【課題】定着ロール及び定着ベルト用として、耐熱性に優れるシリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）珪素原子結合アルケニル基を２個以上有するオルガノポリシロキサン、（Ｃ）珪素原子結合水素原子を２個以上含有し、更に珪素原子結合アルコキシ基及び／又はアリーロキシ基を２個以上含有し、２５℃での粘度が１，０００ｍＰａ・ｓ以下の液状オルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｄ）無機質充填剤、（Ｅ）付加反応触媒、必要により（Ｂ）珪素原子結合水素原子を２個以上含有し、その他の官能基を有しない２５℃での粘度が１，０００ｍＰａ・ｓ以下のオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含有してなり、かつ（Ｂ），（Ｃ）中のＳｉＨ基／（Ａ）中の珪素原子結合アルケニル基＝０．２〜２．０で、（Ｃ）ＳｉＨ基に対する（Ｂ）ＳｉＨ基のモル比が（Ｂ）／（Ｃ）＜１である定着ロール又はベルト用シリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト下層膜材料であって、エッチング速度が速く、このためエッチング時間を短縮してエッチング中のレジストパターンの膜減りを少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。そのため、パターンの転写を高精度に行うことができ基板に良好なパターンを形成することができるレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化５５】
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【解決手段】下記一般式（１）


（Ｒ¹及びＲ²は１価炭化水素基であるか、又はＲ¹とＲ²が結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂環をなしてもよく、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ³及びＲ⁴は１価炭化水素基であって、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ⁵は水素原子又はメチル基である。Ｒ⁶は１価炭化水素基であって、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ⁷はハロゲン原子又はアルコキシル基である。ｋは０〜１０の整数である。Ｒ⁵が水素原子の時にｍは１、Ｒ⁵がメチル基の時にｍは０である。ｎは０〜２の整数である。）
で表される有機ケイ素化合物。
【効果】本発明の新規な有機ケイ素化合物は、遊離のヒドロキシル基を含有せず、安定性が高く、無機材料と共有結合可能な加水分解性シリル基を含有し、硬化後も黄変、不快臭がない、光重合開始基を有する有機ケイ素化合物として非常に有用である。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてナフチル基を有する繰り返し単位とフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、レジスト膜表面を親水性化することで、現像後レジスト膜上のブロッブ欠陥の発生を防止できる。また、液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することでパターン形状の劣化を防止でき、膜表面に残存する液滴が誘発するパターン形成不良を低減することもできる。
従って、本発明のレジスト材料を用いれば、液浸リソグラフィーにおけるコストを削減し、欠陥の少ない微細なパターンを高精度で形成できる。 （もっと読む）

【課題】多結晶ドメインの混在のない高品質な単結晶ＳｉＣを安定してエピタキシャルに成長させることが可能な単結晶ＳｉＣ製造方法及びその結果得られる高品質な単結晶ＳｉＣを提供する。
【解決手段】ＳｉＣ種結晶４が固定されたサセプタ５及び単結晶ＳｉＣ製造用原料を供給するための原料供給管６を坩堝内に配置する配置工程、並びに、高温雰囲気とした坩堝２内に単結晶ＳｉＣ製造用原料を不活性ガスＡと共に原料供給管６を通してＳｉＣ種結晶４上に供給して単結晶ＳｉＣを成長させる成長工程を含み、成長工程において、ＳｉＯ₂粒子と、カーボン（Ｃ）粒子と、少なくとも１つの特定粒子とを供給し、特定粒子は、融点及び／又は昇華点が９００℃以上２，４００℃以下である単結晶ＳｉＣの製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属、特に金属被覆鋼材用として最適であり、クロムを含まず、塗料などのコーティングの前処理として、優れた加工性、密着性、耐食性を付与することができるノンクロメート金属表面処理剤、該処理剤により表面処理された表面処理鋼材及びその表面処理方法、並びにその上に上層被膜を有する塗装鋼材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記に示す（ａ）〜（ｃ）構造を一分子中に全て含有する化合物及び／又はその（部分）加水分解縮合物を必須成分とし、これを水及び／又は有機溶媒に溶解してなることを特徴とする金属表面処理剤。
（ａ）炭素−炭素結合で形成され、窒素原子が挿入されてもよい直鎖状及び／又は分岐状の有機ポリマー骨格。
（ｂ）第１級、第２級又は第３級アミノ基。
（ｃ）ケイ素−炭素結合で結合された加水分解性基及び／又は水酸基を有するシリル基。 （もっと読む）

【課題】 薄膜の光変換層を結晶性の高い単結晶シリコンとした光閉じ込め型単結晶シリコン太陽電池を提供する。
【解決手段】 単結晶シリコン基板に水素イオンまたは希ガスイオンを注入する工程と、金属基板上に透明絶縁性層を形成する工程と、前記イオン注入面と前記透明絶縁性層の表面とのうち少なくとも一方に表面活性化処理を行う工程と、その両者を貼り合わせる工程と、前記単結晶シリコン基板を機械的に剥離して、単結晶シリコン層とする工程と、前記単結晶シリコン層の前記剥離面側に、第二導電型の拡散領域を複数形成し、前記単結晶シリコン層の前記剥離面に複数の第一導電型領域と複数の第二導電型領域とが存在するようにする工程と、前記単結晶シリコン層の前記複数の第一、第二導電型領域上にそれぞれ複数の個別電極を形成する工程と、それぞれの集電電極を形成する工程と、透明保護膜を形成する工程とを含む単結晶シリコン太陽電池の製造方法。 （もっと読む）

【課題】展開時のインフレーターガスの洩れが抑制され、膨脹時間持続性に優れるカーテンエアーバッグの製造に適する液状シリコーンゴムコーティング剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｓｉ原子結合アルケニル基を２個以上含有するオルガノポリシロキサン、（Ｂ）ＳｉＨ基を２個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｃ）付加反応触媒、（Ｄ）比表面積５０ｍ²／ｇ以上の微粉末シリカ、（Ｅ）エポキシ基とＳｉ原子結合アルコキシ基とを有する有機ケイ素化合物、及び（Ｆ）オキシジルコニウム化合物を各々所定量含有してなる液状シリコーンゴムコーティング剤組成物。 （もっと読む）

【課題】微細なフォトマスクパターンを高精度で形成することが可能なフォトマスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】遮光層１２とクロム系化合物の反射防止層１３とが順次積層されたフォトマスク基板１１の反射防止層１３上にレジスト膜１７を形成する。レジスト膜１７はアスペクト比が大きくならないように比較的薄膜であることが必要であり３５０ｎｍ以下であることが好ましく、一般的なレジスト材料からなる場合には７５ｎｍ以上であることが好ましい。レジスト膜１７を加工してレジストパターンを得た後、酸素含有塩素系ドライエッチング（（Ｃｌ＋Ｏ）系）でクロム系化合物の反射防止層１３のパターニングを行ない、続いて、酸素含有塩素系ドライエッチング（（Ｃｌ＋Ｏ）系）に対して実質的なエッチングが生じない程度のエッチング耐性を示す遮光層１２を酸素非含有塩素系ドライエッチング（Ｃｌ系）してパターニングする。 （もっと読む）

【課題】低毒性で、塗膜強度に優れ、長時間にわたる防汚効果の持続性を有するものであり、該塗料を表面に塗装した水中構造物は、これらの表面への水生生物の付着・生育を防止することができ、その効果の持続性に優れるものであり、環境安全衛生問題も解決し得るものである水中防汚塗料を提供する。
【解決手段】非シリコーン系樹脂に、融点が３５℃以下である非水溶性のイオン性液体を防汚剤として配合してなる水中防汚塗料。 （もっと読む）