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Fターム[2H090HA01]の内容

液晶−基板、絶縁膜及び配向部材 (35,882) | 絶縁膜及び配向部材の構造 (2,148) | 絶縁膜の構造 (1,020)

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【課題】パターン加工した透明電極と下地との表面の段差に起因するラビングムラを抑制し、表示ムラのない液晶表示装置を実現するカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】透明基板1上のブラックマトリックス2の開口部に赤、緑、青の各画素が形成され、各画素上に透明導電膜5と絶縁膜6が形成された液晶表示装置用カラーフィルタ基板において、透明導電膜はパターン形成され、該透明導電膜が除去された部分には絶縁膜が形成されており、かつ透明導電膜と絶縁膜における表面の段差が50nm以下である。 (もっと読む)


【課題】外部からの静電気に起因する画像の乱れを抑制した液晶装置および電子機器なら
びに液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶装置1は、第1基板としての素子基板10と第2基板としての対向基板
20との間に液晶層50が挟持され、素子基板10上に画素電極9と共通電極19とが形
成され、画素電極9と共通電極19との間に発生する電界によって液晶層50が駆動され
、対向基板20の液晶層50側の面に静電遮蔽層としての静電シールド層40が形成され
、静電シールド層40の液晶層50側に絶縁層を介して配向膜25が形成されている。 (もっと読む)


【課題】高い放射線感度を有し、低露光量であっても所望のパターン寸法を有し且つ強度に優れるパターン状薄膜が得られ、短い時間で現像可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)下記一般式(1)で表される化合物群から選択される少なくとも1種の(メタ)アクリレート化合物、及び(C)感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。


式(1)中、Xは各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基のいずれかを表す。 (もっと読む)


【課題】表面に凹部が存在する液晶セルガラス基板に対し、その凹部を充分に埋めて空隙に起因する輝点等を生じず、耐久性にも優れる光学フィルム貼合ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板1に粘着層6を介して光学フィルム5を積層し、光学フィルム貼合ガラス基板10とする。ガラス基板1は、深さDが15μm以下で幅Wが250μm以下の凹部2,3,4を有する。粘着層6は、アクリル酸アルキルと極性官能基を有する単量体とを含むモノマー混合物から得られ、高分子量でガラス転移温度が低い第一のアクリル樹脂、及びアクリル酸アルキルとメタクリル酸アルキルとを含むモノマー混合物から得られ、低分子量でガラス転移温度が高い第二のアクリル樹脂を含む粘着剤組成物から形成される。粘着層6がガラス基板1表面の凹部を埋め、埋まりきらずに空隙2aが残る場合でも、その投影面積は当初の凹部2の投影面積に比べて20%以下となる。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で、基板に対する感光材料層の貼り付け状態を容易且つ高精度に検出することを可能にする。
【解決手段】貼り付け位置検査装置94は、ゴムローラ80a、80bの下流側に配置される検出部96a〜96fを備える。検出部96aは、貼り付け基板24aの下方側から照明光Lを照射するLED照明98と、前記貼り付け基板24aの上方側に配置されるCCDカメラ100と、前記貼り付け基板24aに近接し且つ少なくとも感光性ウエブ22aから外部に露出するガラス基板24の一端部を覆って配置されるNDフィルタ102とを備える。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置の高輝度化、狭額縁化などを実現する。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置は、下部基板1と、下部基板1に対向する上部基板と、下部基板1と上部基板の間に設けられた液晶層とを備えるものであって、下部基板1は、単位画素領域12を区画するデータ配線及びゲート配線を3層以上の層構造を有する複数の配線4,5,6と、これら複数の配線のうち、第1の配線4を被覆する第1の絶縁膜7と、第1の絶縁膜7上に形成された第2の配線5を被覆する第2の絶縁膜8と、第2の絶縁膜8上に形成された第3の配線6を被覆する第3の絶縁膜9と、単位画素領域12に保持容量を形成する上層透明電極10及び下層透明電極11とを有し、第3の配線6を下層透明電極11と同層に形成するとともに、上層透明電極10及び下層透明電極11の間に第3の絶縁膜9を介在させて保持容量を形成している。 (もっと読む)


【課題】シール領域に配置された液状材が、表示領域に侵入することを防止することによって、表示品質の低下を防止する。
【解決手段】表示領域10aの外側を囲うシール領域10bに形成されたシール材52を介して貼り合わされた一対の基板10,20と、上記基板10,20間の上記表示領域10aに挟持される液晶とを有する液晶装置であって、少なくとも上記表示領域10aのいずれか一方の基板10,20に形成されるとともに、上記液晶の液晶分子の配向方向を規制する無機配向膜16,22と、上記シール領域10bから上記表示領域に形成される上記無機配向膜16,22への液状材55の侵入を防止する絶縁部53,54とを備える。 (もっと読む)


【課題】オーバーコート層及び柱状スペーサを備えた液晶装置において、シール材の内周近傍における表示品質を向上することにより、表示領域を広くする。
【解決手段】表示領域Vを囲むように設けられたシール材4によって互いに貼り合わされたカラーフィルタ基板5及び素子基板6と、カラーフィルタ基板5上に設けられた複数の着色膜40と、着色膜40の周囲に設けられた遮光膜41と、着色膜40及び遮光膜41を覆うオーバーコート層42と、表示領域V内であってオーバーコート層42上に設けられた第1柱状スペーサ7とを有する液晶装置である。オーバーコート層42はカラーフィルタ基板5の表示領域Vと該表示領域Vからシール材4の形成部を越えた領域に設けられている。第1柱状スペーサ7と同じ高さの第2柱状スペーサ8がシール材4の中に設けられる。 (もっと読む)


【課題】各画素の液晶分子を電圧の印加により安定に倒れ配向させ、ざらつき感の無い良好な品質の画像を表示することができる垂直配向型の液晶表示素子を提供する。
【解決手段】一対の基板1,2の内面のうちの一方の基板1の内面に、複数の画素電極3と、複数のTFTと、複数の走査線及び信号線と、複数の画素電極3のそれぞれの中央部に対応させて設けられた複数の凸部13とを設け、他方の基板2の内面に対向電極20を設け、一対の基板1,2の内面それぞれに垂直配向膜25,26を設け、一対の基板1,2間の間隙に、負の誘電異方性を有する液晶層27を封入した。 (もっと読む)


【課題】開口率を向上させると共に補助容量を大きくした液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第1の基板10Aに有するアクティブ素子の上層に形成されたゲート絶縁膜12B、ゲート電極2、層間絶縁膜12C、映像線Dとソース電極4とをこの順で積層する。層間絶縁膜12Cは高誘電体微粒子またはゾルゲルを少なくとも含む比誘電率4.0以上の塗布型透明絶縁膜で形成される。ゲート絶縁膜12Bに第1のスルーホールSH3を有し、第1のスルーホールSH3内の層間絶縁膜12Cに第2のスルーホールSH4を形成し、ソース電極4を第2のスルーホールSH4を介してアクティブ素子に電気的に接続し、ゲート電極2と映像線Dとソース電極4および層間絶縁膜12Cで保持容量を構成する。 (もっと読む)


【課題】シール材近傍のギャップムラの発生を抑制し、製造歩留まりを向上することが可能な液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 シール材11によって貼り合わされたアレイ基板100と対向基板200との間に液晶層300を保持し、複数の画素PX(R、G、B)によって構成されたアクティブエリア12を備え、アレイ基板100は、アクティブエリア12の周辺に額縁状に配置された遮光層15と、遮光層15の外周に配置され遮光層15と同等の膜厚の平坦化層16と、を備え、シール材11は、遮光層15及び平坦化層16の上に配置されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】積層フォトスペーサーPS を形成する分割露光時にブラインドシャッターの不具合の有無を、カラーフィルタの画面内を比較検査し検出する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【解決手段】分割露光を行う際に、ブラインドシャッターを具備する露光装置を用い、少なくとも着色画素42、配向制御突起Mv及び積層フォトスペーサーを有するカラーフィルタの製造にて、1)画面11内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)をL、画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T2)を、Lの約数以外、又はLの倍数以外のMとしたフォトマスクを用い、2)Lを検査単位としカラーフィルタの画面内の比較検査を行う。 (もっと読む)


【課題】現像残渣の発生を抑えた現像性を有し、パターン形成性並びに無機系材料の表面や凹凸面への密着性を向上する。
【解決手段】重合性不飽和基当量が600以下であって、質量平均分子量が3000以上である熱硬化性樹脂成分を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】額縁領域の少なくとも端子領域の表面の段差を小さくし、配線が断線しにくい液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】シール材で貼り合わされた第1及び第2の透明基板を有する液晶パネルを備えた液晶表示装置において、第1の透明基板11の第2の透明基板と対向する面であって、シール材で囲まれた表示領域16の外側の額縁領域17には、第1の透明基板11側から順に、所定間隔で設けられた第1の配線18a、第1の配線18a及び第1の透明基板11を覆うゲート絶縁膜22、ゲート絶縁膜22上であって第1の配線18aの間に位置する第2の配線18b、第2の配線18b及びゲート絶縁膜22を覆う保護膜26が積層され、額縁領域17の一部である端子領域19では、ゲート絶縁膜22の第1の配線18aの間に凹部22aを形成し、凹部22aを埋めるように第2の配線18bを設ける。 (もっと読む)


【課題】絶縁膜による配向材の流動性阻害を抑制することにより配向膜の厚みムラに起因する表示品位の低下を抑制する。
【解決手段】本発明の液晶装置は、一対の基板及びこれらに挟持されてなる液晶を有し、複数のサブ画素Gを備えるとともにサブ画素には透過表示領域Gt及び反射表示領域Grが設けられ、一方の基板110はサブ画素に対応して設けられてなるスイッチング素子113及びこれに接続されてなる配線112並びにこのスイッチング素子及び配線上に配置される絶縁膜115を有し、絶縁膜は透過表示領域及び隣接するサブ画素の境界に沿う領域に凹部115x,115zを有し、絶縁膜のうち凹部以外の部分の少なくとも一部が反射表示領域と平面的に重なり配置され、隣接するサブ画素の境界に沿う領域に形成された凹部115zは透過表示領域に形成された凹部115xより浅いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】広視野角で高開口率、高精細化が可能な垂直配向方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】垂直配向方式の液晶表示装置において、液晶に印加する電圧の極性を周期的に反転させる反転駆動方式としてドット反転駆動を行うことにより、隣の画素電位の影響を抑制し、画素電極間の距離を小さくして、広視野角で高開口率、高精細化が可能な垂直配向方式の液晶表示装置を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】 共通の露光、現像、及び焼成によって樹脂膜の異なる位置に個別に必要な形状を設ける場合に、熱変形させたい形状と熱変形させたくない形状とを個別に熱変形させることができる電気光学装置を提供する。
【解決手段】 液晶層12と、ガラス転移温度G1を有する感光性樹脂膜22aと、感光性樹脂膜22aの上に形成されたガラス転移温度G1よりも低いガラス転移温度G2を有する感光性樹脂膜22bとを有する液晶装置である。露光処理及び焼成処理によって感光性樹脂膜22aと感光性樹脂膜22bのそれぞれに必要な形状が正確に設けられる。必要な形状としては、反射光散乱用の凹凸パターンや、コンタクトホール25や、液晶層12の膜厚調整用の凹部27等がある。樹脂膜22b上の凹凸パターンは比較的大きく平坦化し、樹脂膜22a内のコンタクトホール25の平坦化を少なくできる。 (もっと読む)


【課題】 液晶装置等の電気光学装置において、ダミー画素と表示画素との境界付近における画質の不連続な変化を防止し且つダミー画素が占める領域の増大を抑制する。
【解決手段】 電気光学装置は、基板上に、画素領域に配置された複数の画素部と、複数のダミー画素領域に夫々配置されたダミー画素部とを備えている。ダミー画素領域の配列ピッチは、画素領域の配列ピッチより小さく、且つ、画素領域の一辺から離れるに従って徐々に小さくなる。ダミー画素領域のうち画素領域に隣接する第1ダミー画素領域の配列ピッチの画素領域の配列ピッチに対する大きさの比率は、第1ダミー画素領域に対して画素領域とは反対側に隣接する第2ダミー画素領域の配列ピッチの第1ダミー画素領域の配列ピッチに対する大きさの比率よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】連続走行しているフィルムの有機性物質による汚染を除去し高度に清浄化する。
【解決手段】洗浄液を貯溜した洗浄槽中に縦方向に平行に設けた少なくとも一対の超音波発生器と反射板の間を、走行フィルムを少なくとも1往復させる工程を含むことを特徴とするフィルムの洗浄方法に関するものである。次いで該フィルム表面を清浄水およびエアーナイフの少なくとも一つを使用して清浄化する工程を含むことができる。 (もっと読む)


【課題】 輝度が高いと共に画像のコントラストが大きく、低コスト且つ容易に製造することができる液晶表示装置及びその製造方法並びに投射表示装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板5上にTFT10を形成し、コンタクトホール12a及び12bの内壁及び底面に延出するように、SD配線層13a及び13bを形成する。このとき、SD配線層13a及び13bの上面にはコンタクトホール12a及び12bの形状を反映した凹部が形成される。次に、常圧CVD法により、O中のO濃度を5乃至20g/mとし、低濃度O−TEOS系SiO膜を成膜し、引き続き、O中のO濃度を100乃至200g/mとし、高濃度O−TEOS系SiO膜を成膜する。これにより、凹部内に埋設され平坦面14aを備えたシリコン酸化膜14が形成される。その後、蓄積容量18を形成する。 (もっと読む)


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