【課題】無線通信におけるサービス品質をより向上させることが可能な技術を提案する。
【解決手段】出力スケジューラ２３が、各パケットキュー２２の最古パケット入力時間と、そのパケットキュー２２に該当するサービスの遅延情報の遅延許容時間とを比較して、その差が最も大きいパケットキュー２２を特定し、特定したパケットキュー２２のサービスと、当該パケットキュー２２の先頭に格納されている最古のパケット情報の宛先に基づいて、通信方式情報部２５からパケット連結数の計算用パラメータを取得し、当該取得した計算用パラメータを用いてパケット連結数を算出し、算出したパケット連結数だけ該当パケットキュー２２からＩＰパケットを取り出して連結し、無線送信待機時間及びパケット連結数と共に無線アクセス制御部１２へ渡す。 （もっと読む）

【課題】低温領域において適正な特性を有するＳｉＣ系の膜を形成できる半導体装置の製造方法、基板処理方法，基板処理装置およびプログラムを提供する。
【解決手段】基板を処理室内に収容する工程と、加熱された処理室内へ有機シリコン系ガスを供給して基板上にシリコンおよび炭素を含む膜を形成する工程と、を有し、シリコンおよび炭素を含む膜を形成する工程は、処理室内へ有機シリコン系ガスを供給して、有機シリコン系ガスを処理室内に封じ込める工程と、有機シリコン系ガスを処理室内に封じ込めた状態を維持する工程と、処理室内を排気する工程と、を含むサイクルを所定回数行う。 （もっと読む）

【課題】ダミー基板の使用効率の向上及び有効なダミー基板の運用を可能とする。
【解決手段】所定枚数の各種基板を処理する処理室を複数備えた基板処理装置であって、前記処理室毎の基板枚数が前記所定枚数となるように、前記処理室毎に使用するダミー基板の枚数を決定し、前記ダミー基板が均等に使用されるよう制御する制御手段を備えた基板処理装置が提供される。前記制御手段は、前記処理室毎の前記各種基板が前記所定枚数となるように前記ダミー基板の枚数を決定する際、前記処理室毎に使用される前記ダミー基板の枚数を、略同枚数となるように決定する。


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【課題】クロマキー合成後の映像をビューファインダで常に確認しながらカメラ撮影を行うことができるカラーテレビジョンカメラシステムを提供する。
【解決手段】クロマキーの背景画像をリターン映像信号として入力することができるカメラ制御装置と、撮影している映像の任意の色相の映像部分をリターン映像に置き換える機能を備えるカラーテレビジョンカメラと、その置き換え後の合成映像をビューファインダに出力し、ビューファインダに表示させるようにすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の検索キーを用いて類似画像検索を繰り返すことで網羅的な検索を行う類似画像検索システムに関し、検索回数の抑制と検索精度の向上を両立させることが可能な技術を提案する。
【解決手段】検索キーの候補である複数の画像の特徴量に基づいて、検索キーとする画像の特徴量を決定する複数検索キー選択部１１３と、複数検索キー選択部１１３により検索キーに決定された画像の特徴量に類似する特徴量を有する画像を検索する類似人物検索部２１８と、を備えた構成において、複数検索キー選択部１１３が、検索キーの候補である複数の画像の特徴量をクラスタリングし、クラスタ毎にそのクラスタを代表する画像の特徴量を検索キーとして決定し、類似人物検索部２１８が、検索キー決定手段により決定されたクラスタ毎の検索キーをそれぞれ用いて検索を行うように構成した。 （もっと読む）

【課題】外部機器の設置に給電ラインを別途必要とせずに対応可能な電力供給システムを提供すること。
【解決手段】中央制御装置ＣＴＥの基地局インターフェース基板ＢＳＩＦから信号伝送ラインＬ₁〜Ｌ_n によりファントム給電される複数の基地局ＢＳ₁〜ＢＳ_n を備えた構内ＰＨＳ無線システムにアダプタとして外部電源装置Ｐ／Ｓを設け、外部機器用電源回路ＰＸ(Ａ)により、信号伝送ラインＬ₁〜Ｌ_n が本来持っているファントム給電能力を増強して信号伝送ラインＦＬ₁〜ＦＬ_n に出力させることにより、信号伝送ラインＦＬ₁〜ＦＬ_n に対する外部機器ＥＸの接続と電力の供給を可能にしたもの。 （もっと読む）

【課題】現実的な射撃訓練を可能とする標的装置を提供する。
【解決手段】
可動標的部１０と移動台車部２０を備える標的装置である。標的駆動部１３０は、標的を起立又は倒れさせる。台車駆動部２３０は、可動標的部１０が載置された台車を駆動する。この上で、標的から所定範囲内における着弾座標を検出するエリア検出センサ部１２０を備える。制御部１００は、この着弾座標を複数のエリアとして判定し、エリアにより異なる隠顕又は移動の動作を行わせる。 （もっと読む）

【課題】処理室内に発生した異物の攪拌を抑制することにより、基板への異物の吸着を抑制する。
【解決手段】処理ガス供給ライン１ａから処理室内への処理ガスの供給と、不活性ガス供給ライン２ａから処理室内への不活性ガスの供給と、を含むサイクルを繰り返すことで基板に対して処理を行い、その際、処理ガス供給ラインおよび不活性ガス供給ラインに、処理ガスおよび不活性ガスをそれぞれ供給した状態を維持し、処理ガス供給ラインから処理室内へ処理ガスを供給する際には、不活性ガス供給ラインに供給された不活性ガスを処理室内に供給することなく不活性ガスベントライン２ｂより排気し、不活性ガス供給ラインから処理室内へ不活性ガスを供給する際には、処理ガス供給ラインに供給された処理ガスを処理室内に供給することなく処理ガスベントライン１ｂより排気し、サイクルを繰り返す際、処理室内におけるトータルガス流量が一定となるようにする。 （もっと読む）

【課題】反応管内の異物汚染を抑制可能な半導体装置の製造方法、クリーニング方法、基板処理装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】処理室内で基板に対し膜を形成する工程と、該膜形成後の処理室内の少なくとも一部に堆積した堆積物を除去する工程とを有し、前記除去工程では、前記堆積物をエッチングする第一ガスを前記処理室内に供給する第１工程と、少なくとも前記第一ガスよりも前記処理室を構成する部材に対するエッチング力が弱いか、若しくは前記部材に対するエッチング力のない第二ガスを前記処理室内に供給し、前記処理室内の圧力を上昇させる第２工程と、を含むサイクルを所定回数行う。 （もっと読む）

【課題】頻繁に表示したい画面が階層の深い画面である場合でも、画面操作を簡単にする機能を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】各種画面情報が登録される格納部と、所望の画面へ切替表示する切替手段を表示する操作画面を備えた表示部と、前記操作画面からの入力指示を受付け、前記入力指示に従い前記操作画面に所定の画面を表示する表示制御部とを少なくとも備えた操作部を含む基板処理装置であって、表示制御部は、切替手段が押下されると、予め登録された各種画面情報に従い、所望の画面を操作画面に表示させる。 （もっと読む）