電気光学装置用多面取り基板及びパネル

【課題】撥液性の薄膜を隔壁に均一に転写することのできる電気光学装置用多面取り基板を提供する。
【解決手段】電気光学装置用多面取り基板１０は、複数のパネル１１を備え、複数のパネル１１のそれぞれには、液滴吐出法により電気光学素子の液状の構成材料が塗布される画素領域を区画する隔壁が形成されており、複数のパネル１１のうち少なくとも一部のパネル間には、液状の構成材料に対して撥液性の薄膜を隔壁に転写するための転写ローラを受ける受け部材５０が形成されており、受け部材５０の高さは、隔壁の高さよりも低い。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液滴吐出法により電気光学素子を形成するための電気光学装置用多面取り基板及びパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、電流駆動型の自発光素子であるため、バックライトが不要となる上に、低消費電力、高視野角、高コントラスト比が得られるメリットがあり、フラットパネルディスプレイの開発において期待されている。有機ＥＬ素子は、陽極と陰極との間に介在する発光層を備えた電気光学素子であり、順バイアス電流を供給することで、陽極から注入された正孔と陰極から注入された電子とが再結合する際の再結合エネルギーにより自発光する。有機ＥＬ素子の製造方法として、例えば、有機ＥＬ素子を構成する発光層の有機材料を溶媒で溶解又は分散させて液状化し、これを液滴吐出装置から画素領域に吐出して乾燥させる液滴吐出法が知られている。液滴吐出法では、液滴の画素領域への着弾性を高めることが重要であることから、画素領域を区画する隔壁の表面を撥液性に表面処理し、被塗布面を親液性に表面処理している。隔壁の表面を撥液性にするための方法として、例えば、特許文献１には、ラミネータを用いて撥液性のラミネートフィルムを隔壁の表面に転写する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１７６９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、ラミネータでは、転写ローラの両端にある軸受けで力を加えて転写しているため、転写ローラの中央部分に撓みが生じると、転写ローラの中央部分から作用する圧力が相対的に小さくなり、転写ローラの軸受けに近い部分から作用する圧力が相対的に大きくなる。このような圧力差が生じると、ラミネートフィルムを均一な圧力で転写できなくなるため、転写ムラの原因になる。
【０００５】
そこで、本発明は、このような問題を解決し、撥液性の薄膜を隔壁に均一な圧力で転写することのできる電気光学装置用多面取り基板及びパネルを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明に係わる電気光学装置用多面取り基板は、複数のパネルを備える電気光学装置用多面取り基板であって、複数のパネルのそれぞれには、液滴吐出法により電気光学素子の液状の構成材料が塗布される画素領域を区画する隔壁が形成されており、複数のパネルのうち少なくとも一部のパネル間には、液状の構成材料に対して撥液性の薄膜を隔壁に転写するための転写ローラを受ける受け部材が形成されており、受け部材の高さは、隔壁の高さよりも低い。斯かる構成によれば、電気光学装置用多面取り基板に形成された隔壁に撥液性の薄膜を転写する際に、転写ローラの中央部付近から作用する圧力により隔壁は高さ方向に圧縮される一方、受け部材の高さ方向の圧縮は制限され、転写ローラの両端付近から作用する圧力が受け止められる。これにより、撥液性の薄膜の転写時に転写ローラから作用する圧力を均等化することができる。
【０００７】
本発明に係わるパネルは、液滴吐出法により電気光学素子の液状の構成材料が塗布される画素領域を区画する隔壁と、液状の構成材料に対して撥液性の薄膜を隔壁に転写するための転写ローラを受ける受け部材とを備え、受け部材の高さは、隔壁の高さ以下である。斯かる構成によれば、パネルに形成された隔壁に撥液性の薄膜を転写する際に、転写ローラの中央部付近から作用する圧力により隔壁は高さ方向に圧縮される一方、受け部材の高さ方向の圧縮は制限され、転写ローラの両端付近から作用する圧力が受け止められる。これにより、撥液性の薄膜の転写時に転写ローラから作用する圧力を均等化することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施例１に係る電気光学装置用多面取り基板の平面図である。
【図２】実施例１に係るパネルの回路構成図である。
【図３】実施例１に係るパネルの製造工程断面図である。
【図４】実施例１に係わる転写ローラの説明図である。
【図５】実施例１に係るパネルの断面図である。
【図６】実施例２に係るパネルの平面図である。
【図７】実施例２に係るパネルの断面図である。
【図８】実施例４に係る電子機器の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、各図を参照しながら本発明に関わる実施例について説明する。同一符号の部材は同一の部材を示すものとして重複する説明を省略する。また、特に断りがない限り、本明細書において、上下方向は、各図（図２，図８を除く）の±Ｚ方向を意味するものとする。
【実施例１】
【００１０】
図１は本実施例に係る電気光学装置用多面取り基板１０の平面図である。多面取り基板１０には、製品の最終製造段階で相互に分離されることが予定されている複数のパネル１１が形成されている。各パネル１１には、電気光学装置として機能するための各種部品が実装されており、同図に示す段階では、半製品の状態にある。符号５０は、受け部材を示しており、その説明は後述する。なお、多面取り基板１０は、母基板と称することもできる。
【００１１】
図２はパネル１１の回路構成図である。パネル１１には、走査線駆動回路１６に接続する複数の走査線１２と、信号線駆動回路１５に接続するとともに各走査線１２に交差する方向に延在する複数の信号線１３と、各信号線１３に並行に延在する複数の電源線１４とがそれぞれ配線されている。走査線１２と信号線１３とが交差する箇所には、走査線１２からの走査信号がそのゲート端子に供給されるスイッチングトランジスタ２１と、スイッチングトランジスタ２１がオン状態のときにスイッチングトランジスタ２１を介して信号線１３から供給される画素信号を保持する保持容量２２と、保持容量２２の電位がそのゲート端子に供給される駆動トランジスタ２３と、駆動トランジスタ２３がオン状態のときに駆動トランジスタ２３を介して電源線１４に接続する有機ＥＬ素子２７が配置されている。有機ＥＬ素子２７は、電気的作用により光の光学的状態を変化させる電気光学素子として機能するものであり、発光作用を担う機能層２６を陽極（画素電極）２４と陰極（共通電極）２５との間に備えている。
【００１２】
上述の回路構成により、走査線１２から走査信号がスイッチングトランジスタ２１のゲート端子に供給されて、スイッチングトランジスタ２１がオン状態になると、信号線１３から保持容量２２に画素信号が供給される。駆動トランジスタ２３のオン／オフ状態は、保持容量２２の電位に応じて定まり、駆動トランジスタ２３がオン状態になると、電源線１４から駆動トランジスタ２３のチャネルを介して有機ＥＬ素子２７に電流が流れる。有機ＥＬ素子２７は、電流に応じた輝度で発光する。
【００１３】
図３はパネル１１の製造工程断面図を示す。本実施例では、画素領域４０から光を取り出す方式として、ボトムエミッションを例示するが、トップエミッションにも適用可能である。多面取り基板１０の材質として、適度な機械的強度と光透過性を有する材質が好ましく、例えば、ガラス、石英ガラス、窒化ケイ素等の無機物や、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の有機高分子樹脂を用いることができる。多面取り基板１０には回路素子層３０が形成されている。回路素子層３０には、上述の各種回路素子（走査線１２、信号線１３、電源線１４、スイッチングトランジスタ２１、保持容量２２、及び駆動トランジスタ２３）が埋め込み形成されている。回路素子層３０の材質として、光透過性を有する絶縁膜が好ましく、例えば、シリコン酸化膜が好適である。走査線１２と信号線１３とが交差する箇所には、画素領域４０が形成されている。画素領域４０は、有機ＥＬ素子２７が形成される領域であり、多面取り基板１０側に向けて断面凹状に陥没している。同図に示す例では、有機ＥＬ素子２７の陽極２４が画素領域４０に対応して回路素子層３０に形成された状態が示されている。陽極２４の材質として、正孔注入効果の高い材料が好ましく、例えば、インジウム錫酸化物等の金属酸化物を用いることができる。回路素子層３０には、陽極２４の一部の表面が画素領域４０に露出するように絶縁膜３１が形成されている。絶縁膜３１には、画素領域４０を区画するための隔壁３２が形成されている。隔壁３２の材質として、適度な柔軟性、耐熱性、及び耐溶剤性を有する絶縁膜が好ましく、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、オレフィン樹脂、メラミン樹脂等の高分子材料、ポリシラザン、ポリシロキサン等を含有した有機・無機ハイブリッド材料等が好適である。隔壁３２の形成方法としては、リソグラフィ法や印刷法等、任意の方法を用いることができる。例えば、リソグラフィ法を使用する場合は、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート等所定の方法で、絶縁膜３１上に隔壁３２の構成材料からなる層を形成した後、エッチングやアッシング等によりパターニングすればよい。
【００１４】
各発光領域４０には、機能層２６の液状の構成材料が液滴吐出法により塗布され、更に乾燥及び焼成処理を経て機能層２６が形成される。機能層２６の構成として、例えば発光層／正孔注入層の積層構造を用いることができる。正孔注入層は、導電性高分子材料にドーパントを含有する導電性高分子層から成るものであり、例えば、ドーパントとしてポリスチレンスルホン酸を含有する３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを構成材料とする。発光層は、エレクトロルミネセンス現象を発現する有機発光物を構成材料とする。なお、液滴吐出法では、電気機械変換方式、帯電制御方式、加圧振動方式、電気熱変換方式、又は静電吸引方式等により微小な液滴を高解像度に吐出する液滴吐出装置を用いるのが好ましい。機能層２６の液状の構成材料の粘度は、液滴吐出装置のノズルから吐出可能な粘度であることが好ましく、水性であるか油性であるかは問わない。また、そのような液状の構成材料に固体物質が混入していても構成材料全体として液滴吐出可能な粘度を有していればよい。また、液体の構成材料に含まれる固体物質は融点以上に加熱されて溶解されたものでもよく、或いは溶媒中に微粒子として分散されたものでもよい。
【００１５】
機能層２６の液状の構成材料を画素領域４０へ正確かつムラなく着弾させるため、画素領域４０の内部が親液性になるように表面処理し、隔壁３２の表面が撥液性になるように表面処理するのが好ましい。親液性とは、液状の構成材料との接触角が相対的に小さい性質を意味し、撥液性とは、液状の構成材料との接触角が相対的に大きい性質を意味する。画素領域４０の内部を親液性に処理するためには、例えば、酸素プラズマ処理を実施すればよい。隔壁３２の表面を撥液性に処理する方法として、本実施例では、撥液性の薄膜であるラミネートフィルム３３を隔壁３２の表面に転写する。ラミネートフィルム３３は、例えば、数十μｍ程度の所定膜厚を有するポリエチレンテレフタレート製ベースフィルムにフッ素コーティング剤をバーコーターで塗工し、所定条件（例えば１００℃で３０秒間）で加熱することにより得られる。
【００１６】
図４は、ラミネートフィルム３３を隔壁３２の表面に転写するためのラミネータの転写ローラ６０を示す。同図に示すように、転写ローラ６０の両端での撓みは少なく、加圧力が相対的に大きいのに対し、転写ローラ６０の中央部分での撓みは大きく、加圧力が相対的に小さい。このような圧力差を吸収するため、本実施例では、図１に示すように、転写ローラ６０を受けるための受け部材５０を多面取り基板１０に形成する。受け部材５０は、転写ローラ６０の両端付近の圧力を受けることによって、基板側への過大な圧力の作用を制限し、転写ローラ６０の圧力を均等化するための部材である。受け部材５０の材質としては、隔壁３２の材質よりも硬質であることが好ましく、例えば、シリコン窒化膜やシリコン窒化膜が好適である。同図に示す例では、各パネル１１の両側にラミネート方向に沿って受け部材５０が形成されている例を示しているが、この例に限られるものではなく、転写ローラ６０の寸法と各パネル１１の寸法との関係を考慮して、複数のパネル１１のうち少なくとも一部のパネル間に受け部材５０を形成し、加圧ローラ６０が及ぼす圧力が均等になるようにすればよい。なお、ラミネート方向とは、ラミネートフィルム３３の搬送方向を意味し、図１のＹ方向に一致する。また、受け部材５０は、ラミネート方向に平行な方向（Ｙ方向）と垂直な方向（Ｘ方向）の二方向に格子状に形成してもよい。
【００１７】
図５はパネル１１の断面構造を示している。但し、同図は、多面取り基板１０、回路素子層３０、隔壁３２、及び受け部材５０のみを図示し、他の部材の図示を省略している。また、説明の便宜上、図５に示す隔壁３２の形状及び寸法比率は、図３のものと異なる点に留意されたい。本実施例では、隔壁３２の高さをＤ１、受け部材５０の高さをＤ２としたとき、Ｄ１＞Ｄ２の関係を満たすように受け部材５０を形成する。但し、隔壁３２は、数μオーダーの段差を有する回路素子層３０上に形成されているため、その表面の高さ分布は必ずしも均一ではなく、回路素子層３０の段差を反映している。隔壁３２の硬度は、受け部材５０の硬度よりも相対的に柔らかく、そしてその高さＤ１は、受け部材５０の高さＤ２よりも高いため、ラミネートフィルム３３の転写時に転写ローラ６０の中央部付近から作用する圧力により隔壁３２は高さ方向に圧縮される一方、受け部材５０の高さ方向の圧縮は制限され、転写ローラ６０の両端付近から作用する圧力が受け止められる。これにより、ラミネートフィルム３３の転写時に転写ローラ６０から作用する圧力を均等化することができる。
【００１８】
上述の工程により、隔壁３２にラミネートフィルム３３が転写され、更に、各発光領域４０に機能層２６が形成されると、機能層２６及びラミネートフィルム３３のそれぞれの露出面に陰極２５が全面成膜（べた成膜）される。陰極２５は、例えば、カルシウムとアルミニウムの積層膜である。
【００１９】
本実施例によれば、複数のパネル１１が形成される多面取り基板１０の隔壁３２に撥液性のラミネートフィルム３３を転写する際に、転写ローラ６０から作用する圧力を均等化することができる。
【実施例２】
【００２０】
図６は本実施例に係わるパネル１１の平面図である。本実施例では、一つのパネル１１内に受け部材５０を形成している。パネル１１の寸法が転写ローラ６０の寸法よりも大きい場合等には、転写ローラ６０から作用する圧力を均等化するために、一つのパネル１１内に受け部材５０を形成するのが好ましい。同図に示す例では、各画素領域４０の両側にラミネート方向に沿って受け部材５０が形成されている例を示しているが、この例に限られるものではなく、転写ローラ６０の寸法と各パネル１１の寸法との関係を考慮して、加圧ローラ６０が及ぼす圧力が均等になる位置に受け部材５０を形成すればよい。但し、本実施例では、図７に示すように、受け部材５０の高さＤ２は、隔壁３２の高さＤ１以下に制限する。また、受け部材５０の硬度は、隔壁３２の硬度よりも硬いものが好ましい。また、受け部材５０は、ラミネート方向に平行な方向（Ｙ方向）と垂直な方向（Ｘ方向）の二方向に格子状に形成してもよい。なお、本実施例におけるパネル１１の回路構成及びその断面構造は、図２及び図３に示すものと殆ど共通しているため、その詳細な説明を省略する。
【００２１】
本実施例によれば、大面積のパネル１１の隔壁３２に撥液性のラミネートフィルム３３を転写する際に、転写ローラ６０から作用する圧力を均等化することができる。
【実施例３】
【００２２】
上述の実施例１，２では、電気光学素子として有機ＥＬ素子２７を例示したが、本発明はカラーフィルタを有する液晶素子にも応用可能である。
【実施例４】
【００２３】
次に、本実施例に係わる電子機器の具体例について説明する。
図８（Ａ）に示すように、携帯電話５３０は、アンテナ部５３１、音声出力部５３２、音声入力部５３３、操作部５３４、及び表示部５００を備える。
図８（Ｂ）に示すように、ビデオカメラ５４０は、受像部５４１、操作部５４２、音声入力部５４３、及び表示部５００を備える。
図８（Ｃ）に示すように、テレビジョン５５０は、表示部５００を備える。
図８（Ｄ）に示すように、ロールアップ式テレビジョン５６０は、表示部５００を備える。
図８（Ａ）乃至図８（Ｄ）に示す表示部５００は、実施例１乃至３に記載のパネル１１によって構成されている。
【００２４】
なお、本実施例に係わる電子機器としては、上述の他、例えば、表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型ＴＶ、電子手帳、電光掲示板、宣伝広告用ディスプレイ等がある。
【００２５】
上述の実施例は、用途に応じて適宜に組み合わせて、又は変更若しくは改良を加えて用いることができ、本発明は上述の実施例に限定されるものではない。
【符号の説明】
【００２６】
１０…多面取り基板１１…パネル１２…走査線１３…信号線１４…電源線１５…信号線駆動回路１６…走査線駆動回路２１…スイッチングトランジスタ２２…保持容量２３…駆動トランジスタ２４…陽極２５…陰極２６…機能層２７…有機ＥＬ素子３０…回路素子層３１…絶縁膜３２…隔壁３３…ラミネートフィルム４０…画素領域５０…受け部材６０…転写ローラ

【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のパネルを備える電気光学装置用多面取り基板であって、
前記複数のパネルのそれぞれには、液滴吐出法により電気光学素子の液状の構成材料が塗布される画素領域を区画する隔壁が形成されており、
前記複数のパネルのうち少なくとも一部のパネル間には、前記液状の構成材料に対して撥液性の薄膜を前記隔壁に転写するための転写ローラを受ける受け部材が形成されており、
前記受け部材の高さは、前記隔壁の高さよりも低い、電気光学装置用多面取り基板。
【請求項２】
液滴吐出法により電気光学素子の液状の構成材料が塗布される画素領域を区画する隔壁と、
前記液状の構成材料に対して撥液性の薄膜を前記隔壁に転写するための転写ローラを受ける受け部材と、を備え、
前記受け部材の高さは、前記隔壁の高さ以下である、パネル。

【図１】