【課題】光配向によって配向処理された配向膜を有する液晶表示装置において、残像を早期に消失させ、高画質の液晶表示装置を得る。
【解決手段】配向膜１１３は光導電特性を有している。走査線１０が下部に存在する領域はバックライトが照射されないので、光導電効果が得られない。この部分の電荷を早期に開口部５５の配向膜１１３に移動させ、残像を早期に消失させるために、走査線１０の上方に配置する配向膜１１３の下にフォトレジスト３０を配置する。フォトレジスト３０は膜厚が１．５μｍ程度であり、配向膜１１３の厚さ７０ｎｍの２０倍以上なので、フォトレジスト３０が存在する部分では、横方向の抵抗が小さい。したがって、走査線１０の上に存在する配向膜１１３上の電荷が早期に開口部５５の配向膜１１３に移動し、消失するので、残像が早期に消失する。 （もっと読む）

【課題】イオン性不純物トラップ用の電極を設けなくても、イオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶装置１００においては、フレーム反転駆動方式が採用されている。また、第１基板１０側の配向膜１６には、画素電極９ａの端部に平面視で重なる部分に、第２基板２０に向けて突出した突部１６ａが設けられており、液晶層５０の流動は突部１６ａによって阻害される。突部１６ａは、例えば、画素電極９ａの端部と配向膜１６との間に設けられた膜１７ａの形状が配向膜１６の表面に反映されてなる。 （もっと読む）

【課題】斜方蒸着により無機配向膜が効率よく形成され、安定した光学特性と表示品質とを兼ね備えた液晶装置、液晶装置の製造方法、この液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置１００は、第１の基板としての素子基板１０と、第２の基板としての対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０とにより挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層５０と、素子基板１０と液晶層５０との間に設けられ、複数の凹部１１ａを有する下地絶縁膜１１と、下地絶縁膜１１と液晶層５０との間に設けられ、下地絶縁膜１１に応じた凹部表面を有する電極としての画素電極１５と、凹部表面に斜方蒸着により形成された無機配向膜としての配向膜１８とを備えた。 （もっと読む）

【課題】スピンエッチング等を確実に行うことのできる基板、および当該基板を用いた電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】電気光学装置用基板１０ｓは、第１基板面１０ｔ側に第１面取り面１０ｅ、第１円弧面１０ｆを備え、第２基板面１０ｕ側に、第２面取り面１０ｉ、および第２円弧面１０ｈを有している。第１円弧面１０ｆの曲率半径Ｒaは第２円弧面１０ｈの曲率半径Ｒbより大であり、第１基板面１０ｔと第１面取り面１０ｅとが成す第１面取り角度θaは、第２基板面１０ｕと第２面取り面１０ｉとが成す第２面取り角度θbより大きい。平面視における第１面取り面１０ｅの幅寸法と平面視における第１円弧面１０ｆの幅寸法との和ｄaは、平面視における第２面取り面１０ｉの幅寸法と平面視における第２円弧面１０ｈの幅寸法との和ｄbより大である。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜等の電極との密着性に優れ、耐熱性に優れた表示素子用硬化膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］メルカプト基を有するポリシロキサン、及び［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物であり、さらに、［Ａ］メルカプト基を有するポリシロキサン中のＳｉ原子に対するメルカプト基の含有率が、５モル％を超え６０モル％以下であるポジ型感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、製造工程数の増加を招くことなく、画素領域への水分の浸入を防止する。
【解決手段】電気光学装置は、第１基板（１０）上に設けられた複数の画素電極（９）と、複数の画素電極が設けられた画素領域（１０ａ）を囲むように設けられ、第１基板及び第２基板（２０）を貼り合わせるシール材と、第１基板上に、画素電極に容量絶縁膜（７２）を介して対向するように設けられた容量電極（７１）と、画素電極及び容量電極間に吸湿性の絶縁材料から形成された第１絶縁膜（１７）と、第１絶縁膜と同層に第１絶縁膜と同一の吸湿性の絶縁材料から形成されるとともに、画素領域とシール材との間に画素領域を囲むように、且つ、第１絶縁膜とは離間して設けられた第２絶縁膜（６１０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】電気容量を小さくできる層間絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、及び、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ４）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表されるオキシムスルホネート化合物、（成分Ｃ）塩基性含窒素環状化合物、及び、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】 階調表示と応答性の改善を両立させ、さらに高輝度表示、及び透過表示若しくは反射表示の可能な斜め電界液晶表示装置用のカラーフィルタ基板、及びこのカラーフィルタ基板を備える斜め電界液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 階調表示を行う通常表示と明るいダイナミック表示、透過表示若しくは反射表示が可能な斜め電界液晶表示装置用カラーフィルタ基板であって、透明基板、この透明基板上に形成された透明導電膜、この透明導電膜上に形成された、複数の多角形画素形状の開口部を有するブラックマトリクス、このブラックマトリクスの開口部の中央に形成された第２の透明樹脂層、この透明導電膜上に形成された着色層、及びこの着色層上に形成された第１の透明樹脂層を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示不良および端面剥がれを低減することができる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶を介して対向配置される一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２のうち少なくとも一方の基板ＳＵＢ１に該基板の端面の近傍まで絶縁膜ＰＡＳ２が形成され、一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２の間に液晶の封入かつ各基板同士を接着させるシール部ＳＬが形成され、シール部ＳＬに形成された液晶封入口１１から液晶が封入される液晶表示装置１００において、絶縁膜ＰＡＳは、シール部ＳＬのうち液晶封入口１１を形成する部分と重なる位置の絶縁膜ＰＡＳ２の端面から基板ＳＵＢ１の端面近傍まで延在した延在部１２を有し、延在部１２は、該延在部１２の厚み方向に直交する断面がシール部ＳＬの幅方向の中心を通る線に対して対称、かつシール部ＳＬの幅方向の幅が一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２を貼り合わせて形成したシール部ＳＬの幅よりも小さく形成されている。 （もっと読む）

【課題】表面抵抗の高い硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。さらに、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ４）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）特定構造のオキシムスルホネート化合物、（成分Ｃ）特定構造のフッ素系化合物、並びに、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜及びその形成方法、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置。
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【課題】感度及び塗布性に優れ、液晶への汚染が少ない硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物、その硬化膜及び形成方法、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置の提供。
【解決手段】式（ａ１）〜（ａ４）の構成単位を有する共重合体、式（Ｂ）のオキシムスルホネート化合物、式（Ｃ１）又は（Ｃ２）の化合物及び溶剤を含有する感光性樹脂組成物、その硬化膜及び形成方法、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】カラーフィルタ用ガラス基板の再生において、ガラス基板の全面研磨を行うことなく、パターン形成の構成物である樹脂などの残渣を削除するカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に、少なくとも感光性黒色樹脂からなる遮光層及び感光性着色樹脂層でパターン形成されたカラーフィルタ用ガラス基板の再生方法であって、該パターン形成の不具合部を、水性の洗浄液を用いた前記遮光層及び感光性着色層の樹脂剥離、除去、洗浄手段と、その後の水洗洗浄及び乾燥手段と、さらに、欠陥検査機による残渣の検出手段と検出手段で画像認識された残渣を、レーザー照射で除去する手段を具備してなることを特徴とするカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置である。 （もっと読む）

【課題】高品位な表示を得ることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置は、素子基板と対向基板との間にシール材１４を用いて液晶層１５が挟持されており、素子基板及び対向基板のうち少なくとも一方の基板におけるシール材１４と当接する部分に、パターニングされたシール下地膜７１が設けられている。 （もっと読む）

【課題】画素電極表面でのヒロックの発生を防止することのできる電気光学装置、該電気光学装置を用いた投射型表示装置、および当該電気光学装置の製造方法を提供すること。
【課題手段】電気光学装置１００の素子基板１０においては、画素電極９ａを形成するための反射性導電膜と、絶縁保護膜１７を形成するためのシリコン酸化膜をこの順に成膜した後、反射性導電膜およびシリコン酸化膜を同時にパターニングして反射性の画素電極９ａと絶縁保護膜１７とを同一工程でパターニングし、しかる後に、絶縁保護膜１７の上層側にシリコン酸化膜からなる平坦化絶縁膜１８を形成する。従って、絶縁保護膜１７は、画素電極９ａと同一パターン形状をもって画素電極９ａに重なっている。 （もっと読む）

【課題】現像性が良好で、形成された硬化膜の絶縁性、透明性、耐アルカリ性、基板との密着性に優れた感光性組成物、それを用いた感光性樹脂転写フィルム、樹脂パターン、樹脂パターンの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置の提供。
【解決手段】（Ａ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｂ）ジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート（ｂ１）及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含み、重合性化合物の総含有量に対する、（ｂ１）の含有率をＷ１、一般式（ｂ２）で表される化合物の含有率をＷ２としたとき、Ｗ１とＷ２とが、下記式（１）及び式（２）に示す関係を満たし、重合性化合物の総含有量に対する、該（Ｃ）光重合開始剤の含有比が、０．６以上５未満である感光性組成物。０．６≦Ｗ２／Ｗ１≦３．０・・・式（１）６３質量％≦Ｗ１＋Ｗ２≦１００質量％・・・式（２）
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【課題】駆動電圧を低減させ、より高コントラスト化を可能とするブルー相を示す液晶材料を用いた液晶表示装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、第１の電極層（画素電極層）上に第１の壁状構造体、同様に第２の電極層（共通電極層）上に第２の壁状構造体を設け、これらを誘電体膜で被覆する構成とする。誘電体膜は、第１の壁状構造体及び第２の壁状構造体及び液晶層に用いられる液晶材料の誘電率より高い誘電率を有する絶縁体であり、液晶層に突出するように設けられる。 （もっと読む）

【課題】垂直配向液晶に付随するディスクリネーションを軽減し、明るく応答性の良い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、ブラックマトリクス、透明導電膜、及び樹脂層を形成してなる液晶表示装置用電極基板において、前記ブラックマトリクスは、遮光性顔料を樹脂に分散した遮光層からなり、かつ複数の開口部を有し、前記樹脂層は、前記ブラックマトリクス及び透明導電膜を備える透明基板上に形成され、前記ブラックマトリクスの上方において凸部を形成し、前記ブラックマトリクスの開口部中心を通る領域に凹部を形成することを特徴とする液晶表示装置用基板。 （もっと読む）

【課題】保存安定性及び感度に優れ、且つ、透明性、耐溶剤性及びパターン形状に優れた硬化膜を形成しうる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】酸分解性基で保護されたカルボキシ基及び酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基から選択された少なくとも一つを有する構造単位（１）と、エポキシ基及びオキセタニル基から選択された少なくとも一つを有する構造単位（２）と、を含有する共重合体、オキシムスルホネート基を有する特定構造の光酸発生剤、増感剤、及び溶剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外線領域における光に対する耐性に優れ、高感度で表示素子のスペーサー、保護膜、層間絶縁膜を形成しえる感放射線性樹脂組成物であり、表示素子のスペーサーとして、従来から要求されているラビング耐性と、高回復率と柔軟性を併せ持つ圧縮性能を維持しつつ、さらに高度の膜厚均一性を有する表示素子用の保護膜、層間絶縁膜ならびにその形成方法を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）カルボキシル基を有する重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、ならびに（Ｄ）下記式（１）または（２）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】安定した電気光学特性を有する電気光学装置を製造可能な電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置の製造方法は、基板上に画素回路と、画素回路を駆動制御する駆動回路とを形成するステップＳ１〜ステップＳ５と、画素回路および駆動回路を構成する構造物上に第１層間絶縁膜を形成するステップＳ６と、第１層間絶縁膜の高さが他の部分に比べて高い部分の第１層間絶縁膜の表面に少なくとも１つの凹部を形成するステップＳ７と、凹部が形成された第１層間絶縁膜に平坦化処理を施すステップＳ８と、を備えた。 （もっと読む）