電気光学装置、およびその製造方法
【課題】有機ＥＬ表示装置等の電気光学装置の機能層の平坦性を確保して、表示特性を向上させる。
【解決手段】基板２０上に規則的に配置された画素電極２００と、画素電極２００の開口面を囲む２以上の材料層からなる隔壁３１４と、隔壁３１４で囲まれた領域内に滴下した液体材料を固化して形成された少なくとも発光層３２６を含む機能層３２２と、を備える電気光学装置であって、隔壁３１４が、第１の材料層３１１の上面を底部とし、第２の材料層３１２をパターニングして得られる面を側壁とする段差部３０２を有する。
【解決手段】基板２０上に規則的に配置された画素電極２００と、画素電極２００の開口面を囲む２以上の材料層からなる隔壁３１４と、隔壁３１４で囲まれた領域内に滴下した液体材料を固化して形成された少なくとも発光層３２６を含む機能層３２２と、を備える電気光学装置であって、隔壁３１４が、第１の材料層３１１の上面を底部とし、第２の材料層３１２をパターニングして得られる面を側壁とする段差部３０２を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の電気光学装置とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と称する。）表示装置の製造工程では、基板上にマトリクス状に配置されている各々の画素電極上に、発光層等の機能層を複数回形成する必要がある。そして当該工程に用いる手法として、上記機能層形成材料を溶質とする液体材料（以下、「液材」と称する。）の液滴を上記画像素電極上に滴下して、溶媒を乾燥除去して固化するインクジェット法が有力とされている。
インクジェット法では、各々の画素電極を区画する隔壁を上記液滴が乗り越えないことと、上記隔壁と上記画素電極の境界近傍における上記液滴のつきまわりの確保と、の両立が必要となる。そこで隔壁を、有機材料からなる上部隔壁と無機材料からなる下部隔壁とを階段状に積層して、２層構造にする手法が提案されている（特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−３３４７８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上述する構造の隔壁では、滴下された液滴が乾燥する工程において、画素周辺部における液滴の保持力が不足するため、画素電極上に形成される乾燥後の機能層の平坦性が低下し得るという課題があった。本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、機能層の平坦性を確保して、表示特性を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置は、基板上に規則的に配置された画素電極と、上記画素電極の開口面を囲む２以上の材料層からなる隔壁と、上記隔壁で囲まれた領域内に滴下した液体材料を固化して形成された少なくとも発光層を含む機能層と、を備える電気光学装置であって、上記隔壁が、第１の材料層の上面を底部とし、第２の材料層をパターニングして得られる面を側壁とする段差部を有することを特徴とする。
隔壁に段差部を設けることで、滴下後の液体材料を隔壁の方向に吸引でき、中央部に凝集しようとする働きを緩和できる。したがって、平坦な機能層が形成でき、表示性能、すなわち電気特性および寿命特性が向上した電気光学装置を得ることができる。
【０００６】
好ましくは、上記第１の材料層および上記第２の材料層が無機材料からなることを特徴とする。
無機材料は親液性を有するため、滴下後の液滴を隔壁の方向に一層強く吸引できる。したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【０００７】
また、好ましくは、上記隔壁が、上記第２の材料層の上層に、有機材料からなる第３の材料層をさらに有することを特徴とする。
有機材料は撥液性を付与できるため、滴下した液滴が隣接する画素電極の開口面に移動することを抑制できる。したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【０００８】
また、好ましくは、上記段差部の外周の形状が、多角形であることを特徴とする。
かかる構成により、上記段差部の周辺長を増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向に一層強く吸引できる。したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【０００９】
また、好ましくは、上記段差部の外周の形状に、内角が１８０度を超えている部分があることを特徴とする。
かかる構成により、上記段差部の周辺長をより一層増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向により一層強く吸引できる。したがって、表示性能がより一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【００１０】
また、好ましくは、上記段差部の外周の形状が、不規則な直線および／または曲線を連続した部分を有することを特徴とする。
かかる構成により、上記段差部の周辺長をより一層増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向により一層強く吸引できる。したがって、表示性能がより一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【００１１】
また、本発明にかかる電気光学装置は有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする。
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は機能層膜厚の均一性により表示性能が左右されるので、上述する構成により表示性能を向上させることができる。
【００１２】
本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、基板上に画素電極を規則的に配置する工程と、上記基板上に無機材料からなる第１の材料層を形成する工程と、上記第１の材料層の上層に無機材料からなる第２の材料層を形成する工程と、上記第１の材料層と上記第２の材料層を、双方の層の境界面に段差が生じるようにパターニングして、上記画素電極の周辺を囲む隔壁を形成する工程と、上記隔壁で囲まれた上記画素電極上に機能層形成材料を溶質とする液体材料の液滴を滴下する工程と、を含むことを特徴とする。
かかる製造方法によれば、上記画像素電極上に滴下した液滴を上記段差部で保持できるので、平坦な機能層を形成でき、表示性能の優れた電気光学装置を得ることができる。
【００１３】
好ましくは、上記第１の材料層、および上記第２の材料層をパターニングした後に、上記基板上に有機材料からなる第３の材料層を形成する工程と、上記第３の材料層を、平面形状が上記第２の材料層と略同一となるようにパターニングする工程と、をさらに含むことを特徴とする。
かかる製造方法によれば、上記画像素電極上に滴下した液滴が隣接する画素電極上に
流出することを抑制できるので、表示性能がより一層優れた電気光学装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。本発明は隔壁内に液滴を滴下した後に溶媒を乾燥除去することで機能層を形成する工程を有する電気光学装置に対応するものであり、特に有機ＥＬ表示装置に対応するものである。そこで、まず図１および図２を用いて、後述する従来例および各実施形態において共通するアクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置の構成について説明する。
【００１５】
図１は、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置の全体構成を示す回路構成図である。画像表示領域１０には、複数の走査線１０２と、走査線１０２と直交する複数の信号線１０４と、信号線１０４と平行に延びる複数の電源供給線１０６とが形成され、走査線１０２と信号線１０４との各々の交点近傍には、画素領域１００が形成されている。
【００１６】
さらに、各々の画素領域１００には、走査線１０２を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ１０８と、スイッチング用ＴＦＴ１０８を介して信号線１０４から供給される画素信号を保持する保持容量１１０と、保持容量１１０によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１１２と、駆動用ＴＦＴ１１２を介して電源供給線１０６から駆動電流が流れ込む発光素子１１４が形成されている。後述するように、発光素子１１４は画素電極である陽極と、画像表示領域１０の全範囲にわたって共通電位となる陰極とでＥＬ層を含む機能層を狭持しており、上記駆動電流は陽極に供給される。
【００１７】
画像表示領域１０の周辺には、走査線駆動回路１２０、及び信号線駆動回路１３０が形成されている。走査線１０２には、走査線駆動回路１２０から、図示しない外部回路より供給される各種信号に応じて走査信号が順次供給される。そして、信号線１０４には信号線駆動回路１３０から画像信号が供給され、電源供給線１０６には図示しない外部回路から画素駆動電流が供給される。なお、走査線駆動回路１２０の動作と信号線駆動回路１３０の動作とは、同期信号線１４０を介して外部回路から供給される同期信号により相互に同期が図られている。
【００１８】
走査線１０２が駆動されスイッチング用ＴＦＴ１０８がオン状態になると、その時点の信号線１０４の電位が保持容量１１０に保持され、保持容量１１０の状態に応じて駆動用ＴＦＴ１１２のレベルが決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１１２を介して電源供給線１０６から陽極に駆動電流が流れ、さらに機能層を介して陰極に駆動電流が流れる。その結果、機能層は駆動電流の大きさに応じて発光する。
【００１９】
次に、図２を用いて、画素領域１００の構成について説明する。図２は、基板上における、画素領域１００を構成する各要素を示す平面構成図である。
スイッチング用ＴＦＴ１０８は、走査線１０２から突き出した第１のゲート電極２０２と、方形にパターニングされた第１の半導体層２２１と、からなる。第１の半導体層２２１は、第１のチャネル領域２０４と、その両側の第１のソース領域２０６および第１のドレイン領域２０８と、からなる。そして第１のチャネル領域２０４は、第１のゲート電極２０２と対向している。
【００２０】
駆動用ＴＦＴ１１２は、容量電極から突き出した第２のゲート電極２１２と、方形にパターニングされた第２の半導体層２２２と、からなる。第２の半導体層２２２は、第２のチャネル領域２１４と、その両側の第２のソース領域２１６および第２のドレイン領域２１８と、からなる。そして第２のチャネル領域２１４は、第２のゲート電極２１２と対向している。
【００２１】
スイッチング用ＴＦＴ１０８の、第１のドレイン領域２０８は第１のコンタクトホール２１を介して信号線１０４と導通し、第１のソース領域２０６は第２のコンタクトホール２２を介してソース電極２３２と導通している。そして、ソース電極２３２は、第３のコンタクトホール２３を介して第２のゲート電極２１２と導通するとともに、第４のコンタクトホール２４を介して保持容量１１０の一方の電極層と導通している。
【００２２】
保持容量１１０のもう一方の電極層は、第１の半導体層２２１と同一の層をパターニングして形成され、第５のコンタクトホール２５を介して電源供給線１０６と導通している。
【００２３】
第２のソース領域２１６は第６のコンタクトホール２６を介して電源供給線１０６の突出部分と導通している。第２のドレイン領域２１８は第７のコンタクトホール２７を介してドレイン電極２３４と導通し、ドレイン電極２３４と画素電極２００は第８のコンタクトホール２８を介して導通している。
【００２４】
本実施形態の有機ＥＬ装置はボトムエミッション方式である。基板は透光性材料からなり、画素電極２００はＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）等の導電性透光材料で形成される。そして図３以降で示すように、後述する隔壁３１４で画素の開口部３００が形成されている。そして隔壁３１４で囲まれる凹部内には、発光層としての有機ＥＬ材料を含む機能層がインクジェット法により形成され、画素の開口部３００を介して光を出射してる。
【００２５】
上述したように隔壁の断面形状は上記機能層の形成時に大きく影響する。本発明は隔壁の断面形状を工夫して機能層の均一化を目指すものである。具体的には、隔壁３１４を２層以上の材料層で形成し、画素電極上に形成される第１の材料層と、その上層に形成される第２の材料層とを別個にパターニングすることで、段差部３０２を形成している。以下、従来の有機ＥＬ表示装置の機能層の形成、及び本発明の実施形態における機能層の形成について、図２に示すＡ―Ａ´線における断面図を用いて述べる。
【００２６】
図３は、従来の有機ＥＬ表示装置の隔壁の構成と機能層の形成手順等を示す模式断面図である。まず図３（ａ）に示すように、基板２０上に第１の層間膜３１５、および第２の層間膜３１６を介して画素電極２００を形成し、当該画素電極の周囲を囲む隔壁３１４を形成する。従来の有機ＥＬ表示装置の隔壁３１４は、下層の酸化シリコン等の無機材料層３１０と、上層のポリイミド層３１３の２層構造となっている。隔壁形成後、ＣＦ4等のフッ素原子を含んだガスによるプラズマでプラズマ処理を行い、上層のポリイミド層３１３に撥液性を付与する。
【００２７】
次に、図３（ｂ）に示すように、隔壁３１４で囲まれている画素電極２００上にインクジェット装置の液滴ノズル（以下、「ノズル」と称する。）３２０から機能層形成材料を溶質とする液滴３２１を滴下する。滴下された液滴３２１は、ポリイミド層３１３の側壁部に達する。
【００２８】
次に図３（ｃ）に示すように、滴下された機能液３２１から溶媒を乾燥除去して機能層３２２を形成する。当該機能層は膜厚が均一であることが好ましい。しかし、隔壁３１４の上層であるポリイミド層３１３は撥液性が付与されているため、滴下された機能液３２１を保持する力が不足している。その結果、画素電極２００上に形成される機能層３２２は中央が盛り上がるような形状となり、膜厚の均一性が劣化し得る。そこで本発明の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置およびその製造方法は、隔壁３１４に段差部３０２（図４等参照）を形成することで、機能層の膜厚の均一性を向上させている。
（第１の実施形態）
【００２９】
本発明の第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の隔壁の構成、および機能層の形成過程を、図４〜７により説明する。図４〜６は本実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す模式断面図であり、図２のＡ―Ａ´線における断面を示すものである。そして図７は、隔壁３１４形成後の画素電極２００およびその周辺の上面図である。
【００３０】
まず図４（ａ）に示すように、基板２０上に、第１の層間膜３１５および第２の層間膜３１６を介して画素電極２００を形成する。そして、画素電極２００を形成後の基板２０上に、第１の無機材料層としての酸化シリコン層３１１および第２の無機材料層としての窒化シリコン層３１２を形成する。
【００３１】
次に図４（ｂ）に示すように、画素電極２００を囲む領域に第１のレジスト層３４６を形成し、当該レジストで覆われていない領域の窒化シリコン層３１２を選択的にエッチングして除去する。
【００３２】
次に図４（ｃ）に示すように、第１のレジスト層３４６をそのままの状態に保ちつつ窒化シリコン層３１２をエッチングした後、連続して酸化シリコン層３１１もエッチングする。窒化シリコン層３１２の方がエッチングレートが速いため、エッチングが横方向にも進み、底部と側壁とが共に親液性の無機材料である段差部３０２が形成される。
【００３３】
次に図４（ｄ）に示すように、第１のレジスト３４６を除去した後、基板２０上全面に有機材料としてのポリイミド層３１３を形成し、当該ポリイミド層の画素電極２００を囲む領域に第２のレジスト層３４８を形成する。
【００３４】
次に図５（ａ）に示すように、第２のレジスト層３４８で覆われていない領域のポリイミド層３１３をエッチングにより除去し、その後第２のレジスト層３４８も除去する。２層の無機材料層（３１１および３１２）とポリイミド層３１３との計３層からなり、双方の無機材料層の境界面に段差部３０２を有する隔壁３１４が形成される。
【００３５】
図７は、本実施形態における第２のレジスト３４８を除去した後の画素電極２００、および段差部３０２の平面形状を示すものである。画素電極２００の周囲を囲む環状の段差部３０２が形成されている。酸化シリコン層３１１と窒化シリコン層３１２とを積層して連続的にエッチングすると、エッチングレートの差により窒化シリコン層３１２が水平方向にエッチングされ、上述の段差部３０２が形成される。
当該段差部は底面および側壁部が親液性を有する無機材料で形成されている。したがって、従来の有機ＥＬ表示装置の形成過程における、底面が無機材料で側壁部が有機材料の隔壁とは異なり、側壁部に液材を引き付けて保持することができる。
【００３６】
次に図５（ｂ）に示すように、基板２０全面に、ＣＦ4プラズマ４０でプラズマ処理する。隔壁３１４の最上部を形成するポリイミド層３１３の表面にフッ素原子が入り込み、ポリイミドに含有されている炭素原子と反応し、表面が撥液性となる。なお、上記ＣＦ4によるプラズマ処理後、酸素プラズマによる処理を行なうことが好ましい。酸化シリコン層３１１、窒化シリコン層３１２、および画素電極２００表面の有機系の残渣を除去することで親液性を向上できる。ここで、ポリイミド層３１３は、上記ＣＦ4プラズマ処理によりテフロン（登録商標）等の安定した物質となっているため、処理条件を最適化することにより上記酸素プラズマ処理を経ても撥液性を保つことができる。
【００３７】
次に図５（ｃ）に示すように、画素電極２００上に、正孔輸送層形成材料を溶質とする液材３２３をノズル３２０から滴下する。正孔輸送層形成材料は例えば、ポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体を用いる。段差部３０２は親液性のため、滴下後の液材３２３は周縁部すなわち隔壁３１４の方に引き付けられる態様となる。
【００３８】
次に図５（ｄ）に示すように、液材３２３から溶媒を乾燥除去して正孔輸送層３２４を形成する。滴下後の液材３２３は隔壁３１４の方に引き付けられた状態を保ちつつ乾燥するので、形成された正孔輸送層３２４は中央部が盛り上がることはない。したがって図示するように、平坦な断面形状を有する正孔輸送層３２４が形成される。
【００３９】
次に図６（ａ）に示すように、正孔輸送層３２４上に、有機ＥＬ材料すなわち発光層形成材料を溶質とする液材３２５をノズル３２０より滴下する。上述の液材３２３と同様に、滴下後の液材３２５は、段差部３０２の働きにより周縁部すなわち隔壁３１４の方に引き付けられる。
【００４０】
次に図６（ｂ）に示すように、液材３２５から溶媒を乾燥除去して発光層３２６を形成する。上述の正孔輸送層３２４と同様に、平坦な断面形状を有する発光層３２６が形成される。その結果、正孔輸送層３２４と発光層３２６とからなる機能層３２２も平坦な断面形状を有することとなる。
【００４１】
最後に図６（ｃ）に示すように、基板２０上全面にアルミニウム等の導電材料からなる陰極層３２８を形成する。そして、その後の若干の周知工程を経て、有機ＥＬ表示装置を形成する。上述したように、機能層３２２の形成過程において、画素電極２００上に滴下された液材を隔壁３１４の方向に引き付けつつ乾燥させるため、中央部が盛り上がり凸状になる現象を抑制できる。その結果、平坦な機能層３２２を形成でき、有機ＥＬ表示装置の表示特性を向上させることができる。
（第２の実施形態）
【００４２】
図８は、本発明の第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の、段差部３０２の平面形状を示すものである。各構成要素の断面形状、および形成過程は上記第１の実施形態と同様である。本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、段差部３０２の平面形状（外周の形状）が多角形（本実施形態では８角形）であることが特徴である。
【００４３】
上述したように、画素電極２００の開口部３００に滴下された液材は段差部３０２に引き付けられるが、その際、特に側壁部に強く引き付けられ保持される。そのため、側壁部の面積を増大させることで、より一層強く保持できる。そして、上記側壁部の面積を広くするためには、第２の無機材料層を円形以外の形状にパターニングすることが好ましい。かかる態様により、第２の無機材料層としての窒化シリコン層の膜厚を増加させることなく側壁部の面積を増大できる。したがって本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、窒化シリコン層３１２およびその上層のポリイミド層３１３とをエッチングする領域を多角形とすることで、開口部３００に対する隔壁３１４の形成面積を増加させることなく、すなわち画素間のピッチを変化させることなしに、より一層平坦な機能層の形成を可能にし、より一層表示性能を向上させている。
【００４４】
なお本実施形態のように、画素電極２００の開口部３００の形状、すなわち第１の無機材料層である酸化シリコン層３１１をパターニングする形状と、第２の無機材料層である窒化シリコン層３１２をパターニングする形状に差異がある場合は、エッチングレートの差を利用して同一のレジストパターンにより形成することは困難である。したがって、酸化シリコン層３１１をパターニングした後に窒化シリコン層３１２を基板上全面に形成し、別のフォトマスクを用いて別途パターニングすることが好ましい。
また、酸化シリコン層３１１および窒化シリコン層３１２を基板上全面に積層した後に、窒化シリコン層３１２を上記多角形にパターニングし、その後、再度フォトリソグラフィー工程により酸化シリコン層３１１をパターニングしてもよい。
（第３の実施形態）
【００４５】
図９は、本発明の第３の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の、段差部３０２の平面形状を示すものである。本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、段差部３０２の平面形状（外周の形状）が星型となっていることが特徴である。上記第２の実施形態と同様に段差部３０２を直線を組み合わせて構成し、さらに内角が１８０度を超える部分を設けることによって、段差部３０２の外周の長さ、そして当該長さに基づく側壁部の面積をより一層増加させることができる。その結果、段差部３０２の形状を多角形とする場合に比べてより一層平坦な機能層の形成を可能にし、より一層表示性能を向上させることができる。
なお、段差部３０２と開口部３００は異なるフォトマスクを用いてパターニングすることが好ましい点は、上記第２の実施形態と同様である。
（第４の実施形態）
【００４６】
図１０は、本発明の第４の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の開口部３００、および段差部３０２の平面形状（外周の形状）を示すものである。実施形態の有機ＥＬ表示装置は、開口部３００、および段差部３０２の形状が方形であることが特徴である。
画素電極２００の形状に合せて開口部３００も方形とし、当該開口部の周辺に段差部３０２を形成することで、開口部３００の面積を増加させると共に、当該開口部内に形成される機能層の平坦性を向上させ、表示性能を向上させることができる。
（第５の実施形態）
【００４７】
図１１は、本発明の第５の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の開口部３００、および段差部３０２の平面形状を示すものである。本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、方形の開口部３００と、複数の直線を組み合わせた平面形状（外周の形状）を持つ段差部３０２を有することが特徴である。開口部３００の面積を増加させると共にその周辺の段差部３０２の側壁部の面積も増加させることができるので、当該開口部内に形成される機能層の平坦性をより一層向上させ、表示性能をより一層向上させることができる。
（変形例１）
【００４８】
上述する各実施形態では段差部３０２の平面形状（外周の形状）を規則的なものとしている。しかし、本発明の電気光学装置における段差部３０２の形状は規則的なものに限定されるものではない。直線および／または曲線を不規則に組み合わせた形状や、フラクタクル図形のような形状を用いることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置の全体構成を示す回路構成図。
【図２】画素領域１００を構成する各要素を示す平面構成図。
【図３】従来の有機ＥＬ表示装置の、隔壁の構成と機能層の形成手順等を示す模式断面図。
【図４】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す模式断面図。
【図５】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す模式断面図。
【図６】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す模式断面図。
【図７】第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【図８】第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【図９】第３実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【図１０】第４の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【図１１】第５の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【符号の説明】
【００５０】
１０…画像表示領域、２０…基板、４０…ＣＦ4プラズマ、第１のコンタクトホール２１…、第２のコンタクトホール２２…、第３のコンタクトホール２３…、第４のコンタクトホール２４…、第５のコンタクトホール２５…、第６のコンタクトホール２６…、第７のコンタクトホール２７…、第８のコンタクトホール２８…、１００…画素領域、１０２…走査線、１０４…信号線、１０６…電源供給線、１０８…スイッチング用ＴＦＴ、１１０…保持容量、１１２…駆動用ＴＦＴ、１１４…発光素子、１２０…走査線駆動回路、１３０…信号線駆動回路、１４０…同期信号線、２００…画素電極、２０２…第１のゲート電極、２０４…第１のチャネル領域、２０６…第１のソース領域、２０８…第１のドレイン領域、２１２…第２のゲート電極、２１４…第２のチャネル領域、２１６…第２のソース領域、２１８…第２のドレイン領域、２２１…第１の半導体層、２２２…第２の半導体層、２３２…ソース電極、２３４…ドレイン電極、３００…開口部、３０２…段差部、３１０…無機材料層、３１１…第１の無機材料層としての酸化シリコン層、３１２…第２の無機材料層としての窒化シリコン層、３１３…有機材料層としてのポリイミド膜、３１４…隔壁、３１５…第１の層間膜、３１６…第２の層間膜、３２０…ノズル、３２１…機能層形成材料を溶質とする液材、３２２…機能層、３２３…正孔輸送層形成材料を溶質とする液材、３２４…正孔輸送層、３２５…発光層形成材料を溶質とする液材、３２６…発光層、３２８…陰極層、３４６…第１のレジスト層、３４８…第２のレジスト層。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の電気光学装置とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と称する。）表示装置の製造工程では、基板上にマトリクス状に配置されている各々の画素電極上に、発光層等の機能層を複数回形成する必要がある。そして当該工程に用いる手法として、上記機能層形成材料を溶質とする液体材料（以下、「液材」と称する。）の液滴を上記画像素電極上に滴下して、溶媒を乾燥除去して固化するインクジェット法が有力とされている。
インクジェット法では、各々の画素電極を区画する隔壁を上記液滴が乗り越えないことと、上記隔壁と上記画素電極の境界近傍における上記液滴のつきまわりの確保と、の両立が必要となる。そこで隔壁を、有機材料からなる上部隔壁と無機材料からなる下部隔壁とを階段状に積層して、２層構造にする手法が提案されている（特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−３３４７８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上述する構造の隔壁では、滴下された液滴が乾燥する工程において、画素周辺部における液滴の保持力が不足するため、画素電極上に形成される乾燥後の機能層の平坦性が低下し得るという課題があった。本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、機能層の平坦性を確保して、表示特性を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置は、基板上に規則的に配置された画素電極と、上記画素電極の開口面を囲む２以上の材料層からなる隔壁と、上記隔壁で囲まれた領域内に滴下した液体材料を固化して形成された少なくとも発光層を含む機能層と、を備える電気光学装置であって、上記隔壁が、第１の材料層の上面を底部とし、第２の材料層をパターニングして得られる面を側壁とする段差部を有することを特徴とする。
隔壁に段差部を設けることで、滴下後の液体材料を隔壁の方向に吸引でき、中央部に凝集しようとする働きを緩和できる。したがって、平坦な機能層が形成でき、表示性能、すなわち電気特性および寿命特性が向上した電気光学装置を得ることができる。
【０００６】
好ましくは、上記第１の材料層および上記第２の材料層が無機材料からなることを特徴とする。
無機材料は親液性を有するため、滴下後の液滴を隔壁の方向に一層強く吸引できる。したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【０００７】
また、好ましくは、上記隔壁が、上記第２の材料層の上層に、有機材料からなる第３の材料層をさらに有することを特徴とする。
有機材料は撥液性を付与できるため、滴下した液滴が隣接する画素電極の開口面に移動することを抑制できる。したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【０００８】
また、好ましくは、上記段差部の外周の形状が、多角形であることを特徴とする。
かかる構成により、上記段差部の周辺長を増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向に一層強く吸引できる。したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【０００９】
また、好ましくは、上記段差部の外周の形状に、内角が１８０度を超えている部分があることを特徴とする。
かかる構成により、上記段差部の周辺長をより一層増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向により一層強く吸引できる。したがって、表示性能がより一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【００１０】
また、好ましくは、上記段差部の外周の形状が、不規則な直線および／または曲線を連続した部分を有することを特徴とする。
かかる構成により、上記段差部の周辺長をより一層増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向により一層強く吸引できる。したがって、表示性能がより一層向上した電気光学装置を得ることができる。
【００１１】
また、本発明にかかる電気光学装置は有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする。
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は機能層膜厚の均一性により表示性能が左右されるので、上述する構成により表示性能を向上させることができる。
【００１２】
本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、基板上に画素電極を規則的に配置する工程と、上記基板上に無機材料からなる第１の材料層を形成する工程と、上記第１の材料層の上層に無機材料からなる第２の材料層を形成する工程と、上記第１の材料層と上記第２の材料層を、双方の層の境界面に段差が生じるようにパターニングして、上記画素電極の周辺を囲む隔壁を形成する工程と、上記隔壁で囲まれた上記画素電極上に機能層形成材料を溶質とする液体材料の液滴を滴下する工程と、を含むことを特徴とする。
かかる製造方法によれば、上記画像素電極上に滴下した液滴を上記段差部で保持できるので、平坦な機能層を形成でき、表示性能の優れた電気光学装置を得ることができる。
【００１３】
好ましくは、上記第１の材料層、および上記第２の材料層をパターニングした後に、上記基板上に有機材料からなる第３の材料層を形成する工程と、上記第３の材料層を、平面形状が上記第２の材料層と略同一となるようにパターニングする工程と、をさらに含むことを特徴とする。
かかる製造方法によれば、上記画像素電極上に滴下した液滴が隣接する画素電極上に
流出することを抑制できるので、表示性能がより一層優れた電気光学装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。本発明は隔壁内に液滴を滴下した後に溶媒を乾燥除去することで機能層を形成する工程を有する電気光学装置に対応するものであり、特に有機ＥＬ表示装置に対応するものである。そこで、まず図１および図２を用いて、後述する従来例および各実施形態において共通するアクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置の構成について説明する。
【００１５】
図１は、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置の全体構成を示す回路構成図である。画像表示領域１０には、複数の走査線１０２と、走査線１０２と直交する複数の信号線１０４と、信号線１０４と平行に延びる複数の電源供給線１０６とが形成され、走査線１０２と信号線１０４との各々の交点近傍には、画素領域１００が形成されている。
【００１６】
さらに、各々の画素領域１００には、走査線１０２を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ１０８と、スイッチング用ＴＦＴ１０８を介して信号線１０４から供給される画素信号を保持する保持容量１１０と、保持容量１１０によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１１２と、駆動用ＴＦＴ１１２を介して電源供給線１０６から駆動電流が流れ込む発光素子１１４が形成されている。後述するように、発光素子１１４は画素電極である陽極と、画像表示領域１０の全範囲にわたって共通電位となる陰極とでＥＬ層を含む機能層を狭持しており、上記駆動電流は陽極に供給される。
【００１７】
画像表示領域１０の周辺には、走査線駆動回路１２０、及び信号線駆動回路１３０が形成されている。走査線１０２には、走査線駆動回路１２０から、図示しない外部回路より供給される各種信号に応じて走査信号が順次供給される。そして、信号線１０４には信号線駆動回路１３０から画像信号が供給され、電源供給線１０６には図示しない外部回路から画素駆動電流が供給される。なお、走査線駆動回路１２０の動作と信号線駆動回路１３０の動作とは、同期信号線１４０を介して外部回路から供給される同期信号により相互に同期が図られている。
【００１８】
走査線１０２が駆動されスイッチング用ＴＦＴ１０８がオン状態になると、その時点の信号線１０４の電位が保持容量１１０に保持され、保持容量１１０の状態に応じて駆動用ＴＦＴ１１２のレベルが決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１１２を介して電源供給線１０６から陽極に駆動電流が流れ、さらに機能層を介して陰極に駆動電流が流れる。その結果、機能層は駆動電流の大きさに応じて発光する。
【００１９】
次に、図２を用いて、画素領域１００の構成について説明する。図２は、基板上における、画素領域１００を構成する各要素を示す平面構成図である。
スイッチング用ＴＦＴ１０８は、走査線１０２から突き出した第１のゲート電極２０２と、方形にパターニングされた第１の半導体層２２１と、からなる。第１の半導体層２２１は、第１のチャネル領域２０４と、その両側の第１のソース領域２０６および第１のドレイン領域２０８と、からなる。そして第１のチャネル領域２０４は、第１のゲート電極２０２と対向している。
【００２０】
駆動用ＴＦＴ１１２は、容量電極から突き出した第２のゲート電極２１２と、方形にパターニングされた第２の半導体層２２２と、からなる。第２の半導体層２２２は、第２のチャネル領域２１４と、その両側の第２のソース領域２１６および第２のドレイン領域２１８と、からなる。そして第２のチャネル領域２１４は、第２のゲート電極２１２と対向している。
【００２１】
スイッチング用ＴＦＴ１０８の、第１のドレイン領域２０８は第１のコンタクトホール２１を介して信号線１０４と導通し、第１のソース領域２０６は第２のコンタクトホール２２を介してソース電極２３２と導通している。そして、ソース電極２３２は、第３のコンタクトホール２３を介して第２のゲート電極２１２と導通するとともに、第４のコンタクトホール２４を介して保持容量１１０の一方の電極層と導通している。
【００２２】
保持容量１１０のもう一方の電極層は、第１の半導体層２２１と同一の層をパターニングして形成され、第５のコンタクトホール２５を介して電源供給線１０６と導通している。
【００２３】
第２のソース領域２１６は第６のコンタクトホール２６を介して電源供給線１０６の突出部分と導通している。第２のドレイン領域２１８は第７のコンタクトホール２７を介してドレイン電極２３４と導通し、ドレイン電極２３４と画素電極２００は第８のコンタクトホール２８を介して導通している。
【００２４】
本実施形態の有機ＥＬ装置はボトムエミッション方式である。基板は透光性材料からなり、画素電極２００はＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）等の導電性透光材料で形成される。そして図３以降で示すように、後述する隔壁３１４で画素の開口部３００が形成されている。そして隔壁３１４で囲まれる凹部内には、発光層としての有機ＥＬ材料を含む機能層がインクジェット法により形成され、画素の開口部３００を介して光を出射してる。
【００２５】
上述したように隔壁の断面形状は上記機能層の形成時に大きく影響する。本発明は隔壁の断面形状を工夫して機能層の均一化を目指すものである。具体的には、隔壁３１４を２層以上の材料層で形成し、画素電極上に形成される第１の材料層と、その上層に形成される第２の材料層とを別個にパターニングすることで、段差部３０２を形成している。以下、従来の有機ＥＬ表示装置の機能層の形成、及び本発明の実施形態における機能層の形成について、図２に示すＡ―Ａ´線における断面図を用いて述べる。
【００２６】
図３は、従来の有機ＥＬ表示装置の隔壁の構成と機能層の形成手順等を示す模式断面図である。まず図３（ａ）に示すように、基板２０上に第１の層間膜３１５、および第２の層間膜３１６を介して画素電極２００を形成し、当該画素電極の周囲を囲む隔壁３１４を形成する。従来の有機ＥＬ表示装置の隔壁３１４は、下層の酸化シリコン等の無機材料層３１０と、上層のポリイミド層３１３の２層構造となっている。隔壁形成後、ＣＦ4等のフッ素原子を含んだガスによるプラズマでプラズマ処理を行い、上層のポリイミド層３１３に撥液性を付与する。
【００２７】
次に、図３（ｂ）に示すように、隔壁３１４で囲まれている画素電極２００上にインクジェット装置の液滴ノズル（以下、「ノズル」と称する。）３２０から機能層形成材料を溶質とする液滴３２１を滴下する。滴下された液滴３２１は、ポリイミド層３１３の側壁部に達する。
【００２８】
次に図３（ｃ）に示すように、滴下された機能液３２１から溶媒を乾燥除去して機能層３２２を形成する。当該機能層は膜厚が均一であることが好ましい。しかし、隔壁３１４の上層であるポリイミド層３１３は撥液性が付与されているため、滴下された機能液３２１を保持する力が不足している。その結果、画素電極２００上に形成される機能層３２２は中央が盛り上がるような形状となり、膜厚の均一性が劣化し得る。そこで本発明の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置およびその製造方法は、隔壁３１４に段差部３０２（図４等参照）を形成することで、機能層の膜厚の均一性を向上させている。
（第１の実施形態）
【００２９】
本発明の第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の隔壁の構成、および機能層の形成過程を、図４〜７により説明する。図４〜６は本実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す模式断面図であり、図２のＡ―Ａ´線における断面を示すものである。そして図７は、隔壁３１４形成後の画素電極２００およびその周辺の上面図である。
【００３０】
まず図４（ａ）に示すように、基板２０上に、第１の層間膜３１５および第２の層間膜３１６を介して画素電極２００を形成する。そして、画素電極２００を形成後の基板２０上に、第１の無機材料層としての酸化シリコン層３１１および第２の無機材料層としての窒化シリコン層３１２を形成する。
【００３１】
次に図４（ｂ）に示すように、画素電極２００を囲む領域に第１のレジスト層３４６を形成し、当該レジストで覆われていない領域の窒化シリコン層３１２を選択的にエッチングして除去する。
【００３２】
次に図４（ｃ）に示すように、第１のレジスト層３４６をそのままの状態に保ちつつ窒化シリコン層３１２をエッチングした後、連続して酸化シリコン層３１１もエッチングする。窒化シリコン層３１２の方がエッチングレートが速いため、エッチングが横方向にも進み、底部と側壁とが共に親液性の無機材料である段差部３０２が形成される。
【００３３】
次に図４（ｄ）に示すように、第１のレジスト３４６を除去した後、基板２０上全面に有機材料としてのポリイミド層３１３を形成し、当該ポリイミド層の画素電極２００を囲む領域に第２のレジスト層３４８を形成する。
【００３４】
次に図５（ａ）に示すように、第２のレジスト層３４８で覆われていない領域のポリイミド層３１３をエッチングにより除去し、その後第２のレジスト層３４８も除去する。２層の無機材料層（３１１および３１２）とポリイミド層３１３との計３層からなり、双方の無機材料層の境界面に段差部３０２を有する隔壁３１４が形成される。
【００３５】
図７は、本実施形態における第２のレジスト３４８を除去した後の画素電極２００、および段差部３０２の平面形状を示すものである。画素電極２００の周囲を囲む環状の段差部３０２が形成されている。酸化シリコン層３１１と窒化シリコン層３１２とを積層して連続的にエッチングすると、エッチングレートの差により窒化シリコン層３１２が水平方向にエッチングされ、上述の段差部３０２が形成される。
当該段差部は底面および側壁部が親液性を有する無機材料で形成されている。したがって、従来の有機ＥＬ表示装置の形成過程における、底面が無機材料で側壁部が有機材料の隔壁とは異なり、側壁部に液材を引き付けて保持することができる。
【００３６】
次に図５（ｂ）に示すように、基板２０全面に、ＣＦ4プラズマ４０でプラズマ処理する。隔壁３１４の最上部を形成するポリイミド層３１３の表面にフッ素原子が入り込み、ポリイミドに含有されている炭素原子と反応し、表面が撥液性となる。なお、上記ＣＦ4によるプラズマ処理後、酸素プラズマによる処理を行なうことが好ましい。酸化シリコン層３１１、窒化シリコン層３１２、および画素電極２００表面の有機系の残渣を除去することで親液性を向上できる。ここで、ポリイミド層３１３は、上記ＣＦ4プラズマ処理によりテフロン（登録商標）等の安定した物質となっているため、処理条件を最適化することにより上記酸素プラズマ処理を経ても撥液性を保つことができる。
【００３７】
次に図５（ｃ）に示すように、画素電極２００上に、正孔輸送層形成材料を溶質とする液材３２３をノズル３２０から滴下する。正孔輸送層形成材料は例えば、ポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体を用いる。段差部３０２は親液性のため、滴下後の液材３２３は周縁部すなわち隔壁３１４の方に引き付けられる態様となる。
【００３８】
次に図５（ｄ）に示すように、液材３２３から溶媒を乾燥除去して正孔輸送層３２４を形成する。滴下後の液材３２３は隔壁３１４の方に引き付けられた状態を保ちつつ乾燥するので、形成された正孔輸送層３２４は中央部が盛り上がることはない。したがって図示するように、平坦な断面形状を有する正孔輸送層３２４が形成される。
【００３９】
次に図６（ａ）に示すように、正孔輸送層３２４上に、有機ＥＬ材料すなわち発光層形成材料を溶質とする液材３２５をノズル３２０より滴下する。上述の液材３２３と同様に、滴下後の液材３２５は、段差部３０２の働きにより周縁部すなわち隔壁３１４の方に引き付けられる。
【００４０】
次に図６（ｂ）に示すように、液材３２５から溶媒を乾燥除去して発光層３２６を形成する。上述の正孔輸送層３２４と同様に、平坦な断面形状を有する発光層３２６が形成される。その結果、正孔輸送層３２４と発光層３２６とからなる機能層３２２も平坦な断面形状を有することとなる。
【００４１】
最後に図６（ｃ）に示すように、基板２０上全面にアルミニウム等の導電材料からなる陰極層３２８を形成する。そして、その後の若干の周知工程を経て、有機ＥＬ表示装置を形成する。上述したように、機能層３２２の形成過程において、画素電極２００上に滴下された液材を隔壁３１４の方向に引き付けつつ乾燥させるため、中央部が盛り上がり凸状になる現象を抑制できる。その結果、平坦な機能層３２２を形成でき、有機ＥＬ表示装置の表示特性を向上させることができる。
（第２の実施形態）
【００４２】
図８は、本発明の第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の、段差部３０２の平面形状を示すものである。各構成要素の断面形状、および形成過程は上記第１の実施形態と同様である。本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、段差部３０２の平面形状（外周の形状）が多角形（本実施形態では８角形）であることが特徴である。
【００４３】
上述したように、画素電極２００の開口部３００に滴下された液材は段差部３０２に引き付けられるが、その際、特に側壁部に強く引き付けられ保持される。そのため、側壁部の面積を増大させることで、より一層強く保持できる。そして、上記側壁部の面積を広くするためには、第２の無機材料層を円形以外の形状にパターニングすることが好ましい。かかる態様により、第２の無機材料層としての窒化シリコン層の膜厚を増加させることなく側壁部の面積を増大できる。したがって本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、窒化シリコン層３１２およびその上層のポリイミド層３１３とをエッチングする領域を多角形とすることで、開口部３００に対する隔壁３１４の形成面積を増加させることなく、すなわち画素間のピッチを変化させることなしに、より一層平坦な機能層の形成を可能にし、より一層表示性能を向上させている。
【００４４】
なお本実施形態のように、画素電極２００の開口部３００の形状、すなわち第１の無機材料層である酸化シリコン層３１１をパターニングする形状と、第２の無機材料層である窒化シリコン層３１２をパターニングする形状に差異がある場合は、エッチングレートの差を利用して同一のレジストパターンにより形成することは困難である。したがって、酸化シリコン層３１１をパターニングした後に窒化シリコン層３１２を基板上全面に形成し、別のフォトマスクを用いて別途パターニングすることが好ましい。
また、酸化シリコン層３１１および窒化シリコン層３１２を基板上全面に積層した後に、窒化シリコン層３１２を上記多角形にパターニングし、その後、再度フォトリソグラフィー工程により酸化シリコン層３１１をパターニングしてもよい。
（第３の実施形態）
【００４５】
図９は、本発明の第３の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の、段差部３０２の平面形状を示すものである。本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、段差部３０２の平面形状（外周の形状）が星型となっていることが特徴である。上記第２の実施形態と同様に段差部３０２を直線を組み合わせて構成し、さらに内角が１８０度を超える部分を設けることによって、段差部３０２の外周の長さ、そして当該長さに基づく側壁部の面積をより一層増加させることができる。その結果、段差部３０２の形状を多角形とする場合に比べてより一層平坦な機能層の形成を可能にし、より一層表示性能を向上させることができる。
なお、段差部３０２と開口部３００は異なるフォトマスクを用いてパターニングすることが好ましい点は、上記第２の実施形態と同様である。
（第４の実施形態）
【００４６】
図１０は、本発明の第４の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の開口部３００、および段差部３０２の平面形状（外周の形状）を示すものである。実施形態の有機ＥＬ表示装置は、開口部３００、および段差部３０２の形状が方形であることが特徴である。
画素電極２００の形状に合せて開口部３００も方形とし、当該開口部の周辺に段差部３０２を形成することで、開口部３００の面積を増加させると共に、当該開口部内に形成される機能層の平坦性を向上させ、表示性能を向上させることができる。
（第５の実施形態）
【００４７】
図１１は、本発明の第５の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の開口部３００、および段差部３０２の平面形状を示すものである。本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、方形の開口部３００と、複数の直線を組み合わせた平面形状（外周の形状）を持つ段差部３０２を有することが特徴である。開口部３００の面積を増加させると共にその周辺の段差部３０２の側壁部の面積も増加させることができるので、当該開口部内に形成される機能層の平坦性をより一層向上させ、表示性能をより一層向上させることができる。
（変形例１）
【００４８】
上述する各実施形態では段差部３０２の平面形状（外周の形状）を規則的なものとしている。しかし、本発明の電気光学装置における段差部３０２の形状は規則的なものに限定されるものではない。直線および／または曲線を不規則に組み合わせた形状や、フラクタクル図形のような形状を用いることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置の全体構成を示す回路構成図。
【図２】画素領域１００を構成する各要素を示す平面構成図。
【図３】従来の有機ＥＬ表示装置の、隔壁の構成と機能層の形成手順等を示す模式断面図。
【図４】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す模式断面図。
【図５】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す模式断面図。
【図６】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す模式断面図。
【図７】第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【図８】第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【図９】第３実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【図１０】第４の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【図１１】第５の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の段差部の平面形状を示す図。
【符号の説明】
【００５０】
１０…画像表示領域、２０…基板、４０…ＣＦ4プラズマ、第１のコンタクトホール２１…、第２のコンタクトホール２２…、第３のコンタクトホール２３…、第４のコンタクトホール２４…、第５のコンタクトホール２５…、第６のコンタクトホール２６…、第７のコンタクトホール２７…、第８のコンタクトホール２８…、１００…画素領域、１０２…走査線、１０４…信号線、１０６…電源供給線、１０８…スイッチング用ＴＦＴ、１１０…保持容量、１１２…駆動用ＴＦＴ、１１４…発光素子、１２０…走査線駆動回路、１３０…信号線駆動回路、１４０…同期信号線、２００…画素電極、２０２…第１のゲート電極、２０４…第１のチャネル領域、２０６…第１のソース領域、２０８…第１のドレイン領域、２１２…第２のゲート電極、２１４…第２のチャネル領域、２１６…第２のソース領域、２１８…第２のドレイン領域、２２１…第１の半導体層、２２２…第２の半導体層、２３２…ソース電極、２３４…ドレイン電極、３００…開口部、３０２…段差部、３１０…無機材料層、３１１…第１の無機材料層としての酸化シリコン層、３１２…第２の無機材料層としての窒化シリコン層、３１３…有機材料層としてのポリイミド膜、３１４…隔壁、３１５…第１の層間膜、３１６…第２の層間膜、３２０…ノズル、３２１…機能層形成材料を溶質とする液材、３２２…機能層、３２３…正孔輸送層形成材料を溶質とする液材、３２４…正孔輸送層、３２５…発光層形成材料を溶質とする液材、３２６…発光層、３２８…陰極層、３４６…第１のレジスト層、３４８…第２のレジスト層。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に規則的に配置された画素電極と、前記画素電極の開口面を囲む２以上の材料層からなる隔壁と、前記隔壁で囲まれた領域内に滴下した液体材料を固化して形成された少なくとも発光層を含む機能層と、を備える電気光学装置であって、
前記隔壁が、第１の材料層の上面を底部とし、第２の材料層をパターニングして得られる面を側壁とする段差部を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１の材料層および前記第２の材料層が無機材料からなることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記隔壁が、前記第２の材料層の上層に、有機材料からなる第３の材料層をさらに有することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記段差部の外周の形状が、多角形であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記段差部の外周の形状に、内角が１８０度を超えている部分があることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記段差部の外周の形状が、不規則な直線および／または曲線を連続した部分を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記電気光学装置が有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
基板上に画素電極を規則的に配置する工程と、
前記基板上に無機材料からなる第１の材料層を形成する工程と、
前記第１の材料層の上層に無機材料からなる第２の材料層を形成する工程と、
前記第１の材料層と前記第２の材料層を、双方の層の境界面に段差が生じるようにパターニングして、前記画素電極の周辺を囲む隔壁を形成する工程と、
前記隔壁で囲まれた前記画素電極上に機能層形成材料を溶質とする液体材料の液滴を滴下する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１の材料層、および前記第２の材料層をパターニングした後に、前記基板上に有機材料からなる第３の材料層を形成する工程と、
前記第３の材料層を、平面形状が前記第２の材料層と略同一となるようにパターニングする工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１】
基板上に規則的に配置された画素電極と、前記画素電極の開口面を囲む２以上の材料層からなる隔壁と、前記隔壁で囲まれた領域内に滴下した液体材料を固化して形成された少なくとも発光層を含む機能層と、を備える電気光学装置であって、
前記隔壁が、第１の材料層の上面を底部とし、第２の材料層をパターニングして得られる面を側壁とする段差部を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１の材料層および前記第２の材料層が無機材料からなることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記隔壁が、前記第２の材料層の上層に、有機材料からなる第３の材料層をさらに有することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記段差部の外周の形状が、多角形であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記段差部の外周の形状に、内角が１８０度を超えている部分があることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記段差部の外周の形状が、不規則な直線および／または曲線を連続した部分を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記電気光学装置が有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
基板上に画素電極を規則的に配置する工程と、
前記基板上に無機材料からなる第１の材料層を形成する工程と、
前記第１の材料層の上層に無機材料からなる第２の材料層を形成する工程と、
前記第１の材料層と前記第２の材料層を、双方の層の境界面に段差が生じるようにパターニングして、前記画素電極の周辺を囲む隔壁を形成する工程と、
前記隔壁で囲まれた前記画素電極上に機能層形成材料を溶質とする液体材料の液滴を滴下する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１の材料層、および前記第２の材料層をパターニングした後に、前記基板上に有機材料からなる第３の材料層を形成する工程と、
前記第３の材料層を、平面形状が前記第２の材料層と略同一となるようにパターニングする工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００８−９１０７２（Ｐ２００８−９１０７２Ａ）
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２６７８６３（Ｐ２００６−２６７８６３）
【出願日】平成１８年９月２９日（２００６．９．２９）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年９月２９日（２００６．９．２９）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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