【課題】無機粉体の種類によらず、無機粉体表面にシリコーンエラストマーを均一に付着させることのできる、複合粒子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】複合粒子の製造方法であって、少なくとも、無機粉体及びシリコーンエラストマーが分散された混合水分散液と、カチオン性水溶性高分子と、アルカリ性物質とを配合した混合液に、アルコキシシラン、シラノール基含有シラン、及びこれらの部分縮合物から選ばれる化合物を添加して加水分解・縮合反応させることにより、シリコーンレジンをバインダーとして前記無機粉体の表面に前記シリコーンエラストマーを付着してなる複合粒子を製造することを特徴とする複合粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】単糖類のヒドロキシ基の１つがメタクリルエステルとして結合し、残りのヒドロキシ基が酸不安定基で置換された（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】大径礫を含む土砂を使用できて、密度および強度が安定した埋立地盤を造成することができる埋立工法および埋立用混合材料を提供する。
【解決手段】大径礫を含む土砂に安定材、分離防止剤および水を添加して混合した埋立用混合材料を水中に投下し、水中に投下された埋立用混合材料を一定の層厚ごとに締め固める。埋立工法は、安定材、水および分離防止剤からなるペーストを土砂と混合攪拌して埋立用混合材料を製造する埋立用混合材料製造工程と、埋立用混合材料を水中に投下する埋立用混合材料投下工程と、水中に投下された埋立用混合材料を所定の層厚毎に締め固める締め固め工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】多孔体表面に親水性被膜を保持させつつ、該多孔体内部への水の浸透を防止できる透水防止被膜形成剤、これを用いた透水防止被膜及び被膜積層体、並びに該被膜または該積層体を備えた部材を提供する。
【解決手段】（Ａ）撥水性シリコーンエマルション粒子、（Ｂ）反応性シリコーンレジンエマルション粒子、および（Ｃ）水、を含む常温硬化性の透水防止被膜形成剤であって、該透水防止被膜形成剤において、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の合計の量が0.5〜10質量%の範囲であり、（Ｃ）成分の量が80質量%以上である前記透水防止被膜形成剤；前記透水防止被膜形成剤の硬化物からなる透水防止被膜；前記透水防止被膜と、該透水防止被膜上に設けられた光触媒被膜とからなる被膜積層体；基材と、前記透水防止被膜または前記被膜積層体とを備え、該基材の一部または全部が該透水防止被膜または該被膜積層体で被覆されている部材。 （もっと読む）

【課題】高温に暴露されても硬さ、引張り強さ、切断時伸び等の物理的特性の変化の少ない耐熱性に優れたシリコーンゴムとなるシリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも２個有する重合度が１００以上のオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）ＢＥＴ法による比表面積が５０ｍ^２／ｇ以上である補強性シリカ
１０〜１００質量部、
（Ｃ）ジルコニア−セリア固溶体 ０．０１〜１０質量部、
（Ｄ）硬化剤 有効量
を含有する耐熱性に優れたシリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）ヘキサフルオロプロピル酸エステル基を側鎖に有するアクリル系繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として、ラクトン環由来の骨格及び／又は水酸基を有する骨格及び／又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
【効果】レジスト保護膜を使うことなく高速スキャンに耐えうる高撥水性かつ高滑水性のレジスト膜を実現し得る。更には、アルカリ現像液による上記ポリマーの加水分解により現像後のレジスト膜表面を親水性に改質し、その結果、ブロッブ欠陥が大幅に抑制できる。 （もっと読む）

【課題】官能基と反応性を有する有機基を含有した化合物との組成物を調製した際にバインダーとしての機能を発現する他、シランカップリング剤としての効果も期待できる材料を提供する。
【解決手段】式（１）で示される無水コハク酸基含有環状オルガノシロキサン。


（Ｒ¹はアルキル基又はアリール基、Ｒ²は水素原子又はハロゲン原子、ビニル基、エポキシ基、チイラン基、（メタ）アクリル基、メルカプト基、イソ（チオ）シアネート基、加水分解性シリル基、無水コハク酸基、パーフルオロアルキル基、ポリエーテル基及びパーフルオロポリエーテル基から選ばれる置換基を有してもよいアルキル基であり、その内加水分解性シリル基を置換基とするＲ²が１個以上、無水コハク酸基を置換基とするＲ²が２個以上である。ｎは３〜６の整数。） （もっと読む）

【課題】シーメンス法による多結晶シリコンの製造に用いられる反応装置の地絡の発生を防止すること。
【解決手段】前バッチ後に次バッチの多結晶シリコンの析出反応の準備を行うに際し、電極回りが十分に清浄化されているか否かの判断基準となる絶縁抵抗値Ｒ₀を設定し（Ｓ１０１）、電極回りの清掃後に、電極とベースプレートとの間の絶縁抵抗測定を行う（Ｓ１０２）。この絶縁抵抗値Ｒを上記基準値Ｒ₀と比較し、ＲがＲ₀以上である場合（Ｓ１０３：Ｙｅｓ）、電極回りが十分に清浄化されていると判断して次の工程（例えば、次バッチの多結晶シリコンの析出反応工程）に移行する（Ｓ１０４）。一方、ＲがＲ₀を下回る場合（Ｓ１０３：Ｎｏ）、電極回りが十分に清浄化されていないと判断し、炉内（特に、電極とベースプレートの間に設けられた絶縁部材）の清掃および乾燥を行う（Ｓ１０５）。そして、ステップＳ１０２に戻り、以降のステップを実施する。 （もっと読む）

【課題】ネガ現像において得られるレジストパターンに適用できるだけでなく、ポジ現像で得られるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（２）で表される加水分解性化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、及びＲ^１_ｍ１Ｒ^２_ｍ２Ｒ^３_ｍ３Ｓｉ（ＯＲ）_{（４−ｍ１−ｍ２−ｍ３）}（１）Ｕ（ＯＲ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_ｍ５（２）（Ｂ）一般式（３）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（４）で表される加水分解性ケイ素化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、Ｒ^６_ｍ６Ｒ^７_ｍ７Ｒ^８_ｍ８Ｓｉ（ＯＲ^９）_{（４−ｍ６−ｍ７−ｍ８）}（３）Ｓｉ（ＯＲ^１０）_４（４）を含むケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】ポットライフ及び塗工性が良好で、比較的低温でも乾燥、硬化させることができるとともに、透明性が高く、触媒活性の持続期間が長い親水性薄膜を形成することができる光触媒塗工液を提供する。
【解決手段】（Ａ）光触媒粒子、及び（Ｂ）バインダ成分を含有する光触媒塗工液であって、（Ｂ）成分のバインダ成分が、（ｂ−１）加水分解性ケイ素化合物を、水及び極性有機溶媒の混合溶媒中において塩基性化合物の存在下で加水分解して得られた加水分解縮合物を含み、 （Ａ）成分の光触媒粒子は該塗工液中に分散しており、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計に対する（Ａ）成分の割合は０．０５〜９９．５質量％であり、該塗工液のpHは5〜8の範囲内にある、光触媒塗工液。 （もっと読む）