難燃性ポリカーボネート樹脂組成物および光反射部材
【課題】ハロゲンや燐を含有する難燃剤を使用せずに、高度の光反射性と難燃性を有し、良好な外観と光線反射率、遮光性、熱伝導性（放熱性）、機械特性（剛性）、寸法安定性を有する成形品が得られる難燃性ポリカーボネート樹脂組成物及び光反射部材を提供する。
【解決手段】（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂、（ｂ）白色顔料及び（ｃ）アルカリ中和処理及びシランカップリング表面処理されたタルクを含有し、（ａ）〜（ｃ）成分合計量１００質量部における（ａ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）成分の質量比が、９１〜４０：４〜４０：４〜２０であることを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物及び該ポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる光線反射板及びその周辺部材である。
【解決手段】（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂、（ｂ）白色顔料及び（ｃ）アルカリ中和処理及びシランカップリング表面処理されたタルクを含有し、（ａ）〜（ｃ）成分合計量１００質量部における（ａ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）成分の質量比が、９１〜４０：４〜４０：４〜２０であることを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物及び該ポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる光線反射板及びその周辺部材である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネート樹脂組成物および光反射部材に関する。さらに詳しくは、優れた耐熱性、難燃性を有し、成形品の光線反射率、遮光性、放熱性、機械特性（剛性）、寸法安定性、成形性に優れたポリカーボネート樹脂組成物及び該組成物を成形してなる光線反射板及びその周辺部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年液晶ディスプレー（ＬＣＤ）の用途は、ノートパソコン、モニター、テレビへと拡大しており、特に、最近では液晶テレビにおいて、大型化、軽量化、薄型化の開発競争が著しい。それと共に高画質化が進み、ＬＣＤの照明装置であるバックライトも、より大型化、薄型化、軽量化のみならず、光源についてもＬＥＤ化が進み、さらに機械特性（剛性）、寸法安定性、放熱性に対する要求、即ち、耐熱寸法安定性への要求が高まっている。
【０００３】
優れた機械的性質を有しているポリカーボネート樹脂は、酸化チタン等の白色顔料を配合することにより、反射性能、遮光性能を高めて、広くこれら分野で使用されている。
一方、これら機器に使用される樹脂材料には、難燃性が必要であり、多数の難燃処方が開発されているが、特に成形用金型の腐食や環境への負荷を低減させる目的から、ハロゲン系、リン系難燃剤を含まないことが求められている。
また、大型化、薄型化、軽量化の開発動向に応えるために、光線反射性、遮光性、機械特性（剛性）、寸法安定性、放熱性（熱伝導性）などの要求を同時に満たすことがポリカーボネート樹脂に求められている。
【０００４】
高度の光反射性と難燃性を有し、良好な外観と寸法精度を有する成形品が得られるポリカーボネート樹脂組成物及び該難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる光線反射板及びその周辺部材に関する樹脂材料として、例えば、特許文献１には、（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂１００ 重量部に対し、（ｂ）酸化チタン３〜３０重量部、（ｃ）シリコーン系化合物０．１〜１０重量部、（ｄ）ポリテトラフルオロエチレン０．１〜１重量部、（ｅ）板状無機充填剤０．５〜１５重量部を含有することを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物が提案されている。
【０００５】
しかしながら、特許文献１では、（ｃ）成分に、シリカを基材としたシリコーン系化合物を用いているので、ハロゲン系化合物を含有することなく難燃性については、確保可能であるが、（ｅ）板状無機充填剤に用いられているタルクは、アルカリ性を呈するためにポリカーボネート系樹脂は加水分解するため、分子量劣化に伴う機械特性の低下をもたらし、タルクを高濃度に配合できないという問題がある。
【０００６】
このため、特許文献１においては、（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂１００ 重量部に対し、（ｂ）酸化チタンが３〜３０重量部、（ｅ）板状無機充填剤が０．５〜１５重量部に限定されることになり、光線反射率、遮光性、放熱性、機械特性（剛性）及び寸法安定性が十分満足できるものではない。
【特許文献１】特開２００５−１５６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような状況下でなされたもので、ハロゲンや燐を含有する難燃剤を使用せずに、高度の光反射性と難燃性を有し、良好な外観と光線反射率、遮光性、熱伝導性（放熱性）、機械特性（剛性）、寸法安定性を有する成形品が得られる難燃性ポリカーボネート樹脂組成物及び該ポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる光線反射板及びその周辺部材を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、芳香族ポリカーボネート樹脂に、特定の処理を行ったタルクを用い、白色顔料として酸化チタンを用いて、特定比率で含有させたポリカーボネート樹脂組成物が、上記の目的に沿うものであることを見出し、本発明に到達した。
【０００９】
すなわち本発明は、以下の芳香族リカーボネート樹脂組成物および光線反射部材を提供するものである。
１．（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂、（ｂ）白色顔料及び（ｃ）アルカリ中和処理及びシランカップリング表面処理されたタルクを含有し、（ａ）〜（ｃ）成分合計量１００質量部における（ａ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）成分の質量比が、９１〜４０：４〜４０：４〜２０であることを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
２．（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂が、高流動ポリカーボネート共重合体及び／又はポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含有する上記１の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
３．（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂が、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体を含有する上記２の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
４．（ｃ）成分のタルクのシランカップリング表面処理が、アミノ変性シラン、カルボキシ変性シラン、アクリル変性シラン、エポキシ変性シランより選ばれた少なくとも１種のシランカップリング表面処理である上記１又は２の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
５．（ａ）〜（ｃ）成分１００質量部に対して、（ｄ）オルガノポリシロキサン０．１〜３質量部及び（ｅ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体０．１〜５質量部を含有する上記１〜４のいずれかの難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
６．（ｄ）オルガノポリシロキサンが、アルキル水素シリコーン又はアルコキシシリコーンである、上記５の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
７．アルコキシシリコーンが、シリコーン主鎖に対してメチレン基を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するオルガノポリシロキサンである上記６の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
８．（ｅ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体が、（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子４０〜９０質量部の存在下に、（Ｙ）多官能性単量体（ｙ−１）１００〜５０質量％及びその他の共重合可能な単量体（ｙ−２）０〜５０質量％からなるビニル系単量体０．５〜１０質量部を重合し、さらに（Ｚ）その他のビニル系単量体５〜５０質量部を重合して得られたものである〔但し、（Ｘ）、（Ｙ）及び（Ｚ）の合計量が１００質量部とする〕上記５の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
９．上記１〜８のいずれかの難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を成形加工して得られる光反射部材。
【発明の効果】
【００１０】
本発明においては、独自の酸化チタンの安定化技術に基く特定のタルクを用いることにより、従来のタルクによるポリカーボネート系樹脂の加水分解劣化が抑制されるので、タルク及び酸化チタンの高濃度の配合が可能となる。
その結果、ポリカーボネート樹脂組成物において、ハロゲン系難燃剤、金属塩系の難燃促進剤を含有させることなく、難燃性を確保し、さらには、高いレベルの光線反射率、遮光性、熱伝導性（放熱性）、機械特性（剛性）、寸法安定性を発現することができるので、高い光線反射性能と剛性を要求する構造部品や、発熱の大きいＬＥＤを光源とする反射基材、反射部材などの耐熱寸法安定性を要求する分野で広く使用可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
[（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂]
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物における（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂は、高流動ポリカーボネート共重合体（ａ−１：高流動共重合ＰＣとも云う）、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（ａ−２：ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣとも云う）および一般の芳香族ポリカーボネート樹脂（ａ−３：一般ＰＣとも云う）のポリカーボネート系樹脂を任意の組合せで混合することで、成形品の形状、成形方法に合わせて任意の成形流動性、機械物性、耐熱性に調整することができる。
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物における（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂として、高流動共重合ＰＣ（ａ−１）及び／又はポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ａ−２）を含有させることにより、（ｂ）成分のタルク配合による機械特性（耐衝撃性）の低下の影響を少なくするので、好適に利用できる。
中でも、ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ａ−２）としてポリジメチルシロキサン共重合ポリカーボネート樹脂(ＰＣ-ＰＤＭＳとも云う)が、（ｂ）成分のタルク配合による機械特性（耐衝撃性）の低下を改善するのに好適に利用できる。
【００１２】
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂に用いられる高流動共重合ＰＣ（ａ−１）は、フェノール変性ジオール共重合ポリカーボネートであり、界面重合法と呼ばれる慣用の製造方法により製造することができる。すなわち、二価フェノール、フェノール変性ジオール及びホスゲン等のカーボネート前駆体を反応させる方法により製造することができる。具体的には、例えば、塩化メチレン等の不活性溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、さらに必要により触媒や分岐剤を添加し、二価フェノール、フェノール変性ジオール及びホスゲン等のカーボネート前駆体を反応させる。
【００１３】
高流動共重合ＰＣ（ａ−１）は、下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）
【化１】
で表される繰り返し単位を有する。
一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、ａ、ｂ及びＸについては、下記一般式（Ｉａ）と併せて説明する。また、一般式（ＩＩ）中、Ｒ3、Ｒ4、ｃ、ｄ、ｎ及びＹについては、後述する一般式（ＩＩａ）と併せて説明する。
【００１４】
高流動共重合ＰＣの製造に用いる二価フェノールとしては、下記一般式（Ｉａ）
【化２】
で表される化合物を挙げることができる。
【００１５】
一般式（Ｉａ）において、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基を示し、アルキル基は直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよい。アルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。ａ及びｂは、それぞれＲ1及びＲ2の置換数を示し、０〜４の整数である。なお、Ｒ1が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ2が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。
【００１６】
Ｘは単結合、炭素数１〜８のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチリレン基、ヘキシレン基等）、炭素数２〜８のアルキリデン基（例えば、エチリデン基、イソプロピリデン基等）、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基（例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等）、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基（例えば、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基等）、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合又は下記式(ＩＩＩ）もしくは下記式(ＩＶ）
【化３】
で表される基を示す。
【００１７】
上記一般式（Ｉａ）で表される二価フェノールとしては、様々なものがあるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通称：ビスフェノールＡ］が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノールとしては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−１−メチルフェニル）プロパン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラメチルフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラクロロフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラブロモフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、４，４'−ジヒドロキシフェニルエーテル；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホン；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類、４，４'−ジヒロキシジフェニル等のジヒドロキシジフェニル類、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン；９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等のジヒドロキシジアリールフルオレン類、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等のジヒドロキシジアリールアダマンタン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタエン等が挙げられる。これらの二価フェノールは、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
【００１８】
分子量調節剤としては通常、ポリカーボネート樹脂の重合に用いられるものであれば、各種のものを用いることができる。具体的には、一価フェノールとして、例えば、フェノール、ｏ−ｎ−ブチルフェノール、ｍ−ｎ−ブチルフェノール、ｐ−ｎ−ブチルフェノール、ｏ−イソブチルフェノール、ｍ−イソブチルフェノール、ｐ−イソブチルフェノール、ｏ−ｔ−ブチルフェノール、ｍ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｏ−ｎ−ペンチルフェノール、ｍ−ｎ−ペンチルフェノール、ｐ−ｎ−ペンチルフェノール、ｏ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｍ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｐ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｐ−ｔ−オクチルフェノール、ｏ−シクロヘキシルフェノール、ｍ−シクロヘキシルフェノール、ｐ−シクロヘキシルフェノール、ｏ−フェニルフェノール、ｍ−フェニルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｏ−ｎ−ノニルフェノール、ｍ−ノニルフェノール、ｐ−ｎ−ノニルフェノール、ｏ−クミルフェノール、ｍ−クミルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｏ−ナフチルフェノール、ｍ−ナフチルフェノール、ｐ−ナフチルフェノール；２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール；２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール；３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール；２，５−ジクミルフェノール；３，５−ジクミルフェノール；ｐ−クレゾール、ブロモフェノール、トリブロモフェノール、平均炭素数１２〜３５の直鎖状又は分岐状のアルキル基をオルト位、メタ位又はパラ位に有するモノアルキルフェノール；９−（４−ヒドロキシフェニル）−９−（４−メトキシフェニル）フルオレン；９−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−９−（４−メトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン；４−（１−アダマンチル）フェノール等が挙げられる。これらの一価フェノールのなかでは、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−フェニルフェノール等が好ましく用いられる。
【００１９】
触媒としては、相間移動触媒、例えば、三級アミン又はその塩、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩等を好ましく用いることができる。三級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン等が挙げられる。また、三級アミン塩としては、例えば、これらの三級アミンの塩酸塩、臭素酸塩等が挙げられる。四級アンモニウム塩としては、例えば、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリブチルベンジルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド等が、四級ホスホニウム塩としては、例えば、テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムブロミド等が挙げられる。これらの触媒は、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記触媒の中では、三級アミンが好ましく、特にトリエチルアミンが好適である。
【００２０】
不活性有機溶剤としては、各種のものがある。例えば、ジクロロメタン（塩化メチレン）；トリクロロメタン；四塩化炭素；１，１−ジクロロエタン；１，２−ジクロロエタン；１，１，１−トリクロロエタン；１，１，２−トリクロロエタン；１，１，１，２−テトラクロロエタン；１，１，２，２−テトラクロロエタン；ペンタクロロエタン；クロロベンゼン等の塩素化炭化水素や、トルエン、アセトフェノン等が挙げられる。これらの有機溶剤はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよい。これらの中では、特に塩化メチレンが好適である。
【００２１】
分岐剤として、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；α，α'，α"−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４'−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α'，α'−ビス（４"−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール；フロログリシン、トリメリト酸、イサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物；フロログリシン、トリメリト酸、イサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物を用いることもできる。
【００２２】
高流動共重合ＰＣの製造に用いるフェノール変性ジオールは、下記一般式（ＩＩａ）
【化４】
で表されるフェノール変性ジオールである。
【００２３】
一般式（ＩＩａ）において、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を示し、アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。Ｒ3が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ4が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。Ｙは、炭素数２〜１５の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、アルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基及びイソペンチレン基等のアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基及びイソペンチリデン基等のアルキリデン基が挙げられる。ｃ及びｄは０〜４の整数であり、ｎは２〜２００の整数である。ｎは、好ましくは６〜７０である。
【００２４】
上記一般式（ＩＩａ）で表されるフェノール変性ジオールは、例えば、ヒドロキシ安息香酸又はそのアルキルエステル、酸塩化物とポリエーテルジオールから誘導される化合物である。このフェノール変性ジオールは、特開昭６２−７９２２２号公報、特開昭６０−７９０７２号公報、特開２００２−１７３４６５号公報等で提案されている方法により合成がすることができるが、これらの方法により得られるフェノール変性ジオールに対し適宜精製を加えることが望ましい。精製方法としては、例えば、反応後段で系内を減圧にし、過剰の原料（例えば、パラヒドロキシ安息香酸）を留去する方法、フェノール変性ジオールを水又はアルカリ水溶液（例えば、炭酸水素ナトリウム水溶液）等で洗浄する方法等が望ましい。
【００２５】
ヒドロキシ安息香酸アルキルエステルとしては、ヒドロキシ安息香酸メチルエステル、ヒドロキシ安息香酸エチルエステル等が代表例である。ポリエーテルジオールは、ＨＯ−（Ｙ−Ｏ）ｎ−Ｈ（Ｙ及びｎは前記と同じである。）で表され、炭素数２〜１５の直鎖状又は分岐状のオキシアルキレン基からなる繰返し単位を有するものである。具体的には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。入手性及び疎水性の観点からポリテトラメチレングリコールが特に好ましい。ポリエーテルジオールのオキシアルキレン基の繰返し数ｎは２〜２００、好ましくは６〜７０である。ｎが２以上であると、フェノール変性ジオールを共重合する際の効率が高く、ｎが２００以下であると、（ａ−１）ポリカーボネート共重合体の耐熱性の低下が小さいという利点がある。
【００２６】
酸塩化物としては、ヒドロキシ安息香酸とホスゲンから得られるものが代表例である。より具体的には、特許２６５２７０７号公報等に記載の方法により得ることができる。ヒドロキシ安息香酸又はそのアルキルエステルはパラ体、メタ体、オルト体のいずれでも良いが、共重合反応の面からはパラ体が好ましい。オルト体は水酸基に対する立体障害のため共重合の反応性に劣るおそれがある。
【００２７】
高流動共重合ＰＣの製造工程において、フェノール変性ジオールは、その変質等を防ぐため、可能な限り塩化メチレン溶液として用いるのが好ましい。塩化メチレン溶液として用いることができない場合、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液として用いることができる。
高流動共重合ＰＣの製造工程において、フェノール変性ジオールの共重合量を増やせば流動性は改善されるが耐熱性が低下する。従って、フェノール変性ジオールの共重合量は所望の流動性と耐熱性のバランスにより選択することが好ましい。フェノール変性ジオール共重合量が多すぎると、特開昭６２−７９２２２号公報に示されているように、エラストマー状となり、一般のポリカーボネート樹脂と同様の用途への適用ができなくなるおそれがある。１００℃以上の耐熱性を保持するには、高流動共重合ＰＣ（ａ−１）ポリカーボネート共重合体中に含まれるフェノール変性ジオール残基の量は、１〜３０質量％であり、好ましくは１〜２０質量％、より好ましくは１〜１５質量％である。
【００２８】
高流動共重合ＰＣは、粘度数が３０〜７１［Ｍｖ（粘度平均分子量）＝１０，０００〜２８，１００に相当］であり、好ましくは３４〜６２（Ｍｖ＝１２，０００〜２４，１００に相当）である。粘度数が３０以上であると機械物性が良好であり、粘度数が７１以下であると、フェノール変性ジオール（コモノマー）の共重合効果が良好に発揮される。
また、高流動性を発現させようとすると多量のコモノマーが必要となるが、粘度数が７１以下であると、コモノマーの使用量に対して耐熱性が大きく低下することがない。なお、粘度数は、ＩＳＯ １６２８−４（１９９９）に準拠して測定した値である。
【００２９】
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂に用いられるポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ａ−２）としては、様々なものがあるが、好ましくは、下記一般式（Ｖ）
【化５】
［式中、Ｒ5及びＲ6は、それぞれハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素、沃素）又は炭素数１〜８のアルキル基であり、ｅ及びｆは、それぞれ０〜４の整数である。Ｒ5が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ6が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。そして、Ｚは、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基又は−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合、単結合もしくは下記一般式（ＶＩ）
【００３０】
【化６】
で表される基を示す。］
で表される構造を有する繰り返し単位を有するポリカーボネート部と、下記一般式（ＶＩＩ）
【００３１】
【化７】
［式中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基であり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、ｇ及びｈは、それぞれ０又は１以上の整数である。］
で表わされる繰返し単位を有するポリオルガノシロキサン部とからなるものである。
このポリオルガノシロキサン部の重合度は、５〜１０００が好ましく、より好ましくは２０〜３００であるものが、難燃性、成形品の外観の点から好ましい。ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣは、上記一般式（Ｖ）で表わされる繰返し単位を有するポリカーボネート部と、上記一般式(ＶＩＩ)で表わされる繰返し単位を有するポリオルガノシロキサン部とからなるブロック共重合体であって、粘度平均分子量１０,０００〜５０,０００、好ましくは１５,０００〜３５,０００のものである。また、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のｎ−ヘキサン可溶分が１.０質量％以下であることが好ましい。
このポリオルガノシロキサン共重合ＰＣは、難燃性の観点からポリオルガノシロキサン部の含有量は好ましくは０．１〜１０質量％であり、更に好ましくは０．５〜５質量％である。
【００３２】
このポリオルガノシロキサン共重合ＰＣは、例えば、予め製造されたポリカーボネート部を構成するポリカーボネートオリゴマー（ＰＣオリゴマー）と、ポリオルガノシロキサン部を構成する、末端に反応性基を有するポリオルガノシロキサン［例えば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリジエチルシロキサン等のポリジアルキルシロキサンあるいはポリメチルフェニルシロキサン等］とを、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等の溶媒に溶解させ、ビスフェノールの水酸化ナトリウム水溶液を加え、触媒としてトリエチルアミンやトリメチルベンジルアンモニウムクロライド等を用い、界面反応することにより製造することができる。また、特公昭４４−３０１０８号公報や特公昭４５−２０５１０号公報に記載された方法によって製造されたポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を用いることもできる。
【００３３】
ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣとして用いられる一般式（Ｖ）で表わされる繰返し単位を有するポリカーボネートオリゴマーは、溶剤法、すなわち、塩化メチレン等の溶剤中で公知の酸受容体、分子量調節剤の存在下、一般式(ＶＩＩＩ)
【００３４】
【化８】
［式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｅ及びｆは、前記と同じである。］
で表わされる二価フェノールとホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応又は二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体とのエステル交換反応によって製造することができる。上記一般式(ＶＩＩＩ)で表わされる二価フェノールとしては様々なものがあるが、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔所謂ビスフェノールＡ〕が好ましい。また、ビスフェノールＡの一部又は全部を他の二価フェノールで置換したものであってもよい。ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン、ハイドロキノン；４，４’−ジヒドロキシジフェニル；ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド；ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトンのような化合物又はビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンのようなハロゲン化ビスフェノール類等を挙げることができる。
【００３５】
ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣの製造に供されるポリカーボネートオリゴマーは、これらの二価フェノール１種を用いたホモポリマーであってもよく、また２種以上を用いたコポリマーであってもよい。さらに、多官能性芳香族化合物を上記二価フェノールと併用して得られる熱可塑性ランダム分岐ポリカーボネートであってもよい。なお、ｎ−ヘキサン可溶分が１.０質量％以下のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を製造するには、例えば、共重合体中のポリオルガノシロキサン含有率を１０質量％以下にするとともに、上記一般式(ＶＩＩ)で表わされる繰返し単位の数が５以上のものを用い、かつ第３級アミン等の触媒を５.３×１０-3モル／（ｋｇ・オリゴマー）以上用いて上記共重合を行うことが好ましい。
【００３６】
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂に用いられる一般ＰＣ（ａ−３）は、慣用された製造方法、すなわち、通常、二価フェノールとホスゲンまたは炭酸エステル化合物等のポリカーボネート前駆体とを反応させることにより製造したものを挙げることができる。具体的には、例えば、塩化メチレン等の溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、さらに必要により分岐剤を添加し、二価フェノールとホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応により、あるいは二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体とのエステル交換反応等によって製造されたものである。
【００３７】
一般ＰＣの製造に用いられる二価フェノールとしては、様々なものがあるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔通称：ビスフェノールＡ〕が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノールとしては、例えば、前述のポリカーボネート共重合体で例示したものが使用できる。
【００３８】
また、炭酸エステル化合物としては、ジフェニルカーボネート等のジアリールカーボネートやジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のジアルキルカーボネート等が挙げられる。分子量調節剤としては通常、ポリカーボネートの重合に用いられるものなら、各種のものを用いることができる。具体的には、一価フェノールとして、例えば、フェノール、ｏ−ｎ−ブチルフェノール、ｍ−ｎ−ブチルフェノール、ｐ−ｎ−ブチルフェノール等、前述のポリカーボネート共重合体で例示したものが用いられる。一価フェノールのなかでは、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−フェニルフェノール等が好ましく用いられる。
【００３９】
その他、分岐剤として、前述のポリカーボネート共重合体同様、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；α，α'，α"−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４'−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α'，α'−ビス（４"−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；フロログリシン、トリメリト酸、イサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物を用いることもできる。
【００４０】
本発明において用いられる一般ＰＣは、通常、粘度平均分子量が１０，０００〜１００，０００のものが好ましく、より好ましくは１３，０００〜４０，０００である。一般ＰＣとしては、前述で説明したもの、あるいは市販品を用いることができる。
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂に含有される高流動ＰＣ（ａ−１）、ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ａ−２）及び一般ＰＣ（ａ−３）の混合割合（ａ−１）：（ａ−２）：（ａ−３）は、質量比で好ましくは１〜１００：９９〜０：９９〜０であり、より好ましくは１０〜９０：９０〜１０：８０〜０、更に好ましくは２０〜６０：８０〜１０：７０〜１０である。
【００４１】
［（ｂ）白色顔料］
（ｂ）白色顔料には、様々なものを用いることができる。具体的には、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、硫化亜鉛、鉛白等が挙げられる。これらの中では、着色力が優れている酸化チタンが好ましい。酸化チタンとしては、ルチル型及びアナターゼ型のいずれであってもよいが、熱安定性，耐候性に優れるルチル型を用いるのが好ましい。酸化チタンは、各種表面処理剤で処理し、その表面を被覆すると効果的である。その処理剤としては、水和アルミ、シリカ、亜鉛等が通常用いられる。その他、酸化チタンの樹脂中での分散性を向上させるために、シリコーンオイルやポリオール等を用いることもできる。
【００４２】
［（ｃ）タルク］
本発明において無機充填剤として、アルカリ中和処理及びシランカップリング表面処理されたタルクを使用する。
前述したように、通常のタルクはアルカリ性であり、ポリカーボネート系樹脂を加水分解させる。このため、ポリカーボネート系樹脂の分子量劣化に伴う機械特性の低下をもたらす。本発明では、タルクを事前に酸によりアルカリ中和処理を施したものを適用することで、この問題が解決される。また、この中和処理による分子量劣化の抑制により、本発明において（ｂ）白色顔料と（ｃ）タルクの無機粒子を高濃度に配合できる。
また、本発明に用いられるタルクは、アルカリ中和処理後にシランカップリング表面処理を施したものを使用する。このシランカップリング表面処理により、樹脂界面との密着強度の向上による機械特性の向上、微量に残留するアルカリ金属イオンの溶出分の抑制に有効である。
シランカップリング表面処理に用いられるカップリング剤としては、アミノ変性シラン、カルボキシ変性シラン、アクリル変性シラン、エポキシ変性シランなどが挙げられ、何れも好適に利用できる。
【００４３】
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物において、（ａ）〜（ｃ）成分合計量１００質量部における（ａ）成分：（ｂ）：（ｃ）成分の質量比は、９１〜４０：４〜４０：４〜２０であり、好ましくは８０〜５０：１０〜３０：１０〜２０である。
（ａ）成分の質量比を９１以下とすることにより、酸化チタンやタルクの含有量が確保され、十分な光線反射率、遮光性、熱伝導性（放熱性）、機械特性（剛性）、寸法安定性を発現することができ、また、４０以上とすることにより、十分な成形流動性を確保することができる。
（ｂ）成分の質量比を４以上とすることにより、光線反射率、遮光性が向上し、４０以下とすることにより、溶融混練時での配合の困難や、機械特性（耐衝撃性）の低下が小さくなる。
（ｃ）成分の質量比を４以上とすることにより、機械特性（剛性）や寸法安定性が向上し、４０以下とすることにより、機械特性（耐衝撃性）の低下が小さくなる。
【００４４】
［（ｄ）オルガノポリシロキサン］
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物には、（ｄ）オルガノポリシロキサンを配合することができる。
（ｄ）オルガノポリシロキサンとしては、アルキル水素シリコーン及びアルコキシシリコーンが好適に用いられ、例えば、東レ・ダウコーニング社製のＳＨ１１０７、ＳＲ２４０２、ＢＹ１６−１６０、ＢＹ１６−１６１、ＢＹ１６−１６０Ｅ、ＢＹ１６−１６１Ｅを挙げることができる。
（ｄ）オルガノポリシロキサンとして、アルコキシシリコーンが、シリコーン主鎖に対してメチレン基を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するオルガノポリシロキサンであるもの（ＢＹ１６−１６１）が、特に好適に用いられる。
（ｄ）成分の含有量は、（ａ）〜（ｃ）成分の合計量１００質量部に対して、０．０１〜３質量部配合することが好ましく、更に好ましくは０．０５〜３質量部、より好ましく０．１〜２質量部、特には好ましくは０．４〜２質量部である。
（ｄ）オルガノポリシロキサンを０．０１質量部以上配合することにより、（ａ）ポリカーボネート樹脂が劣化して分子量が低下するのを抑制することができ、３質量部以下とすることにより、成形体表面にシルバーが発生して製品外観を低下させるおそれがない。
【００４５】
［（ｅ）難燃剤］
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物には、（ｅ）難燃剤を配合することができる。（ｅ）成分には特に制限はなく、リン系、金属塩系、シリコーン系等の難燃剤を使用することができるが、ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体が好適に使用される。
ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体の好ましい具体例としては、（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子４０〜９０質量部の存在下に、（Ｙ）多官能性単量体（ｙ−１）１００〜５０質量％及びその他の共重合可能な単量体（ｙ−２）０〜５０質量％からなるビニル系単量体０．５〜１０質量部を重合し、さらに（Ｚ）その他のビニル系単量体５〜５０質量部を重合して得られたものが挙げられる。〔但し、（Ｘ）、（Ｙ）及び（Ｚ）の合計量が１００質量部とする〕
【００４６】
（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子は、光散乱法または電子顕微鏡観察から求められる数平均粒子径が、好ましくは０．００８〜０．６μｍ、さらに好ましくは０．０１〜０．２μｍ、特に好ましくは０．０１〜０．１５μｍである。該数平均粒子径が０．００８μｍ未満のものをうることは困難な傾向にあり、０．６μｍを超える場合には、難燃性が悪くなる傾向にある。
また、（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子のトルエン不溶分量（該粒子０．５ｇをトルエン８０ｍｌに室温で２４時間浸漬した場合のトルエン不溶分量）が９５％以下、さらには５０％以下、特には２０％以下であるものが難燃性、耐衝撃性の点から好ましい。
【００４７】
多官能性単量体（ｙ−１）は、分子内に重合性不飽和結合を２つ以上含む化合物であり、具体例として、メタクリル酸アリル、シアヌル酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル、フタル酸ジアリル、ジメタクリル酸エチレングリコール、ジメタクリル酸１，３−ブチレングリコール、ジビニルベンゼン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく２種以上を併用してもよい。これらの中では、経済性および効果の点で、メタクリル酸アリルの使用が好ましい。
【００４８】
その他の共重合可能な単量体（ｙ−２）の具体例としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、パラメチルスチレン、パラブチルスチレン等の芳香族ビニル系単量体、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル系単量体、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸エステル系単量体、イタコン酸、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸等のカルボキシル基含有ビニル系単量体等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく２種以上を併用してもよい。
【００４９】
（Ｚ）その他のビニル系単量体は、ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体を得るために使用される成分であり、さらに該グラフト共重合体を芳香族ポリカーボネート樹脂に配合して難燃性及び耐衝撃性を改良する場合に、グラフト共重合体と芳香族ポリカーボネート樹脂との相溶性を確保して芳香族ポリカーボネート樹脂にグラフト共重合体を均一に分散させるために使用される成分でもある。
このため、（Ｚ）その他のビニル系単量体としては、該ビニル系単量体の重合体の溶解度パラメーターが、好ましくは９．１５〜１０．１５［（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2］であり、より好ましくは９．１７〜１０．１０［（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2］、特に好ましくは９．２０〜１０．０５［（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2］である。溶解度パラメーターが前記範囲にあると難燃性が向上する。かかる溶解度パラメーターの詳細については、特開２００３−２３８６３９号公報に記載されている。
【００５０】
（ｅ）成分の平均粒子径は、電子顕微鏡観察から求めた値で０．１〜１μｍで分散可能であることが好ましい。この平均粒子径が１μｍより大きいと、十分な難燃性、剛性及び衝撃強度が得られず、０．１μｍより小さいと、衝撃強度の向上が不十分となる。
（ｅ）成分の配合量は、（ａ）〜（ｃ）成分の合計量１００質量部に対して、通常０．１〜５質量部程度、好ましくは０．２〜４質量部、より好ましくは０．４〜３質量部である。０．１質量部以上とすることにより、難燃性や衝撃強度が得られ、５質量部以下とすることにより難燃性や剛性が低下しない。
但し、（ｅ）成分は、難燃性レベルの要求に応じて無配合とすることが可能である。（ｅ）成分が無配合であっても、（ｃ）タルクの配合量が１０質量部程度を超えると、試験片の厚みにもよるが、ＵＬ規格に定められた難燃性を確保することができる。
【００５１】
［その他］
また、本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物には、必要に応じて、リン系安定剤、ポリテトラフルオロエチレン及び各種添加剤を配合することができる。
リン系安定剤は、製造時または成形加工時の熱安定性を向上させ、機械的特性、色相および成形安定性を向上させる。かかるリン系安定剤としては、リン酸系化合物及び／又は芳香族ホスフィン化合物が挙げられる。
【００５２】
リン酸系化合物としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸及びこれらのエステル等が挙げられ、具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキシレニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、４，４'−ビフェニレンジホスホスフィン酸テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、下記の化合物１〜１０等が挙げられる。
【００５３】
【化９】
【００５４】
【化１０】
【００５５】
【化１１】
【００５６】
【化１２】
【００５７】
【化１３】
【００５８】
【化１４】
【００５９】
【化１５】
【００６０】
【化１６】
【００６１】
【化１７】
【００６２】
【化１８】
【００６３】
これらの中で、上記化合物１、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（ＡＤＥＫＡ社製、商品名：ＰＥＰ−３６）及びトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（チバ・スペシャルティ・ケミカル社製、商品名：Ｉｒｇ１６８）が好ましい。
【００６４】
芳香族ホスフィン化合物としては、例えば、下記一般式（ＩＸ）
Ｐ−(Ｗ)3 （ＩＸ）
［式中、Ｗは、炭化水素基であり、少なくともその１つは置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基である。］
で表わされるアリールホスフィン化合物が挙げられる。
【００６５】
上記一般式（ＩＸ）のアリールホスフィン化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジフェニルオクタデシルホスフィン、トリス−（ｐ−トリル）ホスフィン、トリス−（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン、トリス−（ナフチル）ホスフィン、ジフェニル−（ヒドロキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（アセトキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（β−エチルカルボキシエチル）−ホスフィン、トリス−（ｐ−クロロフェニル）ホスフィン、トリス−（ｐ−フルオロフェニル）ホスフィン、ジフェニルベンジルホスフィン、ジフェニル−β−シアノエチルホスフィン、ジフェニル−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−ホスフィン、ジフェニル−１，４−ジヒドロキシフェニル−２−ホスフィン、フェニルナフチルベンジルホスフィン等が挙げられる。中でも、特にトリフェニルホスフィンを好適に用いることができる。
リン系安定剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６６】
本発明で用いられるリン系安定剤の配合量は、（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂１００質量部に対し、通常、０．００１〜１質量部、好ましくは０．００５〜０．５質量部、より好ましくは０．０１〜０．１質量部である。リン系安定剤の配合量が上記範囲内であると、成形時の熱安定性が向上する。
【００６７】
難燃性ポリカーボネート樹脂組成物に配合されるポリテトラフルオロエチレンは、フィブリル形成能を有するものであれば特に制限はない。ここで、フィブリル形成能とは、せん断力等の外的作用により、樹脂同士が結合して繊維状になる傾向を示すことをいう。
フィブリル形成能を有するポリテトラフルオロエチレンは、本発明の樹脂組成物に溶融滴下防止効果を付与し、優れた難燃性を発現させる。具体例としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン系共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体等）等を挙げることができる。これらの中では、ポリテトラフルオロエチレン（以下、「ＰＴＦＥ」ということがある）が好ましい。
【００６８】
フィブリル形成能を有するＰＴＦＥは、極めて高い分子量を有し、標準比重から求められる数平均分子量で、通常５０万以上、好ましくは５０万〜１５００万、より好ましく１００万〜１０００万である。かかるＰＴＦＥは、例えば、テトラフルオロエチレンを水性溶媒中で、ナトリウム、カリウムあるいはアンモニウムパーオキシジスルフィドの存在下で、７〜７００ｋＰａの圧力下、温度０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃で重合することによって得ることができる。かかるＰＴＦＥは、固体形状の他、水性分散液形態のものも使用可能である。
【００６９】
かかるフィブリル形成能を有するＰＴＦＥとしては、例えば、ＡＳＴＭ規格によりタイプ３に分類されるものを用いることができる。このタイプ３に分類される市販品としては、例えば、テフロン（登録商標）６−Ｊ（商品名、三井・デュポンフロロケミカル株式会社製）、ポリフロンＤ−１及びポリフロンＦ−１０３（商品名、ダイキン工業株式会社製）等が挙げられる。また、タイプ３以外では、アルゴフロンＦ５（商品名、モンテフルオス社製）及びポリフロンＭＰＡ ＦＡ−１００（商品名、ダイキン工業株式会社製）等が挙げられる。
ポリテトラフルオロエチレンは、単独で又は２種以上を組合せて使用することができる。
ポリテトラフルオロエチレンの配合量は、（ａ）成分と（ｂ）成分との合計１００質量部に対して、０．１〜０．５質量部程度であり、好ましくは０．２〜０．４質量部である。
【００７０】
難燃性ポリカーボネート樹脂組成物に配合される各種添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、エステル系等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系等の光安定剤、通常用いられる離型剤、帯電防止剤、蛍光増白剤等が挙げられ、これらを適宜含有させることができる。
【００７１】
［難燃性ポリカーボネート樹脂組成物及び光反射部材］
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物は、既知の種々の成形方法、例えば、射出成形、中空成形、押出成形、圧縮成形、カレンダー成形、回転成形等を適用して、種々の形状の成形体とすることができる。また、本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を用いて押出成形し、加熱成形又はプレス成形して、良好な成形体を得ることができる。
加熱成形の方法としては、具体的には予備成形体を加熱し、真空および／または圧縮空気の圧力で成形する方法を挙げることができる。ここで加熱の際は、予備成形体の片側又は両側のいずれからでもよく、熱源に直接接触させて加熱することもできる。このとき、加熱温度が１５０℃未満の場合は均一に成形できない場合があり、２００℃を越えると発泡が生じやすく、好ましくない。
熱成形の方法は、特に限定されないが、例えば、単純な真空成形法、ドレープホーミング法、マッチドダイ法、プレッシャーバブルプラグアシスト真空成形法、プラグアシスト法、真空スナップバック法、プレッシャーバブル真空スナップバック法、エアースリップホーミング、トラップドシート接触加熱−プレッシャーホーミング、単純圧空成形法等が挙げられる。
この成形時の圧力は、真空成形法の場合は０．１ＭＰａ以下、圧空成形法の場合は０．３〜０．８ＭＰａが好ましく、真空成形法と圧空成形法は組み合わせて行うことができる。この熱成形により光源のタイプ、個数に応じた形状、均質な面反射が可能な形状にすることができる。
この成形体は、機械特性（剛性）、放熱性（熱伝導性）耐熱性（寸法安定性）、や難燃性に優れるとともに、高い光線反射性、及び遮光性を有するものであり、液晶ディスプレイの光反射板等の成形品、あるいは光学素子等の分野の成形品や部品を製造するのに好適に使用することができる。
【００７２】
また、本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を異型押出成形することにより反射板とシャーシ機能を兼ね備えた成形体の製造も可能である。
さらには、このようにして得られた本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を、通常の成形方法、例えば、射出成形法や圧縮成形法等を用いて平面板又は曲面板に成形することにより、本発明の光反射部材が得られる。
この光反射部材は、例えば、照明装置用や液晶ディスプレイバックライト用等に好ましく用いられるが、特に液晶ディスプレイバックライト用反射板として好適である。本発明の光反射部材は、材料に臭素化合物を含有していないため、耐光性に優れ、長期間利用しても反射率の低下が少なく、良好な特性を示す等、従来にない優れた特性を備えたものである。さらに、本発明の光反射部材は、材料に臭素化合物を含有していないため、耐光性に優れ、長期間利用しても反射率の低下が少なく、良好な特性を示す等、従来にない優れた特性を備えたものである。
【実施例】
【００７３】
次に、本発明を実施例により、更に詳しく説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、各実施例及び比較例における性能評価は、下記の測定方法に従って行なった。
【００７４】
（１）機械特性
曲げ弾性率（剛性）；ＡＳＴＭ Ｄ７９０（測定条件２３℃）に準拠した。
Ｉｚｏｄ衝撃強さ（耐衝撃性）；ＡＳＴＭ Ｄ７９０（測定条件２３℃）に準拠した。
（２）光線反射率Ｙ
各実施例及び比較例で得られたペレットを、各々１２０℃で５時間熱風乾燥した後、成形機［住友重機械株式会社製，住友ネスタールＮ５１５／１５０］を用いて、３００℃の成形温度、８０℃の金型温度で、１４０ｍｍ×１４０ｍｍ×３．２ｍｍの反射率測定用の平板を作製した。
光線反射率は、ＬＣＭ分光光度計ＭＳ２０２０プラス（Ｍａｃｂｅｔｈ社製）によるＹ値で評価した。
【００７５】
（３）遮光性：全光線透過率（％）
成形機［住友重機械株式会社製，住友ネスタールＮ５１５／１５０］を用いて、３００℃の成形温度、８０℃の金型温度で、８０ｍｍ×８０ｍｍ×１．０ｍｍの全光線透過率測定用の平板を作製した。ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、日本電色工業社製の試験機により、平行光線透過率を測定した。
（４）放熱性（熱伝導性）
ＩＳ８０ＥＰＮ（８０ｔ）射出成形機を用い、表に示す樹脂温度及び金型温度で、各実施例及び比較例で得られたペレットからなる６０ｍｍ×６０ｍｍ×厚さ２ｍｍの角板成形品を成形し、熱伝導率測定装置ＴＰＡ−５０１（京都電子工業株式会社製）を用いてホットディスク法スラブモードにて熱伝導係数を測定した。
【００７６】
（５）耐熱性（耐熱寸法安定性）
１．６ｍｍ厚みのＵＬ規格の試験片を使用し、９０℃で４８０時間保持後の試験片の長手方向の寸法変化を測定し、初期寸法に対する変化率（％）を算出した。
（６）難燃性評価試験
各実施例及び比較例で得られたペレットを、各々１２０℃で５時間熱風乾燥した後、住友重機械株式会社製、ネスタールＮ５１５／１５０を用いて、成形温度３００℃、金型温度８０℃で、１２７ｍｍ×１２ｍｍ×１ｍｍ厚さの燃焼試験用試験片を作製した。作製した試験片はＵＬ９４準拠の難燃性試験〔難燃性：ＵＬ９４Ｖ-０（厚み１．６ｍｍｔ）準拠試験〕により評価した。
なお、ＵＬ９４とは、鉛直に保持した所定の大きさの試験片にバーナーの炎を１０秒間接炎した後の残炎時間から難燃性を評価する方法であり、Ｖ−０試験合格の場合を○、Ｖ−０試験不合格の場合を×とした。
【００７７】
＜製造例＞
〈共重合コモノマーの製造例１〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００〕
窒素下でポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝２０００）１００質量部とｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル１６．７質量部をジブチル錫オキシド０．０５質量部の存在下、２１０℃で加熱し、メタノールを留去した。
反応系内を減圧にし、過剰のｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルを留去した。反応生成物を塩化メチレンに溶解後、この塩化メチレン溶液に８質量％炭酸水素ナトリウム水溶液を加え２０分間激しく混合後、遠心分離により塩化メチレン相を採取した。塩化メチレン相を減圧下で濃縮し、ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）を得た。高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によりｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルを定量した結果、ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ未満、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．２質量％であった。
なお、ＨＰＬＣ測定方法は、ＧＬサイエンス社製ＯＤＳ−３カラムを用い、カラム温度４０℃、０．５％リン酸水溶液とアセトニトリルの１：２混合溶媒、流速１．０ｍＬ／分の条件で測定した。定量は標品による検量線を元に算出した。
【００７８】
〈共重合コモノマーの製造例２〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝１０００〕
ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝１０００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル３３．４質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ未満、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．３質量％であった。
【００７９】
〈共重合コモノマーの製造例３〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝６００〕
ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝６００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル５０質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ未満、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．２質量％であった。
【００８０】
〈共重合コモノマーの製造例４〉
〔ポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＥＧ鎖の平均分子量＝１０００〕
ポリテトラエチレングリコール（ＰＴＥＧ、Ｍｎ＝１０００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル３３．４質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ未満、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．３質量％であった。
【００８１】
〈ポリカーボネートオリゴマー溶液の製造〉
５．６質量％水酸化ナトリウム水溶液に、後から溶解するビスフェノールＡ（ＢＰＡ）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％になるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレン１５Ｌ／ｈｒの流量で、ホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。管型反応器を出た反応液は後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入され、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液０．０７Ｌ／ｈｒ、水１７Ｌ／ｈｒ、１質量％トリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒで添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは、濃度３２９g／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７４ｍｏｌ／Ｌであった。
【００８２】
〈高流動共重合ＰＣ:ＰＣＣ１の製造〉
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン８．９Ｌ、前記で製造したポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）３２５ｇ（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）及びトリエチルアミン８．７ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１７１０ｇを加え１０分間、ポリカーボネートオリゴマーとポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ２２５ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ６１７ｇと亜二チオン酸ナトリウム１．９ｇを水９．０Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ９３０ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を実施した。
希釈のため塩化メチレン１５Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネートを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
【００８３】
こうして得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１００℃で乾燥した。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は４．０質量％であった。
ＩＳＯ １６２８−４（１９９９）に準拠して測定した（以下、同様に粘度数を測定）粘度数は３８．１（Ｍｖ＝１３５００）であった。
【００８４】
〈高流動共重合ＰＣ:ＰＣＣ２の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）３２５ｇ（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）をポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）１６３ｇ（ＰＴＥＧ鎖の平均分子量＝１０００）に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は２．０質量％であった。
粘度数は３８．０（Ｍｖ＝１３５００）であった。
【００８５】
〈高流動共重合ＰＣ:ＰＣＣ３の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）の添加量を８１３ｇに、ＰＴＢＰの使用量を２４６ｇに、乾燥温度を１００℃から８０℃に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は１０．７質量％であった。
粘度数は３５．６（Ｍｖ＝１２４００）であった。
【００８６】
〈高流動共重合ＰＣ:ＰＣＣ４の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）３２５ｇを、ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝６００）８１３ｇに、ＰＴＢＰの使用量を、２１３ｇに、乾燥温度を、８０℃に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は９．９質量％であった。
粘度数は３９．６（Ｍｖ＝１４２００）であった。
【００８７】
〈ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ(ＰＣ-ＰＤＭＳ)：ＰＣＣ５の製造〉
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン８．９Ｌ、ジメチルシラノオキシ単位の繰返し数が９０であるアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳ６２５ｇ及びトリエチルアミン８．７ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１３９０ｇを加え１０分間、ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ＰＴＢＰの塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１７２ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５６６ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．２ｇを水８．３Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ１１１６ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を実施した。
希釈のため塩化メチレン１５Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネートを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
【００８８】
こうして得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。
ＮＭＲにより求めたＰＤＭＳ残基の量は１０．０質量％であった。
粘度数は４１．５（Ｍｖ＝１５０００）であった。
【００８９】
実施例１〜１６及び比較例１〜６
下記の原料を第１表〜第３表に示した質量部で配合し、ベント付き二軸押出成形機（東芝機械株式会社製、機種名：ＴＥＭ３５）によって、温度２８０℃で混練し、ペレット化した。得られたペレットを前記の方法によって性能評価し、その結果を第１表〜第３表に示す。なお、比較例６は混練不能で、性能評価ができなかった。
【００９０】
（ａ）成分：芳香族ポリカーボネート樹脂
（ａ−１）成分：高流動共重合ＰＣ、ＰＣＣ１〜４（製造例により製造したもの）
（ａ−２）成分：ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ＰＣ−ＰＤＭＳ）
タフロンＦＣ１７００
（出光興産株式会社製、Ｍｖ＝１７５００、ＰＤＭＳ含有量３．５質量％）
ＰＣＣ５（製造例により製造したもの）
（ａ−３）成分：ポリカーボネート樹脂（一般ＰＣ）
タフロンＦＮ１７００（出光興産株式会社製、Ｍｖ＝１７５００）
（ｂ）成分：酸化チタン粉末
ＰＦ７２６（石原産業株式会社製、商品名：ＰＦ７２６、平均粒径０．２１μｍ）
ＰＣ３（石原産業株式会社製、商品名：ＰＣ３、平均粒径０．２１μｍ）
（ｃ）成分：タルク
１３Ｔ（Ｂ）；アミノ変性シランカップリング剤表面処理品
１３Ｔ（Ｃ）；ビニル変性シランカップリング剤表面処理品
１３Ｔ（Ｄ）；エポキシシ変性ランカップリング剤表面処理品
（上記、何れも、浅田製粉（株）製：アルカリ中和処理品）
ＴＰ−Ａ２５〔富士タルク（株）製、比較用〕
（ｄ）成分：オルガノポリシロキサン
ＢＹ−１６−１６１（東レ・ダウコーニング（株）製、商品名）
（ｅ）成分：難燃剤：ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体
ＭＲ−０１（株式会社カネカ製、商品名）
ＫＦＢＳ（有機金属系難燃剤）
難燃化助剤：ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）
ＰＴＦＥ（旭硝子株式会社製、商品名：ＣＤ０７６）
【００９１】
【表１】
【００９２】
【表２】
【００９３】
【表３】
【００９４】
上記第１表〜第３表より、以下のことが判明した。
（１）各実施例に示されるように、本発明により、ポリカーボネート樹脂に、特定のタルクと酸化チタンを配合することにより、優れた光反射率、遮光性、放熱性、耐熱寸法安定性を有し、難燃性の優れたポリカーボネート樹脂組成物が得られる。
（２）本発明においては、特定のタルクを用いることによって、従来のタルクによるポリカーボネート系樹脂の加水分解劣化が抑制されるので、タルク及び酸化チタンの高濃度の配合が可能となり、例えば、実施例６〜８に示されるように、さらに優れた光線反射率および遮光性を有し、且つ、耐熱寸法安定性にも優れた光反射部材が得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、優れた耐熱性、難燃性を有し、成形品の光線反射率、遮光性、放熱性、機械特性（剛性）、寸法安定性にも優れるので、液晶ディスプレイバックライト等の部品（反射板・フレーム・ランプ支持体等、シャーシ一体化反射板）、一般照明装置用部品（ハウジング、反射板、フレーム等）、ＬＥＤ反射ケース、自動車等の操作パネルなど、光源から発する光の反射、遮光と難燃性を同時に要求される製品に好適に使用される。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネート樹脂組成物および光反射部材に関する。さらに詳しくは、優れた耐熱性、難燃性を有し、成形品の光線反射率、遮光性、放熱性、機械特性（剛性）、寸法安定性、成形性に優れたポリカーボネート樹脂組成物及び該組成物を成形してなる光線反射板及びその周辺部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年液晶ディスプレー（ＬＣＤ）の用途は、ノートパソコン、モニター、テレビへと拡大しており、特に、最近では液晶テレビにおいて、大型化、軽量化、薄型化の開発競争が著しい。それと共に高画質化が進み、ＬＣＤの照明装置であるバックライトも、より大型化、薄型化、軽量化のみならず、光源についてもＬＥＤ化が進み、さらに機械特性（剛性）、寸法安定性、放熱性に対する要求、即ち、耐熱寸法安定性への要求が高まっている。
【０００３】
優れた機械的性質を有しているポリカーボネート樹脂は、酸化チタン等の白色顔料を配合することにより、反射性能、遮光性能を高めて、広くこれら分野で使用されている。
一方、これら機器に使用される樹脂材料には、難燃性が必要であり、多数の難燃処方が開発されているが、特に成形用金型の腐食や環境への負荷を低減させる目的から、ハロゲン系、リン系難燃剤を含まないことが求められている。
また、大型化、薄型化、軽量化の開発動向に応えるために、光線反射性、遮光性、機械特性（剛性）、寸法安定性、放熱性（熱伝導性）などの要求を同時に満たすことがポリカーボネート樹脂に求められている。
【０００４】
高度の光反射性と難燃性を有し、良好な外観と寸法精度を有する成形品が得られるポリカーボネート樹脂組成物及び該難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる光線反射板及びその周辺部材に関する樹脂材料として、例えば、特許文献１には、（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂１００ 重量部に対し、（ｂ）酸化チタン３〜３０重量部、（ｃ）シリコーン系化合物０．１〜１０重量部、（ｄ）ポリテトラフルオロエチレン０．１〜１重量部、（ｅ）板状無機充填剤０．５〜１５重量部を含有することを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物が提案されている。
【０００５】
しかしながら、特許文献１では、（ｃ）成分に、シリカを基材としたシリコーン系化合物を用いているので、ハロゲン系化合物を含有することなく難燃性については、確保可能であるが、（ｅ）板状無機充填剤に用いられているタルクは、アルカリ性を呈するためにポリカーボネート系樹脂は加水分解するため、分子量劣化に伴う機械特性の低下をもたらし、タルクを高濃度に配合できないという問題がある。
【０００６】
このため、特許文献１においては、（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂１００ 重量部に対し、（ｂ）酸化チタンが３〜３０重量部、（ｅ）板状無機充填剤が０．５〜１５重量部に限定されることになり、光線反射率、遮光性、放熱性、機械特性（剛性）及び寸法安定性が十分満足できるものではない。
【特許文献１】特開２００５−１５６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような状況下でなされたもので、ハロゲンや燐を含有する難燃剤を使用せずに、高度の光反射性と難燃性を有し、良好な外観と光線反射率、遮光性、熱伝導性（放熱性）、機械特性（剛性）、寸法安定性を有する成形品が得られる難燃性ポリカーボネート樹脂組成物及び該ポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる光線反射板及びその周辺部材を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、芳香族ポリカーボネート樹脂に、特定の処理を行ったタルクを用い、白色顔料として酸化チタンを用いて、特定比率で含有させたポリカーボネート樹脂組成物が、上記の目的に沿うものであることを見出し、本発明に到達した。
【０００９】
すなわち本発明は、以下の芳香族リカーボネート樹脂組成物および光線反射部材を提供するものである。
１．（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂、（ｂ）白色顔料及び（ｃ）アルカリ中和処理及びシランカップリング表面処理されたタルクを含有し、（ａ）〜（ｃ）成分合計量１００質量部における（ａ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）成分の質量比が、９１〜４０：４〜４０：４〜２０であることを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
２．（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂が、高流動ポリカーボネート共重合体及び／又はポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含有する上記１の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
３．（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂が、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体を含有する上記２の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
４．（ｃ）成分のタルクのシランカップリング表面処理が、アミノ変性シラン、カルボキシ変性シラン、アクリル変性シラン、エポキシ変性シランより選ばれた少なくとも１種のシランカップリング表面処理である上記１又は２の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
５．（ａ）〜（ｃ）成分１００質量部に対して、（ｄ）オルガノポリシロキサン０．１〜３質量部及び（ｅ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体０．１〜５質量部を含有する上記１〜４のいずれかの難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
６．（ｄ）オルガノポリシロキサンが、アルキル水素シリコーン又はアルコキシシリコーンである、上記５の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
７．アルコキシシリコーンが、シリコーン主鎖に対してメチレン基を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するオルガノポリシロキサンである上記６の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
８．（ｅ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体が、（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子４０〜９０質量部の存在下に、（Ｙ）多官能性単量体（ｙ−１）１００〜５０質量％及びその他の共重合可能な単量体（ｙ−２）０〜５０質量％からなるビニル系単量体０．５〜１０質量部を重合し、さらに（Ｚ）その他のビニル系単量体５〜５０質量部を重合して得られたものである〔但し、（Ｘ）、（Ｙ）及び（Ｚ）の合計量が１００質量部とする〕上記５の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
９．上記１〜８のいずれかの難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を成形加工して得られる光反射部材。
【発明の効果】
【００１０】
本発明においては、独自の酸化チタンの安定化技術に基く特定のタルクを用いることにより、従来のタルクによるポリカーボネート系樹脂の加水分解劣化が抑制されるので、タルク及び酸化チタンの高濃度の配合が可能となる。
その結果、ポリカーボネート樹脂組成物において、ハロゲン系難燃剤、金属塩系の難燃促進剤を含有させることなく、難燃性を確保し、さらには、高いレベルの光線反射率、遮光性、熱伝導性（放熱性）、機械特性（剛性）、寸法安定性を発現することができるので、高い光線反射性能と剛性を要求する構造部品や、発熱の大きいＬＥＤを光源とする反射基材、反射部材などの耐熱寸法安定性を要求する分野で広く使用可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
[（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂]
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物における（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂は、高流動ポリカーボネート共重合体（ａ−１：高流動共重合ＰＣとも云う）、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（ａ−２：ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣとも云う）および一般の芳香族ポリカーボネート樹脂（ａ−３：一般ＰＣとも云う）のポリカーボネート系樹脂を任意の組合せで混合することで、成形品の形状、成形方法に合わせて任意の成形流動性、機械物性、耐熱性に調整することができる。
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物における（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂として、高流動共重合ＰＣ（ａ−１）及び／又はポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ａ−２）を含有させることにより、（ｂ）成分のタルク配合による機械特性（耐衝撃性）の低下の影響を少なくするので、好適に利用できる。
中でも、ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ａ−２）としてポリジメチルシロキサン共重合ポリカーボネート樹脂(ＰＣ-ＰＤＭＳとも云う)が、（ｂ）成分のタルク配合による機械特性（耐衝撃性）の低下を改善するのに好適に利用できる。
【００１２】
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂に用いられる高流動共重合ＰＣ（ａ−１）は、フェノール変性ジオール共重合ポリカーボネートであり、界面重合法と呼ばれる慣用の製造方法により製造することができる。すなわち、二価フェノール、フェノール変性ジオール及びホスゲン等のカーボネート前駆体を反応させる方法により製造することができる。具体的には、例えば、塩化メチレン等の不活性溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、さらに必要により触媒や分岐剤を添加し、二価フェノール、フェノール変性ジオール及びホスゲン等のカーボネート前駆体を反応させる。
【００１３】
高流動共重合ＰＣ（ａ−１）は、下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）
【化１】
で表される繰り返し単位を有する。
一般式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、ａ、ｂ及びＸについては、下記一般式（Ｉａ）と併せて説明する。また、一般式（ＩＩ）中、Ｒ3、Ｒ4、ｃ、ｄ、ｎ及びＹについては、後述する一般式（ＩＩａ）と併せて説明する。
【００１４】
高流動共重合ＰＣの製造に用いる二価フェノールとしては、下記一般式（Ｉａ）
【化２】
で表される化合物を挙げることができる。
【００１５】
一般式（Ｉａ）において、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基を示し、アルキル基は直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよい。アルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。ａ及びｂは、それぞれＲ1及びＲ2の置換数を示し、０〜４の整数である。なお、Ｒ1が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ2が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。
【００１６】
Ｘは単結合、炭素数１〜８のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチリレン基、ヘキシレン基等）、炭素数２〜８のアルキリデン基（例えば、エチリデン基、イソプロピリデン基等）、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基（例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等）、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基（例えば、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基等）、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合又は下記式(ＩＩＩ）もしくは下記式(ＩＶ）
【化３】
で表される基を示す。
【００１７】
上記一般式（Ｉａ）で表される二価フェノールとしては、様々なものがあるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［通称：ビスフェノールＡ］が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノールとしては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−１−メチルフェニル）プロパン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラメチルフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラクロロフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラブロモフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、４，４'−ジヒドロキシフェニルエーテル；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホン；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類、４，４'−ジヒロキシジフェニル等のジヒドロキシジフェニル類、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン；９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等のジヒドロキシジアリールフルオレン類、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等のジヒドロキシジアリールアダマンタン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタエン等が挙げられる。これらの二価フェノールは、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
【００１８】
分子量調節剤としては通常、ポリカーボネート樹脂の重合に用いられるものであれば、各種のものを用いることができる。具体的には、一価フェノールとして、例えば、フェノール、ｏ−ｎ−ブチルフェノール、ｍ−ｎ−ブチルフェノール、ｐ−ｎ−ブチルフェノール、ｏ−イソブチルフェノール、ｍ−イソブチルフェノール、ｐ−イソブチルフェノール、ｏ−ｔ−ブチルフェノール、ｍ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｏ−ｎ−ペンチルフェノール、ｍ−ｎ−ペンチルフェノール、ｐ−ｎ−ペンチルフェノール、ｏ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｍ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｐ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｐ−ｔ−オクチルフェノール、ｏ−シクロヘキシルフェノール、ｍ−シクロヘキシルフェノール、ｐ−シクロヘキシルフェノール、ｏ−フェニルフェノール、ｍ−フェニルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｏ−ｎ−ノニルフェノール、ｍ−ノニルフェノール、ｐ−ｎ−ノニルフェノール、ｏ−クミルフェノール、ｍ−クミルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｏ−ナフチルフェノール、ｍ−ナフチルフェノール、ｐ−ナフチルフェノール；２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール；２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール；３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール；２，５−ジクミルフェノール；３，５−ジクミルフェノール；ｐ−クレゾール、ブロモフェノール、トリブロモフェノール、平均炭素数１２〜３５の直鎖状又は分岐状のアルキル基をオルト位、メタ位又はパラ位に有するモノアルキルフェノール；９−（４−ヒドロキシフェニル）−９−（４−メトキシフェニル）フルオレン；９−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−９−（４−メトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン；４−（１−アダマンチル）フェノール等が挙げられる。これらの一価フェノールのなかでは、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−フェニルフェノール等が好ましく用いられる。
【００１９】
触媒としては、相間移動触媒、例えば、三級アミン又はその塩、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩等を好ましく用いることができる。三級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン等が挙げられる。また、三級アミン塩としては、例えば、これらの三級アミンの塩酸塩、臭素酸塩等が挙げられる。四級アンモニウム塩としては、例えば、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリブチルベンジルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド等が、四級ホスホニウム塩としては、例えば、テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムブロミド等が挙げられる。これらの触媒は、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記触媒の中では、三級アミンが好ましく、特にトリエチルアミンが好適である。
【００２０】
不活性有機溶剤としては、各種のものがある。例えば、ジクロロメタン（塩化メチレン）；トリクロロメタン；四塩化炭素；１，１−ジクロロエタン；１，２−ジクロロエタン；１，１，１−トリクロロエタン；１，１，２−トリクロロエタン；１，１，１，２−テトラクロロエタン；１，１，２，２−テトラクロロエタン；ペンタクロロエタン；クロロベンゼン等の塩素化炭化水素や、トルエン、アセトフェノン等が挙げられる。これらの有機溶剤はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよい。これらの中では、特に塩化メチレンが好適である。
【００２１】
分岐剤として、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；α，α'，α"−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４'−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α'，α'−ビス（４"−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール；フロログリシン、トリメリト酸、イサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物；フロログリシン、トリメリト酸、イサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物を用いることもできる。
【００２２】
高流動共重合ＰＣの製造に用いるフェノール変性ジオールは、下記一般式（ＩＩａ）
【化４】
で表されるフェノール変性ジオールである。
【００２３】
一般式（ＩＩａ）において、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基を示し、アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。Ｒ3が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ4が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。Ｙは、炭素数２〜１５の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、アルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基及びイソペンチレン基等のアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基及びイソペンチリデン基等のアルキリデン基が挙げられる。ｃ及びｄは０〜４の整数であり、ｎは２〜２００の整数である。ｎは、好ましくは６〜７０である。
【００２４】
上記一般式（ＩＩａ）で表されるフェノール変性ジオールは、例えば、ヒドロキシ安息香酸又はそのアルキルエステル、酸塩化物とポリエーテルジオールから誘導される化合物である。このフェノール変性ジオールは、特開昭６２−７９２２２号公報、特開昭６０−７９０７２号公報、特開２００２−１７３４６５号公報等で提案されている方法により合成がすることができるが、これらの方法により得られるフェノール変性ジオールに対し適宜精製を加えることが望ましい。精製方法としては、例えば、反応後段で系内を減圧にし、過剰の原料（例えば、パラヒドロキシ安息香酸）を留去する方法、フェノール変性ジオールを水又はアルカリ水溶液（例えば、炭酸水素ナトリウム水溶液）等で洗浄する方法等が望ましい。
【００２５】
ヒドロキシ安息香酸アルキルエステルとしては、ヒドロキシ安息香酸メチルエステル、ヒドロキシ安息香酸エチルエステル等が代表例である。ポリエーテルジオールは、ＨＯ−（Ｙ−Ｏ）ｎ−Ｈ（Ｙ及びｎは前記と同じである。）で表され、炭素数２〜１５の直鎖状又は分岐状のオキシアルキレン基からなる繰返し単位を有するものである。具体的には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。入手性及び疎水性の観点からポリテトラメチレングリコールが特に好ましい。ポリエーテルジオールのオキシアルキレン基の繰返し数ｎは２〜２００、好ましくは６〜７０である。ｎが２以上であると、フェノール変性ジオールを共重合する際の効率が高く、ｎが２００以下であると、（ａ−１）ポリカーボネート共重合体の耐熱性の低下が小さいという利点がある。
【００２６】
酸塩化物としては、ヒドロキシ安息香酸とホスゲンから得られるものが代表例である。より具体的には、特許２６５２７０７号公報等に記載の方法により得ることができる。ヒドロキシ安息香酸又はそのアルキルエステルはパラ体、メタ体、オルト体のいずれでも良いが、共重合反応の面からはパラ体が好ましい。オルト体は水酸基に対する立体障害のため共重合の反応性に劣るおそれがある。
【００２７】
高流動共重合ＰＣの製造工程において、フェノール変性ジオールは、その変質等を防ぐため、可能な限り塩化メチレン溶液として用いるのが好ましい。塩化メチレン溶液として用いることができない場合、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液として用いることができる。
高流動共重合ＰＣの製造工程において、フェノール変性ジオールの共重合量を増やせば流動性は改善されるが耐熱性が低下する。従って、フェノール変性ジオールの共重合量は所望の流動性と耐熱性のバランスにより選択することが好ましい。フェノール変性ジオール共重合量が多すぎると、特開昭６２−７９２２２号公報に示されているように、エラストマー状となり、一般のポリカーボネート樹脂と同様の用途への適用ができなくなるおそれがある。１００℃以上の耐熱性を保持するには、高流動共重合ＰＣ（ａ−１）ポリカーボネート共重合体中に含まれるフェノール変性ジオール残基の量は、１〜３０質量％であり、好ましくは１〜２０質量％、より好ましくは１〜１５質量％である。
【００２８】
高流動共重合ＰＣは、粘度数が３０〜７１［Ｍｖ（粘度平均分子量）＝１０，０００〜２８，１００に相当］であり、好ましくは３４〜６２（Ｍｖ＝１２，０００〜２４，１００に相当）である。粘度数が３０以上であると機械物性が良好であり、粘度数が７１以下であると、フェノール変性ジオール（コモノマー）の共重合効果が良好に発揮される。
また、高流動性を発現させようとすると多量のコモノマーが必要となるが、粘度数が７１以下であると、コモノマーの使用量に対して耐熱性が大きく低下することがない。なお、粘度数は、ＩＳＯ １６２８−４（１９９９）に準拠して測定した値である。
【００２９】
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂に用いられるポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ａ−２）としては、様々なものがあるが、好ましくは、下記一般式（Ｖ）
【化５】
［式中、Ｒ5及びＲ6は、それぞれハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素、沃素）又は炭素数１〜８のアルキル基であり、ｅ及びｆは、それぞれ０〜４の整数である。Ｒ5が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ6が複数ある場合、互いに同一でも異なっていてもよい。そして、Ｚは、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基又は−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−結合、単結合もしくは下記一般式（ＶＩ）
【００３０】
【化６】
で表される基を示す。］
で表される構造を有する繰り返し単位を有するポリカーボネート部と、下記一般式（ＶＩＩ）
【００３１】
【化７】
［式中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基であり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、ｇ及びｈは、それぞれ０又は１以上の整数である。］
で表わされる繰返し単位を有するポリオルガノシロキサン部とからなるものである。
このポリオルガノシロキサン部の重合度は、５〜１０００が好ましく、より好ましくは２０〜３００であるものが、難燃性、成形品の外観の点から好ましい。ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣは、上記一般式（Ｖ）で表わされる繰返し単位を有するポリカーボネート部と、上記一般式(ＶＩＩ)で表わされる繰返し単位を有するポリオルガノシロキサン部とからなるブロック共重合体であって、粘度平均分子量１０,０００〜５０,０００、好ましくは１５,０００〜３５,０００のものである。また、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のｎ−ヘキサン可溶分が１.０質量％以下であることが好ましい。
このポリオルガノシロキサン共重合ＰＣは、難燃性の観点からポリオルガノシロキサン部の含有量は好ましくは０．１〜１０質量％であり、更に好ましくは０．５〜５質量％である。
【００３２】
このポリオルガノシロキサン共重合ＰＣは、例えば、予め製造されたポリカーボネート部を構成するポリカーボネートオリゴマー（ＰＣオリゴマー）と、ポリオルガノシロキサン部を構成する、末端に反応性基を有するポリオルガノシロキサン［例えば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリジエチルシロキサン等のポリジアルキルシロキサンあるいはポリメチルフェニルシロキサン等］とを、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等の溶媒に溶解させ、ビスフェノールの水酸化ナトリウム水溶液を加え、触媒としてトリエチルアミンやトリメチルベンジルアンモニウムクロライド等を用い、界面反応することにより製造することができる。また、特公昭４４−３０１０８号公報や特公昭４５−２０５１０号公報に記載された方法によって製造されたポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を用いることもできる。
【００３３】
ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣとして用いられる一般式（Ｖ）で表わされる繰返し単位を有するポリカーボネートオリゴマーは、溶剤法、すなわち、塩化メチレン等の溶剤中で公知の酸受容体、分子量調節剤の存在下、一般式(ＶＩＩＩ)
【００３４】
【化８】
［式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｅ及びｆは、前記と同じである。］
で表わされる二価フェノールとホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応又は二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体とのエステル交換反応によって製造することができる。上記一般式(ＶＩＩＩ)で表わされる二価フェノールとしては様々なものがあるが、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔所謂ビスフェノールＡ〕が好ましい。また、ビスフェノールＡの一部又は全部を他の二価フェノールで置換したものであってもよい。ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン、ハイドロキノン；４，４’−ジヒドロキシジフェニル；ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド；ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトンのような化合物又はビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンのようなハロゲン化ビスフェノール類等を挙げることができる。
【００３５】
ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣの製造に供されるポリカーボネートオリゴマーは、これらの二価フェノール１種を用いたホモポリマーであってもよく、また２種以上を用いたコポリマーであってもよい。さらに、多官能性芳香族化合物を上記二価フェノールと併用して得られる熱可塑性ランダム分岐ポリカーボネートであってもよい。なお、ｎ−ヘキサン可溶分が１.０質量％以下のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を製造するには、例えば、共重合体中のポリオルガノシロキサン含有率を１０質量％以下にするとともに、上記一般式(ＶＩＩ)で表わされる繰返し単位の数が５以上のものを用い、かつ第３級アミン等の触媒を５.３×１０-3モル／（ｋｇ・オリゴマー）以上用いて上記共重合を行うことが好ましい。
【００３６】
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂に用いられる一般ＰＣ（ａ−３）は、慣用された製造方法、すなわち、通常、二価フェノールとホスゲンまたは炭酸エステル化合物等のポリカーボネート前駆体とを反応させることにより製造したものを挙げることができる。具体的には、例えば、塩化メチレン等の溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、さらに必要により分岐剤を添加し、二価フェノールとホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応により、あるいは二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体とのエステル交換反応等によって製造されたものである。
【００３７】
一般ＰＣの製造に用いられる二価フェノールとしては、様々なものがあるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔通称：ビスフェノールＡ〕が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノールとしては、例えば、前述のポリカーボネート共重合体で例示したものが使用できる。
【００３８】
また、炭酸エステル化合物としては、ジフェニルカーボネート等のジアリールカーボネートやジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のジアルキルカーボネート等が挙げられる。分子量調節剤としては通常、ポリカーボネートの重合に用いられるものなら、各種のものを用いることができる。具体的には、一価フェノールとして、例えば、フェノール、ｏ−ｎ−ブチルフェノール、ｍ−ｎ−ブチルフェノール、ｐ−ｎ−ブチルフェノール等、前述のポリカーボネート共重合体で例示したものが用いられる。一価フェノールのなかでは、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−フェニルフェノール等が好ましく用いられる。
【００３９】
その他、分岐剤として、前述のポリカーボネート共重合体同様、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；α，α'，α"−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４'−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α'，α'−ビス（４"−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；フロログリシン、トリメリト酸、イサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物を用いることもできる。
【００４０】
本発明において用いられる一般ＰＣは、通常、粘度平均分子量が１０，０００〜１００，０００のものが好ましく、より好ましくは１３，０００〜４０，０００である。一般ＰＣとしては、前述で説明したもの、あるいは市販品を用いることができる。
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂に含有される高流動ＰＣ（ａ−１）、ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ａ−２）及び一般ＰＣ（ａ−３）の混合割合（ａ−１）：（ａ−２）：（ａ−３）は、質量比で好ましくは１〜１００：９９〜０：９９〜０であり、より好ましくは１０〜９０：９０〜１０：８０〜０、更に好ましくは２０〜６０：８０〜１０：７０〜１０である。
【００４１】
［（ｂ）白色顔料］
（ｂ）白色顔料には、様々なものを用いることができる。具体的には、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、硫化亜鉛、鉛白等が挙げられる。これらの中では、着色力が優れている酸化チタンが好ましい。酸化チタンとしては、ルチル型及びアナターゼ型のいずれであってもよいが、熱安定性，耐候性に優れるルチル型を用いるのが好ましい。酸化チタンは、各種表面処理剤で処理し、その表面を被覆すると効果的である。その処理剤としては、水和アルミ、シリカ、亜鉛等が通常用いられる。その他、酸化チタンの樹脂中での分散性を向上させるために、シリコーンオイルやポリオール等を用いることもできる。
【００４２】
［（ｃ）タルク］
本発明において無機充填剤として、アルカリ中和処理及びシランカップリング表面処理されたタルクを使用する。
前述したように、通常のタルクはアルカリ性であり、ポリカーボネート系樹脂を加水分解させる。このため、ポリカーボネート系樹脂の分子量劣化に伴う機械特性の低下をもたらす。本発明では、タルクを事前に酸によりアルカリ中和処理を施したものを適用することで、この問題が解決される。また、この中和処理による分子量劣化の抑制により、本発明において（ｂ）白色顔料と（ｃ）タルクの無機粒子を高濃度に配合できる。
また、本発明に用いられるタルクは、アルカリ中和処理後にシランカップリング表面処理を施したものを使用する。このシランカップリング表面処理により、樹脂界面との密着強度の向上による機械特性の向上、微量に残留するアルカリ金属イオンの溶出分の抑制に有効である。
シランカップリング表面処理に用いられるカップリング剤としては、アミノ変性シラン、カルボキシ変性シラン、アクリル変性シラン、エポキシ変性シランなどが挙げられ、何れも好適に利用できる。
【００４３】
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物において、（ａ）〜（ｃ）成分合計量１００質量部における（ａ）成分：（ｂ）：（ｃ）成分の質量比は、９１〜４０：４〜４０：４〜２０であり、好ましくは８０〜５０：１０〜３０：１０〜２０である。
（ａ）成分の質量比を９１以下とすることにより、酸化チタンやタルクの含有量が確保され、十分な光線反射率、遮光性、熱伝導性（放熱性）、機械特性（剛性）、寸法安定性を発現することができ、また、４０以上とすることにより、十分な成形流動性を確保することができる。
（ｂ）成分の質量比を４以上とすることにより、光線反射率、遮光性が向上し、４０以下とすることにより、溶融混練時での配合の困難や、機械特性（耐衝撃性）の低下が小さくなる。
（ｃ）成分の質量比を４以上とすることにより、機械特性（剛性）や寸法安定性が向上し、４０以下とすることにより、機械特性（耐衝撃性）の低下が小さくなる。
【００４４】
［（ｄ）オルガノポリシロキサン］
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物には、（ｄ）オルガノポリシロキサンを配合することができる。
（ｄ）オルガノポリシロキサンとしては、アルキル水素シリコーン及びアルコキシシリコーンが好適に用いられ、例えば、東レ・ダウコーニング社製のＳＨ１１０７、ＳＲ２４０２、ＢＹ１６−１６０、ＢＹ１６−１６１、ＢＹ１６−１６０Ｅ、ＢＹ１６−１６１Ｅを挙げることができる。
（ｄ）オルガノポリシロキサンとして、アルコキシシリコーンが、シリコーン主鎖に対してメチレン基を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するオルガノポリシロキサンであるもの（ＢＹ１６−１６１）が、特に好適に用いられる。
（ｄ）成分の含有量は、（ａ）〜（ｃ）成分の合計量１００質量部に対して、０．０１〜３質量部配合することが好ましく、更に好ましくは０．０５〜３質量部、より好ましく０．１〜２質量部、特には好ましくは０．４〜２質量部である。
（ｄ）オルガノポリシロキサンを０．０１質量部以上配合することにより、（ａ）ポリカーボネート樹脂が劣化して分子量が低下するのを抑制することができ、３質量部以下とすることにより、成形体表面にシルバーが発生して製品外観を低下させるおそれがない。
【００４５】
［（ｅ）難燃剤］
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物には、（ｅ）難燃剤を配合することができる。（ｅ）成分には特に制限はなく、リン系、金属塩系、シリコーン系等の難燃剤を使用することができるが、ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体が好適に使用される。
ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体の好ましい具体例としては、（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子４０〜９０質量部の存在下に、（Ｙ）多官能性単量体（ｙ−１）１００〜５０質量％及びその他の共重合可能な単量体（ｙ−２）０〜５０質量％からなるビニル系単量体０．５〜１０質量部を重合し、さらに（Ｚ）その他のビニル系単量体５〜５０質量部を重合して得られたものが挙げられる。〔但し、（Ｘ）、（Ｙ）及び（Ｚ）の合計量が１００質量部とする〕
【００４６】
（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子は、光散乱法または電子顕微鏡観察から求められる数平均粒子径が、好ましくは０．００８〜０．６μｍ、さらに好ましくは０．０１〜０．２μｍ、特に好ましくは０．０１〜０．１５μｍである。該数平均粒子径が０．００８μｍ未満のものをうることは困難な傾向にあり、０．６μｍを超える場合には、難燃性が悪くなる傾向にある。
また、（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子のトルエン不溶分量（該粒子０．５ｇをトルエン８０ｍｌに室温で２４時間浸漬した場合のトルエン不溶分量）が９５％以下、さらには５０％以下、特には２０％以下であるものが難燃性、耐衝撃性の点から好ましい。
【００４７】
多官能性単量体（ｙ−１）は、分子内に重合性不飽和結合を２つ以上含む化合物であり、具体例として、メタクリル酸アリル、シアヌル酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル、フタル酸ジアリル、ジメタクリル酸エチレングリコール、ジメタクリル酸１，３−ブチレングリコール、ジビニルベンゼン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく２種以上を併用してもよい。これらの中では、経済性および効果の点で、メタクリル酸アリルの使用が好ましい。
【００４８】
その他の共重合可能な単量体（ｙ−２）の具体例としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、パラメチルスチレン、パラブチルスチレン等の芳香族ビニル系単量体、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル系単量体、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸エステル系単量体、イタコン酸、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸等のカルボキシル基含有ビニル系単量体等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく２種以上を併用してもよい。
【００４９】
（Ｚ）その他のビニル系単量体は、ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体を得るために使用される成分であり、さらに該グラフト共重合体を芳香族ポリカーボネート樹脂に配合して難燃性及び耐衝撃性を改良する場合に、グラフト共重合体と芳香族ポリカーボネート樹脂との相溶性を確保して芳香族ポリカーボネート樹脂にグラフト共重合体を均一に分散させるために使用される成分でもある。
このため、（Ｚ）その他のビニル系単量体としては、該ビニル系単量体の重合体の溶解度パラメーターが、好ましくは９．１５〜１０．１５［（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2］であり、より好ましくは９．１７〜１０．１０［（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2］、特に好ましくは９．２０〜１０．０５［（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2］である。溶解度パラメーターが前記範囲にあると難燃性が向上する。かかる溶解度パラメーターの詳細については、特開２００３−２３８６３９号公報に記載されている。
【００５０】
（ｅ）成分の平均粒子径は、電子顕微鏡観察から求めた値で０．１〜１μｍで分散可能であることが好ましい。この平均粒子径が１μｍより大きいと、十分な難燃性、剛性及び衝撃強度が得られず、０．１μｍより小さいと、衝撃強度の向上が不十分となる。
（ｅ）成分の配合量は、（ａ）〜（ｃ）成分の合計量１００質量部に対して、通常０．１〜５質量部程度、好ましくは０．２〜４質量部、より好ましくは０．４〜３質量部である。０．１質量部以上とすることにより、難燃性や衝撃強度が得られ、５質量部以下とすることにより難燃性や剛性が低下しない。
但し、（ｅ）成分は、難燃性レベルの要求に応じて無配合とすることが可能である。（ｅ）成分が無配合であっても、（ｃ）タルクの配合量が１０質量部程度を超えると、試験片の厚みにもよるが、ＵＬ規格に定められた難燃性を確保することができる。
【００５１】
［その他］
また、本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物には、必要に応じて、リン系安定剤、ポリテトラフルオロエチレン及び各種添加剤を配合することができる。
リン系安定剤は、製造時または成形加工時の熱安定性を向上させ、機械的特性、色相および成形安定性を向上させる。かかるリン系安定剤としては、リン酸系化合物及び／又は芳香族ホスフィン化合物が挙げられる。
【００５２】
リン酸系化合物としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸及びこれらのエステル等が挙げられ、具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキシレニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、４，４'−ビフェニレンジホスホスフィン酸テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、下記の化合物１〜１０等が挙げられる。
【００５３】
【化９】
【００５４】
【化１０】
【００５５】
【化１１】
【００５６】
【化１２】
【００５７】
【化１３】
【００５８】
【化１４】
【００５９】
【化１５】
【００６０】
【化１６】
【００６１】
【化１７】
【００６２】
【化１８】
【００６３】
これらの中で、上記化合物１、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（ＡＤＥＫＡ社製、商品名：ＰＥＰ−３６）及びトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（チバ・スペシャルティ・ケミカル社製、商品名：Ｉｒｇ１６８）が好ましい。
【００６４】
芳香族ホスフィン化合物としては、例えば、下記一般式（ＩＸ）
Ｐ−(Ｗ)3 （ＩＸ）
［式中、Ｗは、炭化水素基であり、少なくともその１つは置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基である。］
で表わされるアリールホスフィン化合物が挙げられる。
【００６５】
上記一般式（ＩＸ）のアリールホスフィン化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジフェニルオクタデシルホスフィン、トリス−（ｐ−トリル）ホスフィン、トリス−（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン、トリス−（ナフチル）ホスフィン、ジフェニル−（ヒドロキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（アセトキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（β−エチルカルボキシエチル）−ホスフィン、トリス−（ｐ−クロロフェニル）ホスフィン、トリス−（ｐ−フルオロフェニル）ホスフィン、ジフェニルベンジルホスフィン、ジフェニル−β−シアノエチルホスフィン、ジフェニル−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−ホスフィン、ジフェニル−１，４−ジヒドロキシフェニル−２−ホスフィン、フェニルナフチルベンジルホスフィン等が挙げられる。中でも、特にトリフェニルホスフィンを好適に用いることができる。
リン系安定剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６６】
本発明で用いられるリン系安定剤の配合量は、（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂１００質量部に対し、通常、０．００１〜１質量部、好ましくは０．００５〜０．５質量部、より好ましくは０．０１〜０．１質量部である。リン系安定剤の配合量が上記範囲内であると、成形時の熱安定性が向上する。
【００６７】
難燃性ポリカーボネート樹脂組成物に配合されるポリテトラフルオロエチレンは、フィブリル形成能を有するものであれば特に制限はない。ここで、フィブリル形成能とは、せん断力等の外的作用により、樹脂同士が結合して繊維状になる傾向を示すことをいう。
フィブリル形成能を有するポリテトラフルオロエチレンは、本発明の樹脂組成物に溶融滴下防止効果を付与し、優れた難燃性を発現させる。具体例としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン系共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体等）等を挙げることができる。これらの中では、ポリテトラフルオロエチレン（以下、「ＰＴＦＥ」ということがある）が好ましい。
【００６８】
フィブリル形成能を有するＰＴＦＥは、極めて高い分子量を有し、標準比重から求められる数平均分子量で、通常５０万以上、好ましくは５０万〜１５００万、より好ましく１００万〜１０００万である。かかるＰＴＦＥは、例えば、テトラフルオロエチレンを水性溶媒中で、ナトリウム、カリウムあるいはアンモニウムパーオキシジスルフィドの存在下で、７〜７００ｋＰａの圧力下、温度０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃で重合することによって得ることができる。かかるＰＴＦＥは、固体形状の他、水性分散液形態のものも使用可能である。
【００６９】
かかるフィブリル形成能を有するＰＴＦＥとしては、例えば、ＡＳＴＭ規格によりタイプ３に分類されるものを用いることができる。このタイプ３に分類される市販品としては、例えば、テフロン（登録商標）６−Ｊ（商品名、三井・デュポンフロロケミカル株式会社製）、ポリフロンＤ−１及びポリフロンＦ−１０３（商品名、ダイキン工業株式会社製）等が挙げられる。また、タイプ３以外では、アルゴフロンＦ５（商品名、モンテフルオス社製）及びポリフロンＭＰＡ ＦＡ−１００（商品名、ダイキン工業株式会社製）等が挙げられる。
ポリテトラフルオロエチレンは、単独で又は２種以上を組合せて使用することができる。
ポリテトラフルオロエチレンの配合量は、（ａ）成分と（ｂ）成分との合計１００質量部に対して、０．１〜０．５質量部程度であり、好ましくは０．２〜０．４質量部である。
【００７０】
難燃性ポリカーボネート樹脂組成物に配合される各種添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、エステル系等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系等の光安定剤、通常用いられる離型剤、帯電防止剤、蛍光増白剤等が挙げられ、これらを適宜含有させることができる。
【００７１】
［難燃性ポリカーボネート樹脂組成物及び光反射部材］
本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物は、既知の種々の成形方法、例えば、射出成形、中空成形、押出成形、圧縮成形、カレンダー成形、回転成形等を適用して、種々の形状の成形体とすることができる。また、本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を用いて押出成形し、加熱成形又はプレス成形して、良好な成形体を得ることができる。
加熱成形の方法としては、具体的には予備成形体を加熱し、真空および／または圧縮空気の圧力で成形する方法を挙げることができる。ここで加熱の際は、予備成形体の片側又は両側のいずれからでもよく、熱源に直接接触させて加熱することもできる。このとき、加熱温度が１５０℃未満の場合は均一に成形できない場合があり、２００℃を越えると発泡が生じやすく、好ましくない。
熱成形の方法は、特に限定されないが、例えば、単純な真空成形法、ドレープホーミング法、マッチドダイ法、プレッシャーバブルプラグアシスト真空成形法、プラグアシスト法、真空スナップバック法、プレッシャーバブル真空スナップバック法、エアースリップホーミング、トラップドシート接触加熱−プレッシャーホーミング、単純圧空成形法等が挙げられる。
この成形時の圧力は、真空成形法の場合は０．１ＭＰａ以下、圧空成形法の場合は０．３〜０．８ＭＰａが好ましく、真空成形法と圧空成形法は組み合わせて行うことができる。この熱成形により光源のタイプ、個数に応じた形状、均質な面反射が可能な形状にすることができる。
この成形体は、機械特性（剛性）、放熱性（熱伝導性）耐熱性（寸法安定性）、や難燃性に優れるとともに、高い光線反射性、及び遮光性を有するものであり、液晶ディスプレイの光反射板等の成形品、あるいは光学素子等の分野の成形品や部品を製造するのに好適に使用することができる。
【００７２】
また、本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を異型押出成形することにより反射板とシャーシ機能を兼ね備えた成形体の製造も可能である。
さらには、このようにして得られた本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を、通常の成形方法、例えば、射出成形法や圧縮成形法等を用いて平面板又は曲面板に成形することにより、本発明の光反射部材が得られる。
この光反射部材は、例えば、照明装置用や液晶ディスプレイバックライト用等に好ましく用いられるが、特に液晶ディスプレイバックライト用反射板として好適である。本発明の光反射部材は、材料に臭素化合物を含有していないため、耐光性に優れ、長期間利用しても反射率の低下が少なく、良好な特性を示す等、従来にない優れた特性を備えたものである。さらに、本発明の光反射部材は、材料に臭素化合物を含有していないため、耐光性に優れ、長期間利用しても反射率の低下が少なく、良好な特性を示す等、従来にない優れた特性を備えたものである。
【実施例】
【００７３】
次に、本発明を実施例により、更に詳しく説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、各実施例及び比較例における性能評価は、下記の測定方法に従って行なった。
【００７４】
（１）機械特性
曲げ弾性率（剛性）；ＡＳＴＭ Ｄ７９０（測定条件２３℃）に準拠した。
Ｉｚｏｄ衝撃強さ（耐衝撃性）；ＡＳＴＭ Ｄ７９０（測定条件２３℃）に準拠した。
（２）光線反射率Ｙ
各実施例及び比較例で得られたペレットを、各々１２０℃で５時間熱風乾燥した後、成形機［住友重機械株式会社製，住友ネスタールＮ５１５／１５０］を用いて、３００℃の成形温度、８０℃の金型温度で、１４０ｍｍ×１４０ｍｍ×３．２ｍｍの反射率測定用の平板を作製した。
光線反射率は、ＬＣＭ分光光度計ＭＳ２０２０プラス（Ｍａｃｂｅｔｈ社製）によるＹ値で評価した。
【００７５】
（３）遮光性：全光線透過率（％）
成形機［住友重機械株式会社製，住友ネスタールＮ５１５／１５０］を用いて、３００℃の成形温度、８０℃の金型温度で、８０ｍｍ×８０ｍｍ×１．０ｍｍの全光線透過率測定用の平板を作製した。ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、日本電色工業社製の試験機により、平行光線透過率を測定した。
（４）放熱性（熱伝導性）
ＩＳ８０ＥＰＮ（８０ｔ）射出成形機を用い、表に示す樹脂温度及び金型温度で、各実施例及び比較例で得られたペレットからなる６０ｍｍ×６０ｍｍ×厚さ２ｍｍの角板成形品を成形し、熱伝導率測定装置ＴＰＡ−５０１（京都電子工業株式会社製）を用いてホットディスク法スラブモードにて熱伝導係数を測定した。
【００７６】
（５）耐熱性（耐熱寸法安定性）
１．６ｍｍ厚みのＵＬ規格の試験片を使用し、９０℃で４８０時間保持後の試験片の長手方向の寸法変化を測定し、初期寸法に対する変化率（％）を算出した。
（６）難燃性評価試験
各実施例及び比較例で得られたペレットを、各々１２０℃で５時間熱風乾燥した後、住友重機械株式会社製、ネスタールＮ５１５／１５０を用いて、成形温度３００℃、金型温度８０℃で、１２７ｍｍ×１２ｍｍ×１ｍｍ厚さの燃焼試験用試験片を作製した。作製した試験片はＵＬ９４準拠の難燃性試験〔難燃性：ＵＬ９４Ｖ-０（厚み１．６ｍｍｔ）準拠試験〕により評価した。
なお、ＵＬ９４とは、鉛直に保持した所定の大きさの試験片にバーナーの炎を１０秒間接炎した後の残炎時間から難燃性を評価する方法であり、Ｖ−０試験合格の場合を○、Ｖ−０試験不合格の場合を×とした。
【００７７】
＜製造例＞
〈共重合コモノマーの製造例１〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００〕
窒素下でポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝２０００）１００質量部とｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル１６．７質量部をジブチル錫オキシド０．０５質量部の存在下、２１０℃で加熱し、メタノールを留去した。
反応系内を減圧にし、過剰のｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルを留去した。反応生成物を塩化メチレンに溶解後、この塩化メチレン溶液に８質量％炭酸水素ナトリウム水溶液を加え２０分間激しく混合後、遠心分離により塩化メチレン相を採取した。塩化メチレン相を減圧下で濃縮し、ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）を得た。高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によりｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルを定量した結果、ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ未満、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．２質量％であった。
なお、ＨＰＬＣ測定方法は、ＧＬサイエンス社製ＯＤＳ−３カラムを用い、カラム温度４０℃、０．５％リン酸水溶液とアセトニトリルの１：２混合溶媒、流速１．０ｍＬ／分の条件で測定した。定量は標品による検量線を元に算出した。
【００７８】
〈共重合コモノマーの製造例２〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝１０００〕
ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝１０００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル３３．４質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ未満、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．３質量％であった。
【００７９】
〈共重合コモノマーの製造例３〉
〔ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝６００〕
ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ、Ｍｎ＝６００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル５０質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ未満、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．２質量％であった。
【００８０】
〈共重合コモノマーの製造例４〉
〔ポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の合成：ＰＴＥＧ鎖の平均分子量＝１０００〕
ポリテトラエチレングリコール（ＰＴＥＧ、Ｍｎ＝１０００）１００質量部、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル３３．４質量部とした以外は製造例１と同様に行った。
ｐ−ヒドロキシ安息香酸は１０質量ｐｐｍ未満、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルは０．３質量％であった。
【００８１】
〈ポリカーボネートオリゴマー溶液の製造〉
５．６質量％水酸化ナトリウム水溶液に、後から溶解するビスフェノールＡ（ＢＰＡ）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％になるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレン１５Ｌ／ｈｒの流量で、ホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。管型反応器を出た反応液は後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入され、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液０．０７Ｌ／ｈｒ、水１７Ｌ／ｈｒ、１質量％トリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒで添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは、濃度３２９g／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７４ｍｏｌ／Ｌであった。
【００８２】
〈高流動共重合ＰＣ:ＰＣＣ１の製造〉
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン８．９Ｌ、前記で製造したポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）３２５ｇ（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）及びトリエチルアミン８．７ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１７１０ｇを加え１０分間、ポリカーボネートオリゴマーとポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）の反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ２２５ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ６１７ｇと亜二チオン酸ナトリウム１．９ｇを水９．０Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ９３０ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を実施した。
希釈のため塩化メチレン１５Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネートを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
【００８３】
こうして得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１００℃で乾燥した。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は４．０質量％であった。
ＩＳＯ １６２８−４（１９９９）に準拠して測定した（以下、同様に粘度数を測定）粘度数は３８．１（Ｍｖ＝１３５００）であった。
【００８４】
〈高流動共重合ＰＣ:ＰＣＣ２の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）３２５ｇ（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）をポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）１６３ｇ（ＰＴＥＧ鎖の平均分子量＝１０００）に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は２．０質量％であった。
粘度数は３８．０（Ｍｖ＝１３５００）であった。
【００８５】
〈高流動共重合ＰＣ:ＰＣＣ３の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）の添加量を８１３ｇに、ＰＴＢＰの使用量を２４６ｇに、乾燥温度を１００℃から８０℃に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は１０．７質量％であった。
粘度数は３５．６（Ｍｖ＝１２４００）であった。
【００８６】
〈高流動共重合ＰＣ:ＰＣＣ４の製造〉
ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝２０００）３２５ｇを、ポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）（ＰＴＭＧ鎖の平均分子量＝６００）８１３ｇに、ＰＴＢＰの使用量を、２１３ｇに、乾燥温度を、８０℃に変更した以外はＰＣＣ１の製造と同様に行った。
ＮＭＲにより求めたポリテトラメチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）残基の量は９．９質量％であった。
粘度数は３９．６（Ｍｖ＝１４２００）であった。
【００８７】
〈ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ(ＰＣ-ＰＤＭＳ)：ＰＣＣ５の製造〉
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン８．９Ｌ、ジメチルシラノオキシ単位の繰返し数が９０であるアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳ６２５ｇ及びトリエチルアミン８．７ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１３９０ｇを加え１０分間、ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ＰＴＢＰの塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１７２ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５６６ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．２ｇを水８．３Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ１１１６ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を実施した。
希釈のため塩化メチレン１５Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネートを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
【００８８】
こうして得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。
ＮＭＲにより求めたＰＤＭＳ残基の量は１０．０質量％であった。
粘度数は４１．５（Ｍｖ＝１５０００）であった。
【００８９】
実施例１〜１６及び比較例１〜６
下記の原料を第１表〜第３表に示した質量部で配合し、ベント付き二軸押出成形機（東芝機械株式会社製、機種名：ＴＥＭ３５）によって、温度２８０℃で混練し、ペレット化した。得られたペレットを前記の方法によって性能評価し、その結果を第１表〜第３表に示す。なお、比較例６は混練不能で、性能評価ができなかった。
【００９０】
（ａ）成分：芳香族ポリカーボネート樹脂
（ａ−１）成分：高流動共重合ＰＣ、ＰＣＣ１〜４（製造例により製造したもの）
（ａ−２）成分：ポリオルガノシロキサン共重合ＰＣ（ＰＣ−ＰＤＭＳ）
タフロンＦＣ１７００
（出光興産株式会社製、Ｍｖ＝１７５００、ＰＤＭＳ含有量３．５質量％）
ＰＣＣ５（製造例により製造したもの）
（ａ−３）成分：ポリカーボネート樹脂（一般ＰＣ）
タフロンＦＮ１７００（出光興産株式会社製、Ｍｖ＝１７５００）
（ｂ）成分：酸化チタン粉末
ＰＦ７２６（石原産業株式会社製、商品名：ＰＦ７２６、平均粒径０．２１μｍ）
ＰＣ３（石原産業株式会社製、商品名：ＰＣ３、平均粒径０．２１μｍ）
（ｃ）成分：タルク
１３Ｔ（Ｂ）；アミノ変性シランカップリング剤表面処理品
１３Ｔ（Ｃ）；ビニル変性シランカップリング剤表面処理品
１３Ｔ（Ｄ）；エポキシシ変性ランカップリング剤表面処理品
（上記、何れも、浅田製粉（株）製：アルカリ中和処理品）
ＴＰ−Ａ２５〔富士タルク（株）製、比較用〕
（ｄ）成分：オルガノポリシロキサン
ＢＹ−１６−１６１（東レ・ダウコーニング（株）製、商品名）
（ｅ）成分：難燃剤：ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体
ＭＲ−０１（株式会社カネカ製、商品名）
ＫＦＢＳ（有機金属系難燃剤）
難燃化助剤：ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）
ＰＴＦＥ（旭硝子株式会社製、商品名：ＣＤ０７６）
【００９１】
【表１】
【００９２】
【表２】
【００９３】
【表３】
【００９４】
上記第１表〜第３表より、以下のことが判明した。
（１）各実施例に示されるように、本発明により、ポリカーボネート樹脂に、特定のタルクと酸化チタンを配合することにより、優れた光反射率、遮光性、放熱性、耐熱寸法安定性を有し、難燃性の優れたポリカーボネート樹脂組成物が得られる。
（２）本発明においては、特定のタルクを用いることによって、従来のタルクによるポリカーボネート系樹脂の加水分解劣化が抑制されるので、タルク及び酸化チタンの高濃度の配合が可能となり、例えば、実施例６〜８に示されるように、さらに優れた光線反射率および遮光性を有し、且つ、耐熱寸法安定性にも優れた光反射部材が得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、優れた耐熱性、難燃性を有し、成形品の光線反射率、遮光性、放熱性、機械特性（剛性）、寸法安定性にも優れるので、液晶ディスプレイバックライト等の部品（反射板・フレーム・ランプ支持体等、シャーシ一体化反射板）、一般照明装置用部品（ハウジング、反射板、フレーム等）、ＬＥＤ反射ケース、自動車等の操作パネルなど、光源から発する光の反射、遮光と難燃性を同時に要求される製品に好適に使用される。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂、（ｂ）白色顔料及び（ｃ）アルカリ中和処理及びシランカップリング表面処理されたタルクを含有し、（ａ）〜（ｃ）成分合計量１００質量部における（ａ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）成分の質量比が、９１〜４０：４〜４０：４〜２０であることを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項２】
（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂が、高流動ポリカーボネート共重合体及び／又はポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含有する請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項３】
（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂が、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体を含有する請求項２に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項４】
（ｃ）成分のタルクのシランカップリング表面処理が、アミノ変性シラン、カルボキシ変性シラン、アクリル変性シラン、エポキシ変性シランより選ばれた少なくとも１種のシランカップリング表面処理である請求項１〜３のいずれかに記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項５】
（ａ）〜（ｃ）成分１００質量部に対して、（ｄ）オルガノポリシロキサン０．１〜３質量部及び（ｅ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体０．１〜５質量部を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項６】
（ｄ）オルガノポリシロキサンが、アルキル水素シリコーン又はアルコキシシリコーンである、請求項５に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項７】
アルコキシシリコーンが、シリコーン主鎖に対してメチレン基を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するオルガノポリシロキサンである請求項６に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項８】
（ｅ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体が、（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子４０〜９０質量部の存在下に、（Ｙ）多官能性単量体（ｙ−１）１００〜５０質量％及びその他の共重合可能な単量体（ｙ−２）０〜５０質量％からなるビニル系単量体０．５〜１０質量部を重合し、さらに（Ｚ）その他のビニル系単量体５〜５０質量部を重合して得られたものである〔但し、（Ｘ）、（Ｙ）及び（Ｚ）の合計量が１００質量部とする〕請求項５に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を成形加工して得られる光反射部材。
【請求項１】
（ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂、（ｂ）白色顔料及び（ｃ）アルカリ中和処理及びシランカップリング表面処理されたタルクを含有し、（ａ）〜（ｃ）成分合計量１００質量部における（ａ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）成分の質量比が、９１〜４０：４〜４０：４〜２０であることを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項２】
（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂が、高流動ポリカーボネート共重合体及び／又はポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含有する請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項３】
（ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹脂が、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体を含有する請求項２に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項４】
（ｃ）成分のタルクのシランカップリング表面処理が、アミノ変性シラン、カルボキシ変性シラン、アクリル変性シラン、エポキシ変性シランより選ばれた少なくとも１種のシランカップリング表面処理である請求項１〜３のいずれかに記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項５】
（ａ）〜（ｃ）成分１００質量部に対して、（ｄ）オルガノポリシロキサン０．１〜３質量部及び（ｅ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体０．１〜５質量部を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項６】
（ｄ）オルガノポリシロキサンが、アルキル水素シリコーン又はアルコキシシリコーンである、請求項５に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項７】
アルコキシシリコーンが、シリコーン主鎖に対してメチレン基を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するオルガノポリシロキサンである請求項６に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項８】
（ｅ）ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体が、（Ｘ）ポリオルガノシロキサン粒子４０〜９０質量部の存在下に、（Ｙ）多官能性単量体（ｙ−１）１００〜５０質量％及びその他の共重合可能な単量体（ｙ−２）０〜５０質量％からなるビニル系単量体０．５〜１０質量部を重合し、さらに（Ｚ）その他のビニル系単量体５〜５０質量部を重合して得られたものである〔但し、（Ｘ）、（Ｙ）及び（Ｚ）の合計量が１００質量部とする〕請求項５に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物を成形加工して得られる光反射部材。
【公開番号】特開２００９−２８０７２５（Ｐ２００９−２８０７２５Ａ）
【公開日】平成２１年１２月３日（２００９．１２．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１３５４０３（Ｐ２００８−１３５４０３）
【出願日】平成２０年５月２３日（２００８．５．２３）
【出願人】（０００１８３６４６）出光興産株式会社 (2,069)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１２月３日（２００９．１２．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年５月２３日（２００８．５．２３）
【出願人】（０００１８３６４６）出光興産株式会社 (2,069)
【Ｆターム（参考）】
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