【課題】静電チャックと基板との擦れによるパーティクルの発生が防止されたＥＵＶマスクブランク用の導電膜付基板、該導電膜付基板を用いた多層反射膜付基板およびＥＵＶマスクブランクの提供。
【解決手段】ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造に使用される導電膜付基板であって、前記導電膜はクロム（Ｃｒ）および窒素（Ｎ）を含有し、前記導電膜における炭素（Ｃ）の平均濃度が０ａｔ％であり、前記導電膜におけるＮの平均濃度が０．１ａｔ％以上４０ａｔ％未満であり、前記導電膜の少なくとも表面の結晶状態がアモルファスであり、前記導電膜の表面粗さ（ｒｍｓ）が０．５ｎｍ以下であることを特徴とする導電膜付基板。 （もっと読む）

【課題】発泡剤としてハイドロフルオロエーテル類を用いて、良好な特性を有する硬質フォームが得られるようにする。
【解決手段】ポリオール（Ａ）を２０〜９９．９９８質量％、ポリマー粒子を０．００２〜３０質量％含み、平均水酸基数が２〜８、平均水酸基価が１００〜８００ｍｇＫＯＨ／ｇであるポリオール組成物（Ｐ）と、ポリイソシアネート化合物とを、発泡剤、整泡剤および触媒の存在下で反応させて硬質発泡合成樹脂を製造する。発泡剤はＣ_ａＨ_ｃＦ_ｅ−Ｏ−Ｃ_ｂＨ_ｄＦ_ｆ（ａ、ｂは１〜５、ａ＋ｂは２〜６、ｃ、ｄは０〜１０、ｃ＋ｄ≧１、ｅ、ｆは０〜１０、ｅ＋ｆ≧２、ｃ＋ｄ＜ｅ＋ｆ）で表されるハイドロフルオロエーテル類を含む。ポリオール（Ａ）は、マンニッヒ縮合物を開始剤として、アルキレンオキシドを開環付加重合させて得られるポリエーテルポリオールである。 （もっと読む）

【課題】発泡剤としてハイドロフルオロエーテル類を用いて、良好な特性を有する硬質フォームが得られるようにする。
【解決手段】ポリオール（Ａ）３０〜７０質量％、ポリマー粒子０．００２〜３０質量％を含み、平均水酸基数２〜８、平均水酸基価１００〜８００ｍｇＫＯＨ／ｇのポリオール組成物（Ｐ）と、ポリイソシアネート化合物とを、発泡剤、整泡剤および触媒の存在下で反応させて硬質発泡合成樹脂を製造する。発泡剤はＣ_ａＨ_ｃＦ_ｅ−Ｏ−Ｃ_ｂＨ_ｄＦ_ｆ（ａ、ｂは１〜５、ａ＋ｂは２〜６、ｃ、ｄは０〜１０、ｃ＋ｄ≧１、ｅ、ｆは０〜１０、ｅ＋ｆ≧２、ｃ＋ｄ＜ｅ＋ｆ）で表されるハイドロフルオロエーテル類を含む。ポリオール（Ａ）は活性水素原子数が４〜１２の芳香族アミンを開始剤としアルキレンオキシド（エチレンオキシド含有量０〜６０質量％）を開環付加重合させて得られる、水酸基価１００〜８００ｍｇＫＯＨ／ｇのポリエーテルポリオール。 （もっと読む）

【課題】ガラス微粒子合成用バーナ等によって生成されたガラス微粒子を出発材表面に効率よく付着・堆積させることにより、高い生産効率を有する多孔質ガラス微粒子堆積体の製造方法、およびその製造方法に用いる製造装置を提供する。
【解決手段】反応容器内において、ガラス微粒子合成用のバーナまたはプラズマトーチを用いて生成されたガラス微粒子を軸周りに回転する出発材の表面に吹き付けることにより、前記出発材の表面に前記ガラス微粒子を付着させ、かつ堆積させて順次ガラス微粒子の堆積面を形成しながら多孔質ガラス微粒子堆積体を製造する方法において、前記反応容器の壁部の全領域から、前記ガラス微粒子の堆積面に対する形態係数が０．２以上となるような領域を選択して冷却することを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定した品質を有し生産性の高い磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フロートバス内で溶融金属の上に溶融ガラスを浮かせて板状ガラスに成形する成形工程と、板状ガラスを冷却する冷却工程と、を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フロートバスの出口からガラスの温度が歪点となる場所までの板状ガラスの温度降下速度を５０℃／ｍｉｎ以上とする。 （もっと読む）

【課題】発泡剤としてハイドロフルオロエーテル類を用いて、良好な特性を有する硬質フォームが得られるようにする。
【解決手段】連続ボード成形法により、ポリオール（Ａ）を５〜９９．９９８質量％、ポリマー粒子を０．００２〜３０質量％含み、平均水酸基数が２〜８、平均水酸基価が１００〜８００ｍｇＫＯＨ／ｇであるポリオール組成物（Ｐ）と、ポリイソシアネート化合物とを、発泡剤、整泡剤および触媒の存在下で反応、発泡させて硬質発泡合成樹脂を製造する。発泡剤はＣ_ａＨ_ｃＦ_ｅ−Ｏ−Ｃ_ｂＨ_ｄＦ_ｆ（ａ、ｂは１〜５、ａ＋ｂは２〜６、ｃ、ｄは０〜１０、ｃ＋ｄ≧１、ｅ、ｆは０〜１０、ｅ＋ｆ≧２、ｃ＋ｄ＜ｅ＋ｆ）で表されるハイドロフルオロエーテル類を含む。ポリオール（Ａ）は、マンニッヒ縮合物を開始剤として、アルキレンオキシドを開環付加重合させて得られるポリエーテルポリオールである。 （もっと読む）

【課題】アース部周辺に生ずる歪みを抑制しつつ、アース部材の設置スペースを容易に確保できる、ガラスアンテナを提供すること。
【解決手段】車両の窓ガラス１２に設けられるガラスアンテナであって、アンテナ導体１〜４と、無給電導体５，６と、給電部１６と、給電部１６から離間して配置されたアース部１７とを備え、給電部１６は、信号処理回路にアンテナ導体１〜４を接続するための部位であり、アース部１７は、車体に無給電導体５，６を接続するための部位であり、アース部１７は、アース部１７Ａと、アース部１７Ａに対して給電部１６とは離れる方向に配置されたアース部１７Ｂとを有し、アース部１７Ａとアース部１７Ｂとが、複数の線状エレメント７Ａ，７Ｂで接続される。 （もっと読む）

【課題】ガラス製品内部でのガラス成分の均質性を高める。
【解決手段】ガラス融液を撹拌するガラス融液撹拌装置１０に、ルツボ２０と撹拌翼１２と突起１４とを備える。ルツボ２０は、上下に貫通した流出孔２６が形成された底部２２と、その底部から立ち上がる側壁２４とを備える。撹拌翼１２は、ルツボ２０の内部に設けられてシャフト１６の周りを回転する。突起１４は、底部２２から上方に突出して側壁２４と流出孔２６との間を横切って線状に延びる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ光学基材用での成膜面における凹欠点の発生が抑制されたＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法の提供。
【解決手段】両面研磨装置１０の上下定盤１２，１４の研磨面でキャリア２０に保持されたガラス基板２２を挟持し、上定盤１２に設けられた供給孔から研磨粒子を含む流体を供給しつつ、上下定盤１２，１４と、キャリア２０に保持されたガラス基板２２と、を相対的に移動させてガラス基板２２の両主表面を研磨するＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）光学基材用ガラス基板２２の研磨方法であって、ＥＵＶＬ光学基材での成膜面が、下定盤１４の研磨面と対面するようにガラス基板２２を挟持ＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法。 （もっと読む）

【課題】相対的に移動する投影レンズに水が十分に追従し、液浸露光工程を安定して実施できるレジスト保護膜を提供する。
【解決手段】下記式（ａ３）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ３）、下記式（ａ４）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ４）、および下記式（ａ５）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ５）から選択される少なくとも一種の繰り返し単位を有する第１の重合体を含む液浸露光用レジスト保護膜用組成物を提供する。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ ………（ａ３）
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ………（ａ４）
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ （ａ５） （もっと読む）