電気光学装置及び電子機器

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、装置内部への水分の浸入を防止する。
【解決手段】電気光学装置は、互いに対向するようにシール材（５２）で貼り合わされた
第１基板（１０）及び第２基板（２０）と、シール材の内側において、第１及び第２基板
間に挟持された電気光学物質（５０）と、第１基板上において、電気光学物質と対向する
ように設けられた第１電極（９ａ）と、第１電極を覆うように形成された第１絶縁膜（２
１０）と、第２基板上において、電気光学物質と対向するように設けられた第２電極（２
１）と、第２電極を覆うように形成された第２絶縁膜（２２０）とを備える。第１絶縁膜
及び第２絶縁膜は、シール材と少なくとも部分的に重ならない領域が存在するように設け
られている。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液
晶プロジェクター等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置として、例えば一対の基板によって液晶等の電気光学物質を挟持
することで構成されるものがある。このような電気光学装置では、電気光学物質に対して
電圧を印加するための電極を覆うように、絶縁材料を含んでなる絶縁膜が設けられる場合
がある。例えば特許文献１では、電極を覆うように基板全面に絶縁膜を形成することで、
上下電極の材質が異なることに起因する非対称性を抑制するという技術が開示されている
。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−４８６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述したように基板全面に絶縁膜を設けると、絶縁膜の存在によって、
基板の側面から装置内部へ水分が浸入し易くなってしまう。例えば、基板側方において露
出された絶縁膜を介して水分が浸入する。水分が装置内部に浸入すると、表示不具合が発
生するおそれがある。即ち、上述した技術には、装置の信頼性を著しく低下させてしまう
おそれがあるという技術的問題点がある。
【０００５】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、装置内部への水分の浸入
を好適に防止することが可能な電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、互いに対向するようにシール材で
貼り合わされた第１基板及び第２基板と、前記シール材の内側において、前記第１及び第
２基板間に挟持された電気光学物質と、前記第１基板上において、前記電気光学物質と対
向するように設けられた第１電極と、前記第１電極を覆うように形成された第１絶縁膜と
、前記第２基板上において、前記電気光学物質と対向するように設けられた第２電極と、
前記第２電極を覆うように形成された第２絶縁膜とを備え、前記第１絶縁膜及び前記第２
絶縁膜は、前記シール材と少なくとも部分的に重ならない領域が存在するように設けられ
ている。
【０００７】
本発明の電気光学装置によれば、第１基板及び第２基板間に、例えば液晶等の電気光学
物質が挟持されている。第１基板及び第２基板は、例えば熱硬化樹脂等のシール材によっ
て貼り合わされており、電気光学物質はシール材の内側に封入されている。
【０００８】
第１基板上には、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等を含んでなる第１電極が設けら
れている。第１電極は、画像を表示する表示領域に配列された画素毎に設けられる。第１
電極の上には、第１電極を覆うように第１絶縁膜が設けられている。第１絶縁膜は、例え
ばＳｉＯ_２等の絶縁材料を含んでなる。
【０００９】
第２基板上には、例えばＩＴＯ等を含んでなる第２電極が設けられている。第２電極は
、画像を表示する表示領域にベタ状に設けられる。第２電極の上には、第２電極を覆うよ
うに第２絶縁膜が設けられている。第２絶縁膜は、例えばＳｉＯ_２等の絶縁材料を含んで
なる。
【００１０】
本願発明者の研究によれば、例えば電気光学物質の配向状態を規定するために無機配向
膜を用いた場合、無機配向カラムの間隙部に存在する電気光学物質と電極とが直接接触可
能な領域において、電気光学物質及び電極界面での電荷の移動が起こり、電気的非対称性
からフリッカーや表示の焼き付きといった表示不良が発生してしまうことが判明している
。
【００１１】
しかるに本発明では、上述したように、第１絶縁膜が第１電極を覆うように設けられる
と共に、第２絶縁膜が第２電極を覆うように設けられている。このため、電気光学物質と
、第１電極又は第２電極とが直接接触することを容易且つ確実に防止することができる。
従って、表示不良の発生を好適に抑制することができる。
【００１２】
本願発明者の研究によれば、更に、第１絶縁膜及び第２絶縁膜を基板全面に設けた場合
、露出した第１絶縁膜及び第２絶縁膜を介して、装置内部に水分が浸入し易くなってしま
うことが判明している。
【００１３】
ここで本発明では特に、第１絶縁膜及び第２絶縁膜は、シール材と少なくとも部分的に
重ならない領域が存在するように設けられている。具体的には、第１絶縁膜及び第２絶縁
膜は、基板全面には設けられておらず、シール材と重なる領域に欠如部を有している。こ
れにより、第１絶縁膜及び第２絶縁膜は、少なくとも部分的に装置外に露出しない部分を
有することになる。従って、上述したような第１絶縁膜及び第２絶縁膜を介した水分の浸
入を防止することが可能となる。
【００１４】
尚、水分の浸入を防止する観点では、第１絶縁膜及び第２絶縁膜は、できる限りシール
材と重ならないように設けられることが好ましい。即ち、シール材と重ならない領域はで
きるだけ大きくされた方がよい。
【００１５】
以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、装置内への水分の浸入を防止す
ることができるため、信頼性を向上させることができる。
【００１６】
本発明の電気光学装置の一態様では、前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜は、前記シー
ル材と重ならないように設けられている。
【００１７】
この態様によれば、第１絶縁膜及び第２絶縁膜は、シール材の内側にのみ設けられる。
よって、第１絶縁膜及び第２絶縁膜は装置外に露出しない。従って、第１絶縁膜及び第２
絶縁膜を介した水分の浸入を、より効果的に防止することが可能となる。
【００１８】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜は、表示に
寄与する画素領域及び該画素領域の周囲に位置するダミー画素領域に重なるように設けら
れている。
【００１９】
この態様によれば、画像の表示領域に寄与する画素領域の周辺にはダミー画素領域が設
けられている。ダミー画素領域は、画素領域における各画素の構成を模擬するダミー画素
を有している。
【００２０】
第１絶縁膜及び第２絶縁膜は、機能的には画素領域を覆うように設けられていればよい
。しかしながら、第１絶縁膜及び第２絶縁膜を画素領域にだけ設けようとすると、製造工
程において極めて高い精度が求められてしまう。
【００２１】
本態様では、第１絶縁膜及び第２絶縁膜が、ダミー画素領域にまで重なるように設けら
れているため、画素領域を確実に覆うと共に、ダミー画素領域によって製造時のマージン
を持たせることができる。従って、製造工程の複雑化を防止しつつ、確実に水分の浸入を
防止することが可能となる。
【００２２】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し
、その各種態様も含む）を備える。
【００２３】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、
信頼性の高い投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビュ
ーファインダー型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テ
レビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の
電子機器として、例えば電子ペーパーなどの電気泳動装置等も実現することも可能である
。
【００２４】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされ
る。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】実施形態に係る絶縁膜の形成領域を示す平面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ´線断面図である。
【図５】比較例に係る絶縁膜の形成領域を示す平面図である。
【図６】比較例及び実施形態に係る電気光学装置において表示不具合が発生するまでの時間を示したグラフである。
【図７】実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図である。
【図８】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクターの構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
【００２７】
＜電気光学装置＞
本実施形態に係る電気光学装置について図１から図７を参照して説明する。尚、以下の
実施形態では、本発明の電気光学装置の一例として駆動回路内蔵型のＴＦＴ（Thin Film
Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を挙げて説明する。
【００２８】
先ず、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説
明する。ここに図１は、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、
図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００２９】
図１及び図２において、本実施形態に係る電気光学装置では、ＴＦＴアレイ基板１０と
対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、本発明の「第１基板」
の一例であり、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対
向基板２０は、本発明の「第２基板」の一例であり、例えば石英基板、ガラス基板等の透
明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、本発明の「電気光学物
質」の一例である液晶層５０が封入されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類の
ネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。
【００３０】
ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素電極が設けられた画像表示領域
１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により、相互に接着されて
いる。
【００３１】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等
からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、
加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と
対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバー
或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２
に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａ
の周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
【００３２】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領
域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。尚、このよ
うな額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設け
られてもよい。
【００３３】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、デ
ータ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿っ
て設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額
縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０
ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１
０の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設
けられている。
【００３４】
ＴＦＴアレイ基板１０上における対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域には
、両基板間を上下導通材で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これら
により、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる
。
【００３５】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴ
ＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の
詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ等の
透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。
【００３６】
画素電極９ａは、対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示
領域１０ａに形成されている。画素電極９ａは、本発明の「第１電極」の一例であり、対
向電極２１は、本発明の「第２電極」の一例である。尚、ここでの図示は省略しているが
、画素電極９ａ上には第１絶縁膜２１０が設けられており、対向電極２１上には第２絶縁
膜２２０が設けられている（後述の図４参照）。
【００３７】
ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ上には
、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。対向基板２０の対向面上にお
ける、対向電極２１上には、配向膜２２が形成されている。配向膜１６及び２２は、例え
ば無機材料を含む無機配向膜として形成される。
【００３８】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、遮光膜２３が形成され
ている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に
形成されている。遮光膜２３上には、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うため
に、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルター
が形成されるようにしてもよい。
【００３９】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、上述したデータ線駆動回路１
０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリ
ングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリ
チャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の
当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００４０】
次に、実施形態に係る電気光学装置に設けられる絶縁膜の構成及びその効果について、
図３から図７を参照して詳細に説明する。ここに図３は、実施形態に係る絶縁膜の形成領
域を示す平面図であり、図４は、図３のＡ−Ａ´線断面図である。また図５は、比較例に
係る絶縁膜の形成領域を示す平面図であり、図６は、比較例及び実施形態に係る電気光学
装置において表示不具合が発生するまでの時間を示したグラフである。図７は、実施形態
に係る電気光学装置の変形例を示す平面図である。尚、図３以降の図では、説明の便宜上
、図１及び図２に示した詳細な部材を適宜省略して図示している。
【００４１】
図３及び図４において、本実施形態に係る電気光学装置では、画像表示領域１０ａから
該画像表示領域１０ａの周囲に位置するダミー画素領域１０ｂまでを覆うように、第１絶
縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０が設けられている。第１絶縁膜２１０は、画素電極９ａ
と配向膜１６との間に設けられている。第２絶縁膜２２０は、対向電極２１と配向膜２２
との間に設けられている。尚、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０は、典型的には互
いに同じ領域に形成される。
【００４２】
ここで本願発明者の研究によれば、例えば配向膜１６及び２２を無機配向膜とした場合
、無機配向カラムの間隙部には液晶層５０と画素電極９ａ或いは対向電極２１とが直接接
触可能な領域が存在し、電気光学物質及び電極界面での電荷の移動に起因してフリッカー
や表示の焼き付きといった表示不良が発生してしまうことが判明している。
【００４３】
これに対し本実施形態に係る電気光学装置では、上述したように、第１絶縁膜２１０が
画素電極９ａを覆うように設けられると共に、第２絶縁膜２２０が対向電極２１を覆うよ
うに設けられている。このため、液晶層５０と、画素電極９ａ又は対向電極２１とが直接
接触することを防止することができる。従って、表示不良の発生を抑制することができる
。
【００４４】
加えて、本願発明者の研究によれば、仮に第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０を基
板全面に設けるような場合には、露出した第１絶縁膜及び第２絶縁膜を介して、装置内部
に水分が浸入し易くなってしまうことが判明している。
【００４５】
具体的には、図５に示すような電気光学装置では、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２
２０が装置側面において装置外に露出している。よって、この露出した第１絶縁膜２１０
及び第２絶縁膜２２０を介して、水分が装置内部に浸入し易くなってしまう。
【００４６】
これに対し本実施形態に係る電気光学装置では、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２
０は、シール材５２とは重ならないように設けられている。即ち、第１絶縁膜２１０及び
第２絶縁膜２２０は、シール材５２の内側にのみ設けられる。よって、第１絶縁膜２１０
及び第２絶縁膜２２０は、図５に示した比較例のように装置外に露出しない。また、シー
ル材５２と配向膜１６及び２２との界面は、互いの成分が反応することで、極めて水分を
浸入させにくい構造となっている。従って、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０を介
した水分の浸入を、効果的に防止することが可能となる。
【００４７】
図６において、本願発明者の研究によれば、図５に示す比較例に係る電気光学装置と、
図３及び図４に示す本実施形態に係る電気光学装置とでは、温度６０℃、湿度９０％の状
況下において、表示不具合が発生するまでの時間に約２倍程度の差が生じることが判明し
ている。即ち、本実施形態に係る電気光学装置によれば、表示不具合が発生するまでの時
間を２倍程度長くすることができる。
【００４８】
図３に戻り、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０は、機能的には画像表示領域１０
ａを覆うように設けられていれば十分であるが、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０
を画像表示領域１０ａにだけ設けようとすると、製造工程において極めて高い精度が求め
られてしまう。即ち、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０の端部を画像表示領域１０
ａの周囲の境界に高い精度で合わせることが求められてしまう。
【００４９】
これに対し、本実施形態に係る電気光学装置では、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２
２０が、ダミー画素領域１０ｂにまで重なるように設けられているため、画像表示領域１
０ａを確実に覆うと共に、ダミー画素領域１０ｂによって製造時のマージンを持たせるこ
とができる。従って、製造工程の複雑化を防止しつつ、確実に水分の浸入を防止すること
が可能となる。
【００５０】
図７に示すように、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０は、シール材５２に重なる
領域にまで設けられていてもよい。このように構成する場合であっても、第１絶縁膜２１
０及び第２絶縁膜２２０は、側面において装置外に露出することはない。従って、図３及
び図４に示す構成と同様に、装置内への水分の浸入を防止することができる。
【００５１】
尚、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０が装置外に露出するような構成であっても
、部分的に露出しない箇所が存在すれば、その分だけ水分の浸入を抑制することが可能で
ある。即ち、第１絶縁膜２１０及び第２絶縁膜２２０がシール材５２全体に重なるように
設けられない限り（言い換えれば、図５に示すような構成でない限り）、上述した効果は
相応に得られる。但し、確実に装置内への水分の浸入を防止するためにも、第１絶縁膜２
１０及び第２絶縁膜２２０が装置外へ露出する部分はできる限り少ない方が好ましい。
【００５２】
以上説明したように、本実施形態に係る電気光学装置によれば、装置内への水分の浸入
を防止することができるため、信頼性を向上させることができる。
【００５３】
＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について
説明する。ここに図８は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。以下では、この
液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクターについて説明する。
【００５４】
図８に示されるように、プロジェクター１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光
源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から
射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２
枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応す
るライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される
。
【００５５】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等
であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるも
のである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズ
ム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、
Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成さ
れる結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることと
なる。
【００５６】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着
目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂに
よる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００５７】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１
１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルターを
設ける必要はない。
【００５８】
尚、図８を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータ
や、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダー型、モニタ直視型のビデオテープレコ
ーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、
ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられ
る。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００５９】
また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置（ＬＣＯ
Ｓ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ、ＳＥＤ）、
有機ＥＬディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、電気泳動装置等に
も適用可能である。
【００６０】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体
から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような
変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範
囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００６１】
９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１０ｂ…ダミー画
素領域、１６…配向膜、２０…対向基板、２１…対向電極、２２…配向膜、５０…液晶層
、５２…シール材、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走
査線駆動回路、２１０…第１絶縁膜、２２０…第２絶縁膜

【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向するようにシール材で貼り合わされた第１基板及び第２基板と、
前記シール材の内側において、前記第１及び第２基板間に挟持された電気光学物質と、
前記第１基板上において、前記電気光学物質と対向するように設けられた第１電極と、
前記第１電極を覆うように形成された第１絶縁膜と、
前記第２基板上において、前記電気光学物質と対向するように設けられた第２電極と、
前記第２電極を覆うように形成された第２絶縁膜と
を備え、
前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜は、前記シール材と少なくとも部分的に重ならない
領域が存在するように設けられている
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜は、前記シール材と重ならないように設けられてい
ることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜は、表示に寄与する画素領域及び該画素領域の周囲
に位置するダミー画素領域に重なるように設けられていることを特徴とする請求項１又は
２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする
電子機器。

【図１】