説明

NiFeP系無電解メッキ膜及びその製造方法

【課題】 特に、酒石酸ナトリウムカリウムの濃度を調整して、表面側に数nmの酸化防止膜を形成することが可能なNiFeP系無電解メッキ膜及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 本実施形態のNiFeP系無電解メッキ膜1には、表面1a側に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含む数nmの膜厚の酸化防止膜2が形成されている。これにより、メッキ膜中の酸化を抑制でき、磁気特性の経時変化を小さくでき、安定した磁気特性を得ることが出来る。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、表面側に数nmの酸化防止膜を形成することが可能なNiFeP系無電解メッキ膜及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
下記の特許文献に記載されているように、電気メッキ法の錯化剤として酒石酸ナトリウムカリウムを用いることが知られている。特にNi系メッキ膜では、錯化剤として酒石酸ナトリウムカリウムを一般的に用いてきた。
【0003】
錯化剤は、メッキ液に沈殿を生じさせないため、またメッキ膜に適正量のNiやFeを取り込むための用途で用いられ、それ以外の用途で用いられることはなかった。
【0004】
そして、従来では、NiFeP系無電解メッキ膜の表面に酸化防止膜を形成するには、NiFeP系無電解メッキ膜の形成後、改めて、NiFeP系無電解メッキ膜の表面に酸化防止膜を形成することが必要であった。
【特許文献1】特開2002−57031号公報
【特許文献2】特開2006−185692号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、酒石酸ナトリウムカリウムの濃度を調整して、表面側に数nmの酸化防止膜を形成することが可能なNiFeP系無電解メッキ膜及びその製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、NiFeP系無電解メッキ膜において、
表面側から深さ方向に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含む数nmの膜厚の酸化防止膜が形成されていることを特徴とするものである。これにより、メッキ膜中の酸化を抑制でき、磁気特性の経時変化を小さくでき、安定した磁気特性を得ることが出来る。
【0007】
また本発明は、NiFeP系無電解メッキ膜の製造方法において、
メッキ浴中に、Niイオン、Feイオン及び亜リン酸イオン又は次亜リン酸イオンと、1.06mol/L〜1.7mol/Lの酒石酸ナトリウムカリウムとを含むことを特徴とするものである。これにより、メッキ膜の表面側から深さ方向に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含む数nmの膜厚の酸化防止膜を適切且つ容易に形成することが出来る。
【0008】
また本発明では、Feイオンを、0.0001mol/L以上で、Feイオン濃度=0.005/酒石酸ナトリウムカリウム濃度の境界線よりも小さい値に設定することが好ましい。これにより、酒石酸ナトリウムカリウムを適切に溶解でき、メッキ液中での沈殿発生を抑制することが可能である。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、酒石酸ナトリウムカリウム濃度の調整により、NiFeP系無電解メッキ膜の表面側から深さ方向に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含む数nmの膜厚の酸化防止膜を形成することが出来る。よって、メッキ膜中の酸化を抑制でき、磁気特性の経時変化を小さくでき、安定した磁気特性を得ることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【0010】
図1は本実施形態のNiFeP無電解メッキ膜の模式図である。図示X方向は幅方向を示し図示Z方向は高さ方向(膜厚方向)を示している。
【0011】
図1に示すNiFeP無電解メッキ膜1は、例えば、Ni濃度が83〜87wt%、Fe濃度が6〜9wt%、P濃度が4〜10wt%の範囲内で形成される。
【0012】
図1に示すように、表面1a側には、数nmの膜厚H1の酸化防止膜2が形成されている。酸化防止膜2は、表面1aから深さ方向に数nm形成される形態のみならず、表面1aから多少(数Å程度)、深さ方向に入り込んだ位置から深さ方向に数nm形成される形態をも含む。
【0013】
酸化防止膜2は、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含んで形成されている。COOH、FeO2、FeO及びNiOはいずれも酸化防止膜2以外の領域に比べて、酸化防止膜2内に多く含まれている。具体的には、酸化防止膜2では、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)によるデプスプロファイルによる最表面(表面から深さ方向へ0〜4nm付近)と内部(表面から深さ方向へ13〜17nm付近)との強度比(内部の強度/最表面の強度)がCOO(CHO2)では0.16以下、FeO2では0.34、FeOでは0.9以下、NiOでは1.15以下となっている。
【0014】
酸化防止膜2は、上記した4成分のみで構成されるわけではない。酸化防止膜2は、NiFeP無電解メッキ膜1のメッキ成長の最後である表面側に形成されるものである。酸化防止膜2にはNi、Fe、Pの単体等も含まれる。
【0015】
酸化防止膜2の膜厚H1は0.1nm〜5nmであることが好ましく、4nm以下であることがより好ましい。
【0016】
このように本実施形態では、NiFeP系無電解メッキ膜1の表面1a側から深さ方向には、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含んで形成された膜厚が数nmの酸化防止膜2が形成されている。よって、メッキ膜中の酸化を抑制でき、磁気特性の経時変化を小さくでき、安定した磁気特性を維持することが出来る。後述する実験によれば保磁力Hcの経時変化を小さくできることがわかっている。また酸化防止膜2の膜厚H1は数nm程度であり、磁気特性を劣化させることはない。
【0017】
本実施形態のNiFeP系無電解メッキ膜1におけるメッキ浴には、Niイオン、Feイオン及び亜リン酸イオン又は次亜リン酸イオンと、1.06mol/L〜1.7mol/Lの酒石酸ナトリウムカリウムとを含む。
【0018】
ここでメッキ浴中ではFeイオンは例えばモール塩(硫酸鉄(II)・七水和物)として含まれる。また、Niイオンは、例えば、硫酸ニッケル・六水和物として含まれる。
【0019】
本実施形態では、Feイオンを、0.0001mol/L以上で、Feイオン濃度=0.005/酒石酸ナトリウムカリウム濃度の境界線よりも小さい値に設定する。ここで、酒石酸ナトリウムカリウム濃度は、上記のように1.06mol/L〜1.7mol/Lの範囲内であるから、Feイオン濃度の上限値を上記式より求めることが出来る。
【0020】
本実施形態では、NiイオンはFeイオン濃度と足して0.03mol/Lになる濃度、亜リン酸イオン又は次亜リン酸イオンを0.06mol/L〜0.18mol/Lの範囲内で含むことが好適である。そのほか、硫酸アンモニウムを0.2mol/L〜0.50mol/Lを含むことが好適である。
【0021】
次に、メッキ条件としては、メッキ浴のpHを7.0〜10.0、メッキ浴の温度を60〜90℃とする。
【0022】
そして、基板をメッキ浴中に浸し、基板表面に、2〜3μm程度の膜厚から成るNiFeP系無電解メッキ膜1をメッキ形成する。
【0023】
本実施形態では上記したように、酒石酸ナトリウムカリウム濃度を、1.06mol/L〜1.7mol/Lと規定している。酒石酸ナトリウムカリウム濃度を、1.06mol/Lより小さくすると、表面1a側に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含む膜厚が数nmの酸化防止膜2を効果的に形成できなくなる。また、1.7mol/Lは酒石酸ナトリウムカリウムの溶解上限である。
【0024】
本実施形態では、酒石酸ナトリウムカリウム濃度を、1.06mol/L〜1.7mol/Lと規定したことで、NiFeP系無電解メッキ膜1の表面1a側から深さ方向に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含む数nmの膜厚の酸化防止膜2を適切且つ容易に形成することが出来る。すなわち、本実施形態では、NiFeP系無電解メッキ膜1のメッキ成長の最後である表面側に酸化防止膜2を形成できる。したがって、酸化防止膜2を、NiFeP系無電解メッキ膜1のメッキ形成後、改めて形成する必要がない。
【0025】
また、上記したように、本実施形態では、Feイオンを、0.0001mol/L以上で、Feイオン濃度=0.005/酒石酸ナトリウムカリウム濃度の境界線よりも小さい値に設定している。これにより、酒石酸ナトリウムカリウムを適切に溶解でき、メッキ液中での沈殿発生を抑制することが可能である。
【実施例】
【0026】
以下のメッキ浴を用いて、NiFeP系無電解メッキ膜を無電解メッキにて形成した。
(1) 実施例
(メッキ浴組成)
硫酸鉄(II)・七水和物 0.001(mol/L)
硫酸ニッケル・六水和物 0.029(mol/L)
次亜リン酸ナトリウム 0.120(mol/L)
酒石酸ナトリウムカリウム 1.06(mol/L)
硫酸アンモニウム 0.35(mol/L)
(浴条件)
浴温度 80℃
pH 8.0
(2) 比較例
(メッキ浴組成)
硫酸鉄(II)・七水和物 0.001(mol/L)
硫酸ニッケル・六水和物 0.029(mol/L)
次亜リン酸ナトリウム 0.120(mol/L)
酒石酸ナトリウムカリウム 0.27(mol/L)
硫酸アンモニウム 0.35(mol/L)
(浴条件)
浴温度 80℃
pH 7.8
【0027】
上記した実施例及び比較例のメッキ浴を用いて、夫々、NiFeP系無電解メッキ膜を無電解メッキ形成した後、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)を用いて分析を行った。飛行時間型二次イオン質量分析装置には、ION−TOF社製のTOF−SIMS Vを用いた。
【0028】
励起IONビームには、Bi+(1pA,25keV)を、スパッタエッチイオンには、Cs+(500eV)を用いて負の電荷を帯びた二次イオンを検出した。
【0029】
図2(a)のデプスプロファイルは、酒石酸ナトリウムカリウムを1.06mol/L加えて無電解メッキしたNiFeP系無電解メッキ膜(実施例)の測定結果、図2(b)のデプスプロファイルは、酒石酸ナトリウムカリウムを0.27mol/L加えて無電解メッキしたNiFeP系無電解メッキ膜(実施例)の測定結果である。
【0030】
図3(a)は、図2(a)のデプスプロファイルに基づいて、各成分の状態を示す三次元模式図であり、色の明るい部分に、その成分が多く存在することを示している。なお図3(b)は、図2(b)のデプスプロファイルに基づいて、各成分の状態を示す三次元模式図、である。
【0031】
以下の表1は、図3(a)(b)における各成分の強度比である。0〜50secは表面から深さ方向へ0〜4nm付近であり、150〜200secは表面から深さ方向へ13〜17nm付近である。
【0032】
【表1】

【0033】
また50日後に再び、実施例及び比較例のNiFeP系無電解メッキ膜のデプスプロファイルを測定した。そして、50日後における実施例のデプスプロファイルに基づいて、各成分の状態を三次元模式図で示したのが図3(c)であり、50日後における比較例のデプスプロファイルに基づいて、各成分の状態を三次元模式図で示したのが図3(d)である。
【0034】
図2(a)、図3(a)、表1に示すように、実施例では、表面付近から膜深さ方向に約4nm範囲内に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを多く含むことがわかった。飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)によるデプスプロファイルによる最表面(表面から深さ方向へ0〜4nm付近)と内部(表面から深さ方向へ13〜17nm付近)との強度比(内部の強度/最表面の強度)がCHO2では0.16以下、FeO2では0.34、FeOでは0.9以下、NiOでは1.15以下となっていることがわかった。
【0035】
次に、図2(b)、図3(b)、表1に示すように、比較例では、COOH、FeO2、FeO及びNiOが表面付近に集中して存在せず、実施例のように、表面付近に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含む膜厚が数nmの酸化防止膜が存在しないことがわかった。比較例では、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)によるデプスプロファイルによる最表面(表面から深さ方向へ0〜4nm付近)と内部(表面から深さ方向へ13〜17nm付近)との強度比(内部の強度/最表面の強度)がCHO2では0.18、FeO2では0.51、FeOでは1.35、NiOでは1.79となっており、実施例に比べて極めて高くなっていることがわかった。
【0036】
実施例における図3(c)と図3(a)とを比較してもさほど大きな変化は見られず、実施例では、50日経っても、膜中への酸化がさほど進行していないことがわかった。一方、50日後を示す比較例の図3(d)では、図3(b)に比べて、さらに膜中への酸化が進行したことがわかった。
【0037】
次に、図4、図5は、50日後における実施例及び比較例での各成分の上記デプスプロファイルによる強度比の変化を割合で示したグラフである。なお各成分の強度比は、表面から約15nmの深さ位置で測定したものである。各成分の強度比の変化の割合は、[(50日後での強度比−メッキ形成直後での強度比)/(メッキ形成直後での強度比)]で示した。すなわち図4,図5のグラフで0%に近いほど、強度比の変化が小さく酸化が進んでいないことを示す。
【0038】
図4,図5に示すように、いずれも成分の強度比の変化も比較例のほうが実施例に比べて大きくなることがわかった。
【0039】
次に以下の表2、表3に示すように、酒石酸ナトリウムカリウム添加量が異なるメッキ浴から無電解メッキにて形成された複数のNiFeP系無電解メッキ膜を作製し、各NiFeP系無電解メッキ膜の保磁力及び飽和磁化を測定した。
【0040】
【表2】

【0041】
【表3】

【0042】
表2、表3に示すように、酒石酸ナトリウムカリウム添加量を0.27(mol/L)、及び1.06(mol/L)とした。
【0043】
なお、酒石酸ナトリウムカリウム添加量以外のメッキ浴組成や条件は、上記した実験と同じに設定した。
【0044】
実験では、メッキ直後と、50日経過後の双方で各試料の保磁力及び飽和磁化を測定した。
【0045】
表2、表3に示すように、酒石酸ナトリウムカリウムを0.27(mol/L)添加した試料では、50日後における保磁力の低下は、他の試料に比較して大きくなっており酸化が進んでいることがわかった。
【0046】
最後に、酒石酸ナトリウムカリウムの濃度範囲、及びFeイオン濃度範囲を規定する。
図6(a)は、酒石酸、酒石酸ナトリウム、及び、酒石酸ナトリウムカリウムの溶解限度を示すグラフである。図6(a)に示すように、酒石酸ナトリウムカリウムの溶解限度は1.7(mol/L)であった。
【0047】
続いて、酒石酸ナトリウムカリウム及びFeイオンの添加濃度によって沈殿が発生する場合があることがわかった。沈殿発生を生じさせないためには、酒石酸ナトリウムカリウム濃度とFeイオン濃度を次のように規定することが必要であることがわかった。
【0048】
まず、[酒石酸ナトリウムカリウム濃度]/[Feイオン濃度]が15以下では、水酸化鉄の沈殿が見られたので15より大きくすることが必要であることがわかった。[酒石酸ナトリウムカリウム濃度]/[Feイオン濃度]>15なる関係式を図6(b)の(1)で図示した。
【0049】
次に、[酒石酸ナトリウムカリウム濃度]・[Feイオン濃度]が0.005以上では酒石酸鉄の沈殿が見られたので0.005より小さくすることが必要であることがわかった。[酒石酸ナトリウムカリウム濃度]・[Feイオン濃度]<0.005なる関係式を図6(b)の(2)で図示した。
【0050】
図6(b)の(1)(2)の関係式で囲まれた範囲を濃い色で示した。この結果と、図6(a)の酒石酸ナトリウムカリウム濃度の溶解限度、及び上記した酒石酸ナトリウムカリウム濃度の実験結果をあわせると、好ましい酒石酸ナトリウムカリウム濃度範囲及びFeイオン濃度範囲は図6(c)の白色で示した範囲内であることがわかった。
【0051】
すなわち、酒石酸ナトリウムカリウムを、1.06mol/L〜1.7mol/Lの範囲内で含み、さらにFeイオンを、0.0001mol/L以上で、Feイオン濃度=0.005/酒石酸ナトリウムカリウム濃度((2)の関係式を変形した式)の境界線よりも小さい値に設定することが好ましいとわかった。
【図面の簡単な説明】
【0052】
【図1】本実施形態のNiFeP無電解メッキ膜の模式図、
【図2】(a)のデプスプロファイルは、酒石酸ナトリウムカリウムを1.06mol/L加えて無電解メッキしたNiFeP系無電解メッキ膜(実施例)の測定結果、(b)のデプスプロファイルは、酒石酸ナトリウムカリウムを0.27mol/L加えて無電解メッキしたNiFeP系無電解メッキ膜(実施例)の測定結果、
【図3】(a)は、図2(a)のデプスプロファイルに基づいて、各成分の状態を示す三次元模式図(実施例、メッキ直後)、(b)は、図2(b)のデプスプロファイルに基づいて、各成分の状態を示す三次元模式図(比較例、メッキ直後)、(c)は、50日後における実施例のデプスプロファイルに基づいて、各成分の状態を三次元模式図、(d)は、50日後における比較例のデプスプロファイルに基づいて、各成分の状態を三次元模式図、
【図4】50日後における実施例及び比較例での各成分の強度比の変化を割合で示したグラフ、
【図5】50日後における実施例及び比較例での各成分の強度比の変化を割合で示したグラフ、
【図6】酒石酸ナトリウムカリウムの濃度範囲、及びFeイオン濃度範囲を規定するためのグラフ、
【符号の説明】
【0053】
1 NiFeP系無電解メッキ膜
1a 表面
2 酸化防止膜

【特許請求の範囲】
【請求項1】
NiFeP系無電解メッキ膜において、
表面側から深さ方向に、COOH、FeO2、FeO及びNiOを含む数nmの膜厚の酸化防止膜が形成されていることを特徴とするNiFeP系無電解メッキ膜。
【請求項2】
NiFeP系無電解メッキ膜の製造方法において、
メッキ浴中に、Niイオン、Feイオン及び亜リン酸イオン又は次亜リン酸イオンと、1.06mol/L〜1.7mol/Lの酒石酸ナトリウムカリウムとを含むことを特徴とするNiFeP系無電解メッキ膜の製造方法。
【請求項3】
Feイオンを、0.0001mol/L以上で、Feイオン濃度=0.005/酒石酸ナトリウムカリウム濃度の境界線よりも小さい値に設定する請求項2記載のNiFeP系無電解メッキ膜の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2010−59512(P2010−59512A)
【公開日】平成22年3月18日(2010.3.18)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−227873(P2008−227873)
【出願日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【出願人】(000010098)アルプス電気株式会社 (4,263)
【Fターム(参考)】