられたステップｃ及びｄのための典型的な溶媒は、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン及び類似物である。酸スカベンジャーは、トリアルキルアミン例えばトリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルアミン及び類似物、又は固体無機化合物例えば重炭酸ナトリウム、酸化カルシウム、ピロリン酸ナトリウム、クエン酸三ナトリウム塩及び類似物で良い。
【００４８】
反応ステップａ〜ｄは、キラル中心＊での配置を実質的に保留しながら進む。好ましい実施態様においては、ステップａにおいて用いられる式ＩＩの化合物は、鏡像異性体的に富んでいて、それによって同じ絶対配置を有する鏡像異性体的に富んでいる式Ｉの化合物を供給する。鏡像異性体的に富んでいるということは、化合物のバルクサンプルが（＋）か（−）のどちらかの過剰の鏡像異性体を含み、そして１００％を含みそれまでの純粋な鏡像異性体の、鏡像異性体の１対１（ラセミ）混合物よりも大きい何かを含むことを意味する。かくして、例えば、２５％（−）鏡像異性体と７５％（＋）鏡像異性体を有する富んだ化合物は、５０％のラセミ化合物及び５０％の純粋な（＋）鏡像異性体の混合物と見なされ、そして５０％の鏡像異性体的に過剰な（＋）鏡像異性体を有するとされる。本発明の殊に好ましい実施態様においては、式ＩＩの化合物は（＋）鏡像異性体に富んでいて、これは（＋）鏡像異性体に富んだ式Ｉの化合物を導き、そして（＋）鏡像異性体は一層関節ポリシダル活性鏡像異性体であることが見い出された。式ＩＩの化合物の富化は好ましくは少なくとも１０％そして更に好ましくは少なくとも２０％の（＋）鏡像異性体である。
【００４９】
式ＩＩの鏡像異性体的に富んだ化合物は、例えば、標準的方法に従ってラセミ混合物の鏡像異性体を物理的に分離することによって製造することができる。しかしながら、このような方法は、大規模で操作するのが困難であり、そして望まない鏡像異性体を廃棄しなければならないのでしばしば不経済である。本発明の好ましい実施態様においては、式ＩＩの鏡像異性体的に富んだ化合物を、５つのステップ、ｉ〜ｖを含んで成る鏡像異性体選択的方法によって製造する。“鏡像異性体選択的”ということは、キラル生成物の所望の鏡像異性体が、必ずしも排他的ではないけれども、優先的に生成されることを意味する。
【００５０】
ステップｉ）は、購入することができる（例えばＳｐｅｃｔｒｕｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．から）か又は既知の手順によって酸から製造することができそして必要に応じてその場で生成させることができる適切に置換されたフェニルアセチルハロゲン化物を、約１〜４モル当量、好ましくは２モル当量のエチレンガス及び約０．９〜１．５モル当量のルイス酸例えば塩化アルミニウムと、約３〜１０重量部の不活性溶媒例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、二硫化炭素、又はｏ−ジクロロベンゼンの中で反応させることによってＶＩＩＩを生成させる。典型的な反応条件は、約−２０〜＋３０℃、好ましくは−５〜０℃の範囲の温度、約６０〜４００ｋＰａの範囲の圧力及び約０．５〜８時間の反応時間を含む。化合物ＶＩＩＩは、標準的方法によって単離することができ、又は溶媒が適切、例えばジクロロメタン又はジクロロエタンである時には、反応混合物はＶＩＩＩの単離なしで次のステップにおいて用いることができる。
【００５１】
ステップｉｉ）は、ＶＩＩＩを、約２．５〜３．５当量のペルオキシカルボン酸、好ましくはペルオキシ酢酸と、不活性溶媒例えば酢酸、ジクロロメタン、ｏ−ジクロロベンゼン、又は１，２−ジクロロエタンの中で反応させることによってＩＸを生成させる。典型的な反応条件は、約１５〜５５℃、好ましくは２５〜４５℃の範囲の温度、及び約５〜３５時間の反応時間を含む。温度は、安全上の理由のために低く保持する。必須ではないが、好ましくは、この反応は、０．５〜２．５モル当量の緩衝剤例えば酢酸ナトリウムの存在下で行われる。ＶＩＩＩの溶液へのペルオキシカルボン酸の添加の速度は、過剰のペルオキシカルボン酸を集積させることを回避するために制御される。生成物は、例えば、水で急冷し、必要に応じて還元剤例えば二酸化硫黄を添加して過剰の酸化剤を除去し、そして濾過することによって単離することができる。必要な場合には、生成物の濾過の前にｐＨを３未満に調節することができる。 ステップｉｉｉ）は、標準的方法によるＩＸのエステル化によってＸを生成させる。好ましい実施態様においては、ＩＸを、アルコール溶媒（約２〜２０重量部）と、断水剤としての約１〜２０モル当量の対応するアルコールのカーボネート誘導体及び約０．００１〜０．２モル当量の酸触媒、例えば硫酸又はｐ-トルエンスルホン酸の存在下で反応させる。ここで、典型的な反応条件は、７５〜１０５℃の範囲の温度、約１００〜５００ｋＰａの範囲の圧力及び約１０〜３０時間の反応時間を含む。化合物Ｘを標準的方法によって単離することができる。その代わりに、反応混合物をＸの単離なしで次のステップにおいて用いることができる。好ましくは、Ｘはステップｉｖの前には単離されない。
【００５２】
ステップｉｖ）は、Ｘを強塩基例えばアルカリ金属アルコキシド又は水素化物と、適切な溶媒例えば対応するアルコール、ベンゼン、トルエン又はキシレンの中で反応させることによってＸＩを生成させる。典型的な反応条件は、約６０〜９０℃の温度、約１００〜５００ｋＰａの圧力及び約０．５〜１０時間の反応時間を含む。生成物は、アルカリ金属塩として回収しそして例えば濾過によって単離することができる。その代わりに、生成物をまず酸例えば氷酢酸又は薄い水性鉱酸によって中和し、次に例えば濾過又は抽出によって単離することができる。
【００５３】
ステップｖ）は、ＸＩを約０．９〜１．５当量のヒドロペルオキシド例えば過酸化水素
及び過酸化水素のモノエーテルと、約０．００１〜１．５当量の光学的に活性なアミン塩基及び必要に応じて不活性溶媒の存在下で反応させることによって鏡像異性体的に富んだＩＩを生成させる。過酸化水素の好ましいモノエーテルは、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド及びそれらの組み合わせを含む。適切な溶媒は、脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサン、芳香族炭化水素例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン及びクメン、ハロゲン化炭化水素例えばジクロロメタン、ジクロロエタン及びオルトジクロロベンゼン、ケトン例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びメチルイソプロピルケトン、エステル例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、並びにエーテル例えばジエチルエーテル及びテトラヒドロフランを含む。芳香族炭化水素溶媒が好ましい。典型的な反応条件は、約−５〜５０℃の範囲の反応温度及び約２時間〜８日間の反応時間を含む。アミン塩基は、好ましくは、キナノキ（ｃｉｎｃｈｏｎａ）アルカロイド又はそれらの誘導体である。好ましくは、（＋）鏡像異性体に富んだＩＩ（（＋）ＩＩと名付ける）を製造するためには、キナノキアルカロイドはシンコニン、クイニジン、シンコニン又はクイニジンの対応するジヒドロ誘導体そして上記のものの任意の組み合わせであり、これらの中でキラルアルカロイドは［８−（Ｒ）、９−（Ｓ）］配置を有する。（−）鏡像異性体に富んだ式ＩＩの化合物は、［８−（Ｓ）、９−（Ｒ）］配置を有する塩基、例えばシンコニジン、キニン及びそれらの誘導体の使用によって得られる。生成物は、標準的方法、例えば濾過、必要に応じて引き続く触媒を除去するために十分な量の水性酸又は無極性溶媒例えばヘキサンのどちらかによる希釈によって回収することができる。その代わりに、生成物混合物を、極性の水不混和性溶媒例えば酢酸エチルによって吸収し、水性酸によって洗浄して触媒を除去し、濃縮し、そして結晶化させることができる。必要に応じて、ＩＩを、適切な溶媒、例えば酢酸イソプロピルと共につき砕き又は再結晶させて、鏡像異性体的に富んだ混合物から純粋な鏡像異性体を分離することができる。
【００５４】
好ましい実施態様においては、ステップｖにおける溶媒は、その中では式ＸＩの化合物が式ＩＩの対応する化合物よりも実質的により大きい溶解度を有する溶媒である。このような溶媒によれば、ＩＩは沈殿するであろうしかつ濾過によって回収することができ、そして何らかの溶けたＩＩ、未反応ＸＩ及び触媒を含む濾液は、引き続くバッチに好都合にリサイクルすることができる。好ましくは、溶媒はまた水不混和性であり、その結果引き続くバッチにおける使用に先立って、水性塩基及び／又は水で洗浄して酸性不純物及び水可溶性副生成物の量を減らすことができる。濾液のリサイクルは生成物ロスを最小にし、そして触媒の一層有効な使用を与える。殊にＩＩａのような化合物の製造のためには、芳香族炭化水素例えばキシレンは、殊にＩＩａのような化合物の製造のためには、このやり方における使用のための特に好ましい溶媒である。
【実施例１】
【００５５】
式Ｉの化合物を生成させるためのステップａ〜ｄの例示
ステップａ：フェニルメチル［５−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）−１Ｈ−インデン−１−イリデン］ヒドラジンカルボキシレート（化合物ＩＶａ）の生成
頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた１Ｌの三ッ口フラスコに、８７ｇ（０．３６３モル）のメチル５−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１−オキソ−１Ｈ−インデン−２−カルボキシレート、６３．５ｇ（０．３８０モル）のフェニルメチルヒドラジンカルボキシレート（Ｌａｎｃａｓｔｅｒ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓから）、１．８ｇ（０．０１モル）のｐ-トルエンスルホン酸一水和物、及び３００ｍＬのメタノールを仕込んだ。スラリーを還流（６７℃）に加熱すると、オレンジ色の溶液が得られ、それから生成物が次第に沈殿した。１４〜１６時間後に、混合物を５℃に冷却しそして濾過した。濾過ケークを１００ｍＬの冷たいメタノールで洗浄し、そして６０℃で真空下で窒素パージしながら２時間の間の乾燥させると、白い結晶性固体として１３５
ｇ（インデンカルボキシレートを基にして９６％）のＩＶａが得られた。アセトニトリルからの再結晶によって分析サンプルを製造した、ｍｐ １８７〜１８８℃；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．７（ｓ，３Ｈ）、４．５８（ｂｒ ｓ，１Ｈ）、５．１９（ｂｒ ＡＢ ｑ，２Ｈ）、７．１８（ｄ，１Ｈ）、７．２５（ｄのｄ、１Ｈ）、７．４５（ｍ，５Ｈ）、７．７５（ｂｒ ｄ，１Ｈ）、９．５５（ｂｒ ｓ，１Ｈ）。生成物は、殆ど排他的にＺ−（ｓｙｎ−）異性体であると思われる。
【００５６】
ステップｂ：４ａ−メチル２−（フェニルメチル）−７−クロロインデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−２，４ａ（３Ｈ，５Ｈ）−ジカルボキシレート（化合物Ｖａ）の生成
頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた乾いた１Ｌの三ッ口フラスコに、４２ｇのケイソウ土、５００ｍＬの１，２−ジクロロエタン、及び１００ｍＬのジメトキシメタンを仕込んだ。五酸化リン（４２ｇ、０．３１モル）を外部冷却（２０℃のバス）しながら窒素下で添加し、そしてこの混合物を２０〜２５℃で１５分間撹拌せしめ、その後で９７ｇ（０．２５モル）のＩＶａを少しずつ添加した。この混合物を５５〜６０℃で２時間加熱しそして次に濾過した。濾過ケークを１，２−ジクロロエタンの二つの部分で洗浄し、そして合わせた濾液を蒸留によって体積を約１５０ｍＬに減らした。３００ｍＬのメタノール中の約５ｇのＮａＯＡｃの添加によって、ｐＨを約１．５から約４に上げ、そして約１５０ｍＬの溶媒の蒸留によって、残留ジクロロエタンを除去した。次に、約３０ｍＬの水を添加し、そしてこの混合物を５℃に冷却しかつ濾過した。濾過した生成物を１００ｍＬの冷たいメタノールで洗浄し、そしてフィルターの上で一晩吸引乾燥すると、８９ｇ（ＩＶａを基にして８９％）のＶａが得られた。イソプロパノールからの再結晶によって分析サンプルを製造した、ｍｐ １２２〜１２４℃；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．６４（ｓ，３Ｈ）、５．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．２６（ＡＢ ｑ，２Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、５．５３（ｂｒ，ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、７．２〜７．４５（ｍ，７Ｈ）、７．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）。
【００５７】
ステップｃ：メチル７−クロロ−２，５−ジヒドロインデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）カルボキシレート（化合物ＶＩａ）の生成
磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口バルブを備えた１Ｌの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして２７．３ｇ（０．１３モル）のクエン酸一水和物、１００ｍｌの水、１０．４ｇ（０．１３モル）の５０％の水性ＮａＯＨ、０．６ｇの炭素上のパラジウム、５００ｍＬの酢酸メチル、及び５２．０ｇ（０．１３モル）のＶａを仕込んだ。反応容器を窒素でパージし、そしてこの混合物を水素の流れを表面下で（ｓｕｂｓｕｒｆａｃｅ）通しながら、５〜１０℃で約３時間激しく撹拌した。この反応をＶａの消失に関してＨＰＬＣによって監視した。反応が完結した（約４時間）時に、反応容器を窒素でパージし、そして炭素上のパラジウムをケイソウ土のパッドの上に濾過し、そして５０ｍＬの酢酸メチル及び２０ｍＬの水でリンスした。濾液を分離し、そしてＶＩａを含む有機相を次のステップにおいて直接に使用した。別のバッチにおいては、ステップｃのための上の手順を繰り返し、そして約４００ｍＬの溶媒を蒸留によって除去し、約１００ｍＬのヘキサンを添加し、そして結晶化生成物を吸引乾燥させることによってＶＩａを単離した。ｍｐ １２４〜１２７℃；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、３．４０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、３．６５（ｄ，３Ｈ）、４．４３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．１０（ｂｒ，ｓ，１Ｈ）、７.２５（ｍ，２Ｈ）、７.５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）。
【００５８】
ステップｄ：メチル７−クロロ−２，５−ジヒドロ−２［［（メトキシカルボニル）］４
−（トリフルオロメトキシ）−フェニル］アミノ］カルボニル］インデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）−カルボキシレート（化合物Ｉａ）の生成
ＶＩａを含むステップｃからの有機相に、水性飽和ＮａＨＣＯ３（１４０ｇ、約０．１５モル）、引き続いて４１ｇ（０．１４モル）のメチル（クロロカルボニル）［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］カルバメート（化合物ＶＩＩ）を添加し、そしてこの混合物を１０〜１５℃で約１時間撹拌した。有機相を分離し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）し、真空下で濃縮して約４００ｍＬの酢酸メチル除去し、そして加熱温度が６４℃に到達するまで、３００ｍＬのメタノールとの蒸留によって残留溶媒を交換した。この混合物を５℃に冷却し、そして生成物を濾過し、７０ｍｌの冷たいメタノールで洗浄しかつ吸引乾燥すると、５８ｇのＩａ（ステップｃからのＶａを基にして、８５％総括）が得られた。ｍｐ １３９〜１４１℃；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．７０（ｓ，３Ｈ）、３．７１（ｓ，３Ｈ）、５．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、７．２〜７．４（ｍ，６Ｈ）、７．５０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）。
【実施例２】
【００５９】
式ＩＩの化合物を生成させるステップｉ〜ｖの例示
ステップｉ：６−クロロ−３．４−ジヒドロ−２（１Ｈ）−ナフタレンの生成（化合物ＶＩＩＩａ）
フラスコに、３４ｇ（０．２０モル）の４−クロロフェニル酢酸（ＰＣＰＡ）及び１５０ｍＬの１，２−ジクロロエタンを仕込んだ。懸濁液を撹拌し、２５ｇ（０．２１モル）の塩化チオニルを添加し、そして生成した溶液を２〜３時間の間８０〜９０℃で加熱した。蒸留ヘッドを取り付け、そして２５ｍＬの溶媒を蒸留して残留ＳＯ２及びＨＣｌを除去した。酸塩化物の薄いオレンジ溶液を５℃に冷却し、塩化アルミニウム（３０ｇ、０．２２モル）を−５〜０℃で仕込み、そして蒸留装置を風船型フラスコと置き換えた。エチレンガス（１２ｇ、０．４３モル）を、温度を−５〜０℃で維持しながら、少しずつ風船型フラスコに仕込んだ。赤い溶液をカニューレによって、冷却温度を２０〜３０℃で維持するような速度で次第に２００ｍＬの５℃の冷却水の中に移した。この混合物を２５℃で１時間の間撹拌した後で、ＶＩＩＩａを含む下部の有機層を分離し、そして１００ｍＬの５％水性ＨＣｌで洗浄した。
【００６０】
ステップｉｉ：２−カルボキシ−５−クロロベンゼンプロパン酸（化合物ＩＸａ）の生成
前のステップからのＶＩＩＩａの溶液を、頭上撹拌機を備えたフラスコに仕込んだ。酢酸ナトリウム（１６ｇ、０．２０モル）をポットに仕込み、そしてこの混合物を、１１４ｇ（０．６０モル） の３２％の過酢酸を３〜４時間にわたって一定添加漏斗から連続的に添加しながら、冷却によって２５〜３０℃で撹拌した。混合物を２５℃で更に２０時間撹拌せしめ、そして次に３００ｍＬの０．８ＮのＨＣｌを添加し、そして生成したスラリーを５℃に冷却した。この混合物を濾過し、冷たい５％水性ＮａＨＳＯ３、水で洗浄し、吸引乾燥させ、そして５０℃及び減圧で真空オーブン中で一晩乾燥させると、白い結晶性固体、ｍ．ｐ．１５６〜１５８℃として３５〜３６ｇ（ＰＣＰＡを基にして７６〜７８％の収率）の９９％純粋なＩＸａが得られた。
【００６１】
ステップｉｉｉ：５−クロロ−２−（メトキシカルボニル）ベンゼンプロパン酸メチル（化合物Ｘａ）の生成
熱時計及び頭上撹拌機を備えたフラスコに、４５．７ｇ（０．２００モル）のＩＸａ、５ｍＬのメタノール、及び１００ｍＬの炭酸ジメチルを仕込んだ。硫酸（１ｇ）を添加し、そしてこの混合物を窒素下で８５℃で２０時間撹拌した。酸を３ｇの２５％ナトリウムメトキシド溶液によって中和し、そして全部の炭酸ジメチル（ＤＭＣ）を反応フラスコから蒸留させた。蒸留の間にはメタノール（１００〜２００ｍＬ）を添加して、メタノール／ＤＭＣ共沸混合物（６２℃）を生成させ、さもなければ９０℃で蒸留するであろうＤＭ
Ｃの除去を容易にした。このステップからの生成物は、単離なしで次のステップ中に持ち込んだ。
【００６２】
ステップｉｖ：メチル５−クロロ−１−オキソ−２，３−ジヒドロインデン−２−カルボキシレート（化合物ＸＩａ）の生成
殆どのＤＭＣを除去した後で、前のステップからのＸａのメタノール溶液に、追加の１５０ｍＬのメタノール、引き続いてメタノール中の４７．５ｇ（０．２２モル）の２５％ＮａＯＭｅを添加した。溶液を７０℃で維持し、そして効果的な撹拌のために必要とされる最小レベルまでメタノールを蒸留した。反応が完了した時に、混合物を周囲温度に冷却した。酢酸（３ｇ、０．０５モル）、引き続いてｐＨを５〜６にするために十分な１ＮのＨＣｌを添加した。混合物を５℃に冷却し、濾過し、そして粗製固体を水、次に冷たいヘキサンで洗浄すると、ｍ．ｐ．８０〜８２℃のベージュの固体として４０〜４２ｇ（８９〜９３％の収率）のＸＩａが得られた。
【００６３】
ステップｖ：（＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１−オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレート（化合物（＋）ＩＩａ）の生成
１０．０ｇのＸＩａ、イソーオクタン中の１７ｍＬ（５１ミリモル）の３．０Ｍのｔ−ブチルヒドロペルオキシド、７０ｍＬの酢酸イソプロピル及び０．２ｇのシンコニン（Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｒ） Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）の混合物を室温で６日間周囲温度で撹拌した。この混合物に、約１００ｍＬの酢酸エチル、３０ｍＬの希薄水性重亜硫酸ナトリウム及び２０ｍＬの２ＮのＨＣｌを添加した。この混合物を振盪しそして分離し、そして有機抽出物を逐次水とブラインで洗浄した。溶媒を真空下で除去し、そして粗製固体生成物をヘキサンで洗浄すると、キラルカラムを使用するＨＰＬＣ分析によって測定されるように７２％（＋）対２８％（−）の鏡像異性体比を有する７．３１ｇのＩＩａ（６８％の収率）が得られた。（＋）に富んだＩＩａを酢酸イソプロピルから再結晶させて、４〜５ｇの純粋な（＋）ＩＩａを生成させた。ｍ．ｐ． １６３〜１６５℃；［α］Ｄ２５ ＋１１５．１゜（ＣＨＣｌ３、ｃ＝１．０）；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．７２（ｓ，３Ｈ）、４．０７（ｓ，１Ｈ）、７．３８（ｄのｄ，１Ｈ，Ｊ＝８及び１Ｈｚ）、７．４７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１Ｈｚ）、及び７．７０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）。
【実施例３】
【００６４】
鏡像異性体的に富んだＩＩａから出発しそして鏡像異性体的に富んだ
Ｉａを生成させるステップａ〜ｄの代わりの操作の例示
ステップａ：（＋）ＩＶａ）の生成
Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置及び窒素入り口を備えた１Ｌの一ッ口フラスコに、７５ｇ（０．３１２モル）の（＋）ＩＩａ（５０％鏡像異性体的に過剰）、５４．６ｇ（０．３５８モル）のフェニルメチルヒドラジンカルボキシレート、１．７８ｇ（０．００９４モル）のｐ-トルエンスルホン酸一水和物（Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｒ） Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ）、及び２７５ｍＬの１，２−ジクロロエタンを仕込んだ。スラリーを還流に加熱すると、オレンジ色の溶液が得られ、それから生成物が次第に沈殿した。Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋトラップ中に収集された水相を除去した。２時間後に、混合物を室温に冷却した。この反応混合物をステップｂにおいて直接に使用した。
【００６５】
ステップｂ：（＋）Ｖａの生成
頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた２Ｌの三ッ口フラスコに、８８．５ｇのケイソウ土（Ｃｅｌｉｔｅ（Ｒ））及び３００ｍＬの１，２−ジクロロエタンを添加した。五酸化リン（８８．５ｇ、０．６２３モル）、引き続いて１２０ｍＬのジメトキシメタンを添加した。ステップａからの１，２−ジクロロエタン中の（＋）ＩＶａのスラリーを次に添加した。この混合物を３５〜４０℃で５時間加熱し、そして次に
３０℃に冷却しそして濾過した。濾過ケークを１３５ｍＬの１，２−ジクロロエタンで洗浄し、そして合わせた濾液を最小体積にまで蒸留した。メタノールを添加し、そして蒸留を続けた。すべての１，２−ジクロロエタンが除去されそして約５００ｍＬのメタノールがポット中に留まった時に、蒸留を停止しそしてポットを４５℃に冷却した。生成物は沈殿し始め、そして１２０ｍＬの水を添加した。冷却を２０℃まで続けた。混合物を濾過し、そして濾過ケークを３７０ｍＬの３：１メタノール／水で洗浄した。固体を一晩真空下で８０℃で乾燥させると、１００．５ｇ（２ステップに関して８０．５％）の（＋）Ｖａが生成した。１Ｈ ＮＭＲスペクトルは、実施例１におけるＶａに関して得られたものと一致した。純度は、ＨＰＬＣによって９９．３％であった。
【００６６】
ステップｃ：化合物（＋）ＶＩａの生成
磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口バルブを備えた５００ｍＬの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして５０ｍＬの０．５Ｍのリン酸二水素ナトリウム緩衝溶液（ｐＨ ３．５）及び０．２ｇの５０％水で湿った炭素上の５％パラジウムを仕込んだ。二相懸濁液を周囲温度で０．５時間撹拌した。分離フラスコにおいて、１０ｇ（０．０２５モル）の（＋）Ｖａを、窒素下で５０ｍＬの酢酸メチルに添加し、３５℃に加熱し、そして溶けるまで撹拌した。（＋）Ｖａの溶液をＰｄ触媒懸濁液に添加し、そしてこの混合物を１０℃に冷却した。反応容器を排気し、そして混合物を水素の流れを表面下で通しながら、１０℃で激しく撹拌した。この反応を、ＴＬＣ及びＧＣによって（＋）Ｖａの消失に関して監視した。反応が完結した（約１．５時間）時に、反応容器を排気しそして窒素でパージし、反応混合物をケイソウ土のパッドを通して濾過し、そしてフィルターパッドを追加の２０ｍＬの酢酸メチルで洗浄した。これらの液相を分離し、そして（＋）ＶＩａを含む酢酸メチル相をステップｄに直接に運んだ。
【００６７】
ステップｄ：（＋）Ｉａの生成
（＋）ＶＩａを含むステップｃからの酢酸メチル溶液を、３８ｍＬの水の中の３ｇのＮａＨＣＯ３の溶液に添加した。この混合物を窒素下で１０℃に冷却し、そして７．４３ｇ（０．０２５モル）のＶＩＩを一度に添加した。反応物を１０℃で１時間撹拌した。酢酸メチル相を分離し、そして真空下で濃縮して約１００ｍＬの溶媒を除去した。５０ｍＬのメタノールを添加し、そしてスラリーを再度蒸発させて、残りのメタノールを酢酸メチル／メタノール共沸混合物として除去した。最後の５０ｍＬのメタノールを添加し、そして懸濁液を還流に加熱した。加熱を続けている時にケイソウ土（０．４ｇ）を添加し、そして次に１７ｍＬの水を滴加した。生成したスラリーを、冷却し、濾過し、３３ｍＬの２：１メタノール／水で洗浄し、そして真空乾燥させると１１．１６ｇの富んだ（＋）Ｉａ（Ｖａを基にしてステップｃ及びｄに関して７８％の総括収率）が得られた。キラルＨＰＬＣによる分析は、（＋）鏡像異性体の４２％の過剰を示した。
【実施例４】
【００６８】
ステップｃ及びｄの代わりの操作の例示
ステップｃ：ＶＩａの生成
磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口バルブを備えた１Ｌの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして５８０ｍＬの酢酸メチル、０．１６４ｇの酢酸ナトリウム（２モル％）、及び０．８ｇの炭素上の５％パラジウム触媒を仕込んだ。約２００ｍＬの溶媒を蒸留によって除去し、そして生成した乾いた溶媒／触媒懸濁液を５０℃に冷却せしめ、そして４０．０ｇ（０．１モル）のＶａを一度に添加した。この混合物を撹拌してＶａを溶かし、そして次に周囲温度に冷却した。反応容器を窒素でパージし、次に混合物を、水素の流れが表面下に入れられる時に周囲温度で激しく撹拌した。反応は、Ｖａの消失に関して監視した。反応が完結した時に（約３．０時間）、反応容器を排気しそして窒素でパージした。炭素上のパラジウムを、ケイソウ土のパッドの上に濾過し、そして５０ｍＬの乾いた酢酸メチルによってリンスした。濾液をステップ
ｄにおいて直接に使用した。
【００６９】
ステップｄ：Ｉａの生成
ＶＩａを含むステップｃからの酢酸メチル溶液を、１５０ｍＬの水の中の１２ｇのＮａＨＣＯ３の溶液と合わせた。この混合物を窒素下で１０℃に冷却し、そして２９．７ｇ（０．１モル）の化合物ＶＩＩを０．５時間にわたって一度に添加した。混合物を１０〜１５℃で更に約１時間撹拌した。次に、酢酸メチル相を分離し、そして真空下で濃縮して約４００ｍＬの溶媒を除去した。メタノール（５０ｍＬ）を添加し、そして溶媒を真空中で再び除去した。次に７０％の水性メタノール（１００ｇ）を添加し、そしてこの混合物をアイスバスから冷却しながら４５分間撹拌した。生成物を濾過し、２５ｍＬの冷たい７０％水性メタノールで洗浄し、そして真空乾燥させると、５１ｇ（８８．９％ＨＰＬＣ分析を基にしてＶａからの８６％の総括収率）、ｍｐ １３５〜１３８℃が得られた。
【実施例５】
【００７０】
ステップｖの代わりの操作の例示
ステップｖ：化合物（＋）ＩＩａ）の生成
１１．２５ｇ（５０ミリモル）のＶａ、７０ｍＬの混合キシレン、及び１．４ｇのシンコニン（Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｒ） Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）の懸濁液を窒素下で撹拌し、そして７．０ｇ（７０ミリモル）の９０％水性ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｒ） Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．を添加した。生成した溶液を室温で２４時間の間撹拌せしめると、その時間の間に生成物が結晶化し始めた。次に、反応混合物を、１００ｍＬの酢酸エチルによって希釈し、そして二つの部分の５０ｍＬの飽和水性重炭酸ナトリウム、５０ｍＬの１Ｎの水性塩化水素酸、及び５０ｍＬの飽和水性重亜硫酸ナトリウムによって逐次洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムの上で乾燥させ、そして溶媒を減圧下で除去すると、１０．６ｇの富んだ（＋）ＩＩａ（８６％純度、Ｖａを基にして７６％収率）が得られた。キラルＨＰＬＣによる分析は、（＋）鏡像異性体の４５％の鏡像異性体を示した。
【実施例６】
【００７１】
ステップｂの代わりの操作の例示
ステップｂ：化合物Ｖａの生成
磁気撹拌機、温度計、及び二つのガス入り口を備えた５００ｍＬの四ッ口フラスコに、４９．９ｇ（０．１２８モル）のＩＶａ及び２５０ｍＬのジエトキシメタンを仕込んだ。この混合物を−１０℃に冷却し、そして反応容器を排気した（〜２４ｃｍＨｇ）。三酸化硫黄ガスを、反応混合物の温度が−１０℃〜０℃に維持されるような速度で冷却反応容器に入れた。添加が完了した時に、窒素を入れて真空を解放した。この混合物を室温まで加温せしめ、４．７５時間の間撹拌し、良好な撹拌をしながら室温で５０ｍＬの水を添加し、そして更に２時間撹拌した。混合物を濾過し、そして濾液から有機相を分離しかつ蒸発させた。残渣を１２５ｍＬのメタノール中に溶かし、そして濾過からの固体と合わせた。このスラリーに、１２５ｍＬの水を滴加し、その後で混合物を１．５時間撹拌し、次に濾過した。濾過ケークを室温で真空下で乾燥させると、４６．３ｇ（ＩＶａを基にして９０％）のＶａが得られた。生成物の小部分をメタノールから再結晶して、サンプルを供給したが、それのｍｐ及び１Ｈ ＮＭＲスペクトルは、実施例１ステップｂにおいて得られたＶａのものと一致した。
【実施例７】
【００７２】
メチル（クロロカルボニル）［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］
カルバメート（化合物ＶＩＩ）の製造
第一反応フラスコ中で、７０．５ｇ（０．３０モル）のメチル４−（トリフルオロメトキシ）フェニルカルバメートを、７００ｍＬのジクロロメタン中に溶かす。次に、鉱油中
の１４．０ｇの６０％水素化ナトリウム（０．３５モル）を、引き続いて６０ｍＬのｇｌｙｍｅ（エチレングリコールジメチルエーテル）を１５分以内に添加する。発熱反応が起こりそして反応混合物の温度は周囲の室温のものよりも少し高く上昇する。反応混合物を外部加熱なしで一晩（約１６時間）撹拌する。蒸留塔を備えた第二反応フラスコにおいては、１２０ｇ（１．２モル）のホスゲンを、５〜１０℃に冷却されている３００ｍｌのジクロロメタン中に溶かす。濃いスラリーである第一フラスコからの反応混合物を、ホスゲン溶液を含む第二フラスコに５〜１０℃でゆっくりと添加する。添加が完了した後では、塔頂温度がジクロロメタンだけが塔頂を越えて来ていることを示すまで、蒸留によって過剰のホスゲンを除去する。蒸留を停止し、そして反応混合物を約０℃まで冷却する。２００ｍＬの氷水を添加して、副生成物の塩化ナトリウムを溶かす。ジクロロメタン層を水性層から分離し、濾過しそしてＭｇＳＯ４で乾燥させる。乾燥されたジクロロメタン溶液、化合物ＶＩＩを含むｃを、次に、蒸留してジクロロメタンを取り去り、そして交換に、全部で４００ｍＬのヘキサンを添加する（溶媒交換手順）。ジクロロメタンが除去されそしてヘキサンが蒸留し始める時に、蒸留を停止する。次に、ヘキサン溶液を５℃に冷却すると、その際にＶＩＩが沈殿するが（種付けが必要とされる可能性がある）、追加の冷たいヘキサンで洗浄しそして乾燥させる。収率は典型的には、ｍ．ｐ．９７〜９９℃の９７〜９８％の純粋なＶＩＩに関して約９４％である。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．８０（Ｓ，３）、７．２９（Ｓ，４）
以下に本発明及び本発明の関連する発明の主な特徴及び態様を列挙する。
【００７３】
１． キラル中心＊においてラセミ的な又は鏡像異性体的に富んでいる式Ｉ
【００７４】
【化１５】
【００７５】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物を製造するための方法であって、
（ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ
【００７６】
【化１６】
【００７７】
の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ
Ｈ２Ｎ−ＮＨＲ３ ＩＩＩ
の化合物と反応させて、式ＩＶ
【００７８】
【化１７】
【００７９】
［式中、
Ｒ３は、保護基例えばＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）及び類似物である］
の化合物を生成させること、
（ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンと反応させて式Ｖ
【００８０】
【化１８】
【００８１】
の化合物を生成させること、
（ｃ）式Ｖの化合物を水素化させて式ＶＩ
【００８２】
【化１９】
【００８３】
の化合物を生成させること、そして
（ｄ）式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ
【００８４】
【化２０】
【００８５】
の化合物と反応させて、式ＩＩの化合物と実質的に同じ絶対配置を有する式Ｉの化合物を生成させること
を含んで成る方法。
【００８６】
２． 式Ｖ：
【００８７】
【化２１】
【００８８】
の化合物を作るための方法であって、
（ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ
【００８９】
【化２２】
【００９０】
の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ
Ｈ２Ｎ−ＮＨＲ３ ＩＩＩ
の化合物と反応させて、式ＩＶ
【００９１】
【化２３】
【００９２】
［これらの式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルであり、そして
Ｒ３は、保護基ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
の化合物を生成させること、及び
（ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンと反応させること
を含んで成る方法。
【００９３】
３． 式Ｖの化合物を水素化させることを含んで成る、式ＶＩ：
【００９４】
【化２４】
【００９５】
の化合物を作るための２項に記載の方法。
【００９６】
４． 式ＩＶ
【００９７】
【化２５】
【００９８】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルであり、そして
Ｒ３は、保護基ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
の化合物を、ルイス酸の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンと反応させて、式Ｖ
【００９９】
【化２６】
【０１００】
の化合物を生成させ、そして式Ｖの化合物を水素化させることを含んで成る、式ＶＩ：
【０１０１】
【化２７】
【０１０２】
の化合物を作るための方法。
【０１０３】
５． 式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ
【０１０４】
【化２８】
【０１０５】
の化合物と反応させることを含んで成る、式Ｉ
【０１０６】
【化２９】
【０１０７】
の化合物を作るための、４項に記載の方法。
【０１０８】
６． 式Ｉ
【０１０９】
【化３０】
【０１１０】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物を作るための方法であって、式Ｖ
【０１１１】
【化３１】
【０１１２】
［式中、
Ｒ３は、保護のＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
の化合物を水素化させて、式ＶＩ
【０１１３】
【化３２】
【０１１４】
の化合物を生成させ、そして
式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ
【０１１５】
【化３３】
【０１１６】
の化合物と反応させることを含んで成る方法。
【０１１７】
７．
【０１１８】
【化３４】
【０１１９】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルであり、
Ｒ３は、ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）であり、そして
Ｒ４は、Ｈ及びＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）から選ばれる］
の群から選ばれたラセミ又は鏡像異性体的に富んだ化合物。
【０１２０】
８． 式ＩＩ：
【０１２１】
【化３５】
【０１２２】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物の鏡像異性体的に富んだ（＋）又は（−）鏡像異性体を製造するための方法であって、
（ｉ）ルイス酸の存在下でｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物をエチレンと反応させて式ＶＩＩＩ
【０１２３】
【化３６】
【０１２４】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｉ）ＶＩＩＩをペルオキシ酸と反応させて式ＩＸ
【０１２５】
【化３７】
【０１２６】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｉｉ）酸触媒の存在下でＩＸをＣ１〜Ｃ３−アルコールと反応させて式Ｘ
【０１２７】
【化３８】
【０１２８】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｖ）Ｘを塩基と反応させて式ＸＩ
【０１２９】
【化３９】
【０１３０】
の化合物を製造するステップ、
並びに
（ｖ）キラル塩基の存在下でＸＩをヒドロペルオキシドと反応させて鏡像異性体的に富んだＩＩを製造するステップ
を含んで成る方法。
【０１３１】
９． 式：
【０１３２】
【化４０】
【０１３３】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物の（＋）鏡像異性体。
【０１３４】
１０． （＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１−オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレートである、１項に記載の化合物。
【０１３５】
１１． 式ＩＸ又はＸ：
【０１３６】
【化４１】
【０１３７】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして
Ｒ２は、Ｈ又はＣ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物。
【０１３８】
１２． ２−カルボキシ−５−クロロベンゼンプロパン酸である、１１項に記載の化合物。
【０１３９】
１３． ５−クロロ−２−（メトキシカルボニル）ベンゼンプロパン酸メチルである、１１項に記載の化合物。
【０１４０】
１４． 式：
【０１４１】
【化４２】
【０１４２】
の化合物。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、関節ポリシダル（ａｒｔｈｒｏｐｏｄｉｃｉｄａｌ）オキサジアジンの製造に用いられる化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
関節ポリシダルオキサジアジンは、特許文献１及び特許文献２中に開示されている。しかしながら、これらの化合物のための製造方法は、経済的な商業的操作のために改善されなければならない。従って、本発明は、好ましい関節ポリシダルオキサジアジンへの好都合なルートを提供する。
【特許文献１】ＷＯ９２／１１２４９パンフレット
【特許文献２】ＷＯ９３／１９０４５パンフレット
【発明の開示】
【０００３】
本発明は、キラル中心＊においてラセミであるか（以下ラセミ的なということもある）又は鏡像異性体に富んでいる（以下鏡像異性体的に富んでいるということもある）式Ｉ
【０００４】
【化１】
【０００５】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物を製造するための方法であって、
（ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ
【０００６】
【化２】
【０００７】
の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ
Ｈ２Ｎ−ＮＨＲ３ ＩＩＩ
の化合物と反応させて、式ＩＶ
【０００８】
【化３】
【０００９】
［式中、
Ｒ３は、保護基ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
の化合物を生成させること、
（ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンと反応させて式Ｖ
【００１０】
【化４】
【００１１】
の化合物を生成させること、
（ｃ）式Ｖの化合物を水素化させて式ＶＩ
【００１２】
【化５】
【００１３】
の化合物を生成させること、そして
（ｄ）式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ
【００１４】
【化６】
【００１５】
の化合物と反応させて、式ＩＩの化合物と実質的に同じ絶対配置を有する式Ｉの化合物を生成させること
を含んで成る方法に関連する。
【００１６】
本発明は、更にまた、ステップａ中の式ＩＩの化合物が所望の式Ｉの化合物と同じ配置を有する、＊において鏡像異性体的に富んでいる、ステップａ〜ｄを含んで成るキラル中心で鏡像異性体的に富んだ式Ｉの化合物を製造するための方法に関連する。
【００１７】
本発明は、更にまた、ステップａ〜ｄ及び更にまた
（ｉ）ルイス酸の存在下でｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物をエチレンと反応させて式ＶＩＩＩ
【００１８】
【化７】
【００１９】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｉ）ＶＩＩＩをペルオキシ酸と反応させて式ＩＸ
【００２０】
【化８】
【００２１】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｉｉ）酸触媒の存在下でＩＸをＣ１〜Ｃ３−アルコールと反応させて式Ｘ
【００２２】
【化９】
【００２３】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｖ）Ｘを塩基と反応させて式ＸＩ
【００２４】
【化１０】
【００２５】
の化合物を製造するステップ、
並びに
（ｖ）キラル塩基の存在下でＸＩをヒドロペルオキシドと反応させて鏡像異性体的に富んだＩＩを製造するステップ
を含んで成り、そしてステップｖからの鏡像異性体的に富んだＩＩはステップａにおいて反応させられ、そして前記式中、Ｒ１及びＲ２は前に定義した通りである
キラル中心＊において鏡像異性体的に富んだ式Ｉの化合物を製造するための方法に関連する。
【００２６】
本発明は、更に個々の方法ステップａ、ｂ、ｃ及びｄに関連し、そしてａ、ｂ；ａ、ｂ、ｃ；ｂ、ｃ；ｂ、ｃ、ｄ；及びｃ、ｄの多段ステップ方法に関連する。
【００２７】
本発明は、更にまた、式ＸＩの化合物から式ＩＩの鏡像異性体を製造するための単一方法ステップｖに、式ＩＩの化合物を製造するための５つのステップｉ〜ｖに、ｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物からの式ＸＩの化合物の製造のための４つのステップｉ〜ｉｖ方法に、式ＩＸの化合物を製造するための２つの方法ステップｉ〜ｉｉ方法に、式ＩＸの化合物を製造するための単一ス方法テップｉｉに、そして式Ｘの化合物を製造するための２つのステップｉｉ〜ｉｉｉ方法に関連する。
【００２８】
本発明は、更にまた、式ＩＩ：
【００２９】
【化１１】
【００３０】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物の（＋）鏡像異性体に関連し、そしてこれらの化合物は実質的に純粋な（＋）鏡像異性体である。
【００３１】
本発明は、更にまた、式ＩＶ、Ｖ及びＶＩ：
【００３２】
【化１２】
【００３３】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルであり、そして
Ｒ４は、ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
のラセミ及び鏡像異性体的に富んだ化合物に関連する。
【００３４】
本発明は、式ＶＩＩ
【００３５】
【化１３】
【００３６】
の化合物に関する。
【００３７】
本発明は、更にまた、式ＩＸ及びＸ
【００３８】
【化１４】
【００３９】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれれ、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物に関連する。
【００４０】
上の定義においては、“ハロゲン化物”という語は、フッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物を意味する。“Ｃ１〜Ｃ３−アルキル”という語は、１、２又は３個の炭素原子を有する直鎖の又は分岐したアルキルを示し、そしてメチル、エチル、ｎ−プロピル又はイソプロピルを意味する。“Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ”という語は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ又はイソプロポキシを意味する。“Ｃ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシ”という語は、部分的に又は全部がフッ素原子によって置換されたメトキシ、エトキシ、ｎ−
プロポキシ又はイソプロポキシを意味し、そして、例えば、ＣＦ３Ｏ及びＣＦ３ＣＨ２Ｏを含む。“Ｃ１〜Ｃ３−アルコール”という語は、メチル、エチル、ｎ−プロピル又はイソプロピルアルコールを意味する。
【００４１】
式ＩＶ、Ｖ及びＶＩの好ましい化合物は、Ｒ２がメチルでありそしてＲ１が塩素、ＣＦ３Ｏ及びＣＦ３ＣＨ２Ｏである化合物である。最も好ましいものは、フェニルメチル［５−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）−１Ｈ−インデン−１−イリデン］ヒドラジンカルボキシレート（ＩＶａと名付ける）、４ａ−メチル２−（フェニルメチル）−７−クロロインデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−２，４ａ（３Ｈ，５Ｈ）−ジカルボキシレート（Ｖａと名付ける）、及びメチル７−クロロ−２，５−ジヒドロインデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）−カルボキシレート（ＶＩａと名付ける）である。
【００４２】
式ＩＩ、ＩＸ及びＸの好ましい化合物は、［式中、Ｒ２がメチルであり、そしてＲ１が塩素、臭素、ＣＦ３Ｏ又はＣＦ３ＣＨ２Ｏである］化合物である。最も好ましいものは、（＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１−オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレート（（＋）Ｈａと名付ける）である。
【００４３】
本発明の一つの面は、典型的には以下のように操作される４つのステップ、ａ〜ｄを含んで成る、式Ｉの化合物を製造するための方法に関連する。
【００４４】
ステップａ）は、ＩＩ（ＷＯ ９２１１２４９中に詳細に述べられているような、置換されたインダノン、例えば５−クロロ−１−インダノンから例えば製造された）を、酸触媒例えばｐ−トルエンスルホン酸、硫酸又は酢酸の存在下で、必要に応じて不活性溶媒例えばメタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン及び類似物の中で、約等モル量のＩＩＩと反応させることによってＩＶを生成させる。典型的な反応条件は、約０．５〜２５時間の間の約４０〜１２０℃、好ましくは６５〜８５℃の温度を含む。化合物ＩＶは、必要に応じて反応混合物の水による希釈の後で、標準的方法例えば濾過によって回収することができる。その代わりに、ＩＶは、溶媒によって抽出し、そして単離なしで次の反応ステップにおいて直接に使用することもできる。
【００４５】
ステップｂ）は、ＩＶを、ルイス酸の存在下で、必要に応じて不活性溶媒例えばジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、α，α，α−トリフルオロトルエン及び類似物の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタン例えばジメトキシメタン又はジエトキシメタンと反応させることによってＶを生成させる。このジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンはモル過剰で良い。ルイス酸はＰ２Ｏ５、ＢＦ３及びＳＯ３を含み、最善の結果のためには、これらは一般的には０．９〜４．０モル当量（Ｖに対して）を必要とし、更にまた含まれるのは、Ｖに対して約０．１〜０．５モル当量で使用することができる金属（殊に、スカンジウム、イッテルビウム、イットリウム及び亜鉛）トリフルオロメタンスルホネートである。このステップのための最も好ましいルイス酸はＰ２Ｏ５及びＳＯ３である。ＳＯ３は、錯体例えばＤＭＦ・ＳＯ３（ＤＭＦはジメチルホルムアミドである）の形でも良い。典型的な反応条件は、約０．５〜４８時間に関して、約２０〜１５０℃、好ましくは５０〜６０℃、及び約１００〜７００ｋＰａ、好ましくは１００〜３００ｋＰａの圧力を含む。犠牲にならないルイス酸例えば希土類トリフルオロメタンスルホネートを用いる時には、反応の間に蒸留によって副生成物Ｃ１〜Ｃ３−アルコールを連続的に除去することが好ましい。化合物Ｖは、標準的方法例えば濾過によって回収することができ、次の反応ステップにおいて精製なしで使用することができる。その代わりに、ルイス酸として金属トリフルオロメタンスルホネートを用いる時には、Ｖは、反応物体を濃縮すること、必要に応じて不活性で水不混和性溶媒例えば酢酸エチルによって希釈するこ
と、水で洗浄して金属トリフルオロメタンスルホネートを除去すること、有機相を濃縮すること、並びに必要に応じて適切な溶媒例えば水性メタノール、ヘキサン及び類似物を添加することによって有機相からＶが結晶化するようにせしめることによって回収することができる。
【００４６】
ステップｃ）は、水素化金属触媒例えばパラジウム、好ましくは物質例えば炭の上に支持されたものの存在下で、不活性溶媒例えば酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン、ジエトキシメタン又はＣ１〜Ｃ３−アルコールの中で、水素ソースからの水素又は好ましくは分子水素それ自体とＶとを反応させることによってＶＩを生成させる。典型的な反応条件は、約３時間に関して、約０〜３０℃、好ましくは約２０℃の温度、及び約１０５〜１４０ｋＰａ、好ましくは３５ｋＰａの圧力を含む。化合物ＶＩは、標準的方法、例えば濾過すること及び後続のバッチへのリサイクルのためにパラジウムを回収すること、有機相を分離すること、溶媒を除去することによって有機相を濃縮すること、及び必要に応じて水性Ｃ１〜Ｃ３−アルコール、アセトニトリル又は脂肪族炭化水素例えばヘキサンを添加することによってＶＩの結晶化を誘発させることによって、溶液から回収することができる。好ましくは化合物ＶＩは、有機相中の溶液からの単離なしで次のステップにおいて使用される。
【００４７】
ステップｄ）は、ＶＩを約モル当量のＶＩＩと、必要に応じて約１．０〜１．５モル当量（ＶＩＩに関して）の酸スカベンジャー例えばトリアルキルアミン、ピリジン又は、好ましくは水性炭酸又は重炭酸ナトリウムの存在下で、不活性溶媒例えばトルエン、キシレン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、ジエトキシメタン及び類似物の中で反応させることによってＩを生成させる。典型的な反応条件は、約０．２〜２時間の間の約０〜３０℃の温度を含む。化合物Ｉは、標準的方法によって、例えば反応混合物を水性酸又は水性塩化ナトリウムで洗浄し、有機相を濃縮し、そして必要に応じてＣ１〜Ｃ３−アルコール、水、アルコール−水混合物又は脂肪族炭化水素例えばヘキサンの添加によって有機相からのＩの結晶化を誘発することによって回収することができる。ステップｃとｄは、Ｖの水素化の間にＶＩＩ及び必要に応じた酸スカベンジャーを添加することによって単一の反応ポット中に合わせることができる。このやり方においては、化合物ＶＩは、それが生成させるとすぐにアシル化されてＩを与える。合わせられたステップｃ及びｄのための典型的な溶媒は、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン及び類似物である。酸スカベンジャーは、トリアルキルアミン例えばトリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルアミン及び類似物、又は固体無機化合物例えば重炭酸ナトリウム、酸化カルシウム、ピロリン酸ナトリウム、クエン酸三ナトリウム塩及び類似物で良い。
【００４８】
反応ステップａ〜ｄは、キラル中心＊での配置を実質的に保留しながら進む。好ましい実施態様においては、ステップａにおいて用いられる式ＩＩの化合物は、鏡像異性体的に富んでいて、それによって同じ絶対配置を有する鏡像異性体的に富んでいる式Ｉの化合物を供給する。鏡像異性体的に富んでいるということは、化合物のバルクサンプルが（＋）か（−）のどちらかの過剰の鏡像異性体を含み、そして１００％を含みそれまでの純粋な鏡像異性体の、鏡像異性体の１対１（ラセミ）混合物よりも大きい何かを含むことを意味する。かくして、例えば、２５％（−）鏡像異性体と７５％（＋）鏡像異性体を有する富んだ化合物は、５０％のラセミ化合物及び５０％の純粋な（＋）鏡像異性体の混合物と見なされ、そして５０％の鏡像異性体的に過剰な（＋）鏡像異性体を有するとされる。本発明の殊に好ましい実施態様においては、式ＩＩの化合物は（＋）鏡像異性体に富んでいて、これは（＋）鏡像異性体に富んだ式Ｉの化合物を導き、そして（＋）鏡像異性体は一層関節ポリシダル活性鏡像異性体であることが見い出された。式ＩＩの化合物の富化は好ましくは少なくとも１０％そして更に好ましくは少なくとも２０％の（＋）鏡像異性体である。
【００４９】
式ＩＩの鏡像異性体的に富んだ化合物は、例えば、標準的方法に従ってラセミ混合物の鏡像異性体を物理的に分離することによって製造することができる。しかしながら、このような方法は、大規模で操作するのが困難であり、そして望まない鏡像異性体を廃棄しなければならないのでしばしば不経済である。本発明の好ましい実施態様においては、式ＩＩの鏡像異性体的に富んだ化合物を、５つのステップ、ｉ〜ｖを含んで成る鏡像異性体選択的方法によって製造する。“鏡像異性体選択的”ということは、キラル生成物の所望の鏡像異性体が、必ずしも排他的ではないけれども、優先的に生成されることを意味する。
【００５０】
ステップｉ）は、購入することができる（例えばＳｐｅｃｔｒｕｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．から）か又は既知の手順によって酸から製造することができそして必要に応じてその場で生成させることができる適切に置換されたフェニルアセチルハロゲン化物を、約１〜４モル当量、好ましくは２モル当量のエチレンガス及び約０．９〜１．５モル当量のルイス酸例えば塩化アルミニウムと、約３〜１０重量部の不活性溶媒例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、二硫化炭素、又はｏ−ジクロロベンゼンの中で反応させることによってＶＩＩＩを生成させる。典型的な反応条件は、約−２０〜＋３０℃、好ましくは−５〜０℃の範囲の温度、約６０〜４００ｋＰａの範囲の圧力及び約０．５〜８時間の反応時間を含む。化合物ＶＩＩＩは、標準的方法によって単離することができ、又は溶媒が適切、例えばジクロロメタン又はジクロロエタンである時には、反応混合物はＶＩＩＩの単離なしで次のステップにおいて用いることができる。
【００５１】
ステップｉｉ）は、ＶＩＩＩを、約２．５〜３．５当量のペルオキシカルボン酸、好ましくはペルオキシ酢酸と、不活性溶媒例えば酢酸、ジクロロメタン、ｏ−ジクロロベンゼン、又は１，２−ジクロロエタンの中で反応させることによってＩＸを生成させる。典型的な反応条件は、約１５〜５５℃、好ましくは２５〜４５℃の範囲の温度、及び約５〜３５時間の反応時間を含む。温度は、安全上の理由のために低く保持する。必須ではないが、好ましくは、この反応は、０．５〜２．５モル当量の緩衝剤例えば酢酸ナトリウムの存在下で行われる。ＶＩＩＩの溶液へのペルオキシカルボン酸の添加の速度は、過剰のペルオキシカルボン酸を集積させることを回避するために制御される。生成物は、例えば、水で急冷し、必要に応じて還元剤例えば二酸化硫黄を添加して過剰の酸化剤を除去し、そして濾過することによって単離することができる。必要な場合には、生成物の濾過の前にｐＨを３未満に調節することができる。 ステップｉｉｉ）は、標準的方法によるＩＸのエステル化によってＸを生成させる。好ましい実施態様においては、ＩＸを、アルコール溶媒（約２〜２０重量部）と、断水剤としての約１〜２０モル当量の対応するアルコールのカーボネート誘導体及び約０．００１〜０．２モル当量の酸触媒、例えば硫酸又はｐ-トルエンスルホン酸の存在下で反応させる。ここで、典型的な反応条件は、７５〜１０５℃の範囲の温度、約１００〜５００ｋＰａの範囲の圧力及び約１０〜３０時間の反応時間を含む。化合物Ｘを標準的方法によって単離することができる。その代わりに、反応混合物をＸの単離なしで次のステップにおいて用いることができる。好ましくは、Ｘはステップｉｖの前には単離されない。
【００５２】
ステップｉｖ）は、Ｘを強塩基例えばアルカリ金属アルコキシド又は水素化物と、適切な溶媒例えば対応するアルコール、ベンゼン、トルエン又はキシレンの中で反応させることによってＸＩを生成させる。典型的な反応条件は、約６０〜９０℃の温度、約１００〜５００ｋＰａの圧力及び約０．５〜１０時間の反応時間を含む。生成物は、アルカリ金属塩として回収しそして例えば濾過によって単離することができる。その代わりに、生成物をまず酸例えば氷酢酸又は薄い水性鉱酸によって中和し、次に例えば濾過又は抽出によって単離することができる。
【００５３】
ステップｖ）は、ＸＩを約０．９〜１．５当量のヒドロペルオキシド例えば過酸化水素
及び過酸化水素のモノエーテルと、約０．００１〜１．５当量の光学的に活性なアミン塩基及び必要に応じて不活性溶媒の存在下で反応させることによって鏡像異性体的に富んだＩＩを生成させる。過酸化水素の好ましいモノエーテルは、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド及びそれらの組み合わせを含む。適切な溶媒は、脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサン、芳香族炭化水素例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン及びクメン、ハロゲン化炭化水素例えばジクロロメタン、ジクロロエタン及びオルトジクロロベンゼン、ケトン例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びメチルイソプロピルケトン、エステル例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、並びにエーテル例えばジエチルエーテル及びテトラヒドロフランを含む。芳香族炭化水素溶媒が好ましい。典型的な反応条件は、約−５〜５０℃の範囲の反応温度及び約２時間〜８日間の反応時間を含む。アミン塩基は、好ましくは、キナノキ（ｃｉｎｃｈｏｎａ）アルカロイド又はそれらの誘導体である。好ましくは、（＋）鏡像異性体に富んだＩＩ（（＋）ＩＩと名付ける）を製造するためには、キナノキアルカロイドはシンコニン、クイニジン、シンコニン又はクイニジンの対応するジヒドロ誘導体そして上記のものの任意の組み合わせであり、これらの中でキラルアルカロイドは［８−（Ｒ）、９−（Ｓ）］配置を有する。（−）鏡像異性体に富んだ式ＩＩの化合物は、［８−（Ｓ）、９−（Ｒ）］配置を有する塩基、例えばシンコニジン、キニン及びそれらの誘導体の使用によって得られる。生成物は、標準的方法、例えば濾過、必要に応じて引き続く触媒を除去するために十分な量の水性酸又は無極性溶媒例えばヘキサンのどちらかによる希釈によって回収することができる。その代わりに、生成物混合物を、極性の水不混和性溶媒例えば酢酸エチルによって吸収し、水性酸によって洗浄して触媒を除去し、濃縮し、そして結晶化させることができる。必要に応じて、ＩＩを、適切な溶媒、例えば酢酸イソプロピルと共につき砕き又は再結晶させて、鏡像異性体的に富んだ混合物から純粋な鏡像異性体を分離することができる。
【００５４】
好ましい実施態様においては、ステップｖにおける溶媒は、その中では式ＸＩの化合物が式ＩＩの対応する化合物よりも実質的により大きい溶解度を有する溶媒である。このような溶媒によれば、ＩＩは沈殿するであろうしかつ濾過によって回収することができ、そして何らかの溶けたＩＩ、未反応ＸＩ及び触媒を含む濾液は、引き続くバッチに好都合にリサイクルすることができる。好ましくは、溶媒はまた水不混和性であり、その結果引き続くバッチにおける使用に先立って、水性塩基及び／又は水で洗浄して酸性不純物及び水可溶性副生成物の量を減らすことができる。濾液のリサイクルは生成物ロスを最小にし、そして触媒の一層有効な使用を与える。殊にＩＩａのような化合物の製造のためには、芳香族炭化水素例えばキシレンは、殊にＩＩａのような化合物の製造のためには、このやり方における使用のための特に好ましい溶媒である。
【実施例１】
【００５５】
式Ｉの化合物を生成させるためのステップａ〜ｄの例示
ステップａ：フェニルメチル［５−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−２−（メトキシカルボニル）−１Ｈ−インデン−１−イリデン］ヒドラジンカルボキシレート（化合物ＩＶａ）の生成
頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた１Ｌの三ッ口フラスコに、８７ｇ（０．３６３モル）のメチル５−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１−オキソ−１Ｈ−インデン−２−カルボキシレート、６３．５ｇ（０．３８０モル）のフェニルメチルヒドラジンカルボキシレート（Ｌａｎｃａｓｔｅｒ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓから）、１．８ｇ（０．０１モル）のｐ-トルエンスルホン酸一水和物、及び３００ｍＬのメタノールを仕込んだ。スラリーを還流（６７℃）に加熱すると、オレンジ色の溶液が得られ、それから生成物が次第に沈殿した。１４〜１６時間後に、混合物を５℃に冷却しそして濾過した。濾過ケークを１００ｍＬの冷たいメタノールで洗浄し、そして６０℃で真空下で窒素パージしながら２時間の間の乾燥させると、白い結晶性固体として１３５
ｇ（インデンカルボキシレートを基にして９６％）のＩＶａが得られた。アセトニトリルからの再結晶によって分析サンプルを製造した、ｍｐ １８７〜１８８℃；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．７（ｓ，３Ｈ）、４．５８（ｂｒ ｓ，１Ｈ）、５．１９（ｂｒ ＡＢ ｑ，２Ｈ）、７．１８（ｄ，１Ｈ）、７．２５（ｄのｄ、１Ｈ）、７．４５（ｍ，５Ｈ）、７．７５（ｂｒ ｄ，１Ｈ）、９．５５（ｂｒ ｓ，１Ｈ）。生成物は、殆ど排他的にＺ−（ｓｙｎ−）異性体であると思われる。
【００５６】
ステップｂ：４ａ−メチル２−（フェニルメチル）−７−クロロインデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−２，４ａ（３Ｈ，５Ｈ）−ジカルボキシレート（化合物Ｖａ）の生成
頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた乾いた１Ｌの三ッ口フラスコに、４２ｇのケイソウ土、５００ｍＬの１，２−ジクロロエタン、及び１００ｍＬのジメトキシメタンを仕込んだ。五酸化リン（４２ｇ、０．３１モル）を外部冷却（２０℃のバス）しながら窒素下で添加し、そしてこの混合物を２０〜２５℃で１５分間撹拌せしめ、その後で９７ｇ（０．２５モル）のＩＶａを少しずつ添加した。この混合物を５５〜６０℃で２時間加熱しそして次に濾過した。濾過ケークを１，２−ジクロロエタンの二つの部分で洗浄し、そして合わせた濾液を蒸留によって体積を約１５０ｍＬに減らした。３００ｍＬのメタノール中の約５ｇのＮａＯＡｃの添加によって、ｐＨを約１．５から約４に上げ、そして約１５０ｍＬの溶媒の蒸留によって、残留ジクロロエタンを除去した。次に、約３０ｍＬの水を添加し、そしてこの混合物を５℃に冷却しかつ濾過した。濾過した生成物を１００ｍＬの冷たいメタノールで洗浄し、そしてフィルターの上で一晩吸引乾燥すると、８９ｇ（ＩＶａを基にして８９％）のＶａが得られた。イソプロパノールからの再結晶によって分析サンプルを製造した、ｍｐ １２２〜１２４℃；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．６４（ｓ，３Ｈ）、５．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．２６（ＡＢ ｑ，２Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、５．５３（ｂｒ，ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、７．２〜７．４５（ｍ，７Ｈ）、７．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）。
【００５７】
ステップｃ：メチル７−クロロ−２，５−ジヒドロインデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）カルボキシレート（化合物ＶＩａ）の生成
磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口バルブを備えた１Ｌの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして２７．３ｇ（０．１３モル）のクエン酸一水和物、１００ｍｌの水、１０．４ｇ（０．１３モル）の５０％の水性ＮａＯＨ、０．６ｇの炭素上のパラジウム、５００ｍＬの酢酸メチル、及び５２．０ｇ（０．１３モル）のＶａを仕込んだ。反応容器を窒素でパージし、そしてこの混合物を水素の流れを表面下で（ｓｕｂｓｕｒｆａｃｅ）通しながら、５〜１０℃で約３時間激しく撹拌した。この反応をＶａの消失に関してＨＰＬＣによって監視した。反応が完結した（約４時間）時に、反応容器を窒素でパージし、そして炭素上のパラジウムをケイソウ土のパッドの上に濾過し、そして５０ｍＬの酢酸メチル及び２０ｍＬの水でリンスした。濾液を分離し、そしてＶＩａを含む有機相を次のステップにおいて直接に使用した。別のバッチにおいては、ステップｃのための上の手順を繰り返し、そして約４００ｍＬの溶媒を蒸留によって除去し、約１００ｍＬのヘキサンを添加し、そして結晶化生成物を吸引乾燥させることによってＶＩａを単離した。ｍｐ １２４〜１２７℃；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、３．４０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、３．６５（ｄ，３Ｈ）、４．４３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．１０（ｂｒ，ｓ，１Ｈ）、７.２５（ｍ，２Ｈ）、７.５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）。
【００５８】
ステップｄ：メチル７−クロロ−２，５−ジヒドロ−２［［（メトキシカルボニル）］４
−（トリフルオロメトキシ）−フェニル］アミノ］カルボニル］インデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）−カルボキシレート（化合物Ｉａ）の生成
ＶＩａを含むステップｃからの有機相に、水性飽和ＮａＨＣＯ３（１４０ｇ、約０．１５モル）、引き続いて４１ｇ（０．１４モル）のメチル（クロロカルボニル）［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］カルバメート（化合物ＶＩＩ）を添加し、そしてこの混合物を１０〜１５℃で約１時間撹拌した。有機相を分離し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）し、真空下で濃縮して約４００ｍＬの酢酸メチル除去し、そして加熱温度が６４℃に到達するまで、３００ｍＬのメタノールとの蒸留によって残留溶媒を交換した。この混合物を５℃に冷却し、そして生成物を濾過し、７０ｍｌの冷たいメタノールで洗浄しかつ吸引乾燥すると、５８ｇのＩａ（ステップｃからのＶａを基にして、８５％総括）が得られた。ｍｐ １３９〜１４１℃；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．７０（ｓ，３Ｈ）、３．７１（ｓ，３Ｈ）、５．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、７．２〜７．４（ｍ，６Ｈ）、７．５０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）。
【実施例２】
【００５９】
式ＩＩの化合物を生成させるステップｉ〜ｖの例示
ステップｉ：６−クロロ−３．４−ジヒドロ−２（１Ｈ）−ナフタレンの生成（化合物ＶＩＩＩａ）
フラスコに、３４ｇ（０．２０モル）の４−クロロフェニル酢酸（ＰＣＰＡ）及び１５０ｍＬの１，２−ジクロロエタンを仕込んだ。懸濁液を撹拌し、２５ｇ（０．２１モル）の塩化チオニルを添加し、そして生成した溶液を２〜３時間の間８０〜９０℃で加熱した。蒸留ヘッドを取り付け、そして２５ｍＬの溶媒を蒸留して残留ＳＯ２及びＨＣｌを除去した。酸塩化物の薄いオレンジ溶液を５℃に冷却し、塩化アルミニウム（３０ｇ、０．２２モル）を−５〜０℃で仕込み、そして蒸留装置を風船型フラスコと置き換えた。エチレンガス（１２ｇ、０．４３モル）を、温度を−５〜０℃で維持しながら、少しずつ風船型フラスコに仕込んだ。赤い溶液をカニューレによって、冷却温度を２０〜３０℃で維持するような速度で次第に２００ｍＬの５℃の冷却水の中に移した。この混合物を２５℃で１時間の間撹拌した後で、ＶＩＩＩａを含む下部の有機層を分離し、そして１００ｍＬの５％水性ＨＣｌで洗浄した。
【００６０】
ステップｉｉ：２−カルボキシ−５−クロロベンゼンプロパン酸（化合物ＩＸａ）の生成
前のステップからのＶＩＩＩａの溶液を、頭上撹拌機を備えたフラスコに仕込んだ。酢酸ナトリウム（１６ｇ、０．２０モル）をポットに仕込み、そしてこの混合物を、１１４ｇ（０．６０モル） の３２％の過酢酸を３〜４時間にわたって一定添加漏斗から連続的に添加しながら、冷却によって２５〜３０℃で撹拌した。混合物を２５℃で更に２０時間撹拌せしめ、そして次に３００ｍＬの０．８ＮのＨＣｌを添加し、そして生成したスラリーを５℃に冷却した。この混合物を濾過し、冷たい５％水性ＮａＨＳＯ３、水で洗浄し、吸引乾燥させ、そして５０℃及び減圧で真空オーブン中で一晩乾燥させると、白い結晶性固体、ｍ．ｐ．１５６〜１５８℃として３５〜３６ｇ（ＰＣＰＡを基にして７６〜７８％の収率）の９９％純粋なＩＸａが得られた。
【００６１】
ステップｉｉｉ：５−クロロ−２−（メトキシカルボニル）ベンゼンプロパン酸メチル（化合物Ｘａ）の生成
熱時計及び頭上撹拌機を備えたフラスコに、４５．７ｇ（０．２００モル）のＩＸａ、５ｍＬのメタノール、及び１００ｍＬの炭酸ジメチルを仕込んだ。硫酸（１ｇ）を添加し、そしてこの混合物を窒素下で８５℃で２０時間撹拌した。酸を３ｇの２５％ナトリウムメトキシド溶液によって中和し、そして全部の炭酸ジメチル（ＤＭＣ）を反応フラスコから蒸留させた。蒸留の間にはメタノール（１００〜２００ｍＬ）を添加して、メタノール／ＤＭＣ共沸混合物（６２℃）を生成させ、さもなければ９０℃で蒸留するであろうＤＭ
Ｃの除去を容易にした。このステップからの生成物は、単離なしで次のステップ中に持ち込んだ。
【００６２】
ステップｉｖ：メチル５−クロロ−１−オキソ−２，３−ジヒドロインデン−２−カルボキシレート（化合物ＸＩａ）の生成
殆どのＤＭＣを除去した後で、前のステップからのＸａのメタノール溶液に、追加の１５０ｍＬのメタノール、引き続いてメタノール中の４７．５ｇ（０．２２モル）の２５％ＮａＯＭｅを添加した。溶液を７０℃で維持し、そして効果的な撹拌のために必要とされる最小レベルまでメタノールを蒸留した。反応が完了した時に、混合物を周囲温度に冷却した。酢酸（３ｇ、０．０５モル）、引き続いてｐＨを５〜６にするために十分な１ＮのＨＣｌを添加した。混合物を５℃に冷却し、濾過し、そして粗製固体を水、次に冷たいヘキサンで洗浄すると、ｍ．ｐ．８０〜８２℃のベージュの固体として４０〜４２ｇ（８９〜９３％の収率）のＸＩａが得られた。
【００６３】
ステップｖ：（＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１−オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレート（化合物（＋）ＩＩａ）の生成
１０．０ｇのＸＩａ、イソーオクタン中の１７ｍＬ（５１ミリモル）の３．０Ｍのｔ−ブチルヒドロペルオキシド、７０ｍＬの酢酸イソプロピル及び０．２ｇのシンコニン（Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｒ） Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）の混合物を室温で６日間周囲温度で撹拌した。この混合物に、約１００ｍＬの酢酸エチル、３０ｍＬの希薄水性重亜硫酸ナトリウム及び２０ｍＬの２ＮのＨＣｌを添加した。この混合物を振盪しそして分離し、そして有機抽出物を逐次水とブラインで洗浄した。溶媒を真空下で除去し、そして粗製固体生成物をヘキサンで洗浄すると、キラルカラムを使用するＨＰＬＣ分析によって測定されるように７２％（＋）対２８％（−）の鏡像異性体比を有する７．３１ｇのＩＩａ（６８％の収率）が得られた。（＋）に富んだＩＩａを酢酸イソプロピルから再結晶させて、４〜５ｇの純粋な（＋）ＩＩａを生成させた。ｍ．ｐ． １６３〜１６５℃；［α］Ｄ２５ ＋１１５．１゜（ＣＨＣｌ３、ｃ＝１．０）；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．７２（ｓ，３Ｈ）、４．０７（ｓ，１Ｈ）、７．３８（ｄのｄ，１Ｈ，Ｊ＝８及び１Ｈｚ）、７．４７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１Ｈｚ）、及び７．７０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）。
【実施例３】
【００６４】
鏡像異性体的に富んだＩＩａから出発しそして鏡像異性体的に富んだ
Ｉａを生成させるステップａ〜ｄの代わりの操作の例示
ステップａ：（＋）ＩＶａ）の生成
Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置及び窒素入り口を備えた１Ｌの一ッ口フラスコに、７５ｇ（０．３１２モル）の（＋）ＩＩａ（５０％鏡像異性体的に過剰）、５４．６ｇ（０．３５８モル）のフェニルメチルヒドラジンカルボキシレート、１．７８ｇ（０．００９４モル）のｐ-トルエンスルホン酸一水和物（Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｒ） Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ）、及び２７５ｍＬの１，２−ジクロロエタンを仕込んだ。スラリーを還流に加熱すると、オレンジ色の溶液が得られ、それから生成物が次第に沈殿した。Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋトラップ中に収集された水相を除去した。２時間後に、混合物を室温に冷却した。この反応混合物をステップｂにおいて直接に使用した。
【００６５】
ステップｂ：（＋）Ｖａの生成
頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた２Ｌの三ッ口フラスコに、８８．５ｇのケイソウ土（Ｃｅｌｉｔｅ（Ｒ））及び３００ｍＬの１，２−ジクロロエタンを添加した。五酸化リン（８８．５ｇ、０．６２３モル）、引き続いて１２０ｍＬのジメトキシメタンを添加した。ステップａからの１，２−ジクロロエタン中の（＋）ＩＶａのスラリーを次に添加した。この混合物を３５〜４０℃で５時間加熱し、そして次に
３０℃に冷却しそして濾過した。濾過ケークを１３５ｍＬの１，２−ジクロロエタンで洗浄し、そして合わせた濾液を最小体積にまで蒸留した。メタノールを添加し、そして蒸留を続けた。すべての１，２−ジクロロエタンが除去されそして約５００ｍＬのメタノールがポット中に留まった時に、蒸留を停止しそしてポットを４５℃に冷却した。生成物は沈殿し始め、そして１２０ｍＬの水を添加した。冷却を２０℃まで続けた。混合物を濾過し、そして濾過ケークを３７０ｍＬの３：１メタノール／水で洗浄した。固体を一晩真空下で８０℃で乾燥させると、１００．５ｇ（２ステップに関して８０．５％）の（＋）Ｖａが生成した。１Ｈ ＮＭＲスペクトルは、実施例１におけるＶａに関して得られたものと一致した。純度は、ＨＰＬＣによって９９．３％であった。
【００６６】
ステップｃ：化合物（＋）ＶＩａの生成
磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口バルブを備えた５００ｍＬの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして５０ｍＬの０．５Ｍのリン酸二水素ナトリウム緩衝溶液（ｐＨ ３．５）及び０．２ｇの５０％水で湿った炭素上の５％パラジウムを仕込んだ。二相懸濁液を周囲温度で０．５時間撹拌した。分離フラスコにおいて、１０ｇ（０．０２５モル）の（＋）Ｖａを、窒素下で５０ｍＬの酢酸メチルに添加し、３５℃に加熱し、そして溶けるまで撹拌した。（＋）Ｖａの溶液をＰｄ触媒懸濁液に添加し、そしてこの混合物を１０℃に冷却した。反応容器を排気し、そして混合物を水素の流れを表面下で通しながら、１０℃で激しく撹拌した。この反応を、ＴＬＣ及びＧＣによって（＋）Ｖａの消失に関して監視した。反応が完結した（約１．５時間）時に、反応容器を排気しそして窒素でパージし、反応混合物をケイソウ土のパッドを通して濾過し、そしてフィルターパッドを追加の２０ｍＬの酢酸メチルで洗浄した。これらの液相を分離し、そして（＋）ＶＩａを含む酢酸メチル相をステップｄに直接に運んだ。
【００６７】
ステップｄ：（＋）Ｉａの生成
（＋）ＶＩａを含むステップｃからの酢酸メチル溶液を、３８ｍＬの水の中の３ｇのＮａＨＣＯ３の溶液に添加した。この混合物を窒素下で１０℃に冷却し、そして７．４３ｇ（０．０２５モル）のＶＩＩを一度に添加した。反応物を１０℃で１時間撹拌した。酢酸メチル相を分離し、そして真空下で濃縮して約１００ｍＬの溶媒を除去した。５０ｍＬのメタノールを添加し、そしてスラリーを再度蒸発させて、残りのメタノールを酢酸メチル／メタノール共沸混合物として除去した。最後の５０ｍＬのメタノールを添加し、そして懸濁液を還流に加熱した。加熱を続けている時にケイソウ土（０．４ｇ）を添加し、そして次に１７ｍＬの水を滴加した。生成したスラリーを、冷却し、濾過し、３３ｍＬの２：１メタノール／水で洗浄し、そして真空乾燥させると１１．１６ｇの富んだ（＋）Ｉａ（Ｖａを基にしてステップｃ及びｄに関して７８％の総括収率）が得られた。キラルＨＰＬＣによる分析は、（＋）鏡像異性体の４２％の過剰を示した。
【実施例４】
【００６８】
ステップｃ及びｄの代わりの操作の例示
ステップｃ：ＶＩａの生成
磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口バルブを備えた１Ｌの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして５８０ｍＬの酢酸メチル、０．１６４ｇの酢酸ナトリウム（２モル％）、及び０．８ｇの炭素上の５％パラジウム触媒を仕込んだ。約２００ｍＬの溶媒を蒸留によって除去し、そして生成した乾いた溶媒／触媒懸濁液を５０℃に冷却せしめ、そして４０．０ｇ（０．１モル）のＶａを一度に添加した。この混合物を撹拌してＶａを溶かし、そして次に周囲温度に冷却した。反応容器を窒素でパージし、次に混合物を、水素の流れが表面下に入れられる時に周囲温度で激しく撹拌した。反応は、Ｖａの消失に関して監視した。反応が完結した時に（約３．０時間）、反応容器を排気しそして窒素でパージした。炭素上のパラジウムを、ケイソウ土のパッドの上に濾過し、そして５０ｍＬの乾いた酢酸メチルによってリンスした。濾液をステップ
ｄにおいて直接に使用した。
【００６９】
ステップｄ：Ｉａの生成
ＶＩａを含むステップｃからの酢酸メチル溶液を、１５０ｍＬの水の中の１２ｇのＮａＨＣＯ３の溶液と合わせた。この混合物を窒素下で１０℃に冷却し、そして２９．７ｇ（０．１モル）の化合物ＶＩＩを０．５時間にわたって一度に添加した。混合物を１０〜１５℃で更に約１時間撹拌した。次に、酢酸メチル相を分離し、そして真空下で濃縮して約４００ｍＬの溶媒を除去した。メタノール（５０ｍＬ）を添加し、そして溶媒を真空中で再び除去した。次に７０％の水性メタノール（１００ｇ）を添加し、そしてこの混合物をアイスバスから冷却しながら４５分間撹拌した。生成物を濾過し、２５ｍＬの冷たい７０％水性メタノールで洗浄し、そして真空乾燥させると、５１ｇ（８８．９％ＨＰＬＣ分析を基にしてＶａからの８６％の総括収率）、ｍｐ １３５〜１３８℃が得られた。
【実施例５】
【００７０】
ステップｖの代わりの操作の例示
ステップｖ：化合物（＋）ＩＩａ）の生成
１１．２５ｇ（５０ミリモル）のＶａ、７０ｍＬの混合キシレン、及び１．４ｇのシンコニン（Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｒ） Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）の懸濁液を窒素下で撹拌し、そして７．０ｇ（７０ミリモル）の９０％水性ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｒ） Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．を添加した。生成した溶液を室温で２４時間の間撹拌せしめると、その時間の間に生成物が結晶化し始めた。次に、反応混合物を、１００ｍＬの酢酸エチルによって希釈し、そして二つの部分の５０ｍＬの飽和水性重炭酸ナトリウム、５０ｍＬの１Ｎの水性塩化水素酸、及び５０ｍＬの飽和水性重亜硫酸ナトリウムによって逐次洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムの上で乾燥させ、そして溶媒を減圧下で除去すると、１０．６ｇの富んだ（＋）ＩＩａ（８６％純度、Ｖａを基にして７６％収率）が得られた。キラルＨＰＬＣによる分析は、（＋）鏡像異性体の４５％の鏡像異性体を示した。
【実施例６】
【００７１】
ステップｂの代わりの操作の例示
ステップｂ：化合物Ｖａの生成
磁気撹拌機、温度計、及び二つのガス入り口を備えた５００ｍＬの四ッ口フラスコに、４９．９ｇ（０．１２８モル）のＩＶａ及び２５０ｍＬのジエトキシメタンを仕込んだ。この混合物を−１０℃に冷却し、そして反応容器を排気した（〜２４ｃｍＨｇ）。三酸化硫黄ガスを、反応混合物の温度が−１０℃〜０℃に維持されるような速度で冷却反応容器に入れた。添加が完了した時に、窒素を入れて真空を解放した。この混合物を室温まで加温せしめ、４．７５時間の間撹拌し、良好な撹拌をしながら室温で５０ｍＬの水を添加し、そして更に２時間撹拌した。混合物を濾過し、そして濾液から有機相を分離しかつ蒸発させた。残渣を１２５ｍＬのメタノール中に溶かし、そして濾過からの固体と合わせた。このスラリーに、１２５ｍＬの水を滴加し、その後で混合物を１．５時間撹拌し、次に濾過した。濾過ケークを室温で真空下で乾燥させると、４６．３ｇ（ＩＶａを基にして９０％）のＶａが得られた。生成物の小部分をメタノールから再結晶して、サンプルを供給したが、それのｍｐ及び１Ｈ ＮＭＲスペクトルは、実施例１ステップｂにおいて得られたＶａのものと一致した。
【実施例７】
【００７２】
メチル（クロロカルボニル）［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］
カルバメート（化合物ＶＩＩ）の製造
第一反応フラスコ中で、７０．５ｇ（０．３０モル）のメチル４−（トリフルオロメトキシ）フェニルカルバメートを、７００ｍＬのジクロロメタン中に溶かす。次に、鉱油中
の１４．０ｇの６０％水素化ナトリウム（０．３５モル）を、引き続いて６０ｍＬのｇｌｙｍｅ（エチレングリコールジメチルエーテル）を１５分以内に添加する。発熱反応が起こりそして反応混合物の温度は周囲の室温のものよりも少し高く上昇する。反応混合物を外部加熱なしで一晩（約１６時間）撹拌する。蒸留塔を備えた第二反応フラスコにおいては、１２０ｇ（１．２モル）のホスゲンを、５〜１０℃に冷却されている３００ｍｌのジクロロメタン中に溶かす。濃いスラリーである第一フラスコからの反応混合物を、ホスゲン溶液を含む第二フラスコに５〜１０℃でゆっくりと添加する。添加が完了した後では、塔頂温度がジクロロメタンだけが塔頂を越えて来ていることを示すまで、蒸留によって過剰のホスゲンを除去する。蒸留を停止し、そして反応混合物を約０℃まで冷却する。２００ｍＬの氷水を添加して、副生成物の塩化ナトリウムを溶かす。ジクロロメタン層を水性層から分離し、濾過しそしてＭｇＳＯ４で乾燥させる。乾燥されたジクロロメタン溶液、化合物ＶＩＩを含むｃを、次に、蒸留してジクロロメタンを取り去り、そして交換に、全部で４００ｍＬのヘキサンを添加する（溶媒交換手順）。ジクロロメタンが除去されそしてヘキサンが蒸留し始める時に、蒸留を停止する。次に、ヘキサン溶液を５℃に冷却すると、その際にＶＩＩが沈殿するが（種付けが必要とされる可能性がある）、追加の冷たいヘキサンで洗浄しそして乾燥させる。収率は典型的には、ｍ．ｐ．９７〜９９℃の９７〜９８％の純粋なＶＩＩに関して約９４％である。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．８０（Ｓ，３）、７．２９（Ｓ，４）
以下に本発明及び本発明の関連する発明の主な特徴及び態様を列挙する。
【００７３】
１． キラル中心＊においてラセミ的な又は鏡像異性体的に富んでいる式Ｉ
【００７４】
【化１５】
【００７５】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物を製造するための方法であって、
（ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ
【００７６】
【化１６】
【００７７】
の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ
Ｈ２Ｎ−ＮＨＲ３ ＩＩＩ
の化合物と反応させて、式ＩＶ
【００７８】
【化１７】
【００７９】
［式中、
Ｒ３は、保護基例えばＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）及び類似物である］
の化合物を生成させること、
（ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンと反応させて式Ｖ
【００８０】
【化１８】
【００８１】
の化合物を生成させること、
（ｃ）式Ｖの化合物を水素化させて式ＶＩ
【００８２】
【化１９】
【００８３】
の化合物を生成させること、そして
（ｄ）式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ
【００８４】
【化２０】
【００８５】
の化合物と反応させて、式ＩＩの化合物と実質的に同じ絶対配置を有する式Ｉの化合物を生成させること
を含んで成る方法。
【００８６】
２． 式Ｖ：
【００８７】
【化２１】
【００８８】
の化合物を作るための方法であって、
（ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ
【００８９】
【化２２】
【００９０】
の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ
Ｈ２Ｎ−ＮＨＲ３ ＩＩＩ
の化合物と反応させて、式ＩＶ
【００９１】
【化２３】
【００９２】
［これらの式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルであり、そして
Ｒ３は、保護基ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
の化合物を生成させること、及び
（ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンと反応させること
を含んで成る方法。
【００９３】
３． 式Ｖの化合物を水素化させることを含んで成る、式ＶＩ：
【００９４】
【化２４】
【００９５】
の化合物を作るための２項に記載の方法。
【００９６】
４． 式ＩＶ
【００９７】
【化２５】
【００９８】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルであり、そして
Ｒ３は、保護基ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
の化合物を、ルイス酸の存在下でジ（Ｃ１〜Ｃ３−アルコキシ）メタンと反応させて、式Ｖ
【００９９】
【化２６】
【０１００】
の化合物を生成させ、そして式Ｖの化合物を水素化させることを含んで成る、式ＶＩ：
【０１０１】
【化２７】
【０１０２】
の化合物を作るための方法。
【０１０３】
５． 式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ
【０１０４】
【化２８】
【０１０５】
の化合物と反応させることを含んで成る、式Ｉ
【０１０６】
【化２９】
【０１０７】
の化合物を作るための、４項に記載の方法。
【０１０８】
６． 式Ｉ
【０１０９】
【化３０】
【０１１０】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物を作るための方法であって、式Ｖ
【０１１１】
【化３１】
【０１１２】
［式中、
Ｒ３は、保護のＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）である］
の化合物を水素化させて、式ＶＩ
【０１１３】
【化３２】
【０１１４】
の化合物を生成させ、そして
式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ
【０１１５】
【化３３】
【０１１６】
の化合物と反応させることを含んで成る方法。
【０１１７】
７．
【０１１８】
【化３４】
【０１１９】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシであり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルであり、
Ｒ３は、ＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）であり、そして
Ｒ４は、Ｈ及びＣＯ２ＣＨ２（Ｃ６Ｈ５）から選ばれる］
の群から選ばれたラセミ又は鏡像異性体的に富んだ化合物。
【０１２０】
８． 式ＩＩ：
【０１２１】
【化３５】
【０１２２】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物の鏡像異性体的に富んだ（＋）又は（−）鏡像異性体を製造するための方法であって、
（ｉ）ルイス酸の存在下でｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物をエチレンと反応させて式ＶＩＩＩ
【０１２３】
【化３６】
【０１２４】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｉ）ＶＩＩＩをペルオキシ酸と反応させて式ＩＸ
【０１２５】
【化３７】
【０１２６】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｉｉ）酸触媒の存在下でＩＸをＣ１〜Ｃ３−アルコールと反応させて式Ｘ
【０１２７】
【化３８】
【０１２８】
の化合物を製造するステップ、
（ｉｖ）Ｘを塩基と反応させて式ＸＩ
【０１２９】
【化３９】
【０１３０】
の化合物を製造するステップ、
並びに
（ｖ）キラル塩基の存在下でＸＩをヒドロペルオキシドと反応させて鏡像異性体的に富んだＩＩを製造するステップ
を含んで成る方法。
【０１３１】
９． 式：
【０１３２】
【化４０】
【０１３３】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物の（＋）鏡像異性体。
【０１３４】
１０． （＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１−オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレートである、１項に記載の化合物。
【０１３５】
１１． 式ＩＸ又はＸ：
【０１３６】
【化４１】
【０１３７】
［式中、
Ｒ１は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ１〜Ｃ３−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして
Ｒ２は、Ｈ又はＣ１〜Ｃ３−アルキルである］
の化合物。
【０１３８】
１２． ２−カルボキシ−５−クロロベンゼンプロパン酸である、１１項に記載の化合物。
【０１３９】
１３． ５−クロロ−２−（メトキシカルボニル）ベンゼンプロパン酸メチルである、１１項に記載の化合物。
【０１４０】
１４． 式：
【０１４１】
【化４２】
【０１４２】
の化合物。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
の化合物。
【請求項１】
式：
【化１】
の化合物。
【公開番号】特開２００６−２７３８６７（Ｐ２００６−２７３８６７Ａ）
【公開日】平成１８年１０月１２日（２００６．１０．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１８１２３１（Ｐ２００６−１８１２３１）
【出願日】平成１８年６月３０日（２００６．６．３０）
【分割の表示】特願平７−５２７６６３の分割
【原出願日】平成７年４月１７日（１９９５．４．１７）
【出願人】（３９００２３６７４）イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー (2,692)
【氏名又は名称原語表記】Ｅ．Ｉ．ＤＵ ＰＯＮＴ ＤＥ ＮＥＭＯＵＲＳ ＡＮＤ ＣＯＭＰＡＮＹ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１０月１２日（２００６．１０．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年６月３０日（２００６．６．３０）
【分割の表示】特願平７−５２７６６３の分割
【原出願日】平成７年４月１７日（１９９５．４．１７）
【出願人】（３９００２３６７４）イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー (2,692)
【氏名又は名称原語表記】Ｅ．Ｉ．ＤＵ ＰＯＮＴ ＤＥ ＮＥＭＯＵＲＳ ＡＮＤ ＣＯＭＰＡＮＹ
【Ｆターム（参考）】
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