【課題】低抵抗率で、かつ、耐熱性に優れ、耐薬品性が良好な酸化亜鉛を母材とする透明導電膜を提供する。
【解決手段】アルミニウム添加酸化亜鉛（ＺＡＯ）にガリウムを添加した透明導電膜で、アルミニウムの含有量をＡｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｇａ）の原子比で２％を超え６％未満、かつガリウムの含有量をＧａ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｇａ）の原子比で０．１％を超え１．０％未満とすることにより、低抵抗率で、かつ、耐熱性に優れ、耐薬品性が良好な透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】導電性、環境温度安定性、耐熱性、耐寒性、柔軟性に優れる導電性芳香族アミドブロック共重合体樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される芳香族アミド単位と、ポリエステル、脂肪族ポリ（オキシアルキレン）、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリオルガノシロキサン、ポリジエンまたはこれらの共重合体よりなる群から選ばれる１種以上の単位からなる芳香族アミドブロック共重合体と、カーボンナノチューブからなる導電性芳香族アミドブロック共重合体樹脂組成物。


（１） （もっと読む）

【課題】 アルミニウム製シールドにダメージを与えることなく、アルミニウム溶射膜を除去することができる溶射膜除去用組成物、及びそれを用いたアルミニウム溶射膜の除去方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属塩及び水を含有する溶射膜除去用組成物を使用してアルミニウム上に溶射されたアルミニウム膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】融着率、剛性、耐衝撃性、耐薬品性等の物性が向上した発泡成形体を与えうるスチレン改質ポリオレフィン系樹脂粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】ポリオレフィン系樹脂１００重量部に対して、スチレン系樹脂を２０〜６００重量部含有するスチレン改質ポリオレフィン系樹脂粒子であって、ポリオレフィン系樹脂が、エチレン単独重合体又はエチレンと炭素数３以上のオレフィンとの共重合体であり、０．９４０ｇ／ｃｍ³以上の密度、１．０未満０．４以上の収縮因子（ｇ’値）及び０．１５〜２０ｇ／１０分の２．１６ｋｇ加重時のメルトフローレートを有し、式：ＭＳ＞１１０−１００×ｌｏｇ（ＭＦＲ）（式中、ＭＳは１６０℃での溶融張力（ｍＮ）、ＭＦＲはメルトフローレート）の関係を満たすことを特徴とするスチレン改質ポリオレフィン系樹脂粒子により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】微小流路が形成された基板に、立体的に電気的、磁気的、物理的、化学的等の機能や情報記録機能を有する機能を有する微小流路構造体及びそれを利用した分析チップを提供し、更にこれを短時間で大量にかつ安価に作製する事ができる、微小流路構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】微小流路を有する基板の表面と裏面に、同じあるいは異なる凹凸パターンが形成されている微小流路基板からなる微小流路構造体、それを利用した分析チップ及びこの微小流路構造体の微小流路に対応する凹凸形状のパターンを有する型を用いて、微小流路の凹凸形状のパターンを樹脂の射出成形体の表面と裏面に転写した両面射出成形体として得る製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、押出加工性やオレフィン系重合体とポリジメチルシロキサンの密着性を維持しながら、粘着剤との離型性を改善した離型フィルム用樹脂組成物ならびに離型フィルムを提供することである。
【解決手段】オレフィン系重合体９４〜９９．９８９重量％、エポキシ当量が５００ｇ／ｍｏｌ以上５００００ｇ／ｍｏｌ以下であるポリジメチルシロキサン０．０１〜５重量％、及び界面活性剤０．００１〜１重量％からなることを特徴とする離型フィルム用樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】 機能性高分子として有用と期待される新規なアミノアルコキシスチレン系重合体及びその製造方法、並びにその用途を提供する。
【解決手段】アミノアルコキシスチレン類の単独重合体、または他のビニル系単量体との共重合体に、アルキルハライドを反応させて、下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は同一または異なっていてもよく、Ｃ_１〜Ｃ_４のアルキル基を表す。Ｒ^３はＣ_１〜Ｃ_４のアルキル基もしくはアルカノール基を表す。Ｚはアニオンを表す。ｎは３〜６の整数を表す。）で示される構造単位を含有する重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイの透明電極等に用いられるＩＴＯ薄膜のスパッタリングにおいて、膜中欠陥の発生原因となるターゲット表面のノジュールが発生しない高密度ＩＴＯスパッタリングターゲットの製造法を提供する。
【解決手段】９０％以上が１μｍ以下の粒径を持つ酸化スズ粉末を５〜１５ｗｔ％含む酸化インジウム・酸化スズ混合粉末の成形体を酸素雰囲気中で焼結することにより、酸化インジウム・酸化スズ（ＩＴＯ）焼結体を製造する。 （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのシクロプロピル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機シラン化合物（具体的例示：２，４，６−トリシクロプロピル−２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン）を含有するＳｉ含有膜形成材料を用いてＰＥＣＶＤ法によりＳｉ含有膜を製造し、それを半導体デバイスの絶縁膜として使用する。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン及び窒素を含まないタンタル含有薄膜の形成が可能な新規なタンタル化合物とその製造方法、及び膜の形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるタンタル化合物を、テトラハロシクロペンタジエニルタンタル誘導体とメチル化金属化合物とを反応させることにより製造し、このタンタル化合物を原料としてタンタル含有薄膜を形成させる。


（式中、Ｍｅはメチル基を、ｎは１から５の整数を、Ｒはアルキル基を示す。） （もっと読む）